JP2004230520A - Centrifugal barrel polishing device - Google Patents
Centrifugal barrel polishing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004230520A JP2004230520A JP2003023170A JP2003023170A JP2004230520A JP 2004230520 A JP2004230520 A JP 2004230520A JP 2003023170 A JP2003023170 A JP 2003023170A JP 2003023170 A JP2003023170 A JP 2003023170A JP 2004230520 A JP2004230520 A JP 2004230520A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing container
- wall
- rotation
- centrifugal barrel
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、水晶板などの圧電素板をベベリング加工する際に使用する遠心バレル研磨装置に関するものであり、特に装置設置面に対し垂直方向に公転軸を設けた遠心バレル研磨装置に関する。
【0002】
【従来技術】圧電振動子や発振器等の電子部品の小型化に伴い、その内部に搭載する圧電振動板を構成する圧電素板も外形の小型化が必要とされると同時に、発振周波数の高周波化も進んでいることから圧電素板の薄型化も必要とされるようになった。
【0003】
例えば圧電材料の一つである水晶板では、その小型化が進むにつれクリスタルインピーダンス(以下CIという)が高くなり水晶板の振動の起動に不具合を生じるようになってきた。そこで、圧電素板の外形をベベリング加工することにより、後に水晶板主面上に形成する電極膜による「エネルギー閉じ込め」効果を大きくすることができ、水晶板の振動の起動が容易になるためCIが低くなる。
【0004】
このようなことから、圧電素板にベベリング加工を施す装置としては、両端を閉口した径寸法より長さ寸法が長い円筒形の加工容器を複数配置し、且つこのドラム内に水晶片と研磨材とを投入し、この加工容器を接地面と平行の公転軸で公転させ、更に加工容器自体も両端部の断面の中心を貫く中心軸又は両端断面を斜めに貫く軸を、公転軸と平行に自転させることで、加工容器内部に投入した圧電素板を加工容器内壁、水晶片及び研磨材との摩擦運動により、圧電素板外形をベベリング加工する遠心バレル装置が使用されている。
【0005】
前記のような遠心バレル装置については、以下のような文献が開示されている。
【0006】
【特許文献1】
特開2000−354947号公報
【特許文献2】
特開2002−120141号公報
【0007】
尚、出願人は前記した先行技術文献情報で特定される先行技術文献以外には、本発明に関連する先行技術文献を、本件出願時までに発見するに至らなかった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
従来の遠心バレル装置では、研磨材を添加せず、その加工容器の内壁に研磨加工粒子を配置し、圧電素板を研磨することが行われてきたが、その装置を構成する加工容器として、直径が50〜200mm、長さが300〜600mm程度の大きな加工容器が用いられており、この加工容器は容器内壁全面を使用して研磨を行っている。そのため研磨加工粒子を容器内壁全面に形成しなければならず、加工容器の価格が高くなってしまう。
【0009】
又、従来の遠心バレル装置では、大型のモータを使用しても加工容器の公転速度は最速でも百数十rpm程度までしか得られない。加工容器の自転運動は、公転運動に伴い加工容器がそのままの状態を維持しようとするために発生するもので、公転速度と反対方向に同一速度による自転となっている。つまり、自転速度が公転速度に依存するため、公転速度に限界がある従来の遠心バレル装置における加工能率の更なる向上も難しく、現状ではベベリング加工に数十時間掛かっている。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明は前記従来技術の課題を鑑みて成されたものであり、設置面に対し垂直方向に設けた公転軸に固定された公転板と、該公転板に設けられ装置設置面に対し垂直又は公転軸側にある一定の傾斜角を有する自転軸と、該自転軸に固定され自転する容器ホルダと、該容器ホルダに固定保持され且つその内壁に研磨加工粒子を配置した加工容器と、該公転軸及び該自転軸を独自又は連動して回転させ且つ回転方向、回転数及び回転時間を制御する駆動モータ及び駆動回転機構を備えた遠心バレル研磨装置である。
