JP2004247527A - Illumination optical apparatus, aligner, and exposure method - Google Patents

Illumination optical apparatus, aligner, and exposure method Download PDF

Info

Publication number
JP2004247527A
JP2004247527A JP2003035936A JP2003035936A JP2004247527A JP 2004247527 A JP2004247527 A JP 2004247527A JP 2003035936 A JP2003035936 A JP 2003035936A JP 2003035936 A JP2003035936 A JP 2003035936A JP 2004247527 A JP2004247527 A JP 2004247527A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
light
illumination
correction
light source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003035936A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4366948B2 (en
Inventor
Yoko Kimura
Yasushi Mizuno
陽子 木村
恭志 水野
Original Assignee
Nikon Corp
株式会社ニコン
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp, 株式会社ニコン filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2003035936A priority Critical patent/JP4366948B2/en
Publication of JP2004247527A publication Critical patent/JP2004247527A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4366948B2 publication Critical patent/JP4366948B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an illumination optical apparatus capable of uniformizing the optical strength distribution in an angular direction of a luminous flux made incident onto planes to be illuminated, by excellently correcting uneven optical strength distribution in a secondary light source formed in an illumination pupil plane. <P>SOLUTION: The illumination optical apparatus for illuminating the planes (M, W) to be illuminated on the basis of the luminous flux from a light source (1) is provided with a correction means (7) that is spaced by a prescribed distance d (mm) from the illumination pupil plane optically in a relation of Fourier transform to the planes to be illuminated, so as to correct the optical strength distribution of the luminous flux formed by the secondary light source or the luminous flux from the secondary light source depending on the optical strength distribution in the secondary light source formed on the illumination pupil plane. The correction means has a correction filter having a prescribed transmissivity distribution. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は照明光学装置、露光装置および露光方法に関し、特に半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
この種の典型的な露光装置においては、光源から射出された光束が、オプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズ(またはマイクロフライアイレンズなど)を介して、多数の光源からなる実質的な面光源としての二次光源を形成する。二次光源からの光束は、フライアイレンズの後側焦点面の近傍に配置された開口絞りを介して制限された後、コンデンサーレンズに入射する。
【0003】
コンデンサーレンズにより集光された光束は、所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明する。マスクのパターンを透過した光は、投影光学系を介してウェハ上に結像する。こうして、ウェハ上には、マスクパターンが投影露光(転写)される。なお、マスクに形成されたパターンは高集積化されており、この微細パターンをウェハ上に正確に転写するにはウェハ上において均一な照度分布を得ることが不可欠である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、たとえば投影光学系を構成する光学部材の製造誤差などに起因して、照明瞳面に形成される二次光源内に光強度分布ムラが発生し、その結果として、被照射面であるウェハへ入射する光束の角度方向の光強度分布ムラが発生することがある。
【0005】
この場合、ウェハへ入射する光束の角度方向の光強度分布ムラにより投影光学系の結像性能が悪化し、ウェハ上に実際に形成されるパターンの線幅が所望の線幅と実質的に異なってしまう現象(本来所定の線幅に形成されるべきパターンの線幅が実際には位置に依存して変動する現象)、すなわち線幅異常が発生するという不都合があった。
【0006】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、照明瞳面に形成される二次光源内の光強度分布ムラを良好に補正して、被照射面へ入射する光束の角度方向の光強度分布を均一化することのできる照明光学装置を提供することを目的とする。また、本発明は、被照射面へ入射する光束の角度方向の光強度分布を均一化することのできる照明光学装置を用いて、線幅異常が実質的に発生することのない良好な露光を行うことのできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明の第1形態では、光源からの光束に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記被照射面と光学的にフーリエ変換の関係にある照明瞳面から距離d(mm)だけ間隔を隔てて配置されて、前記照明瞳面に形成される二次光源内の光強度分布ムラに応じて、前記二次光源を形成する光束または前記二次光源からの光束の光強度分布を補正するための補正手段を備え、前記距離dは、
0.01<1/d<2
の条件を満足することを特徴とする照明光学装置を提供する。
【0008】
第1形態の好ましい態様によれば、前記補正手段は、所定の透過率分布を有する補正フィルターを有する。この場合、前記補正手段は、互いに異なる透過率分布を有する複数の前記補正フィルターを有し、前記複数の補正フィルターは、前記二次光源内の光強度分布ムラに応じて照明光路に対して切り換え可能に構成されていることが好ましい。
【0009】
あるいは、第1形態の好ましい態様によれば、前記補正手段は、第1の透過率分布を有する第1補正フィルターと、第2の透過率分布を有する第2補正フィルターとを有し、前記第1補正フィルターと前記第2補正フィルターとは光軸に沿って互いに近接して配置され、前記光軸または前記光軸と平行な軸線を中心としてそれぞれ回転可能に構成されている。この場合、前記第1補正フィルターおよび前記第2補正フィルターは前記光軸と交差する面に沿ってそれぞれ移動可能に構成されていることが好ましい。また、前記補正手段は、複数組の前記第1補正フィルターおよび前記第2補正フィルターを有し、前記複数組の第1補正フィルターおよび第2補正フィルターは、前記二次光源内の光強度分布ムラに応じて照明光路に対して切り換え可能に構成されていることが好ましい。
【0010】
あるいは、第1形態の好ましい態様によれば、前記補正手段は、前記二次光源を形成する光束または前記二次光源からの光束の周辺部を部分的に遮光するための遮光部材を有する。この場合、前記遮光部材は、光軸と交差する面に沿って移動可能で且つ所定の遮光率分布を有することが好ましい。
【0011】
第1形態の好ましい態様によれば、前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置されたオプティカルインテグレータをさらに備え、前記補正手段は、前記オプティカルインテグレータと前記被照射面との間の光路中に配置されている。また、前記照明瞳面に配置されて前記二次光源の形状または大きさを規定するための開口絞りをさらに備え、前記補正手段は前記開口絞りよりも被照射面側に配置されていることが好ましい。
【0012】
本発明の第2形態では、所定のパターンが形成されたマスクを照明するための第1形態の照明光学装置と、前記マスクのパターン像を感光性基板上に形成するための投影光学系とを備えていることを特徴とする露光装置を提供する。この場合、前記投影光学系の瞳面における光強度分布を計測するための計測手段と、前記瞳面における光強度分布の計測結果に応じて前記複数の補正フィルターまたは前記複数組の第1補正フィルターおよび第2補正フィルターを切り換えるための切り換え手段とをさらに備えていることが好ましい。
【0013】
本発明の第3形態では、第1形態の照明光学装置を介してマスクを照明し、照明された前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法を提供する。この場合、前記投影光学系の瞳面における光強度分布を計測する計測工程と、前記瞳面における光強度分布の計測結果に応じて前記複数の補正フィルターまたは前記複数組の第1補正フィルターおよび第2補正フィルターを切り換える切り換え工程とをさらに含むことが好ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の実施形態にかかる照明光学装置を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。図1において、感光性基板であるウェハWの法線方向に沿ってY軸を、ウェハWに平行な面内において互いに直交する2つの方向に沿ってX軸およびZ軸をそれぞれ設定している。なお、図1では、照明光学装置が通常の円形照明を行うように設定されている。
【0015】
本実施形態の露光装置は、露光光(照明光)を供給するためのレーザ光源1を備えている。レーザ光源1として、たとえば248nmの波長の光を供給するKrFエキシマレーザ光源や193nmの波長の光を供給するArFエキシマレーザ光源などを用いることができる。レーザ光源1から射出されたほぼ平行な光束は、X方向に沿って細長く延びた矩形状の断面を有し、一対のレンズ2aおよび2bからなるビームエキスパンダ2に入射する。各レンズ2aおよび2bは、図1の紙面内(YZ平面内)において負の屈折力および正の屈折力をそれぞれ有する。したがって、ビームエキスパンダ2に入射した光束は、図1の紙面内において拡大され、所定の矩形状の断面を有する光束に整形される。
【0016】
整形光学系としてのビームエキスパンダ2を介したほぼ平行な光束は、円形照明用の回折光学素子3を介して、ズームレンズ4に入射する。ズームレンズ4の後側焦点面の近傍には、マイクロフライアイレンズ(またはフライアイレンズ)5の入射面が位置決めされている。一般に、回折光学素子は、基板に露光光(照明光)の波長程度のピッチを有する段差を形成することによって構成され、入射ビームを所望の角度に回折する作用を有する。具体的には、回折光学素子3は、光軸AXに沿って入射した矩形状の平行光束を、円形状の断面を有する発散光束に変換する。
【0017】
回折光学素子3は、照明光路に対して挿脱自在に構成され、且つ輪帯照明用の回折光学素子3aや4極照明用の回折光学素子3bと切り換え可能に構成されている。ここで、円形照明用の回折光学素子3と輪帯照明用の回折光学素子3aと4極照明用の回折光学素子3bとの間の切り換えは、制御系20からの指令に基づいて動作する第1駆動系21により行われる。また、ズームレンズ4の焦点距離の変化は、制御系20からの指令に基づいて動作する第2駆動系22により行われる。
【0018】
マイクロフライアイレンズ5は、縦横に且つ稠密に配列された多数の微小レンズからなる光学素子である。一般に、マイクロフライアイレンズは、たとえば平行平面板にエッチング処理を施して微小レンズ群を形成することによって構成される。ここで、マイクロフライアイレンズを構成する各微小レンズは、フライアイレンズを構成する各レンズエレメントよりも微小である。また、マイクロフライアイレンズは、互いに隔絶されたレンズエレメントからなるフライアイレンズとは異なり、多数の微小レンズが互いに隔絶されることなく一体的に形成されている。しかしながら、レンズ要素が縦横に配置されている点でマイクロフライアイレンズはフライアイレンズと同じ波面分割型のオプティカルインテグレータである。
【0019】
こうして、回折光学素子3を介した光束は、ズームレンズ4を介して、マイクロフライアイレンズ5の入射面に、たとえば光軸AXを中心とする円形状の照野を形成する。ここで、形成される円形状の照野の大きさ(すなわちその直径)は、ズームレンズ4の焦点距離に依存して変化する。マイクロフライアイレンズ5に入射した光束は多数の微小レンズにより二次元的に分割され、光束が入射した各微小レンズの後側焦点面には光源がそれぞれ形成される。こうして、マイクロフライアイレンズ5の後側焦点面には、マイクロフライアイレンズ5への入射光束によって形成される円形状の照野とほぼ同じ光強度分布を有する円形状の実質的な面光源(以下、「二次光源」という)が形成される。
【0020】
マイクロフライアイレンズ5の後側焦点面に形成された円形状の二次光源からの光束は、その近傍に配置された開口絞り6に入射する。開口絞り6は、マスクM(ひいてはウェハW)と光学的にフーリエ変換の関係にある照明瞳面に配置されて二次光源の形状または大きさを規定する機能を有する。円形状の開口部(光透過部)を有する開口絞り6を介した二次光源からの光は、補正フィルター7を介して、コンデンサー光学系8の集光作用を受けた後、マスクM(ひいてはウェハW)と光学的に共役な面に配置されたマスクブラインド9を重畳的に照明する。補正フィルター7は、互いに異なる透過率分布を有する複数の補正フィルター7aから選択されて照明光路中に位置決めされる。
【0021】
複数の補正フィルター7aの照明光路に対する切り換えは、制御系20からの指令に基づいて動作する第3駆動系23により行われる。なお、補正フィルター7の構成および作用については後述する。こうして、マスクブラインド9には、マイクロフライアイレンズ5を構成する各微小レンズの形状と相似な矩形状の照野が形成される。マスクブラインド9の矩形状の開口部(光透過部)を介した光束は、結像光学系10の集光作用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスクMを重畳的に照明する。
【0022】
このように、結像光学系10は、マスクブラインド9の矩形状の開口部の像を、マスクステージMSにより支持されたマスクM上に形成することになる。すなわち、マスクブラインド9は、マスクM(ひいてはウェハW)上に形成される照明領域を規定するための視野絞りを構成している。マスクMのパターンを透過した光束は、投影光学系PLを介して、感光性基板であるウェハW上にマスクパターンの像を形成する。こうして、投影光学系PLの光軸AXと直交する平面(XZ平面)内において、ウェハステージWSにより支持されたウェハWを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、ウェハWの各露光領域にはマスクMのパターンが逐次露光される。
【0023】
一括露光では、いわゆるステップ・アンド・リピート方式にしたがって、ウェハの各露光領域に対してマスクパターンを一括的に露光する。この場合、マスクM上での照明領域の形状は正方形に近い矩形状であり、マイクロフライアイレンズ5の各微小レンズの断面形状も正方形に近い矩形状となる。一方、スキャン露光では、いわゆるステップ・アンド・スキャン方式にしたがって、マスクおよびウェハを投影光学系に対して相対移動させながらウェハの各露光領域に対してマスクパターンをスキャン露光する。この場合、マスクM上での照明領域の形状は短辺と長辺との比がたとえば1:3の矩形状であり、マイクロフライアイレンズ5の各微小レンズの断面形状もこれと相似な矩形状となる。
【0024】
なお、本実施形態の露光装置には、投影光学系PLの瞳面における光強度分布を計測するための計測手段としての光強度分布測定装置24が設けられている。光強度分布測定装置24に関する詳細については、たとえばWO99/36832号公報、特開平11−317349号公報、特開2000−19012号公報、特開2002−110540号公報などを参照することができる。光強度分布測定装置24で計測された投影光学系PLの瞳面における光強度分布情報は、制御系20に供給される。
【0025】
なお、回折光学素子3に代えて回折光学素子3aを照明光路中に設定することによって輪帯照明を行うことができる。輪帯照明用の回折光学素子3aは、光軸AXに沿って入射した矩形状の平行光束を、輪帯状の断面を有する発散光束に変換する。したがって、回折光学素子3aを介した光束は、マイクロフライアイレンズ5の入射面に、たとえば光軸AXを中心とした輪帯状の照野を形成する。その結果、マイクロフライアイレンズ5の後側焦点面にも、その入射面に形成された輪帯状の照野とほぼ同じ光強度分布を有する輪帯状の二次光源が形成される。
【0026】
また、回折光学素子3や3aに代えて回折光学素子3bを照明光路中に設定することによって4極照明を行うことができる。4極照明用の回折光学素子3bは、光軸AXに沿って入射した矩形状の平行光束を、4極状の断面を有する発散光束に変換する。したがって、回折光学素子3bを介した光束は、マイクロフライアイレンズ5の入射面に、たとえば光軸AXを中心とした4極状の照野を形成する。その結果、マイクロフライアイレンズ5の後側焦点面にも、その入射面に形成された4極状の照野とほぼ同じ光強度分布を有する4極状の二次光源が形成される。
【0027】
図2は、図1のマイクロフライアイレンズとコンデンサー光学系との間の光路中に配置される補正フィルターと照明瞳面との位置関係を説明する図である。図2を参照すると、補正フィルター7は、マイクロフライアイレンズ5とコンデンサー光学系8との間の光路中において、マスクM(ひいてはウェハW)と光学的にフーリエ変換の関係にある照明瞳面に配置された開口絞り6の近傍に配置されている。
【0028】
具体的には、補正フィルター7は、開口絞り6よりもマスク側(コンデンサー光学系8側)において、開口絞り6から距離d(mm)だけ間隔を隔てて配置されている。また、補正フィルター7は、たとえば石英ガラスのような光学材料により形成された平行平面板状の光学部材である。そして、たとえばクロムなどの微小ドットパターンの濃密によって表現された所定の透過率分布を持つ補正面が、補正フィルター7の光源側(マイクロフライアイレンズ5側)に形成されている。
【0029】
図3は、投影光学系の瞳面において傾斜成分を含む光強度分布ムラが発生している状態、および光強度分布ムラの傾斜成分を補正するための補正フィルターに形成された透過率分布を模式的に示す図である。図3(a)において、縦軸は光強度Iであり、横軸は投影光学系PLの瞳面において光軸AXを原点とする光強度分布の傾斜方向に沿った位置座標rである。また、図3(b)において、縦軸は透過率Tであり、横軸は投影光学系PLの瞳面における位置座標rと光学的に対応する補正フィルター7の補正面(透過率分布が形成されている面)における位置座標Rである。
【0030】
図3(a)に示すように、たとえば投影光学系PLを構成する光学部材の製造誤差などに起因して、投影光学系PLの瞳面において傾斜成分(位置座標rの1次関数にしたがって定義される成分)を含む光強度分布ムラが発生することがある。この場合、投影光学系PLの瞳面と光学的に共役な位置関係にある照明瞳面(開口絞りが配置されている位置)に形成される二次光源においても、投影光学系PLの瞳面と同様な光強度分布ムラが発生することになる。
【0031】
そこで、本実施形態では、投影光学系PLの瞳面における光強度分布ムラの傾斜成分を補正するために、互いに異なる透過率分布を有する複数の補正フィルター7aから、図3(b)に示すような傾斜成分を含む透過率分布T(R)を有する補正フィルター7を選択して、投影光学系PLの瞳面と光学的に共役な位置関係にある照明瞳面の近傍に(照明瞳面から距離d(mm)だけ間隔を隔てた位置に)位置決めする。
【0032】
図3(b)に示す透過率分布T(R)は、次の式(1)により表わされる。
T(R)=(1−D)/{1−D/2(1+R/Rmax)} (1)
式(1)において、Dは最大透過率と最小透過率との差である。図3(b)に示す透過率分布T(R)では、R=Rmaxの位置において透過率Tが最大で1であり、R=−Rmaxの位置において透過率Tが最小で(1−D)である。なお、本実施形態では、図3を参照して説明したような傾斜成分を有する補正フィルターに限定されることなく、様々な形態の透過率分布を有する複数の補正フィルターを備えている。
【0033】
本実施形態では、必要に応じて、補正フィルター7を照明光路から退避させた状態で、計測手段としての光強度分布測定装置24を用いて、投影光学系PLの瞳面における光強度分布を計測する。そして、投影光学系PLの瞳面における光強度分布ムラに応じて(すなわち投影光学系PLの瞳面と光学的に共役な位置関係にある照明瞳面に形成される二次光源内の光強度分布ムラに応じて)、フィルター切り換え手段としての制御系20および第3駆動系23を用いて、互いに異なる透過率分布を有する複数の補正フィルター7aから、所要の透過率分布を有する補正フィルター7を選択して照明光路中に位置決めする。
【0034】
