JP2004239760A - Self erase/write device of semiconductor memory and self burn-in test method for semiconductor memory - Google Patents

Self erase/write device of semiconductor memory and self burn-in test method for semiconductor memory Download PDF

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JP2004239760A JP2003029536A JP2003029536A JP2004239760A JP 2004239760 A JP2004239760 A JP 2004239760A JP 2003029536 A JP2003029536 A JP 2003029536A JP 2003029536 A JP2003029536 A JP 2003029536A JP 2004239760 A JP2004239760 A JP 2004239760A
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erase
burn
self
semiconductor memory
test
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Shigeru Furuta
成 古田
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Sharp Corp
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Sharp Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To perform a burn-in test, severe and flexible, even when a rewritable nonvolatile semiconductor memory is tested. <P>SOLUTION: A control circuit 12 shifts an internal state to a self erase/write mode or self burn-in mode, and outputs an address signal and a high-voltage control signal in each internal state. Accordingly, a write property and an erase property are investigated after write/erase operations are repeated a predetermined number of times, and a precise and severe self burn-in test of a nonvolatile semiconductor memory cell array 1 can be performed. In an erasable/rewritable nonvolatile memory 13, the number of repetition of erase/write operations when repeated, and test data etc. obtained when write operation is performed are stored. Accordingly, the number of repetition, test data, etc. can be rewritten, and a flexible test can be performed responding to a request for a burn-in test which complies with multi-valuing, or a burn-in test which classifies specifications separately depending on their ranks. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体メモリのセルフイレース・ライト装置、および、半導体メモリのセルフバーンインテスト方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、半導体メモリチップの初期不良を短時間内に漉すためにバーンインテストが行われる(例えば、特許文献1参照)。このバーンインテストは、バーンインテスト装置によって、正常動作時よりも高い電圧と温度とを半導体メモリチップに加えた条件下で、この半導体メモリに対してリード・ライト動作を繰り返して行い、半導体メモリチップにストレスを与えてテストを行うものである。こうすることによって、初期不良チップを排除することができるのである。
【0003】
また、一度に多くの半導体メモリチップをテストするために、上記バーンインテスト装置を簡便化したセルフバーンイン回路をメモリチップ内部に設けることによって、上記バーンインテストに必要な各種制御信号,アドレスおよびテストデータ等をチップ内部で発生させることが一般的な傾向になっている。
【0004】
このようなバーンインテストのための上記セルフバーンイン回路においては、バーンイン感知部によって、所定のバーンインテスト条件が満たされたことが検知されると、バーンインテストを行うための所定の制御信号,アドレス信号およびテストデータが発生される。そして、上記制御信号に基づいて、上記アドレス信号に応じて選択されたメモリセルに対して上記テストデータがリード・ライトされて上記バーンインテストが遂行される。
【0005】
このように、上記セルフバーンイン回路をメモリチップ内部に内蔵させることによって、通常のバーンインテストの場合のように、バーンインテスト装置に半導体メモリチップを連結した状態で上記制御信号,アドレスおよびテストデータ等を上記メモリチップに供給する必要がなくなる。したがって、上記セルフバーンイン回路には、上記制御信号,アドレス信号およびテストデータ等を供給するためのラインを設けたバーンインテストボードを設ける必要がなく、上記セルフバーンイン回路を簡素化できる。したがって、一度にテスト可能なチップの数の制限を緩和することができるのである。
【0006】
【特許文献1】
特開平9‐219099号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来のセルフバーンイン回路には、以下のような問題がある。
【0008】
すなわち、キャパシタを内蔵したDRAM(ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ)やラッチ回路を内蔵したSRAM(スタティック・ランダム・アクセス・メモリ)のような半導体メモリに対するバーンインテストの場合には、純粋にリード・ライトのテストを行えば良く、内蔵されたキャパシタへの電荷保持状態やラッチ回路のラッチ保持状態をテストするだけで良い。
【0009】
ところが、書き換え可能な不揮発性半導体メモリであるフラッシュメモリの場合は、トンネル酸化膜を介してチャネル領域とフローティングゲートとの間でトンネル効果による電子の注入あるいは引き抜きを行うこと、その際に高電圧のプログラム電圧(書込み電圧)やイレース電圧(消去電圧)を印加する必要があることから、書込み・消去を所定回数繰り返した後の書込み特性や消去特性を調べて、仕様に従って使用した場合における特性変化の予測等を行う必要がある。そのために、テスト項目は非常にシビアとなる。
