JP2004219806A - Photosensitive planographic printing plate and method for processing the same - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive planographic printing plate which has printing durability and restoration of unexposed part from staining compatibly at a high level, and is improved in linearity during exposure with a laser. <P>SOLUTION: The photosensitive planographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer is characterized in that the contact angle of the surface of a support prior to coating application of the photopolymerizable photosensitive layer with water is ≥30 to ≤70°. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【００５２】
好ましくは、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピレン−１，３−ジメタクリレート、２−ヒドロキシプロピレン−１−メタクリレート−３−アクリレート等が挙げられる。
【００５３】
これらの反応は、通常のジオール化合物、ジイソシアネート化合物、ヒドロキシル基含有アクリレート化合物の反応で、ウレタンアクリレートを合成する方法と同様に行うことが出来る。
【００５４】
また、これらの分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシアネート化合物、および分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物の反応生成物において具体例を以下に示す。
【００５５】
Ｍ−１：トリエタノールアミン（１モル）、ヘキサン−１，６−ジイソシアネート（３モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（３モル）の反応生成物
Ｍ−２：トリエタノールアミン（１モル）、イソホロンジイソシアネート（３モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレート（３モル）の反応生成物
Ｍ−３：Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン（１モル）、１，３−ビス（１−イソシアナート−１−メチルエチル）ベンゼン（２モル）、２−ヒドロキシプロピレン−１−メタクリレート−３−アクリレート（２モル）の反応生成物
Ｍ−４：Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン（１モル）、１，３−ジ（イソシアナートメチル）ベンゼン（２モル）、２−ヒドロキシプロピレン−１−メタクリレート−３−アクリレート（２モル）の反応生成物
Ｍ−５：Ｎ−メチルジエタノールアミン（１モル）、トリレン−２，４−ジイソシアネート（２モル）、２−ヒドロキシプロピレン−１，３−ジメタクリレート（２モル）の反応生成物
この他にも、特開平１−１０５２３８号公報、特開平２−１２７４０４号公報に記載の、アクリレート又はアルキルアクリレートが用いることが出来る。
【００５６】
本発明においては、付加重合可能なエチレン性二重結合含有単量体が、下記一般式（４）又は一般式（５）で表される化合物（本発明に係る三級アミンモノマー）であることが特に好ましい。
【００５７】
【化２】

【００５８】
〔式中、Ｑ^１は
【００５９】
【化３】

【００６０】
又は−Ｓ−を表し、Ｒ^４はアルキル基、ヒドロキシアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、Ｒ^３は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｘ^１は２〜１２個の炭素原子を有する２価の基を表し、Ｘ^２は、２価の基〜４価の基、又は、
【００６１】
【化４】

【００６２】
を表し、Ｚは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシル基、複素環基を表し、ｐは１〜４の整数、ｑは１〜３の整数を表す。Ｄ^１及びＤ^２は、各々１〜５個の炭素原子を有する２価の基を表し、Ｅは、２〜１２個の炭素原子を有する２価の基、５員環〜７員環であり、且つ、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる１種又は２種の原子を含む複素環を有する脂肪族基、６〜１２個の炭素原子を有するアリーレン基、又は、５員環又は６員環を有する芳香族複素環基を表し、ａは０又は１〜４の整数を表し、ｂは０又は１を表し、ｃは１〜３の整数を表し、ｍはＱ^１の原子価により２〜４の整数を表し、ｎは１〜ｍの整数を表し、同一定義の全ての基は相互に同一又は異なることが可能である。〕
【００６３】
【化５】

【００６４】
〔式中、Ｑ^２は
【００６５】
【化６】

【００６６】
を表し、Ｒ^８はアルキル基、ヒドロキシアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、Ｒ^７は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｄ^３及びＤ^４はそれぞれ１〜５個の炭素原子を有する飽和炭化水素基を表し、Ｆは２〜１２個の炭素原子を有する飽和炭化水素基、５〜７個の環員を有しかつ２個までのＮ、Ｏ又はＳ原子を環員として含有する環状脂肪族基、６〜１２個の炭素原子を有するアリーレン基、又は５〜６個の環員を有する複素環芳香族基を表し、ｄ及びｅは１〜４の整数を表し、ｇはＱ^２の原子価により２〜４の整数を表し、ｆは１〜ｇの整数を表し、同一定義の全ての基は相互に同一又は異なることが可能である。〕
以下に前記一般式（４）で表される化合物について説明する。
【００６７】
一般式（４）において、Ｒ^４で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ドコサデシル基等が挙げられる。Ｒ^４で表されるヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシペンチル基等が挙げられる。Ｒ^４で表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００６８】
一般式（４）において、Ｒ^１及びＲ^２で表されるアルキル基は、前記Ｒ^４で表されるアルキル基と同義である。Ｒ^１及びＲ^２で表されるアルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、プロポキシエチル基等が挙げられる。
【００６９】
一般式（４）において、Ｘ^１で表される２〜１２個の炭素原子を有する２価の基としては、例えば、飽和炭化水素基、アリーレン基等が挙げられる。Ｘ^１で表される２〜１２個の炭素原子を有する飽和炭化水素基としては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、シクロヘキシレン基（例えば、１，６−シクロヘキサンジイル基等）、シクロペンチレン基（例えば、１，５−シクロペンタンジイル基など）等が挙げられる。Ｘ^１で表されるアリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
【００７０】
一般式（４）において、Ｘ^２で表される２価の基は、前記Ｘ^１で表される２〜１２個の炭素原子を有する２価の基として挙げられる、飽和炭化水素基、アリーレン基等を用いることができるが、更に、前記飽和炭化水素基の中の５個までのメチレン基が酸素原子によって置換されたものを用いることが出来る。
【００７１】
一般式（４）において、Ｘ^２で表される３価の基は、上記のＸ^２で表される２価の基（飽和炭化水素基、アリーレン基等）に更にひとつ結合基がついたものであり、例えば、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ウンデカントリイル基、ドデカントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロペンタントリイル基、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基等が挙げられる。
【００７２】
一般式（４）において、Ｘ^２で表される４価の基は、上記のＸ^２で表される３価の基に更にひとつ結合基がついたものであり、例えば、プロパンジイリデン基、１，３−プロパンジイル−２−イリデン基、ブタンジイリデン基、ペンタンジイリデン基、ヘキサンジイリデン基、ヘプタンジイリデン基、オクタンジイリデン基、ノナンジイリデン基、デカンジイリデン基、ウンデカンジイリデン基、ドデカンジイリデン基、シクロヘキサンジイリデン基、シクロペンタンジイリデン基、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基等が挙げられる。
【００７３】
一般式（４）のＸ^２において、Ｚは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシル基、複素環基を表す。Ｚで表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。Ｚで表されるアルケニル基としては、例えば、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基等が挙げられる。Ｚで表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等が挙げられる。Ｚで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられる。Ｚで表されるアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。Ｚで表される複素環基としては、例えば、ピリジル基、ピロリル基、２−メチルピロリル基、インドリル基、イミダゾリル基、フリル基、チアゾリル基、ピリミジニル基等が挙げられる。
【００７４】
一般式（４）において、Ｄ^１及びＤ^２で表される、１〜５個の炭素原子を有する２価の基としては、メチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、シクロペンチレン基等が挙げられる。
【００７５】
一般式（４）において、Ｅで表される、２〜１２個の炭素原子を有する２価の基は、Ｘ^１で表される２〜１２個の炭素原子を有する２価の基と同義である。
【００７６】
一般式（４）において、Ｅで表される、５員環〜７員環であり、且つ、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれる２つまでの原子を含む複素環を置換基として有する脂肪族基を構成する複素環としては、例えば、ピリジン環、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラン環、チオフェン環、イソオキサゾール環、ピロリン環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、キヌクリジン環等が挙げられる。
【００７７】
前記の脂肪族基としては、上記記載の複素環を有する炭素数２〜１２の２価の基が挙げられ、前記２価の基は、Ｘ^１で表される２〜１２個の炭素原子を有する２価の基と同義である。
【００７８】
一般式（４）において、Ｅで表される、６〜１２個の炭素原子を有するアリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
【００７９】
一般式（４）において、Ｅで表される５員環又は６員環を有する芳香族複素環基を構成する芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、１，２，３−オキサジアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ｓ−トリアジン環、ベンゾフラン環、インドール環、ベンゾチオフェン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、プリン環、キノリン環及びイソキノリン環等が挙げられる。
【００８０】
ここで、上記記載の一般式（４）で表される各々の置換基は、更に置換基を有していてもよい。
【００８１】
一般式（４）において、好ましくはＱ^１は＞Ｎ−を、Ｘ^１は芳香族環を有し、更に好ましくはＸ^１はトリレンジイソシアネートから導かれる以下に挙げる化合物の具体例における４−１２〜４−１５のような構造を有し、さらに好ましくはＸ^１がテトラメチルキシレンジイソシアネートから導かれる４−１６〜４−２０のような構造を有する。
【００８２】
一般式（４）で表される化合物は、当該業者周知の方法、例えば、特許第２５０９２８８号明細書等に記載の方法を参照して合成できる。
【００８３】
以下、一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００８４】
【化７】