【0011】
又、前記研磨加工粒子を、加工容器の内壁に電着,メタルボンド又はレジンボンドにより固定したこと特徴とする前述した遠心バレル研磨装置でもある。
【0012】
更に、前記研磨加工粒子を、加工容器内の壁面形状に嵌め合うような容器形状に集合固化し、この研磨加工粒子を加工容器内に配置固定したことを特徴とする前述した遠心バレル研磨装置である。
【0013】
更に、前記該研磨加工粒子を、加工容器の内壁の底面と、加工容器の内壁側面のうち、内壁側面と内壁底面間の曲面の半径R以上の高さの範囲とに配置したことを特徴とする前述した遠心バレル研磨装置。
【0014】
このような加工容器を遠心バレル研磨装置に使用することにより、研磨材を添加する場合に比べ、より効率の高いベベリング加工をすることができる。特に、装置設置面に対し垂直方向に公転軸を設けた本願発明の遠心バレル装置では、加工容器の小型軽量化が図られているため、加工容器の自公転運動を高速化できることから、更に加工能率を向上できる。
【0015】
又、加工容器内には加工物以外のものを極力添加しないので、ベベリング加工後の加工物と加工物以外のものとを分別する工程を簡易に且つ短時間化することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施形態について図面に基づいて説明する。図1はこの発明における遠心バレル研磨装置の概略の一例を示した構成図である。尚、点線枠は枠内にある装置を構成する部品類の形態を明りょうにするための断面略図である。図2は、図1に示した加工容器の一形態を示す断面図である。図3は図1に示した加工容器の他の形態を示す断面図である。図4は、図1に示した加工容器の一製造形態を示した断面構成図である。尚、図1乃至4において、説明を明りょうにするため構造体の一部を図示せず、また寸法も一部誇張して図示している。
【0017】
即ち、ケース12内に納められている遠心バレル研磨装置11を構成する公転板13は、遠心バレル研磨装置11の設置面に対し垂直方向に形成した公転軸心14周りに回転し、公転板13の公転軸を対称軸とし且つ公転板13の両端付近に装着された容器ホルダ15が自転軸心16周りに回転する。
【0018】
このことにより、容器ホルダ15と、容器ホルダ15に固定保持される加工容器17とは、公転軸心14周りを公転しながら、自転軸心16周りを自転することになる。公転軸の回転方向と自転軸の回転方向とは正逆どちらの回転方向でも良い。
【0019】
又、自転軸心16は公転軸心14に対し、本実施例では公転軸側に45°傾いている。これにより、公転運動から発生する加速度は、加工容器17の底面から公転軸に垂直の外方向ある側面にかかるので、加工容器の壁部などの厚みを一部薄くすることができ、更に公転の遠心力によって加工容器17が容器ホルダ15から外れたり、加工容器17内の圧電素板などの加工物19がこぼれたりするのを防止している。尚、実施例では公転板13は一つで加工容器を一対搭載する構造になっているが、公転板を複数形成し、各々の公転板に加工容器を搭載した構造にしてもよい。又、一つの公転板に搭載する二つの加工容器のうち、一方を外し、替わりにバランサーを搭載することで、一つの公転板に一つの加工容器とする構造にしてもよい。
【0020】
加工容器17を公転軸心14周りで公転させながら自転軸心16周りで自転させる具体的な機構としては、公転用駆動モータと自転用駆動モータを別々に設けて、それぞれが自立して駆動する機構にしてもよい。又、公転自転共用の駆動モータを用いて、モータの回転運動をベルトとプーリ又は遊星歯車装置により公転と自転とに分ける機構にしてもよい。更に、これら駆動モータの起動停止、回転数及び回転時間等を制御する制御機構も併設されており、この制御機構にはケース12の外に設けたコントロールパネル等からアクセスでき、且つプログラム等で自動制御もできるようになっている。図1においては、公転用駆動モータ及びその制御機構は構造体18内に内蔵されている。
【0021】