このように、本実施形態では、投影光学系PLの瞳面と光学的に共役な位置関係にある(マスクM(ひいてはウェハW)と光学的にフーリエ変換の関係にある)照明瞳面の近傍に配置されて所要の透過率分布を有する補正フィルター7の作用により、二次光源からの光束の光強度分布を補正して、ひいては投影光学系PLの瞳面における光強度分布ムラを良好に補正し、ウェハWへ入射する光束の角度方向の光強度分布を均一化することができる。その結果、本実施形態では、線幅異常が実質的に発生することのない良好な露光を行うことができ、ひいては良好なマイクロデバイスを製造することができる。
【0035】
本実施形態では、補正フィルター7と開口絞り6(照明瞳面)との距離d(mm)は、次の条件式(2)を満足する。
0.01<1/d<2 (2)
条件式(2)の下限値を下回ると、補正フィルター7が照明瞳面から離れすぎて、補正フィルター7の作用により投影光学系PLの瞳面に形成すべき所望の光強度分布を実現することが困難になってしまう。一方、条件式(2)の上限値を上回ると、補正フィルター7が照明瞳面に近付きすぎて、照明瞳面に形成される多数の点光源(二次光源)におけるエネルギ集中の影響により、補正フィルター7のガラス基板またはコートが損傷を受け易くなってしまう。
【0036】
なお、上述の実施形態では、所定の透過率分布を有する補正面が補正フィルター7の光源側に形成されているが、これに限定されることなく、補正フィルター7のマスク側に補正面を形成することもできる。また、補正フィルター7を開口絞り6よりもマスク側に配置しているが、マイクロフライアイレンズ5の結像性能に対して補正フィルター7が実質的な悪影響を及ぼさない限り、またドットパターンの回折現象が実質的な悪影響を及ぼさない限りにおいて、補正フィルター7を開口絞り6よりも光源側に配置することもできる。この場合、補正フィルター7の作用により、二次光源を形成する光束の光強度分布を補正して、投影光学系PLの瞳面における光強度分布ムラを良好に補正することになる。
【0037】
ところで、上述の実施形態では、マスクMと光学的にフーリエ変換の関係にある照明瞳面(マイクロフライアイレンズ5の後側焦点面)における光強度分布(二次光源の形状および大きさ)を変化させて照明条件を切り換えるが、この照明条件の切り換えに応じて投影光学系PLの瞳面において光強度分布ムラが発生することが考えられる。この場合、照明条件の切り換えに応じて、複数の補正フィルター7aを照明光路に対して切り換えることもできる。
【0038】
また、上述の実施形態では、投影光学系PLの瞳面における光強度分布ムラに応じて複数の補正フィルター7aを照明光路に対して切り換えているが、投影光学系PLの瞳面における光強度分布が時間の経過に伴って実質的に変化しない場合や、投影光学系PLの瞳面における光強度分布が照明条件の切り換えに伴って実質的に変化しない場合には、所定の透過率分布を有する補正フィルター7を照明光路中に固定的に位置決めすることもできる。
【0039】
また、上述の実施形態では、補正フィルター7を開口絞り6の近傍に配置しているが、マスクブラインド9とマスクMとの光学的な共役関係に対して補正フィルター7が実質的な悪影響を及ぼさない限り、またドットパターンの回折現象が実質的な悪影響を及ぼさない限りにおいて、補正フィルター7を結像光学系10の光路中においてマスクM(ひいてはウェハW)と光学的にフーリエ変換の関係にある位置の近傍に配置することもできる。
【0040】
ところで、上述の実施形態では、照明瞳面の近傍に補正フィルター7を単体で配置しているが、第1の透過率分布を有する第1補正フィルターと、第2の透過率分布を有する第2補正フィルターとを、光軸に沿って互いに近接した状態で照明瞳面の近傍に配置する変形例も可能である。一対の補正フィルターを用いる第1変形例では、第1補正フィルターおよび第2補正フィルターが光軸(または光軸と平行な軸線)を中心としてそれぞれ回転可能に構成されている。
【0041】
図4は、第1変形例で用いられる一対の補正フィルターの作用を模式的に説明する第1の図である。また、図5は、第1変形例で用いられる一対の補正フィルターの作用を模式的に説明する第2の図である。図4および図5において、領域aは透過率が0.98から1の範囲で変化する領域、領域bは透過率が0.96から0.98の範囲で変化する領域、領域cは透過率が0.94から0.96の範囲で変化する領域、領域dは透過率が0.92から0.94の範囲で変化する領域、領域eは透過率が0.90から0.92の範囲で変化する領域である。
【0042】
また、領域fは透過率が0.88から0.90の範囲で変化する領域、領域gは透過率が0.86から0.88の範囲で変化する領域、領域hは透過率が0.84から0.86の範囲で変化する領域、領域iは透過率が0.82から0.84の範囲で変化する領域、領域jは透過率が0.80から0.82の範囲で変化する領域である。図4および図5に示す例において、第1補正フィルターおよび第2補正フィルターはともに、透過率が0.9から1まで一方向に沿って変化する分布を有する。
【0043】
具体的に、図4(a)は、第1補正フィルターおよび第2補正フィルターを透過率の変化方向が図中水平になるように同じ配置にした場合に得られる合成透過率分布を示している。図4(a)に示す状態では、透過率が0.8から1まで水平方向に沿って変化する合成透過率分布が得られる。図4(b)は、図4(a)の状態から第1補正フィルターを反時計回りに65度回転させ且つ第2補正フィルターを時計回りに65度回転させた場合に得られる合成透過率分布を示している。図4(b)に示す状態では、透過率が約0.86から約0.96まで水平方向に沿って変化する合成透過率分布が得られる。
【0044】
図4(c)は、図4(a)の状態から第1補正フィルターを反時計回りに80度回転させ且つ第2補正フィルターを時計回りに80度回転させた場合に得られる合成透過率分布を示している。図4(c)に示す状態では、透過率が約0.88から約0.92まで水平方向に沿って変化する合成透過率分布が得られる。図5(a)は、図4(a)の状態から第1補正フィルターを反時計回りに90度回転させ且つ第2補正フィルターを時計回りに90度回転させた場合に得られる合成透過率分布を示している。図5(a)に示す状態では、透過率が約0.9の一様な合成透過率分布が得られる。
【0045】
図5(b)は、図4(a)の状態から第1補正フィルターを反時計回りに110(65+45)度回転させ且つ第2補正フィルターを時計回りに20(−65+45)度回転させた場合に得られる合成透過率分布を示している。換言すれば、図5(b)は、図4(b)の状態から第1補正フィルターと第2補正フィルターと反時計回りに45度だけ一体的に回転させた場合に得られる合成透過率分布を示している。図5(b)に示す状態では、図4(b)に示す合成透過率分布を反時計回りに45度回転させた合成透過率分布が得られる。
【0046】
以上のように、第1変形例では、一対の補正フィルターを相対的に回転させることにより様々な範囲に亘って変化する合成透過率分布を得ることができる。また、一対の補正フィルターを一体的に回転させることにより様々な方向に沿って変化する合成透過率分布を得ることができる。さらに、必要に応じて、一対の補正フィルターを光軸と交差する方向(典型的には光軸と直交する方向)に沿って相対的にまたは一体的に移動させることにより、多様に変化する合成透過率分布を得ることができる。
【0047】
なお、図4および図5を参照した上述の説明では、透過率が一方向に沿って線形的に変化する透過率分布を有する一対の補正フィルターを用いているが、一般に互いに同じ任意の透過率分布を有する一対の補正フィルターまたは互いに異なる任意の透過率分布を有する一対の補正フィルターを用いて、さらに様々な形態にしたがって変化する合成透過率分布を得ることができる。また、複数組の第1補正フィルターおよび第2補正フィルターを備え、複数組の第1補正フィルターおよび第2補正フィルターを照明光路に対して切り換えることにより(複数組から1組の第1補正フィルターおよび第2補正フィルターを選択して照明光路中に位置決めすることにより)、さらに多様に変化する合成透過率分布を得ることができる。
【0048】
なお、上述の実施形態および第1変形例では、照明瞳面の近傍に補正フィルター7を配置しているが、二次光源を形成する光束または二次光源からの光束の周辺部を部分的に遮光するための遮光部材を照明瞳面の近傍に配置する第2変形例も可能である。図6は、第2変形例で用いられる遮光部材の要部構成を概略的に示す図である。第2変形例で用いられる遮光部材70は、図6に示すように、図中水平方向に沿って移動可能な一対の羽根部材70aおよび70bと、図中鉛直方向に沿って移動可能な一対の羽根部材70cおよび70dとを備えている。
【0049】
ここで、各羽根部材は、たとえば石英ガラス基板にアルミニウムやクロムのような遮光薄膜を形成することにより構成されている。あるいは、各羽根部材は、たとえば石英ガラス基板にクロムなどの微小ドットパターンの濃密によって表現された所定の遮光率分布を形成することにより構成されている。このように、遮光部材70を用いて二次光源を形成する光束または二次光源からの光束の周辺部を部分的に遮光することにより、補正フィルターを用いる場合と同様に、投影光学系PLの瞳面における光強度分布ムラを補正することができる。なお、第2変形例の遮光部材を、上述の実施形態の補正フィルターまたは第1変形例の一対の補正フィルターと併用することもできる。
【0050】
上述の実施形態にかかる露光装置では、照明光学装置によってマスク(レチクル)を照明し(照明工程)、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する(露光工程)ことにより、マイクロデバイス(半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等)を製造することができる。以下、上述の実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図7のフローチャートを参照して説明する。
【0051】
先ず、図7のステップ301において、1ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ302において、そのlロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ303において、上述の実施形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その1ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ304において、その1ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ305において、その1ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。
【0052】
また、上述の実施形態の露光装置では、プレート(ガラス基板)上に所定のパターン(回路パターン、電極パターン等)を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図8のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図8において、パターン形成工程401では、上述の実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板(レジストが塗布されたガラス基板等)に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程402へ移行する。
【0053】
次に、カラーフィルター形成工程402では、R(Red)、G(Green)、B(Blue)に対応した3つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはR、G、Bの3本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程402の後に、セル組み立て工程403が実行される。セル組み立て工程403では、パターン形成工程401にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程402にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル(液晶セル)を組み立てる。セル組み立て工程403では、例えば、パターン形成工程401にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程402にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル(液晶セル)を製造する。
【0054】
その後、モジュール組み立て工程404にて、組み立てられた液晶パネル(液晶セル)の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
【0055】
なお、上述の実施形態では、露光光としてKrFエキシマレーザ光(波長:248nm)やArFエキシマレーザ光(波長:193nm)を用いているが、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長157nmのレーザ光を供給するFレーザ光源や、レーザ光源以外の光源、例えばi線やg線、h線等の紫外光を供給するランプ光源に対して本発明を適用することもできる。
【0056】
また、上述の実施形態では、図1に示すような特定の構成を有する照明光学装置に対して本発明を適用しているが、照明光学装置の具体的な構成については様々な変形例が可能である。たとえば、上述の実施形態における第1インテグレータとしての回折光学素子3から第2インテグレータとしてのマイクロフライアイレンズ5までの光学系を、特開2001−85293号公報や特開2002−231619号公報に開示された対応部分の光学系で置換して得られる照明光学装置に対して本発明を適用することもできる。
【0057】
また、上述の実施形態では、照明光学装置を備えた投影露光装置を例にとって本発明を説明したが、マスク以外の被照射面を照明するための一般的な照明光学装置に本発明を適用することができることは明らかである。
【0058】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の照明光学装置では、たとえば被照射面と光学的にフーリエ変換の関係にある照明瞳面の近傍に配置されて所要の透過率分布を有する補正フィルターの作用により、二次光源を形成する光束または二次光源からの光束の光強度分布を補正し、ひいては照明瞳面に形成される二次光源内の光強度分布ムラを良好に補正し、被照射面へ入射する光束の角度方向の光強度分布を均一化することができる。したがって、本発明の照明光学装置を用いる露光装置および露光方法では、線幅異常が実質的に発生することのない良好な露光を行うことができ、ひいては良好なマイクロデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態にかかる照明光学装置を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図2】図1のマイクロフライアイレンズとコンデンサー光学系との間の光路中に配置される補正フィルターと照明瞳面との位置関係を説明する図である。
【図3】投影光学系の瞳面において傾斜成分を含む光強度分布ムラが発生している状態、および光強度分布ムラの傾斜成分を補正するための補正フィルターに形成された透過率分布を模式的に示す図である。
【図4】第1変形例で用いられる一対の補正フィルターの作用を模式的に説明する第1の図である。
【図5】第1変形例で用いられる一対の補正フィルターの作用を模式的に説明する第2の図である。
【図6】第2変形例で用いられる遮光部材の要部構成を概略的に示す図である。
【図7】マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法のフローチャートである。
【図8】マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得る際の手法のフローチャートである。
【符号の説明】
1 レーザ光源
3 回折光学素子
4 ズームレンズ
5 マイクロフライアイレンズ
7 補正フィルター
8 コンデンサー光学系
9 マスクブラインド
10 結像光学系
20 制御系
21〜23 駆動系
24 光強度分布測定装置
70 遮光部材
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an illumination optical apparatus, an exposure apparatus, and an exposure method, and more particularly, to an exposure apparatus for manufacturing a micro device such as a semiconductor device, an imaging device, a liquid crystal display device, and a thin-film magnetic head by a lithography process.
[0002]
[Prior art]
In a typical exposure apparatus of this type, a light beam emitted from a light source is passed through a fly-eye lens (or a micro fly-eye lens or the like) as an optical integrator to serve as a substantial surface light source composed of many light sources. Form a secondary light source. The light flux from the secondary light source is restricted via an aperture stop arranged near the rear focal plane of the fly-eye lens, and then enters the condenser lens.
[0003]
The light beam condensed by the condenser lens illuminates the mask on which the predetermined pattern is formed in a superimposed manner. The light transmitted through the mask pattern forms an image on the wafer via the projection optical system. Thus, the mask pattern is projected and exposed (transferred) on the wafer. The pattern formed on the mask is highly integrated, and it is indispensable to obtain a uniform illuminance distribution on the wafer in order to accurately transfer this fine pattern onto the wafer.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, unevenness in light intensity distribution occurs in the secondary light source formed on the illumination pupil plane due to, for example, a manufacturing error of an optical member constituting the projection optical system, and as a result, the wafer to be irradiated is In some cases, unevenness in the light intensity distribution in the angular direction of the light beam incident on the light source may occur.
[0005]
In this case, the imaging performance of the projection optical system is deteriorated due to the unevenness of the light intensity distribution in the angular direction of the light beam incident on the wafer, and the line width of the pattern actually formed on the wafer is substantially different from the desired line width. (A phenomenon in which the line width of a pattern to be originally formed to have a predetermined line width actually varies depending on the position), that is, a problem that a line width abnormality occurs.
[0006]
The present invention has been made in view of the above-described problems, and satisfactorily corrects the light intensity distribution unevenness in the secondary light source formed on the illumination pupil plane, so that the angle direction of the light flux incident on the irradiation surface can be improved. It is an object of the present invention to provide an illumination optical device that can make the light intensity distribution uniform. Further, the present invention uses an illumination optical device capable of uniforming the light intensity distribution in the angular direction of a light beam incident on a surface to be illuminated, and performs a good exposure without substantially causing a line width abnormality. An object of the present invention is to provide an exposure apparatus and an exposure method that can be performed.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problems, according to a first embodiment of the present invention, an illumination optical device that illuminates a surface to be irradiated based on a light beam from a light source includes
