JP2004258683A - Active matrix type liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active matrix type liquid crystal display device which has no flicker on its display screen and can reduce a flicker level. <P>SOLUTION: In the active matrix type liquid crystal display device, two signals which are the output of a shift register of a gate line driving circuit and the output of a delay circuit delaying the output of the shift register by a certain time or three signals which are the two signals and the output of a shift register as a trailing stage are inputted to logical operation circuits provided by gate stages, three different voltage stages are exclusively selected according to the arithmetic result of the logical operation circuit, and voltages in the selected voltage stages are applied to gate lines. A punch-through voltage of a pixel can be held constant in the screen, so a voltage applied to liquid crystal becomes constant and the uniform screen having no place dependency of luminance in itself is obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

本発明は、スイッチング素子に薄膜トランジスタなどを用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an active matrix liquid crystal display device using a thin film transistor or the like as a switching element.

従来、液晶の電気光学特性を利用して視覚情報を表示する液晶表示装置は、コンピュータ画像の出力装置や、携帯型テレビ、ビデオプロジェクタ、ビデオカメラのビューファインダなど多岐に渡って使用されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, liquid crystal display devices that display visual information using electro-optical characteristics of liquid crystals have been used in a wide variety of applications, such as computer image output devices, portable televisions, video projectors, and viewfinders of video cameras.

これら液晶表示装置のうち、薄膜トランジスタをアクティブ素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置の回路構成は、図1にブロック図で示すように、ソース線駆動回路201およびゲート線駆動回路202と、少なくとも画素マトリクス203とが同一の透明絶縁基板204の上に形成されてなる。
そのうち、画素マトリクス203は、ソース線駆動回路201に接続された複数のソース線X1,X2,X3・・・と、ゲート線駆動回路202に接続された複数のゲート線Y1,Y2,Y3・・・と、これらのゲート線およびソース線の各交点に形成された複数の画素P11,P12・・・とを有し、各画素P11,P12・・・には薄膜トランジスタ205および液晶セル206を有する。
Among these liquid crystal display devices, a circuit configuration of an active matrix liquid crystal display device using thin film transistors as an active element includes a source line driver circuit 201 and a gate line driver circuit 202, as shown in the block diagram of FIG. The pixel matrix 203 is formed on the same transparent insulating substrate 204.
The pixel matrix 203 includes a plurality of source lines X 1 , X 2 , X 3 ... Connected to the source line driving circuit 201 and a plurality of gate lines Y 1 , Y connected to the gate line driving circuit 202. 2, Y 3 and ..., and a plurality of these pixels P 11, which is formed at each intersection of the gate lines and source lines, P 12 ..., to each pixel P 11, P 12 ... Has a thin film transistor 205 and a liquid crystal cell 206.

以上の構成を有する液晶表示装置の等価回路構成について、図2を用いて説明する。図2はアクティブマトリクス型の液晶表示装置の等価回路構成を説明する図である。等価回路は大きく分けて、ソース線駆動回路301およびゲート線駆動回路302と、画素マトリクス303とからなる。前記ソース線駆動回路301は、ラッチ信号を時系列的に送出するためのX側シフトレジスタ304と、その前記ラッチ信号を増幅、整波するためのバッファ305と、ビデオ信号線306に印加されたビデオ信号を、前記バッファ305から送出されるラッチ信号に応じてソース線308,308’にサンプル、ホールドするためのアナログスイッチ307,307’と、から構成される。ここで、前記X側シフトレジスタ304は、クロックCLXで規定されるクロックドインバータ331と、クロックCLX*で規定されるクロックドインバータ332と、インバータ333とからなる基本セル334を単位に構成される。   An equivalent circuit configuration of the liquid crystal display device having the above configuration will be described with reference to FIG. FIG. 2 illustrates an equivalent circuit configuration of an active matrix liquid crystal display device. The equivalent circuit is roughly divided into a source line driving circuit 301, a gate line driving circuit 302, and a pixel matrix 303. The source line driving circuit 301 is applied to an X-side shift register 304 for transmitting a latch signal in time series, a buffer 305 for amplifying and rectifying the latch signal, and a video signal line 306. Analog switches 307 and 307 'for sampling and holding the video signal on the source lines 308 and 308' according to the latch signal sent from the buffer 305. Here, the X-side shift register 304 is configured with a basic cell 334 including a clocked inverter 331 defined by a clock CLX, a clocked inverter 332 defined by a clock CLX *, and an inverter 333 as a unit. .

一方、前記ゲート線駆動回路302は、ラッチ信号を時系列的に送出するためのY側シフトレジスタ309と、その前記ラッチ信号を増幅、整波し、ゲート線311,311’に送出するためのバッファ310と、から構成される。ここで、前記Y側シフトレジスタ309は、クロックCLYで規定されるクロックドインバータ335と、クロックCLY*で規定されるクロックドインバータ336と、インバータ337と、NORゲート338からなる基本セル339を単位に構成される。   On the other hand, the gate line driving circuit 302 includes a Y-side shift register 309 for transmitting a latch signal in time series, and an amplifying and rectifying the latch signal, and transmitting the same to the gate lines 311 and 311 ′. And a buffer 310. Here, the Y-side shift register 309 includes a basic cell 339 including a clocked inverter 335 defined by a clock CLY, a clocked inverter 336 defined by a clock CLY *, an inverter 337, and a NOR gate 338. Is configured.

また、前記画素マトリクス303は、前記ソース線308,308’・・・およびゲート線311,311’・・・に接続された薄膜トランジスタ312,312’・・・と液晶セル313,313’・・・とから構成される。   Also, the pixel matrix 303 includes thin film transistors 312, 312 '... Connected to the source lines 308, 308'... And gate lines 311, 311 '. It is composed of

次に、図2に等価回路図で示した液晶表示装置の駆動方法の一例について、図2と図3を用いて説明する。図3に、図2の点P1,P2,Q1,Q2,R1,R2,V1での電圧を時系列で示す。CLXはX側シフトレジスタのクロックを表しており、CLX*とは逆位相の関係になっている。同様に、CLYはY側シフトレジスタのクロックを表しており、CLY*とは逆位相の関係になっている。ここでは、CLX*とCLY*については図示しない。 Next, an example of a method for driving the liquid crystal display device illustrated in the equivalent circuit diagram in FIG. 2 will be described with reference to FIGS. FIG. 3 shows the voltages at points P 1 , P 2 , Q 1 , Q 2 , R 1 , R 2 , and V 1 in FIG. 2 in time series. CLX represents the clock of the X-side shift register, and has a phase opposite to that of CLX *. Similarly, CLY represents a clock of the Y-side shift register, and has a phase opposite to that of CLY *. Here, CLX * and CLY * are not shown.

駆動方法を順に説明すると、まず、前記Y側シフトレジスタ309が前記クロックCLY,CLY*のタイミングに応じて、前記クロックCLY,CLY*の周期の1/2の幅のパルスを前記バッファ310に出力する。そのパルスを前記バッファ310が増幅、整波して、前記ゲート線311(P1)にゲート選択パルス401を出力する。この前記ゲート選択パルス401が選択レベルである間、ゲート線311に接続した複数の前記薄膜トランジスタ312,312’は導通状態になり、このゲート線311に接続した複数の薄膜トランジスタ312,312’に接続したソース線303,303’と、液晶セル313,313’とが電気的に接続する。このとき、前記X側シフトレジスタ304が前記クロックCLX,CLX*のタイミングに応じて、前記クロックの周期と同じ幅のパルスを前記バッファ305に出力する。そのパルスを増幅、整波してアナログスイッチ307(Q1)にサンプル・ホールド信号403を出力し、前記アナログスイッチ307はそのパルスに応じて前記ビデオ信号線306(V1)のビデオ信号405を前記ソース線308(R1)にサンプル・ホールドする。このとき、先に述べたように前記ゲート線311に接続した複数の前記薄膜トランジスタ312は導通状態にあるため、前記ソース線308にホールドした信号は前記液晶セル313に書き込まれる。同様に、アナログスイッチ307’はソース線308’に前記ビデオ信号405をサンプル・ホールドする。これによって、前記液晶セル313’には前記ソース線308’にサンプル・ホールドした信号が書き込まれる。これを前記ソース線駆動回路301の側で繰り返すことにより、前記ゲート線311に接続した複数の画素の液晶セルへ、前記ビデオ信号405を書き込むことができる。 The driving method will be described in order. First, the Y-side shift register 309 outputs a pulse having a half width of the cycle of the clocks CLY, CLY * to the buffer 310 according to the timings of the clocks CLY, CLY *. I do. The buffer 310 amplifies and tunes the pulse, and outputs a gate selection pulse 401 to the gate line 311 (P 1 ). While the gate selection pulse 401 is at the selection level, the plurality of thin film transistors 312 and 312 ′ connected to the gate line 311 are turned on and connected to the plurality of thin film transistors 312 and 312 ′ connected to the gate line 311. The source lines 303 and 303 'are electrically connected to the liquid crystal cells 313 and 313'. At this time, the X-side shift register 304 outputs a pulse having the same width as the clock cycle to the buffer 305 in accordance with the timing of the clocks CLX and CLX *. The pulse is amplified and rectified to output a sample-and-hold signal 403 to the analog switch 307 (Q 1 ). The analog switch 307 converts the video signal 405 of the video signal line 306 (V 1 ) according to the pulse. The sample and hold is performed on the source line 308 (R 1 ). At this time, since the plurality of thin film transistors 312 connected to the gate line 311 are in a conductive state as described above, the signal held on the source line 308 is written to the liquid crystal cell 313. Similarly, the analog switch 307 'samples and holds the video signal 405 on the source line 308'. As a result, a signal sampled and held on the source line 308 'is written into the liquid crystal cell 313'. By repeating this on the source line drive circuit 301 side, the video signal 405 can be written to the liquid crystal cells of a plurality of pixels connected to the gate line 311.

次に、前記ゲート選択パルス401が非選択レベルになった後、前記ゲート線駆動回路302からゲート選択パルス402が出力される。この前記ゲート選択パルス402が選択レベルである間に、前述したのと同様に前記ソース線駆動回路301を駆動すると、前記ゲート線311’に接続した複数の画素の液晶セルに前記ビデオ信号405を書き込むことができる。   Next, after the gate selection pulse 401 becomes the non-selection level, the gate line driving circuit 302 outputs a gate selection pulse 402. When the source line driving circuit 301 is driven in the same manner as described above while the gate selection pulse 402 is at the selection level, the video signal 405 is applied to the liquid crystal cells of a plurality of pixels connected to the gate line 311 ′. Can write.

以上の操作を繰り返すことによって、各画素の液晶セル単位でビデオ信号を書き込むことが可能になり、液晶セルに書き込まれた信号に応じて各々の液晶セルの偏光状態を変えることで、画像を得ることができる。   By repeating the above operation, a video signal can be written in the liquid crystal cell unit of each pixel, and an image is obtained by changing the polarization state of each liquid crystal cell according to the signal written in the liquid crystal cell. be able to.

上記のアクティブマトリクス方式の液晶表示装置において、ゲート線の遅延が比較的大きいときには、表示画面にフリッカが発生することが知られている。これは、液晶に印加される電圧の平均値が0でない液晶セルがあるために、液晶セルの透過率の差となって視認される現象である。このフリッカは表示品位を落とすだけでなく、液晶の焼き付きにも深い関係を持っている。一般的に液晶は交流で駆動する必要がある。その交流波形の平均値が0にならない場合には、即ち液晶に直流が印加されているということであり、液晶の焼き付きを発生させる原因になる。つまり、表示画面にフリッカが発生しているということは、液晶の焼き付きが生じ易くなっているということである。   In the above-described active matrix type liquid crystal display device, it is known that flicker occurs on the display screen when the delay of the gate line is relatively large. This is a phenomenon that is visually recognized as a difference in the transmittance of the liquid crystal cell because there is a liquid crystal cell in which the average value of the voltage applied to the liquid crystal is not 0. This flicker not only lowers display quality but also has a deep relationship with liquid crystal burn-in. Generally, liquid crystals need to be driven by alternating current. If the average value of the AC waveform does not become 0, that is, DC is applied to the liquid crystal, which causes a burn-in of the liquid crystal. In other words, the occurrence of flicker on the display screen means that the burn-in of the liquid crystal is likely to occur.

では、なぜ液晶に印加される電圧の平均値が0にならない液晶セルが生ずるのかについて、図4および図5を用いて以下に説明する。ここでは、画素トランジスタ501,501’にN型の薄膜トランジスタを用いた場合について説明する。また、説明の簡略化のために、ソース線506,506’を接地し、かつ、画素の液晶セルには電圧が印加されていない場合、つまり点C1と点C2が接地レベルと等電位である場合を想定する。 Now, why a liquid crystal cell in which the average value of the voltage applied to the liquid crystal does not become 0 occurs will be described below with reference to FIGS. Here, a case where an N-type thin film transistor is used for the pixel transistors 501 and 501 'will be described. Further, for simplification of explanation, by grounding the source lines 506, 506 ', and, when no voltage is applied to the liquid crystal cells of a pixel, clogging point C 1 and point C 2 ground level and equipotential It is assumed that

まず、ゲート選択パルスの選択期間の終了時に液晶の印加電圧が低下する現象、いわゆる突き抜け電圧について説明する。この突き抜け電圧とは、あるゲート線503に印加されるゲート選択パルス502が、画素トランジスタ501,501’を導通状態にする電圧レベルから、絶縁状態にする電圧レベルに変化する瞬間に、前記ゲート線503と液晶セル504,504’との結合容量505,505’によって、前記画素電極に書き込まれた電荷が逃げ、そのため液晶に印加した電圧が低下する、その電圧のことである。ここで、前記結合容量505,505’は、主に、前記画素トランジスタ501,501’のゲート電極と前記液晶セル504,504’の画素電極に接続したドレイン電極との間の容量成分Cgdと、前記液晶セル504,504’の画素電極と前記ゲート線503との平行容量成分Cgd'とからなる。このうち、容量成分Cgdは前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間に印加される電圧Vgdによって変化し、図4の場合には、前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間に印加される電圧Vgdが上がるに従って、前記容量成分Cgdは増加する。 First, a phenomenon in which the voltage applied to the liquid crystal drops at the end of the selection period of the gate selection pulse, that is, a so-called penetration voltage will be described. The punch-through voltage means that the gate selection pulse 502 applied to a certain gate line 503 changes from a voltage level at which the pixel transistors 501 and 501 ′ are turned on to a voltage level at which the pixel transistors 501 and 501 ′ are turned on. The charge written to the pixel electrode escapes due to the coupling capacitance 505, 505 'between the liquid crystal cell 503 and the liquid crystal cells 504, 504', and the voltage applied to the liquid crystal is reduced. Here, the coupling capacitances 505 and 505 'mainly include a capacitance component C gd between the gate electrodes of the pixel transistors 501 and 501' and the drain electrodes connected to the pixel electrodes of the liquid crystal cells 504 and 504 '. And a parallel capacitance component C gd ′ between the pixel electrodes of the liquid crystal cells 504 and 504 ′ and the gate line 503. Among them, the capacitance component C gd changes depending on the voltage V gd applied between the gate electrode and the drain electrode, and in the case of FIG. 4, is applied between the gate electrode and the drain electrode. As the voltage V gd increases, the capacitance component C gd increases.

このとき理想的に遅延の無いゲート選択パルスが画素トランジスタに入力されたとすると、突き抜け電圧△Vは数式1で示すことができる。   At this time, if a gate selection pulse with no delay is ideally input to the pixel transistor, the punch-through voltage ΔV can be expressed by Expression 1.

Figure 2004258683
Figure 2004258683

ここで、Callは前記画素電極に電気的に接続した全ての容量成分を表す。また、この遅延の無い理想的な状態での液晶の印加電圧の過渡応答を図5を用いて説明する。図5は縦軸に電圧を、横軸に時間をとっている。前数式1での理想的に遅延の無いゲート選択パルス611が入力されたときには、液晶の印加電圧は曲線621で表される過渡応答を示す。このときの突き抜け電圧が△Vである。
しかしながら実際には、ゲート線の抵抗とゲート線に係る容量によってゲート選択パルスに遅延が生じ、その遅延したゲート選択パルスに応じて、数式1のVgdとCgdとが時系列的に変化するため、ゲート選択パルスの遅延の程度によって突き抜け電圧の量が変わることになる。以下に、遅延の程度によって突き抜け電圧△Vに差が生じる過程について具体的に説明する。まず、前記ゲート線503に前記ゲート選択パルス502を入力すると、前記ゲート線503の抵抗と、前記ゲート線503に寄生する容量とで等価的に表した第1の低域通過フィルタ508を通って、前記画素トランジスタ501(点G1)に、第1の遅延パルス510が入力される。このとき、点G1と点C2の間の結合容量505と、画素トランジスタのソース−ドレイン間の抵抗とによって高域通過フィルタが形成されている。この前記高域通過フィルタは、前記結合容量505と画素トランジスタの抵抗とがゲート選択パルスの波形に伴って時系列的に変化するため、必然的にその遮断周波数は時系列的に変化する。このとき、前記第1の遅延パルスにおいては、第1の低域通過フィルタ508を通過することにより、理想的なゲート選択パルスには存在した高周波成分が遮断されている。この結果、点C1での突き抜け電圧△V1は上述した遅延の無いゲート選択パルスでの突き抜け電圧△Vよりも少なくなる。図5を用いてこのときの過渡応答の様子を模式的に説明する。曲線612は点G1に入力される第1の遅延パルスを表し、曲線622は点C1での電圧の過渡応答、即ち、液晶に印加される電圧を表している。
Here, C all represents all capacitance components electrically connected to the pixel electrode. The transient response of the voltage applied to the liquid crystal in an ideal state without this delay will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows the voltage on the vertical axis and the time on the horizontal axis. When the ideal gate selection pulse 611 with no delay in Equation 1 is input, the applied voltage of the liquid crystal shows a transient response represented by a curve 621. The penetration voltage at this time is ΔV.
However, actually, a delay occurs in the gate selection pulse due to the resistance of the gate line and the capacitance of the gate line, and V gd and C gd in Expression 1 change in time series according to the delayed gate selection pulse. Therefore, the amount of penetration voltage varies depending on the degree of delay of the gate selection pulse. Hereinafter, a process in which the penetration voltage ΔV causes a difference depending on the degree of delay will be specifically described. First, when the gate selection pulse 502 is input to the gate line 503, the gate selection pulse 502 passes through a first low-pass filter 508 equivalently represented by the resistance of the gate line 503 and the capacitance parasitic on the gate line 503. The first delay pulse 510 is input to the pixel transistor 501 (point G 1 ). At this time, a high-pass filter is formed by the coupling capacitance 505 between the points G 1 and C 2 and the resistance between the source and the drain of the pixel transistor. In the high-pass filter, since the coupling capacitance 505 and the resistance of the pixel transistor change in a time series with the waveform of the gate selection pulse, the cutoff frequency inevitably changes in a time series. At this time, in the first delay pulse, the high-frequency component existing in the ideal gate selection pulse is cut off by passing through the first low-pass filter 508. As a result, punch-through voltage △ V 1 at point C 1 is less than the punch-through voltage △ V at no gate selection pulse delay described above. The state of the transient response at this time will be schematically described with reference to FIG. Curve 612 represents a first delay pulse input to the point G 1, the transient response of the voltage of the curve 622 is the point C 1, that is, represents the voltage applied to the liquid crystal.

