JP2004288581A - Photosensitive black paste for partition wall, member for plasma display, and plasma display - Google Patents

Photosensitive black paste for partition wall, member for plasma display, and plasma display Download PDF

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JP2004288581A JP2003082358A JP2003082358A JP2004288581A JP 2004288581 A JP2004288581 A JP 2004288581A JP 2003082358 A JP2003082358 A JP 2003082358A JP 2003082358 A JP2003082358 A JP 2003082358A JP 2004288581 A JP2004288581 A JP 2004288581A
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photosensitive
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Keiji Iwanaga
慶二 岩永
Yuichiro Iguchi
雄一朗 井口
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To particularly provide a photosensitive black paste without defect, a member for plasma displays and a plasma display by improving the formation of black partition walls used for contrast enhancement. <P>SOLUTION: In this photosensitive black paste for the partition wall, comprising an inorganic powder at least including a black powder and a glass powder, and an organic component including at least a photosensitive compound, the average particle diameter of the black powder is less than 2 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、壁掛けテレビや大型モニターに用いられるプラズマディスプレイの隔壁形成に係り、特に黒色隔壁形成において欠陥のない感光性黒色ペースト、プラズマディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイに関する。
【0002】
【従来の技術】
薄型・大型テレビに使用できるディスプレイとして、プラズマディスプレイ(以下、PDPと略す)が注目されている。おいて表示面となる前面板側のガラス基板には対をなす複数のサステイン電極がクロム、アルミニウム、ニッケル等の材料で形成されている。さらにサステイン電極を被覆してガラスを主成分とする誘電体層が20〜50μm厚みで形成され、誘電体層を被覆してMgO層が形成されている。一方、背面板側のガラス基板には、複数のアドレス電極がストライプ状に形成され、アドレス電極を被覆してガラスを主成分とする誘電体層が形成されている。誘電体層上に放電セルを仕切るための隔壁が形成され、該隔壁と誘電体層で形成された放電空間内に蛍光体層が形成される。蛍光体層として、RGBの各色に発光する蛍光体を形成することによりフルカラー表示が可能なPDPを作製することが出来る。前面板側のガラス基板のサステイン電極と背面板側のアドレス電極が互いに直交するように、前面板と背面板が封着されそれらの部材の間隙内にヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスが封入されPDPが形成される。スキャン電極とアドレス電極の交点を中心として画素セルが形成されるので、PDPは複数の画素セルを有し画像の表示が可能になる。
【0003】
PDPにおいて表示を行う際、選択された画素セルにおいて発光していない状態からサステイン電極とアドレス電極との間に封入ガスの放電開始以上の電圧を印加すると電離によって生じた陽イオンや電子は、画素セルが容量性負荷であるために放電空間内を反対極性の電極へと向けて移動して両側のMgO層の内壁に帯電し、内壁の電荷はMgO層の抵抗が高いために減衰せずに残留する。この壁電荷により放電空間内に外部からの印可電圧とは逆極性の電界が形成されるのでセル内の電界は弱められて放電は直ちに停止する。
【0004】
次に、スキャン電極間に放電維持電圧を印加することにより放電は維持される。
壁電荷により放電開始電圧より低い電圧での放電が継続される。この放電により放電空間内のキセノンガスが励起され、147nmの紫外線が発生し、紫外線が蛍光体を励起することにより発光表示が可能になる。
【0005】
上記の隔壁の形状は、およそ幅30〜80μm、高さ100〜200μmであるが、通常はガラスからなる絶縁ペーストをスクリーン印刷法で印刷・乾燥し、この印刷・乾燥を10〜20回繰り返して所定の高さにした後、焼成して形成している。しかしながら、通常のスクリーン印刷法では、特にパネルサイズが大型した場合にアドレス電極との位置合わせが難しく、位置精度が得られ難い問題がある。しかも10〜20回のガラスペーストの重ね合わせ印刷を行うことによって隔壁および壁体の側面エッジ部の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの精度が得られないため、表示品質が悪くなり、また作業性が悪い、歩留まりが低いという問題がある。特に、パターン幅が50μm、ピッチが100μm以下になると隔壁底部がペーストのチクソトロピー性により滲みやすく、シャープで残渣のない隔壁形成が難しくなる問題がある。
【0006】
PDPの大面積化、高解像度化にともない、このようなスクリーン印刷による方法では、高アスペクト比、高精細の隔壁の製造がますます技術的に困難となり、かつコスト的に不利になってきている。
【0007】
これらの問題を改良する方法として、感光性ガラスペースト法を用いて隔壁を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。つまり、フォトリソグラフィーを用いることで、高アスペクト比、高精細の隔壁の製造が可能となる。しかしながら、この方法では隔壁が白色であるため、プラズマディスプレイに用いる際にコントラストが不足する問題がある。
そこで、金属または金属酸化物を含んだ感光性ガラスペーストにより黒色隔壁を形成する方法が提案されているが、欠陥のない黒色隔壁を形成するには十分ではなかった(例えば、特許文献2参照)。
【0008】
【特許文献1】
特開平8−50811号公報(第3〜12頁)
【0009】
【特許文献2】
特開平10−182185号公報(3〜12頁)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は従来の技術における上述した問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、プラズマディスプレイでのコントラスト向上のために用いる黒色隔壁形成を改善し、特に欠陥のない優れた感光性黒色ペースト、プラズマディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
すなわち、上記課題を解決するため本発明は、少なくとも黒色粉末およびガラス粉末を含む無機粉末と少なくとも感光性化合物を含む有機成分からなる隔壁用感光性黒色ペーストであって、黒色粉末の平均粒子径が2μm未満であることを特徴とする隔壁用感光性黒色ペースト。また、本発明のプラズマディスプレイ用部材は上記感光性黒色ペーストを用いたことを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施の形態を説明する。