The light intensity distribution unevenness in the secondary light source formed on the illumination pupil plane, which is arranged at a distance d (mm) from the illumination pupil plane that is optically in a Fourier transform relationship with the illumination target surface. Accordingly, a correction unit for correcting the light intensity distribution of the light beam forming the secondary light source or the light beam from the secondary light source is provided, and the distance d is
0.01 <1 / d <2
An illumination optical device characterized by satisfying the following conditions:
[0008]
According to a preferred aspect of the first aspect, the correction means has a correction filter having a predetermined transmittance distribution. In this case, the correction unit includes a plurality of correction filters having transmittance distributions different from each other, and the plurality of correction filters are switched with respect to an illumination light path according to light intensity distribution unevenness in the secondary light source. Preferably, it is configured to be possible.
[0009]
Alternatively, according to a preferred aspect of the first aspect, the correction unit includes a first correction filter having a first transmittance distribution and a second correction filter having a second transmittance distribution. The first correction filter and the second correction filter are arranged close to each other along the optical axis, and are configured to be rotatable around the optical axis or an axis parallel to the optical axis. In this case, it is preferable that the first correction filter and the second correction filter are configured to be movable along a plane intersecting the optical axis. Further, the correction unit includes a plurality of sets of the first correction filter and the second correction filter, and the plurality of sets of the first correction filter and the second correction filter are configured to control light intensity distribution unevenness in the secondary light source. Is preferably configured to be switchable with respect to the illumination light path in accordance with
[0010]
Alternatively, according to a preferred aspect of the first aspect, the correction unit includes a light blocking member for partially blocking a light beam forming the secondary light source or a peripheral portion of a light beam from the secondary light source. In this case, it is preferable that the light shielding member is movable along a plane intersecting the optical axis and has a predetermined light shielding ratio distribution.
[0011]
According to a preferred aspect of the first embodiment, the optical system further includes an optical integrator arranged in an optical path between the light source and the irradiated surface, wherein the correction unit is configured to detect a position between the optical integrator and the irradiated surface. It is located in the light path. Further, the apparatus further includes an aperture stop arranged on the illumination pupil plane to define the shape or size of the secondary light source, wherein the correction unit is arranged closer to the irradiated surface than the aperture stop. preferable.
[0012]
According to a second aspect of the present invention, an illumination optical device according to the first aspect for illuminating a mask on which a predetermined pattern is formed, and a projection optical system for forming a pattern image of the mask on a photosensitive substrate. An exposure apparatus is provided. In this case, a measuring unit for measuring a light intensity distribution on a pupil plane of the projection optical system, and the plurality of correction filters or the plurality of first correction filters according to a measurement result of the light intensity distribution on the pupil plane It is preferable that the apparatus further comprises switching means for switching the second correction filter.
[0013]
According to a third aspect of the present invention, a mask is illuminated via the illumination optical device of the first aspect, and a pattern formed on the illuminated mask is exposed on a photosensitive substrate via a projection optical system. An exposure method is provided. In this case, a measurement step of measuring a light intensity distribution on the pupil plane of the projection optical system, and the plurality of correction filters or the plurality of sets of the first correction filters and And a switching step of switching the two correction filters.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
An embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a view schematically showing a configuration of an exposure apparatus provided with an illumination optical device according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, a Y axis is set along a normal direction of a wafer W as a photosensitive substrate, and an X axis and a Z axis are set along two directions orthogonal to each other in a plane parallel to the wafer W. . In FIG. 1, the illumination optical device is set to perform normal circular illumination.
[0015]
The exposure apparatus of the present embodiment includes a laser light source 1 for supplying exposure light (illumination light). As the laser light source 1, for example, a KrF excimer laser light source that supplies light having a wavelength of 248 nm, an ArF excimer laser light source that supplies light having a wavelength of 193 nm, or the like can be used. A substantially parallel light beam emitted from the laser light source 1 has a rectangular cross section elongated in the X direction, and enters a beam expander 2 including a pair of lenses 2a and 2b. Each of the lenses 2a and 2b has a negative refractive power and a positive refractive power, respectively, in the plane of the paper of FIG. 1 (in the YZ plane). Therefore, the light beam incident on the beam expander 2 is enlarged in the plane of FIG. 1 and shaped into a light beam having a predetermined rectangular cross section.
[0016]
A substantially parallel light beam passing through a beam expander 2 as a shaping optical system enters a zoom lens 4 via a diffractive optical element 3 for circular illumination. An entrance surface of a micro fly's eye lens (or fly's eye lens) 5 is positioned near the rear focal plane of the zoom lens 4. Generally, a diffractive optical element is formed by forming a step having a pitch on the order of the wavelength of exposure light (illumination light) on a substrate, and has a function of diffracting an incident beam to a desired angle. Specifically, the diffractive optical element 3 converts a rectangular parallel light beam incident along the optical axis AX into a divergent light beam having a circular cross section.
[0017]
The diffractive optical element 3 is configured to be insertable into and removable from the illumination optical path, and is configured to be switchable between a diffractive optical element 3a for annular illumination and a diffractive optical element 3b for quadrupole illumination. Here, switching between the diffractive optical element 3 for circular illumination, the diffractive optical element 3a for annular illumination, and the diffractive optical element 3b for quadrupole illumination operates based on a command from the control system 20. This is performed by one drive system 21. The change in the focal length of the zoom lens 4 is performed by the second drive system 22 that operates based on a command from the control system 20.
[0018]
The micro fly's eye lens 5 is an optical element including a large number of micro lenses arranged vertically and horizontally and densely. In general, a micro fly's eye lens is formed by, for example, performing an etching process on a parallel flat plate to form a micro lens group. Here, each micro lens constituting the micro fly's eye lens is smaller than each lens element constituting the fly eye lens. Also, unlike a fly-eye lens composed of lens elements separated from each other, the micro fly-eye lens is formed integrally with a large number of minute lenses without being separated from each other. However, the micro fly's eye lens is a wavefront division type optical integrator similar to the fly's eye lens in that the lens elements are arranged vertically and horizontally.
[0019]
In this way, the light beam having passed through the diffractive optical element 3 forms a circular illumination field centered on the optical axis AX on the incident surface of the micro fly's eye lens 5 via the zoom lens 4. Here, the size (that is, the diameter) of the formed circular illumination field changes depending on the focal length of the zoom lens 4. The light beam incident on the micro fly's eye lens 5 is two-dimensionally divided by a large number of minute lenses, and a light source is formed on the rear focal plane of each minute lens on which the light beam has entered. Thus, on the rear focal plane of the micro fly's eye lens 5, a circular surface light source having substantially the same light intensity distribution as the circular illumination field formed by the light beam incident on the micro fly's eye lens 5 ( Hereinafter, a “secondary light source” is formed.
[0020]
A light beam from a circular secondary light source formed on the rear focal plane of the micro fly's eye lens 5 enters an aperture stop 6 arranged in the vicinity thereof. The aperture stop 6 is disposed on an illumination pupil plane that has an optical Fourier transform relationship with the mask M (and thus the wafer W), and has a function of defining the shape or size of the secondary light source. The light from the secondary light source through the aperture stop 6 having the circular opening (light transmitting portion) is subjected to the condensing action of the condenser optical system 8 via the correction filter 7, and then the light from the mask M (and, consequently, the mask M) The mask blind 9 arranged on a plane optically conjugate with the wafer W) is illuminated in a superimposed manner. The correction filter 7 is selected from a plurality of correction filters 7a having mutually different transmittance distributions and positioned in the illumination light path.