同様に、前記画素トランジスタ501’のゲート電極(点G2)には、前記第1の低域通過フィルタ508と第2の低域通過フィルタ509を通って、第2の遅延パルス511が入力される。このとき前記第2の遅延パルス511においては、前記第1の遅延パルス510にさえ存在した高周波成分も前記第2の低域通過フィルタ509の通過によって遮断されており、このため突き抜け電圧△V2は、△V1に比べてもなお小さくなる。図5を用いてこのときの過渡応答の様子を同様に模式的に説明する。曲線613は点G2に入力される第2の遅延パルスを表し、曲線623は点C2での電圧の過渡応答、つまり液晶に印加される電圧を表している。 Similarly, a second delay pulse 511 is input to the gate electrode (point G 2 ) of the pixel transistor 501 ′ through the first low-pass filter 508 and the second low-pass filter 509. You. At this time, in the second delay pulse 511, high-frequency components existing even in the first delay pulse 510 are also cut off by passing through the second low-pass filter 509, so that the penetration voltage ΔV 2 Is still smaller than ΔV 1 . The state of the transient response at this time will be schematically described with reference to FIG. Curve 613 represents the second delay pulse input point G 2, curve 623 represents the transient response of the voltage at point C 2, i.e. the voltage applied to the liquid crystal.

この結果、ある1つのゲート線に接続された複数の画素において突き抜け電圧が不均一となり、液晶に印加される電圧の平均値が一定でなくなる。このため液晶に印加される電圧の平均値を全て0にすることが不可能となり、印加電圧の平均値が0でない画素がフリッカとして視認されるようになる。実際には、液晶印加電圧の平均値が液晶セルの透過率の差として視認できない程度に小さければ、フリッカとしては視認されないことが分かっている。   As a result, the penetration voltage becomes non-uniform in a plurality of pixels connected to one certain gate line, and the average value of the voltage applied to the liquid crystal is not constant. For this reason, it is impossible to set all the average values of the voltages applied to the liquid crystal to 0, and pixels in which the average value of the applied voltages is not 0 are visually recognized as flicker. Actually, it has been found that if the average value of the liquid crystal applied voltage is so small that it cannot be visually recognized as the difference in transmittance of the liquid crystal cell, it is not visually recognized as flicker.

そこで、フリッカを視認させないためには、ゲート線の遅延を少なくする、即ち、ゲート線に寄生する低域通過フィルタの通過域を高周波側にシフトさせ、前記低域通過フィルタを通過する高周波成分を増やして突き抜け電圧の差を小さくすることが必要である。この方法として、ゲート線の抵抗を下げる方法と、ゲート線に寄生する容量を少なくする方法とが容易に考えられる。前者の方法では、工程的にゲート線の材料を低抵抗のもの、例えば金属薄膜などに変える方法があるが、工程的に複雑化することが多いため現実的に適応できないものも多い。後者の方法は、ゲート線上の絶縁膜の厚さを増す、ゲート線上の絶縁膜を比誘電率の低いものに変える、レイアウトを変えてゲート線に寄生する容量を小さくするなどが考えられるが、現実的には液晶表示装置の精細度の上昇に伴ってゲート線の寄生容量は増加する傾向にあり、精細度を保ったままゲート線の寄生容量を小さくすることは極めて困難である。よって、これらのゲート線の遅延を少なくする方法は、明らかに効果はあるが実現が容易でないと言える。   Therefore, in order to prevent flicker, the delay of the gate line is reduced, that is, the pass band of the low-pass filter parasitic on the gate line is shifted to the high frequency side, and the high-frequency component passing through the low-pass filter is reduced. It is necessary to increase the difference in penetration voltage to reduce the difference. As this method, a method of reducing the resistance of the gate line and a method of reducing the parasitic capacitance of the gate line can be easily considered. In the former method, there is a method in which the material of the gate line is changed to a material having a low resistance, for example, a metal thin film in the process. However, since the process is often complicated, there are many methods which cannot be practically applied. The latter method can be considered to increase the thickness of the insulating film on the gate line, change the insulating film on the gate line to a material having a lower relative permittivity, change the layout, and reduce the parasitic capacitance on the gate line. In reality, the parasitic capacitance of the gate line tends to increase as the definition of the liquid crystal display device increases, and it is extremely difficult to reduce the parasitic capacitance of the gate line while maintaining the definition. Therefore, it can be said that these methods of reducing the delay of the gate line are clearly effective but not easy to realize.

それ以外にも、フリッカを視認させないために、前記突き抜け電圧の絶対値を下げることで相対的な前記突き抜け電圧の差を小さくする方法が考えられる。具体的には、各画素のゲート電極と画素電極に接続されたドレイン電極との間に寄生する容量成分を小さくするか、またはゲート線を選択状態から非選択状態にさせるときにゲート線駆動回路自体の電源電圧を下げることによって、ゲート線に印加される電圧波形の波高を低くする方法などが考えられる。前者の方法は、一般的に前記容量成分が画素の高精細化に伴って極度に増加する傾向にあることなどから考えて、設計上の工夫だけで解決できるものではない。これに対し後者の方法は確実に前記突き抜け電圧の差を少なくすることはできるが、ゲート線駆動回路の電源に寄生する全ての容量に対して充放電を繰り返すために消費電流がその分大きくなるという欠点を有している。   In addition, a method of reducing the relative value of the punch-through voltage by reducing the absolute value of the punch-through voltage in order to prevent the flicker from being visually recognized may be considered. Specifically, a gate line driving circuit is used to reduce a parasitic capacitance component between a gate electrode of each pixel and a drain electrode connected to the pixel electrode, or to change a gate line from a selected state to a non-selected state. A method of reducing the wave height of the voltage waveform applied to the gate line by lowering the power supply voltage of itself is conceivable. The former method cannot be solved only by devising the design in consideration of the fact that the capacitance component tends to extremely increase with higher definition of pixels. On the other hand, the latter method can surely reduce the difference in the punch-through voltage, but the current consumption increases correspondingly because charge and discharge are repeated for all the parasitic capacitances of the power supply of the gate line drive circuit. There is a disadvantage that.

そこで本発明では上記の課題を設計および駆動方法により解決し、フリッカのない液晶表示装置を得る方法について説明する。   Therefore, in the present invention, a method for solving the above-mentioned problem by a design and driving method and obtaining a liquid crystal display device without flicker will be described.

本発明の液晶装置は、複数のゲート線およびソース線を有するアクティブマトリクス型の液晶装置であって、ゲート線を駆動するインバータが、前記ゲート線を選択状態とするときの前記インバータの第1の電圧源と前記ゲート線との間に流れる電流に対して、前記ゲート線を非選択状態とするときの前記インバータの第2の電圧源と前記ゲート線との間に流れる電流を少なくするように、構成されることを特徴とする。上記の液晶装置において、前記インバータを第1の低域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fL1と、前記ゲート線駆動回路から最も近い画素と最も遠い画素との間のゲート線に分布定数状に存在する寄生容量および寄生抵抗を第2の低域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fL2と、前記画素を第1の高域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fHと、の間にfH<fL2<fL1なる関係が成り立たないようにすることが好ましい。上記の液晶装置において、前記インバータを第1の低域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fL1と、前記ゲート線駆動回路から最も近い画素と最も遠い画素との間のゲート線に分布定数状に存在する寄生容量および寄生抵抗を第2の低域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fL2と、前記画素を第1の高域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fHと、の間にfH<fL1<fL2なる関係、またはfH<fL1、かつfL1とfL2とが略同一となる関係が成り立つようにするようにしても良い。上記の液晶装置において、前記ゲート線を非選択状態にするときの第2の電圧源との間の抵抗をRとし、前記インバータに寄生する全容量をCとするとき、この抵抗Rを、R<1/(2π×C×fL2)なる関係が成り立たないようにするようにすることが好ましい。上記の液晶装置において、前記ゲート線を非選択状態にするときの第2の電圧源との間の抵抗をRとし、前記インバータに寄生する全容量をCとするとき、この抵抗Rを、R>1/(2π×C×fL2)なる関係、またはRと1/(2π×C×fL2)とが略同一となる関係が成り立つようにしても良い。上記の液晶装置において、前記インバータとして相補型インバータを用い、画素のスイッチング素子としてN型トランジスタを用いる場合には、前記相補型インバータを構成するP型トランジスタの線形領域でのオン電流に対してN型トランジスタの線形領域でのオン電流を小さくするように設計し、画素のスイッチング素子としてP型トランジスタを用いる場合には、前記相補型インバータを構成するN型トランジスタの線形領域でのオン電流に対してP型トランジスタの線形領域でのオン電流を小さくするよう、前記相補型インバータを設計することが好ましい。 The liquid crystal device of the present invention is an active matrix type liquid crystal device having a plurality of gate lines and source lines, wherein an inverter for driving a gate line sets a first state of the inverter when the gate line is selected. With respect to a current flowing between a voltage source and the gate line, a current flowing between the second voltage source of the inverter and the gate line when the gate line is in a non-selected state is reduced. , Is constituted. In the above liquid crystal device, a cut-off frequency f L1 when the inverter is equivalently represented as a first low-pass filter, and a gate line between a pixel closest to the gate line driving circuit and a pixel farthest from the gate line driving circuit. The cutoff frequency f L2 when the parasitic capacitance and the parasitic resistance existing in the form of a distributed constant are equivalently represented as a second low-pass filter, and when the pixel is equivalently represented as a first high-pass filter. a cut-off frequency f H of, it is preferable that the f H <f L2 <f L1 the relationship does not hold between. In the above liquid crystal device, a cut-off frequency f L1 when the inverter is equivalently represented as a first low-pass filter, and a gate line between a pixel closest to the gate line driving circuit and a pixel farthest from the gate line driving circuit. The cutoff frequency f L2 when the parasitic capacitance and the parasitic resistance existing in the form of a distributed constant are equivalently represented as a second low-pass filter, and when the pixel is equivalently represented as a first high-pass filter. a cut-off frequency f H of, f H <f L1 <f L2 the relationship between, or f H <f L1, and also so that the f L1 and f L2 so that holds the relationship that is substantially identical good. In the above liquid crystal device, when the resistance between the gate line and the second voltage source when the gate line is deselected is R, and the total parasitic capacitance of the inverter is C, the resistance R is represented by R It is preferable that the relationship of <1 / (2π × C × f L2 ) is not established. In the above liquid crystal device, when the resistance between the gate line and the second voltage source when the gate line is deselected is R, and the total parasitic capacitance of the inverter is C, the resistance R is represented by R A relationship of> 1 / (2π × C × f L2 ) or a relationship of R and 1 / (2π × C × f L2 ) may be established. In the above liquid crystal device, when a complementary inverter is used as the inverter and an N-type transistor is used as a switching element of a pixel, the ON current in the linear region of the P-type transistor constituting the complementary inverter is reduced by N. In the case where a P-type transistor is designed as a switching element of a pixel, the ON-state current of the N-type transistor constituting the complementary inverter is reduced in the linear region of the N-type transistor. It is preferable to design the complementary inverter so as to reduce the ON current in the linear region of the P-type transistor.

また、本発明の液晶装置は、複数のゲート線およびソース線を有するアクティブマトリクス型の液晶装置であって、ゲート線駆動回路と前記ゲート線駆動回路に最も近い画素との間に第1の低域通過フィルタを設けることを特徴とする。上記の液晶装置において、前記第1の低域通過フィルタの遮断周波数fL3と、前記ゲート線駆動回路のゲート線を駆動するインバータを第2の低域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fL1と、前記ゲート線駆動回路に最も近い画素と最も遠い画素との間のゲート線に分布定数状に存在する寄生容量および寄生抵抗を第3の低域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fL2と、前記画素を第2の高域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fHと、の間にfL1>fL3またはfL1とfL3とが略同一、かつfL2>fL3またはfL2とfL3とが略同一、かつfL1>fL2の関係が成り立つようにすることが好ましい。上記の液晶装置において、前記第1の低域通過フィルタの遮断周波数fL3と、前記ゲート線駆動回路のゲート線を駆動するインバータを第2の低域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fL1と、前記ゲート線駆動回路に最も近い画素と最も遠い画素との間のゲート線に分布定数状に存在する寄生容量および寄生抵抗とを第3の低域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fL2と、前記画素を第2の高域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fHと、の間にfH<fL3<fL2<fL1なる関係が成り立つようにすることが好ましい。上記の液晶装置において、前記第1の低域通過フィルタが、容量と抵抗とから構成されるようにしても良い。上記の液晶装置において、前記第1の低域通過フィルタが、常に導通状態にあるトランジスタと、前記トランジスタを導通状態に保持し続ける電源線とにより構成されるようにしても良い。上記の液晶装置において、画素のスイッチング素子としてN型トランジスタを用いる場合には、前記常に導通状態にあるトランジスタとしてP型トランジスタを用いることが好ましい。上記の液晶装置において、画素のスイッチング素子としてP型トランジスタを用いる場合には、前記常に導通状態にあるトランジスタとしてN型トランジスタを用いることが好ましい。上記の液晶装置において、前記第1の低域通過フィルタがアクティブフィルタにより構成されるようにしても良い。 Further, the liquid crystal device of the present invention is an active matrix type liquid crystal device having a plurality of gate lines and source lines, wherein a first low voltage is provided between a gate line driving circuit and a pixel closest to the gate line driving circuit. A band-pass filter is provided. In the above liquid crystal device, the cutoff frequency when the cutoff frequency f L3 of the first low pass filter and the inverter driving the gate line of the gate line drive circuit are equivalently represented as a second low pass filter. The frequency f L1 and the parasitic capacitance and the parasitic resistance existing in the form of a distributed constant in the gate line between the pixel closest to the gate line driving circuit and the pixel farthest from the pixel are equivalently represented as a third low-pass filter. Between the cut-off frequency f L2 at the time and the cut-off frequency f H when the pixel is equivalently represented as a second high-pass filter, f L1 > f L3 or f L1 and f L3 are substantially the same. Preferably, f L2 > f L3 or f L2 and f L3 are substantially the same, and the relationship of f L1 > f L2 is preferably satisfied. In the above liquid crystal device, the cutoff frequency when the cutoff frequency f L3 of the first low pass filter and the inverter driving the gate line of the gate line drive circuit are equivalently represented as a second low pass filter. The frequency f L1 and the parasitic capacitance and the parasitic resistance existing in the form of a distributed constant on the gate line between the pixel closest to the gate line driving circuit and the pixel farthest from the pixel are equivalently represented as a third low-pass filter. a cut-off frequency f L2 of the time was, the pixels and cut-off frequency f H when equivalently expressed as a second high-pass filter, is f H <f L3 <f L2 <f L1 the relationship between It is preferable to be satisfied. In the liquid crystal device described above, the first low-pass filter may include a capacitor and a resistor. In the above liquid crystal device, the first low-pass filter may include a transistor that is always in a conductive state and a power supply line that keeps the transistor in a conductive state. In the above liquid crystal device, when an N-type transistor is used as a switching element of a pixel, it is preferable to use a P-type transistor as the transistor that is always in a conductive state. In the above liquid crystal device, when a P-type transistor is used as a switching element of a pixel, it is preferable to use an N-type transistor as the transistor that is always in a conductive state. In the above liquid crystal device, the first low-pass filter may be constituted by an active filter.

また、ゲート線駆動回路と前記ゲート線駆動回路に最も近い画素との間に抵抗変調回路を設け、さらに前記抵抗変調素子の抵抗を制御する抵抗変調信号を送出する配線を設けることにより本課題を解決する。さらに、前記抵抗変調回路にトランジスタを用い、前記トランジスタのゲート電極が前記配線に接続されており、その前記配線に流れる前記抵抗変調信号が前記トランジスタの閾電圧を越えて前記トランジスタを導通状態にする2状態以上の電圧状態を振動していることにより更なる効果が得られる。さらに、前記抵抗変調信号において、ゲート線を選択状態から非選択状態に推移させる際、前記2状態以上の電圧状態のうち最も高い電圧状態から最も低い電圧状態へ電圧状態を階段状に変化させることにより更なる効果が得られる。より具体的には、ゲート線駆動回路のシフトレジスタの出力と、前記シフトレジスタの出力を一定時間遅延させる遅延回路の出力と、必要ならば次段のシフトレジスタの出力とを、各ゲート段毎に設けた論理演算回路に入力した後、前記論理演算回路の演算結果に基づいて3つの異なる電圧状態を排他的に選択し、最終的に前記ゲート線に選択された前記電圧状態の電圧を印加することを特徴とする。さらに、3つの異なる前記電圧状態が、シフトレジスタ、論理演算回路、遅延回路などの駆動に用いられる正電源および負電源により印加される第1、第2の電圧状態と、前記正電源の電圧より低く前記負電源の電圧より高い第3の電圧状態との3状態であることにより更なる効果が得られる。これらにおいては、前記遅延回路の入出力端子をEXORゲートの入力に接続し、前記EXORゲートの出力端子と次ゲート段のEXORゲートの出力とをNANDゲートの入力端子に接続し、前記NANDゲートの出力端子を前記遅延回路の出力端子とゲート線との間の導通状態を制御するN型トランジスタのゲート電極と、前記第3の電圧状態の電源線と前記ゲート電極との間の導通状態を制御するP型トランジスタのゲート電極と、に接続することにより更なる効果が得られる。
さらに、前記遅延回路の遅延時間を制御する信号を前記ゲート線駆動回路で内部発生させる、または、前記遅延回路の遅延時間を制御する信号を前記ゲート線駆動回路の外部で発生させ、前記遅延回路に接続する信号配線を設け、前記信号配線を通じて前記遅延回路の遅延期間を制御することにより新たな効果が得られる。
In addition, a resistive modulation circuit is provided between a gate line drive circuit and a pixel closest to the gate line drive circuit, and a wiring for transmitting a resistance modulation signal for controlling the resistance of the resistance modulation element is provided. Resolve. Further, a transistor is used for the resistance modulation circuit, and a gate electrode of the transistor is connected to the wiring, and the resistance modulation signal flowing through the wiring exceeds a threshold voltage of the transistor to make the transistor conductive. Further effects can be obtained by vibrating two or more voltage states. Further, in the resistance modulation signal, when the gate line is changed from the selected state to the non-selected state, the voltage state is changed stepwise from the highest voltage state to the lowest voltage state among the two or more voltage states. Thus, a further effect can be obtained. More specifically, the output of the shift register of the gate line driving circuit, the output of the delay circuit for delaying the output of the shift register for a predetermined time, and the output of the next shift register if necessary, And then exclusively selects three different voltage states based on the operation result of the logical operation circuit, and finally applies the voltage of the selected voltage state to the gate line It is characterized by doing. Further, the three different voltage states are first and second voltage states applied by a positive power supply and a negative power supply used for driving a shift register, a logical operation circuit, a delay circuit, and the like, and a voltage of the positive power supply. A further effect can be obtained by the three states, that is, the third state which is lower than the voltage of the negative power supply. In these, the input / output terminal of the delay circuit is connected to the input of an EXOR gate, the output terminal of the EXOR gate and the output of the EXOR gate of the next gate stage are connected to the input terminal of a NAND gate, An output terminal controls a conduction state between an output terminal of the delay circuit and a gate line of an N-type transistor for controlling conduction state between the output terminal and the gate line, and a conduction state between the power supply line in the third voltage state and the gate electrode. A further effect can be obtained by connecting to the gate electrode of the P-type transistor.
Further, a signal for controlling the delay time of the delay circuit is internally generated in the gate line drive circuit, or a signal for controlling the delay time of the delay circuit is generated outside the gate line drive circuit, A new effect can be obtained by providing a signal wiring connected to the delay circuit and controlling the delay period of the delay circuit through the signal wiring.

上記手段を講じたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置においては、画素の突き抜け電圧を画面内で一定に保つことができるため、液晶に印加される電圧が一定となり、面内での輝度の場所依存のない均一な画面を得ることができる。また、表示画面のフリッカ、焼き付きをなくした非常に高品位の画像を得ることができる。このことにより、フリッカに係わる表示不良品を確実になくすことができるため、液晶表示装置の歩留まりを実質的に向上させることができ、製造コストの低減が可能になる。また、液晶セルに印加される直流成分を設計上の対策から最小限にできるため、液晶の焼き付きを最小限にすることが可能になり、時系列変化が少なく信頼性の高い液晶表示装置を提供することができる。   In the active matrix type liquid crystal display device employing the above means, the penetration voltage of the pixel can be kept constant in the screen, so that the voltage applied to the liquid crystal becomes constant, and the location-dependent luminance in the plane depends on the location. No uniform screen can be obtained. In addition, a very high-quality image free of flicker and image sticking on the display screen can be obtained. As a result, defective display due to flicker can be reliably eliminated, so that the yield of the liquid crystal display device can be substantially improved, and the manufacturing cost can be reduced. In addition, since the DC component applied to the liquid crystal cell can be minimized from design measures, it is possible to minimize the burn-in of the liquid crystal and provide a highly reliable liquid crystal display device with little time-series change. can do.

次に、本発明の実施形態について以下に説明する。   Next, an embodiment of the present invention will be described below.

本発明を実施したアクティブマトリクス方式の液晶表示装置においては、回路構成は従来例で示したものと変わらないため、図1、図2および図3を用いて説明する。 図1はその回路構成を説明する図である。本発明のアクティブマトリクス方式の液晶表示装置は、ソース線駆動回路201およびゲート線駆動回路202と、少なくとも画素マトリクス203が同一の透明絶縁基板204の上に形成されてなる。そのうち、画素マトリクス203は、ソース線駆動回路201に接続された複数のソース線X1,X2,X3・・・と、ゲート線駆動回路202に接続された複数のゲート線Y1,Y2,Y3・・・と、これらのゲート線およびソース線の各交点に形成された複数の画素P11,P12・・・とを有し、各画素P11,P12・・・には薄膜トランジスタ205および液晶セル206を有する。 In the active matrix type liquid crystal display device embodying the present invention, the circuit configuration is the same as that of the conventional example, and therefore will be described with reference to FIGS. 1, 2 and 3. FIG. 1 is a diagram illustrating the circuit configuration. In the active matrix type liquid crystal display device of the present invention, at least the pixel matrix 203 and the source line drive circuit 201 and the gate line drive circuit 202 are formed on the same transparent insulating substrate 204. The pixel matrix 203 includes a plurality of source lines X 1 , X 2 , X 3 ... Connected to the source line driving circuit 201 and a plurality of gate lines Y 1 , Y connected to the gate line driving circuit 202. 2, Y 3 and ..., and a plurality of these pixels P 11, which is formed at each intersection of the gate lines and source lines, P 12 ..., to each pixel P 11, P 12 ... Has a thin film transistor 205 and a liquid crystal cell 206.

以上の回路構成を有する液晶表示装置の等価回路について、図2を用いて説明する。図2はアクティブマトリクス型の液晶表示装置の等価回路を説明する図である。等価回路は大きく分けて、ソース線駆動回路301およびゲート線駆動回路302と、画素マトリクス303とからなる。前記ソース線駆動回路301は、ラッチ信号を時系列的に送出するためのX側シフトレジスタ304と、その前記ラッチ信号を増幅、整波するためのバッファ305と、ビデオ信号線306のビデオ信号を前記バッファ305から送出されるラッチ信号に応じてソース線308,308’にサンプル、ホールドするアナログスイッチ307,307’とで構成される。ここで、前記X側シフトレジスタ304は、クロックCLXで規定されるクロックドインバータ331と、クロックCLX*で規定されるクロックドインバータ332と、インバータ333とからなる基本セル334を単位に構成される。   An equivalent circuit of the liquid crystal display device having the above circuit configuration will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram illustrating an equivalent circuit of an active matrix type liquid crystal display device. The equivalent circuit is roughly divided into a source line driving circuit 301, a gate line driving circuit 302, and a pixel matrix 303. The source line driving circuit 301 includes an X-side shift register 304 for transmitting a latch signal in time series, a buffer 305 for amplifying and rectifying the latch signal, and a video signal on a video signal line 306. Analog switches 307 and 307 'sample and hold the source lines 308 and 308' in accordance with the latch signal sent from the buffer 305. Here, the X-side shift register 304 is configured with a basic cell 334 including a clocked inverter 331 defined by a clock CLX, a clocked inverter 332 defined by a clock CLX *, and an inverter 333 as a unit. .

一方、前記ゲート線駆動回路302は、ラッチ信号を時系列的に送出するためのY側シフトレジスタ309と、その前記ラッチ信号を増幅、整波し、ゲート線311,311’に送出するためのバッファ310とから構成される。ここで、前記Y側シフトレジスタ309は、クロックCLYで規定されるクロックドインバータ335と、クロックCLY*で規定されるクロックドインバータ336と、インバータ337と、NORゲート338からなる基本セル339を単位に構成される。   On the other hand, the gate line driving circuit 302 includes a Y-side shift register 309 for transmitting a latch signal in time series, and an amplifying and rectifying the latch signal, and transmitting the same to the gate lines 311 and 311 ′. And a buffer 310. Here, the Y-side shift register 309 includes a basic cell 339 including a clocked inverter 335 defined by a clock CLY, a clocked inverter 336 defined by a clock CLY *, an inverter 337, and a NOR gate 338. Is configured.

また、前記画素マトリクス303は、前記ソース線308,308’およびゲート線311,311’に接続された薄膜トランジスタ312,312’と液晶セル313,313’とから構成される。   The pixel matrix 303 includes thin film transistors 312 and 312 'connected to the source lines 308 and 308' and gate lines 311 and 311 'and liquid crystal cells 313 and 313'.

次に、図2に等価回路図で示した液晶表示装置の駆動方法の一例について、図2と図3を用いて説明する。図3に、図2の点P1,P2,Q1,Q2,R1,R2,V1での電圧を時系列で示す。CLXはX側シフトレジスタのクロックを表しており、CLX*とは逆位相の関係になっている。同様に、CLYはY側シフトレジスタのクロックを表しており、CLY*とは逆位相の関係になっている。ここでは、CLX*とCLY*については図示しない。 Next, an example of a method for driving the liquid crystal display device illustrated in the equivalent circuit diagram in FIG. 2 will be described with reference to FIGS. FIG. 3 shows the voltages at points P 1 , P 2 , Q 1 , Q 2 , R 1 , R 2 , and V 1 in FIG. 2 in time series. CLX represents the clock of the X-side shift register, and has a phase opposite to that of CLX *. Similarly, CLY represents a clock of the Y-side shift register, and has a phase opposite to that of CLY *. Here, CLX * and CLY * are not shown.

駆動方法を順に説明すると、まず、前記Y側シフトレジスタ309が前記クロックCLY,CLY*のタイミングに応じて、前記クロックCLY,CLY*の周期の1/2の幅のパルスを前記バッファ310に出力する。そのパルスを前記バッファ310が増幅、整波して、前記ゲート線311(P1)にゲート選択パルス401を出力する。この前記ゲート選択パルス401が選択レベルである間、ゲート線311に接続した複数の前記薄膜トランジスタ312,312’は導通状態になり、このゲート線311に接続した複数の薄膜トランジスタ312,312’に接続したソース線303と液晶セル313、ゲート線303’と液晶セル313’とが電気的に接続する。このとき、前記X側シフトレジスタ304が前記クロックCLX,CLX*のタイミングに応じて、前記クロックの周期と同じ幅のパルスを前記バッファ305に出力する。そのパルスを増幅、整波してアナログスイッチ307(Q1)にサンプル・ホールド信号403を出力し、前記アナログスイッチ307はそのパルスに応じて前記ビデオ信号線306(V1)のビデオ信号405を前記ソース線308(R1)にサンプル・ホールドする。このとき、先に述べたように前記ゲート線311に接続した複数の前記薄膜トランジスタ312は導通状態にあるため、前記ソース線308にホールドした信号は前記液晶セル313に書き込まれる。同様に、アナログスイッチ307’はソース線308’に前記ビデオ信号405をサンプル・ホールドする。これによって、前記液晶セル313’には前記ソース線308’にサンプル・ホールドした信号が書き込まれる。これを前記ソース線駆動回路301の側で繰り返すことにより、前記ゲート線311に接続した複数の画素の液晶セルへ、前記ビデオ信号405を書き込むことができる。 The driving method will be described in order. First, the Y-side shift register 309 outputs a pulse having a half width of the cycle of the clocks CLY, CLY * to the buffer 310 according to the timings of the clocks CLY, CLY *. I do. The buffer 310 amplifies and tunes the pulse, and outputs a gate selection pulse 401 to the gate line 311 (P 1 ). While the gate selection pulse 401 is at the selection level, the plurality of thin film transistors 312 and 312 ′ connected to the gate line 311 are turned on and connected to the plurality of thin film transistors 312 and 312 ′ connected to the gate line 311. The source line 303 is electrically connected to the liquid crystal cell 313, and the gate line 303 'is electrically connected to the liquid crystal cell 313'. At this time, the X-side shift register 304 outputs a pulse having the same width as the clock cycle to the buffer 305 in accordance with the timing of the clocks CLX and CLX *. The pulse is amplified and rectified to output a sample-and-hold signal 403 to the analog switch 307 (Q 1 ). The analog switch 307 converts the video signal 405 of the video signal line 306 (V 1 ) according to the pulse. The sample and hold is performed on the source line 308 (R 1 ). At this time, since the plurality of thin film transistors 312 connected to the gate line 311 are in a conductive state as described above, the signal held on the source line 308 is written to the liquid crystal cell 313. Similarly, the analog switch 307 'samples and holds the video signal 405 on the source line 308'. As a result, a signal sampled and held on the source line 308 'is written into the liquid crystal cell 313'. By repeating this on the source line drive circuit 301 side, the video signal 405 can be written to the liquid crystal cells of a plurality of pixels connected to the gate line 311.

次に、前記ゲート選択パルス401が非選択レベルになった後、前記ゲート線駆動回路302からゲート選択パルス402が出力される。この前記ゲート選択パルス402が選択レベルである間に、前述したのと同様に前記ソース線駆動回路301を駆動すると、前記ゲート線311’に接続した複数の画素の液晶セルに前記ビデオ信号405を書き込むことができる。   Next, after the gate selection pulse 401 becomes the non-selection level, the gate line driving circuit 302 outputs a gate selection pulse 402. When the source line driving circuit 301 is driven in the same manner as described above while the gate selection pulse 402 is at the selection level, the video signal 405 is applied to the liquid crystal cells of a plurality of pixels connected to the gate line 311 ′. Can write.

以上の操作を繰り返すことによって、各画素の液晶セル単位でビデオ信号を書き込むことが可能になり、液晶セルに書き込まれた信号に応じて各々の液晶セルの偏光状態を変えることで画像を得ることができる。   By repeating the above operation, it becomes possible to write a video signal for each liquid crystal cell of each pixel, and obtain an image by changing the polarization state of each liquid crystal cell according to the signal written to the liquid crystal cell. Can be.

以上の構成を持ったアクティブマトリクス方式の液晶表示装置において、表示画面にフリッカが生じる原因が、面内で突き抜け電圧を一定にすることができないためであることは前に述べた。フリッカが視認される液晶表示装置では、ゲート線駆動回路に最も近い画素の液晶セルでは前記突き抜け電圧が最も大きく、前記ゲート線駆動回路に最も遠い画素の液晶セルでは前記突き抜け電圧が最も小さくなっている。この前記突き抜け電圧の差が、液晶セルの透過率の差として認識できる程度に大きいときにフリッカとして視認されるのであれば、この前記突き抜け電圧の差をフリッカが視認できない程度にまで小さくすれば良いことになる。つまり、前記突き抜け電圧の少ない画素で前記突き抜け電圧を増やすことにより、または、前記突き抜け電圧の多い画素で前記突き抜け電圧を減らすことにより、突き抜け電圧を一定にすることが可能になる。   As described above, in the active matrix type liquid crystal display device having the above configuration, the flicker is generated on the display screen because the penetration voltage cannot be constant in the plane. In a liquid crystal display device in which flicker is visually recognized, the penetration voltage is the largest in the liquid crystal cell of the pixel closest to the gate line driving circuit, and the penetration voltage is the smallest in the liquid crystal cell of the pixel farthest from the gate line driving circuit. I have. If the difference in the penetration voltage is visually recognized as flicker when it is large enough to be recognized as the difference in transmittance of the liquid crystal cell, the difference in the penetration voltage may be reduced to such an extent that flicker cannot be visually recognized. Will be. That is, it is possible to make the penetration voltage constant by increasing the penetration voltage in the pixel having the small penetration voltage, or reducing the penetration voltage in the pixel having the large penetration voltage.

本実施例1では、ゲート線を選択状態から非選択状態に移行する際に、ゲート線駆動回路のゲート線を直接駆動するインバータの抵抗を制限することにより、フリッカのない液晶表示装置を得る方法について説明する。   In the first embodiment, a method of obtaining a flicker-free liquid crystal display device by limiting the resistance of an inverter that directly drives a gate line of a gate line driving circuit when a gate line shifts from a selected state to a non-selected state. Will be described.

図6は、本実施例1を用いた液晶表示装置のゲート線駆動回路と画素マトリクスとを、ある一本のゲート線について抜き出した等価回路図である。   FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of a gate line driving circuit and a pixel matrix of a liquid crystal display device using the first embodiment extracted for one gate line.

ここでゲート線駆動回路の動作を、特にゲート線を直接駆動するインバータの動作に着目して説明する。ここでは、このゲート線704が現在非選択状態にあり選択状態に移行する直前であるとする。まず、ゲート線駆動回路701のシフトレジスタ部より出力されたラッチ信号702により、インバータ703はゲート線704を選択状態とする信号を出力する。以下、選択状態とは、ゲート線704に接続された薄膜トランジスタ706、706’を導通状態にする電圧にゲート線704が印加された状態のことをいう。このとき、インバータ703のP型薄膜トランジスタの抵抗をRP、N型薄膜トランジスタの抵抗をRNとするとRN>>RPの関係が成り立ち、インバータ703には電源配線Vddから前記P型薄膜トランジスタを介してゲート線704に電荷を充電する電流IPが流れる。次に、ラッチ信号702によりインバータ703はゲート線を非選択状態とする信号を出力する。以下、非選択状態とは、ゲート線704に接続された薄膜トランジスタ706、706’を不通状態にする電圧にゲート線704が印加された状態のことをいう。このとき、インバータ703の薄膜トランジスタの抵抗にはRP>>RNの関係が成り立ち、インバータ703には前記N型薄膜トランジスタを介して接地配線GNDにゲート線704に蓄えられた電荷を放出する電流INが流れる。こうして非選択状態になったゲート線704は、ゲート線駆動回路701のシフトレジスタ部より出力されるラッチ信号702を受けて再び選択状態になるまで非選択状態を保持する。 Here, the operation of the gate line driving circuit will be described focusing on the operation of an inverter that directly drives a gate line. Here, it is assumed that this gate line 704 is currently in a non-selected state and is just before shifting to a selected state. First, the inverter 703 outputs a signal for setting the gate line 704 to a selected state according to the latch signal 702 output from the shift register portion of the gate line driver circuit 701. Hereinafter, the selected state refers to a state in which the gate line 704 is applied to a voltage at which the thin film transistors 706 and 706 ′ connected to the gate line 704 are turned on. At this time, the resistance of the P-type thin film transistor R P of the inverter 703, and the resistance of the N-type thin film transistor and R N holds the relation R N >> R P, the inverter 703 to the P-type thin film transistor from the power supply wiring line V dd Through the gate line 704, a current I P for charging a charge flows. Next, in response to the latch signal 702, the inverter 703 outputs a signal for setting the gate line to a non-selected state. Hereinafter, the non-selected state refers to a state in which the gate line 704 is applied to a voltage that turns off the thin film transistors 706 and 706 ′ connected to the gate line 704. In this case, the thin film transistor of the resistance of the inverter 703 R P >> R N relationship holds is, current in inverter 703 to release the charge stored in the gate line 704 to the ground line GND via the N-type thin film transistor I N flows. The gate line 704 in the non-selected state in this way receives the latch signal 702 output from the shift register unit of the gate line driving circuit 701 and holds the non-selected state until the gate line 704 is again in the selected state.

本実施例1では、以上の動作をするゲート線駆動回路において、非選択状態でのN型薄膜トランジスタの抵抗RNを以下に述べる条件に制限することにより、前に説明した突き抜け電圧を各画素で一定にすることができる。 In the first embodiment, the gate line driving circuit for the above operation, by limiting the resistance R N of the N-type thin film transistor in a non-selected state in conditions described below, a penetration voltage previously described by each pixel Can be constant.

まず、ゲート線駆動回路701に最も近い第1の画素705と最も遠い第2の画素705’があるとき、第1の画素705と第2の画素705’の間に分布定数型に存在するゲート線704の抵抗とゲート線704に寄生する容量は、等価的に遮断周波数fL2の低域通過フィルタ707として表されるものとする。また、非選択状態でのインバータ703には、インバータ703に寄生する容量CINVとN型薄膜トランジスタの抵抗RNとは、等価的に遮断周波数fL1の低域通過フィルタとして表されるものとする。さらに第1の画素705は、薄膜トランジスタ706の抵抗と薄膜トランジスタ706の画素電極に接続したドレイン電極とゲート電極との間の容量とから構成される遮断周波数fHの高域通過フィルタ148として等価的に表すことができ、同様に第2の画素705’も遮断周波数fHの高域通過フィルタ148’として等価的に表すことができるものとする。 First, when there is a first pixel 705 closest to the gate line driver circuit 701 and a second pixel 705 ′ farthest from the gate line driving circuit 701, a gate existing in a distributed constant type between the first pixel 705 and the second pixel 705 ′. The resistance of the line 704 and the parasitic capacitance of the gate line 704 are equivalently represented as a low-pass filter 707 having a cutoff frequency f L2 . Further, the inverter 703 in the non-selected state, and the resistance R N of the capacitor C INV and N-type thin film transistor parasitic on the inverter 703, and shall be expressed as a low-pass filter equivalently cutoff frequency f L1 . Further, the first pixel 705 is equivalently provided as a high-pass filter 148 having a cutoff frequency f H and comprising a resistance of the thin film transistor 706 and a capacitance between a drain electrode and a gate electrode connected to the pixel electrode of the thin film transistor 706. it can be represented, a second pixel 705 similarly 'also high-pass filter 148 of the cut-off frequency f H' and what can be equivalently represented as.

これらの各フィルタを用いて図6の等価回路図をさらに単純化してみると、図7に示す等価回路図に置き換える事ことができる。図7では、遮断周波数fL1の低域通過フィルタ801はインバータ703を等価的に表し、遮断周波数fHの高域通過フィルタ803は第1の画素705を等価的に表し、同様に遮断周波数fHの高域通過フィルタ804は第2の画素705’を等価的に表している。また、遮断周波数fL2の低域通過フィルタ802は、前述した第1の画素705と第2の画素705’との間の分布定数型の低域通過フィルタ707である。これらの各フィルタで表した回路に入力されるインバータ703の出力信号は、信号源804として表している。 When the equivalent circuit diagram of FIG. 6 is further simplified using these filters, it can be replaced with the equivalent circuit diagram shown in FIG. In FIG. 7, a low-pass filter 801 with a cut-off frequency f L1 equivalently represents the inverter 703, a high-pass filter 803 with a cut-off frequency f H equivalently represents the first pixel 705, and likewise a cut-off frequency f The H high-pass filter 804 equivalently represents the second pixel 705 '. The low-pass filter 802 having the cutoff frequency f L2 is the low-pass filter 707 of the distributed constant type between the first pixel 705 and the second pixel 705 ′ described above. The output signal of the inverter 703 input to the circuit represented by each of these filters is represented as a signal source 804.

本実施例1では、この等価回路においてfL1>fHかつfL2>fHという関係が成り立っているとき、低域通過フィルタ801の遮断周波数fL1と低域通過フィルタ802の遮断周波数fL2との間にfL1≒fL2なる関係が成り立つように、またはfL1<fL2の関係が成り立つように、または少なくともfL1>>fL2とならないようにインバータ703の低域通過フィルタ801を設計する。 In the first embodiment, when the relationship of f L1> f H and f L2> f H is made up in this equivalent circuit, the cutoff frequency f L2 of the cut-off frequency f L1 of the low-pass filter 801 low-pass filter 802 And the low-pass filter 801 of the inverter 703 so that the relationship of f L1 ≒ f L2 holds, or the relationship of f L1 <f L2 holds, or at least f L1 >> f L2. design.

以下、図8を用いてfL1≒fL2>fHとする意味について説明する。図8(a)は従来のfL1>fL2>fHという関係が成り立つときの前記各フィルタの周波数特性を表し、図8(b)は本実施例1のfL1≒fL2>fHという関係が成り立つときの各フィルタの周波数特性を表す。また、図8(c)は従来のfL1>fL2>fHという関係が成り立つときの図7の点P31、P32での周波数特性を表し、図8(d)は本実施例1のfL1≒fL2>fHという関係が成り立つときの図7の点P31、P32での周波数特性を表す。これら図8(a)〜(d)では縦軸に増幅率をdB値でとり、横軸に周波数をとっている。さらに、図8(e)は従来のfL1>fL2>fHという関係が成り立つときの図7の点P31、P32での電圧波形と突き抜け電圧△V1、△V2を表し、図8(f)は本実施例1のfL1≒fL2>fHという関係が成り立つときの図7の点P31、P32での電圧波形と突き抜け電圧△V1’、△V2’を表す。これら図8(e)、(f)では縦軸に電圧を、横軸に時間をとっている。図8(a)に示すように前記各フィルタの間に従来のfL1>fL2>fHという関係が成り立つとき、前記低域通過フィルタ801と高域通過フィルタ803とを通過した点P31と、前記低域通過フィルタ801と前記低域通過フィルタ802と高域通過フィルタ803’とを通過した点P32での周波数特性を比較すると、図8(c)に示すようにP31での通過周波数帯域に比べてP32の通過周波数帯域が狭くなり、そのため図8(e)に示すようにP31での突き抜け電圧△V1はP32での突き抜け電圧△V2より大きくなる。この△V1と△V2の差が画素部の液晶の透過率の差として視認される程度であるとき、液晶表示装置の画面にフリッカが視認される。これに対して、図8(b)に示すように前記各フィルタの間にfL1≒fL2>fHという関係が成り立つときには、P21とP22での周波数特性を比較すると図8(d)に示すように図8(c)に比べ通過周波数帯域の差は少なくなる方向に進み、そのため図8(f)に示すように突き抜け電圧△V1’と△V2’の差は少なくなる。この△V1’と△V2’の差が画素部の液晶の透過率の差として視認できない程度であるとき、液晶表示装置の画面にフリッカは視認されない。 Hereinafter, the meaning of f L1 ≒ f L2 > f H will be described with reference to FIG. FIG. 8A shows the frequency characteristics of the respective filters when the conventional relationship of f L1 > f L2 > f H holds, and FIG. 8B shows f L1 1f L2 > f H of the first embodiment. Represents the frequency characteristic of each filter when the relationship holds. FIG. 8C shows frequency characteristics at points P 31 and P 32 in FIG. 7 when the conventional relationship of f L1 > f L2 > f H is satisfied, and FIG. 8D shows the first embodiment. 7 shows the frequency characteristics at points P 31 and P 32 in FIG. 7 when the relationship f L1 ≒ f L2 > f H holds. 8 (a) to 8 (d), the ordinate represents the amplification factor as a dB value, and the abscissa represents the frequency. FIG. 8E shows the voltage waveforms at points P 31 and P 32 in FIG. 7 and the penetration voltages ΔV 1 and ΔV 2 when the conventional relationship of f L1 > f L2 > f H holds. FIG. 8F shows the voltage waveforms and the penetration voltages ΔV 1 ′ and ΔV 2 ′ at points P 31 and P 32 in FIG. 7 when the relationship f L1 ≒ f L2 > f H holds in the first embodiment. Represents 8 (e) and 8 (f), the vertical axis represents voltage, and the horizontal axis represents time. As shown in FIG. 8A, when the conventional relationship of f L1 > f L2 > f H is established between the respective filters, a point P 31 passing through the low-pass filter 801 and the high-pass filter 803 is obtained. If, when comparing the frequency characteristics in the low-pass filter 801 and the low-pass filter 802 and the high-pass filter 803 'and P 32 that has passed through, at P 31, as shown in FIG. 8 (c) passing frequency band of the P 32 compared to the pass frequency band becomes narrow, therefore punch-through voltage △ V 1 at P 31, as shown in FIG. 8 (e) is greater than the punch-through voltage △ V 2 at P 32. When the difference between ΔV 1 and ΔV 2 is such that it is visually recognized as a difference in transmittance of liquid crystal in the pixel portion, flicker is visually recognized on the screen of the liquid crystal display device. On the other hand, when the relationship of f L1 ≒ f L2 > f H is established between the respective filters as shown in FIG. 8B, comparing the frequency characteristics at P 21 and P 22 with FIG. As shown in FIG. 8C, the difference in the pass frequency band advances in a direction smaller than that in FIG. 8C, and therefore, as shown in FIG. 8F, the difference between the penetration voltages ΔV 1 ′ and ΔV 2 ′ decreases. . When the difference between △ V 1 ′ and △ V 2 ′ is such that the difference between the transmittances of the liquid crystal of the pixel portion cannot be visually recognized, flicker is not visually recognized on the screen of the liquid crystal display device.

さらにfL1<fL2なる関係が成り立つときには、低域通過フィルタ802に信号が入力される前に低域通過フィルタ801により遮断周波数fL1以上の周波数成分は遮断されるため、低域通過フィルタfL2は高域遮断フィルタとしてはほとんど機能しない。このため必然的にP31、P32における突き抜け電圧はほとんど等しくなり、フリッカのない液晶表示装置を実現できる。 Further, when the relationship of f L1 <f L2 holds, before the signal is input to the low-pass filter 802, the low-pass filter 801 cuts off the frequency components higher than the cutoff frequency f L1. L2 hardly functions as a high-frequency cutoff filter. For this reason, the punch-through voltages at P 31 and P 32 are inevitably almost equal, and a liquid crystal display device without flicker can be realized.

以上、前記低域通過フィルタ801および802においてfL1≒fL2またはfL1<fL2なる関係が成り立つときにフリッカのない液晶表示装置を実現できることについて述べたが、少なくともfL1>>fL2の関係が成り立たないように前記低域通過フィルタ801を構成するインバータ703を設計するならばフリッカレベルそのものを下げることができるために表示検査時の歩留まりを実質的に向上させることができる。 Above, wherein has been described can be realized a liquid crystal display device without flicker when the low-pass filters 801 and 802 f L1 ≒ f L2 or f L1 <f L2 becomes relationship holds, at least f L1 >> f L2 If the inverter 703 constituting the low-pass filter 801 is designed so that the relationship does not hold, the flicker level itself can be reduced, so that the yield during display inspection can be substantially improved.

さてここで、前記低域通過フィルタ801が非選択状態での前記インバータ703のN型薄膜トランジスタの抵抗RNとインバータに寄生する容量CINVとで構成されることは前に述べた。設計においては、この前記インバータ703を等価的に表す低域通過フィルタ801の遮断周波数fL1が1/(2π×RN×CINV)と等しいと考えて差し支えない。これらから、ゲート線駆動回路に最も近い画素と、ゲート線駆動回路から最も離れた画素との間のゲート線に形成される分布定数型の低域通過フィルタ802の遮断周波数fL2と、RN、Cinvとの間にRN≒1/(2π×Cinv×fL2)なる関係が成り立つよう、またはRN>1/(2π×Cinv×fL2)なる関係が成り立つようにRNを設計することにより、フリッカのない液晶表示装置を実現することができる。または、少なくともRN<<1/(2π×Cinv×fL2)の関係を成立させないようRNを設計することにより、低フリッカレベルの液晶表示装置を実現することができる。ここでつけ加えておくが、前記抵抗RNは無限大の値で良いはずはなく、前記遮断周波数fL1の逆数、即ち周波数fL1での1周期(2π×RN×CINV)が、ある一つのゲート線に接続された画素群を選択状態に保持するために与えられた期間よりも充分短いことが必要である。 Well Here, the be composed of a capacitor C INV low-pass filter 801 is parasitic to the resistor R N and the inverter of N-type thin film transistor of the inverter 703 in the non-selected state mentioned before. In the design, no problem consider the cut-off frequency f L1 of the low-pass filter 801 which represents the said inverter 703 equivalently equals 1 / (2π × R N × C INV). These, and the pixel closest to the gate line driving circuit, a cutoff frequency f L2 of the low-pass filter 802 of the distributed constant type formed on the gate lines between the farthest pixel from the gate line driving circuit, R N , R between the C inv N ≒ 1 / (2π × C inv × f L2) so as relationship holds, or R N> 1 / (2π × C inv × f L2) becomes such that the relationship is established R N By designing the liquid crystal display device, a liquid crystal display device without flicker can be realized. Or, by designing at least R N << 1 / (2π × C inv × f L2) of so as not to establish the relationship R N, it is possible to realize a liquid crystal display device with low flicker level. Although previously added here, the resistor R N instead should be infinite value, the inverse of the cutoff frequency f L1, i.e. one period of the frequency f L1 (2π × R N × C INV) is, there It is necessary that the period be sufficiently shorter than the period given to keep the pixel group connected to one gate line in the selected state.

以上のように、設計上からフリッカのない液晶表示装置を実現するためには非選択状態でのインバータ703のN型薄膜トランジスタの抵抗RNを増加させることが必要になる。これに対して、選択状態でのP型薄膜トランジスタの抵抗RPはゲート線を非選択状態から選択状態にするときの遅れ具合を左右するため、可能な限り低いほうが良いことは明白である。このことから、より具体的には、ゲート線駆動回路のゲート線を直接駆動するインバータのN型薄膜トランジスタとP型薄膜トランジスタとの設計サイズを故意にアンバランスにする必要がある。通常、相補型トランジスタを用いたインバータを設計する場合には、N型トランジスタの線形領域での抵抗値とP型トランジスタの線形領域での抵抗値とを同じくするように製造プロセスや設計サイズを最適化する。そうすることにより、トランジスタの性能を最大限に利用することができる。これに対して本実施例1では、ゲート線駆動回路のゲート線を直接駆動するインバータのみにおいて、N型薄膜トランジスタの線形領域での抵抗RNがP型薄膜トランジスタの線形領域での抵抗RPに対して大きくなるように設計する。具体的には、前記インバータのN型薄膜トランジスタのチャネル長を長くする、チャネル幅を短くするなど、非常に簡単な設計変更のみでフリッカのない液晶表示装置を実現できる。 As described above, in order to realize a liquid crystal display device free from flicker from the design it is necessary to increase the resistance R N of the N-type thin film transistor of the inverter 703 in a non-selected state. In contrast, the resistance R P of the P-type thin film transistor in the selected state delays to influence the degree, that as low is better possible is evident at the time of the selected state of the gate lines from the non-selected state. Therefore, more specifically, it is necessary to intentionally unbalance the design sizes of the N-type thin film transistor and the P-type thin film transistor of the inverter that directly drives the gate line of the gate line driving circuit. Normally, when designing an inverter using complementary transistors, the manufacturing process and design size are optimized so that the resistance in the linear region of the N-type transistor is the same as the resistance in the linear region of the P-type transistor. Become By doing so, the performance of the transistor can be maximized. In Example 1 In contrast, in only an inverter for driving a gate line of the gate line driving circuit directly, the resistance R N in the linear region of the N-type thin film transistor to the resistance R P in the linear region of the P-type thin film transistor Design to be large. More specifically, a flicker-free liquid crystal display device can be realized only by a very simple design change, such as increasing the channel length or shortening the channel width of the N-type thin film transistor of the inverter.

以上、この本実施例1ではゲート線駆動回路のゲート線を直接駆動するインバータに相補型トランジスタを用いたものについて述べたが、プッシュプル型のインバータ等を用いたゲート線駆動回路にも同様に適用できる。また、本実施例1では駆動回路素子および画素のスイッチング素子に薄膜トランジスタを用いたものについて述べたが、これは同様の動作を行うものであれば、例えばMOS型電界効果トランジスタ、SOI型電界効果トランジスタ等を用いたものでも構わない。   As described above, in the first embodiment, the inverter using the complementary transistor is directly used as the inverter for directly driving the gate line of the gate line driving circuit. However, the gate line driving circuit using the push-pull type inverter or the like is similarly described. Applicable. In the first embodiment, the thin film transistor is used as the driving circuit element and the switching element of the pixel. However, as long as the same operation is performed, for example, a MOS field effect transistor or an SOI field effect transistor Or the like may be used.

本実施例2では、ゲート線駆動回路と画素との間に低域通過フィルタを設けることによってフリッカのない液晶表示装置を実現する方法について述べる。   In a second embodiment, a method for realizing a liquid crystal display device free from flicker by providing a low-pass filter between a gate line driving circuit and a pixel will be described.

図9は、本実施例2を用いた液晶表示装置のゲート線駆動回路と画素マトリクスとを、ある一本のゲート線について抜き出した等価回路図である。ここでは、ゲート線駆動回路121のゲート線を直接駆動するインバータ122と、ゲート線駆動回路121に最も近い第1の画素124との間に、遮断周波数fL3の低域通過フィルタ123を設ける。このとき、ゲート線駆動回路121に最も近い第1の画素124と、ゲート線駆動回路121から最も遠い第2の画素124’との間には、遮断周波数fL2の分布定数型の低域通過フィルタとして等価的に表すことのできる、ゲート線125の抵抗とゲート線125に寄生する容量が分布定数的に存在する。 FIG. 9 is an equivalent circuit diagram in which a gate line driving circuit and a pixel matrix of a liquid crystal display device using the second embodiment are extracted for one gate line. Here, a low-pass filter 123 having a cutoff frequency f L3 is provided between an inverter 122 that directly drives a gate line of the gate line driving circuit 121 and a first pixel 124 closest to the gate line driving circuit 121. At this time, between the first pixel 124 closest to the gate line driving circuit 121 and the second pixel 124 ′ farthest from the gate line driving circuit 121, a distributed constant low-pass of cut-off frequency f L2. The resistance of the gate line 125 and the parasitic capacitance of the gate line 125 that can be equivalently expressed as a filter exist in a distributed manner.

このような図9に示す構成を有する液晶表示装置を、前述の実施例1での場合と同様に上記の各フィルタを用いて単純化すると、図10に示す等価回路図に置き換えることができる。ここでは、前記インバータ122を、前記インバータを構成するN型薄膜トランジスタの非選択状態での抵抗RNと、前記インバータに寄生する容量CINVとから構成される遮断周波数fL1の低域通過フィルタ141として置き換え、また、前記第1の画素および第2の画素をそれぞれ、遮断周波数fHの高域通過フィルタ144および144’として置き換えた。 When the liquid crystal display device having the configuration shown in FIG. 9 is simplified by using the above-described respective filters in the same manner as in the first embodiment, it can be replaced with an equivalent circuit diagram shown in FIG. Here, the inverter 122, a resistor R N in a non-selected state of the N-type thin film transistors forming the inverter, the low-pass filter 141 of the capacitor C cutoff composed of a INV frequency f L1 parasitic on the inverter as a replacement, also replaced the first pixel and the second pixel as each high-pass filter 144 and 144 of the cut-off frequency f H '.

このとき、低域通過フィルタ141と低域通過フィルタ142とをまとめて合成フィルタ143として等価的に表すと、これは前述の実施例1で説明に用いた図7と等しくなる。このことから、ゲート線駆動回路のゲート線を直接駆動するインバータの設計を従来と何等変えることなく、前記ゲート線駆動回路と前記第1の画素との間に低域通過フィルタ142を設けることにより、前述した実施例1と同等の効果を得ることができると言える。   At this time, if the low-pass filter 141 and the low-pass filter 142 are collectively represented as a synthesis filter 143, this is equivalent to FIG. 7 used in the description of the first embodiment. Accordingly, by providing the low-pass filter 142 between the gate line driving circuit and the first pixel without changing the design of the inverter that directly drives the gate line of the gate line driving circuit from the conventional one. Thus, it can be said that the same effect as in the first embodiment can be obtained.

以下、さらに詳しく本実施例2を説明する。本実施例2では、この低域通過フィルタ142の遮断周波数fL3の範囲を以下の通りに規定する。まず、非選択状態でのインバータ122に等価的に構成される低域通過フィルタ141の遮断周波数fL1と、本実施例2で新たに設ける低域通過フィルタ142の遮断周波数fL3との間にはfL1>fL3なる関係が、または少なくともfL1≒fL3なる関係が成り立っており、この2つの低域通過フィルタ141、142を等価的に表す合成フィルタ143の遮断周波数が遮断周波数fL3に大きく依存していることが必要である。これは、本実施例2で新たに設ける低域通過フィルタ142の遮断周波数fL3を任意に設計することにより、ゲート線に最も近い画素に出力信号146が入力されるまでに前記信号の通過帯域を制御する必要があるためである。また、複数の画素間にまたがってゲート線に寄生して等価的に構成される分布定数型の低域通過フィルタ145の遮断周波数fL2と、本実施例2で新たに設ける低域通過フィルタ142の遮断周波数fL3との間にはfL2>fL3なる関係が、または少なくともfL2≒fL3なる関係が成り立つことが必要である。この関係は前に述べた実施例1と同様に説明できる。つまり、分布定数型の低域通過フィルタ145によって遮断される周波数成分を極力少なくするために、その分布定数型の低域通過フィルタ145に前記信号を出力する前に、つまりゲート線駆動回路に最も近い画素に前記信号を出力する前に、分布定数型の低域通過フィルタの遮断周波数fL2よりも低い周波数成分を遮断する必要があるということである。 Hereinafter, the second embodiment will be described in more detail. In the second embodiment, the range of the cutoff frequency f L3 of the low-pass filter 142 is defined as follows. First, the cut-off frequency f L1 of the low-pass filter 141 equivalent to the inverter 122 in the unselected state and the cut-off frequency f L3 of the low-pass filter 142 newly provided in the second embodiment. Satisfies the relationship of f L1 > f L3 , or at least the relationship of f L1 Lf L3, and the cutoff frequency of the synthesis filter 143 equivalently representing the two low-pass filters 141 and 142 is the cutoff frequency f L3 Needs to be heavily dependent on This is because the cutoff frequency f L3 of the low-pass filter 142 newly provided in the second embodiment is arbitrarily designed so that the pass band of the signal is not changed until the output signal 146 is input to the pixel closest to the gate line. Is required to be controlled. Further, the cut-off frequency f L2 of the distributed constant type low-pass filter 145 that is equivalently parasitic on the gate line over a plurality of pixels, and the low-pass filter 142 newly provided in the second embodiment. It is necessary that the relationship of f L2 > f L3 , or at least the relationship of f L2 Lf L3, be established with the cut-off frequency f L3 . This relationship can be explained in the same manner as in the first embodiment. In other words, in order to minimize the frequency components cut off by the distributed constant type low-pass filter 145, before outputting the signal to the distributed constant type low-pass filter 145, that is, the gate line driving circuit is most required. This means that it is necessary to cut off a frequency component lower than the cut-off frequency f L2 of the distributed constant type low-pass filter before outputting the signal to a close pixel.

さてここで、従来のフリッカのある液晶表示装置、つまり、突き抜け電圧の差のある液晶表示装置においては、ゲート線駆動回路のゲート線を直接駆動するインバータに等価的に構成される低域通過フィルタの遮断周波数に対して、複数の画素間にまたがってゲート線に寄生して等価的に構成される分布定数型の低域通過フィルタの遮断周波数の方が低いために、ゲート線駆動回路より遠い画素ほど突き抜け電圧の絶対値は小さくなり、結果としてその突き抜け電圧の差がフリッカとして視認される、ということは前に述べた。これを本実施例2に適用すると、インバータ122に等価的に構成される低域通過フィルタ141の遮断周波数fL1と、複数の画素間にまたがってゲート線に寄生して等価的に構成される分布定数型の低域通過フィルタ145の遮断周波数fL2の間にはfL1>fL2なる関係が成り立っていることになる。さらに、そもそもこの突き抜け電圧が生じる液晶表示装置においては、各画素を等価的に表す高域通過フィルタの遮断周波数が、ゲート線に寄生する各低域通過フィルタの遮断周波数よりも低いこと、または少なくとも各低域通過フィルタの遮断周波数に近いことが必要である。 Here, in a conventional liquid crystal display device having flicker, that is, a liquid crystal display device having a penetration voltage difference, a low-pass filter equivalent to an inverter that directly drives a gate line of a gate line driving circuit. Is lower than the gate line driving circuit because the cut-off frequency of the distributed constant type low-pass filter that is equivalently parasitically formed on the gate line across a plurality of pixels is lower than the cut-off frequency of As described above, the absolute value of the penetration voltage becomes smaller for a pixel, and as a result, the difference in the penetration voltage is visually recognized as flicker. When this is applied to the second embodiment, the cutoff frequency f L1 of the low-pass filter 141 equivalently configured to the inverter 122 and the gate line extending between a plurality of pixels are equivalently configured to be parasitic. The relationship of f L1 > f L2 holds between the cut-off frequencies f L2 of the distributed constant type low-pass filter 145. Furthermore, in the liquid crystal display device in which this penetration voltage occurs in the first place, the cut-off frequency of the high-pass filter equivalently representing each pixel is lower than the cut-off frequency of each low-pass filter parasitic on the gate line, or at least. It must be close to the cutoff frequency of each low-pass filter.

以上の条件をまとめると、フリッカのない液晶表示装置を得るためには、前記の各フィルタの遮断周波数の間にfL1>fL2>fL3>fHなる関係が成り立つよう本実施例2で新たに設ける低域通過フィルタ142の遮断周波数fL3を設計するのが理想的であるが、少なくとも上記の複数の条件を全て満たすことが可能であるなら、液晶表示装置のフリッカレベルを確実に下げることができるためフリッカに関わる表示不良品の発生を少なくすることができる。 Summarizing the above conditions, in order to obtain a liquid crystal display device having no flicker, in the second embodiment, the relationship of f L1 > f L2 > f L3 > f H is established between the cut-off frequencies of the respective filters. Ideally, the cut-off frequency f L3 of the newly provided low-pass filter 142 is designed, but if at least all of the above conditions can be satisfied, the flicker level of the liquid crystal display device is surely reduced. Therefore, occurrence of defective display related to flicker can be reduced.

では具体的にこの低域通過フィルタをどのように構成するのかについて、以下に図11を用いて説明する。図11は、本実施例2を用いた液晶表示装置をいずれもある1つのゲート線について模式的に抜き出して示したものである。   Now, how the low-pass filter is specifically configured will be described below with reference to FIG. FIG. 11 schematically illustrates a liquid crystal display device using the second embodiment, which is schematically extracted for one gate line.

まず図11(a)は、ゲート線駆動回路161と画素群167との間に、抵抗と容量とから構成される低域通過フィルタ164を設けたものである。この場合、前記抵抗と前記容量を設計することで低域通過フィルタ164の遮断周波数を決定することができる。なおここでは、低域通過フィルタ164が分布定数型で構成されているが、集中定数型の低域通過フィルタでも構わない。   First, FIG. 11A shows a configuration in which a low-pass filter 164 including a resistor and a capacitor is provided between a gate line driving circuit 161 and a pixel group 167. In this case, the cutoff frequency of the low-pass filter 164 can be determined by designing the resistance and the capacitance. Here, the low-pass filter 164 is formed of a distributed constant type, but may be a lumped constant type low-pass filter.

次に図(b)は、ゲート線駆動回路162と画素群168との間に、ゲート電極が接地電位に電圧が印加されたP型薄膜トランジスタを用いた低域通過フィルタ165を設けたものである。等価的にみると、この低域通過フィルタ165が前記P型薄膜トランジスタの抵抗と前記P型薄膜トランジスタの寄生容量とから構成されることが分かる。この場合、前記P型薄膜トランジスタのチャネル幅、チャネル長、ゲート酸化膜厚などを変更する方法や、前記P型薄膜トランジスタを複数個並列接続するなどの方法より、前記抵抗と前記寄生容量とを任意に設計することが可能になり、ひいては低域通過フィルタ165の遮断周波数を決定することができる。ここではP型薄膜トランジスタを用いたものを示したが、これはN型薄膜トランジスタ等の同様の機能を実現できるトランジスタやダイオ−ドなどでも構わないし、さらに伝送ゲートなどのようにトランジスタなどを複数個組み合わせたものでも構わない。しかし、画素群のスイッチング素子にN型のトランジスタを用いた場合においてはP型のトランジスタを、画素群のスイッチング素子にP型のトランジスタを用いた場合においてはN型のトランジスタを前記低域通過フィルタとして用いることによってより効果が得られることを以下に説明する。ここでは図11(b)のように前記低域通過フィルタとしてP型のトランジスタを用いた場合を想定して説明する。前記P型薄膜トランジスタは、そのゲート電極が接地電位に電圧印加されているので常に導通状態にある。しかし同じ導通状態にあるとはいえ、ドレイン電極とソース電極の間の抵抗はそれを通過する信号の電圧によって変化し、前記信号の電圧が接地電位に近づくほど前記ドレイン電極と前記ソース電極の間の抵抗は増えることになる。つまり、非選択状態での前記P型薄膜トランジスタの抵抗は、選択状態での前記P型薄膜トランジスタの抵抗よりも高くなるわけで、そのため、非選択状態から選択状態へ移行する際の信号の遅延を、選択状態から非選択状態に移行する際の遅延よりも少なくすることができる。これにより、ゲート線の選択を開始する際におけるゲート線選択信号の遅延時間を増加させることなく、ゲート線の選択期間終了時における突き抜け電圧の差を少なくし、フリッカのない液晶表示装置を得ることができる。このことは、前記画素群にP型のトランジスタを用い、前記低域通過フィルタとしてN型のトランジスタを用いる場合においても同様のことが言える。   Next, FIG. 2B shows that a low-pass filter 165 using a P-type thin film transistor whose gate electrode is applied with a ground potential is provided between the gate line driving circuit 162 and the pixel group 168. . Equivalently, it can be seen that this low-pass filter 165 is composed of the resistance of the P-type thin film transistor and the parasitic capacitance of the P-type thin film transistor. In this case, the resistance and the parasitic capacitance can be arbitrarily determined by a method such as changing a channel width, a channel length, a gate oxide film thickness or the like of the P-type thin film transistor, or a method of connecting a plurality of the P-type thin film transistors in parallel. It is possible to design, and thus, the cutoff frequency of the low-pass filter 165 can be determined. Although a P-type thin film transistor is shown here, it may be a transistor such as an N-type thin film transistor or a diode capable of realizing the same function, or a combination of a plurality of transistors such as a transmission gate. May be used. However, when an N-type transistor is used as a switching element of a pixel group, a P-type transistor is used. When a P-type transistor is used as a switching element of a pixel group, an N-type transistor is used as the low-pass filter. It will be described below that more effects can be obtained by using. Here, the description will be made on the assumption that a P-type transistor is used as the low-pass filter as shown in FIG. The P-type thin film transistor is always in a conductive state because its gate electrode is applied with a voltage of the ground potential. However, even though they are in the same conduction state, the resistance between the drain electrode and the source electrode changes according to the voltage of the signal passing through it, and the closer the voltage of the signal becomes to the ground potential, the more the resistance between the drain electrode and the source electrode becomes. Resistance will increase. That is, the resistance of the P-type thin film transistor in the non-selected state is higher than the resistance of the P-type thin film transistor in the selected state. Therefore, a signal delay when shifting from the non-selected state to the selected state is reduced. The delay at the time of transition from the selected state to the non-selected state can be reduced. Accordingly, a difference in punch-through voltage at the end of the gate line selection period can be reduced without increasing the delay time of the gate line selection signal at the start of gate line selection, and a liquid crystal display device free from flicker can be obtained. Can be. The same can be said for a case where a P-type transistor is used for the pixel group and an N-type transistor is used as the low-pass filter.

さて、次に図11(c)はゲート線駆動回路163と画素群169との間に、オペアンプと抵抗、容量とからなる低域通過フィルタ166を設けたものである。この場合、主に前記抵抗と前記容量とを設計することによって前記低域通過フィルタ166の遮断周波数を決定できる。また、前記オペアンプ自体の入出力インピーダンス、周波数特性などの諸特性を設計する方法でも前記低域通過フィルタ166遮断周波数を決定することができる。ここでは、オペアンプを用いたアクティブフィルタを例として示したが、同様の機能を有する回路であればオペアンプである必要はない。   FIG. 11C shows that a low-pass filter 166 including an operational amplifier, a resistor, and a capacitor is provided between the gate line driving circuit 163 and the pixel group 169. In this case, the cutoff frequency of the low-pass filter 166 can be determined mainly by designing the resistance and the capacitance. The cutoff frequency of the low-pass filter 166 can also be determined by a method of designing various characteristics such as input / output impedance and frequency characteristics of the operational amplifier itself. Here, an active filter using an operational amplifier has been described as an example, but the circuit need not be an operational amplifier as long as the circuit has a similar function.

本実施例3では、ゲート線駆動回路と画素群との間に抵抗変調回路を設けることによりフリッカのない液晶表示装置を得る方法とその駆動方法について述べる。図12は本実施例3の一例を示す図で、ゲート線183に沿った等価回路として液晶表示装置を置き換えたものである。本実施例3では、ゲート線駆動回路181と画素群184との間にN型薄膜トランジスタからなる抵抗変調回路185を設けている。この抵抗変調回路185は、電圧源186から出力される抵抗変調信号によりその抵抗値を制御されており、この図では前記N型薄膜トランジスタのゲート電極に前記抵抗変調信号を入力することでその抵抗を変調している。
次に図12の液晶表示装置の駆動方法について図13のタイムチャートと対応させながら説明する。図12の各点P31、P32、P33、P34における電圧波形を表したのが図13である。ここで、点P31に現れる信号はゲート線駆動回路181内のゲート線を直接駆動する最終インバータを駆動するラッチ信号であり、点P32に現れる信号は前記最終インバータからの出力信号である。また、点P33に現れる信号は抵抗変調回路185を制御する前記抵抗変調信号であり、これは抵抗変調回路185に用いられているN型薄膜トランジスタの閾電圧よりも高い2つの電圧状態の間を推移している。さらに、最終的に画素群のゲート電極に印加される電圧を表すのが、点P34に現れる信号である。まず、画素群への書き込みを開始するために、ゲート線183に接続された画素群のスイッチング素子に用いられている薄膜トランジスタを導通状態にする電圧レベルの信号を、ゲート線駆動回路181から出力する。このとき点P31の電圧が接地電位にまで下がるのとほぼ同時に点P32の電圧は電源電圧にまで上がり、前記画素群を導通状態にすべくゲート線183(P34)を充電していく。この時点では、点P33に現れる抵抗変調信号が前記2つの電圧状態のうち電圧の低い方の電圧状態をとっているために、抵抗変調回路185は比較的抵抗の高い導通状態になっており、最終的に画素群のゲート電極に印加される電圧(P34)は遅延を伴っている。その後、信号線187に映像信号が入力されるまで、つまり映像信号入力期間226が始まるまでに、前記抵抗変調信号(P33)を前記2つの電圧状態のうち電圧の高い方の電圧状態をとるようにすることで抵抗変調回路185のN型薄膜トランジスタの抵抗を充分小さくし、ゲート線への印加電圧を電源電圧にまで飽和させ、画素群のスイッチング素子に用いられている薄膜トランジスタを完全な導通状態にする。さて次に、映像信号入力期間226において信号線187から入力される前記映像信号を各画素の液晶セルに書き込んだ後、再び前記抵抗変調信号(P33)を前記2つの電圧状態のうち電圧の低い方の電圧状態にして選択期間226が終了するのを待つ。そして選択期間226を終了すると同時に、ゲート線駆動回路181は、ゲート線183に接続された画素群184のスイッチング素子に用いられている薄膜トランジスタを絶縁状態にする電圧レベルの信号(P32)を出力する。しかし、このとき抵抗変調素子186は比較的抵抗の高い導通状態となっているため、ここで信号に遅延が生じ、最終的にゲート線に印加される電圧(P34)は緩やかに下がる。これを周波数的に見ると、突き抜け電圧の原因となる高周波成分を遮断することになり、これに加えて前述の実施例1、実施例2と同様の条件を本実施例の抵抗変調回路に適用することにより、フリッカのない液晶表示装置を得ることができる。
In a third embodiment, a method for obtaining a flicker-free liquid crystal display device by providing a resistance modulation circuit between a gate line driving circuit and a pixel group and a driving method thereof will be described. FIG. 12 shows an example of the third embodiment, in which a liquid crystal display device is replaced as an equivalent circuit along a gate line 183. In the third embodiment, a resistance modulation circuit 185 composed of an N-type thin film transistor is provided between the gate line driving circuit 181 and the pixel group 184. The resistance value of the resistance modulation circuit 185 is controlled by a resistance modulation signal output from a voltage source 186. In the figure, the resistance modulation signal is input to the gate electrode of the N-type thin film transistor to reduce the resistance. Modulated.
Next, a driving method of the liquid crystal display device of FIG. 12 will be described with reference to a time chart of FIG. It is 13 to showing the voltage waveforms at respective points P 31, P 32, P 33 , P 34 in FIG. 12. Here, the signal appearing at the point P 31 is a latch signal for driving the final inverter for driving the gate line of the gate line driving circuit 181 directly, the signal appearing at the point P 32 is the output signal from the last inverter. The signal appearing at the point P 33 is the resistance modulation signal for controlling the resistance modulation circuit 185, which changes between two voltage states higher than the threshold voltage of the N-type thin film transistor used in the resistance modulation circuit 185. It is changing. Furthermore, represent the final voltage applied to the gate electrode of the pixel groups is the signal appearing at the point P 34. First, in order to start writing to the pixel group, a signal of a voltage level for turning on a thin film transistor used as a switching element of the pixel group connected to the gate line 183 is output from the gate line driving circuit 181. . Substantially simultaneously the voltage at the point P 32 to a voltage that drops to the ground potential at this time point P 31 rises to the power supply voltage, will charge the gate line 183 (P 34) so as to the pixel group into a conductive state . At this point, since the resistance modulating signal appearing at the point P 33 is taking a voltage state of lower one of voltages of the two voltage states, the resistance modulation circuit 185 has become a relatively high resistance conductive state The voltage (P 34 ) finally applied to the gate electrode of the pixel group is accompanied by a delay. After that, until the video signal is input to the signal line 187, that is, before the video signal input period 226 starts, the resistance modulation signal (P 33 ) takes the higher voltage state of the two voltage states. By doing so, the resistance of the N-type thin film transistor of the resistance modulation circuit 185 is sufficiently reduced, the voltage applied to the gate line is saturated to the power supply voltage, and the thin film transistor used as the switching element of the pixel group is brought into a completely conductive state. To Next, after the video signal input from the signal line 187 is written to the liquid crystal cell of each pixel in the video signal input period 226, the resistance modulation signal (P 33 ) is again applied to the voltage of the two voltage states. Wait for the selection period 226 to end with the lower voltage state. At the same time when the selection period 226 ends, the gate line drive circuit 181 outputs a voltage level signal (P 32 ) for insulating a thin film transistor used as a switching element of the pixel group 184 connected to the gate line 183. I do. However, at this time, since the resistance modulation element 186 is in a conductive state with a relatively high resistance, a delay occurs in the signal here, and the voltage (P 34 ) finally applied to the gate line gradually decreases. In terms of frequency, a high-frequency component that causes a punch-through voltage is cut off, and in addition to this, the same conditions as those in the first and second embodiments are applied to the resistance modulation circuit of the present embodiment. By doing so, a liquid crystal display device without flicker can be obtained.

以上の実施例3の液晶表示装置においては、ゲート線の選択終了時にだけゲート線駆動回路の電源電圧を低くする従来の方法を用いたときの前記ゲート線駆動回路の電源に寄生する全容量を充放電するのに要する消費電流に比べ、ゲート線数と同数の薄膜トランジスタだけを充放電すれば良いので遥かに少ない消費電流で同等の効果が得られる。   In the liquid crystal display device according to the third embodiment, when the conventional method of lowering the power supply voltage of the gate line driving circuit only at the end of the selection of the gate line is used, the total capacitance parasitic to the power supply of the gate line driving circuit is reduced. Compared to the current consumption required for charging / discharging, only the same number of thin film transistors as the number of gate lines need be charged / discharged, so that the same effect can be obtained with much smaller current consumption.

実施例4では、ゲート線駆動回路のシフトレジスタの出力と、前記シフトレジスタの出力を一定時間遅延させる遅延回路の出力と、必要ならば次段のシフトレジスタの出力とを、各段毎に設けた論理演算回路に入力した後、前記論理演算回路がゲート線に3状態の電圧を排他的に印加することによって、フリッカのない液晶表示装置を実現する方法について詳しく説明する。   In the fourth embodiment, the output of the shift register of the gate line driving circuit, the output of the delay circuit for delaying the output of the shift register for a fixed time, and the output of the next-stage shift register if necessary are provided for each stage. A method for realizing a flicker-free liquid crystal display device by applying the three-state voltage exclusively to the gate line after the input to the logical operation circuit will be described in detail.

図14は本実施例4を包括的に説明するブロック図である。この図は、大きく分けてゲート線駆動回路241と画素群248と3つの電源線249、250、251とからなる。ゲート線駆動回路241は、シフトレジスタ242と遅延回路243と論理演算回路244と3つの電源線を排他的に選択する電源スイッチ245、246、247とからなる。このとき、電源線249は正電源252により画素群を導通状態にする電圧Vddに印加されており、電源線250は負電源253により画素群を絶縁状態にする電圧Vssに印加されており、さらに電源線251はVddより低くVssよりも高い電圧Vrrの電圧源254によりVrrに印加されている。また、電源スイッチ245は電源線249とゲート線との間の導通状態を制御するよう設け、電源スイッチ246は電源線250と前記ゲート線との間の導通状態を制御するように設け、さらに電源スイッチ247は電源線251と前記ゲート線との間の導通状態を制御するよう設ける。 FIG. 14 is a block diagram for comprehensively explaining the fourth embodiment. This diagram is roughly divided into a gate line drive circuit 241, a pixel group 248, and three power supply lines 249, 250, and 251. The gate line driving circuit 241 includes a shift register 242, a delay circuit 243, a logical operation circuit 244, and power switches 245, 246, and 247 for exclusively selecting three power lines. At this time, the power supply line 249 is applied by the positive power supply 252 to the voltage V dd for making the pixel group conductive, and the power supply line 250 is applied by the negative power supply 253 to the voltage V ss for making the pixel group insulative. , is applied to the V rr by the voltage source 254 of the high voltage V rr than further power supply line 251 is lower V ss than V dd. A power switch 245 is provided to control the conduction between the power supply line 249 and the gate line. A power switch 246 is provided to control the conduction between the power supply line 250 and the gate line. The switch 247 is provided to control a conduction state between the power supply line 251 and the gate line.

以下に、前記ゲート線駆動回路の動作の順を追って、このブロック図の流れを示す。まず、従来と同じくシフトレジスタ242からはゲート線を選択する選択信号が出力されたとする。このとき、論理演算回路244には前記選択信号と、遅延回路243を通して一定時間の遅延を生じた選択信号と、シフトレジスタ242の次段の出力とが入力される。このとき、まだ次段のゲート線は選択されていないので、シフトレジスタ242の次段の出力は非選択状態になっている。この状態において論理演算回路244は電源線249に接続されたスイッチ245だけを導通状態にする。こうして前記ゲート線は電圧Vddに印加され、前記ゲート線に接続された画素群は導通状態となる。この状態のまま画素群に接続された信号線に映像信号を送出することにより、前記ゲート線に接続された画素群の液晶セルに信号を書き込むことができる。次に画素への書き込みが終了した後、シフトレジスタ242から前記ゲート線を非選択状態にする非選択信号が出力される。このとき、論理演算回路244には前記非選択信号と、遅延回路243を通して一定時間の遅延を生じた選択信号と、シフトレジスタ242の次段の出力とが入力される。このときシフトレジスタ242の次段の出力には、次段のゲート線を選択状態にする選択信号が出力されている。この状態をさらに詳細に分けて考えると、最初に、遅延回路243にシフトレジスタ242からの非選択信号が入力されてはいるものの出力が遅延しているため、遅延回路243の出力は選択状態のままになっている状態になることが分かる。以下この状態になっている期間を、待ち期間と言うことにする。このとき、論理演算回路244には、シフトレジスタからは前記ゲート線を非選択状態にする非選択信号と、前記次段のゲート線を選択状態にする選択信号と、待ち期間中の遅延回路243からはまだ選択状態にある選択信号が入力されている。そして論理演算の結果、論理演算回路244は電源スイッチ247だけを導通状態にし、前記待ち期間の間前記ゲート線を電圧Vrrに印加し続ける。次にこの待ち期間を過ぎて遅延回路243の出力も非選択状態になると、論理演算回路244は電源スイッチ246だけを導通状態にし、前記ゲート線を電圧Vssに印加し続ける。以上を各ゲート線毎に繰り返すことにより、全てのゲート線を選択することができる。 The flow of this block diagram is shown below, following the order of operation of the gate line drive circuit. First, it is assumed that a selection signal for selecting a gate line is output from the shift register 242 as in the related art. At this time, the selection signal, the selection signal delayed for a predetermined time through the delay circuit 243, and the output of the next stage of the shift register 242 are input to the logical operation circuit 244. At this time, since the next-stage gate line has not been selected yet, the output of the next stage of the shift register 242 is in a non-selected state. In this state, the logical operation circuit 244 makes only the switch 245 connected to the power supply line 249 conductive. Thus, the gate line is applied with the voltage Vdd , and the pixel group connected to the gate line becomes conductive. By sending a video signal to the signal line connected to the pixel group in this state, a signal can be written to the liquid crystal cell of the pixel group connected to the gate line. Next, after the writing to the pixel is completed, a non-selection signal for setting the gate line to a non-selection state is output from the shift register 242. At this time, the non-selection signal, the selection signal delayed by a predetermined time through the delay circuit 243, and the output of the next stage of the shift register 242 are input to the logical operation circuit 244. At this time, a selection signal for setting the next-stage gate line to the selected state is output to the output of the next stage of the shift register 242. Considering this state in more detail, first, although the non-selection signal from the shift register 242 is input to the delay circuit 243, the output is delayed, so that the output of the delay circuit 243 is in the selected state. It turns out that it will be in the state of being left. Hereinafter, a period in which this state is established is referred to as a waiting period. At this time, a non-selection signal for setting the gate line to a non-selection state from the shift register, a selection signal for setting the next-stage gate line to the selection state, and a delay circuit 243 during a waiting period are supplied from the shift register. , A selection signal that is still in a selected state is input. As a result of the logical operation, the logical operation circuit 244 turns on only the power switch 247 and keeps applying the gate line to the voltage Vrr during the waiting period. Next, when the output of the delay circuit 243 becomes non-selected after the waiting period, the logic operation circuit 244 turns on only the power switch 246 and keeps applying the gate line to the voltage V ss . By repeating the above for each gate line, all the gate lines can be selected.

さて、ここで前記ゲート線に印加された電圧の時系列変化について整理してみよう。まず、前記ゲート線が選択状態にされ電圧Vddに印加される。次に、選択期間が終わると同時に前記待ち期間となって電圧Vrrに印加される。最後に待ち期間が終わると同時に前記ゲート線は非選択状態にされ電圧Vssに印加される。
こうしてみると、従来の駆動方法と違うのは選択期間が終了したときに即座に電圧Vssになるのではなく、電圧Vddより低く電圧Vssより高い電圧Vrrに一度落ちついた後でVssとなる、という点である。こうした駆動を行うことによってゲート線を選択状態から非選択状態にする際にゲート線駆動回路から前記ゲート線に印加される立ち下がり信号を緩やかにすることができる。前述の実施例と同様に信号の周波数成分に着目して言えば、立ち下がり信号の高域成分を減少させることになり、前述した突き抜け電圧の絶対値を減少させることができることになる。つまり、液晶表示装置のフリッカをなくすことができるということである。
この実施例4を実現する液晶表示装置とその動作について、以下に具体的に説明する。図15は、本実施例4の一例を示した等価回路図である。ゲート線駆動回路261は、シフトレジスタ268と、遅延回路263と、2入力EXORゲート264と、2入力NANDゲート265と、N型薄膜トランジスタ266と、P型薄膜トランジスタ267と、電源線269とから構成される。まず、遅延回路263をシフトレジスタ268の信号出力端子に接続し、この遅延回路263の入力端子と出力端子とをEXORゲート264の2つの入力端子にそれぞれ接続する。また一方で、遅延回路263の出力端子は、ゲート線270との間にN型薄膜トランジスタ266を介することで導通状態を制御すべく、N型薄膜トランジスタの片方のドレイン電極と接続される。また、EXORゲート264の出力端子と、次段のEXORゲート264’の出力端子とをNANDゲート265の2つの入力端子にそれぞれ接続する。さらに、このNANDゲート265の出力端子を先ほどのN型薄膜トランジスタ266のゲート電極と接続し、NANDゲート265の出力によってゲート線270と遅延回路263との間の導通状態を制御する。また、このNANDゲート265の出力端子は、電源線269とゲート線270との間の導通状態を制御するように設けたP型薄膜トランジスタ267のゲート電極とも接続されている。これをゲート線駆動回路の各段について繰り返すと図15のゲート線駆動回路261を得る。
Now, let us summarize the time-series change of the voltage applied to the gate line. First, the gate line is selected and applied to a voltage Vdd . Next, the waiting period is applied at the same time as the selection period ends, and the voltage is applied to the voltage Vrr . Finally the wait period ends at the same time the gate line is applied to the voltage V ss is deselected.
In this way, the difference from the conventional driving method is that the voltage does not immediately become the voltage V ss when the selection period ends, but after the voltage once falls to the voltage V rr lower than the voltage V dd and higher than the voltage V ss , ss . By performing such driving, the falling signal applied to the gate line from the gate line driving circuit when the gate line is changed from the selected state to the non-selected state can be moderated. Focusing on the frequency component of the signal as in the above-described embodiment, the high-frequency component of the falling signal is reduced, and the absolute value of the punch-through voltage can be reduced. That is, flicker of the liquid crystal display device can be eliminated.
A liquid crystal display device that realizes the fourth embodiment and its operation will be specifically described below. FIG. 15 is an equivalent circuit diagram showing one example of the fourth embodiment. The gate line driving circuit 261 includes a shift register 268, a delay circuit 263, a two-input EXOR gate 264, a two-input NAND gate 265, an N-type thin film transistor 266, a P-type thin film transistor 267, and a power supply line 269. You. First, the delay circuit 263 is connected to the signal output terminal of the shift register 268, and the input terminal and the output terminal of the delay circuit 263 are connected to the two input terminals of the EXOR gate 264, respectively. On the other hand, the output terminal of the delay circuit 263 is connected to one drain electrode of the N-type thin film transistor so as to control the conduction state via the N-type thin film transistor 266 between the delay circuit 263 and the gate line 270. Further, the output terminal of the EXOR gate 264 and the output terminal of the next EXOR gate 264 ′ are connected to two input terminals of the NAND gate 265, respectively. Further, the output terminal of the NAND gate 265 is connected to the gate electrode of the N-type thin film transistor 266, and the output of the NAND gate 265 controls the conduction between the gate line 270 and the delay circuit 263. The output terminal of the NAND gate 265 is also connected to a gate electrode of a P-type thin film transistor 267 provided to control a conduction state between the power supply line 269 and the gate line 270. By repeating this for each stage of the gate line driving circuit, a gate line driving circuit 261 shown in FIG. 15 is obtained.