【0010】
また、今後の多値化に対応したバーンインテストを行う場合は、更に書込み特性・消去特性をシビアにテストする必要がある。したがって、単に総てのラインを選択してデータが「1」であるか「0」であるかをチェックしたり、あるいはその反転データであるかをチェックしたりするだけでのテストでは、チップ不良品の排除はできない。
【0011】
また、上記書込み特性・消去特性の結果からアクセス時間の仕様をランク(高速型,低速型)別に分類して良品とする場合もある。そのような場合に対処するためには、多種類のテスト項目や融通性のあるテストが必要となる。
【0012】
ところが、上記従来のセルフバーンイン回路では、各テスト項目のテスト手順やテストデータ等は予め設定されて記憶・固定されている。したがって、フラッシュメモリ等の書き換え可能な不揮発性半導体メモリに対しては、目的に応じてテスト項目やテスト手順やテストデータを変更したり、良品のランクを変更したりして、融通性のあるバーンインテストができないという問題がある。
【0013】
したがって、そのような融通性のあるバーンインテストやシビアなバーンインテストに対応しようとすれば、予め総てのテスト項目毎にテスト手順やテストデータ等を設定して記憶しておく必要があり、大きな記憶容量が必要であるという問題がある。
【0014】
そこで、この発明の目的は、書き換え可能な不揮発性半導体メモリに対してシビアな且つ融通性のあるバーンインテストを行うことが可能な半導体メモリのセルフイレース・ライト装置、および、半導体メモリのセルフバーンインテスト方法を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、この発明の半導体メモリのセルフイレース・ライト装置は、半導体メモリセルがマトリクス状に配列されてなる半導体メモリセルアレイと、所定のセルフバーンインテスト条件が満たされたことを感知してバーンイン信号を出力するバーンイン感知部と、上記半導体メモリセルアレイに対する上記イレース・ライト動作を行う際におけるイレース・ライト動作の繰り返し回数と,上記ライト動作時にメモリセルに書き込むテストデータとを,含むテスト情報を格納する書き換え可能な不揮発性メモリと、上記バーンイン信号が入力されると,上記書き換え可能な不揮発性メモリに格納された上記テスト情報に基づいて,上記イレース・ライト動作に必要な高電圧制御信号およびアドレス信号を含む制御信号を出力するコントロール部と、上記制御信号に基づいて,上記半導体メモリセルアレイにおける上記アドレス信号に応じた領域のメモリセルを選択し,この選択メモリセルに対して上記テストデータによるイレース・ライト動作を上記繰り返し回数だけ行うセルフイレース・ライト動作部を備えている。
【0016】
上記構成によれば、外部から上記セルフバーンインテスト条件が満たされる状態にしてやれば、自動的に上記半導体メモリセルアレイに対するセルフイレース・ライト動作が行われる。したがって、上記イレース・ライト動作が終了した後の各メモリセルから上記テストデータをリードすることによって、上記半導体メモリセルアレイに対して書込み・消去を繰り返した後の書込み特性や消去特性を調べることが可能になる。すなわち、上記半導体メモリセルアレイを仕様に従って使用した場合における特性変化の予測等を行うことができ、書き換え可能な不揮発性半導体メモリに対する的確且つシビアなセルフバーンインテストを行うことが可能になる。
【0017】
また、1実施例の半導体メモリのセルフイレース・ライト装置では、上記コントロール部を、セルフイレース・ライトモードからセルフバーンインモードに内部状態を遷移可能にし、上記セルフイレース・ライトモード時には上記イレース・ライト動作に必要な高電圧制御信号およびアドレス信号を含む制御信号を出力する一方、上記セルフバーンインモード時には上記イレース・ライト動作終了後の上記半導体メモリセルアレイに対するリード動作に必要な高電圧制御信号およびアドレス信号を含む制御信号を出力するようにしている。
【0018】
この実施例によれば、上記半導体メモリセルアレイに対するイレース・ライト動作が終了した後に、自動的に上記半導体メモリセルアレイに対するリード動作が行われる。こうして、書き換え可能な不揮発性半導体メモリセルアレイに対するセルフバーンインテストが自動的且つ的確に行われる。
【0019】
また、1実施例の半導体メモリのセルフイレース・ライト装置では、上記書き換え可能な不揮発性メモリを、上記セルフバーンインテスト条件が満たされない場合にのみ、上記格納されているテスト情報を、外部からの制御情報,アドレスおよびテストデータに基づいて書き換え可能にしている。
【0020】
この実施例によれば、通常動作モード時に、外部から半導体メモリチップに対して制御情報,アドレスおよびテストデータを入力することによって、上記書き換え可能な不揮発性メモリに格納されている上記繰り返し回数やテストデータ等を含むテスト情報が、上記外部からの制御情報,アドレスおよびテストデータに基づいて書き換えられる。したがって、多値化に対応したバーンインテストや仕様をランク別に分類するバーンインテストに応じて上記テスト情報を書き換えることによって、目的に応じた融通性のあるテストを行うことが可能になる。
【0021】
さらに、テスト項目毎に上記書き換え可能な不揮発性メモリ内のテスト情報を書き換えることによって、小量のメモリ容量で各種テストを実現することができる。
【0022】
また、1実施例の半導体メモリのセルフイレース・ライト装置では、上記半導体メモリセルアレイを書き換え可能な不揮発性メモリセルで構成し、上記書き換え可能な不揮発性メモリのセル構造を、上記半導体メモリセルアレイのセル構造と同一にしている。
【0023】
この実施例によれば、上記書き換え可能な不揮発性メモリを設けることに起因する半導体メモリチップ製造プロセスの複雑化が防止される。
【0024】
また、この発明の半導体メモリのセルフバーンインテスト方法は、書き換え可能な不揮発性メモリに,半導体メモリセルアレイに対する上記イレース・ライト動作を行う際のイレース・ライト動作の繰り返し回数と,上記ライト動作時にメモリセルに書き込むテストデータとを,含むテスト情報を格納し、所定のセルフバーンインテスト条件が満たされるとバーンイン信号を発生し、上記バーンイン信号が発生されると,上記書き換え可能な不揮発性メモリに格納された上記テスト情報に基づいて,上記イレース・ライト動作に必要な高電圧制御信号およびアドレス信号を含む制御信号を発生し、上記制御信号に基づいて,上記半導体メモリセルアレイにおける上記アドレス信号に応じた領域のメモリセルを選択し,この選択メモリセルに対して上記テストデータによるイレース・ライト動作を上記繰り返し回数だけ行い、上記イレース・ライト動作の結果を読み出すようにしている。
【0025】
上記構成によれば、外部から上記セルフバーンインテスト条件が満たされる状態にしてやれば、上記半導体メモリセルアレイに対して書込み・消去を複数回繰り返した後に書き込み特性や消去特性を調べるセルフバーンインテストが自動的に実行される。したがって、上記半導体メモリセルアレイを仕様に従って使用した場合における特性変化の予測等を行うことが可能になり、書き換え可能な不揮発性半導体メモリに対する的確且つシビアなセルフバーンインテストを行うことが可能になる。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。図1は、本実施の形態の半導体メモリのセルフイレース・ライト装置における構成を示すブロック図である。このセルフイレース・ライト装置は、例えばフラッシュメモリ等の書き換え可能な不揮発性半導体メモリに対して効果的にセルフバーンインテストを行うことができるものである。