【００８５】
【化８】

【００８６】
【化９】

【００８７】
【化１０】

【００８８】
【化１１】

【００８９】
【化１２】

【００９０】
【化１３】

【００９１】
次に前記一般式（５）で表される化合物について説明する。
一般式（５）において、Ｒ^８は（ｇ−ｆ）が２以上の場合は、互いに異なってもよい。ｇとｆが同じ値である化合物が好ましい。Ｒ^８がアルキル基、ヒドロキシアルキル基の場合は、炭素数は２〜８が好ましく、２〜４がより好ましい。Ｒ^８がアリール基の場合は、単環又は２環が好ましく、単環がより好ましく、かつ炭素数５個までのアルキル基、アルコキシアルキル基又はハロゲン原子で置換されてもよい。Ｒ^５及びＲ^６がアルキル基又はアルコキシアルキル基の場合は、炭素数は１〜５が好ましい。Ｒ^７はメチル基が好ましい。
【００９２】
Ｄ^３及びＤ^４は同一又は異なってもよく、かつ２個の窒素原子を含む６員の飽和複素環が好ましい。
【００９３】
Ｆが飽和炭化水素基の場合は２〜６個の炭素原子を有することが好ましく、Ｆがアリーレン基の場合はフェニレン基が好ましく、環状脂肪族基の場合はシクロヘキシレン基が好ましく、複素環芳香族基の場合は窒素原子又は硫黄原子を含む５〜６員環が好ましい。
【００９４】
一般式（５）で表される化合物を得るには、Ｑ^２が＞Ｎ−であり、ｎとｍが同じ値の場合は、グリシジルアクリレート又はアルキルアクリレートをヒドロキシアルキルアミンと反応させる。他の化合物も同様にして得ることができる。
【００９５】
本発明の一般式（５）で表される化合物の具体例を以下に示す。
【００９６】
【化１４】

【００９７】
本発明に係る付加重合可能なエチレン性二重結合含有単量体の添加量は光重合性感光層の不揮発成分の３０〜７０質量％が好ましく、４０〜６０質量％がより好ましい。
【００９８】
本発明の光重合性感光層には、光重合開始剤組成物としてポリハロアセチル化合物を含有することが好ましい。ポリハロアセチル化合物としては、ポリハロアセチル化合物、中でも好ましくはトリハロアセチルアミド化合物が挙げられ、例えば、下記一般式（１）で表される化合物（ポリハロアセチル化合物）またはより好ましくは下記一般式（２）で表される化合物（トリハロアセチルアミド化合物）が挙げられる。
【００９９】
一般式（１） Ｒ^１−ＣＸ_２−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ^２
式中、Ｘは塩素原子または臭素原子を表す。Ｒ^１は水素原子、塩素原子、臭素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はシアノ基を表す。Ｒ^２は一価の置換基を表す。又、Ｒ^１とＲ^２が結合して環を形成してもよい。
【０１００】
一般式（２） ＣＸ_３−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ^３
式中、Ｘは塩素原子または臭素原子を表す。Ｒ^３は一価の置換基を表す。Ｙは−Ｏ−又は−ＮＲ^４−を表す。Ｒ^４は水素原子又はアルキル基を表す。又、Ｒ^３とＲ^４が結合して環を形成してもよい。
【０１０１】
前記一般式（１）で表される化合物の代表的な具体例（ＢＲ１〜ＢＲ７６）を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０２】
【化１５】

【０１０３】
【化１６】

【０１０４】
【化１７】

【０１０５】
【化１８】

【０１０６】
【化１９】

【０１０７】
【化２０】

【０１０８】
【化２１】

【０１０９】
【化２２】

【０１１０】
【化２３】

【０１１１】
更にポリハロアセチル化合物としては、前記一般式（２）で表される化合物が好ましく用いられる。一般式（２）で表される化合物の好ましい具体例としては前記ＢＲ２〜ＢＲ４７、ＢＲ６７〜ＢＲ７６の化合物である。
【０１１２】
上記一般式（１）で表される化合物および一般式（２）で表される化合物（ポリ塩素化合物、ポリ臭素化合物）において、ポリ臭素化合物がより好ましい。
【０１１３】
次に、前記本発明に係るポリハロアセチル化合物、トリハロアセチルアミド化合物、好ましくは前記一般式（１）で表される化合物または一般式（２）で表される化合物（以下、特に断りのない限りこれらを総称して本発明に係るポリハロゲン化合物という）のいずれかと併用することに、より好ましい効果を得ることができるチタノセン化合物について説明する。
【０１１４】
チタノセン化合物としては、特開昭６３−４１４８３号公報、特開平２−２９１号公報に記載される化合物等が挙げられる。更に好ましい具体例としては、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ジ−クロライド、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−フェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル（ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ７２７Ｌ：チバスペシャリティーケミカルズ社製）、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム（ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ７８４：チバスペシャリティーケミカルズ社製）、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，４，６−トリフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウムビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，４，６−トリフルオロ−３−（２−５−ジメチルピリ−１−イル）フェニル）チタニウム等が挙げられる。
【０１１５】
以下に代表的なチタノセン化合物の構造を示す。
【０１１６】
【化２４】

【０１１７】
チタノセン化合物の添加量は、光重合性感光層の不揮発成分当たり０．１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは１〜１５質量％、更に好ましくは１．５〜１０質量％である。
【０１１８】
次に、本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれかと併用することに、より好ましい効果を得ることができる鉄アレーン錯体化合物について説明する。
【０１１９】
鉄アレーン錯体化合物としては、特開昭５９−２１９３０７号公報に記載される化合物等挙げられるが、代表的には下記一般式（６）で表される化合物である。
【０１２０】
【化２５】

【０１２１】
式中、Ｒ_１１、Ｒ_１２は同じか又は異なる基であり、Ｃ_１〜Ｃ_１２のアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_１２のアルキニル基、Ｃ_１〜Ｃ_８のアルコキシ基、シアノ基、アルキルチオ基、フェノキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_６のモノカルボン酸およびエステル基、Ｃ_２〜Ｃ_５のアルカノイル基、アンモニウム塩、ピリジニウム基、ニトロ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルフォニル基、スルファモイル基ハロゲン原子より選ばれたものであり、Ｒ_１２はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよい。Ｘは、ＢＦ_４、ＰＦ_６、ＡｓＦ_６、ＳｂＦ_６、ＦｅＣｌ_４、ＳｎＣｌ_６、ＳｂＣｌ_６、ＢｉＣｌ_６を表す。ｍは１〜４の正の整数、ｎは１〜５の正の整数を表す。
【０１２２】
一般式（６）で表される鉄アレーン錯体化合物は、具体的には（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−トルエン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロフェート、（η６−クメン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロアルセネート、（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）テトラフルオロポレート、（η６−ナフタレン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−アントラセン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ピレン）（η５−シクロペンタジェニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−トルエン）（η５−アセチルシクロペンタジニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クメン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）テトラフルオロボレート、（η６−ベンゼン）（η５ーカルボエトキシシクロヘキサジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５−１，３−ジクロルシクロヘキサジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−シアノベンゼン）（η５−シクロヘキサジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−アセトフェノン）（η５−シクロヘキサジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−メチルベンゾエ−ト）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼンスルホンアミド）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）テトラフルオロボレート、（η６−ベンズアミド）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−シアノベンゼン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート（η６−クロルナフタレン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−アントラセン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クロルベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クロルベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）テトラフルオロボレートなどが挙げられる。これらの化合物は、Ｄｏｋｌ．Ａｋｄ．Ｎａｕｋ ＳＳＳＲ １４９ ６１５（１９６３）に記載された方法により合成できる。
【０１２３】
鉄アレーン錯体化合物の添加量は、光重合性感光層の不揮発成分当たり０．１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは１〜１５質量％、更に好ましくは１．５〜１０質量％である。
【０１２４】
次に、本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれかと併用することに、より好ましい効果を得ることができる有機ボレート化合物について説明する。
【０１２５】
有機ボレート化合物としては、特開昭６２−１５０２４２、特開昭６２−１４３０４４に記載されてるモノアルキルトリアリールボレート化合物を挙げることができる。具体例としては、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム ｎ−ブチルートリナフタレン−１−イル−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム ｎ−ブチルートリフェニル−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム ｎ−ブチルートリ−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム ｎ−ヘキシルートリ−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−ボレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム ｎ−ヘキシルートリ−（３−フルオロフェニル）−ボレート等が挙げられる。
【０１２６】
有機ボレート化合物としては代表的には下記一般式（７）で表すことができる。
【０１２７】
【化２６】