図1に示した遠心バレル装置に使用される加工容器17を図2及び図3に示す。即ち加工容器17は有底円筒形の本体部21と蓋部22で構成され、本体部21は金属により形成されている。又、蓋部21は加工容器17の公転及び自転の際には本体部21から外れないような構造になっている。尚、蓋部22は加工容器内の加工物等が外部に飛散しないために用いており、加工容器の運動の仕方により加工物の外部飛散が起こらない場合は、必ずしも蓋部22を必要とするものではない。
【0022】
加工容器の本体部21の内壁には、ダイヤモンド,溶解アルミナ又は炭化珪素等の研磨加工粒子を、電着,メタルボンド又はレジンボンドにより配置され、研磨加工面24が形成されている。この加工容器内に、短冊形状等の圧電素板等の加工物を複数投入し、加工容器を高速で自公転させることで、研磨加工面24と加工物とが適宜摩擦することで、その加工物の表面にベベリング加工を行う。
【0023】
又、図4のように、研磨加工粒子を、加工容器の内壁面の形状に嵌め合うような容器形状に集合固化し研磨加工粒子体41を形成する。このような研磨加工粒子体41を加工容器内に配置し、加工容器の内壁へ固定することで、研磨加工面24を加工容器内に形成してもよい。
【0024】
図1のような遠心バレル装置では、加工容器の形状を小型に且つ非常に軽量に形成できるので、加工容器の自公転運動能力を著しく向上でき、加工時間を大幅に短縮することができる。又、公転と自転との相互作用により、加工物が加工容器内で自由に移動し混ざり合うことが促進され、ベベリング加工を投入した加工物全体に均一に施すことができる。尚、加工物に加工圧力を加え、且つ加工容器内の加工物の自由運動を促すことで、更に加工能率を向上させるために、加工容器内にメディア等の加工補助物を適宜添加してもよい。
【0025】
図2乃至4に開示したような加工容器17を使用することで、加工物と研磨加工面のと摩擦点に有効に加工圧力を加えることができ、効率的な加工をすることができる。又、従来のように、研磨材を加工容器内に入れて加工する必要がなく、加工後の加工物と、使用した研磨材等の添加剤との分別工程が非常に簡易及び短時間になる。
【0026】
尚、本発明における加工装置では、加工容器の自公転による遠心力を利用しているために、加工容器内面におけるベベリング加工使用域は、加工容器内底面及びその周囲の内壁面に限定される。加工容器上部の内壁面はベベリング加工に使用していないので、図3に開示のように加工容器内壁への研磨加工面の形成を加工容器の底面から、内壁側面と内壁底面間の曲面の半径R以上の高さ以上の範囲(図3ではRの3倍の高さ)であればベベリング加工には支障がない。このように加工容器内壁上部に研磨加工面を形成しないことによって、加工容器の制作費低減を図っている。
【0027】
【発明の効果】本発明の遠心バレル研磨装置により、小型化高周波化が進んだ圧電素板を短時間で効率よくベベリング加工することができ、因って圧電素板を使用する圧電振動子等の電子部品を安価に短時間で提供できる効果を成す。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明における遠心バレル研磨装置の概略を示した構造図(一部断面図)である。
【図2】図2は、図1に示した加工容器の一形態の断面図である。
【図3】図3は、図1に示した加工容器の他の形態の断面図である。
【図4】図4は、図1に示した加工容器の一製造形態を示した断面図である。
【符号の説明】
11,遠心バレル研磨装置
13,公転板
14,公転軸心
15,容器ホルダ
16,自転軸心
17,加工容器
18,構造体
41,研磨加工粒子体[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a centrifugal barrel polishing apparatus used for beveling a piezoelectric element such as a quartz plate, and more particularly to a centrifugal barrel polishing apparatus provided with a revolving shaft perpendicular to an installation surface of the apparatus. The present invention relates to a barrel polishing apparatus.
