JP2004288504A - Charged particle beam device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a charged particle device capable of easily recognizing a state of progress of a working process, and where an error, if any, occurs. <P>SOLUTION: A working process is divided into groups (POSITION 1, POSITION 2, POSITION 3) in compliance with the kinds of works, and displayed in layered sequence (Catalog 1 to 3) of the start of a treatment, or by discriminating between a pretreatment (FABRICATION 1 to 3) and an actual work treatment (SPUTTER 1), and whether it is before practice, or in practice, or after practice, and whether an error has occurred or not, is discriminated and displayed. By the above, an operator can easily recognize the state of progress of the working process, and the position of the error in case it occurs. As a temporal suspension of a process (SUSPENSION) is defined and inserted between a certain process and a succeeding process, an additional process can be easily inserted after the temporal suspension. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、荷電粒子ビーム装置に係わり、特に、加工時の画面表示および加工処理の設定に関する。
【0002】
【従来の技術】
荷電粒子ビーム装置のうち、例えば、集束イオンビーム加工装置にあっては、加工の位置合わせ工程、それに続く他の条件等の調整工程、この調整工程に続き、実行されるスタパッタリング等の実際の加工工程が、それぞれ、複数種類存在する場合がある。
【0003】
従来技術においては、上述した加工の位置合わせ工程のそれぞれについて、それ以降に続く加工工程も含めて一つの連続加工工程種別としてリスト形式で表示画面に表示している。そして、加工中及び終了した加工工程種別を判別し得るように表示画面に表示されている(加工中及び終了した加工工程種別の表示をステータス表示とする)。
【0004】
この表示画面への表示方法は、装置固定の加工工程種別名称であり、加工中のステータス表示は、データを反転表示することで加工中であることを表しており、その加工工程種別で示されたものが、加工中か加工終了かのステータスのみを示していた。
【0005】
また、複数種類の加工を連続して行う場合は、一連の加工工程の流れを作成し、その加工工程に従って加工を行うが、加工中に、追加加工を行う必要性が生じる事態が発生することがある。
【0006】
追加加工を行う場合には、オペレータが加工装置に、現在実行中の加工の一時停止を指示し、その後、追加加工を装置の指示することで行っていた。
【0007】
なお、集束イオンビーム装置の公知技術としては、特許文献1に記載された技術がある。
【0008】
この特許文献1に記載された技術においては、登録した複数の加工パターンを自動的に順次加工する無人加工装置に関し、夜中に加工が終了した場合にも拘わらず、イオン放出が連続的に行われイオン材料が減少することを防止するものである。
【0009】
つまり、加工開始前に、加工終了後のイオン放出状態を登録しておき、イオン放出オフと登録することにより、イオン放出が連夜中に加工が終了した場合には、イオン放出も停止し、イオン材料の減少を防止する技術である。
【0010】
【特許文献1】
特開平11−144669号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、集束イオンビーム等の荷電粒子ビーム装置において、連続加工を行う場合、時間がかかることが多いため、オペレータは装置から離れた場所で、別な作業を行うことが通常である。
【0012】
この場合、オペレータはある程度の時間が経過すれば、加工の進捗状況等を、表示画面により確認する必要がある。
【0013】
その際、上記従来技術においては、加工工程種別で示されたものが、加工中か加工終了かのステータスのみを示していたため、その加工工程種別内の、どこまで加工が進んでいるのかの判別が困難であり、加工中の場合は、次の確認までの必要な経過時間の判断も困難であった。
【0014】
また、加工中にエラーが発生していた場合、エラー発生の表示は可能であるものの、その加工工程種別内のどこでエラーが発生したのかの判断が困難であった。
【0015】
また、加工工程の実行中に、精度を必要とする加工の場合や追加加工を行う必要が生じた場合、実行中の加工を停止する必要があるが、その加工工程種別内のどこまで加工が進んでいたのかの判断が困難であった。
【0016】
このため、追加加工等を行う場合、加工条件等を変更し又は再設定し(ステージの移動、ビームの偏向位置、加工条件等の設定)、初期の加工工程から再加工する必要があった。追加加工を含む、一連の加工の流れを作成する際は、登録してある個々の加工処理のファイル名称を組み合わすことで作成しており、その作業は繁雑で、短時間では終了できない場合が多い。
【0017】
したがって、従来技術においては、上記問題点により加工処理効率の向上化が妨げられていた。
【0018】
本発明の目的は、加工工程内のどこまで加工が進行しているか、エラーが発生した場合には、どこで発生したかをオペレータが容易に認識可能な荷電粒子ビーム装置を実現することである。
【0019】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は次のように構成される。
(1)荷電粒子ビームを照射するための荷電粒子ビーム光学系と、この荷電粒子ビームの照射対象から発生する二次荷電粒子を検出する検出器と、この検出器で検出された二次荷電粒子に基づいて荷電粒子像を形成する画像表示手段とを備える荷電粒子ビーム装置において、複数の種類の加工処理を加工種類毎にグループ化し、一つのグループ内毎に、加工処理順に序列を設定し、各加工処理毎に、加工処理前であるか、加工処理中であるか、加工処理終了であるかを、上記画像表示手段に表示する。
【0020】
(2)好ましくは、上記(1)において、上記加工処理毎にエラーを発生したかを表示し、加工処理前であるか、加工処理中であるか、加工処理終了であるか、エラーを発生したかという状態表示をツリー構造で表示し、かつ、上記状態表示毎に定めた色を表示する。
【0021】
(3)また、好ましくは、上記(1)、(2)において、加工処理の名称を任意に設定し、設定した加工処理の名称で上記表示手段に表示する。
【0022】
(4)また、好ましくは、上記(1)、(2)、(3)において、上記表示手段に表示された複数の加工処理のうち、表示手段を介して指定された加工処理から加工が開始され、指定された加工処理から加工が終了される。
【0023】
(5)また、好ましくは、上記(1)、(4)において、上記加工処理として、加工処理の一時停止を含む。
【0024】
(6)また、好ましくは、上記(1)、(5)において、設定された各グループ及び、加工処理順の序列は、記憶手段に格納され、選択した複数又は単数の加工処理を組み合わせることにより、新たな加工処理グループを設定し、上記記憶手段に格納される。
【0025】
(7)また、好ましくは、上記(1)において、上記状態表示毎に定めたマークを表示する。
【0026】
(8)また、好ましくは、上記(3)において、上記加工処理名称の表示領域を指定手段により指定することにより、指定された加工処理名称の処理内容が上記表示手段に表示される。
【0027】
(9)荷電粒子ビームを照射するための荷電粒子ビーム光学系と、この荷電粒子ビームの照射対象から発生する二次荷電粒子を検出する検出器と、この検出器で検出された二次荷電粒子に基づいて荷電粒子像を形成する画像表示手段と、上記荷電粒子ビーム光学系及び上記検出器の動作を制御するとともに、上記画像表示手段の画面表示を制御する画像表示加工制御手段とを備える荷電粒子ビーム装置の、画像制御用コンピュータプログラムにおいて、複数の種類の加工処理を加工種類毎にグループ化され、一つのグループ内毎に、加工処理順に序列が設定されたデータに基づき、上記荷電粒子ビーム光学系及び上記検出器の動作を制御し、制御動作に従って、各加工処理毎に、加工処理前であるか、加工処理中であるか、加工処理終了であるかを、上記画像表示手段に表示させる。
【0028】
本発明によれば、設定された加工順序をオペレータに視覚的にわかりやすく表示され、複数連続加工時の操作手順が簡略化される。
【0029】