【０１２８】
式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環基又はハロゲン原子を示し、Ｚ^＋は任意のカチオンを示す。
【０１２９】
以下に一般式（７）で表される有機ボレート化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３０】
【化２７】

【０１３１】
【化２８】

【０１３２】
【化２９】

【０１３３】
一般式（７）で表されるその他の有機ボレート化合物については特願２００２−１８５９８５号明細書に記載の化合物を挙げることができる。
【０１３４】
有機ボレート化合物の添加量は、光重合性感光層の不揮発成分当たり０．１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは１〜１５質量％、更に好ましくは１．５〜１０質量％である。
【０１３５】
その他に任意の光重合開始剤の併用が可能である。例えばＪ．コーサー（Ｊ．Ｋｏｓａｒ）著「ライト・センシテイブ・システムズ」第５章に記載されるようなカルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素などが挙げられる。更に具体的な化合物は英国特許１，４５９，５６３号明細書に開示されている。
【０１３６】
即ち、併用が可能な光重合開始剤としては、次のようなものを使用することができる。ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン−ｉ−プロピルエーテル、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等のベンゾイン誘導体；ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体；２−クロロチオキサントン、２−ｉ−プロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；２−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体；Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン等のアクリドン誘導体；α，α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサントン、ウラニル化合物の他、特公昭５９−１２８１号公報、同６１−９６２１号公報、特開昭６０−６０１０４号公報記載のトリアジン誘導体；特開昭５９−１５０４号公報、同６１−２４３８０７号公報に記載の有機過酸化物；特公昭４３−２３６８４号公報、同４４−６４１３号公報、同４４−６４１３号公報、同４７−１６０４号公報、米国特許３，５６７，４５３号明細書に記載のジアゾニウム化合物；米国特許２，８４８，３２８号明細書、同２，８５２，３７９号明細書、同２，９４０，８５３号明細書に記載の有機アジド化合物；特公昭３６−２２０６２号公報、同３７−１３１０９号公報、同３８−１８０１５号公報、同４５−９６１０号公報に記載のｏ−キノンジアジド類；特公昭５５−３９１６２号公報、特開昭５９−１４０２３号公報、「マクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）」１０巻，１３０７頁（１９７７年）記載の各種オニウム化合物；特開昭５９−１４２２０５号公報に記載のアゾ化合物；特開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許１０９，８５１号明細書、同１２６，７１２号明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」３０巻，１７４頁（１９８６年）記載の金属アレン錯体；特願平４−５６８３１号明細書、同４−８９５３５号明細書に記載の（オキソ）スルホニウム有機硼素錯体；「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｒｅｖｉｅｗ）」８４巻，８５〜２７７頁（１９８８年）、特開平２−１８２７０１号公報に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体；特開平３−２０９４７７号公報に記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；四臭化炭素、特開昭５９−１０７３４４号公報に記載の有機ハロゲン化合物等を挙げることができる。
【０１３７】
（分光増感色素）
光源にレーザー光を用いる場合、好ましくは感光層に分光増感色素を添加する。光源の波長付近に吸収極大波長を有する色素を用いることが好ましい。
【０１３８】
可視光から近赤外まで波長増感させる化合物としては、例えばシアニン、フタロシアニン、メロシアニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジン、クマリン、クマリン誘導体、ケトクマリン、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体等、ケトアルコールボレート錯体が挙げられ、更に欧州特許５６８，９９３号明細書、米国特許４，５０８，８１１号明細書、同５，２２７，２２７号明細書、特開２００１−１２５２５５号公報、特開平１１−２７１９６９号公報等に記載の化合物も用いられる。
【０１３９】
次に、本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれか、あるいは本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれかと前記チタノセン化合物、鉄アレーン錯体化合物、有機ボレート化合物（以下においては特に断りのない限り、チタノセン化合物、鉄アレーン錯体化合物及び有機ボレート化合物を総称して有機金属化合物という）のいずれかと併用したものに更に併用することにより好ましい効果を得ることができる３５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下に吸収極大を有する色素について説明する。
【０１４０】
本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれかと前記チタノセン化合物と併用したものに更に併用することにより好ましい効果を得ることができる３５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下に吸収極大を有する色素としては、キサンテン類、アクリジン類、クマリン類やバルビツール類があり、更に好ましくは下記一般式（８）で表すことができる色素である。
【０１４１】
【化３０】

【０１４２】
一般式（８）において、Ａ^１およびＡ^２は各々炭素原子又はヘテロ原子を表す。Ｑ^１はＡ^１、Ａ^２およびこれらに隣接する炭素原子とともに複素環を形成するのに必要な非金属原子団を表す。Ｒ^１およびＲ^２は各々水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ^１とＲ^２とは互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ^１およびＸ^２は各々シアノ基又は置換カルボニル基を表し、Ｘ^１とＸ^２とは互いに結合して環を形成してもよい。ｎは０、１又は２である。
【０１４３】
一般式（８）で表される分光増感色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下では、Ｑ^１で完成される環（Ｑ^１で表示）、Ｘ^１とＸ^２とが結合した炭素二価基およびｎの組み合わせで示しているものもあり、これらではＲ^１＝Ｒ^２＝Ｈである。
【０１４４】
【化３１】

【０１４５】
【化３２】

【０１４６】
一般式（８）で表されるその他の色素については特開平９−３２８５０５号公報に記載の化合物を挙げることができる。
【０１４７】
本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれかと前記鉄アレーン錯体化合物と併用したものに更に併用することにより好ましい効果を得ることができる３５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下に吸収極大を有する色素としては下記一般式（９）又は一般式（１０）で表すことができる色素である。
【０１４８】
【化３３】

【０１４９】
式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は、水素、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、シアノ基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基であり、Ｚ^１は、アリール基、複素環基、又は−ＣＯＲ^１６（Ｒ^１６は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基又は複素環基を示す。）を示す。
【０１５０】
一般式（９）で表される分光増感色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５１】
【化３４】

【０１５２】
式中Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２５は、水素、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、シアノ基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基であり、Ｚ^２は、アリール基、複素環基、又はーＣＯＲ^２６（Ｒ^２６は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基又は複素環基を示す。）を示す。
【０１５３】
一般式（１０）で表される分光増感色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５４】
【化３５】

【０１５５】
本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれかと前記鉄アレーン錯体化合物と併用したものに更に併用することにより好ましい効果を得ることができる３５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下に吸収極大を有するその他の色素としては、ローズベンガル、フロキシン、エリスロシン、エオシン、フルオレセイン等のキサンテン系色素、クマリン系色素、及びアントラセン系色素が挙げられる。色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５６】
【化３６】

