JP2004304184A - Cleaning sheet, its manufacturing method, and transporting member having the sheet - Google Patents

Cleaning sheet, its manufacturing method, and transporting member having the sheet Download PDF

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良徳 吉田
Yohei Maeno
洋平 前野
Jiro Nukaga
二郎 額賀
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning sheet that can remove foreign matters adhering to the probe of a probe card without wearing the probe, in a state that the removed foreign matters are not allowed to again adhere to the probe at the time of removing the foreign matters; and to provide a method of manufacturing the sheet, a method of cleaning the sheet, and a transporting member having the sheet. <P>SOLUTION: The cleaning sheet which is used for removing the foreign matters adhering to the front end of the probe of the probe card has a cleaning layer. The cleaning layer is constituted so that its surface forms at least one surface of the cleaning sheet and has an initial elastic modulus of 0.5-100 N/mm<SP>2</SP>. It is preferable to form the cleaning layer by curing a mixture containing a vinyl monomer by projecting radiation upon the mixture. The transporting member has this cleaning sheet. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、プローブカードのプローブ針先端に付着した異物を除去するためのクリーニングシートとその製造方法、及びこのクリーニングシートを有する搬送部材、並びに、このクリーニングシート又は搬送部材を用いてプローブ針先端の異物を除去するクリーニング方法に関する。   The present invention provides a cleaning sheet for removing foreign matter attached to the tip of a probe needle of a probe card, a method for manufacturing the same, a transport member having the cleaning sheet, and a probe sheet using the cleaning sheet or the transport member. The present invention relates to a cleaning method for removing foreign matter.

半導体ウエハ上に形成されたチップの導通検査にはプローブカードが用いられている。この導通検査は、チップの表面に形成された電極パッドにプローブカードのプローブ針を接触させ、その接触抵抗値を測定することによって、良品であるか不良品であるかが判断される。プローブ針を、例えばアルミニウムによって形成されている電極パッドに接触させる際には一定の押圧が加えられ、プローブ針先端が、電極パッド表面に形成された酸化アルミニウム等からなる自然酸化膜を削り取り、プローブ針と電極パッドとを確実に電気的に接続させてウエハの検査を行うようになっている。このようにプローブ針によって削り取られた絶縁性を有する酸化アルミニウム等がプローブ針の先端に異物として付着していると、プローブ針を電極パッドに接触させた時の接触抵抗値が変化し、その後の導通検査に支障をきたすことがある。したがって、プローブ針先端に付着した異物を定期的に取り除く必要がある。
プローブ針先端に付着した異物を取り除く方法としては、例えば、特開平7−244074号公報、特開平10−300777号公報、および、特開平10−339766号公報では、ダイヤモンド粉、アルミナ、シリコンカーバイド、ガラス等の研磨材を、樹脂に分散させた層あるいは接着剤で固定した層に、プローブ針先端を接触させることによって異物を取り除く方法が提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2、及び、特許文献3参照)。また、特開平10−19928号公報では、粘着力(日本工業規格 JIS Z 0237に基づいて測定)が100g/25mm〜250g/25mmのクリーニングシートによって異物を取り除く方法が提案されており(例えば、特許文献4参照)、特開平11−133116号公報では、繊維状の金属、炭素繊維、繊維状のセラミックスからなるクリーニングシートにより取り除く方法が提案されている(例えば、特許文献5参照)。
2. Description of the Related Art A probe card is used for a continuity test of a chip formed on a semiconductor wafer. In this continuity test, a non-defective or defective product is determined by bringing a probe needle of a probe card into contact with an electrode pad formed on the surface of the chip and measuring the contact resistance value. When the probe needle is brought into contact with an electrode pad made of, for example, aluminum, a certain pressure is applied, and the tip of the probe needle scrapes off a natural oxide film made of aluminum oxide or the like formed on the surface of the electrode pad. The inspection of the wafer is performed by reliably connecting the needle and the electrode pad electrically. If the insulating aluminum oxide or the like scraped off by the probe needle adheres as a foreign matter to the tip of the probe needle, the contact resistance value when the probe needle is brought into contact with the electrode pad changes. It may interfere with the continuity test. Therefore, it is necessary to periodically remove foreign matter adhering to the tip of the probe needle.
As a method of removing foreign matter attached to the tip of the probe needle, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-244074, 10-300777, and 10-339766, diamond powder, alumina, silicon carbide, There has been proposed a method of removing foreign matter by bringing the tip of a probe needle into contact with a layer in which an abrasive such as glass is dispersed in a resin or a layer fixed with an adhesive (for example, Patent Document 1, Patent Document 2, And Patent Document 3). Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-19928 proposes a method for removing foreign matter using a cleaning sheet having an adhesive force (measured based on Japanese Industrial Standard JIS Z 0237) of 100 g / 25 mm to 250 g / 25 mm (for example, see Patent Reference 4) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-133116 propose a method of removing the toner using a cleaning sheet made of fibrous metal, carbon fiber, and fibrous ceramic (for example, see Patent Document 5).

特開平7−244074号公報JP-A-7-244074 特開平10−300777号公報JP-A-10-300777 特開平10−339766号公報JP-A-10-339766 特開平10−19928号公報JP-A-10-19928 特開平11−133116号公報JP-A-11-133116

しかしながら、ダイヤモンド粉等の研磨材を含むクリーニング層にプローブ針先端を接触させることによって異物を取り除く方法では、クリーニングの際に研磨材によってプローブ針自身が擦り減ってしまうので、プローブカードの寿命が短くなる。また、クリーニングによってプローブ針先端から除去された異物が針根元で再付着していた場合には、次に導通検査を行った際に、異物がウエハ上に落下してウエハを汚染することがあった。粘着層を有するクリーニングシートによって異物を除去する方法では、プローブ針の磨耗や異物の再付着はないが、プローブ針に強固に固着した異物を取り除くことができないという問題があった。繊維状の金属、炭素繊維、繊維状のセラミックスからなるクリーニングシートによって異物を取り除く方法では、プローブ針の磨耗や異物の再付着を低減する効果は認められるが、異物を完全には除去することができなかった。   However, in the method of removing foreign matter by bringing the tip of the probe needle into contact with a cleaning layer containing an abrasive such as diamond powder, the probe needle itself is abraded by the abrasive during cleaning, thereby shortening the life of the probe card. Become. If foreign matter removed from the tip of the probe needle by cleaning is attached again at the base of the needle, the foreign matter may fall on the wafer and contaminate the wafer during the next continuity test. Was. In the method of removing foreign matter using a cleaning sheet having an adhesive layer, there is no abrasion of the probe needle and no reattachment of foreign matter, but there is a problem that foreign matter firmly fixed to the probe needle cannot be removed. The method of removing foreign matter by using a cleaning sheet made of fibrous metal, carbon fiber, or fibrous ceramics has the effect of reducing the wear of the probe needle and the reattachment of foreign matter, but it is possible to completely remove the foreign matter. could not.