つまり、設定された加工順序を、例えば、ステージの移動、ビーム変更位置、加工といったものをシーケンシャルに、ツリー構造等を使って表示する。また、一時停止機能を追加し、加工中、加工終了、一時停止、エラー発生といったステータスごとに色表示等を行い、ステージの位置情報、ビーム偏向位置、加工条件をそれぞれファイル化し、そのファイルをシーケンシャルに記述する。
【0030】
これにより、加工工程内のどこまで加工が進行しているか、エラーが発生した場合には、どこで発生したかをオペレータが容易に認識可能な荷電粒子ビーム装置を実現する。
【0031】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態が適用される荷電粒子ビーム装置の概略構成図である。
【0032】
図1において、荷電粒子ビーム光学系1からの集束されたビーム2が、試料3に照射される。試料3は試料ステージ4に装着されており、この試料ステージ4は、x方向、y方向、z方向の三軸方向への移動と、試料ステージ4自身の回転方向への移動が可能であり、実質的に試料3のあらゆる部位を任意の角度から観察し、加工することが可能である。
【0033】
観察には、試料3から発生する二次荷電粒子を検出器5で検出し、検出した荷電粒子により、画像表示及び加工設定装置6が試料3を画像化する。そして、画像表示装置6を操作者が見ながら、又は自動で、試料の観察領域、加工領域を決定していき、連動させたビーム偏向制御装置7を介して、荷電粒子ビーム光学系1の制御を行う。
【0034】
加工には、荷電粒子ビーム光学系1から集束されたビーム2を試料3の任意の位置に照射することで、試料3を削るスパッタリングと、ガス源9としてタングステン化合物ガスや炭素化合物ガスを用い、ノズル8により試料3近傍へのガスを放出し、試料3へ膜を形成させるデポジットとがある。
【0035】
加工の設定には、及び加工設定装置6により行う。つまり、画像表示された二次荷電粒子を見ながら、試料ステージ4を移動させ、ビーム2の偏向領域を指定し、試料ステージ4上の図形を使って実際にビームを当てる位置を決定する。
【0036】
加工領域が決定されたならば、実際に加工に使うビーム、ビーム径、照射等の時間、スパッタ/デポ等の条件を指定し、指定した条件で加工を行う。
【0037】
ここで、ビーム照射位置図形、ビーム偏向領域等の加工条件を、それぞれファイル化(以下、三次カタログとする)しておき、作成されたファイルを加工順に列挙したものと、ステージの停止位置とをそれぞれファイル化(以下、二次カタログとする)しておく。
【0038】
その際、二次および三次カタログ名称にはオペレータが理解できる任意の名称を設定し、各々のカタログはシステムが、それぞれの拡張子を付けることにより種類分けされる。
【0039】
また、ステージ4の移動ポジションをファイル化(以下、一次カタログとする)とし、処理の一時停止処理を示す“SUSPEND”が表示された場合は、登録位置により一次、二次、三次カタログがファイル化されることとなる。
【0040】
これらの複数の加工を一度で行うために、レシピを作成する。
図2は上記レシピの例を示す図である。図2に示したレシピは、一次および二次カタログを、処理順に列挙したものである。図2において、“POSITION”は移動位置、“FABRICATION”は移動に続く加工前処理を示す。また、処理の一時停止を示す“SUSPEND”コマンドを用意する。
【0041】
このようにカタログを作成することにより、複数のレシピにて使用することを可能とする。上述の通り、一連の加工にはステージの移動、加工領域の指示、加工条件によるビーム照射という工程の流れが示される。
【0042】
したがって、作成されたレシピにて一次カタログを二次、三次カタログの集合、二次カタログを三次カタログの集合として考える。レシピの作成は図3に示したように、ボックス10のツリー構造を使用して作成する。
【0043】
レシピの作成に際しては、各カタログを表示画面中の別ウィンドゥに表示しておき、まず、一次カタログを選択してドラッグする。次に、二次カタログは、その二次カタログを含めたい一次カタログにドラッグしていくことで、一次と二次の関係ができあがる。
【0044】
例えば、二次カタログ“FABRICATION1”を一次カタログ“POSITION1”に含めたい場合は、“FABRICATION1”を“POSITION1”にドラッグすれば、図3のような表示となり、カタログ1(Catalog1)の表示列と、カタログ2(Catalog2)の表示列とに区別して表示される。
【0045】
三次カタログについても、一次カタログに対する二次カタログの関係と同様に、二次カタログとの関係を作成する。つまり、一次カタログが最上位で、二次カタログが中位、三次カタログが下位という関係でレシピ情報は表示される。なお、レシピの編集に関してもレシピ作成と同様の操作にて作成可能である。
【0046】
図3において、デフォルトの表示は一次カタログボックスをツリー構造で表示する。二次カタログ、三次カタログは、通常表示されていないが、+/−記号12をクリックすることで、二次カタログ、三次カタログといった階層ボックスが表示される。
【0047】
図3に示した例では、一次カタログには、“POSITION1”が表示され、この“POSITION1”の下位処理(次の処理)として、二次カタログに“FABRICATION1” と“SUSPEND”とが並列に表示される。
【0048】
また、一次カタログには、“POSITION2”が表示され、この“POSITION2” の下位処理(次の処理)として、二次カタログに“FABRICATION2”及び“FABRICATION3”が表示される。そして、“FABRICATION2”の下位処理として、三次カタログに“SPUTTER1”及び“SUSPEND”が表示される。
また、一次カタログには、“POSITION3”が表示される。
【0049】
このように表示することにより、一連の加工のシーケンスが容易に視覚的に理解できる。また、カタログにより色分けあるいはマークをボックス10に付けることで、そのボックスが何次のカタログを表しているのかが視覚的にように理解できる。
【0050】
上述のようにして作成されたレシピは、適切な記憶手段に複数種格納可能である。そして、格納した複数種のレシピのうちの選択したレシピに従って加工が実行される。選択したレシピにより、デフォルトは加工の先頭から終わりまでを実行するが、任意のボックスを開始位置に指定すれば、そのボックス以降のみの加工を行うことの指定が可能となる。また、終了に関しても、指定したボックスで加工終了処理が可能となる。
【0051】
図4は、記憶手段に記憶されるステータステーブルの一例を示す図である。ステータステーブルは、グループ情報13、カタログ情報14、ステータス情報15の3種類の情報を有する。
【0052】
グループ情報13は、ステージ移動から次のステージ移動までの処理のかたまりを1グループとする。
【0053】
また、カタログ情報14は、一次カタログであれば符号1、二次カタログであれば符号2、三次カタログであれば符号3とする。
【0054】
ただし、ステージ移動に関しては符号を0とする。実際にレシピによる加工が開始されると、そのレシピの一処理と対応したステータステーブルにステータス情報15を格納する。
【0055】
ステータス情報15の種類は、処理中(2)、正常終了(0)、エラー終了(−1)、未実行(1)があり、このステータス情報15を、それぞれ青、黄、赤、白と対応させ、ボックス10のステータス表示エリア11に、その色を表示する。
【0056】
このことで、「現在実行されているボックス10がどこであるか、各処理がどのような状態であるのか、あったのか」がオペレータが一見して容易に理解可能となる。
【0057】
レシピの作成時に、“SUDPEND”処理を適宜に挿入することで、“SUDPEND”処理となると、装置の動作は一次停止状態となり、オペレータによる加工状態の確認やマニュアルによる追加加工といったセミオート処理が可能となる。
【0058】
また、レシピの作成時に、“SUDPEND”処理を挿入しなければ、それによる一次停止状態とはならず、装置によるフルオート処理が可能となる。
【0059】
なお、各カタログの表示ボックス10は、マウスでクリックすることで、その詳細処理内容を別ウィンドゥに表示することができる。
次に、本発明の実施形態について、さらに詳細に説明する。
【0060】
〔第1の実施形態〕
本発明の第1の実施形態として、荷電粒子装置における加工レシピの作成およびレシピの画面表示例を説明する。
【0061】
まず、実際の加工処理の種類として、スパッタリング1、2、3、4、5、6、7、デポジット1、2、3を三次カタログとして、それぞれ、Sputter_A1_1、Sputter_A1_2、Sputter_A2_1、Sputter_A2_2、Sputter_B1_1、Sputter_B1_2、Sputter_B1_3、Depo_A1_1、Depo_B1_1、Depo_B1_2と名称を付け、記憶手段に格納しておく。
【0062】
また、二次カタログとして、加工A1をスパッタリング1、デポジット1、スパッタリング2とし、加工A2をスパッタリング3、スパッタリング4とし、加工Bをデポジット2、スパッタリング5、デポジット3、スパッタリング6、スパッタリング7とし、この処理順序で、それぞれFabrication_A1、Fabrication_A2、Fabrication_Bと名称を付け格納しておく。
【0063】
また、一次カタログとして、ステージ位置A、Bを、それぞれPosition_A、Position_Bと名称を付け格納しておく。
【0064】