【０１５７】
本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれかと前記有機ボレート化合物と併用したものに更に併用することにより好ましい効果を得ることができる３５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下に吸収極大を有する色素としては、シアニン色素、カルボシアニン色素、ヘミシアニン色素、ローダミン色素、アザメチン色素が挙げられる。色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５８】
【化３７】

【０１５９】
次に、本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれか、あるいは本発明に係るポリハロゲン化合物のいずれかと前記チタノセン化合物、鉄アレーン錯体化合物、有機ボレート化合物（有機金属化合物）のいずれかと併用したものに更に併用することにより好ましい効果を得ることができる３５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に吸収極大を有する色素としては、特開２０００−９８６０５号公報、特開２０００−１４７７６３号公報、特開２０００−２０６６９０公報、特開２０００−２５８９１０公報、特開２００１−４２５２４公報、特開２００１−１００４１２公報等に記載されている色素が好ましい。さらに好ましくは、下記一般式（１１）で表される化合物が好ましい。
【０１６０】
【化３８】

【０１６１】
式中、Ｒ^１４は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表す。Ｒ^１５、Ｒ^１６は連結して環を形成しうる置換基を表す。Ｘ^１１、Ｘ^１２はそれぞれ独立に、−Ｃ（Ｒ^１７Ｒ^１８）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^１９）−を表す。Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表す。
【０１６２】
Ｒ^１４で表される置換基を有していてもよいアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基などを挙げることができ、Ｒ^１４で表される置換基を有していてもよいアルケニル基としては、例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基などを挙げることができ、Ｒ^１４で表される置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基など、アラルキル基、例えば、ベンジル基、フェネチル基などを挙げることができ、またＲ^１４で表される置換基を有していてもよい複素環基としては、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ベンズイミダゾール環、ピリジン環、フラン環、チオフェン環、クロマン環、クマリン環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、スルホラン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環などの５員又は６員の複素環より誘導される複素環基を挙げることができる。
【０１６３】
また、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９で表される置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基としては、上記Ｒ^１４で記載のと同じ各基を挙げることができる。
【０１６４】
一般式（１１）で表される分光増感色素の一例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６５】
【化３９】