【0027】
図1に示すように、本半導体メモリのセルフイレース・ライト装置は、メモリセルアレイ1,バーンイン制御部2,アドレスバッファ3および高電圧制御回路4で概略構成される。
【0028】
上記メモリセルアレイ1は、書き換え可能な不揮発性半導体メモリセルがマトリクス状に配列されて構成され、通常データ等を格納するエリアである。また、バーンイン制御部2は、外部の電圧が所定レベル以上に昇圧された状態を検知して、バーンイン動作のための高電圧制御信号およびアドレス信号等を出力する。また、アドレスバッファ3は、バーンイン制御部2からのアドレス信号をバッファリングして、メモリセルアレイ1のXデコーダ5およびYデコーダ6に出力する。また、高電圧制御回路4は、バーンイン制御部2からの高電圧制御信号に応じて、メモリセルアレイ1に、Xデコーダ5およびYデコーダ6を介してイレース動作やライト動作やリード動作に必要な高電圧(例えば書き込み電圧が10Vであって消去電圧が−8Vであるように、負電圧をも含む)を出力する。
【0029】
すなわち、上記Xデコーダ5は、上記アドレスバッファ3から入力されるアドレス信号をデコーディングしてメモリセルアレイ1のワードラインを選択し、高電圧制御回路4からの出力を選択ワードラインに出力する。また、Yデコーダ6は、上記アドレス信号をデコーディングしてメモリセルアレイ1のビットラインを選択し、高電圧制御回路4からの出力を上記選択ビットラインに出力するのである。このように、本実施の形態においては、アドレスバッファ3,高電圧制御回路4,Xデコーダ5およびYデコーダ6で、上記セルフイレース・ライト動作部を構成するのである。
【0030】
尚、上記Yデコーダ6には、図示されていないが、メモリセルアレイ1のビットラインに接続されたセンスアンプが設けられており、このセンスアンプによってメモリセルアレイ1のメモリセルから読み出されたデータ(電圧)をセンスすようにしている。そして、このメモリセルから読み出されたデータは、比較器(図示せず)によって、バーンイン制御部2を構成する書き換え可能な不揮発性メモリ13に格納されているテストデータ(電圧)と比較されて、メモリセルアレイ1の良否が判定される。そして、この良否の判定結果が半導体メモリチップの外に出力されるのである。あるいは、上記メモリセルから読み出されたデータをそのまま半導体メモリチップの外部に出力し、外部テスタによってメモリセルアレイ1の良否を判定するようにしても良い。
【0031】
次に、上記バーンイン制御部2の構成について説明する。本バーンイン制御部2は、上記バーンイン感知部としてのバーンイン感知器11,上記コントロール部としてのコントロール回路12および書き換え可能な不揮発性メモリ13で概略構成されている。
【0032】
そして、上記バーンイン感知器11は、半導体メモリチップの外部から供給される電源電圧Vccが上記所定レベル以上であることを検知して、セルフバーンインテスト条件が満たされたと判断し、コントロール回路12にバーンイン信号を出力する。また、書き換え可能な不揮発性メモリ13には、メモリセルアレイ1に対するイレース動作とライト動作とを交互に行うイレース・ライト動作の繰り返し回数や、ライト動作時におけるメモリセルアレイ1のメモリセルに書き込む上記テストデータ等のテスト情報が格納されている。そして、上記セルフバーンインテスト条件が満たされない場合にのみ、つまり通常動作モード時にのみ、外部から本半導体メモリチップに対して制御情報,アドレスおよびテストデータ等が提供(入力)されると、上記格納されている繰り返し回数およびテストデータ等を上記外部からの制御情報,アドレスおよびテストデータ等に応じて書き換えることができる。また、コントロール回路12は、バーンイン感知器11から上記バーンイン信号が入力されると、書き換え可能な不揮発性メモリ13から読み出された上記繰り返し回数およびテストデータに応じて、メモリセルアレイ1上における選択メモリセルを指定する上記アドレス信号と高電圧制御信号とを含む制御信号を出力する。
【0033】
次に、上記構成を有するバーンイン制御部2によって実行されるセルバーンインテストについて詳細に説明する。図2は、上記セルバーンイン処理動作のフローチャートである。
【0034】
ステップS1で、上記バーンイン感知器11によって、外部から供給される電源電圧Vccが取得される。ステップS2で、バーンイン感知器11によって、上記取得された電源電圧Vccが所定レベル以上であるか否かを判別することによって、バーンイン動作のためのバーンインモードであるか否かが判別される。その結果、バーンインモードであればステップS3に進み、そうでなければ通常動作モードであると判断されて通常動作に移行する。尚、通常動作については、この発明とは直接には関係ないので説明は省略する。
【0035】
ステップS3で、上記バーンインに関連する動作が開始され、先ず、上記バーンイン感知器11によって、バーンイン信号がコントロール回路12に出力される。ステップS4で、コントロール回路12によって、内部状態が遷移されてセルフイレース・ライトモードとなる。ステップS5で、コントロール回路12によって、書き換え可能な不揮発性メモリ13からイレース・ライト動作の繰り返し回数およびライト動作時にメモリセルに書き込まれるテストデータ等のテスト情報等が読み出される。
【0036】
ステップS6で、上記コントロール回路12によってフルチップイレース動作が行われる。すなわち、上記読み出されたテスト情報に基づいて、フルチップイレース動作を実行するための高電圧制御信号およびアドレス信号が発生されて、アドレスバッファ3および高電圧制御回路4に出力される。そして、アドレスバッファ3および高電圧制御回路4によって、上述のようにしてフルチップイレース動作が実行されるのである。尚、一般的に、フラッシュメモリ等においては一括消去が行われ、上記フルチップ消去ではブロック単位での消去が行われる。ステップS7で、コントロール回路12によって、ライト動作が行われる。すなわち、上記ステップS4において読み出されたテストデータを該当するアドレスのメモリセルに書き込むための高電圧制御信号およびアドレス信号が発生されて、アドレスバッファ3および高電圧制御回路4に出力される。そして、アドレスバッファ3および高電圧制御回路4によってライト動作が実行されるのである。そうした後、イレース・ライト動作の回数がカウントされる。
【0037】
ステップS8で、上記コントロール回路12によって、カウントされている上記イレース・ライト動作回数が上記読み出された繰り返し回数以上であるか否かが判別される。こうして、セルフイレース・ライトモードを終了するか否かが判別される。そして、終了であればステップS9に進み、そうでなければ上記ステップS6に戻って次の回のフルチップイレース動作に移行する。以後、イレース動作とライト動作とが交互に繰り返され、上記ステップS8においてイレース・ライト動作が所定回数完遂されたと判別されるとステップS9に進む。
【0038】
ステップS9で、上記コントロール回路12によって、内部状態が、上記セルフイレース・ライトモードからセルフバーンインモードに遷移される。ステップS10で、コントロール回路12によって、セルフバーンイン動作が行われる。すなわち、上記メモリセルに書き込まれたテストデータを読み出すための高電圧制御信号およびアドレス信号が発生されて、アドレスバッファ3および高電圧制御回路4に出力される。そして、アドレスバッファ3および高電圧制御回路4によって、リード動作が実行されるのである。ここで、上記セルフバーンインモードにおける電源電圧Vccおよび温度は、上記セルフイレース・ライトモードの場合と同じである。但し、セルフイレース・ライトモードにおいては上記メモリセルに対してテストデータ(ライトデータ)がイレース・ライトされるのに対して、本セルフバーンインモードにおいては上記メモリセルから書き込みデータがリードされるセルフバーンイン動作が実行されるのである。そうした後、上記セルバーンイン処理動作を終了する。