本発明は上記問題点を解決すべくなされたものであり、本発明はプローブカードのプローブ針に付着した異物を除去する時に、プローブ針を磨耗させることなく異物を除去することができ、また、一旦、針から除去された異物が再付着することのないクリーニングシートとその製造方法、及びクリーニングシートを有する搬送部材、並びにクリーニング方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and the present invention, when removing foreign matter attached to the probe needle of the probe card, it is possible to remove the foreign matter without wearing the probe needle, It is an object of the present invention to provide a cleaning sheet and a method of manufacturing the same, in which foreign matter once removed from a needle does not adhere again, a conveying member having the cleaning sheet, and a cleaning method.

本発明のクリーニングシートは、プローブカードのプローブ針先端に付着した異物を除去するクリーニングシートであって、該クリーニングシートはクリーニング層を有し、該クリーニング層の表面がクリーニングシートの少なくとも一方の表面を成すように構成されており、該クリーニング層は初期弾性率が0.5〜100N/mmであることを特徴とする。
ここで、クリーニングシートは、さらに基材層を有することができる。
また、前記クリーニング層が基材層の一方の側の表面に設けられており、前記基材層の他方の側には粘着層を有していてもよい。
また、前記クリーニング層は、ビニル系モノマーを含有する混合物に放射線を照射し、硬化させてなるものであることができる。本発明によれば、このように放射線照射によりクリーニング層を形成することができるので、工程が簡易であり、また、溶剤等を必要とせず、環境保護の観点からも優れている。
また、前記クリーニング層は、ウレタンポリマー及びビニル系モノマーを含有する混合物に、放射線を照射し、硬化させてなるものであることができる。
また、ビニル系モノマーの存在下で、ポリオールとポリイソシアネートを反応させてウレタンポリマーを形成することにより、ウレタンポリマー及びビニル系モノマーを含有する混合物とした後、放射線を照射し、硬化してクリーニング層を形成することができる。
The cleaning sheet of the present invention is a cleaning sheet that removes foreign matter attached to the tip of a probe needle of a probe card, the cleaning sheet has a cleaning layer, and the surface of the cleaning layer has at least one surface of the cleaning sheet. The cleaning layer has an initial elastic modulus of 0.5 to 100 N / mm 2 .
Here, the cleaning sheet may further have a base material layer.
Further, the cleaning layer may be provided on a surface on one side of the base material layer, and may have an adhesive layer on the other side of the base material layer.
The cleaning layer may be formed by irradiating a mixture containing a vinyl monomer with radiation and curing the mixture. According to the present invention, since the cleaning layer can be formed by irradiation with radiation as described above, the process is simple, no solvent is required, and the present invention is excellent from the viewpoint of environmental protection.
Further, the cleaning layer may be formed by irradiating a mixture containing a urethane polymer and a vinyl-based monomer with radiation to cure the mixture.
In addition, by reacting a polyol and a polyisocyanate in the presence of a vinyl monomer to form a urethane polymer, a mixture containing the urethane polymer and the vinyl monomer is formed, and then irradiated with radiation and cured to form a cleaning layer. Can be formed.

本発明の搬送部材は、上記いずれかのクリーニングシートが支持体上に設けられてなることを特徴とする。
ここで、前記クリーニングシートは、粘着手段によって支持体上に設けられていてもよい。
また、前記支持体はウエハであることができる。研磨部材固定用の台座としてウエハを用いれば、クリーニングシートが固定される面の垂直方向における高さ方向のバラツキ量を±3μm以下に押さえることができるので、プローブ針の先端部の変形を防止することができる。
The transport member of the present invention is characterized in that any one of the cleaning sheets described above is provided on a support.
Here, the cleaning sheet may be provided on the support by an adhesive means.
Further, the support may be a wafer. If a wafer is used as the pedestal for fixing the polishing member, the variation in the height direction in the vertical direction of the surface to which the cleaning sheet is fixed can be suppressed to ± 3 μm or less, thereby preventing the tip of the probe needle from being deformed. be able to.

本発明のクリーニングシートの製造方法は、一方の表面に初期弾性率が0.5〜100N/mmであるクリーニング層を有するクリーニングシートの製造方法であって、ビニル系モノマーの存在下で、ポリオールとポリイソシアネートを反応させてウレタンポリマーを形成することにより、ウレタンポリマー及びビニル系モノマーを含有する混合物とする工程と、該混合物を、剥離シート又は基材層上に塗布する工程と、塗布した混合物に放射線を照射し、硬化して前記クリーニング層を形成する工程とを含むことを特徴とする。 The method for producing a cleaning sheet according to the present invention is a method for producing a cleaning sheet having a cleaning layer having an initial modulus of elasticity of 0.5 to 100 N / mm 2 on one surface, wherein a polyol is used in the presence of a vinyl monomer. Forming a mixture containing a urethane polymer and a vinyl-based monomer by reacting a polyisocyanate with the mixture to form a mixture containing the urethane polymer and a vinyl-based monomer; and applying the mixture to a release sheet or a base material layer. Irradiating the substrate with radiation and curing to form the cleaning layer.

本発明のクリーニング方法は、上記いずれかのクリーニングシートのクリーニング層を、または、上記いずれかの搬送部材のクリーニング層を、プローブカード用プローブ針に接触させることによって、プローブ針先端に付着した異物を除去することを特徴とする。   In the cleaning method of the present invention, the cleaning layer of any one of the above cleaning sheets or the cleaning layer of any one of the above conveying members is brought into contact with a probe needle for a probe card to remove foreign matter adhering to the probe needle tip. It is characterized by being removed.

本発明によれば、プローブカードのプローブ針に付着した異物を除去する時に、プローブ針を磨耗させることなく異物を完全に除去することができ、また、一旦、針から除去された異物が再付着することのないクリーニングシートとその製造方法、及び搬送部材を提供することができる。また、本発明によれば、クリーニングシート又は搬送部材を用いて、プローブ針を損傷、変形させることなく、異物を完全に除去し、再付着を防止することができるクリーニング方法を提供することができる。   According to the present invention, when removing foreign matter attached to the probe needle of the probe card, the foreign matter can be completely removed without abrasion of the probe needle, and the foreign matter once removed from the needle is reattached. It is possible to provide a cleaning sheet, a method of manufacturing the cleaning sheet, and a conveying member that do not need to be performed. Further, according to the present invention, it is possible to provide a cleaning method capable of completely removing foreign matter and preventing re-adhesion without damaging or deforming the probe needle using a cleaning sheet or a transport member. .