処理動作としては、ステージ位置Aに移動し、加工A1、A2を行い、続いてステージ位置Bに移動し、加工Bを行うと想定したときのレシピ(レシピAB)を作成する。
【0065】
このとき、デポジット加工の前と後とに必ず一時停止するようにする。
図5は、上述した処理におけるレシピABを示す図である。
【0066】
図6は、上述したレシピABの表示画面例を示す図である。処理ボックス10にはここで使用するカタログ名称を表示する。
【0067】
図6において、一次カタログには、“POSITION A”が表示され、この“POSITION A”の下位処理として、二次カタログに“FABRICATION A1” と“FABRICATION A2”とが並列に表示される。また、三次カタログに“Sputter A2 1”“Sputter A2 2”が並列に表示される。
【0068】
また、一次カタログには、“POSITION B”が表示され、この“POSITION B” の下位処理として、二次カタログに“FABRICATION B”が表示される。そして、この“FABRICATION B”の下位処理として、三次カタログに“SUSPEND 3”、“Depo B1 1”、“SUSPEND 4”、“Sputter B1”、“Sputter B2”、“SUSPEND 5”、“Depo B1 2”、“SUSPEND 6”、“Sputter B3”が表示される。
【0069】
レシピABが表示された時点で、このレシピABに対するステータステーブルを作成する。
図7は、加工前のレシピABのステータステーブルを示す図である。
図6及び図7において、グループ情報13としては、Position_A、Fabrication_A1(Sputter_A1_1、SUSPEND1、Depo_A1_1、SUSPEND2、Sputter_A1_2)、Fabrication_A2(Sputter_A2_1、Sputter_A2_2)がグループ1となる。
【0070】
また、Position_B、Fabrication_B(SUSPEND3、Depo_B1_1、SUSPEND4、Sputter_B1_1、SUSPEND5、Depo_B1_2、SUSPEND6、Sputter_B1_2、Sputter_B1_3)がグループ2となる。
【0071】
また、カタログ情報14としては、Position A、Position Bが「0」となり、Fabrication A1、Fabrication A2、Fabrication Bが「2」となり、Sputter A2 1、Sputter A2 2、SUSPEND 3、Depo B1 1、SUSPEND 4、Sputter B1、Sputter B2、SUSPEND 5、Depo B1 2、SUSPEND 6、Sputter B3が「3」となる。
【0072】
また、加工開始前は全てのカタログのステータス情報は未実行を示す「1」となる。
【0073】
次にFabrication A2を加工開始、Sputter B2を加工終了として、加工を開始する場合を説明する。
まず最初に、Position_Aの位置にステージが移動され、Sputter A2 1が処理された後に、Sputter A2 2が処理される。次に、Position Bの位置にステージが移動され、一時停止(SUSPEND3)となる。
【0074】
このときのステータス表示は、Position_Aが処理正常終了表示、Fabrication A1(Sputter A1 1、SUSPEND 1、Depo A1 1、SUSPEND 2、Sputter A1 2)が未実行表示、Fabrication A2、Sputter A2 1、Sputter A2 2が処理正常終了表示となる。
【0075】
また、Position B、Fabrication B、SUSPEND 3が実行中表示、Depo B1 1、SUSPEND 4、Sputter B1、Sputter B2、SUSPEND 5、Depo B1 2、SUSPEND 6、Sputter B3が未実行表示となる。
【0076】
ここで、装置は、一時停止(SUSPEND3)状態であるので、オペレータがマニュアルにより加工再開指示を行うと、Depo B1 1を行い、その後、一時停止(SUSPEND 4)となる。この一時停止(SUSPEND 4)状態で、追加デポジット処理を行うことも可能である。
【0077】
そして、上述と同様に、オペレータが再開指示を行うと、Sputter B1、 Sputter B2が実行終了すると、このレシピによる加工が終了となる。
【0078】
そのときのステータス表示は、Position Aが処理正常終了表示、Fabrication A1(Sputter A1 1、SUSPEND 1、Depo A1 1、SUSPEND 2、Sputter A1 2)が未実行表示、Fabrication A2、Sputter A2 1、Sputter A2 2が処理正常終了表示、Position B、Fabrication B、SUSPEND 3、Depo B1 1、SUSPEND 4、Sputter B1、Sputter B2が処理正常終了表示、SUSPEND 5、Depo B1 2、SUSPEND 6、Sputter B3が未実行表示となる。
【0079】
もし、Sputter A2 1の加工に何かしらのエラーが起きて、処理できなかった、あるいは処理が途中で終了した場合は、Sputter A2 1のステータスが−1となり、表示色は「赤」となる。図8は、加工後のレシピABのステータステーブルを示す図である。
【0080】
以上のように、本発明の第1の実施形態によれば、加工処理を加工種類別にグループ分けし、処理開始順又は前処理と実際の加工処理とに区別して階層化して表示し、表示された処理が、実行前か、実行中か、実行終了か、エラーが発生したかをそれぞれ区別して表示するように構成したので、加工工程内のどこまで加工が進行しているか、エラーが発生した場合には、どこで発生したかをオペレータが容易に認識可能な荷電粒子ビーム装置を実現することができる。
【0081】
また、一時停止処理を、ある処理と次の処理との間に挿入して、定義するように構成したので、一時停止後に、追加処理を挿入することが容易に実行することができる。
【0082】
〔第2の実施形態〕
本発明の第2の実施形態として、荷電粒子装置における測長レシピの作成およびレシピ表示の例を説明する。
【0083】
測長点1、2、3、4、5、6、7を三次カタログとして、それぞれMeasure C1 1、Measure C1 2、Measure C1 3、Measure C1 4、Measure D1 1、Measure D12と 名称を付け格納しておく。
【0084】
そして、測長C1を測長点1、測長点2、測長点3、測長点4の側長処理、測長D1を測長点5、測長点6、側長転7の側長処理とし、この順序で、二次カタログとして、それぞれMeasure C1、Measure D1と名称を付け格納しておく。
【0085】
また、ステージ位置C、Dを一次カタログとしてそれぞれPosition C、Position Dと名称を付け格納しておく。
【0086】
処理としては、ステージをステージ位置Cに移動し、測長C1を行い、続いて、ステージ位置Dに移動し、測長D1を行うと想定したときのレシピ(レシピCD)を作成する。このとき、測長点指定の前に必ず一時停止をするようにする。
【0087】
図9は、このときの加工レシピCDを示す図である。そして、この加工レシピCDに従って測長処理を行う。
【0088】
図10は、レシピCDの処理表示画面を示す図である。処理ボックス10にはここで使用するカタログ名称を表示する。この時点で、レシピCDに対するステータステーブルを作成する。なお、このステータステーブルは図7に示すものと同様の形式となる。
【0089】
Position C、Measure C1(SUSPEND 1、Measure C1 1、SUSPEND 2、Measure C1 2、SUSPEND 3、Measure C1 3、SUSPEND 4、Measure C1 4)がグループ1、Position D、Measure D1(SUSPEND 5、Measure D1 1、SUSPEND 6、Measure D1 2)がグループ2となる。
【0090】
カタログ情報はPosition C、Position Dが「0」、Measure C1、Measure D1が「1」、Measure C1 1、Measure C1 2、Measure C1 3、Measure C1 4、Measure D1 1、Measure D1 2が「3」となる。測長開始前は全てのカタログのステータスが未実行「1」となる。
【0091】
処理中の動作表示およびステータス変化表示については第1の実施形態と同様となる。
【0092】
本発明の第2の実施形態においても、第1の実施形態と同様な効果を得ることができる。
【0093】
〔本発明の実施形態における荷電粒子装置のレシピの作成・編集方法〕
本発明の実施形態における荷電粒子装置のレシピの作成・編集方法を説明する。
まず、それぞれ複数種類のカタログ1、2、3を予め作成しておく。図11は、レシピ作成表示画面を示す図である。作成したカタログ1(catalog 1 1、catalog 1 2、catalog 1 3)から必要とカタログをマウスにてレシピ名のところまでドラッグする。この動作により、レシピの中にカタログ1で選択されたものが追加される。
【0094】
次に、カタログ2(catalog 2 1〜catalog 2 6)から必要となるものをマウスにてレシピに設定されたカタログ2のボックスまでドラッグする。
【0095】