【0039】
以上のごとく、本実施の形態においては、上記バーンイン制御部2に、セルフイレース・ライトモードとセルフバーンインモードとに内部状態を遷移させて、夫々の状態で、メモリセルアレイ1上における選択メモリセルを指定するアドレス信号と高電圧制御信号とを出力するコントロール回路12を設けている。したがって、上記メモリセルに対して書込み・消去を所定回数繰り返した後の書込み特性や消去特性を調べて、メモリセルアレイ1を仕様に従って使用した場合における特性変化の予測等を行うことができる。すなわち、本実施の形態によれば、書き換え可能な不揮発性半導体メモリセルから成るメモリセルアレイ1に対して的確且つシビアなセルフバーンインテストを行うことができるのである。
【0040】
また、上記バーンイン制御部2に、メモリセルアレイ1に対するイレース・ライト動作の繰り返し回数や、ライト動作時における上記メモリセルに書き込むテストデータ等のテスト情報が格納される書き換え可能な不揮発性メモリ13を設けている。このように、上記繰り返し回数やテストデータ等を電気的に消去・書き換えが可能な不揮発性メモリに格納しているので、上記繰り返し回数やテストデータ等を含む各種テスト情報を通常動作モード時に書き換えることができる。したがって、多値化に対応したバーンインテストや仕様をランク別に分類するバーンインテストに応じてテストデータを書き換えることによって、目的に応じた融通性のあるテストを行うことができる。
【0041】
さらに、その場合に、テスト項目毎に書き換え可能な不揮発性メモリ13内のテストデータを書き換えれば良く、小量のメモリ容量で各種テストを実現することができる。
【0042】
また、上記書き換え可能な不揮発性メモリ13のメモリセル構造をメモリセルアレイ1のセル構造と同じにすることができる。その場合には、書き換え可能な不揮発性メモリ13を設けることに起因するメモリチップ製造プロセスの複雑化を防止することができる。さらには、フラッシュメモリでよく発生するライン不良を救済するための救済領域として活用することも可能になる。例えば、不良ラインのアドレスを記憶しておく不良ライン記憶部を外部テスタあるいはチップ内部に設けておく。そして、バーンインテスト終了後に書き換え可能な不揮発性メモリ13に格納されているテストデータを消去し、消去後のテストデータ格納領域を、上記不良ラインのアドレスに基づいて不良ラインの救済領域として活用するのである。
【0043】
尚、本実施の形態は、上記フラッシュメモリや強誘電体メモリ(FeRAM)等の書き換え可能な不揮発性メモリに適用することができる。勿論、上記DRAMやSRAMにも適用できることは言うまでもない。
【0044】
【発明の効果】
以上より明らかなように、この発明の半導体メモリのセルフイレース・ライト装置は、書き換え可能な不揮発性メモリにイレース・ライト動作の繰り返し回数とライト動作時のテストデータとを含むテスト情報を格納し、バーンイン感知部によってセルフバーンインテスト条件が満たされたことを感知すると、コントロール部によって上記書き換え可能な不揮発性メモリのテスト情報に基づいてイレース・ライト動作に必要な制御信号を出力し、セルフイレース・ライト動作部によって半導体メモリセルアレイにおける上記制御信号のアドレス信号に応じた選択メモリセルに対して上記イレース・ライト動作を繰り返し回数だけ行うので、外部から上記セルフバーンインテスト条件が満たされる状態にしてやれば、自動的に上記半導体メモリセルアレイに対するセルフイレース・ライトテストを行うことができる。
【0045】
すなわち、上記イレース・ライト動作が終了した後の各メモリセルから上記テストデータをリードすれば、上記半導体メモリセルアレイに対して書込み・消去を繰り返した後の書込み特性や消去特性を調べることができ、上記半導体メモリセルアレイを仕様に従って使用した場合における特性変化の予測等を行うことができる。したがって、書き換え可能な不揮発性半導体メモリセルアレイに対する的確且つシビアなセルフバーンインテストを行うことが可能になり、テストプロセスを簡略化できる。さらに、一度にテストできる半導体メモリチップの数を増加できる。
【0046】
また、この発明の半導体メモリのセルフバーンインテスト方法は、書き換え可能な不揮発性メモリにイレース・ライト動作の繰り返し回数とライト動作時のテストデータとを含むテスト情報を格納し、セルフバーンインテスト条件が満たされると、上記書き換え可能な不揮発性メモリのテスト情報に基づいて上記イレース・ライト動作に必要な制御信号を発生し、半導体メモリセルアレイにおける上記制御信号のアドレス信号に応じた選択メモリセルに対してイレース・ライト動作を繰り返し回数だけ行い、上記イレース・ライト動作の結果を読み出すので、外部から上記セルフバーンインテスト条件が満たされる状態にしてやれば、自動的に上記半導体メモリセルアレイに対してセルフバーンインテストを行うことができる。
【0047】
したがって、上記半導体メモリセルアレイを仕様に従って使用した場合における特性変化の予測等を行うことが可能になり、書き換え可能な不揮発性半導体メモリセルアレイに対する的確且つシビアなセルフバーンインテストを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の半導体メモリのセルフイレース・ライト回路における構成を示すブロック図である。
【図2】図1におけるバーンイン制御部によって実行されるセルバーンイン処理動作のフローチャートである。
【符号の説明】
1…メモリセルアレイ、
2…バーンイン制御部、
3…アドレスバッファ、
4…高電圧制御回路、
5…Xデコーダ、
6…Yデコーダ、
11…バーンイン感知器、
12…コントロール回路、
13…書き換え可能な不揮発性メモリ。
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor memory self-erase / write device and a semiconductor memory self-burn-in test method.
[0002]
[Prior art]
Generally, a burn-in test is performed in order to strain an initial failure of a semiconductor memory chip within a short time (for example, see Patent Document 1). In the burn-in test, a read-write operation is repeatedly performed on the semiconductor memory chip by applying a higher voltage and temperature than normal operation to the semiconductor memory chip by a burn-in test device, and the semiconductor memory chip The test is performed under stress. By doing so, an initial defective chip can be eliminated.