では次に図15と、図16に示すタイムチャートと併せ用いて、このゲート線駆動回路の動作について簡単に説明する。図15の黒丸で示す点P41〜P48での電圧の時系列変化を示したのが図16のタイムチャートである。ここでは、P41、P42での電圧波形から分かるようにシフトレジスタが各段に出力する選択信号は各段毎に時系列的に分離されているものとする。 Next, the operation of this gate line driving circuit will be briefly described with reference to FIGS. 15 and 16 together with the time charts shown in FIGS. FIG. 16 is a time chart showing a time-series change in voltage at points P 41 to P 48 indicated by black circles in FIG. Here, as can be seen from the voltage waveforms at P 41 and P 42 , it is assumed that the selection signals output to each stage by the shift register are separated in time series for each stage.

順を追って説明すると、まず初期状態においてはシフトレジスタ268からの出力はローレベルであり、遅延回路263の前後(P41、P43)で等電位を保っているのでEXORゲート264からの出力(P45)もローレベルとなっている。同様に、次段のEXORゲート264’からの出力(P46)もローレベルとなっている。このため、この2つのEXORゲートからの出力を入力するNANDゲート265の出力はハイレベルとなっており、P型薄膜トランジスタ267を絶縁状態にし、N型薄膜トランジスタ266を導通状態にして、遅延回路263からのローレベルの出力(P43)をゲート線270(P48)に印加していることになる。 First, in the initial state, the output from the shift register 268 is at the low level, and since the same potential is maintained before and after the delay circuit 263 (P 41 , P 43 ), the output from the EXOR gate 264 ( P 45) also has a low level. Similarly, the output (P 46 ) from the next-stage EXOR gate 264 ′ is also at the low level. Therefore, the output of the NAND gate 265 that receives the outputs from the two EXOR gates is at a high level, the P-type thin film transistor 267 is insulated, the N-type thin film transistor 266 is in a conductive state, and the delay circuit 263 It becomes the output of the low level (P 43) that is applied to the gate line 270 (P 48).

この均衡を破って、シフトレジスタ268から選択パルスが点P41に出力されたとしよう。まず、遅延回路263の入力端子(P41)はハイレベルになるが、遅延回路に263による信号の遅延のため、その出力端子(P43)はまだローレベルのままである。よって、その遅延回路263の入出力信号を入力信号とするEXORゲート264はハイレベルの信号(P45)を出力する。このとき、次段のEXORゲートはその2つの入力端子に何ら変化がないのでローレベルの信号(P46)を出力し続けている。それ故、その2つのEXORゲートの出力信号を入力信号とするNANDゲート265はハイレベルの信号を出力し続けており、N型薄膜トランジスタ266を導通状態にし続け、遅延回路263からの出力(P43)をゲート線(P48)に通し続ける。この後、遅延回路263の遅延時間によって決定される待ち期間が終了した後も、遅延回路263の入出力端子の電位が等電位となりEXORゲートの出力(P45)が再びローレベルの信号を出力するのを除けば、遅延回路263からの出力信号(P43)をゲート線270に印加し続けることに何ら変わりはなく、ゲート線270はハイレベルの電圧に印加され、画素群262のうち、それに接続された画素群を導通状態にする。 Beating this equilibrium, suppose selection pulse from the shift register 268 is output to the point P 41. First, the input terminal (P 41 ) of the delay circuit 263 is at a high level, but the output terminal (P 43 ) of the delay circuit 263 is still at a low level due to signal delay by the delay circuit 263. Therefore, the EXOR gate 264 using the input / output signal of the delay circuit 263 as an input signal outputs a high-level signal (P 45 ). At this time, the EXOR gate at the next stage keeps outputting a low-level signal (P 46 ) because there is no change in its two input terminals. Therefore, the NAND gate 265 receiving the output signals of the two EXOR gates as an input signal continues to output a high level signal, keeps the N-type thin film transistor 266 conductive, and outputs the output (P 43) from the delay circuit 263. ) Continues to pass through the gate line (P 48 ). Thereafter, even after the end of the waiting period determined by the delay time of the delay circuit 263, the potential of the input / output terminal of the delay circuit 263 becomes equipotential, and the output (P 45 ) of the EXOR gate outputs a low-level signal again. Otherwise, the output signal (P 43 ) from the delay circuit 263 continues to be applied to the gate line 270, and the gate line 270 is applied to a high-level voltage. The group of pixels connected to it is made conductive.

この後、前記画素群に映像信号の書き込みを行った後、シフトレジスタ268からゲート線271の選択期間を終了するローレベルの信号(P41)が出力される。このとき同時に、シフトレジスタ268の次段の出力(P42)は次段のゲート線を選択するためハイレベルとなる。この瞬間、遅延回路263の待ち期間に入るため、EXORゲート264と次段のEXORゲート264’は両方ともハイレベルを出力する(P45、P46)。これを受けて、入力信号が両方ともハイレベルとなったNANDゲート265はローレベルの信号を出力(P47)し、いままでゲート線270と遅延回路263との間を導通状態に保っていたN型薄膜トランジスタ266を絶縁状態にする。さらにそれとは逆に、いままで絶縁状態であったP型薄膜トランジスタ267を導通状態にし、遅延回路263の待ち期間の間、電源線269に印加された電位をゲート線270に印加することになる(P48)。この待ち期間が終了して遅延回路263の入出力信号が等電位になるのとほぼ同時に、前記2つのEXORゲート264、264’の出力(P45、P46)は再び両方ともローレベルとなり、それらを入力信号とするNANDゲート265の出力(P47)は再びハイレベルに戻る。ということは、これは再び初期状態に戻ったのと同じことで、ゲート線270には遅延回路263からのローレベルの信号が印加されることになる。即ち、遅延回路263の待ち期間の終了と同時に再び初期状態に戻ることになる。一方、次段のゲート線はというと、遅延回路の待ち期間の終了と同時にハイレベルの信号が印加されており、ゲート線の選択が繰り返されていることがわかる。これをさらにゲート線駆動回路の前段で繰り返すことによって、本実施例4のゲート線駆動回路を動作させることができる。 Then, after writing the video signal to the pixel group, a low-level signal (P 41 ) that ends the selection period of the gate line 271 is output from the shift register 268. At the same time, the output (P 42 ) of the next stage of the shift register 268 goes high in order to select the gate line of the next stage. This moment, to enter the waiting period of the delay circuit 263, EXOR gates 264 and the next stage of the EXOR gate 264 'both outputs a high level (P 45, P 46). In response to this, the NAND gate 265 in which both the input signals are at the high level outputs the signal at the low level (P 47 ), and the gate line 270 and the delay circuit 263 have been kept conductive until now. The N-type thin film transistor 266 is set in an insulating state. Conversely, the P-type thin film transistor 267, which has been in the insulating state, is turned on, and the potential applied to the power supply line 269 is applied to the gate line 270 during the waiting period of the delay circuit 263 ( P 48 ). At about the same time that the waiting period ends and the input / output signals of the delay circuit 263 become equipotential, the outputs (P 45 and P 46 ) of the two EXOR gates 264 and 264 ′ both become low level again, The output (P 47 ) of the NAND gate 265 using them as input signals returns to the high level again. That is, this is the same as returning to the initial state again, and a low-level signal from the delay circuit 263 is applied to the gate line 270. That is, the state returns to the initial state at the same time as the end of the waiting period of the delay circuit 263. On the other hand, as for the gate line at the next stage, a high-level signal is applied at the same time as the end of the waiting period of the delay circuit, and it can be seen that the selection of the gate line is repeated. By repeating this further before the gate line driving circuit, the gate line driving circuit of the fourth embodiment can be operated.

さてここで、図15の等価回路図と図14のブロック図との対応関係について考えてみよう。図14のブロック図には3本の電源線252、253、254があるが、図15の等価回路図には1本の電源線269しか見あたらないことにまず気が付くであろう。ここではまず電源線251が電源線269に相当していることは明白だが他の2本の電源線はなくなったわけではない。図15では省略したシフトレジスタ268やNANDゲート、EXORゲート等々を駆動する正負2つの電圧源が存在していることは、先ほどから述べているハイレベル、ローレベルに相当する電圧の存在からおのずと明かであろう。つまり、前記ハイレベルに相当する電圧を出力する正の電圧源と電源線が、図14でいう電圧源252と電源線249であり、これに対して前記ローレベルに相当するの電圧を出力する負の電圧源が、図14でいう電圧源253と電源線250に対応しているのである。   Now, let us consider the correspondence between the equivalent circuit diagram of FIG. 15 and the block diagram of FIG. Although there are three power lines 252, 253, 254 in the block diagram of FIG. 14, you will first notice that only one power line 269 is found in the equivalent circuit diagram of FIG. Here, it is obvious that the power supply line 251 corresponds to the power supply line 269, but the other two power supply lines are not eliminated. The presence of two positive and negative voltage sources for driving the shift register 268, NAND gate, EXOR gate, etc., which is omitted in FIG. 15, is obvious from the existence of the voltages corresponding to the high level and the low level described above. Will. In other words, the positive voltage source and the power supply line that output the voltage corresponding to the high level are the voltage source 252 and the power supply line 249 in FIG. 14, and output the voltage corresponding to the low level. The negative voltage source corresponds to the voltage source 253 and the power supply line 250 in FIG.

以上、実施例4では、ゲート線駆動回路241の内部に本実施例4の回路が組み込まれているものとしたが、同様の構成を有する回路であれば例えば画素群243の直前などに設けても構わない。また、遅延回路についてだが、例えばインバータを複数段接続して入力と出力に遅延を生じさせるような遅延回路でも構わないし、容量に蓄えられた電荷の放出時間を利用するような遅延回路など、一定の遅延時間を確保できるものであるならばどのような遅延回路でも構わない。さらには、新たに外部から遅延回路にその遅延時間を制御する信号を送出する配線を設けても構わない。   As described above, in the fourth embodiment, the circuit of the fourth embodiment is incorporated in the gate line driving circuit 241. However, a circuit having a similar configuration is provided, for example, immediately before the pixel group 243. No problem. As for the delay circuit, for example, a delay circuit that causes a delay between input and output by connecting a plurality of inverters may be used, or a constant circuit such as a delay circuit that uses the release time of the charge stored in the capacitor. Any delay circuit may be used as long as the delay time can be secured. Further, a wiring for transmitting a signal for controlling the delay time from the outside to the delay circuit may be newly provided.

従来の液晶表示装置の構成を説明する図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a configuration of a conventional liquid crystal display device. 従来の液晶表示装置を説明する等価回路図である。FIG. 11 is an equivalent circuit diagram illustrating a conventional liquid crystal display device. 従来の液晶表示装置の駆動方法の一例を説明する図。FIG. 9 illustrates an example of a conventional method for driving a liquid crystal display device. 従来の液晶表示装置を、一本のゲート線について等価的に抜き出して説明する図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a conventional liquid crystal display device, which is equivalently extracted for one gate line. 従来の液晶表示装置の液晶に印加される電圧の過渡応答を説明する図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a transient response of a voltage applied to liquid crystal of a conventional liquid crystal display device. 本発明の実施例1の一例を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a first embodiment of the present invention. 図6の本発明の実施例1をより単純化した等価回路にして説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a first embodiment of the present invention in FIG. 6 as a simplified equivalent circuit. 本発明の実施例1の成立条件を説明する図である。図8(a)は従来の各周波数フィルタの周波数特性の関係を表す図である。図8(b)は実施例1での各周波数フィルタの周波数特性の関係を表す図である。図8(c)は図8(a)の条件が成り立つときの各周波数フィルタ通過後の点P1,点P2での周波数特性の関係を表す図である。図8(d)は図8(b)の条件が成り立つときの各周波数フィルタ通過後の点P1,点P2での周波数特性の関係を表す図である。図8(e)は図8(a)の条件が成り立つときの各周波数フィルタ通過後の点P1,点P2での電圧波形を表す図である。図8(f)は図8(b)の条件が成り立つときの各周波数フィルタ通過後の点P1,点P2での電圧波形を表す図である。FIG. 4 is a diagram for describing a condition to be satisfied according to the first embodiment of the present invention. FIG. 8A is a diagram showing the relationship between the frequency characteristics of the conventional frequency filters. FIG. 8B is a diagram illustrating a relationship between frequency characteristics of each frequency filter in the first embodiment. FIG. 8C is a diagram showing a relationship between frequency characteristics at points P 1 and P 2 after passing through each frequency filter when the condition of FIG. 8A is satisfied. FIG. 8D is a diagram illustrating a relationship between frequency characteristics at points P 1 and P 2 after passing through each frequency filter when the condition of FIG. 8B is satisfied. FIG. 8E is a diagram illustrating voltage waveforms at points P 1 and P 2 after passing through each frequency filter when the condition of FIG. 8A is satisfied. FIG. 8F is a diagram illustrating voltage waveforms at points P 1 and P 2 after passing through each frequency filter when the condition of FIG. 8B is satisfied. 本発明の実施例2の一例を説明する図である。FIG. 8 is a diagram illustrating an example of a second embodiment of the present invention. 図9の本発明の実施例2をより単純化した等価回路にして説明する図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a second embodiment of the present invention in FIG. 9 as a simplified equivalent circuit. 本発明の実施例2の具体例を説明する図である。図11(a)は抵抗と容量とからなる低域通過フィルタを用いた具体例を説明する図である。図11(b)は薄膜トランジスタからなる低域通過フィルタを用いた具体例を説明する図である。図11(c)はオペアンプと容量、抵抗とからなる低域通過フィルタを用いた具体例を説明する図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a specific example of Embodiment 2 of the present invention. FIG. 11A is a diagram illustrating a specific example using a low-pass filter including a resistor and a capacitor. FIG. 11B is a diagram illustrating a specific example using a low-pass filter composed of a thin film transistor. FIG. 11C illustrates a specific example using a low-pass filter including an operational amplifier, a capacitor, and a resistor. 本発明の実施例3の一例を説明する図である。FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a third embodiment of the present invention. 図12の実施例3の駆動方法の一例を説明する図である。FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a driving method according to a third embodiment in FIG. 12. 本発明の実施例4の一例を説明する図である。FIG. 14 is a diagram illustrating an example of a fourth embodiment of the present invention. 本発明の実施例4の一例を説明する図である。FIG. 14 is a diagram illustrating an example of a fourth embodiment of the present invention. 本発明の実施例4の駆動方法の一例を説明する図である。FIG. 14 is a diagram illustrating an example of a driving method according to a fourth embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of reference numerals

201 ・・・ ソース線駆動回路
202 ・・・ ゲート線駆動回路
203 ・・・ 画素マトリクス
204 ・・・ 透明な絶縁基板
205 ・・・ 薄膜トランジスタ
206 ・・・ 液晶セル
1,X2,X3 ・・・ ソース線
1,Y2,Y3 ・・・ ゲート線
301 ・・・ ソース線駆動回路
302 ・・・ ゲート線駆動回路
303 ・・・ 画素マトリクス
304 ・・・ X側シフトレジスタ
305 ・・・ X側バッファ
306 ・・・ ビデオ信号線
307,307’ ・・・ アナログスイッチ
308,308’ ・・・ ソース線
309 ・・・ Y側シフトレジスタ
310 ・・・ Y側バッファ
311,311’ ・・・ ゲート線
312,312’ ・・・ 薄膜トランジスタ
313,313’ ・・・ 液晶セル
331 ・・・ クロックCLXで規定されるクロックドインバータ
332 ・・・ クロックCLX*で規定されるクロックドインバータ
333 ・・・ インバータ
334 ・・・ X側シフトレジスタの基本セル
335 ・・・ クロックCLYで規定されるクロックドインバータ
336 ・・・ クロックCLY*で規定されるクロックドインバータ
337 ・・・ インバータ
338 ・・・ NOR論理ゲート
339 ・・・ Y側シフトレジスタの基本セル
341 ・・・ X側シフトレジスタのスタートパルス入力端子
342 ・・・ Y側シフトレジスタのスタートパルス入力端子
344 ・・・ ビデオ信号入力端子
CLX,CLX* ・・・ クロックCLXおよびクロックCLX*
CLY,CLY* ・・・ クロックCLYおよびクロックCLY*
1,P2 ・・・ 図2の等価回路の点P1および点P21,Q2 ・・・ 図2の等価回路の点Q1および点Q21,R2 ・・・ 図2の等価回路の点R
1および点R21 ・・・ 図2の等価回路の点V1
1,P2 ・・・ 図2の等価回路の点P1および点P21,Q2 ・・・ 図2の等価回路の点Q1および点Q21,R2 ・・・ 図2の等価回路の点R 401 ・・・ 図2の点P1での電圧波形
402 ・・・ 図2の点P2での電圧波形
403 ・・・ 図2の点Q1での電圧波形
404 ・・・ 図2の点Q2での電圧波形
405 ・・・ 図2の点V1での電圧波形
406 ・・・ 図2の点R1での電圧波形
407 ・・・ 図2の点R2での電圧波形
408 ・・・ ビデオ中心
411 ・・・ 図2のクロックCLYの電圧波形
412 ・・・ 図2のクロックCLXの電圧波形
501,501’ ・・・ 画素トランジスタ
502 ・・・ ゲート選択パルス
503 ・・・ ゲート線
504,504’ ・・・ 液晶セル
505,505’ ・・・ ゲート線503と液晶セル504,504’との間の結合容量
508 ・・・ 第1の低域通過フィルタ
509 ・・・ 第2の低域通過フィルタ
510 ・・・ 第1の遅延パルス
511 ・・・ 第2の遅延パルス
1,C2,G1,G2 ・・・ 図4の等価回路図の点C1,C2,G1,G2 601 ・・・ 時間軸
602 ・・・ ゲート選択パルスの電圧
603 ・・・ 液晶印加電圧
611 ・・・ 理想的に遅延のないゲート選択パルス
612 ・・・ 図4の点G1におけるゲート選択パルス
613 ・・・ 図4の点G2におけるゲート選択パルス
621 ・・・ 理想的に遅延のないゲート選択パルスが入力されたときの液晶印加電圧の波形
622 ・・・ 図4の点C1における液晶印加電圧波形
623 ・・・ 図4の点C2における液晶印加電圧波形
701 ・・・ ゲート線駆動回路
702 ・・・ ゲート線駆動回路701の最終インバータ703を駆動するラッチ信号
703 ・・・ ゲート線駆動回路701のゲート線704を直接駆動する最終インバータ
704 ・・・ ゲート線
705 ・・・ ゲート線駆動回路701に最も近い画素
705’ ・・・ ゲート線駆動回路701から最も遠い画素
706,706’ ・・・ 画素トランジスタ
707 ・・・ 画素705と画素705’の間のゲート線に分布定数状に寄生する容量と抵抗
dd ・・・ 正電源電圧
N,RP ・・・ 最終インバータ703を構成するN型,P型薄膜トランジスタの抵抗
P,IN ・・・ 最終インバータ703を構成するN型,P型薄膜トランジスタに流れる電流
GND ・・・ 接地電源
801,802 ・・・ 低域通過フィルタ
803,803’ ・・・ 高域通過フィルタ
804 ・・・ ゲート線駆動回路の最終インバータの出力信号
901 ・・・ 周波数軸
902 ・・・ 各周波数フィルタのゲインを表す軸
903 ・・・ 点P1,点P2での信号のゲインを表す軸 904 ・・・ 時間軸
905 ・・・ 点P1,点P2での電圧波形
906 ・・・ 図7の低域通過フィルタ801の周波数特性
907 ・・・ 図7の低域通過フィルタ802の周波数特性
908 ・・・ 図7の高域通過フィルタ803,803’の周波数特性
909 ・・・ 点P1での周波数特性
910 ・・・ 点P2での周波数特性
911 ・・・ 点P1での電圧波形
912 ・・・ 点P2での電圧波形
121 ・・・ ゲート線駆動回路
122 ・・・ ゲート線駆動回路122内のゲート線125を直接駆動する最終インバータ
123 ・・・ 新たに設ける低域通過フィルタ
124,124’ ・・・ 第1の画素,第2の画素
125 ・・・ ゲート線
141,142 ・・・ 低域通過フィルタ
143 ・・・ 低域通過フィルタ141と低域通過フィルタ142とを合成し表した合成フィルタ
144,144’ ・・・ 高域通過フィルタ
145 ・・・ 低域通過フィルタ
146 ・・・ 最終インバータの出力信号
161,162,163 ・・・ ゲート線駆動回路
164 ・・・ 容量と抵抗とから構成される低域通過フィルタ
165 ・・・ P型薄膜トランジスタから構成される低域通過フィルタ
166 ・・・ オペアンプと容量、抵抗とから構成される低域通過フィルタ 167,168,169 ・・・ 画素マトリクス
181 ・・・ ゲート線駆動回路
182 ・・・ 最終インバータの出力信号
183 ・・・ ゲート線
184 ・・・ 画素マトリクス
185 ・・・ N型薄膜トランジスタを用いた抵抗変調回路
186 ・・・ 抵抗変調信号源
187 ・・・ 信号線
31,P32,P33,P34 ・・・ 点P31,P32,P33,P34 221 ・・・ 図12の点P31での電圧波形
222 ・・・ 図12の点P32での電圧波形
223 ・・・ 図12の点P33での電圧波形
224 ・・・ 図12の点P34での電圧波形
225 ・・・ ゲート線選択期間
226 ・・・ 映像信号入力期間
241 ・・・ ゲート線駆動回路
242 ・・・ シフトレジスタ
243 ・・・ 遅延回路
244 ・・・ 論理演算回路
245 ・・・ 電源線249とゲート線との間の導通状態を制御するスイッチ
246 ・・・ 電源線250とゲート線との間の導通状態を制御するスイッチ
247 ・・・ 電源線251とゲート線との間の導通状態を制御するスイッチ
248 ・・・ 画素マトリクス
249 ・・・ 電圧Vddの電源線
250 ・・・ 電圧Vssの電源線
251 ・・・ 電圧Vrrの電源線
252 ・・・ 電圧Vddの電圧源
253 ・・・ 電圧Vssの電圧源
254 ・・・ 電圧Vrrの電圧源
261 ・・・ ゲート線駆動回路
262 ・・・ 画素マトリクス
263 ・・・ 遅延回路
264,264’ ・・・ EXORゲート
265 ・・・ NANDゲート
266 ・・・ N型薄膜トランジスタ
267 ・・・ P型薄膜トランジスタ
268 ・・・ シフトレジスタ
269 ・・・ 電源線
270 ・・・ ゲート線
41,P42,P43,P44,P45,P46,P47,P48 ・・・ 等価回路の各点、点P41,点P42,点P43,点P44,点P45,点P46,点P47,点P48 281 ・・・ 図15の点P41での電圧波形
282 ・・・ 図15の点P42での電圧波形
283 ・・・ 図15の点P43での電圧波形
284 ・・・ 図15の点P44での電圧波形
285 ・・・ 図15の点P45での電圧波形
286 ・・・ 図15の点P46での電圧波形
287 ・・・ 図15の点P47での電圧波形
201 ... source line driver circuit 202 ... gate line driver circuit 203 ... pixel matrix 204 ... transparent insulating substrate 205 ... TFT 206 ... liquid crystal cell X 1, X 2, X 3 · · source lines Y 1, Y 2, Y 3 ··· gate lines 301 ... source line driver circuit 302 ... gate line driver circuit 303 ... pixel matrix 304 ... X-side shift register 305 .. · X side buffer 306 ··· video signal lines 307 and 307 '· · · analog switches 308 and 308' ··· source line 309 ··· Y side shift register 310 ··· Y side buffer 311 and 311 '··· -Gate lines 312, 312 '... Thin-film transistors 313, 313' ... Liquid crystal cell 331 ... Defined by clock CLX Clocked inverter 332: Clocked inverter specified by clock CLX * 333: Inverter 334: Basic cell of X-side shift register 335: Clocked inverter 336 specified by clock CLY Clocked inverter 337 ・ ・ ・ Inverter 338 ・ ・ ・ NOR logic gate 339 ・ ・ ・ Basic cell of Y-side shift register 341 ・ ・ ・ Start pulse input terminal of X-side shift register 342 ・ ・ ・Start pulse input terminal 344 for Y-side shift register Video signal input terminal CLX, CLX * Clock CLX and clock CLX *
CLY, CLY * ... clock CLY and clock CLY *
P 1 , P 2 ... Point P 1 and points P 2 Q 1 , Q 2 ... In the equivalent circuit of FIG. 2 Points Q 1 and Q 2 R 1 , R 2. Point R in the equivalent circuit of FIG.
1 and point R 2 V 1 ... Point V 1 in the equivalent circuit of FIG.
P 1 , P 2 ... Point P 1 and points P 2 Q 1 , Q 2 ... In the equivalent circuit of FIG. 2 Points Q 1 and Q 2 R 1 , R 2. Point R 401 in the equivalent circuit of FIG. 2... Voltage waveform at point P1 in FIG. 2 402... Voltage waveform at point P2 in FIG. 2 403... Voltage waveform at point Q1 in FIG. The voltage waveform 405 at the point Q2 in FIG. 2 405 The voltage waveform 406 at the point V1 in FIG. 2 407 The voltage waveform 407 at the point R1 in FIG. 2 408 ··· Video center 411 ··· Voltage waveform of clock CLY in FIG. 2 412 ··· Voltage waveform of clock CLX in FIG. 2 501 and 501 ′ ··· Pixel transistor 502 ··· Gate selection pulse 503 ··· Gate Lines 504, 504 ': Liquid crystal cell 505, 505': Gate line 5 ... First low-pass filter 509... Second low-pass filter 510... First delay pulse 511. 2 delayed pulses C 1 , C 2 , G 1 , G 2 ... Points C 1 , C 2 , G 1 , G 2 601... Time axis 602... Gate selection pulse in the equivalent circuit diagram of FIG. .. 603... Liquid crystal application voltage 611... Ideally there is no delay in gate selection pulse 612 ・ ・ ・ gate selection pulse at point G 1 in FIG. 4 613 ・ ・ ・ gate selection pulse at point G 2 in FIG. 621... Liquid crystal applied voltage waveform when a gate selection pulse without ideal delay is input 622... Liquid crystal applied voltage waveform at point C 1 in FIG. 4 623 ・ ・ ・ at point C 2 in FIG. Liquid crystal applied voltage waveform 701 ··· Gate line driving circuit 702 ··· Latch signal for driving final inverter 703 of gate line driving circuit 701 ··· Final inverter for directly driving gate line 704 of gate line driving circuit 701 ··· Gate line 705 ... Pixels 705 ′ closest to the gate line driving circuit 701. Pixels 706, 706 ′ farthest from the gate line driving circuit 701. Pixel transistors 707... Gate lines between the pixels 705 and 705 ′. capacitance and resistance V dd · · · positive supply voltage parasitic distributed constant shape in R N, R P · · · N-type constituting the final inverter 703, the resistance I P of the P-type thin film transistor, I N · · · last inverter Current flowing in N-type and P-type thin film transistors constituting 703 GND: ground power supply 801, 802: low-pass filter Motor 803,803 '... high-pass filter 804 output signal of the last inverter ... gate line driving circuit 901 ... frequency axis 902 ... Axis 903 ... point P which represents the gain of each frequency filter 1, the frequency characteristic 907 of the low-pass filter 801 of the voltage waveform 906 ... 7 in the axial 904 ... time representing the gain of the signal at the point P 2 axes 905 ... point P 1, the point P 2・ ・ ・ ・ ・ ・ Frequency characteristics of the low-pass filter 802 in FIG. 7 908 ・ ・ ・ ・ ・ ・ frequency characteristics of the high-pass filters 803 and 803 ′ in FIG. 909 ・ ・ ・ frequency characteristics at point P 1 910 ・ ・ ・ point P 2 voltage waveform 912 voltage waveform 121 ... gate line driving circuit at the ... point P 2 122, ... of the gate line 125 directly of the gate line driving circuit 122 in the frequency characteristic 911 ... point P 1 in Last inverter to be driven 123... Newly provided low-pass filters 124 and 124 ′. First pixel, second pixel 125... Gate lines 141 and 142... Low-pass filter 143. A synthesis filter 144, 144 ′, which is a combination of the low-pass filter 141 and the low-pass filter 142, and a high-pass filter 145, a low-pass filter 146, an output signal 161, of the final inverter; 162, 163 gate line drive circuit 164 low-pass filter composed of capacitance and resistance 165 low-pass filter composed of P-type thin film transistor 166 operational amplifier, capacitance and resistance 167, 168, 169 ... Pixel matrix 181 ... Gate line drive Circuit 182 ... final inverter of the output signal 183 ... gate lines 184 ... pixel matrix 185, ... N-type thin film transistor using resistance modulation circuit 186 ... resistor modulation source 187 ... signal line P 31, at P 32, P 33, P 34 ··· point P 31, P 32, P 33 , P 34 221 point P 32 of the voltage waveform 222 ... 12 at a point P 31 of ... 12 voltage waveform 225 ... gate line selection period at the point P 34 of the voltage waveform 224 ... 12 at a point P 33 of the voltage waveform 223 ... 12 226 ... video signal input period 241 .. A gate line driving circuit 242 shift register 243 delay circuit 244 logical operation circuit 245 switch 246 for controlling the conduction between the power supply line 249 and the gate line 246 power supply 250 and the power supply line of the switch 248 ... pixel matrix 249 ... voltage V dd of controlling electrical continuity between the switch 247 ... power supply line 251 and the gate line for controlling the conduction state between the gate line 250 ... power supply line of voltage V ss 251 ... power supply line of voltage V rr 252 ... voltage source of voltage V dd 253 ... voltage source of voltage V ss 254 ... voltage source of voltage V rr 261, a gate line drive circuit 262, a pixel matrix 263, a delay circuit 264, 264 ', an EXOR gate 265, a NAND gate 266, an N-type thin film transistor 267, a P-type thin film transistor 268 ... shift registers 269 ... power supply line 270 ... gate lines P 41, P 42, P 43 , P 44, P 45, P 46, P 47, P 48 · · Equivalent points of the circuit, the point P 41, the point P 42, the point P 43, the point P 44, the point P 45, the point P 46, the point P 47, at a point P 41 of the point P 48 281 · · · 15 Voltage waveform 282… Voltage waveform at point P 42 in FIG. 15 283… Voltage waveform at point P 43 in FIG. 15 284… Voltage waveform at point P 44 in FIG. The voltage waveform at the point P 45 286 ・ ・ ・ The voltage waveform at the point P 46 in FIG. 15 287 ・ ・ ・ The voltage waveform at the point P 47 in FIG.

Claims (2)

複数のゲート線と複数のソース線、および前記各ゲート線と前記各ソース線との交差に対応して形成された複数の画素を有するアクティブマトリクス型の液晶表示装置であって、
前記各ゲート線を駆動するゲート線駆動回路はインバータを含み、
前記ゲート線を選択状態とするときの前記インバータの第1の電圧源と前記ゲート線との間に流れる電流に対して、前記ゲート線を非選択状態とするときの前記インバータの第2の電圧源と前記ゲート線との間に流れる電流を少なくするように構成されるとともに、
前記ゲート線を非選択状態とするときの前記第2の電圧源と前記ゲート線との間の抵抗Rと、前記インバータに寄生する全容量Cと、前記ゲート線駆動回路から最も近い画素と最も遠い画素との間のゲート線に分布定数状に存在する寄生容量および寄生抵抗を第2の低域通過フィルタとして等価的に表わした時の遮断周波数fL2との間に、
R>1/(2π×C×fL2)なる関係、またはRと1/(2π×C×fL2)とが略同一となる関係が成り立つようにすることを特徴とするアクティブマトリクス型の液晶表示装置。
An active matrix liquid crystal display device having a plurality of gate lines and a plurality of source lines, and a plurality of pixels formed corresponding to intersections of the gate lines and the source lines,
A gate line drive circuit that drives each of the gate lines includes an inverter,
A second voltage of the inverter when the gate line is in a non-selection state, with respect to a current flowing between the first voltage source of the inverter when the gate line is in the selected state and the gate line. A current flowing between the source and the gate line, and
A resistance R between the second voltage source and the gate line when the gate line is in a non-selected state, a total capacitance C parasitic to the inverter, a pixel closest to the gate line driving circuit, Between the cutoff frequency f L2 when the parasitic capacitance and the parasitic resistance existing in the form of a distributed constant in the gate line between the distant pixel and the gate line are equivalently represented as a second low-pass filter;
An active matrix type liquid crystal characterized in that a relationship of R> 1 / (2π × C × f L2 ) or a relationship of R and 1 / (2π × C × f L2 ) is substantially the same. Display device.
前記インバータが相補型インバータであり、
前記各画素のスイッチング素子としてN型トランジスタを用いる場合には、
前記相補型インバータを構成するP型トランジスタの線形領域でのオン電流に対してN型トランジスタの線形領域でのオン電流が小さくなるように、前記相補型インバータを構成し、
画素のスイッチング素子としてP型トランジスタを用いる場合には、
前記相補型インバータを構成するN型トランジスタの線形領域でのオン電流に対してP型トランジスタの線形領域でのオン電流が小さくなるように、前記相補型インバータを構成すること、
を特徴とする請求項1に記載のアクティブマトリクス型の液晶表示装置。
The inverter is a complementary inverter,
When an N-type transistor is used as a switching element of each pixel,
The complementary inverter is configured such that the ON current in the linear region of the N-type transistor is smaller than the ON current in the linear region of the P-type transistor forming the complementary inverter,
When a P-type transistor is used as a pixel switching element,
Configuring the complementary inverter such that the ON current in the linear region of the P-type transistor is smaller than the ON current in the linear region of the N-type transistor forming the complementary inverter;
The active matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101610002B1 (en) * 2009-12-31 2016-04-21 엘지디스플레이 주식회사 Liquid Crystal Display Device and Driving Method the same
CN109785791A (en) * 2019-03-27 2019-05-21 深圳市思坦科技有限公司 A kind of logical gate operations circuit, integrated chip and display device based on pixel driver
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