同様に、カタログ3(catalog 3 1〜catalog 3 9)から必要となるものをマウスにてレシピに設定されたカタログ3のボックスまでドラッグする。
【0096】
上記の動作により、グループが作成され、さらに、他のグループが必要な場合は、カタログ1〜3の中から選択し、レシピを作成する。
【0097】
図12は、カタログ1からCatarog 1 1、カタログ2からCatalog 2 1、カタログ3からCatalog 3 1、Catalog 3 2を選択して1グループとしたTestレシピの例を示す図である。
【0098】
このときカタログ1のボックスラインを青色、カタログ2のボックスラインを緑色、カタログ3のボックスラインを紫色というように色分けして表示する。または、ボックス内の左上部分にカタログ1は○表示、カタログ2は△表示、カタログ3は?表示というようなマークを表示する。このボックス内をマウスでクリックすることでカタログの詳細をテキストベースで表示する。
【0099】
また、ボックス10をクリックすることにより、そのボックスに表示された処理の詳細な内容を別ウィンドウに表示させる。例えば、“POSITION 1”と表示されたボックスをクリックすると、「ステージ位置Aに移動」等の処理内容が表示される。
【0100】
図13は編集時の表示画面を示す図である。図13に示すように、編集に関しても、ボックス上でマウスを左クリックすることで削除メニューを表示し、削除可能とする。追加については上記の作成時と同様の操作により可能となる。
【0101】
以上、このようにしてレシピの設定、処理を行うことにより、以下の▲1▼〜▲9▼の効果を奏することができる。
【0102】
▲1▼詳細なカタログを作成することにより、複数のレシピに対して再利用が可能であり、毎回作成する場合に比較して、作成作業の時間及び労力が省ける。また、ビーム照射位置が同様であり、処理条件が異なる場合でも、その組合せのみの変更でレシピの作成が可能となる。
【0103】
▲2▼レシピによる処理にて、加工処理をツリー構造で表示することにより、オペレータは、視覚的に容易に理解可能となる。
【0104】
▲3▼各処理に対して、ステータスを持つことにより、処理を開始すると、各処理の状況が容易に判断できる。また、色分けして表示することで、視覚的に理解可能である。
【0105】
▲4▼カタログの名称を任意に付けることにより、オペレータはどんな処理を行うのか名称で判断可能である。
【0106】
▲5▼カタログの表示ボックスに、処理毎に定められた色彩またはマークを付けることにより、オペレータはどんな処理を行うのかが名称で、視覚的に判断可能である。
【0107】
▲6▼レシピの任意の位置から処理を開始、終了することができ、一つのレシピで多数のレシピを兼ねることが可能となり、レシピ作成の作業を簡略化することができる。
【0108】
▲7▼一時停止処理を指定できることで、フルオート処理、セミオート処理を一つのレシピで行うことが可能となる。このことで、オペレータが停止処理によりレシピを止めることなく、必要な時点で自動的に一時停止し、そのときに処理の確認やマニュアルによる追加処理が可能となる。
【0109】
▲8▼レシピの作成・編集をマウス操作のみで行うことが可能で、オペレータは容易に作成・編集することが可能となる。
【0110】
▲9▼作成されたレシピのボックスをマウスクリックすることで、その処理の詳細を確認できるため、編集時の確認等にも容易に対応可能となる。
【0111】
以上のような効果の結果として、本発明は、荷電粒子ビーム装置によるオペレータの操作性を向上することができ、スループットを向上することができる。
【0112】
なお、上述した例においては、加工処理ボックスをツリー構造で画面表示するように構成したが、ツリー構造に限らず、その他の方法で表示することも可能である。例えば、各カタログ毎に、枝番を付し、1グループ毎に処理を行又は列表示することも可能である。つまり、加工処理毎に序列を設け、その序列に基づいて、段階表示又は階層表示するものであればよい。
【0113】
また、本発明の他の実施形態としては、画像表示加工設定装置6はコンピュータで構成されるため、このコンピュータのための動作制御及び画像表示プログラムがある。
【0114】
つまり、画像表示加工設定装置(画像表示加工制御手段)は、荷電粒子ビーム光学系及び二次荷電粒子検出器の動作を制御するとともに、画面表示を制御するが、この動作制御及び画像表示用プログラムがある。
【0115】
複数の種類の加工処理を加工種類毎にグループ化され、一つのグループ内毎に、加工処理順に序列が設定されたデータが記憶手段に記憶されており、上記コンピュータプログラムは、荷電粒子ビーム光学系及び上記検出器の動作を制御し、制御動作に従って、各加工処理毎に、加工処理前であるか、加工処理中であるか、加工処理終了であるかを、上記画像表示手段に表示させるものである。
【0116】
また、このコンピュータプログラムは、上述した実施形態における表示制御も行うものである。
【0117】
【発明の効果】
本発明によれば、加工工程内のどこまで加工が進行しているか、エラーが発生した場合には、どこで発生したかをオペレータが容易に認識可能な荷電粒子ビーム装置を実現することができる。
【0118】
また、荷電粒子ビーム装置におけるレシピの作成が容易にでき、レシピ実行時におけるオペレータの操作性、視認性が向上し、スループットを向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用されるの荷電粒子ビーム装置の概略構成図である。
【図2】レシピファイルの例を示す図である。
【図3】レシピを使用した加工時のレシピ画面表示例を示す図である。
【図4】ステータステーブルを示す図である。
【図5】レシピABファイルを示す図である。
【図6】レシピABの画面表示例を示す図である。
【図7】加工前のレシピABのステータステーブルを示す図である。
【図8】加工後のレシピABのステータステーブルを示す図である。
【図9】レシピCDのファイルを示す図である。
【図10】レシピCDの表示画面を示す図である。
【図11】レシピの作成画面を示す図である。
【図12】レシピ作成後の画面を示す図である。
【図13】レシピ編集時の画面を示す図である。
【符号の説明】
1 荷電粒子ビーム光学系
2 集束ビーム
3 試料
4 試料台
5 二次荷電粒子検出器
6 画像表示および加工設定装置
7 ビーム走査制御装置
8 ガス噴出ノズル
9 ガス源
10 処理ボックス
11 ステータス表示エリア
12 +/−記号表示部
13 グループ情報
14 カタログ情報
15 ステータス情報
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a charged particle beam apparatus, and more particularly, to a screen display during processing and setting of processing.
[0002]
[Prior art]
Among the charged particle beam apparatuses, for example, in a focused ion beam processing apparatus, a processing alignment step, an adjustment step following other conditions, and actual operations such as stutter pattering performed after this adjustment step are performed. May be present in plural types.
[0003]
In the related art, each of the above-described processing alignment steps is displayed on the display screen as one continuous processing step type including a subsequent processing step in a list format. Then, the type of the machining process that has been processed and has been completed is displayed on the display screen so that the type of the processed process can be determined (the display of the type of the processed process that has been completed and has been completed is a status display).
[0004]
The display method on this display screen is a processing step type name fixed to the apparatus, and the status display during processing indicates that the processing is being performed by inverting the data, and is indicated by the processing step type. Displayed only the status of processing in progress or processing completed.