[0003]
In order to test a large number of semiconductor memory chips at once, a self-burn-in circuit which is a simplified version of the burn-in test device is provided inside the memory chip, so that various control signals, addresses, test data and the like necessary for the burn-in test are provided. It is a general tendency to generate the inside of a chip.
[0004]
In the self-burn-in circuit for such a burn-in test, when the burn-in detecting section detects that a predetermined burn-in test condition is satisfied, a predetermined control signal, an address signal and a predetermined signal for performing the burn-in test are obtained. Test data is generated. Then, based on the control signal, the test data is read / written from / to a memory cell selected according to the address signal, and the burn-in test is performed.
[0005]
As described above, by incorporating the self-burn-in circuit inside the memory chip, the control signal, the address, the test data, and the like can be stored in a state where the semiconductor memory chip is connected to the burn-in test device as in a normal burn-in test. There is no need to supply the memory chip. Therefore, it is not necessary to provide a burn-in test board provided with a line for supplying the control signal, the address signal, the test data, and the like in the self-burn-in circuit, and the self-burn-in circuit can be simplified. Therefore, the limitation on the number of chips that can be tested at one time can be relaxed.
[0006]
[Patent Document 1]
JP-A-9-219099
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional self-burn-in circuit has the following problems.
[0008]
That is, in the case of a burn-in test for a semiconductor memory such as a DRAM (Dynamic Random Access Memory) with a built-in capacitor or an SRAM (Static Random Access Memory) with a built-in latch circuit, a pure read / write is required. , It is only necessary to test the state of holding electric charge in the built-in capacitor and the state of holding the latch of the latch circuit.
[0009]
However, in the case of a flash memory which is a rewritable nonvolatile semiconductor memory, electrons are injected or extracted by a tunnel effect between a channel region and a floating gate through a tunnel oxide film. Since it is necessary to apply a program voltage (write voltage) and an erase voltage (erase voltage), the write characteristics and erase characteristics after repeating write / erase a predetermined number of times are examined, and the characteristic change when the device is used in accordance with the specification is examined. It is necessary to make predictions. Therefore, the test items are very severe.
[0010]
Further, when performing a burn-in test corresponding to the future multi-value, it is necessary to further test the writing characteristics and erasing characteristics severely. Therefore, in a test in which all lines are simply selected to check whether data is "1" or "0", or to check whether or not the data is the inverted data, a chip failure occurs. Good products cannot be excluded.
[0011]
In some cases, the specification of the access time is classified according to the rank (high-speed type, low-speed type) from the results of the write characteristics and the erase characteristics to obtain a good product. To cope with such a case, various types of test items and flexible tests are required.
[0012]
However, in the above-described conventional self-burn-in circuit, the test procedure, test data, and the like for each test item are preset and stored and fixed. Therefore, for a rewritable nonvolatile semiconductor memory such as a flash memory, a test item, a test procedure, and test data are changed according to a purpose, and a rank of a non-defective product is changed to provide a flexible burn-in. There is a problem that cannot be tested.
[0013]
Therefore, in order to cope with such a flexible burn-in test or a severe burn-in test, it is necessary to set and store a test procedure and test data for every test item in advance. There is a problem that storage capacity is required.
[0014]
An object of the present invention is to provide a self-erasing / writing device for a semiconductor memory capable of performing a severe and flexible burn-in test on a rewritable nonvolatile semiconductor memory, and a self-burn-in test for a semiconductor memory. It is to provide a method.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a semiconductor memory self-erase / write device according to the present invention detects a semiconductor memory cell array in which semiconductor memory cells are arranged in a matrix and detects that a predetermined self-burn-in test condition is satisfied. Test information that includes a burn-in sensor that outputs a burn-in signal to the semiconductor memory cell array, a number of repetitions of the erase-write operation when the erase-write operation is performed on the semiconductor memory cell array, and test data written to the memory cells during the write operation. And a high-voltage control signal required for the erase / write operation based on the test information stored in the rewritable nonvolatile memory when the burn-in signal is input. And control signals including address signals A control unit for selecting a memory cell in an area corresponding to the address signal in the semiconductor memory cell array based on the control signal, and performing an erase / write operation based on the test data on the selected memory cell by the number of repetitions It has a self-erase / write operation unit for performing.
[0016]
According to the configuration, when the self-burn-in test condition is satisfied from the outside, the self-erase / write operation for the semiconductor memory cell array is automatically performed. Therefore, by reading the test data from each memory cell after the erase / write operation has been completed, it is possible to examine write characteristics and erase characteristics after repeated writing / erasing with respect to the semiconductor memory cell array. become. That is, it is possible to predict a change in characteristics when the semiconductor memory cell array is used according to specifications, and to perform an accurate and severe self-burn-in test on a rewritable nonvolatile semiconductor memory.
[0017]
In the self-erasing / writing device for a semiconductor memory according to one embodiment, the control section enables the internal state to transit from the self-erasing / writing mode to the self-burn-in mode. In the self-burn-in mode, a high-voltage control signal and an address signal required for a read operation on the semiconductor memory cell array after the erase / write operation are completed are output. The control signal is output.
[0018]
According to this embodiment, after the erase / write operation on the semiconductor memory cell array is completed, the read operation on the semiconductor memory cell array is automatically performed. Thus, the self-burn-in test for the rewritable nonvolatile semiconductor memory cell array is automatically and accurately performed.
[0019]
Further, in the semiconductor memory self-erase / write device according to one embodiment, the rewritable nonvolatile memory is used to control the stored test information by external control only when the self-burn-in test condition is not satisfied. It is rewritable based on information, addresses and test data.
[0020]
According to this embodiment, in the normal operation mode, by inputting control information, an address and test data to the semiconductor memory chip from the outside, the number of repetitions and the test stored in the rewritable nonvolatile memory can be improved. Test information including data and the like is rewritten based on the above-mentioned external control information, addresses, and test data. Therefore, by rewriting the test information in accordance with the burn-in test corresponding to the multi-value and the burn-in test in which the specifications are classified by rank, it is possible to perform a flexible test according to the purpose.
[0021]
Furthermore, by rewriting the test information in the rewritable nonvolatile memory for each test item, various tests can be realized with a small memory capacity.