発明を実施するための形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

本発明のクリーニングシートは、一方の表面にクリーニング層を有する。クリーニング層の初期弾性率は、0.5〜100N/mmの範囲であり、好ましくは1〜50N/mmの範囲である。初期弾性率が0.5N/mm未満では、プローブ針に固着した異物を取り除くことができない場合があり、初期弾性率が100N/mmを超えると、プローブ針先端部がクリーニング層に十分に挿入されない場合がある。ここで初期弾性率とは、引張試験機としてオートグラフAGS−50D型((株)島津製作所製)を用い、試験サンプルの断面積が1mmで、長さが10mmであり、引張速度が300mm/分で引張試験を行い、その応力−歪み曲線の最初の直線部分から、初期弾性率を下式により求めた値である。

F/A
初期弾性率 = ――――――――
ΔL/L

(式中、FはΔL/Lが0.05(歪0.05)における引張応力、Aは断面積、ΔLはサンプル長さの変化量、Lはサンプルの初期長さである。)
The cleaning sheet of the present invention has a cleaning layer on one surface. Initial elastic modulus of the cleaning layer is in the range of 0.5~100N / mm 2, preferably in the range of 1~50N / mm 2. If the initial elastic modulus is less than 0.5 N / mm 2 , it may not be possible to remove foreign matter adhered to the probe needle. If the initial elastic modulus is more than 100 N / mm 2 , the tip of the probe needle may not sufficiently cover the cleaning layer. May not be inserted. Here, the initial elastic modulus refers to an autograph AGS-50D (manufactured by Shimadzu Corporation) as a tensile tester, a test sample having a cross-sectional area of 1 mm 2 , a length of 10 mm, and a tensile speed of 300 mm. / Min is a value obtained by performing a tensile test at a rate of / min and calculating an initial elastic modulus from the first linear portion of the stress-strain curve by the following equation.

F / A
Initial elastic modulus = ――――――――
ΔL / L 0

(Where F is the tensile stress when ΔL / L 0 is 0.05 (strain 0.05), A is the cross-sectional area, ΔL is the amount of change in sample length, and L 0 is the initial length of the sample.)

本発明に係るクリーニング層は、ビニル系モノマーを含有する混合物に放射線を照射して硬化させてなることが好ましい。なお、本発明において「シート」という場合には、フィルムを含み、「フィルム」という場合には、シートを含む概念とする。
ビニル系モノマーとしては、ラジカル重合可能な不飽和二重結合を有するものが使用される。反応性の点からは、アクリル系モノマーが好ましい。
本発明に好ましく用いられるアクリル系モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル等を挙げることができる。これら(メタ)アクリル単量体は、単独で使用、あるいは2種類以上を併用することができる。
また、これら(メタ)アクリル単量体とともに、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイン酸のモノまたはジエステル、スチレンとその誘導体、N−メチロールアクリルアミド、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、N、N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、アクリロイルモルホリン、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、イミドアクリレート、N−ビニルピロリドン、オリゴエステルアクリレート、ε−カプロラクトンアクリレート等の単量体を用いることもでき、(メタ)アクリル単量体と共重合させてもよい。これらの選択は、得られる高分子量体の特性を考慮して適宜決定される。
本発明においては、必要に応じて、さらに、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーを架橋剤として用いてもよい。
The cleaning layer according to the present invention is preferably formed by irradiating a mixture containing a vinyl monomer with radiation. In the present invention, the term “sheet” includes a film, and the term “film” includes a sheet.
As the vinyl monomer, those having an unsaturated double bond capable of radical polymerization are used. From the viewpoint of reactivity, acrylic monomers are preferred.
The acrylic monomer preferably used in the present invention includes, for example, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate. ) Pentyl acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, Examples include isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate. These (meth) acrylic monomers can be used alone or in combination of two or more.
In addition, together with these (meth) acrylic monomers, vinyl acetate, vinyl propionate, acrylamide, methacrylamide, mono or diester of maleic acid, styrene and its derivatives, N-methylol acrylamide, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, N, N -Dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminopropyl methacrylamide, 2-hydroxypropyl acrylate, acryloylmorpholine, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, imidoacrylate, N-vinylpyrrolidone, oligoester acrylate , Ε-caprolactone acrylate and the like, and may be copolymerized with a (meth) acrylic monomer. These selections are appropriately determined in consideration of the characteristics of the obtained high molecular weight product.
In the present invention, if necessary, a polyfunctional monomer such as trimethylolpropane triacrylate or dipentaerythritol hexaacrylate may be used as a crosslinking agent.

ビニル系モノマーを含有する混合物には、光重合開始剤が含まれる。光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル、アニソールメチルエーテル等の置換ベンゾインエーテル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等の置換アセトフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン等の置換アルファーケトール、2−ナフタレンスルフォニルクロライド等の芳香族スルフォニルクロライド、1−フェニル−1,1−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)−オキシム等の光活性オキシムが好ましく用いられる。   The mixture containing the vinyl monomer contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin ethers such as benzoin methyl ether and benzoin isopropyl ether; substituted benzoin ethers such as anisole methyl ether; substituted acetophenones such as 2,2-diethoxyacetophenone and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone. , 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, substituted alpha-ketol such as 2-methyl-2-hydroxypropiophenone, aromatic sulfonyl chloride such as 2-naphthalenesulfonyl chloride, 1-phenyl-1,1-propanedione- Photoactive oximes such as 2- (o-ethoxycarbonyl) -oxime are preferably used.

本発明に係るクリーニング層は、ウレタンポリマー及びビニル系モノマーを含有する混合物に放射線を照射して硬化させたものでもよい。ビニル系モノマーとしては、上述のものが好ましいものとして挙げられる。
本発明においては、まずビニル系モノマーの存在下でウレタンポリマーを作製し、このウレタンポリマーとラジカル重合性モノマーとの混合物に放射線等を照射し、硬化させてクリーニング層を形成することが好ましい。
ウレタンポリマーは、ポリオールとポリイソシアネートとを反応させて得られる。イソシアネートとポリオールの水酸基との反応には、触媒を用いても良い。例えば、ジブチルすずジラウレート、オクトエ酸すず、1,4−ジアザビシクロ(2,2,2)オクタン等の、ウレタン反応において一般的に使用される触媒を用いることができる。
The cleaning layer according to the present invention may be obtained by irradiating a mixture containing a urethane polymer and a vinyl monomer with radiation to cure the mixture. The above-mentioned thing is mentioned as a preferable thing as a vinyl-type monomer.
In the present invention, it is preferable to first form a urethane polymer in the presence of a vinyl-based monomer, and then irradiate a mixture of the urethane polymer and the radical polymerizable monomer with radiation or the like and cure the mixture to form a cleaning layer.
The urethane polymer is obtained by reacting a polyol with a polyisocyanate. A catalyst may be used for the reaction between the isocyanate and the hydroxyl group of the polyol. For example, a catalyst generally used in a urethane reaction, such as dibutyltin dilaurate, tin octoate, 1,4-diazabicyclo (2,2,2) octane, or the like can be used.

