JPH10321177A - Device state display method for electron beam device - Google Patents

Device state display method for electron beam device

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JPH10321177A
JPH10321177A JP9125716A JP12571697A JPH10321177A JP H10321177 A JPH10321177 A JP H10321177A JP 9125716 A JP9125716 A JP 9125716A JP 12571697 A JP12571697 A JP 12571697A JP H10321177 A JPH10321177 A JP H10321177A
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JP
Japan
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display
electron beam
display area
analysis
program
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Application number
JP9125716A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Ogoshi
暁 大越
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH10321177A publication Critical patent/JPH10321177A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device state display method for an electron beam device always observing the device state of the electron beam device without adding any display device. SOLUTION: In a display method of a monitor 2 provided on a control device 1 connected to an electron beam device (an electron beam microanalyzer 4), first display area 21 capable of switching display display contents and a second display area 22 independent of the first display area 21 are formed on the same display screen by a monitor 2, and the device state of the electron device 4 is always displayed on the second display area 22. Thereby the device state of the electron beam device can be always observed without adding any display device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子線マイクロア
ナライザや走査電子顕微鏡等の電子線装置に関し、特に
電子線装置の装置状態を表示する表示方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam apparatus such as an electron beam microanalyzer and a scanning electron microscope, and more particularly to a display method for displaying the state of an electron beam apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子線マイクロアナライザや走査電子顕
微鏡等の電子線装置において、電子線装置の稼働中の状
態を知るために、電子線装置の真空度や電子線源の加速
電圧等の各種データを表示する必要がある。従来、この
ような電子線装置の装置状態を表示するために、専用の
表示ユニットを用いたり、あるいは装置制御用コンピュ
ータを備えた電子線装置の場合には、このコンピュータ
に接続した装置状態表示用のモニターを用いている。ま
た、上記専用の表示ユニットやモニターに表示する他
に、測定データをモニターやプリンタに表示あるいは記
録したり、また、電子線装置の機械的駆動部の動作を目
視することによっても、分析を実行中の装置状態をある
程度知ることができる。
2. Description of the Related Art In an electron beam apparatus such as an electron beam microanalyzer or a scanning electron microscope, various data such as the degree of vacuum of the electron beam apparatus and the acceleration voltage of the electron beam source are known in order to know the operating state of the electron beam apparatus. Need to be displayed. Conventionally, in order to display the device status of such an electron beam device, a dedicated display unit is used, or in the case of an electron beam device having a device control computer, the device status display connected to the computer is used. Monitor. In addition to the display on the dedicated display unit or monitor, the analysis is also performed by displaying or recording the measured data on a monitor or a printer, or by visually observing the operation of the mechanical drive unit of the electron beam device. It is possible to know the state of the inside device to some extent.

【0003】このような専用の表示ユニットや装置制御
用コンピュータに接続した装置状態表示用のモニターを
用いた表示方法では、電子線装置の装置状態のみを表示
することができるものの、装置状態表示に専用の表示装
置を必要とするという問題があり、また、そのために電
子線装置全体が大型化するという問題もある。また、測
定データや駆動部の動作によって間接的に測定状態を知
る方法では、測定状態を迅速かつ詳細に知ることができ
ないという問題がある。
In such a display method using a dedicated display unit or a device status display monitor connected to a device control computer, only the device status of the electron beam device can be displayed. There is a problem that a dedicated display device is required, and there is also a problem that the entire electron beam device becomes large. In addition, the method of indirectly knowing the measurement state based on the measurement data or the operation of the driving unit has a problem that the measurement state cannot be quickly and precisely known.