[0022]
In one embodiment of the present invention, the semiconductor memory cell array is composed of rewritable nonvolatile memory cells, and the cell structure of the rewritable nonvolatile memory is changed to the cell of the semiconductor memory cell array. The structure is the same.
[0023]
According to this embodiment, it is possible to prevent the semiconductor memory chip manufacturing process from being complicated due to the provision of the rewritable nonvolatile memory.
[0024]
In addition, the self-burn-in test method for a semiconductor memory according to the present invention includes the steps of: erasing the erase-write operation when performing the erase-write operation on the semiconductor memory cell array; And test data including test data to be written to the memory. When a predetermined self-burn-in test condition is satisfied, a burn-in signal is generated. When the burn-in signal is generated, the test data is stored in the rewritable nonvolatile memory. On the basis of the test information, a control signal including a high voltage control signal and an address signal required for the erase / write operation is generated. Based on the control signal, a control signal for an area corresponding to the address signal in the semiconductor memory cell array is generated. Select a memory cell and select a memory cell Te done many times repeated above the erase-write operation according to the above test data, it is to read out the results of the above erase-write operation.
[0025]
According to the above configuration, if the self-burn-in test condition is satisfied from the outside, the self-burn-in test for checking the write characteristics and the erase characteristics after repeatedly writing / erasing the semiconductor memory cell array a plurality of times is automatically performed. Is executed. Therefore, it is possible to predict a change in characteristics when the semiconductor memory cell array is used in accordance with specifications, and to perform an accurate and severe self-burn-in test on a rewritable nonvolatile semiconductor memory.
[0026]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments. FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory self-erase / write device according to the present embodiment. This self-erasing / writing device can effectively perform a self-burn-in test on a rewritable nonvolatile semiconductor memory such as a flash memory.
[0027]
As shown in FIG. 1, the self-erase / write device of the present semiconductor memory is schematically composed of a memory cell array 1, a burn-in control unit 2, an address buffer 3, and a high voltage control circuit 4.
[0028]
The memory cell array 1 is configured such that rewritable nonvolatile semiconductor memory cells are arranged in a matrix and is an area for storing normal data and the like. The burn-in control unit 2 detects a state in which the external voltage has been boosted to a predetermined level or more, and outputs a high-voltage control signal and an address signal for the burn-in operation. The address buffer 3 buffers an address signal from the burn-in control unit 2 and outputs the buffered signal to the X decoder 5 and the Y decoder 6 of the memory cell array 1. In addition, the high voltage control circuit 4 responds to the high voltage control signal from the burn-in control unit 2 to control the memory cell array 1 via the X-decoder 5 and the Y-decoder 6 to perform a high-level operation necessary for an erase operation, a write operation, and a read operation. A voltage (for example, a negative voltage such as a write voltage of 10 V and an erase voltage of −8 V) is output.
[0029]
That is, the X decoder 5 decodes an address signal input from the address buffer 3, selects a word line of the memory cell array 1, and outputs an output from the high voltage control circuit 4 to the selected word line. The Y decoder 6 decodes the address signal to select a bit line of the memory cell array 1 and outputs an output from the high voltage control circuit 4 to the selected bit line. As described above, in this embodiment, the address buffer 3, the high voltage control circuit 4, the X decoder 5, and the Y decoder 6 constitute the self-erasing / writing operation section.
[0030]
Although not shown, the Y decoder 6 is provided with a sense amplifier connected to a bit line of the memory cell array 1, and data (data) read from a memory cell of the memory cell array 1 by this sense amplifier is provided. Voltage). The data read from this memory cell is compared by a comparator (not shown) with test data (voltage) stored in the rewritable nonvolatile memory 13 constituting the burn-in control unit 2. , The quality of the memory cell array 1 is determined. Then, the result of the pass / fail judgment is output to the outside of the semiconductor memory chip. Alternatively, the data read from the memory cell may be directly output to the outside of the semiconductor memory chip, and the quality of the memory cell array 1 may be determined by an external tester.
[0031]
Next, the configuration of the burn-in control unit 2 will be described. The burn-in control unit 2 is roughly composed of a burn-in sensor 11 as the burn-in sensor, a control circuit 12 as the control unit, and a rewritable nonvolatile memory 13.
[0032]
The burn-in sensor 11 detects that the power supply voltage Vcc supplied from outside the semiconductor memory chip is equal to or higher than the predetermined level, determines that the self-burn-in test condition is satisfied, and Output a signal. In the rewritable nonvolatile memory 13, the number of repetitions of the erase / write operation for alternately performing the erase operation and the write operation on the memory cell array 1 and the test data written to the memory cells of the memory cell array 1 during the write operation are stored. And other test information are stored. Only when the self-burn-in test condition is not satisfied, that is, only in the normal operation mode, when the control information, the address, the test data, and the like are externally provided (input) to the semiconductor memory chip, the stored data is stored. The repetition count and test data can be rewritten according to the external control information, address, test data, and the like. When the burn-in signal is input from the burn-in sensor 11, the control circuit 12 selects a selected memory on the memory cell array 1 according to the number of repetitions read from the rewritable nonvolatile memory 13 and the test data. A control signal including the address signal designating a cell and a high voltage control signal is output.
[0033]
Next, the cell burn-in test executed by the burn-in control unit 2 having the above configuration will be described in detail. FIG. 2 is a flowchart of the cell burn-in processing operation.
[0034]
In step S1, the power supply voltage Vcc supplied from the outside is acquired by the burn-in sensor 11. In step S2, the burn-in sensor 11 determines whether or not the acquired power supply voltage Vcc is equal to or higher than a predetermined level, thereby determining whether or not the burn-in mode for the burn-in operation. As a result, if the mode is the burn-in mode, the process proceeds to step S3. Otherwise, the mode is determined to be the normal operation mode, and the operation shifts to the normal operation. Since the normal operation is not directly related to the present invention, the description is omitted.
[0035]
In step S3, the operation related to the burn-in is started. First, the burn-in sensor 11 outputs a burn-in signal to the control circuit 12. In step S4, the internal state is changed by the control circuit 12 to enter the self-erase / write mode. In step S5, the control circuit 12 reads, from the rewritable nonvolatile memory 13, the number of repetitions of the erase / write operation and test information such as test data written to the memory cells at the time of the write operation.