[0005]
In addition, when performing a plurality of types of machining continuously, a flow of a series of machining steps is created, and machining is performed in accordance with the machining process. However, during the machining, it may be necessary to perform additional machining. There is.
[0006]
When performing additional processing, the operator instructs the processing apparatus to temporarily stop the processing currently being performed, and then instructs the processing apparatus to perform additional processing.
[0007]
As a known technique of the focused ion beam apparatus, there is a technique described in Patent Document 1.
[0008]
The technology described in Patent Document 1 relates to an unmanned processing apparatus that automatically sequentially processes a plurality of registered processing patterns, and continuously discharges ions even when processing is completed in the middle of the night. This prevents the ionic material from decreasing.
[0009]
In other words, before the start of processing, the ion emission state after the end of processing is registered, and by registering the ion emission as off, when the processing of ion emission is completed during consecutive nights, ion emission is also stopped, and ion emission is stopped. This is a technique to prevent material reduction.
[0010]
[Patent Document 1]
JP-A-11-144669
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in a charged particle beam apparatus such as a focused ion beam, when performing continuous processing, it often takes time, and therefore, it is usual for an operator to perform another operation at a place away from the apparatus.
[0012]
In this case, after a certain amount of time has passed, the operator needs to confirm the progress of processing and the like on the display screen.
[0013]
At that time, in the above-described conventional technology, since the status indicated by the processing step type only indicates the status of processing in progress or the end of processing, it is possible to determine how far processing has progressed within the processing step type. It was difficult, and during processing, it was also difficult to determine the required elapsed time until the next confirmation.
[0014]
Further, when an error has occurred during machining, it is possible to display the occurrence of the error, but it was difficult to determine where the error occurred in the machining process type.
[0015]
In addition, during the execution of the machining process, if the machining requires precision or if it is necessary to perform additional machining, the machining in progress must be stopped. It was difficult to determine if he was out.
[0016]
For this reason, when performing additional processing or the like, it is necessary to change or reset the processing conditions and the like (movement of the stage, setting of the deflection position of the beam, processing conditions and the like), and rework from the initial processing step. When creating a flow of a series of machining including additional machining, it is created by combining the file names of registered individual machining processes, and the work is complicated and sometimes it can not be completed in a short time Many.
[0017]
Therefore, in the prior art, the above-mentioned problem has hindered the improvement of the processing efficiency.
[0018]
An object of the present invention is to realize a charged particle beam apparatus that allows an operator to easily recognize how far processing has progressed in a processing step and where an error has occurred when an error has occurred.
[0019]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows.
(1) A charged particle beam optical system for irradiating a charged particle beam, a detector for detecting a secondary charged particle generated from an irradiation target of the charged particle beam, and a secondary charged particle detected by the detector In the charged particle beam apparatus comprising an image display means for forming a charged particle image based on the, a plurality of types of processing is grouped by processing type, for each within one group, the order is set in the processing order, For each processing, whether the processing is before the processing, during the processing, or when the processing is completed is displayed on the image display means.
[0020]
(2) Preferably, in the above (1), it is displayed whether or not an error has occurred for each of the processings, and whether the processing has not been completed, is being processed, has been completed, or an error has occurred. The status display of whether or not the status has been displayed is displayed in a tree structure, and a color determined for each of the status displays is displayed.
[0021]
(3) Preferably, in the above (1) and (2), the name of the processing is arbitrarily set, and the name of the processing is displayed on the display means.
[0022]
(4) Preferably, in the above (1), (2), and (3), the processing is started from the processing specified via the display among the plurality of processing displayed on the display. Then, the processing is ended from the specified processing.
[0023]
(5) Preferably, in the above (1) and (4), the processing includes temporarily stopping the processing.
[0024]
(6) Preferably, in the above (1) and (5), the set groups and the order of the processing order are stored in the storage means, and the selected plural or singular processing is combined. , A new processing group is set and stored in the storage means.
[0025]
(7) Also, preferably, in the above (1), a mark determined for each state display is displayed.
[0026]
(8) Preferably, in (3), by designating the display area of the processing name by the specifying means, the processing content of the specified processing name is displayed on the display means.
[0027]
(9) A charged particle beam optical system for irradiating a charged particle beam, a detector for detecting a secondary charged particle generated from an irradiation target of the charged particle beam, and a secondary charged particle detected by the detector Image display means for forming a charged particle image based on the image data, and image display processing control means for controlling the operation of the charged particle beam optical system and the detector and controlling the screen display of the image display means. In the particle beam apparatus, in the computer program for image control, a plurality of types of processing are grouped by processing type, and within one group, the charged particle beam based on data in which the order is set in the processing order. The operations of the optical system and the detector are controlled, and according to the control operation, before each processing, during the processing, or at the end of the processing for each processing. Or the to be displayed on said image display means.
[0028]
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the set processing order is displayed visually intelligibly to an operator, and the operation procedure at the time of multiple continuous processing is simplified.
[0029]
That is, the set processing order is sequentially displayed using, for example, a tree structure or the like, such as stage movement, beam change position, and processing. In addition, a pause function has been added, color display etc. is performed for each status such as processing, processing end, pause, error occurrence, stage position information, beam deflection position, processing conditions are filed respectively, and the file is sequentially Describe in.
[0030]
This realizes a charged particle beam apparatus that allows an operator to easily recognize how far the processing has progressed in the processing process and, if an error has occurred, where the processing has occurred.
[0031]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a charged particle beam apparatus to which one embodiment of the present invention is applied.
[0032]
In FIG. 1, a sample 3 is irradiated with a focused beam 2 from a charged particle beam optical system 1. The sample 3 is mounted on a sample stage 4, and the sample stage 4 can move in three axial directions of x, y, and z directions, and can move in the rotation direction of the sample stage 4 itself. It is possible to observe and process substantially any part of the sample 3 from an arbitrary angle.
[0033]
For observation, secondary charged particles generated from the sample 3 are detected by the detector 5, and the image display and processing setting device 6 images the sample 3 with the detected charged particles. Then, while observing the image display device 6 by an operator or automatically, the observation region and the processing region of the sample are determined, and the control of the charged particle beam optical system 1 is performed via the linked beam deflection control device 7. I do.
[0034]
In the processing, the beam 2 focused from the charged particle beam optical system 1 is irradiated to an arbitrary position of the sample 3 to perform sputtering for shaving the sample 3 and using a tungsten compound gas or a carbon compound gas as a gas source 9. There is a deposit that releases a gas to the vicinity of the sample 3 by the nozzle 8 to form a film on the sample 3.
[0035]
The processing is set by the processing setting device 6. In other words, the sample stage 4 is moved while looking at the secondary charged particles displayed in the image, the deflection area of the beam 2 is designated, and the position where the beam is actually applied is determined using the figure on the sample stage 4.
[0036]
After the processing area is determined, the beam, beam diameter, irradiation time, etc., conditions such as sputtering / deposition, etc. actually used for processing are designated, and processing is performed under the designated conditions.
[0037]
Here, the processing conditions such as the beam irradiation position figure and the beam deflection area are filed (hereinafter referred to as a tertiary catalog), and the created files are listed in the processing order and the stage stop position. Each file is made into a file (hereinafter referred to as a secondary catalog).
[0038]
At this time, the secondary and tertiary catalog names are set to arbitrary names that can be understood by the operator, and the respective catalogs are classified by the system by adding respective extensions.
[0039]
Also, the moving position of the stage 4 is filed (hereinafter, referred to as a primary catalog), and when "SUSPEND" indicating a processing suspension process is displayed, the primary, secondary, and tertiary catalogs are filed according to the registered position. Will be done.
[0040]
In order to perform these multiple processes at once, a recipe is created.
FIG. 2 is a diagram showing an example of the above recipe. The recipe shown in FIG. 2 lists the primary and secondary catalogs in the order of processing. In FIG. 2, “POSITION” indicates a movement position, and “FABRICATION” indicates a pre-machining process following the movement. Also, a “SUSPEND” command indicating a suspension of the process is prepared.