【0004】一方、近年のコンピュータシステムはOS
のマルチタスク化やネットワーク化等の性能向上に伴っ
て、電子線装置の分析操作とデータ解析とを並行処理し
たり、電子線装置とコンピュータとをネットワークで接
続することによって、離れた場所に設置したコンピュー
タ上でデータ解析等のデータ処理を行うことも可能とな
り、一つの表示画面上に複数の表示内容をウィンドウ表
示を用いて表示することも行われている。
On the other hand, recent computer systems use OS
With the improvement of performance such as multitasking and networking, the analysis operation of the electron beam device and the data analysis are processed in parallel, or the electron beam device and the computer are connected by a network, so that they can be installed at remote locations It is also possible to perform data processing such as data analysis on a computer that has been made, and to display a plurality of display contents on a single display screen using a window display.

【0005】そこで、電子線装置においても、ウィンド
ウ表示を利用して一つの表示画面上に複数の表示内容を
表示する方法も採用されている。
Therefore, a method of displaying a plurality of display contents on one display screen by using a window display is also adopted in an electron beam apparatus.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、1台の
コンピュータ上で分析操作とデータ解析を並行処理する
場合には、コンピュータ操作を容易とするために、分析
操作用のウィンドウや装置データ表示用のウィンドウを
アイコン化する等の処理を行って、表示画面上には処理
中にウィンドウのみを表示し、他のウィンドウはバック
グラウンドに隠した状態としている。そのため、電子線
装置の装置状態や測定の進捗状況を知るためには、その
度毎にオペレータの操作を必要とし、操作が煩雑となる
という問題がある。
However, when the analysis operation and the data analysis are performed in parallel on a single computer, a window for the analysis operation and a window for displaying the device data are provided to facilitate the computer operation. Processing such as iconizing the window is performed, and only the window is displayed on the display screen during the processing, and the other windows are hidden in the background. Therefore, in order to know the state of the electron beam apparatus and the progress of the measurement, an operator's operation is required each time, and the operation is complicated.

【0007】また、電子線装置により分析が長時間にわ
たる場合には、オペレータは必要なときのみ表示画面を
監視し、通常はコンピュータから離れることが多くな
る。このような場合には、別のオペレータによる誤操作
が生じ、場合によっては測定が不可能となるおそれもあ
る。
[0007] When the analysis is performed for a long time by the electron beam apparatus, the operator monitors the display screen only when necessary, and usually moves away from the computer. In such a case, an erroneous operation by another operator may occur, and in some cases, measurement may not be possible.

【0008】そこで、本発明は前記した従来の問題点を
解決し、表示装置を付加することなく、電子線装置の装
置状態を常時監視することができる電子線装置の装置状
態表示方法を提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a device state display method for an electron beam device capable of constantly monitoring the device state of the electron beam device without adding a display device. The purpose is to:

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の電子線装置の装
置状態表示方法は、電子線装置に接続された制御装置が
備えるモニターの表示方法において、モニター上に、表
示内容を切り換え表示可能とする第1表示領域と前記第
1表示領域と独立した第2表示領域を同一表示画面上に
作成し、第2表示領域に電子線装置の装置状態を常時表
示する表示方法であり、これによって、表示装置を付加
することなく、電子線装置の装置状態を常に監視可能と
するものである。
According to the present invention, there is provided a method for displaying a device state of an electron beam apparatus, comprising the steps of: A first display area and a second display area independent of the first display area are created on the same display screen, and the device state of the electron beam device is constantly displayed in the second display area. It is possible to constantly monitor the state of the electron beam device without adding a display device.

【0010】制御装置は、インターフェース等を介して
電子線装置と接続し、電子線装置との間で制御コマンド
や測定データ等の信号授受を行って電子線装置の装置制
御を行い、分析操作や測定データの解析を行う装置であ
り、モニターを備える。このモニターは、同一表示画面
上に複数の表示領域を表示するウィンドウと呼ばれる表
示機能を備え、第1表示領域は表示内容を切り換え表示
可能とし、第2表示領域は電子線装置の装置状態を常時
表示する。これによって、電子線装置の装置状態を、制
御装置の動作内容や第1表示領域の表示内容にかかわら
ず常に第2表示領域に表示することができる。
The control device is connected to the electron beam device via an interface or the like, and sends and receives signals such as control commands and measurement data to and from the electron beam device, controls the device of the electron beam device, and performs analysis operations and It is a device that analyzes the measurement data and has a monitor. This monitor has a display function called a window for displaying a plurality of display areas on the same display screen. The first display area allows display contents to be switched and displayed, and the second display area constantly displays the device state of the electron beam device. indicate. Thus, the device state of the electron beam device can be always displayed in the second display area regardless of the operation content of the control device and the display content of the first display area.