本発明の感光性黒色ペーストを構成する無機粉末は、少なくとも黒色粉末およびガラス粉末を含むことが必要である。無機粉末中に少なくとも黒色粉末を含むことは、隔壁を黒色に着色するために必要である。ガラス粉末はパターン形成後、焼成工程によりに隔壁層を形成する上で必須成分である。
【0013】
本発明で使用する黒色粉末の最大粒子径は、20μm以下であることが好ましい。最大粒子径が20μmを越えると、露光時に大きく光が遮られる箇所ができてパターンに不良部が生じることがあり、焼成の際にこの不良部を起点として大きな断線や蛍光体形成時の混色の原因となることがあるためである。ここで、粒子径とはレーザ散乱・回折法によって測定した値であり、平均粒子径とは50%体積粒子径、最大粒子径とは粒子径の最大値である。
【0014】
また、黒色粉末の平均粒子径は2μm未満であることが、欠陥のない隔壁を形成できる点で好ましい。平均粒子径が2μm以上であると隔壁形成時に隔壁の欠けが生じる傾向にあるため、前面板と封着しパネルにした場合に誤放電が起きることがあるためである。
【0015】
黒色粉末としては、Ru、Cr、Fe、Co、Mn、CuおよびNiの群から選ばれた少なくとも1種の金属またはその酸化物を用いるのがよい。なかでもRuを用いることがより好ましい。
【0016】
黒色粉末の配合量は、感光性黒色ペースト中に0.5〜10重量部含むことが好ましい。0.5重量部より小さいと、黒色度が弱くなり灰色がかって見え、コントラスト向上に効果がない。また10重量部より大きいとガラスの軟化点が上昇したり、熱膨張係数をガラス基板と整合させるのが難しくなることがある。また、黒色度が強くなりすぎて紫外線が下部まで到達しにくくなり、パターン形成性が低下することがあるので好ましくない。
【0017】
また、本発明で使用するガラス粉末の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、平均粒子径が、0.5〜5μmの範囲内であることが隔壁のパターンを形成する上で好ましい。平均粒子径が5μmより大きくなると、高精度のパターン形成時に表面凹凸が生じることがある。さらに好ましくは2〜5μmの範囲内である。
【0018】
本発明の黒色粉末とガラス粉末については、黒色粉末の平均粒子径をDb、ガラス粉末の平均粒子径をDgとしたときに、0.01<Db/Dg<1の式を満たすことが重要である。これによって欠陥のない優れたプラズマディスプレイ用の黒色隔壁が得られるからである。
【0019】
本発明で使用するガラス粉末を構成する成分としては、ケイ素またはホウ素の酸化物のうち少なくとも1種類を含むことが好ましい。
ガラス粉末を構成する成分として酸化ケイ素を含む場合は、その配合比率は、全粉末量に対し、酸化ケイ素が、3〜60重量部の範囲で配合されていることが好ましい。配合比率が3重量部未満の場合は、ガラス層の緻密性、強度や安定性が低下したり、また、熱膨脹係数が所望の値から外れたり、ガラス基板とのミスマッチが起こりやすくなることがある。また、60重量部を越えると、熱軟化点が高くなり、ガラス基板への焼き付けが困難になる傾向がある。
ガラス粉末を構成する成分として酸化ホウ素を含む場合は、全粉末量に対し、5〜50重量部の範囲で配合することが、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性のさらなる向上のために好ましい。50重量部を越えるとガラスの安定性が低下することがある。
【0020】
このようなガラス粉末としては、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも1種類を5〜50重量部含むガラス微粒子を用いることによって、ガラス基板上にパターン加工できる温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを5〜50重量部含有するガラス粉末を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。
【0021】
ビスマス系ガラス微粒子としては、次の組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化ビスマス :10〜40重量部
酸化ケイ素 : 3〜50重量部
酸化ホウ素 :10〜40重量部
酸化バリウム : 8〜20重量部
酸化アルミニウム :10〜30重量部
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも1種類を全粉末量に対し3〜20重量部含むガラス粉末を用いてもよいが、この場合、リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属の酸化物の添加量を全粉末量に対し20重量部以下、好ましくは15重量部以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。
【0022】
この場合の具体的なガラス粉末としては、次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化リチウム : 2〜15重量部
酸化ケイ素 :15〜50重量部
酸化ホウ素 :15〜40重量部
酸化バリウム : 2〜15重量部
酸化アルミニウム : 6〜25重量部
また、上記組成で、酸化リチウムの代わりに、酸化ナトリウム、酸化カリウムを用いることができるが、ペーストの安定性の点から、酸化リチウムが好ましい。
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム,酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。
【0023】
また、ガラス粉末中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨脹係数の制御の点からは、その含有量は、40重量部以下が好ましく、より好ましくは25重量部以下である。
【0024】
本発明の感光性黒色ペーストを構成する有機成分は、少なくとも感光性化合物を含むことが必要である。
【0025】
感光性化合物としては、光不溶化型のものと光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、(A)分子内に不飽和基等を1つ以上有する官能性モノマーオリゴマー、ポリマーを含有する物、(B)芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性化合物を有するもの、(C)ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆるジアゾ樹脂といわれる物等がある。また、光可溶化型のものとしては(D)ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノンジアゾ類を含有するもの、(E)キノンジアゾ類を適当なポリマー−バインダーとを結合させた例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルフォン酸エステル等がある。本発明において感光性樹脂化合物は前期いずれであってもよいが、無機粒子と混合して簡便に用いることができる点で、光不溶型が好ましく、特に前記(A)が好ましい。
【0026】
具体的に感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭素2重結合を有する化合物が挙げられ、官能基としてビニル基、アクリル基、アクリレート基、メタクリルレート基、アクリルアミド基を有する単官能および多官能化合物が挙げられる。特に、多官能アクリレート化合物およびメタクリレート化合物を有機成分中に10〜80重量部含有させたものが、光反応により硬化時の架橋密度を高くし、パターン形成性を向上させる点で好ましい。多官能アクリレート化合物およびメタクリレートとしては、多様な種類の化合物が開発されているので、それから反応性、屈折率などを考慮して適宜選択することが可能である。前記したポリマーもしくはオリゴマーは、現像許容幅、未露光部の現像液に対する溶解性の点から、酸価(AV)は50〜180、さらには70〜140であることが好ましい。また前記したポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子端末に付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマーや観光性オリゴマーとなり、これを用いることがもっとも好ましい。この時光反応性基としては、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などがあげられる。