【０１６６】
一般式（１１）で表される分光増感色素は、当業者で従来公知の方法に準じて合成して得ることができる。
【０１６７】
分光増感色素の吸収極大については、アセトニトリルに溶解し常温で可視光スペクトルを測定する。アセトニトリルに不溶な色素は、アルコール類、２−ブタノンや水等に溶解して測定しても良い。
【０１６８】
本発明において、分光増感色素の添加方法としては、水又は有機溶媒等の適当な溶媒を選択し、それらに溶解して添加することができ、有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ、ジエチルカルビトール等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド等が挙げられ、それらを単独又は２種以上混合して使用することができる。
【０１６９】
本発明において、分光増感色素の添加量は、一概には規定できないが、好ましくは溶媒を除く感光性組成物１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であり、より好ましくは０．５〜５質量部である。光重合開始剤と分光増感色素の配合比率は、モル比で１：１００〜１００：１の範囲が好ましい。
【０１７０】
（高分子結合材）
次に高分子結合材について説明する。
【０１７１】
本発明の光重合性感光層等に用いられる高分子結合材としては、例えば、アクリル系重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、その他の天然樹脂等を使用することができる。また、これらを２種以上併用してもかまわない。
【０１７２】
上記各高分子結合材において、好ましくはアクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合であり、更に、高分子結合材の共重合組成として、（ａ）カルボキシル基含有モノマー、（ｂ）メタクリル酸アルキルエステル、又はアクリル酸アルキルエステルの共重合体であることが好ましい。
【０１７３】
カルボキシル基含有モノマーの具体例としては、α，β−不飽和カルボン酸類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。その他、フタル酸と２−ヒドロキシメタクリレートのハーフエステル等のカルボン酸も好ましい。
【０１７４】
メタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル等の無置換アルキルエステルの他、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル等の環状アルキルエステルや、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等の置換アルキルエステル等を挙げることができる。
【０１７５】
更に、本発明に係る高分子結合材は、他の共重合モノマーとして、下記（１）〜（１４）に記載のモノマー等を用いることができる。
【０１７６】
（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例えばｏ−（又はｐ−，ｍ−）ヒドロキシスチレン、ｏ−（又はｐ−，ｍ−）ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【０１７７】
（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【０１７８】
（３）アミノスルホニル基を有するモノマー、例えばｍ−（又はｐ−）アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−（又はｐ−）アミノスルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等。
【０１７９】
（４）スルホンアミド基を有するモノマー、例えばＮ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド等。
【０１８０】
（５）アクリルアミド又はメタクリルアミド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ニトロフェニル）アクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
【０１８１】
（６）弗化アルキル基を含有するモノマー、例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。
【０１８２】
（７）ビニルエーテル類、例えば、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。
【０１８３】
（８）ビニルエステル類、例えばビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。
【０１８４】
（９）スチレン類、例えばスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【０１８５】
（１０）ビニルケトン類、例えばメチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。
【０１８６】
（１１）オレフィン類、例えばエチレン、プロピレン、ｉ−ブチレン、ブタジエン、イソプレン等。
【０１８７】
（１２）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
【０１８８】
（１３）シアノ基を有するモノマー、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノエチルアクリレート、ｏ−（又はｍ−，ｐ−）シアノスチレン等。
【０１８９】
（１４）アミノ基を有するモノマー、例えばＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ｉ−プロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。
【０１９０】
更に、これらのモノマーと共重合し得る他のモノマーを共重合してもよい。
また、上記ビニル系共重合体の分子内に存在するカルボキシル基に、分子内に（メタ）アクリロイル基とエポキシ基を有する化合物を付加反応させることによって得られる二重結合含有ビニル系共重合体も、高分子結合材として好ましい。分子内に二重結合とエポキシ基を共に含有する化合物としては、具体的にはグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、特開平１１−２７１９６９号に記載のあるエポキシ基含有二重化合物等が挙げられる。
【０１９１】
これらの共重合体は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された質量平均分子量が、１〜２０万であるものが好ましいが、この範囲に限定されるものではない。
【０１９２】
上記高分子結合材には、必要に応じてポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等、他の任意の高分子結合材が、上記の各ビニル系共重合体と併用されてもよい。
【０１９３】
光重合性感光層を塗布する組成物中における上記高分子結合材の含有量は、１０〜９０質量％の範囲が好ましく、１５〜７０質量％の範囲が更に好ましく、２０〜６０質量％の範囲で使用することが感度の面から特に好ましい。
【０１９４】
更に、アクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合体は、該高分子結合材において、５０〜１００質量％であることが好ましく、８０〜１００質量％であることがより好ましい。
【０１９５】
本発明に係る高分子結合材に含まれる重合体の酸価については、１０〜１５０の範囲で使用するのが好ましく、３０〜１２０の範囲がより好ましく、５０〜９０の範囲で使用することが、感光層全体の極性のバランスをとる観点から特に好ましく、これにより感光層塗布液での顔料の凝集を防ぐことなどができる。
【０１９６】
以下に、本発明において感光性組成物に添加することのできる各種添加剤、感光性平版印刷版としての支持体、保護層、感光性組成物の支持体への塗布、感光性平版印刷版の画像記録法等について順次説明する。
【０１９７】
（各種添加剤）
本発明において感光性組成物を含有する光重合性感光層には、上記した成分の他に、感光性平版印刷版の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性二重二重結合単量体の不要な重合を阻止するために、重合防止剤を添加することが望ましい。適当な重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート等が挙げられる。
【０１９８】
重合防止剤の添加量は、上記組成物の全固形分の質量に対して、約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加したり、塗布後の乾燥の過程で感光性層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％が好ましい。
【０１９９】
また、着色剤も使用することができ、着色剤としては、市販のものを含め従来公知のものが好適に使用できる。例えば、改訂新版「顔料便覧」，日本顔料技術協会編（誠文堂新光社）、カラーインデックス便覧等に述べられているものが挙げられる。
【０２００】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的には、無機顔料（二酸化チタン、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウム、酸化鉄、ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのクロム酸塩等）及び有機顔料（アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等）が挙げられる。
【０２０１】
これらの中でも、使用する露光レーザーに対応した分光増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場合、使用するレーザー波長での積分球を用いた顔料の反射吸収が０．０５以下であることが好ましい。又、顔料の添加量としては、上記組成物の固形分に対し０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．２〜５質量％である。
【０２０２】
露光光源として、アルゴンレーザー（４８８ｎｍ）又はＳＨＧ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）を使用する場合には、上記の感光波長領域での顔料吸収及び現像後の可視画性の観点から、紫色顔料、青色顔料を用いるのが好ましい。このようなものとしては、例えばコバルトブルー、セルリアンブルー、アルカリブルーレーキ、フォナトーンブルー６Ｇ、ビクトリアブルーレーキ、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブルーフアーストスカイブルー、インダンスレンブルー、インジコ、ジオキサンバイオレット、イソビオランスロンバイオレット、インダンスロンブルー、インダンスロンＢＣ等を挙げることができる。これらの中で、より好ましくはフタロシアニンブルー、ジオキサンバイオレットである。
【０２０３】
また、上記組成物は、本発明の性能を損わない範囲で、界面活性剤を塗布性改良剤として含有することが出来る。その中でも好ましいのはフッ素系界面活性剤である。
【０２０４】
また、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は全固形分の１０％以下が好ましい。
【０２０５】
また、本発明に係る光重合性感光層の感光性組成物を調製する際に使用する溶剤としては、例えば、アルコール：多価アルコールの誘導体類では、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ヘキサノール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、又エーテル類：プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、又ケトン類、アルデヒド類：ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、又エステル類：乳酸エチル、乳酸ブチル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル等が好ましく挙げられる。
【０２０６】
（保護層：酸素遮断層）
本発明に係る光重合性感光層の上側には、保護層を設けることが好ましい。該保護層（酸素遮断層）は、後述の現像液（一般にはアルカリ水溶液）への溶解性が高いことが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンを挙げることができる。ポリビニルアルコールは酸素の透過を抑制する効果を有し、また、ポリビニルピロリドンは隣接する感光層との接着性を確保する効果を有する。
【０２０７】
上記２種のポリマーの他に、必要に応じ、ポリサッカライド、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド等の水溶性ポリマーを併用することもできる。
【０２０８】
本発明の感光性平版印刷版は、感光層と保護層間の剥離力が３５ｍＮ／ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは５０ｍＮ／ｍｍ以上、更に好ましくは７５ｍＮ／ｍｍ以上である。好ましい保護層の組成としては特願平８−１６１６４５号に記載されるものが挙げられる。
【０２０９】
本発明における剥離力は、保護層上に十分大きい粘着力を有する所定幅の粘着テープを貼り、それを感光性平版印刷版材料の平面に対して９０度の角度で保護層と共に剥離する時の力を測定することにより求めることができる。
【０２１０】
保護層には、更に必要に応じて界面活性剤、マット剤等を含有することができる。上記保護層組成物を適当な溶剤に溶解し感光層上に塗布・乾燥して保護層を形成する。塗布溶剤の主成分は水、あるいはメタノール、エタノール、ｉ−プロパノール等のアルコール類であることが特に好ましい。
【０２１１】
保護層の厚みは０．１〜５．０μｍが好ましく、特に好ましくは０．５〜３．０μｍである。
【０２１２】
（支持体）
本発明に係る支持体は、親水性表面を有する、例えばアルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属板、また、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルムに前述の金属薄膜をラミネート又は蒸着したもの等が使用でき、また、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を施したもの等が使用できるが、アルミニウム支持体が好ましく使用され、この場合、純アルミニウム又はアルミニウム合金であってもかまわない。
【０２１３】
支持体のアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。
【０２１４】
支持体は、粗面化（砂目立て処理）するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
【０２１５】
用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径０．２〜０．８ｍｍのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒径１０〜１００μｍの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径１０〜１００μｍの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。又、例えば、支持体表面に、粒径１０〜１００μｍの研磨剤粒子を、１００〜２００μｍの間隔で、２．５×１０^３〜１０×１０^３個／ｃｍ^２の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。
【０２１６】
上記の機械的粗面化法で粗面化した後、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、０．５〜５ｇ／ｍ^２が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【０２１７】
電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系又は硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭４８−２８１２３号公報、英国特許第８９６，５６３号公報、特開昭５３−６７５０７号公報に記載されている方法を用いることができる。この粗面化法は、一般には、１〜５０ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、１０〜３０ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、１０〜２００Ａ／ｄｍ^２の範囲を用いることが出来るが、５０〜１５０Ａ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、１００〜５０００ｃ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、１００〜２０００ｃ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、１０〜５０℃の範囲を用いることが出来るが、１５〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。
【０２１８】
電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、１〜５０ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、１０〜３０ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、１０〜２００Ａ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、２０〜１００Ａ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、１００〜５０００ｃ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、１００〜２０００ｃ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、１０〜５０℃の範囲を用いることができるが、１５〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は０．１〜５質量％が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。
【０２１９】
電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、１〜５０ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、２〜３０ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、１０〜２００Ａ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、５０〜１５０Ａ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、１００〜５０００ｃ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、１００〜２０００ｃ／ｄｍ^２、更には２００〜１０００ｃ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、１０〜５０℃の範囲を用いることができるが、１５〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は０．１〜５質量％が好ましい。
【０２２０】
上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、０．５〜５ｇ／ｍ^２が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【０２２１】
機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。
【０２２２】
粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことができる。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持体上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、硫酸及び／又は燐酸等を１０〜５０％の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度１〜１０Ａ／ｄｍ^２で電解する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第１，４１２，７６８号公報に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、同３，５１１，６６１号公報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、シュウ酸、マロン酸等を一種又は二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は、１〜５０ｍｇ／ｄｍ^２が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／ｄｍ^２である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液（燐酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロム（ＩＶ）：２０ｇを１Ｌの水に溶解して作製）に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。
【０２２３】
本発明においては、支持体が陽極酸化処理後に温度が２０℃以上５０℃以下の珪酸ナトリウム溶液で処理されていることが好ましい。該温度は、２０℃以上５０℃以下が好ましく、２０℃以上４５℃以下がより好ましい。２０℃未満では汚し回復が悪くなることがある。また、５０℃より高いと耐刷性が悪くなることがある。珪酸ナトリウムの濃度は特に規定はないが、０．０１％以上３５％以下が好ましく、０．１％以上５％以下がより好ましい。
【０２２４】
本発明においては、支持体が陽極酸化処理後に温度が２０℃以上７０℃以下のポリビニルホスホン酸溶液で処理されていることが好ましい。該温度は、２０℃以上７０℃以下が好ましく、３０℃以上６５℃以下がより好ましい。２０℃未満では汚し回復が悪くなることがある。また、７０℃より高いと耐刷性が悪くなるなることがある。ポリビニルホスホン酸溶液の濃度は特に規定はないが、０．０１％以上３５％以下が好ましく、０．１％以上５％以下がより好ましい。
【０２２５】
（塗布）
調製された感光性組成物（光重合性感光層塗布液）は、従来公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、感光性平版印刷版材料を作製することが出来る。塗布液の塗布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出しコータ法等を挙げることが出来る。
【０２２６】
感光層の乾燥温度は、低いと十分な耐刷性を得ることが出来ず、又高過ぎるとマランゴニーを生じてしまうばかりか、非画線部のカブリを生じてしまう。好ましい乾燥温度範囲としては、６０〜１６０℃の範囲が好ましく、より好ましくは８０〜１４０℃、特に好ましくは、９０〜１２０℃の範囲で乾燥することが好ましい。
【０２２７】
（画像記録方法）
本発明においては、平版印刷版に画像露光する光源としては、例えばレーザー、発光ダイオード、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等を挙げることができる。
【０２２８】
一括露光する場合には、光重合性感光層上に、所望の露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成したマスク材料を重ね合わせ、露光すればよい。
【０２２９】
発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ等の光源を、液晶、ＰＬＺＴ等の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像信号に応じたデジタル露光をすることが可能であり好ましい。この場合は、マスク材料を使用せず、直接書込みを行うことができる。
【０２３０】
レーザー露光の場合には、光をビーム状に絞り画像データに応じた走査露光が可能なので、マスク材料を使用せず、直接書込みを行うのに適している。又、レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形成が可能となる。
【０２３１】
レーザー光源としては、アルゴンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅガスレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体レーザー等を何れも好適に用いることが可能である。本発明では、可視域に発光波長を有するレーザー光源が好ましく用いられる。具体的には、５３２ｎｍ付近に発光する２倍高波長ＹＡＧレーザー、４８８ｎｍ付近に発光するＡｒイオンレーザーなどがある。又、本発明においては、ＩｎＧａＮ系やＺｎＳｅ系の材料を用い、３８０〜４３０ｎｍ域で連続発振可能な半導体レーザーも好ましく用いられる。
【０２３２】
レーザーの走査方法としては、円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査としレーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査では、ドラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側から照射し、光学系の一部又は全部を回転させることにより円周方向に主走査を行い、光学系の一部又は全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーとｆθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円筒内面走査の方が光学系の精度を高め易く、高密度記録には適している。
【０２３３】
（プレヒート）
本発明においては、平版印刷版に画像を露光した後、現像処理する前又は現像処理しながら感光性平版印刷版材料を加熱処理することが好ましい。この様に加熱処理することで、感光層と支持体の接着性が向上し、本発明に係る発明の効果を向上させることができる。
【０２３４】
本発明に係るプレヒートは、例えば、感光性平版印刷版材料を現像処理する自動現像装置において、現像処理時に搬走される感光性平版印刷版を現像前に所定の温度範囲に加熱するプレヒートローラによる加熱する方法を挙げることができる。例えば、プレヒートローラは、内部に加熱手段を有する少なくとも１つのローラを含む１対のローラからなり、加熱手段を有するローラとしては、熱伝導率の高い金属（例えば、アルミニウム、鉄等）からなる中空パイプの内部に発熱体としてニクロム線等を埋設し、該金属パイプの外側面をポリエチレン、ポリスチレン、テフロン（Ｒ）等のプラスチックシートで被覆したものを使用することができる。また、こうしたプレヒートローラの詳細については、特開昭６４−８０９６２号公報を参照することができる。
【０２３５】
本発明における当該プレヒートは、７０〜１８０℃で、３〜１２０秒程度行うことが好ましい。
【０２３６】
（現像液）
画像露光した感光層は露光部が硬化する。これをアルカリ現像液で現像処理することにより、未露光部が除去され画像形成が可能となる。この様な現像液としては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えばケイ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；第二燐酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；重炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；ホウ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム；水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム及び同リチウム等の無機アルカリ剤を使用するアルカリ現像液が挙げられる。
【０２３７】
また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノ−ｉ−プロピルアミン、ジ−ｉ−プロピルアミン、トリ−ｉ−プロピルアミン、ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ−ｉ−プロパノールアミン、ジ−ｉ−プロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いることができる。
【０２３８】
これらのアルカリ剤は、単独又は２種以上組合せて用いられる。また、該現像液には、必要に応じてアニオン性界面活性剤、両性活性剤やアルコール等の有機溶媒を加えることができる。
【０２３９】
本発明においては、現像液中に前記本発明に係る化合物Ａ、化合物Ｂまたは化合物Ｃを含有することが好ましい。
【０２４０】
（本発明に係る化合物Ａ）
本発明に係る化合物Ａは、分子中に飽和アルキル基を有する疎水基を有し、該飽和アルキル基の分子量が、疎水基全体の分子量の０〜２５％（すなわち、疎水基中の飽和アルキル部の比が０〜２５％）である非イオン性界面活性剤を指し、該疎水基全体の分子量の０〜５％であるものが好ましい。
【０２４１】
ここで、「飽和アルキル基の分子量が、疎水基全体の分子量の０〜２５％である」とは、分子中に飽和アルキル基を有する疎水基を、２以上有する場合には、その分子が有する全ての疎水基の元素について合計した分子量を分母として、また、その全ての疎水基が有する飽和アルキル基の元素についての分子量を分子（飽和アルキル部）として計算した結果を％表示したものである。この場合において、本発明においては、幾つかの疎水基を分子が有する場合に、各疎水基が平均して「飽和アルキル基の分子量が、疎水基全体の分子量の０〜２５％である」ことが好ましいが、各疎水基が平均して上記の範囲にないものも有用である。
【０２４２】
また、疎水基の元素についての合計した分子量は、ある程度の大きさを有することが好ましく、分子量が１２０以上２０００以下程度のものが好ましい。
【０２４３】
尚、ここで言う疎水基（疎水性基）とは、一般的に言われる様に、分子中の基（原子団）で水分子との間で結合をつくりにくいものを言い、この疎水性とは、疎水化度で規定することができる。ここで言う疎水化度とは、メタノールウエッタビリティで表される。メタノールウエッタビリティとは、メタノールに対する塗れ性を評価するものであり、この方法は以下に示される。内容量１０００ｍｌのメスシリンダーに入れた蒸留水５０ｍｌに測定対象の基からなる化合物（微粒子状）を０．２ｇ秤量し、蒸留水表面に乗せるようにそっと添加する。メタノールを先端が蒸留水中に浸漬されているビュレットからゆっくり撹拌しながら、全ての化合物微粒子が濡れて蒸留水／メタノール混合溶媒中に完全に没するまでゆっくり滴下する。この微粒子を完全に濡らすために必要なメタノールの量をａ（ｍｌ）とした場合に、下記式により疎水化度を算出する。
【０２４４】
疎水化度＝｛ａ／（ａ＋５０）｝×１００
本発明においては、疎水化度としては、２０〜９５％が好ましい。
【０２４５】
次に、本発明に係る化合物Ａの好ましい例を挙げるが、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【０２４６】
【化４０】

【０２４７】
本発明に係る化合物Ａは、現像液中に０．１〜１０質量％含有されることが好ましく、更に、０．５〜５．０質量％含有されることが好ましい。
【０２４８】
（本発明に係る化合物Ｃ）
本発明に係る化合物Ｃは、分子中に飽和アルキル基を有する疎水基を有し、該飽和アルキル基の分子量が、疎水基全体の分子量の０〜２５％であるポリオキシエチレン基を含有するアニオン性界面活性剤を指し、該疎水基全体の分子量の０以上５％以下であるものが好ましい。
【０２４９】
ここで、「飽和アルキル基の分子量が、疎水基全体の分子量の０〜２５％である」とは、上記化合物Ａにおいて述べたと同様であり、この場合において、本発明の化合物Ｃは、幾つかの疎水基を分子が有する場合に、各疎水基が平均して「飽和アルキル基の分子量が、疎水基全体の分子量の０〜２５％である」ことが好ましいが、各疎水基が平均して上記の範囲にないものも有用である。
【０２５０】
また、疎水基の元素についての合計した分子量は、ある程度の大きさを有することが好ましく、分子量が１２０以上２０００以下程度のものが好ましい。
【０２５１】
次に、本発明に係る化合物Ｃの好ましい例を挙げるが、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【０２５２】
【化４１】

【０２５３】
本発明に係る化合物Ｃは、現像液中に０．１〜１０質量％含有されることが好ましく、更に、０．５〜５．０質量％含有されることが好ましい。
【０２５４】
また、上記した化合物ＡおよびＣにおいて、疎水基の分子量が小さすぎると感光性平版印刷版の感光層の現像時での溶解能力が低下し、スラッジ、ヘドロの発生が抑制しにくくなり、一方、疎水基の分子量が大きすぎると、これら化合物の現像液への溶解性が悪くなり均一な現像液を作製・維持しにくくなることから、上記した範囲が好ましい。
【０２５５】
（本発明に係る化合物Ｂ）
本発明に係る化合物Ｂは下記一般式（Ｂ）で表される化合物であり、
一般式（Ｂ）
ＨＯ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ａ（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｂ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｃＨ
（式中ａ．ｂ．ｃは１〜１００００の整数を表す。）
化合物Ｂのポリオキシプロピレン部の分子量が５００〜８０００の範囲内、且つ総重量平均分子量中に含まれるエチレンオキシド部が１０〜９０質量％であることが好ましい。更には、化合物Ｂのポリオキシプロピレン部の分子量が１０００〜４０００であり且つ、エチレンオキシド部が総分子量の４０〜８０質量％で有ることがより好ましい。
【０２５６】
次に、本発明に係る化合物Ｂの好ましい例を挙げるが、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【０２５７】
【化４２】

【０２５８】
【実施例】
以下に、合成例、支持体作製例、感光性平版印刷版作製例を具体的に示すが、本発明の実施態様は、これらに限定されるものではない。なお、実施例における「部」は、特に断りない限り「質量部」を表す。
【０２５９】
実施例１
（バインダーの合成）
（アクリル系共重合体１の合成）
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタクリル酸３０部、メタクリル酸メチル５０部、メタクリル酸エチル２０部、イソプロピルアルコール５００部及びα，α′−アゾビスイソブチロニトリル３部を入れ、窒素気流中８０℃のオイルバスで６時間反応させた。その後、イソプロピルアルコールの沸点で１時間還流を行った後、トリエチルアンモニウムクロライド３部及びグリシジルメタクリレート２５部を加えて３時間反応させ、アクリル系共重合体１を得た。ＧＰＣを用いて測定した重量平均分子量は約３５，０００、ＤＳＣ（示差熱分析法）を用いて測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は約８５℃であった。
【０２６０】
《支持体の作製》
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、１分間の脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム板を、２５℃に保たれた１０％塩酸水溶液中に１分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、１５ｇ／Ｌの塩酸水溶液中で、２５℃、電流密度６０Ａ／ｄｍ^２の条件下に交流電流により６０秒間、電解粗面化を行った後、６０℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液中で１０秒間のデスマット処理を行った。デスマット処理を行った粗面化アルミニウム板を、１５％硫酸溶液中で、２５℃、電流密度１０Ａ／ｄｍ^２、電圧２５Ｖの条件下に１分間陽極酸化処理を行い、更に表１、表２に示す条件（処理液、処理濃度、処理温度、処理時間）で処理液として下記ポリビニルホスホン酸（ＰＶＰＡ）溶液（ＰＶＰＳ３０（ポリビニルホスホン酸３０％溶液）：Ｃｌａｒｉａｎｔ社製を表１、表２記載の濃度になるように水で希釈調整したもの）、あるいは珪酸ナトリウム溶液（メタ珪酸ナトリウム水溶液を表１、表２記載の濃度になるように水で調整したもの）を用いて処理を行って支持体１〜４０を作製した。
【０２６１】
この時、表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は０．９５μｍであった。
《感光性平版印刷版の作製》
上記支持体１〜４０上に、下記組成の光重合性感光層塗工液１を乾燥時１．５ｇ／ｍ^２になるようワイヤーバーで塗布し、９５℃で１．５分間乾燥し、光重合感光層塗布試料１〜４０を得た。
【０２６２】
（光重合性感光層塗工液１）

【０２６３】
【化４３】

【０２６４】
上記光重合感光層塗布試料１〜４０上に、下記組成の酸素遮断層塗工液１を乾燥時１．８ｇ／ｍ^２になるようにアプリケーターで塗布し、７５℃で１．５分間乾燥して、感光層上に酸素遮断層を有する感光性平版印刷版１０１〜１４０を作製した。
【０２６５】
（酸素遮断層塗工液１）
ポリビニルアルコール（ＧＬ−０５：日本合成化学社製） ８９部
水溶性ポリアミド（Ｐ−７０：東レ社製） １０部
界面活性剤（サーフィノール４６５：日信化学工業社製） ０．５部
水 ９００部
《感光性平版印刷版の評価》
上記のようにして得られた感光性平版印刷版について、以下の評価をした。
【０２６６】
（耐刷性）
１７５線の画像を適性露光量（画像部の膜減りが観察されず、かつ、１７５線・５０％の網点露光部が、作製した平版印刷版面上で５０％に再現できる露光量の２倍の光量）で５３２ｎｍレーザー搭載のＥＣＲＭ社製Ｔｉｇｅｒ Ｃａｔを用いて露光、現像して作製した平版印刷版を、印刷機（三菱重工業（株）製ＤＡＩＹＡ１Ｆ−１）で、コート紙、印刷インキ（東洋インク（株）製トーヨーキングハイエコーＭ紅）及び湿し水（東京インク（株）製Ｈ液ＳＧ−５１濃度１．５％）を用いて印刷を行い、１０００枚連続印刷後、クリーナーで版面をふき、ハイライト部の点細り、シャドウ部の絡みの発生する印刷枚数を耐刷力の指標とした。耐刷性１回は１０００枚連続印刷後クリーナーでふく作業を指す。多いほど好ましい。
【０２６７】
現像液組成（下記添加剤を含有する水溶液）
Ａケイ酸カリ ８．０質量％
表１、表２に示す界面活性剤 ３．０質量％
苛性カリ ｐＨ＝１２．３となる添加量
（汚し回復）
１０００枚連続印刷後クリーナーでふき、１５分後に印刷を再開し、非画線部の地汚れがなくなる枚数とした。枚数が少ないほど良好。
【０２６８】
（リニアリティ）
２４００ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）で１７５線の網点画像を０％〜１００％まで５％刻みでリニアリティ未補正で描画した。このとき、感度の２倍の光量で描画し８０％となるべき網点出力画像を５００倍の光学顕微鏡で撮影し、画像部の面積を算出してリニアリティとした。８０％に近いほどよい。
【０２６９】
結果を表１、表２に示す。
【０２７０】
【表１】

【０２７１】
ペレックスＮＢＬは、花王株式会社製のアニオン活性剤（ブチルナフタレンスルホン酸Ｎａ）であり「疎水基中の飽和アルキル部の比３０％」である。
【０２７２】
【表２】

【０２７３】
表１、表２から明らかなように、本発明の感光性平版印刷版及びその処理方法の場合（本発明の請求項１〜３、８の発明の構成）は、耐刷性と未露光部の汚し回復を高いレベルで両立し、また、レーザー露光時のリニアリティが改良されていることがわかる。
【０２７４】
実施例２
表３、表４記載の支持体を用い、光重合性感光層塗工液１を下記の光重合性感光層塗工液２に変えて実施例１と同様にして感光性平版印刷版２０１〜２３５を作製した。
【０２７５】
（光重合性感光層塗工液２）

《感光性平版印刷版の評価》
上記のようにして得られた感光性平版印刷版について、以下の評価をした。
【０２７６】
（耐刷性）
１７５線の画像を適性露光量（画像部の膜減りが観察されず、かつ、１７５線・５０％の網点露光部が、作製した平版印刷版面上で５０％に再現できる露光量の２倍の光量）で５３２ｎｍレーザー搭載のＥＣＲＭ社製Ｔｉｇｅｒ Ｃａｔを用いて露光、現像して作製した平版印刷版を、印刷機（三菱重工業（株）製ＤＡＩＹＡ１Ｆ−１）で、コート紙、印刷インキ（東洋インク（株）製トーヨーキングハイエコーＭ紅）及び湿し水（東京インク（株）製Ｈ液ＳＧ−５１濃度１．５％）を用いて印刷を行い、１０００枚連続印刷後、クリーナーで版面をふき、ハイライト部の点細り、シャドウ部の絡みの発生する印刷枚数を耐刷力の指標とした。耐刷性１回は１０００枚連続印刷後クリーナーでふく作業を指す。多いほど好ましい。
【０２７７】
現像液組成（下記添加剤を含有する水溶液）
Ａケイ酸カリ ８．０質量％
表３、表４に示す界面活性剤 ３．０質量％
苛性カリ ｐＨ＝１２．３となる添加量
（汚し回復）
１０００枚連続印刷後クリーナーでふき、１５分後に印刷を再開し、非画線部の地汚れがなくなる枚数とした。枚数が少ないほど良好。
【０２７８】
（リニアリティ）
２４００ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）で１７５線の網点画像を０％〜１００％まで５％刻みでリニアリティ未補正で描画した。このとき、感度の２倍の光量で描画し８０％となるべき網点出力画像を５００倍の光学顕微鏡で撮影し、画像部の面積を算出してリニアリティとした。８０％に近いほどよい。
【０２７９】
結果を表３、表４に示す。
【０２８０】
【表３】