【0011】第1表示領域は、分析条件の設定等を行う
分析操作等の装置制御や、電子線装置が測定した測定デ
ータや、測定データ等の解析を行うデータ解析を表示内
容とすることができ、切り換え表示することができる。
第2表示領域は、電子線装置の装置状態をグラフィック
表示や数値表示で表示することができる。
The first display area may include, as display contents, device control such as analysis operation for setting analysis conditions and the like, measurement data measured by an electron beam device, and data analysis for analyzing measurement data and the like. Can be switched and displayed.
The second display area can display the device state of the electron beam device in a graphic display or a numerical display.

【0012】本発明の電子線装置の装置状態表示方法に
よれば、制御装置は、インターフェース等を介して電子
線装置と接続し、電子線装置との間で制御コマンドや測
定データ等の信号授受を行って、電子線装置の装置制御
を行い、分析操作や測定データの解析を行い、モニター
上の第1表示領域にこれらの装置制御,測定データ,デ
ータ解析等に関する表示を必要に応じて切り換えて行
う。また、制御装置は、モニター上の第2表示領域に上
に表示し電子線装置の装置状態を常時表示する。
According to the method for displaying the state of an electron beam device of the present invention, the control device is connected to the electron beam device via an interface or the like, and exchanges signals such as control commands and measurement data with the electron beam device. To perform device control of the electron beam device, perform analysis operation and analysis of measurement data, and switch the display related to device control, measurement data, data analysis, and the like in the first display area on the monitor as necessary. Do it. Further, the control device always displays the device state of the electron beam device on the monitor in the second display area on the monitor.

【0013】本発明の実施態様は、第2表示領域に上に
表示する電子線装置の装置状態として、真空度、加速電
圧、エミッション電流、プローブ径、プローブ電流、吸
引電流を用いて表示することができる。
According to an embodiment of the present invention, the state of the electron beam apparatus to be displayed on the second display area is displayed by using a vacuum degree, an acceleration voltage, an emission current, a probe diameter, a probe current, and a suction current. Can be.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照しながら詳細に説明する。本発明の実施の形態の構
成例について、図1の本発明の電子線装置の装置状態表
示方法を説明するための概略構成図を用いて説明する。
なお、図1では、電子線装置として電子線マイクロアナ
ライザの場合を示し、また、本発明の電子線装置の装置
状態表示方法の説明に要する部分のみを示し、その他の
部分については省略している。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. A configuration example of an embodiment of the present invention will be described with reference to a schematic configuration diagram for explaining a device state display method of the electron beam apparatus of the present invention in FIG.
FIG. 1 shows the case of an electron beam microanalyzer as the electron beam device, and shows only a portion necessary for explaining a device state display method of the electron beam device of the present invention, and omits other portions. .

【0015】図1に示す制御装置1は、電子線マイクロ
アナライザ4とインターフェース(図示していない)を
介して接続し、電子線マイクロアナライザ4に制御コマ
ンドを送信して装置の制御を行い、電子線マイクロアナ
ライザ4から電子線マイクロアナライザの真空度、加速
電圧、エミッション電流、プローブ径、プローブ電流
(吸収電流)等の装置状態データや、電子線マイクロア
ナライザが測定した測定データを受信する。
The control device 1 shown in FIG. 1 is connected to the electron beam micro-analyzer 4 via an interface (not shown), transmits a control command to the electron beam micro-analyzer 4 to control the device, and From the electron beam microanalyzer 4, device status data such as the degree of vacuum, acceleration voltage, emission current, probe diameter, and probe current (absorption current) of the electron beam microanalyzer, and measurement data measured by the electron beam microanalyzer are received.