ポリオールとは、1分子中に2個またはそれ以上の水酸基を有するものである。低分子量のポリオールとしてはエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール等の2価のアルコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の3価または4価のアルコール等が挙げられる。
また、高分子量のポリオールとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、テトラヒドロフラン等を付加重合させてなるポリエーテルポリオール、あるいは、上記の2価のアルコールやジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等とアジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸等の2塩基酸との重縮合物からなるポリエステルポリオール、アクリルポリオール、カーボネートポリオール、エポキシポリオール、カプロラクトンポリオール等が挙げられる。アクリルポリオールとしてはヒドロキシルエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基を有するモノマーの共重合体の他、水酸基含有物とアクリル系モノマーとの共重合体等が挙げられる。エポキシポリオールとしてはアミン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらのポリオール類は、得られる高分子量体の特性やラジカル重合性モノマーへの溶解性、イソシアネートとの反応性等を考慮して、単独で、あるいは2以上を併用することができる。
The polyol has two or more hydroxyl groups in one molecule. Examples of the low molecular weight polyol include dihydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, and hexamethylene glycol, and trihydric or tetrahydric alcohols such as trimethylolpropane, glycerin, and pentaerythritol.
Examples of the high molecular weight polyol include a polyether polyol obtained by addition polymerization of ethylene oxide, propylene oxide, tetrahydrofuran, or the like, or the above-mentioned dihydric alcohol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6 -Polyester polyols, acrylic polyols, carbonate polyols, epoxy polyols, caprolactone polyols and the like, which are formed from polycondensates of hexanediol, neopentyl glycol and the like with dibasic acids such as adipic acid, azelaic acid and sebacic acid. Examples of the acrylic polyol include a copolymer of a monomer having a hydroxyl group such as hydroxylethyl (meth) acrylate and hydroxypropyl (meth) acrylate, and a copolymer of a hydroxyl group-containing substance and an acrylic monomer. Examples of the epoxy polyol include an amine-modified epoxy resin.
These polyols can be used alone or in combination of two or more in consideration of the properties of the obtained high molecular weight product, solubility in radical polymerizable monomers, reactivity with isocyanate, and the like.

ポリイソシアネートとしては芳香族、脂肪族、脂環族のジイソシアネート、これらのジイソシアネートの二量体、三量体等が挙げられる。芳香族、脂肪族、脂環族のジイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、ブタン−1,4−ジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4−ジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、m−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。また、これらの二量体、三量体や、ポリフェニルメタンポリイソシアネートが用いられる。三量体としては、イソシアヌレート型、ビューレット型、アロファネート型等が挙げられ、適宜、使用することができる。
これらのポリイソシアネート類においても、得られる高分子量体の特性やラジカル重合性モノマーへの溶解性、水酸基との反応性等を考慮して、単独で、あるいは2以上を併用することができる。
Examples of the polyisocyanate include aromatic, aliphatic and alicyclic diisocyanates, and dimers and trimers of these diisocyanates. As aromatic, aliphatic and alicyclic diisocyanates, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, butane-1,4-diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4 -Diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4-diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, methyl Cyclohexane diisocyanate, m- tetramethylxylylene diisocyanate, and the like. Further, dimers and trimers of these and polyphenylmethane polyisocyanate are used. Examples of the trimer include an isocyanurate type, a burette type, an allophanate type, and the like, which can be used as appropriate.
These polyisocyanates can be used alone or in combination of two or more in consideration of the characteristics of the obtained high molecular weight product, the solubility in a radical polymerizable monomer, the reactivity with a hydroxyl group, and the like.

本発明において、ウレタンポリマーを形成するためのポリオール成分とポリイソシアネート成分の使用量は特に限定されるものではないが、例えば、ポリオール成分の使用量は、ポリイソシアネート成分に対し、NCO/OH(当量比)が0.8〜3.0となるようにすることが好ましく、1.0〜3.0であることがさらに好ましい。NCO/OHが0.8未満、あるいは、3.0を超える場合には、ウレタンポリマーの分子鎖長を充分に延ばすことができず、強度や、伸びが低下しやすい。   In the present invention, the amounts of the polyol component and the polyisocyanate component used to form the urethane polymer are not particularly limited. For example, the amount of the polyol component used may be NCO / OH (equivalent to the polyisocyanate component). Ratio) is preferably set to 0.8 to 3.0, more preferably 1.0 to 3.0. When NCO / OH is less than 0.8 or more than 3.0, the molecular chain length of the urethane polymer cannot be sufficiently increased, and the strength and elongation tend to decrease.

本発明に係るクリーニング層には、必要に応じて、通常使用される添加剤、例えば老化防止剤、充填剤、顔料、着色剤、難燃剤、帯電防止剤、紫外線防止剤などを、本発明の効果を損なわない範囲内で添加することができる。これらの添加剤は、ポリイソシアネートとポリオールとの重合反応前に、あらかじめ加えておいてもよいし、ウレタンポリマーと反応性モノマーとを重合させる前に、添加してもよい。
また、塗工の粘度調整のため、少量の溶剤を加えてもよい。溶剤としては、通常使用される溶剤の中から適宜選択することができるが、例えば、酢酸エチル、トルエン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
In the cleaning layer according to the present invention, if necessary, commonly used additives such as an antioxidant, a filler, a pigment, a colorant, a flame retardant, an antistatic agent, an ultraviolet ray inhibitor, etc. It can be added within a range that does not impair the effect. These additives may be added in advance before the polymerization reaction of the polyisocyanate and the polyol, or may be added before the polymerization of the urethane polymer and the reactive monomer.
Further, a small amount of a solvent may be added for adjusting the viscosity of the coating. The solvent can be appropriately selected from commonly used solvents, and examples thereof include ethyl acetate, toluene, chloroform, dimethylformamide and the like.

本発明のクリーニングシートは、更に基材層を有していてもよく、例えば基材層の上に直接クリーニング層を設けてもよいし、粘着剤を用いてクリーニング層を設けてもよい。また、本発明のクリーニングシートは、基材層の他方の面側に粘着層を設けてもよい。
基材層を形成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン系樹脂、ポリイミド(PI)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等のような熱可塑性樹脂のほか、熱硬化性樹脂等を例示することができる。なお、基材層は単層構成でもよいが、同種の、又は異種の材料からなる複数の層による多層構造でもよい。
The cleaning sheet of the present invention may further have a base layer, for example, a cleaning layer may be provided directly on the base layer, or a cleaning layer may be provided using an adhesive. Further, the cleaning sheet of the present invention may be provided with an adhesive layer on the other surface side of the base material layer.
Examples of the material for forming the base layer include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polyolefin resins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP), polyimide (PI), and polyetheretherketone (PEEK). In addition to thermoplastic resins such as polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride resin, polyamide resin, polyurethane resin, polystyrene resin, acrylic resin, fluororesin, cellulose resin, polycarbonate resin, etc., Thermosetting resins and the like can be exemplified. The base layer may have a single-layer structure, or may have a multilayer structure including a plurality of layers made of the same or different materials.

粘着層を形成する粘着剤としては特に限定されず、アクリル系、ゴム系等、一般的なものを使用することができる。粘着層の形成方法も特に限定されるものではなく、例えば基材層や支持体に、溶剤系、エマルジョン系の粘着剤を直接塗布し、乾燥する方法、あるいは、剥離シートに塗布して予め形成された粘着層を基材層等に貼り合わせる方法等を適用することができる。光硬化型粘着剤を基材層に塗布し、粘着層と、クリーニング層との両方に放射線等を照射することによって、クリーニング層と粘着層とを同時に硬化させて、形成する方法も適用することができる。   The pressure-sensitive adhesive for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and a general one such as an acrylic-based or rubber-based adhesive can be used. The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is also not particularly limited, and for example, a method in which a solvent-based or emulsion-based pressure-sensitive adhesive is directly applied to a base layer or a support and dried, or a method in which the pressure-sensitive adhesive is applied to a release sheet and formed in advance. A method of attaching the applied adhesive layer to a base material layer or the like can be applied. Applying a method of applying a photo-curing adhesive to the base layer, irradiating both the adhesive layer and the cleaning layer with radiation, etc., thereby simultaneously curing and forming the cleaning layer and the adhesive layer. Can be.