[0021]
Switching of the plurality of correction filters 7a with respect to the illumination light path is performed by a third drive system 23 that operates based on a command from the control system 20. The configuration and operation of the correction filter 7 will be described later. In this way, a rectangular illumination field similar to the shape of each micro lens constituting the micro fly's eye lens 5 is formed on the mask blind 9. The light flux passing through the rectangular opening (light transmitting portion) of the mask blind 9 irradiates the mask M on which a predetermined pattern is formed in a superimposed manner after receiving the light condensing action of the imaging optical system 10.
[0022]
Thus, the imaging optical system 10 forms an image of the rectangular opening of the mask blind 9 on the mask M supported by the mask stage MS. That is, the mask blind 9 constitutes a field stop for defining an illumination area formed on the mask M (therefore, the wafer W). The light flux transmitted through the pattern of the mask M forms an image of the mask pattern on the wafer W as a photosensitive substrate via the projection optical system PL. In this way, in a plane (XZ plane) orthogonal to the optical axis AX of the projection optical system PL, batch exposure or scan exposure is performed while the wafer W supported by the wafer stage WS is two-dimensionally driven and controlled, whereby the wafer is exposed. The pattern of the mask M is sequentially exposed on each exposure region of W.
[0023]
In the collective exposure, a mask pattern is collectively exposed to each exposure region of a wafer according to a so-called step-and-repeat method. In this case, the shape of the illumination area on the mask M is a rectangular shape close to a square, and the cross-sectional shape of each micro lens of the micro fly's eye lens 5 is also a rectangular shape close to a square. On the other hand, in scan exposure, according to a so-called step-and-scan method, a mask pattern is scanned and exposed on each exposure region of a wafer while the mask and wafer are relatively moved with respect to a projection optical system. In this case, the shape of the illumination area on the mask M is a rectangular shape with a ratio of the short side to the long side of, for example, 1: 3, and the cross-sectional shape of each micro lens of the micro fly's eye lens 5 is similar to this. Shape.
[0024]
Note that the exposure apparatus of the present embodiment is provided with a light intensity distribution measuring device 24 as measuring means for measuring the light intensity distribution on the pupil plane of the projection optical system PL. For details regarding the light intensity distribution measuring device 24, for example, WO99 / 36832, JP-A-11-317349, JP-A-2000-19012, JP-A-2002-110540, and the like can be referred to. The light intensity distribution information on the pupil plane of the projection optical system PL measured by the light intensity distribution measuring device 24 is supplied to the control system 20.
[0025]
The annular illumination can be performed by setting the diffractive optical element 3a in the illumination optical path instead of the diffractive optical element 3. The diffractive optical element 3a for annular illumination converts a rectangular parallel light beam incident along the optical axis AX into a divergent light beam having an annular cross section. Therefore, the light beam having passed through the diffractive optical element 3a forms, for example, an annular illumination field around the optical axis AX on the incident surface of the micro fly's eye lens 5. As a result, an annular secondary light source having substantially the same light intensity distribution as the annular illumination field formed on the incident surface is also formed on the rear focal plane of the micro fly's eye lens 5.
[0026]
Further, by setting the diffractive optical element 3b instead of the diffractive optical elements 3 and 3a in the illumination light path, quadrupole illumination can be performed. The quadrupole illumination diffractive optical element 3b converts a rectangular parallel light beam incident along the optical axis AX into a divergent light beam having a quadrupole cross section. Therefore, the light beam having passed through the diffractive optical element 3b forms, for example, a quadrupole illumination field centered on the optical axis AX on the incident surface of the micro fly's eye lens 5. As a result, a quadrupole secondary light source having substantially the same light intensity distribution as the quadrupole illumination field formed on the incident surface is also formed on the rear focal plane of the micro fly's eye lens 5.
[0027]
FIG. 2 is a diagram illustrating a positional relationship between a correction filter arranged in an optical path between the micro fly's eye lens and the condenser optical system in FIG. 1 and an illumination pupil plane. Referring to FIG. 2, a correction filter 7 is provided on an illumination pupil plane optically in a Fourier transform relationship with a mask M (and thus a wafer W) in an optical path between a micro fly's eye lens 5 and a condenser optical system 8. It is arranged in the vicinity of the arranged aperture stop 6.
[0028]
Specifically, the correction filter 7 is arranged at a distance d (mm) from the aperture stop 6 on the mask side (condenser optical system 8 side) of the aperture stop 6. The correction filter 7 is an optical member in the form of a plane-parallel plate made of an optical material such as quartz glass. Then, a correction surface having a predetermined transmittance distribution expressed by the density of the fine dot pattern of, for example, chrome is formed on the light source side (the micro fly's eye lens 5 side) of the correction filter 7.
[0029]
FIG. 3 schematically illustrates a state in which light intensity distribution unevenness including a tilt component occurs on a pupil plane of the projection optical system, and a transmittance distribution formed in a correction filter for correcting the tilt component of the light intensity distribution unevenness. FIG. In FIG. 3A, the vertical axis is the light intensity I, and the horizontal axis is the position coordinate r along the inclination direction of the light intensity distribution with the optical axis AX as the origin on the pupil plane of the projection optical system PL. In FIG. 3B, the vertical axis represents the transmittance T, and the horizontal axis represents the correction surface (the transmittance distribution is formed) of the correction filter 7 optically corresponding to the position coordinate r on the pupil plane of the projection optical system PL. Position coordinates R on the surface on which the image is recorded).
[0030]
As shown in FIG. 3A, a tilt component (defined according to a linear function of the position coordinate r) on the pupil plane of the projection optical system PL due to, for example, a manufacturing error of an optical member constituting the projection optical system PL. May be generated. In this case, even in the secondary light source formed on the illumination pupil plane (the position where the aperture stop is arranged) having an optically conjugate positional relationship with the pupil plane of the projection optical system PL, the pupil plane of the projection optical system PL The same light intensity distribution unevenness as described above occurs.
[0031]
Therefore, in the present embodiment, in order to correct the inclination component of the light intensity distribution unevenness on the pupil plane of the projection optical system PL, a plurality of correction filters 7a having mutually different transmittance distributions are used as shown in FIG. The correction filter 7 having the transmittance distribution T (R) including the various inclination components is selected, and the correction filter 7 is located near the illumination pupil plane which is optically conjugate with the pupil plane of the projection optical system PL (from the illumination pupil plane). (At a position separated by a distance d (mm)).
[0032]
The transmittance distribution T (R) shown in FIG. 3B is represented by the following equation (1).
T (R) = (1-D) / {1-D / 2 (1 + R / R max )} (1)
In the equation (1), D is a difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance. In the transmittance distribution T (R) shown in FIG. max , The transmittance T is 1 at the maximum, and R = −R max At the position of (1), the transmittance T is (1-D) at the minimum. In the present embodiment, a plurality of correction filters having various forms of transmittance distribution are provided without being limited to the correction filters having the tilt components as described with reference to FIG.
[0033]
In the present embodiment, the light intensity distribution on the pupil plane of the projection optical system PL is measured by using the light intensity distribution measuring device 24 as a measuring means while the correction filter 7 is retracted from the illumination optical path as necessary. I do. Then, according to the light intensity distribution unevenness on the pupil plane of the projection optical system PL (that is, the light intensity in the secondary light source formed on the illumination pupil plane which is optically conjugate with the pupil plane of the projection optical system PL) Using the control system 20 and the third drive system 23 as filter switching means, the correction filter 7 having a required transmittance distribution is changed from the plurality of correction filters 7a having different transmittance distributions. Select and position in the illumination light path.
[0034]