[0002]
2. Description of the Related Art With the miniaturization of electronic components such as piezoelectric vibrators and oscillators, it is necessary to reduce the size of the piezoelectric element constituting the piezoelectric vibrating plate mounted therein, and at the same time, to increase the frequency of the oscillation frequency. Because of the progress of thinning, it has become necessary to reduce the thickness of the piezoelectric element plate.
[0003]
For example, in a quartz plate, which is one of piezoelectric materials, the crystal impedance (hereinafter, referred to as CI) increases as the size of the quartz plate increases, and a problem occurs in starting the oscillation of the quartz plate. Therefore, by beveling the outer shape of the piezoelectric element, the "energy trapping" effect of the electrode film formed on the main surface of the crystal plate can be increased, and the vibration of the crystal plate can be easily started. Becomes lower.
[0004]
For this reason, as a device for beveling a piezoelectric element plate, a plurality of cylindrical processing containers having a length longer than a diameter of both ends closed are arranged, and a quartz piece and an abrasive are placed in the drum. The processing vessel is revolved around a revolving axis parallel to the ground plane, and the processing vessel itself is further parallel to the revolving axis with a central axis passing through the center of the cross section at both ends or an axis passing obliquely through the cross sections at both ends. 2. Description of the Related Art A centrifugal barrel device that bevels the outer shape of a piezoelectric element by rotating the piezoelectric element placed in the processing container by frictional motion with an inner wall of the processing container, a crystal piece, and an abrasive is used.
[0005]
For the centrifugal barrel device as described above, the following documents are disclosed.
[0006]
[Patent Document 1]
JP 2000-354947 A [Patent Document 2]
JP-A-2002-120141
The applicant has not found any prior art documents related to the present invention other than the prior art documents specified in the above-mentioned prior art document information by the time of filing the present application.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
In a conventional centrifugal barrel device, without adding an abrasive, arranging abrasive particles on the inner wall of the processing container and polishing the piezoelectric element plate have been performed, but as a processing container constituting the device, A large processing container having a diameter of 50 to 200 mm and a length of about 300 to 600 mm is used, and the processing container is polished using the entire inner wall of the container. Therefore, the polishing particles must be formed on the entire inner wall of the container, which increases the price of the processing container.
[0009]
Further, in the conventional centrifugal barrel device, even if a large motor is used, the revolving speed of the processing container can be obtained only up to about one hundred and several tens rpm at the highest speed. The rotation motion of the processing container is generated in order to maintain the state of the processing container as it is along with the revolving motion, and is rotating at the same speed in a direction opposite to the revolving speed. In other words, since the rotation speed depends on the revolution speed, it is difficult to further improve the machining efficiency in the conventional centrifugal barrel device having the revolution speed, and the beveling process currently takes several tens of hours.
[0010]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has a revolving plate fixed to a revolving shaft provided in a direction perpendicular to an installation surface, and a revolving plate provided on the revolving plate. A rotating shaft that is provided and has a certain inclination angle that is perpendicular or on the revolving axis side with respect to the apparatus installation surface, a container holder that is fixed to the rotating shaft and rotates, and abrasive particles fixed to and held by the container holder and on the inner wall thereof A centrifugal barrel polishing apparatus is provided with a processing vessel in which is disposed, a drive motor and a drive rotation mechanism for rotating the revolution axis and the rotation axis independently or in conjunction with each other, and controlling the rotation direction, the number of rotations and the rotation time.
[0011]
Further, the above-mentioned centrifugal barrel polishing apparatus is characterized in that the polishing particles are fixed to the inner wall of the processing container by electrodeposition, metal bond or resin bond.
[0012]
Further, the above-mentioned centrifugal barrel polishing apparatus is characterized in that the polished particles are collected and solidified into a container shape that fits into the wall shape in the processing container, and the polished particles are arranged and fixed in the processing container. is there.