以下に、本発明のクリーニングシートの層構成について、図面を用いて具体的に説明する。
図1(a)は、本発明の第1の実施形態に係るクリーニングシートの層構成を示す図である。図1(a)において、クリーニングシート10は、一方の表面にクリーニング層1を有する。ここでは、基材層2の上にクリーニング層1が設けられている。なお、本発明においては、基材層を含まずに、クリーニング層1のみからなっていてもよい。
図1(b)は、本発明の第2の実施形態に係るクリーニングシートの層構成を示す図である。図1(b)においては、クリーニング層1は基材層2の一方の面に設けられており、基材層2の他方の面には粘着層3が設けられている。このように裏面に粘着層を有するクリーニングシートは、クリーニング作業のためにクリーニングシートを台座に固着する際に、簡易にしっかりと固着することができる。なお、粘着層3を使用時まで保護するために、粘着層3の表面に剥離シート(セパレータ)を仮貼付しておいてもよい。
Hereinafter, the layer structure of the cleaning sheet of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
FIG. 1A is a diagram illustrating a layer configuration of the cleaning sheet according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1A, a cleaning sheet 10 has a cleaning layer 1 on one surface. Here, the cleaning layer 1 is provided on the base material layer 2. In the present invention, the cleaning layer 1 may be formed without the base layer.
FIG. 1B is a diagram illustrating a layer configuration of a cleaning sheet according to a second embodiment of the present invention. In FIG. 1B, the cleaning layer 1 is provided on one surface of the base material layer 2, and the adhesive layer 3 is provided on the other surface of the base material layer 2. As described above, the cleaning sheet having the adhesive layer on the back surface can be easily and firmly fixed when the cleaning sheet is fixed to the base for the cleaning operation. Note that a release sheet (separator) may be temporarily attached to the surface of the adhesive layer 3 in order to protect the adhesive layer 3 until use.

次に、本発明の搬送部材の層構成について、図面を用いて具体的に説明する。
図2(a)は、本発明の第1の実施形態に係る搬送部材の層構成を示す図である。図2(a)において、基材層2の一方の面にクリーニング層1を設けたクリーニングシート10は、粘着層4等の粘着手段を介して、支持体5の上に配置されている。なお、粘着層4は、図1(b)におけるクリーニングシートの粘着層3と同一でも異なっていてもよく、粘着層3と同一の場合には、図1(b)のクリーニングシートを支持体5の上に直接配置した構成と等しくなる。また、粘着層は両面粘着テープであってもよい。
図2(b)は、本発明の第2の実施形態に係る搬送部材の層構成を示す図である。ここでは、クリーニング層1が粘着層4を介して支持体5の上に配置されている。なお、クリーニングシートがクリーニング層1のみからなる単層構成と考えれば、本実施形態は、クリーニングシートが粘着層4を介して支持体5上に設けられたものであると言える。また、本発明において粘着手段とは、支持体5とクリーニングシートとが貼着状態を保持できるような処理が施されていることをいい、例えば、支持体5の上に、直接、クリーニング層1を塗布等によって設けることにより、支持体とクリーニング層とが貼着された状態の積層体を形成している場合も含まれる。
Next, the layer configuration of the transport member of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
FIG. 2A is a diagram illustrating a layer configuration of the transport member according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 2A, a cleaning sheet 10 provided with a cleaning layer 1 on one surface of a base material layer 2 is disposed on a support 5 via an adhesive means such as an adhesive layer 4. The adhesive layer 4 may be the same as or different from the adhesive layer 3 of the cleaning sheet in FIG. 1B. In the case where the adhesive layer 3 is the same, the cleaning sheet in FIG. It is equivalent to the configuration directly disposed on the. Further, the adhesive layer may be a double-sided adhesive tape.
FIG. 2B is a diagram illustrating a layer configuration of the transport member according to the second embodiment of the present invention. Here, the cleaning layer 1 is disposed on the support 5 via the adhesive layer 4. If the cleaning sheet is considered to have a single-layer structure including only the cleaning layer 1, it can be said that the present embodiment is one in which the cleaning sheet is provided on the support 5 with the adhesive layer 4 interposed therebetween. Further, in the present invention, the adhesive means means that a treatment is performed so that the support 5 and the cleaning sheet can maintain the adhered state. For example, the cleaning layer 1 is directly provided on the support 5. Is provided by coating or the like to form a laminate in which the support and the cleaning layer are adhered.

図2(a)、(b)における支持体5は、シリコンウエハ等であってもよい。シリコンウエハは、垂直方向における高さのバラツキが±3μm以下となるように研磨加工されているので、例えば、クリーニングシート10をシリコンウエハ等に固定してクリーニング作業を行うことにより、押圧してクリーニング層1にプローブ針を突き刺してもプローブ針先端を変形させることがない。   The support 5 in FIGS. 2A and 2B may be a silicon wafer or the like. Since the silicon wafer is polished so that the height variation in the vertical direction is ± 3 μm or less, for example, the cleaning operation is performed by pressing the cleaning sheet 10 on a silicon wafer or the like to perform cleaning. Even if the probe needle is pierced into the layer 1, the tip of the probe needle is not deformed.

本発明のクリーニングシートは、例えば、ビニル系モノマーを含有する混合物を、基材層の上に、あるいは、剥離処理されたシート(剥離シート、セパレータ)の上に塗布し、放射線を照射して硬化させることにより形成される。また、本発明の搬送部材は、本発明のクリーニングシートを粘着剤等を用いて支持体上に貼着するか、ビニル系モノマーを含有する混合物を支持体上に直接塗布し、放射線硬化させて形成される。   The cleaning sheet of the present invention is obtained, for example, by applying a mixture containing a vinyl monomer onto a base material layer or onto a release-treated sheet (release sheet, separator) and irradiating with radiation to cure the mixture. Formed. Further, the conveying member of the present invention, the cleaning sheet of the present invention is adhered to a support using an adhesive or the like, or a mixture containing a vinyl monomer is directly applied to the support and radiation cured. It is formed.