[0036]
In step S6, the control circuit 12 performs a full chip erase operation. That is, based on the read test information, a high-voltage control signal and an address signal for performing a full-chip erase operation are generated, and output to the address buffer 3 and the high-voltage control circuit 4. Then, the full chip erase operation is executed by the address buffer 3 and the high voltage control circuit 4 as described above. In general, batch erasing is performed in a flash memory or the like, and erasing is performed in block units in the above-described full chip erasing. In step S7, a write operation is performed by the control circuit 12. That is, a high-voltage control signal and an address signal for writing the test data read in step S4 to the memory cell at the corresponding address are generated and output to the address buffer 3 and the high-voltage control circuit 4. Then, the write operation is executed by the address buffer 3 and the high voltage control circuit 4. After that, the number of erase / write operations is counted.
[0037]
In step S8, the control circuit 12 determines whether or not the number of erase / write operations counted is equal to or greater than the number of read repetitions. Thus, it is determined whether or not to end the self-erase / write mode. If the operation is completed, the process proceeds to step S9. If not, the process returns to step S6 to shift to the next full chip erase operation. Thereafter, the erase operation and the write operation are alternately repeated. If it is determined in step S8 that the erase / write operation has been completed a predetermined number of times, the process proceeds to step S9.
[0038]
In step S9, the control circuit 12 changes the internal state from the self-erase / write mode to the self-burn-in mode. In step S10, the control circuit 12 performs a self-burn-in operation. That is, a high-voltage control signal and an address signal for reading the test data written in the memory cell are generated and output to the address buffer 3 and the high-voltage control circuit 4. Then, the read operation is executed by the address buffer 3 and the high voltage control circuit 4. Here, the power supply voltage Vcc and the temperature in the self burn-in mode are the same as those in the self erase / write mode. However, in the self-erase / write mode, test data (write data) is erased / written to the memory cells, whereas in the self-burn-in mode, the self-burn-in mode in which write data is read from the memory cells. The action is performed. After that, the cell burn-in processing operation ends.
[0039]
As described above, in the present embodiment, the burn-in control unit 2 causes the internal state to transit between the self-erase / write mode and the self-burn-in mode, and in each state, selects the selected memory cell on the memory cell array 1. A control circuit 12 for outputting a designated address signal and a high voltage control signal is provided. Therefore, by examining the write characteristics and the erase characteristics after writing / erasing is repeated a predetermined number of times with respect to the memory cell, it is possible to predict a change in characteristics when the memory cell array 1 is used in accordance with the specifications. That is, according to the present embodiment, an accurate and severe self-burn-in test can be performed on the memory cell array 1 including rewritable nonvolatile semiconductor memory cells.
[0040]
Further, the burn-in control unit 2 is provided with a rewritable nonvolatile memory 13 in which test information such as the number of repetitions of the erase / write operation for the memory cell array 1 and test data to be written in the memory cell during the write operation is stored. ing. As described above, since the repetition count and test data are stored in the electrically erasable and rewritable nonvolatile memory, various test information including the repetition count and test data can be rewritten in the normal operation mode. Can be. Therefore, by rewriting the test data in accordance with the burn-in test corresponding to the multi-value and the burn-in test in which the specifications are classified according to the rank, it is possible to perform a flexible test according to the purpose.
[0041]
Further, in that case, test data in the rewritable nonvolatile memory 13 may be rewritten for each test item, and various tests can be realized with a small memory capacity.
[0042]
Further, the memory cell structure of the rewritable nonvolatile memory 13 can be the same as the cell structure of the memory cell array 1. In this case, it is possible to prevent the memory chip manufacturing process from becoming complicated due to the provision of the rewritable nonvolatile memory 13. Further, it can be used as a rescue area for relieving a line defect that often occurs in a flash memory. For example, a defective line storage unit for storing the address of the defective line is provided in an external tester or inside the chip. After completion of the burn-in test, the test data stored in the rewritable nonvolatile memory 13 is erased, and the erased test data storage area is used as a repair area for the defective line based on the address of the defective line. is there.
[0043]
The present embodiment can be applied to a rewritable nonvolatile memory such as the flash memory and the ferroelectric memory (FeRAM). Of course, it is needless to say that the present invention can be applied to the above-mentioned DRAM and SRAM.
[0044]
【The invention's effect】
As is apparent from the above, the semiconductor memory self-erase / write device of the present invention stores test information including the number of repetitions of the erase / write operation and test data at the time of the write operation in the rewritable nonvolatile memory, When the burn-in sensor detects that the self-burn-in test condition is satisfied, the control unit outputs a control signal required for the erase / write operation based on the test information of the rewritable nonvolatile memory, and performs a self-erase / write operation. The operation unit performs the erase / write operation on the selected memory cell in the semiconductor memory cell array according to the address signal of the control signal as many times as the number of repetitions. Semiconductor memory It is possible to perform the self-erase-write test for Ruarei.
[0045]
That is, if the test data is read from each memory cell after the erase / write operation has been completed, it is possible to examine the write characteristics and the erase characteristics after repeatedly writing / erasing the semiconductor memory cell array, It is possible to predict a change in characteristics when the semiconductor memory cell array is used according to specifications. Therefore, an accurate and severe self-burn-in test can be performed on the rewritable nonvolatile semiconductor memory cell array, and the test process can be simplified. Further, the number of semiconductor memory chips that can be tested at one time can be increased.
[0046]
Further, according to the self-burn-in test method for a semiconductor memory of the present invention, test information including the number of repetitions of the erase / write operation and test data at the time of the write operation is stored in the rewritable nonvolatile memory, and the self-burn-in test condition Then, a control signal required for the erase / write operation is generated based on the test information of the rewritable nonvolatile memory, and the selected memory cell in the semiconductor memory cell array corresponding to the address signal of the control signal is erased.・ Since the write operation is repeated the number of times and the result of the erase / write operation is read, the self-burn-in test is automatically performed on the semiconductor memory cell array if the self-burn-in test condition is externally satisfied. be able to.
[0047]
Therefore, it is possible to predict a change in characteristics when the semiconductor memory cell array is used in accordance with specifications, and to perform an accurate and severe self-burn-in test on a rewritable nonvolatile semiconductor memory cell array.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a self-erase write circuit of a semiconductor memory according to the present invention.