[0041]
By creating a catalog in this way, it is possible to use it in a plurality of recipes. As described above, a series of processing shows a process flow of moving the stage, instructing a processing area, and irradiating a beam according to processing conditions.
[0042]
Therefore, in the created recipe, the primary catalog is considered as a set of secondary and tertiary catalogs, and the secondary catalog is considered as a set of tertiary catalogs. The recipe is created by using the tree structure of the box 10 as shown in FIG.
[0043]
When creating a recipe, each catalog is displayed in another window on the display screen, and first, the primary catalog is selected and dragged. Next, the secondary catalog is dragged to the primary catalog in which the secondary catalog is to be included, so that a primary-secondary relationship is created.
[0044]
For example, if it is desired to include the secondary catalog "FABRICATION1" in the primary catalog "POSITION1", dragging "FABRICATION1" to "POSITION1" will result in a display as shown in FIG. It is displayed separately from the display column of Catalog 2 (Catalog 2).
[0045]
Regarding the tertiary catalog, the relationship with the secondary catalog is created in the same manner as the relationship between the secondary catalog and the primary catalog. That is, the recipe information is displayed such that the primary catalog is at the top, the secondary catalog is at the middle, and the tertiary catalog is at the bottom. Note that the recipe can be edited by the same operation as the recipe creation.
[0046]
In FIG. 3, the default display shows the primary catalog box in a tree structure. The secondary catalog and the tertiary catalog are not normally displayed, but clicking the +/- symbol 12 displays a hierarchical box such as a secondary catalog and a tertiary catalog.
[0047]
In the example shown in FIG. 3, "POSITION1" is displayed in the primary catalog, and "FABRICATION1" and "SUSPEND" are displayed in parallel in the secondary catalog as a lower process (next process) of this "POSITION1". Is done.
[0048]
Also, “POSITION 2” is displayed in the primary catalog, and “FABRICATION 2” and “FABRICATION 3” are displayed in the secondary catalog as lower processing (next processing) of this “POSITION 2”. Then, “SPUTTER1” and “SUSPEND” are displayed in the tertiary catalog as lower processing of “FABRICATION2”.
Further, “POSITION 3” is displayed in the primary catalog.
[0049]
By displaying in this manner, the sequence of a series of processing can be easily and visually understood. Also, by coloring or marking the box 10 according to the catalog, it is possible to visually understand what catalog the box represents next.
[0050]
A plurality of types of recipes created as described above can be stored in an appropriate storage unit. Then, the processing is executed according to the recipe selected from the plurality of types of stored recipes. Depending on the selected recipe, the default is to execute from the beginning to the end of the processing. However, if an arbitrary box is specified as the start position, it is possible to specify that only the box after that box is processed. As for the end, processing end processing can be performed in the designated box.
[0051]
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a status table stored in the storage unit. The status table has three types of information: group information 13, catalog information 14, and status information 15.
[0052]
In the group information 13, a group of processes from the stage movement to the next stage movement is regarded as one group.
[0053]
The catalog information 14 is denoted by reference numeral 1 for a primary catalog, denoted by reference numeral 2 for a secondary catalog, and denoted by reference numeral 3 for a tertiary catalog.
[0054]
However, the sign is set to 0 for the stage movement. When the processing by the recipe is actually started, the status information 15 is stored in the status table corresponding to one processing of the recipe.
[0055]
The types of status information 15 include processing (2), normal termination (0), error termination (-1), and unexecuted (1). The status information 15 corresponds to blue, yellow, red, and white, respectively. Then, the color is displayed in the status display area 11 of the box 10.
[0056]
As a result, the operator can easily understand at a glance, "Where is the box 10 currently being executed, what is the state of each process, and whether or not there is."
[0057]
When the recipe is created, the "SUSPEND" process is inserted as appropriate, and when the "SUDPEND" process is performed, the operation of the apparatus is temporarily stopped, and semi-automatic processing such as confirmation of the processing state by the operator and additional processing manually can be performed. Become.
[0058]
Further, unless a "SUSPEND" process is inserted at the time of creating a recipe, a primary stop state is not caused by the process and a fully automatic process can be performed by the apparatus.
[0059]
The display box 10 of each catalog can display its detailed processing contents in another window by clicking with a mouse.
Next, embodiments of the present invention will be described in more detail.
[0060]
[First Embodiment]
As a first embodiment of the present invention, an example of creating a processing recipe and displaying a recipe screen on a charged particle device will be described.
[0061]
First, as actual processing types, sputtering 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, and deposits 1, 2, and 3 are used as tertiary catalogs, and Splitter_A1_1, Sputter_A1_2, Sputter_A2_1, Sputter_A2_2, Sputter_B1_1, Sputter_B1, respectively. Names Sputter_B1_3, Depo_A1_1, Depo_B1_1, and Depo_B1_2 are stored in the storage unit.
[0062]
In addition, as a secondary catalog, processing A1 was made into sputtering 1, deposit 1, and sputtering 2, processing A2 was made as sputtering 3 and sputtering 4, and processing B was made as deposit 2, sputtering 5, deposit 3, sputtering 6, and sputtering 7, Names Fabrication_A1, Fabrication_A2, and Fabrication_B are stored in the processing order.
[0063]
Further, as the primary catalog, the stage positions A and B are respectively named as Position_A and Position_B and stored.
[0064]
As the processing operation, the process moves to the stage position A, performs the processes A1 and A2, then moves to the stage position B, and creates a recipe (recipe AB) assuming that the process B is performed.
[0065]
At this time, a pause is always made before and after the deposit processing.
FIG. 5 is a diagram showing the recipe AB in the above-described processing.
[0066]
FIG. 6 is a diagram showing a display screen example of the above-described recipe AB. The processing box 10 displays the catalog name used here.
[0067]
In FIG. 6, "POSITION A" is displayed in the primary catalog, and "FABRICATION A1" and "FABRICATION A2" are displayed in parallel in the secondary catalog as a lower process of "POSITION A". Also, “Sputer A2 1” and “Sputter A2 2” are displayed in parallel in the tertiary catalog.
[0068]
Further, “POSITION B” is displayed in the primary catalog, and “FABRICATION B” is displayed in the secondary catalog as a lower process of “POSITION B”. Then, as lower-order processing of this “FABRICATION B”, “SUSPEND 3”, “Depo B1 1”, “SUSPEND 4”, “Sputter B1”, “Sputter B2”, “SUSPEND 5”, and “Depo B1 2” are stored in the tertiary catalog. "," SUSPEND 6 ", and" Sputer B3 "are displayed.
[0069]
When the recipe AB is displayed, a status table for the recipe AB is created.
FIG. 7 is a diagram showing a status table of the recipe AB before processing.
6 and 7, the group information 13 includes Position_A, Fabrication_A1 (Sputter_A1_1, SUSPEND1, Depo_A1_1, SUSPEND2, Sputter_A1_2), and Fabrication_A2 (Sputer_A2_1 and Apt2_A2_A2_1).
[0070]
In addition, Position_B, Fabrication_B (SUSPEND3, Depo_B1_1, SUSPEND4, Sputter_B1_1, SUSPEND5, Depo_B1_2, SUSPEND6, Sputter_B1_2, Sputter_B1 to be a group of Sputter_B1).
[0071]
Further, as the catalog information 14, Position A and Position B become "0", Fabrication A1, Fabrication A2, and Fabrication B become "2", and Sputter A21, Sputter A22, SUSPEND 3, DepoSPEB and DepoSPE1. , Sputter B1, Sputter B2, SUSPEND 5, Depo B12, SUSPEND 6, and Sputter B3 are “3”.
[0072]
Before the start of the processing, the status information of all the catalogs is "1" indicating that execution has not been performed.
[0073]
Next, a description will be given of a case where machining is started with Fabrication A2 as the machining start and Sputter B2 as the machining end.
First, the stage is moved to the position of Position_A, and after Sputter A21 is processed, Sputter A22 is processed. Next, the stage is moved to the position of Position B, and the stage is suspended (SUSPEND3).