ここで、塗布方法としては、キャスティング、スピンコーティング、ロールコーティング等の公知の方法を採用することができる。また、照射される放射線としては、α線、β線、γ線、中性子線、電子線等のような電離性放射線、紫外線等の放射線が挙げられる。
この際、酸素による重合阻害を避けるために、ビニル系モノマーを含有する混合物を塗布した面上に、剥離処理したシート(剥離シート、セパレータ)をのせて酸素を遮断してもよいし、あるいは、不活性ガスを充填して酸素濃度を低下させた容器内で硬化させてもよい。
本発明においては、放射線の種類および照射に用いられるランプ等はシートに要求される特性に応じて、適宜選択されるものとする。例えば、放射線の照射量は、一般的には、100〜5,000mJ/cm、好ましくは1,000〜4,000mJ/cm、更に好ましくは2,000〜3,000mJ/cmである。放射線の照射量が100mJ/cmより少ないと、十分な重合率が得られないことがあり、5,000mJ/cmより多いと、劣化の原因となることがある。
Here, as a coating method, a known method such as casting, spin coating, or roll coating can be employed. Examples of the radiation to be applied include ionizing radiation such as α-ray, β-ray, γ-ray, neutron beam, and electron beam, and radiation such as ultraviolet rays.
At this time, in order to avoid polymerization inhibition by oxygen, a release-treated sheet (release sheet, separator) may be placed on the surface coated with the mixture containing the vinyl monomer to block oxygen, or Curing may be performed in a container filled with an inert gas to reduce the oxygen concentration.
In the present invention, the type of radiation and the lamp used for irradiation are appropriately selected according to the characteristics required for the sheet. For example, the dose of radiation is typically, 100~5,000mJ / cm 2, it is preferably 1,000~4,000mJ / cm 2, more preferably 2,000~3,000mJ / cm 2 . If the radiation irradiation amount is less than 100 mJ / cm 2 , a sufficient polymerization rate may not be obtained, and if it is more than 5,000 mJ / cm 2 , it may cause deterioration.

本発明のクリーニングシート及びクリーニング層の厚みは、特に限定されるものではなく、目的や用途に応じて、適宜設定することができる。ただし、クリーニング層の厚みは、プローブ針の先端が十分に挿入される必要があるので、好ましくは10〜500μm、更に好ましくは30〜300μmである。   The thicknesses of the cleaning sheet and the cleaning layer of the present invention are not particularly limited, and can be appropriately set according to the purpose and use. However, the thickness of the cleaning layer is preferably 10 to 500 μm, and more preferably 30 to 300 μm, since the tip of the probe needle needs to be sufficiently inserted.

例えば本発明の搬送部材20を用いて、プローブカードのプローブ針先端の異物を除去する方法(クリーニング作業)を、図3を用いて以下に説明する。
まず、クリーニング層1をプローブカードに対向して配置する。すなわち、搬送部材をウエハ固定用の台座に載置して、クリーニング層1をプローブカードに対向させる。次に、図3(a)に示すように、プローブ針21の最先端部22をクリーニング層1に突き刺した後、図3(b)に示すように、プローブ針21を抜き去る。この動作によって、プローブ針の先端に付着していた酸化アルミニウム等の異物23がクリーニング層1の中に残存し、プローブ針から除去される。この動作は所定回数、例えば10〜30回程度繰り返されるが、クリーニング層の突き刺す位置を少しずつ移動させて、例えばウエハ固定用の台座を水平方向に少し移動させて、異物が残存していない部分のクリーニング層に突き刺すようにすることが好ましい。本発明に係るクリーニング層は初期弾性率が0.5〜100N/mmであるので、プローブ針の最先端をクリーニング層に十分に挿入することができ、また、除去した異物をクリーニング層内に確実に保持することができるので、クリーニング作業後にプローブ針に異物が再付着することはない。
For example, a method (cleaning operation) of removing foreign matter at the tip of the probe needle of the probe card using the transport member 20 of the present invention will be described below with reference to FIG.
First, the cleaning layer 1 is arranged to face the probe card. That is, the transfer member is placed on the wafer fixing base, and the cleaning layer 1 is opposed to the probe card. Next, as shown in FIG. 3A, after the tip end portion 22 of the probe needle 21 pierces the cleaning layer 1, the probe needle 21 is pulled out as shown in FIG. 3B. By this operation, the foreign matter 23 such as aluminum oxide attached to the tip of the probe needle remains in the cleaning layer 1 and is removed from the probe needle. This operation is repeated a predetermined number of times, for example, about 10 to 30 times. The piercing position of the cleaning layer is moved little by little, for example, the pedestal for fixing the wafer is moved slightly in the horizontal direction, and the portion where no foreign matter remains is removed. It is preferable to pierce the cleaning layer. Since the cleaning layer according to the present invention has an initial elastic modulus of 0.5 to 100 N / mm 2 , the tip of the probe needle can be sufficiently inserted into the cleaning layer, and the removed foreign matter can be contained in the cleaning layer. Since the probe needle can be reliably held, the foreign matter does not adhere to the probe needle after the cleaning operation.

以下に実施例を用いて、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下の実施例において、部は重量部を意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In the following examples, “parts” means “parts by weight”.

(合成例1)
冷却管、温度計、および攪拌装置を備えた反応容器に、アクリル系モノマーとして、アクリル酸メチル50部、アクリル酸エチル50部と、光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名「イルガキュア184」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1部とを投入し、窒素雰囲気下で紫外線を暴露して部分的に光重合させることにより、プレポリマーを含むシロップを得た。この部分重合したシロップに多官能モノマーであるトリメチロールプロパントリアクリレートを0.2部加えて攪拌した後、これを、剥離処理したPETフィルム(厚み38μm)上に、硬化後の厚みが100μmとなるように塗布した。この上に、セパレータとして剥離処理したPETフィルム(厚み38μm)を重ねて被覆し、このセパレータの上から、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射し(照度170mW/cm、光量2500mJ/cm)、硬化させてクリーニング層を形成した。この後、セパレータ及び剥離処理したPETフィルムを剥がし、クリーニング層の引張試験を行い初期弾性率を求めた。クリーニング層の初期弾性率は0.9N/mmであった。
(Synthesis example 1)
In a reaction vessel equipped with a cooling pipe, a thermometer, and a stirrer, 50 parts of methyl acrylate and 50 parts of ethyl acrylate as acrylic monomers, and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone as a photopolymerization initiator ( 0.1 g of “IRGACURE 184” (product name of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added thereto, and the syrup containing the prepolymer was obtained by partially exposing it to ultraviolet light under a nitrogen atmosphere to cause photopolymerization. Obtained. After 0.2 parts of trimethylolpropane triacrylate, which is a polyfunctional monomer, is added to the partially polymerized syrup and stirred, the resulting syrup is cured to a thickness of 100 μm on a PET film (thickness: 38 μm). Was applied as follows. A PET film (thickness: 38 μm) that had been subjected to a release treatment as a separator was overlaid thereon and covered, and ultraviolet light was irradiated from above the separator using a high-pressure mercury lamp (illuminance: 170 mW / cm 2 , light amount: 2500 mJ / cm 2 ). After curing, a cleaning layer was formed. Thereafter, the separator and the peeled PET film were peeled off, and a tensile test of the cleaning layer was performed to determine an initial elastic modulus. The initial elastic modulus of the cleaning layer was 0.9 N / mm 2 .

(合成例2)
合成例1において、アクリル系モノマーを、アクリル酸メチル50部及びアクリル酸n−ブチル50部に変更した以外は合成例1と同様にして、クリーニング層を形成した。このクリーニング層の初期弾性率は、0.3N/mmであった。
(Synthesis example 2)
In Synthesis Example 1, a cleaning layer was formed in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the acrylic monomer was changed to 50 parts of methyl acrylate and 50 parts of n-butyl acrylate. The initial elastic modulus of this cleaning layer was 0.3 N / mm 2 .