【0027】
さらに必要に応じて、バインダー、光重合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、消泡剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などの添加剤成分を加えることもできる。
【0028】
次に、本発明の感光性黒色ペーストを用いてパターン加工を行う。
まず、ガラス基板やセラミックス基板の上に感光性黒色ペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーター等の方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整することができる。
【0029】
塗布した後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定することができる。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色のレーザー光などで直接描画する方法を用いても良い。
【0030】
露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。この際使用される活性光源としては、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、X線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で特に感光性化合物の光反応特性から紫外線が好ましく、その光源としては、たとえば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などを使用することができる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、通常、1〜50mW/cm2 の出力の超高圧水銀灯を用いて0.5〜30分間露光を行なう。
【0031】
露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行なうが、通常、浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法等で行なう。用いる現像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像することができる。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水酸化カルシウム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。
【0032】
有機アルカリとしては、アミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常0.01〜10重量部、より好ましくは0.1〜5重量部である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあり好ましくない。また、現像時の現像温度は、通常20〜50℃で行うことが工程管理上好ましい。
【0033】
次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。ガラス基板上にパターン加工する場合は、通常540〜610℃の温度で10〜60分間保持して焼成を行う。以上の塗布や露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥、予備反応の目的で、50〜300℃下での加熱工程を導入しても良い。
【0034】
隔壁を形成した基板にRGB各色に発光する蛍光体層を形成し、必要に応じ400〜550℃で焼成する事により、プラズマディスプレイ用部材を作製することができる。さらに、プラズマディスプレイ用部材を背面基板として用いて、前面基板と封着後、前背面の基板間隔に形成された空間にヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラズマディスプレイを作製できる。
【0035】
【実施例】
以下に本発明を実施例を用いて具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。なお、実施例、比較例中の濃度は断りのない場合は重量部である。
(実施例1)
まず、使用する黒色粉末の粒度測定を行った。黒色粉末として、酸化マンガンおよび酸化銅を1:1の比率で混合した粉末を用いた。
測定方法は以下の通りである。
測定装置:マイクロトラックHRA粒度分析計(MODELNo.9320−X100)
試料量:1g
分散条件:精製水で1.5分超音波分散した。
溶媒屈折率:1.0
測定回数:2回
測定の結果、平均粒子径1.2μm、最大粒子径15.3μmであった。
また、ガラス粉末の組成としては、酸化リチウム5重量部、酸化ケイ素25重量部、酸化ホウ素35重量部、酸化バリウム5重量部、酸化アルミニウム20重量部である。平均粒子径は2.2μmである。
この黒色粉末1重量部とガラス粉末99重量部により無機粉末とした。
【0036】
まず、プラズマディスプレイの背面板を製造した。
ガラス基板(旭硝子社製PD200)上に感光性銀ペースト用いてアドレス電極を作成した。感光性銀ペーストを塗布、乾燥、露光、現像、焼成工程を経て、線幅50μm、厚み3μm、ピッチ250μmのアドレス電極を形成した。
【0037】
次にこの電極上に誘電体層を形成した。誘電体ペーストは無機成分70重量部、エチルセルロース20重量部、テルピネオール10重量部をを混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のアドレス電極が覆われるように塗布した後に、570℃15分間の焼成を行って背面誘電体を形成した。焼成後の誘電体厚みは11μmであった。
【0038】
誘電体上に、感光性ペースト法により隔壁を形成した。
上記無機粉末と感光性有機成分からなる感光性黒色ペーストを塗布した後に、開口部線幅30μmのフォトマスクを用いて露光し、次に0.5重量部のエタノールアミン水溶液中で現像し、さらに、560℃で15分間焼成することにより、ピッチ250μm、線幅30μm、高さ130μmの隔壁を形成した。形成した隔壁を光学顕微鏡で検査したところ、隔壁の断線および欠けなど欠陥のないものが得られた。次に、隣り合う隔壁間に蛍光体を塗布した。蛍光体の塗布は、256カ所の穴(口径:130μm)が形成されたノズル先端から蛍光体ペーストを吐出するディスペンサー法により形成した。蛍光体は隔壁側面に焼成後厚み25μm、誘電体上に焼成後厚み25μmになるように塗布した後に、500℃で10分間の焼成を行った。蛍光体形成後に光学顕微鏡による目視検査および波長254nmを照射するUVランプを使用した発光検査を行ったところ、混色は見られなかった。
【0039】
さらに、作製した前面基板と背面基板を封着ガラスを用いて封着して、Xe5%含有のNeガスを内部ガス圧66500Paになるように封入した。さらに、駆動回路を実装してPDPを作製した。PDPのバス電極に電圧を印加して発光させた。作製したプラズマディスプレイは異常放電および余点など欠陥のないものであった。
【0040】
(実施例2)
平均粒子径1.8μm、最大粒子径19μmの黒色粉末(実施例1と同成分)5重量部と平均粒子径2.8μmのガラス粉末95重量部を用いた以外は実施例1と同様に行った。
作製したプラズマディスプレイは異常放電または余点など欠陥のないものであった。
【0041】
(実施例3)
黒色粉末成分として、酸化ルテニウム(平均粒子径1.2μm、最大粒子径18μm)を用いた以外は実施例1と同様に行った。作製したプラズマディスプレイは異常放電または余点など欠陥のないものであった。
【0042】
(実施例4)
黒色粉末成分として、酸化クロム、酸化コバルトおよび酸化ニッケルを1:2:1に混合した粉末(平均粒子径1.0μm、最大粒子径16μm)を用いた以外は実施例1と同様に行った。作製したプラズマディスプレイは異常放電または余点など欠陥のないものであった。
【0043】
(比較例1)
平均粒子径4.4μm、最大粒子径38μmの黒色粉末を用いた以外は実施例1と同様に行った。形成した隔壁を顕微鏡で検査したところ、隔壁の断線数15ヶ所、隔壁の欠け12ヶ所があった。さらに、蛍光体層を塗布し前面基板と封着して作製したプラズマディスプレイは、異常放電12ヶ所、余点9ヶ所の欠陥の多いプラズマディスプレイであった。
【0044】
【発明の効果】
本発明の感光性黒色ペーストを用いることにより、簡便な方法で欠陥のない優れたプラズマディスプレイ用の黒色隔壁を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一般的なPDPの断面斜視図
【符号の説明】
1:ガラス基板
2、3:バス電極
4:誘電体層
5:MgO層
6:ガラス基板
7:アドレス電極
8:誘電体層
9:隔壁
10:蛍光体層
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to forming a partition of a plasma display used for a wall-mounted television or a large monitor, and more particularly to a photosensitive black paste having no defects in forming a black partition, a member for a plasma display, and a plasma display.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art As a display that can be used for a thin and large-sized television, a plasma display (hereinafter abbreviated as PDP) has attracted attention. A plurality of pairs of sustain electrodes are formed of a material such as chromium, aluminum, and nickel on a glass substrate on a front plate side serving as a display surface. Further, a dielectric layer mainly composed of glass is formed with a thickness of 20 to 50 μm to cover the sustain electrode, and an MgO layer is formed to cover the dielectric layer. On the other hand, a plurality of address electrodes are formed in stripes on the glass substrate on the back plate side, and a dielectric layer mainly composed of glass is formed so as to cover the address electrodes. A partition for partitioning the discharge cells is formed on the dielectric layer, and a phosphor layer is formed in a discharge space formed by the partition and the dielectric layer. A PDP capable of full-color display can be manufactured by forming a phosphor that emits light of each color of RGB as a phosphor layer. The front plate and the back plate are sealed so that the sustain electrodes of the glass substrate on the front plate side and the address electrodes on the back plate side are orthogonal to each other, and a rare material composed of helium, neon, xenon, or the like is provided in the gap between these members. Gas is sealed to form PDP. Since the pixel cell is formed around the intersection of the scan electrode and the address electrode, the PDP has a plurality of pixel cells and can display an image.
[0003]
When a voltage is applied between the sustain electrode and the address electrode from the state where no light is emitted in the selected pixel cell when the display is performed on the PDP and a voltage higher than the discharge start time of the sealing gas is applied, cations and electrons generated by ionization are generated in the pixel. Since the cell is a capacitive load, it moves in the discharge space toward the electrode of the opposite polarity and charges the inner walls of the MgO layers on both sides, and the charges on the inner walls are not attenuated due to the high resistance of the MgO layer. Remains. An electric field having a polarity opposite to that of an externally applied voltage is formed in the discharge space by the wall charges, so that the electric field in the cell is weakened and the discharge stops immediately.
[0004]
Next, the discharge is maintained by applying a discharge maintaining voltage between the scan electrodes.
The discharge at a voltage lower than the discharge start voltage is continued by the wall charges. This discharge excites the xenon gas in the discharge space, generating ultraviolet rays of 147 nm, and the ultraviolet rays excite the phosphor, thereby enabling light-emitting display.
[0005]
The shape of the partition walls is about 30 to 80 μm in width and about 100 to 200 μm in height. Usually, an insulating paste made of glass is printed and dried by a screen printing method, and this printing and drying is repeated 10 to 20 times. After a predetermined height, it is formed by firing. However, the ordinary screen printing method has a problem that it is difficult to align with the address electrodes particularly when the panel size is large, and it is difficult to obtain the positional accuracy. In addition, by performing the superposition printing of the glass paste 10 to 20 times, the ribs and the side edges of the partition wall and the edge of the wall are disturbed, and the accuracy of the height cannot be obtained, so that the display quality deteriorates. There are problems of poor workability and low yield. In particular, when the pattern width is 50 μm and the pitch is 100 μm or less, there is a problem that the bottom of the partition wall is easily spread due to the thixotropy of the paste, and it is difficult to form a sharp and residue-free partition wall.
[0006]
With the increase in the area and resolution of PDPs, such a screen printing method has made it increasingly difficult and costly to manufacture partition walls having a high aspect ratio and high definition. .
[0007]
As a method of improving these problems, a method of forming a partition using a photosensitive glass paste method has been proposed (for example, see Patent Document 1). That is, by using photolithography, it is possible to manufacture a partition having a high aspect ratio and a high definition. However, in this method, since the partition walls are white, there is a problem that the contrast is insufficient when used for a plasma display.
Therefore, a method of forming a black partition using a photosensitive glass paste containing a metal or a metal oxide has been proposed, but it has not been sufficient to form a black partition without defects (for example, see Patent Document 2). .
[0008]
[Patent Document 1]
JP-A-8-50811 (pages 3 to 12)
[0009]
[Patent Document 2]
JP-A-10-182185 (pages 3 to 12)
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, the present invention has been made in view of the above-described problems in the conventional technology, and an object of the present invention is to improve the formation of black partition walls used for improving contrast in a plasma display, and to provide an excellent defect-free method. To provide a photosensitive black paste, a member for a plasma display, and a plasma display.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
That is, in order to solve the above problems, the present invention is a photosensitive black paste for the partition wall comprising an organic component containing at least a photosensitive compound and an inorganic powder containing at least a black powder and a glass powder, the average particle diameter of the black powder is A photosensitive black paste for a partition, which is less than 2 μm. Further, a member for a plasma display of the present invention is characterized by using the above photosensitive black paste.
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.
The inorganic powder constituting the photosensitive black paste of the present invention needs to include at least a black powder and a glass powder. The inclusion of at least black powder in the inorganic powder is necessary to color the partition walls black. Glass powder is an essential component for forming a partition layer by a firing step after pattern formation.
[0013]
The maximum particle size of the black powder used in the present invention is preferably 20 μm or less. When the maximum particle diameter exceeds 20 μm, a portion where light is largely blocked at the time of exposure may be formed, and a defective portion may be generated in the pattern. It is because it may cause. Here, the particle diameter is a value measured by a laser scattering / diffraction method, the average particle diameter is a 50% volume particle diameter, and the maximum particle diameter is the maximum value of the particle diameter.
[0014]
Further, it is preferable that the average particle diameter of the black powder is less than 2 μm in that a defect-free partition can be formed. If the average particle diameter is 2 μm or more, the partition walls tend to be chipped during the formation of the partition walls, so that erroneous discharge may occur when the panel is sealed to the front plate.
[0015]
As the black powder, at least one metal selected from the group consisting of Ru, Cr, Fe, Co, Mn, Cu and Ni, or an oxide thereof is preferably used. Among them, it is more preferable to use Ru.
[0016]
The amount of the black powder is preferably 0.5 to 10 parts by weight in the photosensitive black paste. If the amount is less than 0.5 parts by weight, the blackness is weakened and the image looks grayish, and there is no effect in improving the contrast. If the amount is more than 10 parts by weight, the softening point of the glass may increase, or it may be difficult to match the coefficient of thermal expansion with the glass substrate. Further, the blackness becomes too strong, so that the ultraviolet rays hardly reach the lower portion, and the pattern formability is sometimes lowered, which is not preferable.
[0017]
Further, the particle size of the glass powder used in the present invention is selected in consideration of the shape of the pattern to be produced. However, the average particle size is preferably in the range of 0.5 to 5 μm to form the pattern of the partition wall. It is preferable in forming. If the average particle diameter is larger than 5 μm, surface irregularities may occur during high-precision pattern formation. More preferably, it is in the range of 2 to 5 μm.
[0018]
Regarding the black powder and the glass powder of the present invention, when the average particle diameter of the black powder is Db and the average particle diameter of the glass powder is Dg, it is important to satisfy the expression of 0.01 <Db / Dg <1. is there. Thereby, an excellent black partition wall for a plasma display having no defect can be obtained.
[0019]
The glass powder used in the present invention preferably contains at least one of silicon and boron oxides.
When silicon oxide is contained as a component constituting the glass powder, it is preferable that the compounding ratio of silicon oxide is 3 to 60 parts by weight based on the total amount of the powder. When the compounding ratio is less than 3 parts by weight, the denseness, strength and stability of the glass layer may be reduced, the thermal expansion coefficient may be out of a desired value, and a mismatch with the glass substrate may easily occur. . On the other hand, if it exceeds 60 parts by weight, the thermal softening point tends to be high, and it tends to be difficult to bake on a glass substrate.
When boron oxide is contained as a constituent of the glass powder, it may be blended in a range of 5 to 50 parts by weight based on the total amount of the powder, to obtain an electric insulating property, strength, coefficient of thermal expansion, denseness of the insulating layer, etc. Preferred for further improvement of mechanical and thermal properties. If it exceeds 50 parts by weight, the stability of the glass may be reduced.
[0020]
As such a glass powder, bismuth oxide, lead oxide, and a glass paste having a temperature characteristic that can be patterned on a glass substrate by using glass fine particles containing at least one kind of zinc oxide in an amount of 5 to 50 parts by weight are used. Obtainable. In particular, when a glass powder containing 5 to 50 parts by weight of bismuth oxide is used, advantages such as a long pot life of the paste can be obtained.
[0021]
As the bismuth-based glass fine particles, it is preferable to use a glass powder having the following composition.
Bismuth oxide: 10 to 40 parts by weight Silicon oxide: 3 to 50 parts by weight Boron oxide: 10 to 40 parts by weight Barium oxide: 8 to 20 parts by weight Aluminum oxide: 10 to 30 parts by weight Lithium oxide, sodium oxide, potassium oxide Among them, a glass powder containing at least one kind in an amount of 3 to 20 parts by weight with respect to the total powder amount may be used, but in this case, the addition amount of an alkali metal oxide such as lithium, sodium, and potassium is added to the total powder amount. When the content is 20 parts by weight or less, preferably 15 parts by weight or less, the stability of the paste can be improved.
[0022]
As a specific glass powder in this case, it is preferable to use a glass powder having the following composition.
Lithium oxide: 2 to 15 parts by weight Silicon oxide: 15 to 50 parts by weight Boron oxide: 15 to 40 parts by weight Barium oxide: 2 to 15 parts by weight Aluminum oxide: 6 to 25 parts by weight In the above composition, instead of lithium oxide In addition, sodium oxide and potassium oxide can be used, but lithium oxide is preferred from the viewpoint of paste stability.
Further, if glass fine particles containing both a metal oxide such as lead oxide, bismuth oxide and zinc oxide and an alkali metal oxide such as lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide are used, a lower alkali content can be obtained. Thermal softening temperature and linear expansion coefficient can be easily controlled.
[0023]
In addition, workability is improved by adding aluminum oxide, barium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and the like, particularly, aluminum oxide, barium oxide, and zinc oxide to the glass powder. However, the content is preferably 40 parts by weight or less, and more preferably 25 parts by weight or less, from the viewpoint of controlling the thermal softening point and the coefficient of thermal expansion.
[0024]
The organic component constituting the photosensitive black paste of the present invention needs to contain at least a photosensitive compound.
[0025]
As the photosensitive compound, there are a photo-insolubilizing type and a photo-solubilizing type. As the photo-insolubilizing type, (A) a functional monomer oligomer or polymer having at least one unsaturated group or the like in a molecule is used. Containing, (B) a compound having a photosensitive compound such as an aromatic diazo compound, an aromatic azide compound, and an organic halogen compound; and (C) a so-called diazo resin such as a condensate of a diazo amine and formaldehyde. is there. Examples of the photo-solubilizing type include (D) a complex of an inorganic salt or an organic acid of a diazo compound, a quinone diazo-containing compound, and (E) a quinone diazo compound obtained by bonding a quinone diazo compound to an appropriate polymer-binder. And a novolak resin, naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonic acid ester. In the present invention, the photosensitive resin compound may be any one of the above, but is preferably a light-insoluble type, and particularly preferably the above (A), because it can be easily mixed with inorganic particles and used.
[0026]
Specific examples of the photosensitive monomer include compounds having an active carbon-carbon double bond, and monofunctional and polyfunctional compounds having a vinyl group, an acryl group, an acrylate group, a methacrylate group, and an acrylamide group as functional groups. Is mentioned. In particular, a compound containing a polyfunctional acrylate compound and a methacrylate compound in an amount of 10 to 80 parts by weight in an organic component is preferable in that the photoreaction increases the crosslink density at the time of curing and improves the pattern formability. Since various types of compounds have been developed as the polyfunctional acrylate compound and methacrylate, they can be appropriately selected in consideration of reactivity, refractive index, and the like. The acid value (AV) of the polymer or oligomer is preferably from 50 to 180, and more preferably from 70 to 140, from the viewpoint of the development allowance and the solubility of the unexposed portion in the developing solution. Further, by adding a photoreactive group to a side chain or a molecular terminal to the polymer or oligomer described above, a photosensitive polymer or tourist oligomer having photosensitivity is obtained, and it is most preferable to use this. At this time, the photoreactive group preferably has an ethylenically unsaturated group, and examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acryl group, and a methacryl group.
[0027]
Further, if necessary, a binder, a photopolymerization initiator, an ultraviolet absorber, a sensitizer, a sensitization aid, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a thickener, an organic solvent, an antioxidant, a dispersant, and an antifoaming agent. Additive components such as organic or inorganic suspending agents can also be added.
[0028]
Next, pattern processing is performed using the photosensitive black paste of the present invention.
First, a photosensitive black paste is applied entirely or partially on a glass substrate or a ceramic substrate. As a coating method, a method such as screen printing, a bar coater, a roll coater, a die coater, and a blade coater can be used. The coating thickness can be adjusted by selecting the number of coatings, the screen mesh, and the viscosity of the paste.
[0029]
After the application, exposure is performed using an exposure device. Exposure is generally performed by a mask exposure using a photomask, as performed by ordinary photolithography. As the mask to be used, either a negative type or a positive type can be selected depending on the type of the photosensitive organic component. Alternatively, a method of directly drawing with red or blue laser light without using a photomask may be used.
[0030]
As the exposure device, a stepper exposure device, a proximity exposure device, or the like can be used. In the case of performing exposure over a large area, a large area can be exposed by an exposure machine having a small exposure area by applying a photosensitive paste on a substrate such as a glass substrate and then performing exposure while transporting the photosensitive paste. The active light source used at this time includes, for example, visible light, near-ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, X-ray, and laser light, and among these, ultraviolet light is particularly preferable from the photoreaction characteristics of the photosensitive compound. As the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a germicidal lamp and the like can be used. Among these, an ultra-high pressure mercury lamp is preferred. Exposure conditions vary depending on the coating thickness, but usually exposure is performed for 0.5 to 30 minutes using an ultrahigh pressure mercury lamp having an output of 1 to 50 mW / cm2.
[0031]
After the exposure, development is carried out by utilizing the difference in solubility between the photosensitive portion and the non-photosensitive portion in a developing solution, which is usually performed by an immersion method, a shower method, a spray method, a brush method or the like. As a developer to be used, an organic solvent in which an organic component in the photosensitive paste can be dissolved can be used. Water may be added to the organic solvent as long as its solubility is not lost. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, development can be performed with an aqueous alkali solution. As the alkali aqueous solution, a metal alkali aqueous solution such as sodium hydroxide, sodium carbonate, calcium hydroxide aqueous solution or the like can be used, but it is preferable to use an organic alkali aqueous solution since the alkali component can be easily removed at the time of firing.
[0032]
As the organic alkali, an amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and the like. The concentration of the alkaline aqueous solution is usually 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion is not removed, and if the alkali concentration is too high, the pattern portion may be peeled off and the non-soluble portion may be corroded, which is not preferable. The development temperature during development is usually preferably from 20 to 50 ° C. from the viewpoint of process control.
[0033]
Next, firing is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste or substrate, but firing is performed in an atmosphere such as air, nitrogen, or hydrogen. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a belt-type continuous firing furnace can be used. When patterning is performed on a glass substrate, baking is usually performed at a temperature of 540 to 610 ° C. for 10 to 60 minutes. A heating step at a temperature of 50 to 300 ° C. may be introduced for the purpose of drying and preliminary reaction during each of the coating, exposure, development and baking steps.
[0034]
By forming a phosphor layer that emits light of each color of RGB on the substrate on which the partition walls are formed, and baking at 400 to 550 ° C. as necessary, a member for a plasma display can be manufactured. Furthermore, using the plasma display member as the back substrate, after sealing with the front substrate, filling a discharge gas composed of helium, neon, xenon, etc. in the space formed between the front and back substrates, and then driving the circuit. A plasma display can be manufactured by mounting.
[0035]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples. However, the present invention is not limited to this. The concentrations in Examples and Comparative Examples are parts by weight unless otherwise noted.
(Example 1)
First, the particle size of the black powder used was measured. A powder obtained by mixing manganese oxide and copper oxide at a ratio of 1: 1 was used as the black powder.
The measuring method is as follows.
Measuring device: Microtrac HRA particle size analyzer (Model No. 9320-X100)
Sample amount: 1g
Dispersion conditions: Ultrasonic dispersion was performed with purified water for 1.5 minutes.
Solvent refractive index: 1.0
Number of measurements: As a result of two measurements, the average particle diameter was 1.2 μm and the maximum particle diameter was 15.3 μm.
The composition of the glass powder is 5 parts by weight of lithium oxide, 25 parts by weight of silicon oxide, 35 parts by weight of boron oxide, 5 parts by weight of barium oxide, and 20 parts by weight of aluminum oxide. The average particle size is 2.2 μm.
1 part by weight of this black powder and 99 parts by weight of glass powder were used as inorganic powder.
[0036]
First, a back plate of a plasma display was manufactured.
Address electrodes were formed on a glass substrate (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) using a photosensitive silver paste. An address electrode having a line width of 50 μm, a thickness of 3 μm, and a pitch of 250 μm was formed through the steps of applying a photosensitive silver paste, drying, exposing, developing, and baking.
[0037]
Next, a dielectric layer was formed on this electrode. The dielectric paste was formed by kneading 70 parts by weight of an inorganic component, 20 parts by weight of ethylcellulose, and 10 parts by weight of terpineol by a screen printing method so as to cover the address electrodes in the display area by screen printing, and then 570 ° C. Firing was performed for 15 minutes to form a back dielectric. The dielectric thickness after firing was 11 μm.
[0038]
Partition walls were formed on the dielectric by a photosensitive paste method.
After applying the photosensitive black paste composed of the inorganic powder and the photosensitive organic component, exposure is performed using a photomask having an opening line width of 30 μm, and then developed in a 0.5 part by weight aqueous ethanolamine solution. By baking at 560 ° C. for 15 minutes, a partition having a pitch of 250 μm, a line width of 30 μm, and a height of 130 μm was formed. When the formed partition was inspected with an optical microscope, it was found that the partition had no defect such as disconnection or chipping. Next, a phosphor was applied between adjacent partition walls. The phosphor was applied by a dispenser method in which a phosphor paste was discharged from a nozzle tip having 256 holes (having a diameter of 130 μm). The phosphor was applied on the side wall of the partition wall so as to have a thickness of 25 μm after firing and on a dielectric material so as to have a thickness of 25 μm after firing, followed by firing at 500 ° C. for 10 minutes. A visual inspection with an optical microscope and a luminescence inspection using a UV lamp irradiating a wavelength of 254 nm after the formation of the phosphor showed no color mixing.
[0039]
Further, the produced front substrate and rear substrate were sealed using sealing glass, and a Ne gas containing 5% of Xe was sealed so as to have an internal gas pressure of 66500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to produce a PDP. Light was emitted by applying a voltage to the bus electrode of the PDP. The produced plasma display was free from defects such as abnormal discharge and extra points.
[0040]
(Example 2)
Performed in the same manner as in Example 1 except that 5 parts by weight of black powder (the same component as in Example 1) having an average particle diameter of 1.8 μm and a maximum particle diameter of 19 μm and 95 parts by weight of glass powder having an average particle diameter of 2.8 μm were used. Was.
The produced plasma display had no defects such as abnormal discharge or extra dots.
[0041]
(Example 3)
Example 1 was repeated except that ruthenium oxide (average particle diameter 1.2 µm, maximum particle diameter 18 µm) was used as a black powder component. The produced plasma display had no defects such as abnormal discharge or extra dots.
[0042]
(Example 4)
The same procedure as in Example 1 was carried out except that a powder (average particle diameter: 1.0 μm, maximum particle diameter: 16 μm) in which chromium oxide, cobalt oxide and nickel oxide were mixed at a ratio of 1: 2: 1 was used as a black powder component. The produced plasma display had no defects such as abnormal discharge or extra dots.
[0043]
(Comparative Example 1)
The procedure was performed in the same manner as in Example 1 except that a black powder having an average particle diameter of 4.4 μm and a maximum particle diameter of 38 μm was used. When the formed partition wall was inspected with a microscope, it was found that there were 15 breaks in the partition wall and 12 breaks in the partition wall. Further, the plasma display produced by applying the phosphor layer and sealing it with the front substrate was a plasma display having many abnormal discharges at 12 places and an extra 9 places.
[0044]
【The invention's effect】
By using the photosensitive black paste of the present invention, an excellent black partition for a plasma display without defects can be formed by a simple method.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional perspective view of a general PDP.
1: Glass substrate 2, 3: Bus electrode 4: Dielectric layer 5: MgO layer 6: Glass substrate 7: Address electrode 8: Dielectric layer 9: Partition 10: Phosphor layer

Claims (7)

少なくとも黒色粉末およびガラス粉末を含む無機粉末と少なくとも感光性化合物を含む有機成分からなる隔壁用感光性黒色ペーストであって、黒色粉末の平均粒子径が2μm未満であることを特徴とする隔壁用感光性黒色ペースト。A photosensitive black paste for partition walls comprising an inorganic powder containing at least black powder and glass powder and an organic component containing at least a photosensitive compound, wherein the average particle diameter of the black powder is less than 2 μm. Black paste. 黒色粉末の最大粒子径が20μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の隔壁用感光性黒色ペースト。The photosensitive black paste for a partition according to claim 1, wherein the maximum particle size of the black powder is 20 µm or less. 黒色粉末が、Ru、Cr、Co、Mn、CuおよびNiの群から選ばれる少なくとも1種の金属またはその酸化物を0.5〜10重量部の範囲内で含有することを特徴とする請求項1に記載の隔壁用感光性黒色ペースト。The black powder contains at least one metal selected from the group consisting of Ru, Cr, Co, Mn, Cu and Ni or an oxide thereof in a range of 0.5 to 10 parts by weight. 2. The photosensitive black paste for partition walls according to 1. 黒色粉末の平均粒子径をDb、ガラス粉末の平均粒子径をDgとしたときに、0.01<Db/Dg<1の式を満たすことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の隔壁用感光性黒色ペースト。The formula of 0.01 <Db / Dg <1 is satisfied, where Db is the average particle diameter of the black powder and Dg is the average particle diameter of the glass powder. Photosensitive black paste for partition walls. ガラス粉末の平均粒子径が2〜5μmの範囲内のであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の隔壁用感光性黒色ペースト。The photosensitive black paste for a partition according to any one of claims 1 to 4, wherein an average particle diameter of the glass powder is in a range of 2 to 5 µm. 請求項1〜5のいずれかに記載の隔壁用感光性黒色ペーストを用いて隔壁の頂部、または全部を形成したことを特徴とするプラズマディスプレイ用部材。A member for a plasma display, wherein the top or the whole of a partition is formed using the photosensitive black paste for a partition according to any one of claims 1 to 5. 請求項1〜5のいずれかに記載の隔壁用感光性黒色ペーストを用いたことを特徴とするプラズマディスプレイ。A plasma display using the photosensitive black paste for a partition according to any one of claims 1 to 5.
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