[0013]
Further, the abrasive particles are arranged on the bottom surface of the inner wall of the processing container and, on the inner wall side surface of the processing container, in a range of a height equal to or greater than the radius R of the curved surface between the inner wall side surface and the inner wall bottom surface. The above-described centrifugal barrel polishing apparatus.
[0014]
By using such a processing container in a centrifugal barrel polishing apparatus, more efficient beveling can be performed as compared with a case where an abrasive is added. In particular, in the centrifugal barrel device of the present invention in which the revolving shaft is provided in the direction perpendicular to the installation surface of the device, since the size and weight of the processing container are reduced, the rotation speed of the processing container can be increased. Efficiency can be improved.
[0015]
In addition, since anything other than the workpiece is not added to the processing container as much as possible, the process of separating the workpiece after beveling and the workpiece other than the workpiece can be simplified and shortened.
[0016]
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a centrifugal barrel polishing apparatus according to the present invention. It should be noted that the dotted frame is a schematic cross-sectional view for clarifying the form of the components constituting the device in the frame. FIG. 2 is a cross-sectional view showing one embodiment of the processing container shown in FIG. FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the processing container shown in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional configuration diagram illustrating one manufacturing mode of the processing container illustrated in FIG. 1. In FIGS. 1 to 4, a part of the structure is not shown for clarity, and the dimensions are partially exaggerated.
[0017]
That is, the
[0018]
Thus, the
[0019]
In this embodiment, the
[0020]
As a specific mechanism for rotating the
[0021]
A
[0022]
On the inner wall of the
[0023]
In addition, as shown in FIG. 4, the abrasive particles are aggregated and solidified into a container shape that fits into the shape of the inner wall surface of the processing container to form an
[0024]
In the centrifugal barrel device as shown in FIG. 1, the shape of the processing container can be made small and very lightweight, so that the revolving ability of the processing container can be remarkably improved, and the processing time can be greatly reduced. Further, the interaction between the revolution and the rotation facilitates the free movement and mixing of the workpieces in the processing container, and the workpiece can be uniformly applied to the entire workpiece subjected to beveling. In order to further improve the processing efficiency by applying the processing pressure to the workpiece and promoting the free movement of the workpiece in the processing container, a processing aid such as a medium may be appropriately added to the processing container. Good.
[0025]
By using the
[0026]
In the processing apparatus according to the present invention, since the centrifugal force generated by the rotation of the processing container is utilized, the beveling processing area on the inner surface of the processing container is limited to the inner bottom surface of the processing container and the inner wall surface around the bottom surface. Since the inner wall surface of the upper portion of the processing container is not used for beveling, the polishing surface is formed on the inner wall of the processing container from the bottom surface of the processing container as shown in FIG. If the height is not less than the height R (three times the height of R in FIG. 3), there is no problem in the beveling process. By not forming a polished surface on the upper part of the inner wall of the processing container, the production cost of the processing container is reduced.
[0027]
According to the centrifugal barrel polishing apparatus of the present invention, it is possible to efficiently bevel the piezoelectric element which has been miniaturized and made high frequency in a short time and efficiently. The electronic component can be provided at low cost in a short time.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a structural view (a partial cross-sectional view) schematically showing a centrifugal barrel polishing apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of one embodiment of the processing container shown in FIG.
FIG. 3 is a sectional view of another embodiment of the processing container shown in FIG. 1;
FIG. 4 is a cross-sectional view showing one manufacturing mode of the processing container shown in FIG.