(合成例3)
合成例1において、アクリル系モノマーとして、アクリル酸メチル40部、アクリル酸エチル40部、及び、N,N−ジメチルアクリルアミド20部を用い、多官能モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート0.4部を用いた以外は合成例1と同様にして、クリーニング層を形成した。このクリーニング層の初期弾性率は、158N/mmであった。
(Synthesis example 3)
In Synthesis Example 1, 40 parts of methyl acrylate, 40 parts of ethyl acrylate, and 20 parts of N, N-dimethylacrylamide were used as acrylic monomers, and 0.4 part of trimethylolpropane triacrylate was used as a polyfunctional monomer. A cleaning layer was formed in the same manner as in Synthesis Example 1 except for the difference. The initial elastic modulus of the cleaning layer was 158 N / mm 2 .

(合成例4)
冷却管、温度計、および攪拌装置を備えた反応容器に、アクリル系モノマーとして、アクリル酸t−ブチル50部、アクリル酸30部、アクリル酸n−ブチル20部と、光重合開始剤として、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(商品名「イルガキュア2959」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.3部と、ポリオールとしてポリオキシテトラメチレングリコール(分子量650、三菱化学(株)製)73.4部と、ウレタン反応触媒として、ジブチルすずジラウレート0.05部とを投入し、攪拌しながら、キシリレンジイソシアネート26.6部を滴下し、65℃で2時間反応させて、ウレタンポリマーとアクリル系モノマーの混合物を得た。なお、ポリイソシアネート成分とポリオール成分の使用量は、NCO/OH(当量比)=1.25であった。ウレタンポリマーとアクリル系モノマーの混合物を、剥離処理したPETフィルム(38μm厚)上に、硬化後の厚みが100μmになるように塗布した。この上に、セパレータとして剥離処理したPETフィルム(厚み38μm)を重ねて被覆し、このセパレータの上から、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射し(照度170mW/cm、光量2500mJ/cm)、硬化させてクリーニング層を形成した。この後、セパレータ及び剥離処理したPETフィルムを剥がして、クリーニング層の引張試験を行い初期弾性率を求めた。クリーニング層の初期弾性率は2N/mmであった。
(Synthesis example 4)
In a reaction vessel equipped with a cooling pipe, a thermometer, and a stirrer, 50 parts of t-butyl acrylate, 30 parts of acrylic acid, 20 parts of n-butyl acrylate as an acrylic monomer, and 1 part of a photopolymerization initiator as a photopolymerization initiator. -[4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (trade name "Irgacure 2959", manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.3 And 73.4 parts of polyoxytetramethylene glycol (molecular weight: 650, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as a polyol, and 0.05 parts of dibutyltin dilaurate as a urethane reaction catalyst. 26.6 parts of isocyanate was added dropwise and reacted at 65 ° C. for 2 hours to obtain a mixture of a urethane polymer and an acrylic monomer. The amounts of the polyisocyanate component and the polyol component used were NCO / OH (equivalent ratio) = 1.25. A mixture of a urethane polymer and an acrylic monomer was applied on a peeled PET film (38 μm thick) so that the thickness after curing became 100 μm. A PET film (thickness: 38 μm) that had been subjected to a release treatment as a separator was overlaid thereon and covered, and ultraviolet light was irradiated from above the separator using a high-pressure mercury lamp (illuminance: 170 mW / cm 2 , light amount: 2500 mJ / cm 2 ). After curing, a cleaning layer was formed. Thereafter, the separator and the peeled PET film were peeled off, and a tensile test of the cleaning layer was performed to determine an initial elastic modulus. The initial elastic modulus of the cleaning layer was 2 N / mm 2 .

(合成例5)
合成例4において、アクリル系モノマーを、アクリル酸t−ブチル50部、アクリル酸50部に変更した以外は合成例4と同様にして、クリーニング層を形成した。このクリーニング層の初期弾性率は16N/mmであった。
(Synthesis example 5)
In Synthesis Example 4, a cleaning layer was formed in the same manner as in Synthesis Example 4, except that the acrylic monomer was changed to 50 parts of t-butyl acrylate and 50 parts of acrylic acid. The initial elastic modulus of this cleaning layer was 16 N / mm 2 .

(合成例6)
合成例4において、アクリル系モノマーを、アクリロイルモルホリン50部、アクリル酸50部に変更した以外は合成例4と同様にして、クリーニング層を形成した。このクリーニング層の初期弾性率は60N/mmであった。
(Synthesis example 6)
In Synthesis Example 4, a cleaning layer was formed in the same manner as in Synthesis Example 4 except that the acrylic monomer was changed to 50 parts of acryloylmorpholine and 50 parts of acrylic acid. The initial elastic modulus of this cleaning layer was 60 N / mm 2 .

(実施例1〜4、比較例1〜2)
合成例1〜3で得られた部分重合したシロップと多官能モノマーの混合物、及び、合成例4〜6で得られたウレタンポリマーとアクリル系モノマーの混合物を、表1に示すように使用して、厚み100μmのPETフィルム上に、硬化後の厚みが100μmとなるように塗布した。この上に、セパレータとして剥離処理したPETフィルム(厚み38μm)を重ねて被覆し、このセパレータの上から紫外線を照射して(照度170mW/cm、光量2,500mJ/cm)、硬化させ、クリーニング層を形成した。この後、剥離処理したPETフィルム(セパレータ)を剥がし、クリーニングシートを得た。
得られた各クリーニングシートについて、下記の評価試験を行った。その結果を表1に示す。
(Examples 1-4, Comparative Examples 1-2)
The mixture of the partially polymerized syrup and the polyfunctional monomer obtained in Synthesis Examples 1 to 3, and the mixture of the urethane polymer and the acrylic monomer obtained in Synthesis Examples 4 to 6 were used as shown in Table 1. It was applied on a PET film having a thickness of 100 μm so that the thickness after curing became 100 μm. A PET film (thickness: 38 μm) which had been subjected to a release treatment as a separator was overlaid thereon and coated, and ultraviolet light was irradiated from above the separator (illuminance: 170 mW / cm 2 , light amount: 2,500 mJ / cm 2 ), and cured. A cleaning layer was formed. Thereafter, the peeled PET film (separator) was peeled off to obtain a cleaning sheet.
The following evaluation tests were performed on each of the obtained cleaning sheets. Table 1 shows the results.

(評価試験)
プローバにおいて、プローブカード(プローブ針数20本)をアルミニウムべたウエハに、オーバードライブ量60μmで1万回、連続コンタクトさせた。1万回のコンタクト終了後、プローブカードを、ステージ上に載置したクリーニングシートに、オーバードライブ量60μmで30回コンタクトさせてプローブ針のクリーニングを行った。なお、プローブカードのプローブ針先端をクリーニングシートに接触させる際には、ステージを移動させて、同じ箇所にコンタクトすることがないようにしてクリーニングを行った。クリーニング終了後、プローブ針の先端をSEMで観察し、針に付着した異物が残存しているか否かを確認した。
(Evaluation test)
In the prober, a probe card (20 probe needles) was continuously contacted with the aluminum solid wafer 10,000 times with an overdrive amount of 60 μm. After 10,000 contacts, the probe card was contacted with the cleaning sheet placed on the stage 30 times at an overdrive amount of 60 μm to clean the probe needles. Note that when the tip of the probe needle of the probe card was brought into contact with the cleaning sheet, the stage was moved so that cleaning was performed so as not to contact the same location. After the cleaning was completed, the tip of the probe needle was observed with an SEM, and it was confirmed whether or not foreign matter attached to the needle remained.