As described above, in the present embodiment, the vicinity of the illumination pupil plane which has an optically conjugated positional relationship with the pupil plane of the projection optical system PL (and has an optical Fourier transform relation with the mask M (and thus the wafer W)). The light intensity distribution of the light flux from the secondary light source is corrected by the action of the correction filter 7 having a required transmittance distribution and thus, the light intensity distribution unevenness on the pupil plane of the projection optical system PL is favorably corrected. In addition, the light intensity distribution in the angular direction of the light beam incident on the wafer W can be made uniform. As a result, in the present embodiment, it is possible to perform good exposure without substantially causing a line width abnormality, and to manufacture a good micro device.
[0035]
In the present embodiment, the distance d (mm) between the correction filter 7 and the aperture stop 6 (illumination pupil plane) satisfies the following conditional expression (2).
0.01 <1 / d <2 (2)
If the lower limit of conditional expression (2) is not reached, the correction filter 7 is too far from the illumination pupil plane, and a desired light intensity distribution to be formed on the pupil plane of the projection optical system PL by the action of the correction filter 7 is realized. Becomes difficult. On the other hand, when the value exceeds the upper limit value of the conditional expression (2), the correction filter 7 is too close to the illumination pupil plane, and correction is performed due to the effect of energy concentration in a large number of point light sources (secondary light sources) formed on the illumination pupil plane. The glass substrate or coat of the filter 7 is easily damaged.
[0036]
In the above-described embodiment, the correction surface having the predetermined transmittance distribution is formed on the light source side of the correction filter 7. However, the present invention is not limited to this, and the correction surface may be formed on the mask side of the correction filter 7. You can also. Further, the correction filter 7 is disposed on the mask side of the aperture stop 6. However, unless the correction filter 7 has a substantial adverse effect on the imaging performance of the micro fly's eye lens 5, the diffraction of the dot pattern is also prevented. As long as the phenomenon does not have a substantial adverse effect, the correction filter 7 can be arranged closer to the light source than the aperture stop 6. In this case, by the operation of the correction filter 7, the light intensity distribution of the light beam forming the secondary light source is corrected, and the light intensity distribution unevenness on the pupil plane of the projection optical system PL is favorably corrected.
[0037]
In the above-described embodiment, the light intensity distribution (shape and size of the secondary light source) on the illumination pupil plane (the rear focal plane of the micro fly's eye lens 5) which has an optical Fourier transform relationship with the mask M is described. The illumination condition is switched by changing the illumination condition. It is conceivable that unevenness of the light intensity distribution occurs on the pupil plane of the projection optical system PL according to the switching of the illumination condition. In this case, the plurality of correction filters 7a can be switched with respect to the illumination light path in accordance with switching of illumination conditions.
[0038]
Further, in the above-described embodiment, the plurality of correction filters 7a are switched with respect to the illumination optical path in accordance with the uneven light intensity distribution on the pupil plane of the projection optical system PL. Has a predetermined transmittance distribution when does not substantially change over time, or when the light intensity distribution on the pupil plane of the projection optical system PL does not substantially change due to switching of the illumination condition. The correction filter 7 can be fixedly positioned in the illumination light path.
[0039]
In the above-described embodiment, the correction filter 7 is arranged near the aperture stop 6, but the correction filter 7 has a substantial adverse effect on the optical conjugate relationship between the mask blind 9 and the mask M. The correction filter 7 is optically Fourier-transformed with the mask M (and, consequently, the wafer W) in the optical path of the imaging optical system 10 unless the diffraction phenomenon of the dot pattern has a substantial adverse effect. It can also be located near the position.
[0040]
By the way, in the above-described embodiment, the correction filter 7 is arranged alone near the illumination pupil plane, but the first correction filter having the first transmittance distribution and the second correction filter having the second transmittance distribution are provided. A modification in which the correction filter and the correction filter are arranged near the illumination pupil plane in a state of being close to each other along the optical axis is also possible. In the first modification using a pair of correction filters, the first correction filter and the second correction filter are configured to be rotatable around the optical axis (or an axis parallel to the optical axis).
[0041]
FIG. 4 is a first diagram schematically illustrating the operation of a pair of correction filters used in the first modification. FIG. 5 is a second diagram schematically illustrating the operation of the pair of correction filters used in the first modification. 4 and 5, a region a is a region where the transmittance changes in a range of 0.98 to 1, a region b is a region where a transmittance changes in a range of 0.96 to 0.98, and a region c is a transmittance. Is a region where the transmittance changes in a range of 0.94 to 0.96, a region d is a region where the transmittance changes in a range of 0.92 to 0.94, and a region e is a range where the transmittance is 0.90 to 0.92. Is the area that changes.
[0042]
Further, a region f is a region where the transmittance changes in a range from 0.88 to 0.90, a region g is a region where the transmittance changes in a range from 0.86 to 0.88, and a region h is a region where the transmittance is 0. A region where the transmittance changes in a range from 84 to 0.86, a region i is a region where the transmittance changes in a range from 0.82 to 0.84, and a region j changes in a range where the transmittance is from 0.80 to 0.82. Area. In the examples shown in FIGS. 4 and 5, both the first correction filter and the second correction filter have a distribution in which the transmittance changes from 0.9 to 1 in one direction.
[0043]
Specifically, FIG. 4A shows a composite transmittance distribution obtained when the first correction filter and the second correction filter are arranged in the same manner so that the direction of change in transmittance is horizontal in the figure. . In the state shown in FIG. 4A, a composite transmittance distribution in which the transmittance changes along the horizontal direction from 0.8 to 1 is obtained. FIG. 4B shows a composite transmittance distribution obtained when the first correction filter is rotated 65 degrees counterclockwise and the second correction filter is rotated 65 degrees clockwise from the state of FIG. 4A. Is shown. In the state shown in FIG. 4B, a composite transmittance distribution in which the transmittance changes along the horizontal direction from about 0.86 to about 0.96 is obtained.
[0044]
FIG. 4C shows a composite transmittance distribution obtained when the first correction filter is rotated by 80 degrees counterclockwise and the second correction filter is rotated by 80 degrees clockwise from the state of FIG. 4A. Is shown. In the state shown in FIG. 4C, a composite transmittance distribution in which the transmittance changes along the horizontal direction from about 0.88 to about 0.92 is obtained. FIG. 5A shows a composite transmittance distribution obtained when the first correction filter is rotated 90 degrees counterclockwise and the second correction filter is rotated 90 degrees clockwise from the state of FIG. 4A. Is shown. In the state shown in FIG. 5A, a uniform composite transmittance distribution having a transmittance of about 0.9 is obtained.
[0045]
FIG. 5B shows a case where the first correction filter is rotated 110 (65 + 45) degrees counterclockwise and the second correction filter is rotated 20 (−65 + 45) degrees clockwise from the state of FIG. 4A. 2 shows the obtained composite transmittance distribution. In other words, FIG. 5B shows a composite transmittance distribution obtained when the first correction filter and the second correction filter are integrally rotated counterclockwise by 45 degrees from the state of FIG. 4B. Is shown. In the state shown in FIG. 5B, a combined transmittance distribution obtained by rotating the combined transmittance distribution shown in FIG. 4B counterclockwise by 45 degrees is obtained.
[0046]
As described above, in the first modification, it is possible to obtain a composite transmittance distribution that changes over various ranges by relatively rotating the pair of correction filters. In addition, by integrally rotating the pair of correction filters, it is possible to obtain a composite transmittance distribution that changes along various directions. Furthermore, if necessary, the pair of correction filters are moved relatively or integrally along a direction intersecting the optical axis (typically, a direction orthogonal to the optical axis), so that variously changing synthesis filters can be obtained. A transmittance distribution can be obtained.
[0047]
In the above description with reference to FIGS. 4 and 5, a pair of correction filters having a transmittance distribution in which the transmittance linearly changes in one direction is used. By using a pair of correction filters having a distribution or a pair of correction filters having arbitrary transmittance distributions different from each other, it is possible to obtain a composite transmittance distribution that changes according to various forms. Also, a plurality of sets of the first correction filter and the second correction filter are provided, and the plurality of sets of the first correction filter and the second correction filter are switched with respect to the illumination optical path (the plurality of sets of the first correction filter and the set of the first correction filter are changed from the plurality of sets. By selecting the second correction filter and positioning it in the illumination light path), it is possible to obtain a more variously changing composite transmittance distribution.