[0074]
At this time, Position_A indicates that processing is completed normally, Fabrication A1 (Sputter A11, SUSPEND 1, Depo A11, SUSPEND 2, Sputter A12) is not executed, Fabrication A2, SputterA2, and SutterA2, Indicates that the processing has been completed normally.
[0075]
Also, Position B, Fabrication B, and SUSPEND 3 are displayed as being executed, Depo B1 1, SUSPEND 4, Sputter B1, Sputter B2, SUSPEND 5, Depo B12, SUSPEND 6, and Sputer are not displayed.
[0076]
Here, since the apparatus is in the temporary stop (SUSPEND3) state, when the operator manually instructs the processing to be resumed, the apparatus performs Depo B11 and then temporarily stops (SUSPEND 4). In this temporary stop (SUSPEND 4) state, it is also possible to perform additional deposit processing.
[0077]
Then, in the same manner as described above, when the operator issues a restart instruction, when the execution of the Sputter B1 and the Sputter B2 ends, the processing based on the recipe ends.
[0078]
At this time, Position A indicates that the processing has been completed successfully, Position A indicates that processing has been completed, Fabrication A1 (Sputter A1, SUSPEND 1, Depo A11, SUSPEND 2, Sputter A1 2) has not been executed, and Fabrication A2, SputterA2, SputterA2, SputterA2 2 indicates that processing has been completed successfully, Position B, Fabrication B, SUSPEND 3, Depo B1, 1, SUSPEND 4, Sputter B1, and Sputter B2 indicate that processing has been completed successfully, and SUSPEND 5, Depo B1 2, and SUSPEND not displayed. It becomes.
[0079]
If some error occurs in the processing of Sputter A21 and the processing cannot be performed or the processing is completed in the middle, the status of Sputter A21 becomes -1 and the display color becomes "red". FIG. 8 is a diagram showing a status table of the processed recipe AB.
[0080]
As described above, according to the first embodiment of the present invention, the machining processes are grouped according to the machining types, and the process start order or the pre-process and the actual process are distinguished and displayed in a hierarchical manner. Is configured to display separately before, during, during or after execution, or when an error has occurred, so how far the machining is progressing in the machining process or if an error occurs Thus, it is possible to realize a charged particle beam device that allows an operator to easily recognize where the light beam has occurred.
[0081]
In addition, since the pause process is inserted and defined between a certain process and the next process, it is possible to easily insert an additional process after the pause.
[0082]
[Second embodiment]
As a second embodiment of the present invention, an example of creating a length measurement recipe and displaying a recipe in a charged particle device will be described.
[0083]
Measurement points 1, 2, 3, 4, 5, 6, and 7 are used as tertiary catalogs, and named and stored as Measurement C1, Measurement C12, Measurement C13, Measurement C14, Measurement D11, and Measurement D12, respectively. Keep it.
[0084]
Then, the length measurement C1 is the side length processing of the length measurement point 1, the length measurement point 2, the length measurement point 3, and the length measurement point 4, and the length measurement D1 is the side of the length measurement point 5, the length measurement point 6, and the side length turn 7. Long processing is performed, and in this order, as a secondary catalog, the names of “Measure C1” and “Measure D1” are respectively stored.
[0085]
The stage positions C and D are stored as primary catalogs, named Position C and Position D, respectively.
[0086]
In the processing, the stage is moved to the stage position C, the length measurement C1 is performed, and then, the stage is moved to the stage position D, and a recipe (recipe CD) is created assuming that the length measurement D1 is performed. At this time, a pause is always made before the measurement point is designated.
[0087]
FIG. 9 is a diagram showing the processing recipe CD at this time. Then, the length measurement process is performed according to the processing recipe CD.
[0088]
FIG. 10 is a diagram showing a process display screen of the recipe CD. The processing box 10 displays the catalog name used here. At this point, a status table for the recipe CD is created. This status table has a format similar to that shown in FIG.
[0089]
Position C, Measure C1 (SUSPEND 1, Measure C1, SUSPEND 2, Measure C12, SUSPEND 3, Measure C1, SUSPEND 4, Measure C1 4), Group 1, Positive Measure, Positive Measure D , SUSPEND 6, and Measure D1 2) are group 2.
[0090]
The catalog information is “Position C”, “Position D” is “0”, Measurement C1 and Measurement D1 are “1”, Measurement C1, Measurement C1 2, Measurement C1 3, Measurement C1 4, Measurement D1 3 and Measurement D1 1 and Measure D1 1. It becomes. Before the start of the measurement, the statuses of all the catalogs are not executed “1”.
[0091]
The operation display and the status change display during the processing are the same as in the first embodiment.
[0092]
In the second embodiment of the present invention, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
[0093]
[Method of Creating / Editing Recipe of Charged Particle Device in Embodiment of the Present Invention]
A method for creating / editing a recipe for a charged particle device according to an embodiment of the present invention will be described.
First, a plurality of types of catalogs 1, 2, and 3 are created in advance. FIG. 11 is a diagram showing a recipe creation display screen. From the created catalog 1 (catalog 11, catalog 12, catalog 13), drag the necessary catalog to the recipe name with a mouse. With this operation, the recipe selected in the catalog 1 is added to the recipe.
[0094]
Next, necessary items are dragged from catalog 2 (catalog 21 to catalog 26) to a box of catalog 2 set in the recipe with a mouse.
[0095]
Similarly, necessary items are dragged from the catalog 3 (catalog 31 to catalog 39) to the box of the catalog 3 set in the recipe with the mouse.
[0096]
A group is created by the above operation, and when another group is required, a recipe is created by selecting from the catalogs 1 to 3.
[0097]
FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a test recipe in which Catalog 1 is selected from Catalog 1, Catalog 2 is selected from Catalog 2, Catalog 31 and Catalog 3 are selected from Catalog 3, and one group is formed.
[0098]
At this time, the box lines of the catalog 1 are displayed in different colors, such as blue, the box lines of the catalog 2 are green, and the box lines of the catalog 3 are purple. Or, in the upper left part of the box, catalog 1 is indicated by ○, catalog 2 is indicated by Δ, and catalog 3 is? Displays a mark such as display. Clicking on this box with the mouse displays the catalog details in text-based format.
[0099]
Clicking on the box 10 causes the detailed contents of the process displayed in the box to be displayed in another window. For example, when the user clicks on a box labeled "POSITION 1", processing contents such as "move to stage position A" are displayed.
[0100]
FIG. 13 is a diagram showing a display screen at the time of editing. As shown in FIG. 13, with regard to editing, a delete menu is displayed by left-clicking the mouse on the box to enable deletion. Addition can be performed by the same operation as that at the time of creation.
[0101]
As described above, by setting and processing the recipe as described above, the following effects (1) to (9) can be obtained.
[0102]
{Circle around (1)} By creating a detailed catalog, it can be reused for a plurality of recipes, and the time and labor for the creation operation can be reduced as compared with the case of creating each time. Further, even when the beam irradiation positions are the same and the processing conditions are different, it is possible to create a recipe by changing only the combination.
[0103]
{Circle around (2)} By displaying the processing in a tree structure in the processing based on the recipe, the operator can easily understand visually.
[0104]
(3) By having a status for each process, when the process is started, the status of each process can be easily determined. In addition, by displaying them in different colors, they can be visually understood.
[0105]
(4) By arbitrarily assigning a catalog name, the operator can determine what processing is to be performed by the name.
[0106]
(5) By attaching a color or a mark defined for each process to the display box of the catalog, the operator can visually determine what process to perform by name.
[0107]
{Circle around (6)} The processing can be started and ended from an arbitrary position in the recipe, and one recipe can also serve as a large number of recipes, so that the recipe creation operation can be simplified.
[0108]
{Circle around (7)} By specifying the pause processing, full-auto processing and semi-auto processing can be performed by one recipe. As a result, the recipe is automatically stopped at a necessary time without stopping the recipe by the stop processing, and at that time, the processing can be confirmed and additional processing can be performed manually.