FIG. 2 is a flowchart of a cell burn-in processing operation executed by a burn-in control unit in FIG. 1;
[Explanation of symbols]
1. Memory cell array,
2. Burn-in control unit
3 ... address buffer,
4. High voltage control circuit
5 ... X decoder,
6 ... Y decoder,
11 ... burn-in detector,
12 ... Control circuit,
13: Rewritable nonvolatile memory.

Claims (5)

半導体メモリセルがマトリクス状に配列されてなる半導体メモリセルアレイと、
所定のセルフバーンインテスト条件が満たされたことを感知してバーンイン信号を出力するバーンイン感知部と、
上記半導体メモリセルアレイに対するイレース動作とライト動作とを交互に繰り返して行うイレース・ライト動作を行う際における上記イレース・ライト動作の繰り返し回数と、上記ライト動作時にメモリセルに書き込むテストデータとを、含むテスト情報を格納する書き換え可能な不揮発性メモリと、
上記バーンイン信号が入力されると、上記書き換え可能な不揮発性メモリに格納された上記テスト情報に基づいて、上記イレース・ライト動作に必要な高電圧制御信号およびアドレス信号を含む制御信号を出力するコントロール部と、
上記制御信号に基づいて、上記半導体メモリセルアレイにおける上記アドレス信号に応じた領域のメモリセルを選択し、この選択メモリセルに対して上記テストデータによるイレース・ライト動作を上記繰り返し回数だけ行うセルフイレース・ライト動作部
を備えたことを特徴とする半導体メモリのセルフイレース・ライト装置。
A semiconductor memory cell array in which semiconductor memory cells are arranged in a matrix,
A burn-in sensor that detects that a predetermined self-burn-in test condition is satisfied and outputs a burn-in signal;
A test including the number of repetitions of the erase / write operation when performing the erase / write operation in which the erase operation and the write operation for the semiconductor memory cell array are alternately repeated, and test data written to the memory cell at the time of the write operation A rewritable nonvolatile memory for storing information;
When the burn-in signal is input, a control for outputting a control signal including a high-voltage control signal and an address signal required for the erase / write operation based on the test information stored in the rewritable nonvolatile memory. Department and
A memory cell in an area corresponding to the address signal in the semiconductor memory cell array is selected based on the control signal, and a self-erase operation for performing the erase / write operation by the test data for the selected memory cell by the repetition number is performed. A self-erasing write device for a semiconductor memory, comprising a write operation section.
請求項1に記載の半導体メモリのセルフイレース・ライト装置において、
上記コントロール部は、内部状態をセルフイレース・ライトモードからセルフバーンインモードに遷移可能になっており、上記セルフイレース・ライトモード時には上記イレース・ライト動作に必要な高電圧制御信号およびアドレス信号を含む制御信号を出力する一方、上記セルフバーンインモード時には上記イレース・ライト動作終了後の上記半導体メモリセルアレイに対するリード動作に必要な高電圧制御信号およびアドレス信号を含む制御信号を出力するようになっていることを特徴とする半導体メモリのセルフイレース・ライト装置。
2. The self-erase write device for a semiconductor memory according to claim 1,
The control unit is capable of transitioning an internal state from a self-erase / write mode to a self-burn-in mode. In the self-erase / write mode, a control including a high-voltage control signal and an address signal necessary for the erase / write operation is performed. And outputting a control signal including a high voltage control signal and an address signal necessary for a read operation on the semiconductor memory cell array after the erase / write operation is completed in the self burn-in mode. Characteristic self-erasing and writing device for semiconductor memory.
請求項2に記載の半導体メモリのセルフイレース・ライト装置において、
上記書き換え可能な不揮発性メモリは、上記セルフバーンインテスト条件が満たされない場合にのみ、上記格納されているテスト情報を、外部からの制御情報,アドレスおよびテストデータに基づいて書き換えることが可能になっていることを特徴とする半導体メモリのセルフイレース・ライト装置。
3. The self-erasing write device for a semiconductor memory according to claim 2,
The rewritable nonvolatile memory can rewrite the stored test information based on external control information, addresses and test data only when the self-burn-in test condition is not satisfied. A self-erasing write device for a semiconductor memory.
請求項1に記載の半導体メモリのセルフイレース・ライト装置において、
上記半導体メモリセルアレイを構成する半導体メモリセルは書き換え可能な不揮発性メモリセルであり、
上記書き換え可能な不揮発性メモリのセル構造は、上記半導体メモリセルアレイのセル構造と同一であることを特徴とする半導体メモリのセルフイレース・ライト装置。
2. The self-erase write device for a semiconductor memory according to claim 1,
The semiconductor memory cells constituting the semiconductor memory cell array are rewritable nonvolatile memory cells,
The cell structure of the rewritable nonvolatile memory is the same as the cell structure of the semiconductor memory cell array.
書き換え可能な不揮発性メモリに、半導体メモリセルアレイに対するイレース動作とライト動作とを交互に繰り返して行うイレース・ライト動作を行う際ににおける上記イレース・ライト動作の繰り返し回数と、上記ライト動作時にメモリセルに書き込むテストデータとを、含むテスト情報を格納し、
所定のセルフバーンインテスト条件が満たされるとバーンイン信号を発生し、
上記バーンイン信号が発生されると、上記書き換え可能な不揮発性メモリに格納された上記テスト情報に基づいて、上記イレース・ライト動作に必要な高電圧制御信号およびアドレス信号を含む制御信号を発生し、
上記制御信号に基づいて、上記半導体メモリセルアレイにおける上記アドレス信号に応じた領域のメモリセルを選択し、この選択メモリセルに対して上記テストデータによるイレース・ライト動作を上記繰り返し回数だけ行い、
上記イレース・ライト動作の結果を読み出す
ことを特徴とする半導体メモリのセルフバーンインテスト方法。
In the rewritable nonvolatile memory, the number of repetitions of the erase / write operation at the time of performing the erase / write operation in which the erase operation and the write operation for the semiconductor memory cell array are alternately repeated, Store test information including test data to be written,
When a predetermined self-burn-in test condition is satisfied, a burn-in signal is generated,
When the burn-in signal is generated, a control signal including a high-voltage control signal and an address signal necessary for the erase / write operation is generated based on the test information stored in the rewritable nonvolatile memory,
Based on the control signal, select a memory cell in an area corresponding to the address signal in the semiconductor memory cell array, perform an erase / write operation by the test data on the selected memory cell by the number of repetitions,
A self-burn-in test method for a semiconductor memory, wherein a result of the erase / write operation is read.
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