[0048]
In the above-described embodiment and the first modification, the correction filter 7 is arranged near the illumination pupil plane. However, the light beam forming the secondary light source or the peripheral portion of the light beam from the secondary light source is partially removed. A second modification in which a light blocking member for blocking light is arranged near the illumination pupil plane is also possible. FIG. 6 is a diagram schematically illustrating a main configuration of a light shielding member used in the second modification. As shown in FIG. 6, a light shielding member 70 used in the second modification includes a pair of blade members 70a and 70b movable in a horizontal direction in the figure and a pair of blade members 70a and 70b movable in a vertical direction in the figure. The blade members 70c and 70d are provided.
[0049]
Here, each blade member is formed by forming a light-shielding thin film such as aluminum or chrome on a quartz glass substrate, for example. Alternatively, each blade member is formed by, for example, forming a predetermined light-shielding rate distribution represented by the density of fine dot patterns such as chrome on a quartz glass substrate. As described above, by partially shielding the peripheral portion of the light beam forming the secondary light source or the light beam from the secondary light source by using the light shielding member 70, the projection optical system PL is used similarly to the case where the correction filter is used. Light intensity distribution unevenness on the pupil plane can be corrected. Note that the light shielding member of the second modification can be used together with the correction filter of the above-described embodiment or the pair of correction filters of the first modification.
[0050]
In the exposure apparatus according to the above-described embodiment, a mask (reticle) is illuminated by an illumination optical device (illumination step), and a transfer pattern formed on the mask is exposed onto a photosensitive substrate using a projection optical system (exposure). Through the steps, a micro device (semiconductor element, imaging element, liquid crystal display element, thin film magnetic head, etc.) can be manufactured. Hereinafter, an example of a method for obtaining a semiconductor device as a micro device by forming a predetermined circuit pattern on a wafer or the like as a photosensitive substrate using the exposure apparatus of the above-described embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG. Will be explained.
[0051]
First, in step 301 of FIG. 7, a metal film is deposited on one lot of wafers. In the next step 302, a photoresist is applied on the metal film on the l lot of wafers. Thereafter, in step 303, using the exposure apparatus of the above-described embodiment, an image of the pattern on the mask is sequentially exposed and transferred to each shot area on the wafer of the lot through the projection optical system. After that, in step 304, the photoresist on the one lot of wafers is developed, and in step 305, the resist on the one lot of wafers is etched using the resist pattern as a mask to form a pattern on the mask. A corresponding circuit pattern is formed in each shot area on each wafer. Thereafter, a device such as a semiconductor element is manufactured by forming a circuit pattern of an upper layer and the like. According to the above-described semiconductor device manufacturing method, a semiconductor device having an extremely fine circuit pattern can be obtained with high throughput.
[0052]
In the exposure apparatus of the above-described embodiment, a liquid crystal display element as a micro device can be obtained by forming a predetermined pattern (a circuit pattern, an electrode pattern, etc.) on a plate (glass substrate). Hereinafter, an example of the technique at this time will be described with reference to the flowchart in FIG. 8, in a pattern forming step 401, a so-called photolithography step of transferring and exposing a mask pattern onto a photosensitive substrate (eg, a glass substrate coated with a resist) using the exposure apparatus of the above-described embodiment is performed. . By this photolithography process, a predetermined pattern including a large number of electrodes and the like is formed on the photosensitive substrate. Thereafter, the exposed substrate undergoes each of a developing process, an etching process, a resist stripping process, and the like, whereby a predetermined pattern is formed on the substrate, and the process proceeds to the next color filter forming process 402.
[0053]
Next, in the color filter forming step 402, a large number of sets of three dots corresponding to R (Red), G (Green), and B (Blue) are arranged in a matrix, or three sets of R, G, B Are formed in a horizontal scanning line direction to form a color filter. Then, after the color filter forming step 402, a cell assembling step 403 is performed. In the cell assembly step 403, a liquid crystal panel (liquid crystal cell) is assembled using the substrate having the predetermined pattern obtained in the pattern formation step 401, the color filter obtained in the color filter formation step 402, and the like. In the cell assembling step 403, for example, a liquid crystal is injected between the substrate having the predetermined pattern obtained in the pattern forming step 401 and the color filter obtained in the color filter forming step 402, and a liquid crystal panel (liquid crystal cell) is formed. ) To manufacture.
[0054]
Thereafter, in a module assembling step 404, components such as an electric circuit and a backlight for performing a display operation of the assembled liquid crystal panel (liquid crystal cell) are attached to complete a liquid crystal display element. According to the above-described method for manufacturing a liquid crystal display device, a liquid crystal display device having an extremely fine circuit pattern can be obtained with high throughput.
[0055]
In the above-described embodiment, KrF excimer laser light (wavelength: 248 nm) or ArF excimer laser light (wavelength: 193 nm) is used as the exposure light. For example, F that supplies a laser beam having a wavelength of 157 nm 2 The present invention can also be applied to a laser light source or a light source other than the laser light source, for example, a lamp light source that supplies ultraviolet light such as i-line, g-line, and h-line.
[0056]
Further, in the above-described embodiment, the present invention is applied to the illumination optical device having the specific configuration as shown in FIG. 1, but various modifications are possible for the specific configuration of the illumination optical device. It is. For example, an optical system from the diffractive optical element 3 as the first integrator to the micro fly's eye lens 5 as the second integrator in the above embodiment is disclosed in JP-A-2001-85293 and JP-A-2002-231719. The present invention can also be applied to an illumination optical device obtained by replacing the optical system of the corresponding part.
[0057]
Further, in the above-described embodiment, the present invention has been described by taking as an example a projection exposure apparatus provided with an illumination optical device. However, the present invention is applied to a general illumination optical device for illuminating an irradiated surface other than a mask. Obviously you can.
[0058]
【The invention's effect】
As described above, in the illumination optical device of the present invention, for example, by the action of a correction filter having a required transmittance distribution that is arranged near an illumination pupil plane that is optically Fourier-transformed to the surface to be illuminated, It corrects the light intensity distribution of the light beam forming the secondary light source or the light beam from the secondary light source, and thus satisfactorily corrects the light intensity distribution unevenness in the secondary light source formed on the illumination pupil plane, and enters the irradiated surface. The light intensity distribution in the angular direction of the luminous flux can be made uniform. Therefore, according to the exposure apparatus and the exposure method using the illumination optical device of the present invention, it is possible to perform a good exposure without substantially causing a line width abnormality, and to manufacture a good micro device.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a view schematically showing a configuration of an exposure apparatus including an illumination optical device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating a positional relationship between a correction filter disposed in an optical path between a micro fly's eye lens and a condenser optical system in FIG. 1 and an illumination pupil plane.
FIG. 3 schematically illustrates a state in which light intensity distribution unevenness including a tilt component occurs on a pupil plane of a projection optical system, and a transmittance distribution formed in a correction filter for correcting the tilt component of the light intensity distribution unevenness. FIG.
FIG. 4 is a first diagram schematically illustrating the operation of a pair of correction filters used in a first modification.
FIG. 5 is a second diagram schematically illustrating the operation of a pair of correction filters used in the first modification.
FIG. 6 is a view schematically showing a main configuration of a light shielding member used in a second modification.
FIG. 7 is a flowchart of a method for obtaining a semiconductor device as a micro device.
FIG. 8 is a flowchart of a method for obtaining a liquid crystal display element as a micro device.
[Explanation of symbols]
1 Laser light source
3 Diffractive optical element
4 Zoom lens
5 Micro fly-eye lens
7 Correction filter
8 Condenser optical system
9 Mask blinds
10. Imaging optical system
20 Control system
21-23 drive system
24 Light intensity distribution measuring device
70 Light shielding member
M mask
MS mask stage
PL projection optical system
W wafer
WS wafer stage

Claims (14)

  1. 光源からの光束に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
    前記被照射面と光学的にフーリエ変換の関係にある照明瞳面から距離d(mm)だけ間隔を隔てて配置されて、前記照明瞳面に形成される二次光源内の光強度分布ムラに応じて、前記二次光源を形成する光束または前記二次光源からの光束の光強度分布を補正するための補正手段を備え、前記距離dは、
    0.01<1/d<2
    の条件を満足することを特徴とする照明光学装置。
    In an illumination optical device that illuminates a surface to be irradiated based on a light beam from a light source,
    The light intensity distribution unevenness in the secondary light source formed on the illumination pupil plane, which is arranged at a distance d (mm) from the illumination pupil plane that is optically in a Fourier transform relationship with the illumination target surface. Accordingly, a correction unit for correcting the light intensity distribution of the light beam forming the secondary light source or the light beam from the secondary light source is provided, and the distance d is
    0.01 <1 / d <2
    An illumination optical device characterized by satisfying the following conditions:
  2. 前記補正手段は、所定の透過率分布を有する補正フィルターを有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。The illumination optical device according to claim 1, wherein the correction unit includes a correction filter having a predetermined transmittance distribution.
  3. 前記補正手段は、互いに異なる透過率分布を有する複数の前記補正フィルターを有し、
    前記複数の補正フィルターは、前記二次光源内の光強度分布ムラに応じて照明光路に対して切り換え可能に構成されていることを特徴とする請求項2に記載の照明光学装置。
    The correction unit has a plurality of correction filters having different transmittance distribution from each other,
    The illumination optical device according to claim 2, wherein the plurality of correction filters are configured to be switchable with respect to an illumination optical path according to light intensity distribution unevenness in the secondary light source.
  4. 前記補正手段は、第1の透過率分布を有する第1補正フィルターと、第2の透過率分布を有する第2補正フィルターとを有し、前記第1補正フィルターと前記第2補正フィルターとは光軸に沿って互いに近接して配置され、前記光軸または前記光軸と平行な軸線を中心としてそれぞれ回転可能に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。The correction means has a first correction filter having a first transmittance distribution and a second correction filter having a second transmittance distribution, and the first correction filter and the second correction filter are optically coupled. The illumination optical device according to claim 1, wherein the illumination optical device is arranged close to each other along an axis, and is rotatable around the optical axis or an axis parallel to the optical axis.
  5. 前記第1補正フィルターおよび前記第2補正フィルターは前記光軸と交差する面に沿ってそれぞれ移動可能に構成されていることを特徴とする請求項4に記載の照明光学装置。The illumination optical device according to claim 4, wherein the first correction filter and the second correction filter are configured to be movable along a plane that intersects the optical axis.
  6. 前記補正手段は、複数組の前記第1補正フィルターおよび前記第2補正フィルターを有し、
    前記複数組の第1補正フィルターおよび第2補正フィルターは、前記二次光源内の光強度分布ムラに応じて照明光路に対して切り換え可能に構成されていることを特徴とする請求項4または5に記載の照明光学装置。
    The correction unit has a plurality of sets of the first correction filter and the second correction filter,
    6. The plurality of sets of the first correction filter and the second correction filter are configured to be switchable with respect to an illumination optical path according to light intensity distribution unevenness in the secondary light source. 7. 3. The illumination optical device according to claim 1.
  7. 前記補正手段は、前記二次光源を形成する光束または前記二次光源からの光束の周辺部を部分的に遮光するための遮光部材を有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。2. The illumination optical device according to claim 1, wherein the correction unit includes a light blocking member for partially blocking a light beam forming the secondary light source or a peripheral portion of a light beam from the secondary light source. 3. .
  8. 前記遮光部材は、光軸と交差する面に沿って移動可能で且つ所定の遮光率分布を有することを特徴とする請求項7に記載の照明光学装置。The illumination optical device according to claim 7, wherein the light shielding member is movable along a plane intersecting an optical axis and has a predetermined light shielding ratio distribution.
  9. 前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置されたオプティカルインテグレータをさらに備え、
    前記補正手段は、前記オプティカルインテグレータと前記被照射面との間の光路中に配置されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の照明光学装置。
    Further comprising an optical integrator arranged in the optical path between the light source and the irradiated surface,
    The illumination optical device according to claim 1, wherein the correction unit is disposed in an optical path between the optical integrator and the surface to be illuminated.
  10. 前記照明瞳面に配置されて前記二次光源の形状または大きさを規定するための開口絞りをさらに備え、
    前記補正手段は前記開口絞りよりも被照射面側に配置されていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の照明光学装置。
    Further comprising an aperture stop arranged on the illumination pupil plane to define the shape or size of the secondary light source,
    The illumination optical device according to claim 1, wherein the correction unit is disposed closer to a surface to be illuminated than the aperture stop.
  11. 所定のパターンが形成されたマスクを照明するための請求項1乃至10のいずれか1項に記載の照明光学装置と、前記マスクのパターン像を感光性基板上に形成するための投影光学系とを備えていることを特徴とする露光装置。An illumination optical device according to any one of claims 1 to 10 for illuminating a mask on which a predetermined pattern is formed, and a projection optical system for forming a pattern image of the mask on a photosensitive substrate. An exposure apparatus comprising:
  12. 前記投影光学系の瞳面における光強度分布を計測するための計測手段と、前記瞳面における光強度分布の計測結果に応じて前記複数の補正フィルターまたは前記複数組の第1補正フィルターおよび第2補正フィルターを切り換えるための切り換え手段とをさらに備えていることを特徴とする請求項11に記載の露光装置。A measuring unit for measuring a light intensity distribution on a pupil plane of the projection optical system; The exposure apparatus according to claim 11, further comprising a switching unit for switching a correction filter.
  13. 請求項1乃至10のいずれか1項に記載の照明光学装置を介してマスクを照明し、照明された前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法。A mask is illuminated via the illumination optical device according to any one of claims 1 to 10, and a pattern formed on the illuminated mask is exposed on a photosensitive substrate via a projection optical system. Characteristic exposure method.
  14. 前記投影光学系の瞳面における光強度分布を計測する計測工程と、前記瞳面における光強度分布の計測結果に応じて前記複数の補正フィルターまたは前記複数組の第1補正フィルターおよび第2補正フィルターを切り換える切り換え工程とをさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の露光方法。A measurement step of measuring a light intensity distribution on a pupil plane of the projection optical system; 14. The exposure method according to claim 13, further comprising: a switching step of switching.
JP2003035936A 2003-02-14 2003-02-14 Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method Active JP4366948B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003035936A JP4366948B2 (en) 2003-02-14 2003-02-14 Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003035936A JP4366948B2 (en) 2003-02-14 2003-02-14 Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004247527A true JP2004247527A (en) 2004-09-02
JP4366948B2 JP4366948B2 (en) 2009-11-18

Family

ID=33021179

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003035936A Active JP4366948B2 (en) 2003-02-14 2003-02-14 Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4366948B2 (en)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007027240A (en) * 2005-07-13 2007-02-01 Nikon Corp Illumination optical device, exposure apparatus, and exposure method
JP2009267390A (en) * 2008-04-29 2009-11-12 Nikon Corp Optical integrator, illumination optical system, exposure device, and device manufacturing method
JP2009267400A (en) * 2008-04-29 2009-11-12 Nikon Corp Correction filter, illumination optical system, exposure device, and method for manufacturing device
JP2010192471A (en) * 2009-02-13 2010-09-02 Canon Inc Illumination optical system, exposure apparatus, and device fabrication method
US8300209B2 (en) 2009-04-13 2012-10-30 Canon Kabushiki Kaisha Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8462316B2 (en) 2008-11-06 2013-06-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus, method of controlling the same, and device manufacturing method
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US8611013B2 (en) 2005-12-21 2013-12-17 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical device, aligner, and method for fabricating device
JP2014143445A (en) * 2005-06-02 2014-08-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Microlithography projection objective
US9057963B2 (en) 2007-09-14 2015-06-16 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
DE102007033916B4 (en) * 2006-08-04 2016-02-18 Olympus Corporation Optical element for illumination homogenization
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US10281632B2 (en) 2003-11-20 2019-05-07 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10241417B2 (en) 2004-02-06 2019-03-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10234770B2 (en) 2004-02-06 2019-03-19 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
JP2014143445A (en) * 2005-06-02 2014-08-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Microlithography projection objective
US9097984B2 (en) 2005-06-02 2015-08-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Microlithography projection objective
US10281824B2 (en) 2005-06-02 2019-05-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Microlithography projection objective
JP2007027240A (en) * 2005-07-13 2007-02-01 Nikon Corp Illumination optical device, exposure apparatus, and exposure method
US8611013B2 (en) 2005-12-21 2013-12-17 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical device, aligner, and method for fabricating device
DE102007033916B4 (en) * 2006-08-04 2016-02-18 Olympus Corporation Optical element for illumination homogenization
US9057963B2 (en) 2007-09-14 2015-06-16 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US9366970B2 (en) 2007-09-14 2016-06-14 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2009267390A (en) * 2008-04-29 2009-11-12 Nikon Corp Optical integrator, illumination optical system, exposure device, and device manufacturing method
JP2009267400A (en) * 2008-04-29 2009-11-12 Nikon Corp Correction filter, illumination optical system, exposure device, and method for manufacturing device
US8462316B2 (en) 2008-11-06 2013-06-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus, method of controlling the same, and device manufacturing method
JP2010192471A (en) * 2009-02-13 2010-09-02 Canon Inc Illumination optical system, exposure apparatus, and device fabrication method
US8300209B2 (en) 2009-04-13 2012-10-30 Canon Kabushiki Kaisha Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP4366948B2 (en) 2009-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6493325B2 (en) Flux conversion element, illumination optical device, exposure apparatus, and exposure method
TWI390331B (en) Optical illuminating device, exposure device and method of exposure
TWI431430B (en) Explosure method, explosure apparatus, photomask, and method for manufacturing photomask
TWI479271B (en) An exposure apparatus and an exposure method, and an element manufacturing method
EP0969327B1 (en) Multiple exposure apparatus and method
EP2518565B1 (en) Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP3395280B2 (en) Projection exposure apparatus and method
US6819403B2 (en) Illumination optical system, exposure apparatus, and microdevice manufacturing method
US8675177B2 (en) Exposure method and apparatus, and method for fabricating device with light amount distribution having light larger in first and second pairs of areas
TW546699B (en) Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution
KR100674045B1 (en) Illumination apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
JP4489783B2 (en) Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
US7471456B2 (en) Optical integrator, illumination optical device, exposure device, and exposure method
EP1293834B1 (en) Illumination apparatus
US6890692B2 (en) Method of focus monitoring and manufacturing method for an electronic device
JP5626433B2 (en) Illumination optical system, exposure apparatus, optical element, manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US7379160B2 (en) Optical integrator, illumination optical device, exposure apparatus, and exposure method
US7073924B2 (en) Projection exposure apparatus with line width calculator controlled diaphragm unit
US20020187406A1 (en) Photomask producing method and apparatus and device manufacturing method
JP3232473B2 (en) Projection exposure apparatus and device manufacturing method using the same
KR101682727B1 (en) Illumination optical system, exposure device, anf device manufacturing method
JP5127875B2 (en) Lithographic apparatus and article manufacturing method
JP2004063988A (en) Illumination optical system, aligner having the system, and method of manufacturing device
JP2940553B2 (en) Exposure method
EP1837895B1 (en) Optical integrator, illumination optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051020

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070411

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070420

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070611

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080821

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080929

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090501

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090604

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090804

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090817

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4366948

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120904

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150904

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150904

Year of fee payment: 6

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250