[0109]
{Circle around (8)} The recipe can be created and edited only by operating the mouse, and the operator can easily create and edit the recipe.
[0110]
(9) Since the details of the process can be confirmed by clicking the created recipe box with the mouse, it is possible to easily cope with the confirmation at the time of editing.
[0111]
As a result of the above effects, the present invention can improve the operability of the operator by the charged particle beam device, and can improve the throughput.
[0112]
In the above-described example, the processing boxes are displayed on the screen in a tree structure. However, the processing boxes are not limited to the tree structure, and may be displayed by other methods. For example, a branch number may be assigned to each catalog, and the processing may be displayed in rows or columns for each group. In other words, any order may be provided as long as an order is provided for each processing, and a step display or a hierarchical display is performed based on the order.
[0113]
Further, as another embodiment of the present invention, since the image display processing setting device 6 is constituted by a computer, there is an operation control and image display program for the computer.
[0114]
That is, the image display processing setting device (image display processing control means) controls the operation of the charged particle beam optical system and the secondary charged particle detector and controls the screen display. There is.
[0115]
A plurality of types of processing are grouped for each processing type, and in each group, data in which an order is set in the processing order is stored in the storage means, and the computer program includes a charged particle beam optical system. And controlling the operation of the detector, and displaying, on the image display means, before the processing, during the processing, or after the processing for each processing according to the control operation. It is.
[0116]
This computer program also performs display control in the above-described embodiment.
[0117]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to realize a charged particle beam apparatus that allows an operator to easily recognize how far processing has progressed in a processing process, and where an error has occurred, where the error has occurred.
[0118]
Further, it is possible to easily create a recipe in the charged particle beam device, to improve the operability and visibility of the operator during execution of the recipe, and to improve the throughput.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a charged particle beam apparatus to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a recipe file.
FIG. 3 is a diagram showing a display example of a recipe screen at the time of processing using a recipe.
FIG. 4 is a diagram showing a status table.
FIG. 5 is a diagram showing a recipe AB file.
FIG. 6 is a diagram showing a screen display example of a recipe AB.
FIG. 7 is a diagram showing a status table of a recipe AB before processing.
FIG. 8 is a diagram showing a status table of a processed recipe AB.
FIG. 9 is a diagram showing a recipe CD file.
FIG. 10 is a diagram showing a display screen of a recipe CD.
FIG. 11 is a diagram showing a recipe creation screen.
FIG. 12 is a diagram showing a screen after a recipe is created.
FIG. 13 is a diagram showing a screen at the time of editing a recipe.
[Explanation of symbols]
1 charged particle beam optical system
2 Focused beam
3 samples
4 Sample table
5 Secondary charged particle detector
6 Image display and processing setting device
7 Beam scanning controller
8 Gas jet nozzle
9 Gas source
10 Processing box
11 Status display area
12 +/- symbol display
13 Group information
14 Catalog Information
15 Status information

Claims (9)

荷電粒子ビームを照射するための荷電粒子ビーム光学系と、この荷電粒子ビームの照射対象から発生する二次荷電粒子を検出する検出器と、この検出器で検出された二次荷電粒子に基づいて荷電粒子像を形成する画像表示手段とを備える荷電粒子ビーム装置において、
複数の種類の加工処理を加工種類毎にグループ化し、一つのグループ内毎に、加工処理順に序列を設定し、各加工処理毎に、加工処理前であるか、加工処理中であるか、加工処理終了であるかを、上記画像表示手段に表示することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
Based on a charged particle beam optical system for irradiating a charged particle beam, a detector for detecting secondary charged particles generated from an irradiation target of the charged particle beam, and a secondary charged particle detected by the detector. A charged particle beam apparatus comprising image display means for forming a charged particle image,
A plurality of types of processing are grouped for each processing type, and the order of the processing is set for each group, and for each processing, whether the processing is before the processing, during the processing, A charged particle beam apparatus, wherein whether the processing is completed is displayed on the image display means.
請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、上記加工処理毎にエラーを発生したかを表示し、加工処理前であるか、加工処理中であるか、加工処理終了であるか、エラーを発生したかという状態表示をツリー構造で表示し、かつ、上記状態表示毎に定めた色を表示することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。2. The charged particle beam apparatus according to claim 1, wherein whether an error has occurred for each of the processings is displayed, and whether an error has occurred before the processing, during the processing, when the processing has been completed, or not. A charged particle beam apparatus characterized by displaying a status display in a tree structure and displaying a color determined for each status display. 請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム装置において、加工処理の名称を任意に設定し、設定した加工処理の名称で上記表示手段に表示することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。3. The charged particle beam apparatus according to claim 1, wherein a name of the processing is arbitrarily set and the set processing name is displayed on the display means. 請求項1、2又は3のうちのいずれか一項記載の荷電粒子ビーム装置において、上記表示手段に表示された複数の加工処理のうち、表示手段を介して指定された加工処理から加工が開始され、指定された加工処理から加工が終了されることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。4. The charged particle beam apparatus according to claim 1, wherein the processing is started from a processing specified through the display among the plurality of processings displayed on the display. 5. A charged particle beam apparatus, wherein the processing is terminated from a designated processing. 請求項1又は4記載の荷電粒子ビーム装置において、上記加工処理として、加工処理の一時停止を含むことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。5. The charged particle beam apparatus according to claim 1, wherein the processing includes temporarily stopping the processing. 請求項1又は5記載の荷電粒子ビーム装置において、設定された各グループ及び、加工処理順の序列は、記憶手段に格納され、選択した複数又は単数の加工処理を組み合わせることにより、新たな加工処理グループを設定し、上記記憶手段に格納されることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。6. The charged particle beam apparatus according to claim 1, wherein the set groups and the order of the processing order are stored in a storage unit, and a new processing is performed by combining a selected plurality or a single processing. A charged particle beam apparatus, wherein a group is set and stored in the storage means. 請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、上記状態表示毎に定めたマークを表示することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。2. The charged particle beam apparatus according to claim 1, wherein a mark defined for each of said state displays is displayed. 請求項3記載の荷電粒子ビーム装置において、上記加工処理名称の表示領域を指定手段により指定することにより、指定された加工処理名称の処理内容が上記表示手段に表示されることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。4. The charged particle beam apparatus according to claim 3, wherein a processing area of the specified processing name is displayed on the display means by designating a display area of the processing name by a specifying means. Particle beam device. 荷電粒子ビームを照射するための荷電粒子ビーム光学系と、この荷電粒子ビームの照射対象から発生する二次荷電粒子を検出する検出器と、この検出器で検出された二次荷電粒子に基づいて荷電粒子像を形成する画像表示手段と、上記荷電粒子ビーム光学系及び上記検出器の動作を制御するとともに、上記画像表示手段の画面表示を制御する画像表示加工制御手段とを備える荷電粒子ビーム装置の、画像制御用コンピュータプログラムにおいて、
複数の種類の加工処理を加工種類毎にグループ化され、一つのグループ内毎に、加工処理順に序列が設定されたデータに基づき、上記荷電粒子ビーム光学系及び上記検出器の動作を制御し、制御動作に従って、各加工処理毎に、加工処理前であるか、加工処理中であるか、加工処理終了であるかを、上記画像表示手段に表示させることを特徴とする画像制御用コンピュータプログラム。
Based on a charged particle beam optical system for irradiating the charged particle beam, a detector for detecting secondary charged particles generated from an irradiation target of the charged particle beam, and a secondary charged particle detected by this detector A charged particle beam apparatus comprising: image display means for forming a charged particle image; and image display processing control means for controlling the operation of the charged particle beam optical system and the detector and for controlling the screen display of the image display means. In the image control computer program,
A plurality of types of processing are grouped for each processing type, and within each group, based on data in which the order is set in the processing order, based on the operation of the charged particle beam optical system and the detector, An image control computer program for causing the image display means to display, for each processing, whether the processing is before the processing, during the processing, or when the processing is completed in accordance with a control operation.
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