【0016】図1中の制御装置1において、制御装置1
が備える各機能を、該機能を実現するプログラム(破線
内に示している)によって表す。制御装置1が備えるプ
ログラムは、制御装置全体を制御するメイン制御プログ
ラム10と、電子線マイクロアナライザ4との間で信号
の授受を行って電子線マイクロアナライザ4の動作に関
連する制御を行う装置制御用プログラム11と、電子線
マイクロアナライザ4の装置状態の表示制御を行う装置
状態表示用プログラム12と、分析操作に関連する動作
および表示を制御する分析操作用プログラム13と、電
子線マイクロアナライザ4の測定データの表示を制御す
る測定データ表示用プログラム14と、測定データ等の
データを解析するためのデータ解析用プログラム15と
を備える。
In the control device 1 shown in FIG.
Are represented by programs (shown in broken lines) that realize the functions. The program included in the control device 1 includes a main control program 10 for controlling the entire control device, and a device control for transmitting and receiving signals between the electron beam microanalyzer 4 and performing control related to the operation of the electron beam microanalyzer 4. Program 11, an apparatus state display program 12 for controlling the display of the apparatus state of the electron beam microanalyzer 4, an analysis operation program 13 for controlling the operation and display related to the analysis operation, A measurement data display program 14 for controlling the display of measurement data and a data analysis program 15 for analyzing data such as measurement data are provided.

【0017】ここで、メイン制御プログラム10は、装
置制御用プログラム11とデータ解析用プログラム15
とを制御し、装置制御用プログラム11は装置状態表示
用プログラム12と分析操作用プログラム13と測定デ
ータ表示用プログラム14を制御する。したがって、デ
ータ解析用プログラム15は電子線マイクロアナライザ
4と独立して実行することができ、データ解析と電子線
マイクロアナライザ4の動作とを並行して行うことがで
きる。また、装置状態表示用プログラム12と分析操作
用プログラム13と測定データ表示用プログラム14
は、装置制御用プログラム11中のデータを読み込むこ
とができ、電子線マイクロアナライザ4の動作に影響を
与えることなくプログラムを実行することができる。ま
た、メインプログラム10は、入力装置3から装置制御
指示や自動分析指示等の指示コマンドが入力される。
The main control program 10 includes a device control program 11 and a data analysis program 15
The apparatus control program 11 controls the apparatus state display program 12, the analysis operation program 13, and the measurement data display program 14. Therefore, the data analysis program 15 can be executed independently of the electron beam micro analyzer 4, and the data analysis and the operation of the electron beam micro analyzer 4 can be performed in parallel. Further, an apparatus state display program 12, an analysis operation program 13, and a measurement data display program 14
Can read data in the device control program 11 and execute the program without affecting the operation of the electron beam microanalyzer 4. The main program 10 receives an instruction command such as a device control instruction or an automatic analysis instruction from the input device 3.

【0018】制御装置1はモニター2を備える。モニタ
ー2は第1表示領域21と第2表示領域22、およびア
イコン23,24を備える。第1表示領域21は、分析
操作用プログラム13、測定データ表示用プログラム1
4、およびデータ解析用プログラム15によって表示制
御が行われる。分析操作用プログラム13は、分析条件
等の分析操作に伴う各種設定のための表示制御を行い、
測定データ表示用プログラム14は電子線マイクロアナ
ライザ4の測定データを測定制御用プログラム11から
受け取って表示を行い、データ解析用プログラム15は
図示しないデータ記憶装置の格納してある測定データや
その他のデータを用いて得た解析データを表示する。
The control device 1 has a monitor 2. The monitor 2 includes a first display area 21 and a second display area 22, and icons 23 and 24. The first display area 21 includes the analysis operation program 13 and the measurement data display program 1.
4, and display control is performed by the data analysis program 15. The analysis operation program 13 performs display control for various settings associated with analysis operations such as analysis conditions,
The measurement data display program 14 receives and displays the measurement data of the electron beam microanalyzer 4 from the measurement control program 11, and the data analysis program 15 stores the measurement data and other data stored in a data storage device (not shown). The analysis data obtained by using is displayed.

【0019】第1表示領域21の表示内容は、メイン制
御プログラム11の制御によって切り換えることがで
き、第1表示領域21に表示しない表示内容はアイコン
23,24に表示することができる。表示内容の切り換
えは、アイコン23,24の選択あるいは入力装置3か
らの指示により行うことができる。
The display contents of the first display area 21 can be switched under the control of the main control program 11, and the display contents not displayed in the first display area 21 can be displayed on the icons 23 and 24. The display contents can be switched by selecting the icons 23 and 24 or by an instruction from the input device 3.

【0020】第2表示領域22は装置状態表示用プログ
ラム12によって表示制御が行われ、電子線マイクロア
ナライザ4の装置状態データを測定制御用プログラム1
1から受け取って表示を行う。この表示は、第1表示領
域21の表示内容や制御装置1の動作と独立して常時行
うものであり、制御装置1の動作に影響を与えない程度
の周期(例えば、0.1秒〜数秒間隔)で、装置状態表
示用プログラム12に格納されている装置状態データを
読み出して表示を行う。したがって、第1表示領域21
の表示は、制御装置1や電子線マイクロアナライザ4の
動作に影響を与えることなく行うことができる。
The display of the second display area 22 is controlled by the apparatus state display program 12, and the apparatus state data of the electron beam microanalyzer 4 is measured by the measurement control program 1.
1 and display it. This display is always performed independently of the display contents of the first display area 21 and the operation of the control device 1, and has a cycle (for example, 0.1 seconds to several seconds) that does not affect the operation of the control device 1. At (interval), the device status data stored in the device status display program 12 is read and displayed. Therefore, the first display area 21
Can be displayed without affecting the operations of the control device 1 and the electron beam microanalyzer 4.

【0021】図1において、第2表示領域22は、モニ
ター2の表示画面上において、第1表示領域21と独立
して表示し、表示位置および表示の大きさは任意とする
ことができる。通常、第2表示領域22の表示位置およ
び表示の大きさは、第1表示領域21の表示に支障が生
じない位置および大きさに設定する。また、制御装置1
およびモニター2の操作を休止する場合には、第2表示
領域22をモニターの表示画面中央に大きく表示し、電
子線マイクロアナライザ4が使用中であることの注意を
喚起することができる。
In FIG. 1, the second display area 22 is displayed on the display screen of the monitor 2 independently of the first display area 21, and the display position and the display size can be arbitrarily set. Normally, the display position and the display size of the second display area 22 are set to positions and sizes that do not hinder the display of the first display area 21. Also, the control device 1
When the operation of the monitor 2 is stopped, the second display area 22 is displayed in a large size at the center of the display screen of the monitor, and it is possible to call attention that the electron beam microanalyzer 4 is being used.

【0022】また、第2表示領域22もアイコン化する
ことができるが、このアイコン化の処理を装置制御用プ
ログラムが制御することによって、アイコン化の指示を
行った場合にも第2表示領域22のアイコン化を禁止し
て、装置状態の常時の表示を確実に行うことができる。
The second display area 22 can also be iconified, but the iconization process is controlled by the apparatus control program so that the second display area 22 can be displayed even when the iconization instruction is given. Is prohibited, and the device status can be always displayed.

【0023】次に、図2を用いて第2表示領域22の装
置状態表示用ウィンドウの表示例について説明する。図
2において、第2表示領域22は、電子線マイクロアナ
ライザ4等の電子線装置の概略構成を模式的にグラフィ
ック表示し、装置状態をグラフィック表示あるいは数値
表示する。図2は、電子線、試料ステージ、X分光器等
が模式的にグラフィック表示し、電子線や試料ステージ
は走査動作と共に移動させ、また、X分光器31は分光
結晶の位置を移動して表示することができる。この移動
表示によって、電子線装置が動作中であることを表示す
ることができる。なお、グラフィック表示は色分けによ
って見やすさを向上させることができる。
Next, a display example of a device status display window in the second display area 22 will be described with reference to FIG. In FIG. 2, a second display area 22 schematically displays a schematic configuration of an electron beam device such as the electron beam microanalyzer 4, and graphically or numerically displays a device state. FIG. 2 schematically shows the electron beam, the sample stage, the X spectroscope, etc. in a graphic display, the electron beam and the sample stage are moved together with the scanning operation, and the X spectrometer 31 moves and displays the position of the spectral crystal. can do. This movement display can indicate that the electron beam device is operating. The graphic display can be easily viewed by color coding.

【0024】また、加速電圧32,エミッション電流3
3,プローブ径34,真空度35,プローブ電流36,
吸引電流37等の数値や、分析の進捗状況表示38,3
9や残り時間40や動作内容の表示41等を関連する位
置に表示する。動作内容の表示41として、実行中の分
析モード名やファイル名の他、測定に関するコメントを
表示することができる。また、上記数値は、異常時には
表示色を変化させることもできる。
The acceleration voltage 32, the emission current 3
3, probe diameter 34, degree of vacuum 35, probe current 36,
Numerical values such as the suction current 37 and the progress display 38, 3 of the analysis
9, the remaining time 40, the display 41 of the operation content, and the like are displayed at relevant positions. As the display 41 of the operation content, a comment on the measurement can be displayed in addition to the name of the analysis mode and the file name being executed. In addition, the above numerical values can change the display color when an abnormality occurs.

【0025】次に、本発明の電子線装置の装置状態表示
方法の動作を、図3のフローチャートを用いて説明す
る。メイン制御プログラム10は、入力装置3から起動
制御信号が入力されると(ステップS1)、装置制御用
プログラム11を起動する(ステップS2)。装置制御
用プログラム11は、電子線装置(電子線マイクロアナ
ライザ4)と通信を開始する(ステップS3)。
Next, the operation of the method for displaying the state of the electron beam apparatus according to the present invention will be described with reference to the flowchart of FIG. When the activation control signal is input from the input device 3 (step S1), the main control program 10 activates the device control program 11 (step S2). The device control program 11 starts communication with the electron beam device (electron beam microanalyzer 4) (step S3).

【0026】また、装置制御用プログラム11は、装置
状態表示用プログラム12を起動して第2表示領域22
に装置状態表示用ウィンドウを作成し(ステップS
4)、電子線装置から受信した装置状態データを装置状
態表示用ウィンドウに表示する。この装置状態データの
表示は装置の動作中において常時行う(ステップS
5)。
The device control program 11 activates the device status display program 12 to activate the second display area 22.
Creates a window for displaying the device status (step S
4) The device status data received from the electron beam device is displayed on the device status display window. The display of the device status data is always performed during the operation of the device (step S
5).

【0027】また、装置制御用プログラム11は、分析
操作用プログラム13を起動して第1表示領域21に分
析操作用ウィンドウを作成し(ステップS6)、装置制
御用プログラム11から表示内容を受け分析操作用ウィ
ンドウに表示する(ステップS7)。
The apparatus control program 11 starts the analysis operation program 13 to create an analysis operation window in the first display area 21 (step S6), receives the display contents from the apparatus control program 11, and analyzes the window. It is displayed on the operation window (step S7).

【0028】以下、オペレータの指示に従って表示制御
を行う(ステップS8)。オペレータの指示が分析操作
の場合には(ステップS9)、装置制御用プログラム1
1は分析操作に関する制御コマンドを電子線装置に送信
し(ステップS10)、電子線装置から装置状態データ
を受信して、分析操作用ウィンドウに表示する(ステッ
プS11)。
Hereinafter, display control is performed in accordance with the instruction of the operator (step S8). If the operator's instruction is an analysis operation (step S9), the device control program 1
1 transmits a control command relating to the analysis operation to the electron beam device (step S10), receives the device status data from the electron beam device, and displays it on the analysis operation window (step S11).

【0029】オペレータの指示が定量分析や定性分析等
の自動分析の場合には(ステップS12)、装置制御用
プログラム11は、測定データ表示用プログラム14を
起動して第1表示領域21に測定データ表示用ウィンド
ウを作成し(ステップS13)、必要な場合には制御コ
マンドを電子線装置に送信して(ステップS14)、電
子線装置から測定データを受信して、測定表示用ウィン
ドウに表示する(ステップS15)。
If the operator's instruction is an automatic analysis such as a quantitative analysis or a qualitative analysis (step S12), the apparatus control program 11 activates the measurement data display program 14 and displays the measurement data in the first display area 21. A display window is created (step S13), and if necessary, a control command is transmitted to the electron beam device (step S14), and the measurement data is received from the electron beam device and displayed on the measurement display window (step S13). Step S15).

【0030】オペレータの指示がデータ解析の場合には
(ステップS16)、メイン制御プログラム11は、デ
ータ解析用プログラム15を起動して第1表示領域21
にデータ解析用ウィンドウを作成し(ステップS1
7)、図示しない記憶装置から必要なデータを読み込ん
で解析処理を行い(ステップS18)、解析データをデ
ータ解析用ウィンドウに表示する(ステップS19)。
If the instruction of the operator is a data analysis (step S16), the main control program 11 activates the data analysis program 15 to activate the first display area 21.
A data analysis window is created (step S1).
7), necessary data is read from a storage device (not shown) and analysis processing is performed (step S18), and the analysis data is displayed in a data analysis window (step S19).

【0031】第1表示領域21において、表示中以外の
ウィンドウを表示する指示がある場合には(ステップS
20)、表示中のウィンドウをアイコン化して、指示さ
れたウィンドウを表示する(ステップS21)。
When there is an instruction to display a window other than the currently displayed window in the first display area 21 (step S
20) Iconify the displayed window and display the specified window (step S21).

【0032】この動作によって、装置状態を装置状態表
示用ウィンドウに常に表示することができる。上記装置
状態表示用ウィンドウにおいて、オペレータの要求に応
じて表示内容の変更することもできる。上記実施形態
は、1台のコンピュータの場合について説明している
が、装置制御用のコンピュータとネットワーク接続され
た他のコンピュータにおいて、同様の表示制御を行い、
リモートモニターを行うこともできる。上記実施形態に
おいて、表示する測定データは、測定中の途中経過を表
示することもできる。
By this operation, the device status can be always displayed in the device status display window. In the device status display window, the display content can be changed according to the request of the operator. Although the above embodiment has been described with reference to a single computer, the same display control is performed on another computer connected to the device control computer via a network.
You can also do remote monitoring. In the above embodiment, the measurement data to be displayed can also indicate the progress during the measurement.

【0033】本発明の電子線装置の装置状態表示方法に
よれば、比較的小さな表示領域にグラフィカル表示で装
置状態を表示することができるため、データ測定とデー
タ解析を1台のコンピュータおよびモニターで並列処理
する場合でも、データ解析作業を妨げることなく装置状
態の監視を行うことができ、また、測定中のデータの監
視をハードウエアの追加を行うことなく実現し、操作性
を向上させることができる。
According to the apparatus status display method for an electron beam apparatus of the present invention, the apparatus status can be graphically displayed in a relatively small display area, so that data measurement and data analysis can be performed by one computer and monitor. Even in the case of parallel processing, it is possible to monitor the device status without hindering the data analysis work, and to monitor the data being measured without adding hardware, thereby improving operability. it can.

【0034】また、本発明の電子線装置の装置状態表示
方法によれば、電子線装置が稼働中あるいは測定中であ
る動作状態を容易に認識することができ、視認性を向上
させることができる。
Further, according to the method for displaying the state of an electron beam apparatus of the present invention, the operating state of the electron beam apparatus during operation or measurement can be easily recognized, and visibility can be improved. .

【0035】また、本発明の電子線装置の装置状態表示
方法によれば、装置状態を常時表示することによって、
オペレータが制御装置から離れた状況であっても、誤動
作の発生を防止することができ、測定データや電子線装
置および制御装置の安全性をはかることができる。
Further, according to the apparatus state display method for an electron beam apparatus of the present invention, by constantly displaying the apparatus state,
Even if the operator is away from the control device, it is possible to prevent malfunction from occurring, and to measure the safety of the measurement data, the electron beam device, and the control device.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子線装
置の装置状態表示方法によれば、表示装置を付加するこ
となく、電子線装置の装置状態を常時監視することがで
きる。
As described above, according to the apparatus status display method for an electron beam apparatus of the present invention, the apparatus state of the electron beam apparatus can be constantly monitored without adding a display device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電子線装置の装置状態表示方法を説明
するための概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram for explaining an apparatus state display method of an electron beam apparatus according to the present invention.

【図2】本発明の第2表示領域22の装置状態表示用ウ
ィンドウの表示例を説明するための概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a display example of a device status display window in a second display area 22 according to the present invention.

【図3】本発明の電子線装置の装置状態表示方法の動作
を説明するためのフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart for explaining the operation of an apparatus state display method for an electron beam apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…制御装置、2…モニター、3…入力装置、4…電子
線マイクロアナライザ、10…メイン制御プログラム、
11…装置制御用プログラム、12…装置状態表示用プ
ログラム、13…分析操作用プログラム、14…測定デ
ータ表示用プログラム、15…データ解析用プログラ
ム、21…第1表示領域、22…第1表示領域、23,
24…アイコン、31…X分光器、32…加速電圧、3
3…エミッション電流、34…プローブ径、35…真空
度、36…プローブ電流、37…吸引電流、38,39
…分析の進捗状況表示、40…残り時間、41…動作内
容の表示。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Control device, 2 ... Monitor, 3 ... Input device, 4 ... Electron beam micro analyzer, 10 ... Main control program,
11: Device control program, 12: Device status display program, 13: Analysis operation program, 14: Measurement data display program, 15: Data analysis program, 21: First display area, 22: First display area , 23,
24 ... icon, 31 ... X spectrometer, 32 ... acceleration voltage, 3
3: Emission current, 34: Probe diameter, 35: Vacuum degree, 36: Probe current, 37: Suction current, 38, 39
... Analysis progress display, 40 ... Remaining time, 41 ... Display of operation contents.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子線装置に接続された制御装置が備え
るモニターの表示方法において、モニター上に、表示内
容を切り換え表示可能とする第1表示領域と前記第1表
示領域と独立した第2表示領域を同一表示画面上に作成
し、第2表示領域に電子線装置の装置状態を常時表示す
ることを特徴とする電子線装置の装置状態表示方法。
1. A display method for a monitor provided in a control device connected to an electron beam device, comprising: a first display area on a monitor capable of switching and displaying display contents; and a second display independent of the first display area. An apparatus state display method for an electron beam apparatus, wherein an area is created on the same display screen, and the apparatus state of the electron beam apparatus is always displayed in a second display area.
JP9125716A 1997-05-15 1997-05-15 Device state display method for electron beam device Pending JPH10321177A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030027800A (en) * 2001-09-28 2003-04-07 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 Monitoring device and method for vaccum apparatus
JP2004288504A (en) * 2003-03-24 2004-10-14 Hitachi High-Technologies Corp Charged particle beam device
JP2010249757A (en) * 2009-04-20 2010-11-04 Hitachi High-Technologies Corp Automatic analyzer

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