[Explanation of symbols]
11, centrifugal
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003023170A JP4152208B2 (en) | 2003-01-31 | 2003-01-31 | Centrifugal barrel polishing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003023170A JP4152208B2 (en) | 2003-01-31 | 2003-01-31 | Centrifugal barrel polishing equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004230520A true JP2004230520A (en) | 2004-08-19 |
JP4152208B2 JP4152208B2 (en) | 2008-09-17 |
Family
ID=32952044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003023170A Expired - Fee Related JP4152208B2 (en) | 2003-01-31 | 2003-01-31 | Centrifugal barrel polishing equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4152208B2 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006281377A (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Kyocera Kinseki Corp | Tilting type centrifugal barrel polishing device and machining container used for it |
CN108745513A (en) * | 2018-05-29 | 2018-11-06 | 镇江市高等专科学校 | A kind of useless stone pulverizing equipment of building |
JP2020093321A (en) * | 2018-12-11 | 2020-06-18 | シチズンファインデバイス株式会社 | Ceramic ball manufacturing apparatus and manufacturing method for the same |
CN117506695A (en) * | 2024-01-05 | 2024-02-06 | 海门市海真真空设备有限公司 | Vacuum pump part burnishing device based on rotation type |
CN117506695B (en) * | 2024-01-05 | 2024-05-24 | 海门市海真真空设备有限公司 | Vacuum pump part burnishing device based on rotation type |
-
2003
- 2003-01-31 JP JP2003023170A patent/JP4152208B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006281377A (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Kyocera Kinseki Corp | Tilting type centrifugal barrel polishing device and machining container used for it |
CN108745513A (en) * | 2018-05-29 | 2018-11-06 | 镇江市高等专科学校 | A kind of useless stone pulverizing equipment of building |
JP2020093321A (en) * | 2018-12-11 | 2020-06-18 | シチズンファインデバイス株式会社 | Ceramic ball manufacturing apparatus and manufacturing method for the same |
JP7258531B2 (en) | 2018-12-11 | 2023-04-17 | シチズンファインデバイス株式会社 | Ceramic ball manufacturing device and manufacturing method thereof |
CN117506695A (en) * | 2024-01-05 | 2024-02-06 | 海门市海真真空设备有限公司 | Vacuum pump part burnishing device based on rotation type |
CN117506695B (en) * | 2024-01-05 | 2024-05-24 | 海门市海真真空设备有限公司 | Vacuum pump part burnishing device based on rotation type |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4152208B2 (en) | 2008-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2009060550A1 (en) | Churning deaerator | |
JP5061296B2 (en) | Flat double-side polishing method and flat double-side polishing apparatus | |
CN1488470A (en) | Polishing machine | |
JP2008194792A (en) | Vibration agitation type grinding cleaning machine and method therefor | |
US3562962A (en) | Grinding apparatus | |
JP2004230520A (en) | Centrifugal barrel polishing device | |
JPH05214600A (en) | Electrolytic grinding method and device therefor | |
JP2004090113A (en) | Rotation and revolution type barrel polishing device and machining container for use in device | |
JP2004322221A (en) | Barrel polishing device | |
JP2010005712A (en) | Barrel polishing method and apparatus | |
JP3613345B2 (en) | Polishing apparatus and carrier for polishing apparatus | |
JPH1058290A (en) | Grinding device for hard and brittle material | |
JP4933053B2 (en) | Inclined centrifugal barrel polishing equipment | |
JP2916937B2 (en) | Barrel polishing method and apparatus | |
JP2006263697A (en) | Method and apparatus for agitating/defoaming material to be agitated by using ultrasonic wave | |
WO2024040886A1 (en) | Centrifugal driving apparatus and centrifugal device | |
JP2005074547A (en) | Vertical barrel polishing device | |
JP2005001096A (en) | Ultrasonic vibrating table | |
JPS5840261A (en) | Bevelling method, and polishing and bevelling device for hard board member | |
JPH0369659B2 (en) | ||
RU2226147C2 (en) | Method and apparatus for lapping parts | |
JP2007050471A (en) | Dressing method and rotary dressing device | |
RU2401730C1 (en) | Method of centrifugal abrasive machining | |
JP3645944B2 (en) | Ultrasonic deburring device | |
CN217552104U (en) | Novel electric motor car aluminium section of thick bamboo shakes ray apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071211 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080624 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080701 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711 Year of fee payment: 4 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130711 Year of fee payment: 5 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |