JP2004302072A - 防眩フィルム - Google Patents

防眩フィルム Download PDF

Info

Publication number
JP2004302072A
JP2004302072A JP2003094279A JP2003094279A JP2004302072A JP 2004302072 A JP2004302072 A JP 2004302072A JP 2003094279 A JP2003094279 A JP 2003094279A JP 2003094279 A JP2003094279 A JP 2003094279A JP 2004302072 A JP2004302072 A JP 2004302072A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
film
phase
optically anisotropic
antiglare
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003094279A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004302072A5 (ja
JP4203989B2 (ja
Inventor
Akira Murata
亮 村田
Kensaku Azuma
健策 東
Akira Sakai
彰 坂井
Motohiro Yamahara
基裕 山原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Tomoegawa Co Ltd
Original Assignee
Sharp Corp
Tomoegawa Paper Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp, Tomoegawa Paper Co Ltd filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2003094279A priority Critical patent/JP4203989B2/ja
Publication of JP2004302072A publication Critical patent/JP2004302072A/ja
Publication of JP2004302072A5 publication Critical patent/JP2004302072A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4203989B2 publication Critical patent/JP4203989B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67103Apparatus for thermal treatment mainly by conduction
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4581Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber characterised by material of construction or surface finish of the means for supporting the substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4583Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally
    • C23C16/4586Elements in the interior of the support, e.g. electrodes, heating or cooling devices

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

【課題】ディスプレイを見る際に色の混じりにより生じるコントラストの低下を防止する防眩フィルムを提供する。
【解決手段】防眩フィルムは、透明基体と、その少なくとも一方の面上に設けられた、光学等方性ポリマー相中に光学異方性相が分散された防眩層とを有するものであって、上記光学異方性相におけるフィルム厚さ方向の屈折率とフィルム面内方向の屈折率との差の最小値が、フィルム面内方向における屈折率の差より大きく、かつ、光学異方性相のフィルム厚さ方向における屈折率と光学等方性ポリマー相の屈折率との差の絶対値が、光学異方性相のフィルム面内方向における屈折率と光学等方性ポリマー相の屈折率との差の絶対値よりも小さい。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、CRT、EL等の画像表示体等に好適に用いられ、主に画像のコントラスト低下を防止する防眩フィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】
【0003】
【特許文献1】特許第3314965号公報。
【特許文献2】特開平5−162261号公報。
【特許文献3】特開平7−181306号公報。
【0004】
上記LCD、PDP、CRT、EL等に代表される画像表示装置(以下、これを「ディスプレイ」と称する。)は、テレビやコンピュータをはじめとして、さまざまな分野で使用されており、目覚しい発展を遂げている。特にLCDは、薄く、軽量で、かつ汎用性に富むディスプレイとして、パーソナルコンピュータや携帯電話、テレビ、PDA、その他各種デバイス用としての普及が著しい。
【0005】
これらのディスプレイを屋外や蛍光灯下などの比較的明るい場所で使用する場合、太陽光や蛍光灯等の外部光によるディスプレイへの映り込みが問題とされており、これを防止するために防眩処理もしくは反射防止処理、又はその両方をディスプレイの最表面に施し、ディスプレイ表面に対する外部光の映り込み低減を図ることが一般的なものとして知られている。
【0006】
これらの処理のうち、防眩処理は、樹脂中に無機または有機フィラーを分散させた防眩層をコーティングによってディスプレイ表面上に設けることにより、フィラーによって形成される凹凸や樹脂とフィラーとの屈折率差によって外部光を散乱させ、ディスプレイ表面に映り込む鏡像をぼやかすことにより映り込みを低減させる技術であり、特許文献1〜3等に開示されている。
【0007】
一方、反射防止処理は、光波長の1/4程度の低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積層した反射防止層をコーティングによってディスプレイ表面上に設けるものであって、それにより、各々の層の界面で反射する光線に半波長分の位相差を与え、その反射光を相互に打ち消すことにより映り込みを低減させている。
【0008】
これらの映り込みを低減処理を比較すると、一般に防眩処理の方が安価であるものの、純粋な映り込み防止能では反射防止処理の方が優れているとされており、一方、副次的な作用として防眩処理を施すことによりCRT以外のマトリックス表示のディスプレイでは、そのシャープ過ぎる画像を適度に散乱させることにより、長時間ディスプレイを見つづけた場合の目の疲れを低減させる効果がある等、どちらの方が優れているとは言い難く、用途とコストを考えていずれか一方または両方の処理を施している。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
前述のように、防眩処理を施したディスプレイでは、未処理のものより目の疲れを低減させるという副次的効果を生じるが、その反面、散乱により隣接するマトリックスからの光線が混ざり、コントラストが低下する問題が発生している。本発明は、その問題を改善することを目的としてなされたものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、以上の問題を解決するために鋭意検討した結果、この問題が、あるマトリックスから防眩層に垂直に入射する光線と、その周辺のマトリックスから防眩層へ斜めに入射する光線が防眩層上で混ざるためであることを見出した。そこで、光学等方性ポリマー相中に光学異方性相が分散状態で存在する層を有するフィルムの、光学異方性相におけるフィルム面内方向の屈折率と厚さ方向の屈折率が異なり、かつ光学等方性ポリマー相の屈折率が、光学異方性相におけるフィルム面内方向の屈折率よりも厚さ方向の屈折率により近い光学フィルムを用いることによって、ディスプレイのコントラスト低下が抑えられることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0011】
すなわち、本発明の防眩フィルムは、透明基体と、その少なくとも一方の面上に設けられた、光学等方性ポリマー相中に光学異方性相が分散された防眩層とを有するものであって、上記光学異方性相におけるフィルム厚さ方向の屈折率とフィルム面内方向の屈折率との差の最小値が、フィルム面内方向における屈折率の差より大きく、かつ、光学異方性相のフィルム厚さ方向における屈折率と光学等方性ポリマー相の屈折率との差の絶対値が、光学異方性相のフィルム面内方向における最小の屈折率と光学等方性ポリマー相の屈折率との差の絶対値よりも小さいことを特徴とする。
【0012】
なお、光学異方性相におけるフィルム面内方向とは、フィルムの厚さ方向に対して直角な平面における任意の方向を意味する。本明細書においては、説明を容易にするために、フィルムの厚さ方向に対して直角な平面において、フィルム面内方向の屈折率の最大値をnで表し、フィルム面内方向の屈折率の最小値をnで表すことにする。また、光学異方性相におけるフィルム厚さ方向の屈折率をnで表わし、光学等方性ポリマー相の屈折率をnで表わすことにする。なお、図8は光学異方性相の屈折率を説明するための図であって、光学異方性相のフィルム面内において、屈折率の最大値nと最小値nが互いに直角方向に存在する場合の例を示すが、nとnは互いに直角方向に存在しなくてもよい。
【0013】
本発明における「フィルム厚さ方向の屈折率とフィルム面内方向の屈折率との差の最小値」とは、|n−n|の数値と|n−n|の数値の小さい方を意味し、「フィルム面内方向における屈折率の差」とは(n−n)の値を意味する。また、「光学異方性相のフィルム面内方向における屈折率と光学等方性ポリマー相の屈折率との差」とは、|n−n|の数値と|n−n|の数値の小さい方を意味する。
したがって、本発明の防眩フィルムにおける上記屈折率の関係は下記式(1)、式(2)及び式(3)又は式(4)によって表すことができる。
|n−n|>(n−n) (1)
|n−n|>(n−n) (2)
|n−n|<|n−n| (3)
|n−n|<|n−n| (4)
(式中、nはフィルム面内方向の屈折率の最大値、nはフィルム面内方向の屈折率の最小値、nはフィルム厚さ方向の屈折率を示し、nは光学等方性ポリマー相の屈折率を表す。以下の式においても、同様の意味を示すので説明を省略する。)
【0014】
本発明の防眩フィルムにおいては、光学異方性相のn、n、nが、下記式(5)及び(6)の関係を満たすことが好ましい。
0.03≦|n−n|<0.3 (5)
0.03≦|n−n|<0.3 (6)
また、本発明の光学フィルムにおいて、光学異方性相のフィルム面方向における屈折率(n、n)が1.5より大きく、1.8未満であることが好ましい。また、光学異方性相のフィルム厚さ方向における屈折率(n)が1.5より大きく、1.8未満であることが好ましい。すなわち、下記式(7)ないし(9)を満たすことが好ましい。
1.5<n<1.8 (7)
1.5<n<1.8 (8)
1.5<n<1.8 (9)
【0015】
また、本発明の防眩フィルムにおいて、光学異方性相が、高分子液晶を含んでいるのが好ましい。
また、光学等方性ポリマー相中に分散された状態で存在する光学異方性相は、1〜20μmの直径を有する球形または1〜20μmの最大径を有する偏平形の形状のものが好ましい。
【0016】
【発明の実施の形態】
次に、本発明のより好適な実施の形態について詳細に説明する。
本発明の防眩フィルムの防眩層は、光学等方性ポリマー相中に光学異方性相が分散状態で存在しており、これらの界面で可視光線の散乱が発生するので、可視光線の散乱を最適化するために分散状態を制御することが必要である。
【0017】
本発明の防眩フィルムにおいて、光学等方性ポリマー相中における光学異方性相の分散状態は、その形状が球状または偏平状であることが好ましい。図1〜図4は、何れも透明基板上に防眩層が形成された防眩フィルムの模式的断面図であって、その場合を説明する図である。図1(a)及び(b)は、光学等方性相1中に球状の光学異方性相2が分散された状態を示し、(b)においては表面に球状の光学異方性相が露出している。また、図2(a)及び(b)は、光学等方性相1中に球状の光学異方性相2が単粒子層の状態で分散された場合を示し、表面に球状の光学異方性相が露出している。図3(a)及び(b)は、光学等方性相1中に偏平状の光学異方性相2が分散された状態を示し、(b)においては表面に偏平状の光学異方性相が露出している。また、図4(a)及び(b)は、光学等方性相1中に偏平状の光学異方性相2が単粒子層の状態で分散された場合を示し、表面に偏平状の光学異方性相が露出している。なお、図中、3は透明基板である。
【0018】
また、光学等方性ポリマー相中の光学異方性相の分散状態は、図9(a)に示すような海島構造であってもよいし、図9(b)に示すような相互侵入構造であってもよい。
【0019】
本発明においては、上記光学異方性相のフィルム面内方向の屈折率nとフィルム厚さ方向の屈折率nの差、及びフィルム面内方向の屈折率nとフィルム厚さ方向の屈折率nの差は、それぞれ0.03以上ないし0.3未満であることが好ましい。上記の屈折率の差が0.3以上の場合には、色分解が生じて画像が着色する恐れがある。また、0.03より小さくなると、防眩効果が生じない。
また、nとnとの差は少ないほど好ましく、具体的には0.03未満であることが好ましく、nとnとが同じ値であることが好ましい。nとnとの差が0.03未満である場合は、何れの方向から光学フィルムを視認しても同様なボケ防止効果が得られる。
【0020】
さらに、上記と同様の理由により、光学異方性相の屈折率は、後述する光学等方性ポリマー相の屈折率との関係から、フィルム面内方向、フィルム厚さ方向ともに1.5より大きく、1.8より小さいことが好ましい。
【0021】
本発明において、光学異方性相を光学等方性ポリマー層中に球状または偏平状に分散させる際に、球状の場合はその直径が、また偏平状の場合はその最大径がそれぞれ1〜20μmの範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは1〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。直径または最大径が1μmより小さい場合には、十分な散乱を得ることができず、また、20μmより大きい場合には、フィルムに、分散した光学異方性相の粒状感が現れるので、好ましくない。
【0022】
本発明において、光学異方性相の形成に適した化合物としては、光学異方性の化合物が挙げられる。ここで言う光学異方性とは、n又はnとnの屈折率差が0.03以上であることを意味する。このような化合物として好ましいものは、分子が面内方向に配向可能な化合物であり、また、別の好ましい化合物としては、分子がフィルムの厚さ方向に配向可能な化合物があげられる。具体的には、雲母やマイカ等の結晶性を有する無機化合物、分子構造の中にメソゲンを有する低分子液晶化合物および高分子液晶化合物があげられる。これらは単独で、又は2種類以上混合して使用してもよい。
【0023】
また、これらの中では、塗膜とした後にエネルギーを付与することにより配向を制御することが容易な低分子液晶化合物および高分子液晶化合物が好ましく、さらに側鎖にメソゲンを有する側鎖型高分子液晶が特に好ましい。
【0024】
次に、本発明において好ましく用いられる側鎖型高分子液晶化合物を例示する。なお、構造式中nは、重合度を意味し、好ましくは10〜2000の範囲である。
【化1】
Figure 2004302072
【0025】
一般に、高分子液晶化合物は、通常光学等方性ポリマーと相分離させただけでは配向が得られないため、電場、熱、光、電子線などのエネルギーを付与して配向させることが必要である。本発明の防眩フィルムを作製する場合には、熱と光の付与によって高分子液晶化合物を配向させて光学異方性相を形成するのが好ましく、無偏光の紫外線の付与によるのが特に好ましい。
【0026】
さらに、メソゲンを有する側鎖に架橋性基が存在する高分子液晶を用いた場合には、配向前または配向後に、架橋性基を反応させることによって、配向後の安定性に優れた光学異方性相を得ることができるので、特に好ましい。このような高分子液晶の架橋性基としては、ビニル基、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基、イソシアネート基、シンナモイル基等が挙げられる。
【0027】
さらに、光学異方性相には、所望の特性を得るために、光学異方性を失わない範囲で他の成分を添加してもよい。例えば、配向制御や熱特性改善のためにポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリスチレン等の光学等方性化合物を添加してもよい。
【0028】
一方、光学等方性ポリマー相を形成するのに適した化合物としては、光学等方性のポリマーが挙げられる。ここで言う「光学等方性」とは、n、n、n相互の屈折率差がいずれも0.03未満であることを意味する。
【0029】
このような化合物としては、例えばポリエステル、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリアセタール、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、セルロース等の樹脂が挙げられる。また、2種類以上のモノマー成分よりなる共重合体(例えば、スチレンとアクリル化合物によるスチレン−アクリル共重合体)を使用してもよい。また、屈折率や透過率等の光学特性、耐擦過性や耐熱性等の物理特性等で所望の特性を得るために、上記化合物の誘導体(例えばポリオレフィンの誘導体であるポリビニルアルコールやポリスチレン、セルロースの誘導体であるセルロースアセテート等)を用いることもできる。これらの化合物は、単独もしくは2種類以上混合して使用してもよく、これらの中から光学異方性ポリマー相の屈折率n、n、nに合わせて、適宜使用することができる。
【0030】
本発明の光学フィルムにおいて、光学等方性ポリマー相と光学異方性相からなる層の層厚は、1〜20μmの範囲が好ましく、さらに好ましくは1〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。
【0031】
本発明における透光性基体としては、透明なフィルムを使用することができる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、ポリアリレート、ポリイミド、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、セロファン、ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、シクロオレフィンコポリマー(COC)、含ノルボルネン樹脂(日本ゼオン(株)製:ゼオノア等)を用いることができる。
これら透光性基体の厚さは特に限定されるものではないが、好ましくは5〜600μmであり、5〜200μmの範囲が特に好ましい。
【0032】
【実施例】
次に、本発明を実施例を用いてより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例1
(屈折率の測定)
本発明の光学フィルムでは、その光学等方性ポリマーと光学異方性化合物が分散状態で存在している関係上、個々の化合物の屈折率を測定することはきわめて困難であるため、まず化合物単独のフィルムを作製し、その屈折率を測定した。なお、本発明において、屈折率の測定は、メトリコン社製のプリズムカプラ(型番:モデル2010)により、波長633nmのレーザーによって行った。
光学異方性化合物として、[ポリ(4′−(4−メトキシシンナモイル)−4−ビフェニルオキシヘキシルメタクリレート)](以下、PMCBHM、重量平均分子量:14万)、溶剤としてクロロホルムを使用し、以下の配合比で配合してPMCBHMをクロロホルムに完全に溶解させ、塗料を調製した。
[配合比]
・PMCBHM: 1部
・クロロホルム: 99部
【0033】
得られた塗料を、ガラス基板上に塗布し乾燥して、ガラス基板上に膜厚が1μmのフィルムを形成した。
次に形成されたフィルムの塗膜直上よりUVスポット光源にて無偏光の紫外線を照射(照射条件:150mW/cm、10sec.)し、さらに、ホットプレートにてフィルムの加熱(加熱条件:130℃、5min.)を行った後に、加熱硬化後のフィルムの屈折率をプリズムカプラーにて測定した。その結果、n、nが1.62、nが1.52であった。
【0034】
光学等方性ポリマーとしてポリメタクリレート(以下PMMA、重量平均分子量:4万)、溶剤としてクロロホルムを使用し、以下の配合比で配合してPMMAをクロロホルムに完全に溶解させ、塗料を調製した。
[配合比]
・PMMA: 10部
・クロロホルム: 90部
得られた塗料を、ガラス基板上に塗布し乾燥して、ガラス基板上に膜厚が1μmのフィルムを形成した。形成されたフィルムの屈折率をプリズムカプラーにて測定したところ、フィルム平面方向の屈折率n、nと厚さ方向の屈折率nとは、いずれも1.49であった。
【0035】
(防眩フィルムの作製)
光学異方性化合物としてPMCBHM、光学等方性ポリマーとしてポリメタクリレート、溶剤としてクロロホルムを使用し、これらを以下の配合比で配合して、PMCBHM、PMMA共にクロロホルムに完全に溶解させ、塗料を調製した。
[配合比]
・PMCBHM: 1部
・PMMA: 9部
・クロロホルム: 80部
【0036】
フィルム厚100μmの含ノルボルネン樹脂フィルム(商品名:ゼオノア、日本ゼオン(株)製)上に、上記塗料をスピンコーターで塗布し、層厚1μmのコーティング層を形成した。
次いで、コーティング層の直上より、UVスポット光源にて紫外線照射(照射条件:150mW/cm、10sec.)を行った。さらに、ホットプレートにてコーティング層が形成されたフィルムの加熱(加熱条件:130℃、5min.)を行い、防眩フィルムを得た。この防眩フィルムのコーティング層は、最大20μmのサイズの扁平形を有する光学異方性相が分散した海島構造を有するものであった。
【0037】
実施例2
(屈折率の測定)
光学異方性化合物として、PMCBHMと[ポリ(4−メトキシビフェニルオキシヘキシル−メタクリレート)]との共重合体(以下、P(MCBHM/MBHM)、重量平均分子量:12万)、溶剤としてクロロホルムを用い、以下の配合比で配合してP(MCBHM/MBHM)をクロロホルムに完全に溶解させ、塗料を調製した。
[配合比]
・P(MCBHM/MBHM): 1部
・クロロホルム: 49部
【0038】
得られた塗料を、ガラス基板上に塗布し乾燥して、ガラス基板上に膜厚が1μmのフィルムを形成した。
次に形成されたフィルムをホットプレートにて加熱(加熱条件:130℃、5min.)した後に、加熱硬化後のフィルムの屈折率をプリズムカプラーにて測定した。その結果、n、nが1.54、nが1.61であった。
【0039】
光学等方性ポリマーとして、ポリスチレン(以下、PSt、重量平均分子量:5万)、溶剤としてクロロホルムを使用し、以下の配合比で配合してPStをクロロホルムに完全に溶解させ、塗料を調製した。
[配合比]
・PSt: 10部
・クロロホルム: 90部
得られた塗料を、ガラス基板上に塗布し乾燥した。形成された塗膜の屈折率をプリズムカプラーにて測定したところ、フィルム平面方向の屈折率n、nと厚さ方向の屈折率nとは、いずれも1.59であった。
【0040】
(防眩フィルムの作製)
光学異方性化合物としてP(MCBHM/MBHM、光学等方性ポリマーとしてPSt、溶剤としてクロロホルムを使用し、これらを以下の配合比で配合して、P(MCBHM/MBHM)及びPStを共にクロロホルムに完全に溶解させ、塗料を調製した。
[配合比]
・P(MCBHM/MBHM): 1部
・PSt: 9部
・クロロホルム: 40部
【0041】
フィルム厚100μmの含ノルボルネン樹脂フィルム(商品名:ゼオノア、日本ゼオン(株)製)上に、上記塗料をスピンコーターで塗布し、層厚1μmのコーティング層を形成した。
次いで、ホットプレートにてフィルムの加熱を行い(加熱条件:130℃、5min.)、防眩フィルムを得た。この防眩フィルムのコーティング層は、最大14μmのサイズの扁平形を有する光学異方性相が分散した海島構造を有するものであった。
【0042】
比較例1
(防眩フィルムの作製)
光学異方性化合物の代わりに、架橋ポリスチレン製球状微粒子(屈折率1.59、平均粒径3.5μm)を使用し、光学等方性ポリマーとしてPMMA(重量平均分子量:4万)、溶剤としてクロロホルムを使用し、以下の配合比で配合して、塗料を調製した。
[配合比]
・球状微粒子: 1部
・PMMA: 9部
・クロロホルム: 40部
フィルム厚100μmの含ノルボルネン樹脂フィルム(商品名:ゼオノア、日本ゼオン(株)製)上に、上記塗料をスピンコーターで塗布し、層厚2μmのコーティング層を形成した。
【0043】
次に、各実施例および比較例の評価を、以下の方法により行った。
(光線散乱強度分布の入射角依存性測定)
変角光度計によって、防眩フィルムに入射角0°及び45°で光線を入射した際の透過強度を測定して散乱強度分布を調べた。その結果を図6及び図7に示す。なお、散乱強度分布は、図5に示す変角光度計によって行った。すなわち、光源4からサンプル5に入射角α(0°または45°)で光線を入射し、サンプルを通って散乱する光線を、サンプルを中心に回転する受光器6によって出射角βが入射角に対して−80°〜80°の範囲で透過強度を測定した。図6及び図7は、各サンプルの出射角0°の透過強度を1に規格化したグラフである。
【0044】
図6から明らかなように、入射角0°の場合、実施例1及び実施例2の防眩フィルムは、比較例1の防眩フィルムよりも散乱強度分布が広くなっており、より光を拡散することが分かる。一方、図7から明らかなように、入射角45°の場合には、実施例1及び実施例2の防眩フィルムは、比較例1の防眩フィルムよりも散乱強度分布が狭くなっており、比較例1の防眩フィルムよりも光を拡散していないことが分かる。
【0045】
【発明の効果】
本発明の防眩フィルムは、防眩層に垂直に入射した光と斜めに入射した光との間に散乱強度分布が明確に差が生じるので、優れた防眩効果を奏する。すなわち、本発明の防眩フィルムをディスプレイの表面に使用すれば、色の混じりにより生じるコントラスト低下を防止することができると共に、目の疲れを低減させるという効果を生じる。
【図面の簡単な説明】
【図1】光学異方性相の分散状態の一例を説明する図である。
【図2】光学異方性相の分散状態の他の一例を説明する図である。
【図3】光学異方性相の分散状態の他の一例を説明する図である。
【図4】光学異方性相の分散状態の他の一例を説明する図である。
【図5】散乱強度分布を測定するための変角光度計の概略の構成図である。
【図6】実施例及び比較例の防眩フィルムの入射角0°における出射角に対する透過強度のグラフであり、散乱強度分布を示す図である。
【図7】実施例及び比較例の防眩フィルムの入射角45°における出射角に対する透過強度のグラフであり、散乱強度分布を示す図である。
【図8】光学異方性相におけるフィルム面内方向の屈折率とフィルム厚さ方向の屈折率を説明する図である。
【図9】光学等方性ポリマー相と光学異方性相との分散状態を説明する図である。
【符号の説明】
1…光学等方性ポリマー相、2…光学異方性相、3…透明基板、4…光源、5…サンプル、6…受光器、α…入射角、β…出射角。

Claims (4)

  1. 透明基体と、その少なくとも一方の面上に設けられた、光学等方性ポリマー相中に光学異方性相が分散された防眩層とを有する防眩フィルムであって、該光学異方性相におけるフィルム厚さ方向の屈折率とフィルム面内方向の屈折率との差の最小値が、フィルム面内方向における屈折率の差より大きく、かつ、光学異方性相のフィルム厚さ方向における屈折率と光学等方性ポリマー相の屈折率との差の絶対値が、光学異方性相のフィルム面内方向における屈折率と光学等方性ポリマー相の屈折率との差の絶対値よりも小さいことを特徴とする防眩フィルム。
  2. 光学異方性相が、高分子液晶を含んでいることを特徴とする請求項1に記載の防眩フィルム。
  3. 光学異方性相が、光架橋性官能基を含んでいることを特徴とする請求項1に記載の防眩フィルム。
  4. 光学等方性ポリマー相中に分散されている光学異方性相が、1〜20μmの直径を有する球形または1〜20μmの最大径を有する偏平形の形状を有していることを特徴とする請求項1に記載の防眩フィルム。
JP2003094279A 2003-03-31 2003-03-31 防眩フィルム Expired - Lifetime JP4203989B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003094279A JP4203989B2 (ja) 2003-03-31 2003-03-31 防眩フィルム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003094279A JP4203989B2 (ja) 2003-03-31 2003-03-31 防眩フィルム

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004302072A true JP2004302072A (ja) 2004-10-28
JP2004302072A5 JP2004302072A5 (ja) 2005-10-27
JP4203989B2 JP4203989B2 (ja) 2009-01-07

Family

ID=33295829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003094279A Expired - Lifetime JP4203989B2 (ja) 2003-03-31 2003-03-31 防眩フィルム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4203989B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP4203989B2 (ja) 2009-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4857124B2 (ja) 液晶表示装置
TWI466775B (zh) 液晶薄膜
TWI292492B (ja)
JP2007522533A (ja) 垂直配向液晶フィルムを含む位相差フィルムおよびその製造方法
JP4882375B2 (ja) 液晶表示装置
WO2005116741A1 (ja) 液晶表示装置
TW201135323A (en) Liquid crystal display device
WO2006035635A1 (ja) 液晶表示装置
CN101288008A (zh) 带有光学补偿层的偏振片、使用带有光学补偿层的偏振片的液晶面板、液晶显示装置以及图像显示装置
JP2008129175A (ja) 楕円偏光板およびそれを用いた垂直配向型液晶表示装置
JP4993654B2 (ja) 防眩性フィルムおよび防眩性光学素子
JPWO2006054695A1 (ja) 液晶表示装置
CN100509179C (zh) 用于制造涂覆片材的方法,光学功能层,光学元件和图像显示设备
WO2019146543A1 (ja) 液晶表示装置ならびに該液晶表示装置に用いられる光学部材および光学部材のセット
WO2014157182A1 (ja) 積層偏光板及び水平配向型液晶表示装置
WO2021220729A1 (ja) 偏光板および光学機能層付偏光板
JP2007072213A (ja) 垂直配向型液晶表示装置用視野角補償板およびそれを用いた垂直配向型液晶表示装置
JPWO2005050300A1 (ja) 液晶表示装置
KR20160037117A (ko) 광학 필름 및 그것을 구비한 편광판, 액정 표시 장치, 및 광학 필름의 제조 방법
WO2005098484A1 (ja) 光学フィルム及びその製造方法及び高分子液晶微粒子
TWI379127B (en) Compensation films for lcd
TW200827787A (en) Optical film with super low retardation and polarizer plate containing the same
JP2006039164A (ja) 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、液晶パネル及び液晶表示装置
JP2021513109A (ja) 防眩フィルムおよびディスプレイ装置
JP4203989B2 (ja) 防眩フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050801

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050801

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080807

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081007

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081009

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4203989

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131024

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term