Figure 2004304184
Figure 2004304184

表1から明らかなように、実施例1〜4の本発明のクリーニングシートは、クリーニング後に、異物が残存していないことが確認された。
一方、比較例1〜2のクリーニングシートは、クリーニング後にも異物が残存していることが分かった。
As is clear from Table 1, it was confirmed that the cleaning sheets of Examples 1 to 4 of the present invention had no foreign matter left after cleaning.
On the other hand, it was found that the cleaning sheets of Comparative Examples 1 and 2 had foreign matters remaining after cleaning.

(a)は、本発明の第1の実施形態に係るクリーニングシートの層構成を示す図であり、(b)は、本発明の第2の実施形態に係るクリーニングシートの層構成を示す図である。(A) is a diagram showing a layer configuration of a cleaning sheet according to the first embodiment of the present invention, and (b) is a diagram showing a layer configuration of a cleaning sheet according to a second embodiment of the present invention. is there. (a)は、本発明の第1の実施形態に係る搬送部材の層構成を示す図であり、(b)は、本発明の第2の実施形態に係る搬送部材の層構成を示す図である。(A) is a figure which shows the layer structure of the conveyance member which concerns on 1st Embodiment of this invention, (b) is a figure which shows the layer structure of the conveyance member which concerns on 2nd Embodiment of this invention. is there. 本発明のクリーニング方法の様子を示す図である。FIG. 4 is a view illustrating a state of the cleaning method of the present invention.

符号の説明Explanation of reference numerals

1 クリーニング層
2 基材層
3、4 粘着層
5 支持体
10 クリーニングシート
20 搬送部材
21 プローブ針
22 プローブ針最先端部
23 異物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning layer 2 Base material layer 3, 4 Adhesive layer 5 Support 10 Cleaning sheet 20 Conveying member 21 Probe needle 22 Probe needle tip part 23 Foreign substance

Claims (11)

プローブカードのプローブ針先端に付着した異物を除去するクリーニングシートであって、該クリーニングシートはクリーニング層を有し、該クリーニング層の表面がクリーニングシートの少なくとも一方の表面を成すように構成されており、該クリーニング層は初期弾性率が0.5〜100N/mmであることを特徴とするクリーニングシート。 A cleaning sheet for removing foreign matter adhering to the tip of a probe needle of a probe card, wherein the cleaning sheet has a cleaning layer, and the surface of the cleaning layer forms at least one surface of the cleaning sheet. A cleaning sheet having an initial elastic modulus of 0.5 to 100 N / mm 2 ; さらに基材層を有することを特徴とする請求項1記載のクリーニングシート。   The cleaning sheet according to claim 1, further comprising a base material layer. 前記クリーニング層が基材層の一方の側の表面に設けられており、前記基材層の他方の側には粘着層を有することを特徴とする請求項1又は2記載のクリーニングシート。   The cleaning sheet according to claim 1, wherein the cleaning layer is provided on a surface on one side of the base material layer, and has an adhesive layer on the other side of the base material layer. 前記クリーニング層が、ビニル系モノマーを含有する混合物に放射線を照射し、硬化させてなるものであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載のクリーニングシート。   The cleaning sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the cleaning layer is obtained by irradiating a mixture containing a vinyl monomer with radiation and curing the mixture. 前記クリーニング層が、ウレタンポリマー及びビニル系モノマーを含有する混合物に、放射線を照射し、硬化させてなるものであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載のクリーニングシート。   The cleaning sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the cleaning layer is formed by irradiating a mixture containing a urethane polymer and a vinyl monomer with radiation and curing the mixture. ビニル系モノマーの存在下で、ポリオールとポリイソシアネートを反応させてウレタンポリマーを形成することにより、ウレタンポリマー及びビニル系モノマーを含有する混合物とした後、放射線を照射し、硬化してクリーニング層を形成することを特徴とする請求項5記載のクリーニングシート。   In the presence of a vinyl-based monomer, a polyol and a polyisocyanate are reacted to form a urethane polymer.After forming a mixture containing the urethane polymer and the vinyl-based monomer, the mixture is irradiated with radiation and cured to form a cleaning layer. The cleaning sheet according to claim 5, wherein the cleaning sheet is used. 請求項1から6のいずれか1項記載のクリーニングシートが支持体上に設けられてなることを特徴とする搬送部材。   A transport member comprising the cleaning sheet according to any one of claims 1 to 6 provided on a support. 前記クリーニングシートが粘着手段によって支持体上に設けられていることを特徴とする請求項7記載の搬送部材。   The transport member according to claim 7, wherein the cleaning sheet is provided on the support by an adhesive unit. 前記支持体がウエハであることを特徴とする請求項7又は8記載の搬送部材。   9. The transfer member according to claim 7, wherein the support is a wafer. 一方の表面に初期弾性率が0.5〜100N/mmであるクリーニング層を有するクリーニングシートの製造方法であって、
ビニル系モノマーの存在下で、ポリオールとポリイソシアネートを反応させてウレタンポリマーを形成することにより、ウレタンポリマー及びビニル系モノマーを含有する混合物とする工程と、
該混合物を、剥離シート又は基材層上に塗布する工程と、
塗布した混合物に放射線を照射し、硬化して前記クリーニング層を形成する工程とを含むことを特徴とするクリーニングシートの製造方法。
A method for producing a cleaning sheet having a cleaning layer having an initial elastic modulus of 0.5 to 100 N / mm 2 on one surface,
In the presence of a vinyl-based monomer, a step of forming a mixture containing a urethane polymer and a vinyl-based monomer by reacting a polyol and a polyisocyanate to form a urethane polymer,
A step of applying the mixture on a release sheet or a substrate layer,
Irradiating the applied mixture with radiation and curing to form the cleaning layer.
請求項1から6のいずれか1項記載のクリーニングシートのクリーニング層を、または、請求項7から9のいずれか1項記載の搬送部材のクリーニング層を、プローブカード用プローブ針に接触させることによって、プローブ針先端に付着した異物を除去することを特徴とするプローブ針のクリーニング方法。   By bringing the cleaning layer of the cleaning sheet according to any one of claims 1 to 6 or the cleaning layer of the transport member according to any one of claims 7 to 9 into contact with a probe needle for a probe card. A method for cleaning a probe needle, comprising removing foreign matter attached to the tip of the probe needle.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012220369A (en) * 2011-04-11 2012-11-12 Nitto Denko Corp Cleaning sheet, cleaning member, cleaning method, and continuity inspection device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100908439B1 (en) * 2007-10-16 2009-07-21 주식회사 퓨리텍 Cleaning sheet for probe
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