【０２８１】
【表４】

【０２８２】
【化４４】

【０２８３】
表３、表４から明らかなように、本発明の感光性平版印刷版及びその処理方法の場合（本発明の請求項４〜６、８の発明の構成）は、耐刷性と未露光部の汚し回復を高いレベルで両立し、また、レーザー露光時のリニアリティが改良されていることがわかる。
【０２８４】
実施例３
表５記載の支持体を用い、かつ、光重合性感光層塗工液１の分光増感色素ｄ−４を表５記載のようにバイオレット色素Ｖ−１〜Ｖ−４に変更して、実施例１と同様にして感光性平版印刷版３０１〜３２０を作製した。
【０２８５】
《感光性平版印刷版の評価》
上記のようにして得られた感光性平版印刷版について、以下の評価をした。
【０２８６】
（耐刷性）
１７５線の画像を適性露光量（画像部の膜減りが観察されず、かつ、１７５線・５０％の網点露光部が、作製した平版印刷版面上で５０％に再現できる露光量の２倍の光量）で、３０ｍＷの４０５ｎｍのレーザーダイオードを搭載したＥＣＲＭ社製Ｂｌｕｅ ｄｏｌｐｈｉｎｅを用いて露光、現像して作製した平版印刷版を、印刷機（三菱重工業（株）製ＤＡＩＹＡ１Ｆ−１）で、コート紙、印刷インキ（東洋インク（株）製トーヨーキングハイエコーＭ紅）及び湿し水（東京インク（株）製Ｈ液ＳＧ−５１濃度１．５％）を用いて印刷を行い、１０００枚連続印刷後、クリーナーで版面をふき、ハイライト部の点細り、シャドウ部の絡みの発生する印刷枚数を耐刷力の指標とした。耐刷性１回は１０００枚連続印刷後クリーナーでふく作業を指す。多いほど好ましい。
【０２８７】
現像液組成（下記添加剤を含有する水溶液）
Ａケイ酸カリ ８．０質量％
表５に示す界面活性剤 ３．０質量％
苛性カリ ｐＨ＝１２．３となる添加量
（汚し回復）
１０００枚連続印刷後クリーナーでふき、１５分後に印刷を再開し、非画線部の地汚れがなくなる枚数とした。枚数が少ないほど良好。
【０２８８】
（リニアリティ）
２４００ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）で１７５線の網点画像を０％〜１００％まで５％刻みでリニアリティ未補正で描画した。このとき、感度の２倍の光量で描画し８０％となるべき網点出力画像を５００倍の光学顕微鏡で撮影し、画像部の面積を算出してリニアリティとした。８０％に近いほどよい。
【０２８９】
結果を表５に示す。
【０２９０】
【表５】

【０２９１】
【化４５】

【０２９２】
表５から明らかなように、本発明の感光性平版印刷版及びその処理方法の場合（本発明の請求項７、８の発明の構成）は、耐刷性と未露光部の汚し回復を高いレベルで両立し、また、レーザー露光時のリニアリティが改良されていることがわかる。
【０２９３】
実施例４
表６、表７記載の支持体を用い、光重合性感光層塗工液２の三級アミンモノマー、光重合開始剤、トリハロアセチル化合物（特に、トリハロアセチルアミド化合物）を表６、表７記載のように用い且つ分光増感色素ｄ−４を表６、表７記載のようにバイオレット色素Ｖ−１〜Ｖ−４に変更して実施例２と同様にして感光性平版印刷版４０１〜４４１を作製した。
【０２９４】
《感光性平版印刷版の評価》
上記のようにして得られた感光性平版印刷版について、以下の評価をした。
【０２９５】
（耐刷性）
１７５線の画像を適性露光量（画像部の膜減りが観察されず、かつ、１７５線・５０％の網点露光部が、作製した平版印刷版面上で５０％に再現できる露光量の２倍の光量）で３０ｍＷの４０５ｎｍのレーザーダイオードを搭載したＥＣＲＭ社製Ｂｌｕｅ ｄｏｌｐｈｉｎｅを用いて露光、現像して作製した平版印刷版を、印刷機（三菱重工業（株）製ＤＡＩＹＡ１Ｆ−１）で、コート紙、印刷インキ（東洋インク（株）製トーヨーキングハイエコーＭ紅）及び湿し水（東京インク（株）製Ｈ液ＳＧ−５１濃度１．５％）を用いて印刷を行い、１０００枚連続印刷後、クリーナーで版面をふき、ハイライト部の点細り、シャドウ部の絡みの発生する印刷枚数を耐刷力の指標とした。耐刷性１回は１０００枚連続印刷後クリーナーでふく作業を指す。多いほど好ましい。
【０２９６】
現像液組成（下記添加剤を含有する水溶液）
Ａケイ酸カリ ８．０質量％
表６、表７に示す界面活性剤 ３．０質量％
苛性カリ ｐＨ＝１２．３となる添加量
（汚し回復）
１０００枚連続印刷後クリーナーでふき、１５分後に印刷を再開し、非画線部の地汚れがなくなる枚数とした。枚数が少ないほど良好。
【０２９７】
（リニアリティ）
２４００ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）で１７５線の網点画像を０％〜１００％まで５％刻みでリニアリティ未補正で描画した。このとき、感度の２倍の光量で描画し８０％となるべき網点出力画像を５００倍の光学顕微鏡で撮影し、画像部の面積を算出してリニアリティとした。８０％に近いほどよい。
【０２９８】
結果を表６、表７に示す。
【０２９９】
【表６】

【０３００】
【表７】

【０３０１】
表６、表７から明らかなように、本発明の感光性平版印刷版及びその処理方法の場合（本発明の請求項７、８の発明の構成）は、耐刷性と未露光部の汚し回復を高いレベルで両立し、また、レーザー露光時のリニアリティが改良されていることがわかる。
【０３０２】
【発明の効果】
本発明により、耐刷性と未露光部の汚し回復を高いレベルで両立し、また、レーザー露光時のリニアリティが改良された感光性平版印刷版及びその処理方法を提供できた。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate and a processing method therefor, and more specifically, a photosensitive lithographic printing plate which achieves both high printing durability and recovery of unexposed portions from contamination, and has improved linearity upon laser exposure. The present invention relates to a lithographic printing plate and a processing method thereof.
[0002]
[Prior art]
In general, in a lithographic printing plate, after exposing an image, the exposed portion is cured, and the unexposed portion is dissolved and removed, followed by washing with water and finisher gum to obtain a lithographic printing plate. In recent years, in order to obtain high resolution and sharpness, a method of producing a lithographic printing plate by performing digital exposure with laser light based on image information and then performing development processing has been studied. For example, a system that modulates an exposure light source with an image signal transmitted by a communication line or an output signal from an electronic plate making system, an image processing system, etc., and directly scans and exposes a photosensitive material to produce a lithographic printing plate. It is.
[0003]
However, the conventional lithographic printing plate material using a diazo resin has a problem that it is difficult to increase the sensitivity and the spectral sensitization method in accordance with the oscillation wavelength of laser light by digital exposure.
[0004]
In recent years, lithographic printing plate materials having a photopolymerizable photosensitive layer containing a photopolymerization initiator have attracted attention for digital exposure with laser light because of its ability to achieve high sensitivity suitable for laser light. A CTP (Computer To Plate) plate material for recording digital data with the laser light source is required to have high sensitivity in order to shorten the recording time. In many printing fields, such as newspaper printing and commercial printing such as advertisements, plate materials having printing durability are required.
[0005]
Means utilizing photoradical polymerization have been studied for a long time to achieve high sensitivity, and use of an s-triazine compound having a trichloromethyl group as a photopolymerization initiator (for example, Patent Document 1, Patent Literature 2, Patent Literature 3), using an iron arene complex compound and a peroxide as a photopolymerization initiator (for example, see Patent Literature 4), and using a monoalkyltriaryl borate compound as a photopolymerization initiator. (For example, see Patent Documents 5, 6, and 7), and use of a titanocene compound as a photopolymerization initiator (for example, see Patent Documents 8 and 9). However, these techniques have insufficient sensitivity.
[0006]
On the other hand, for the purpose of improving sensitivity, a technique in which a tertiary amino group is introduced into a monomer (addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer) structure and a trihalogenated methyl-s-triazine compound is used in combination ( For example, refer to Patent Literature 10), a tertiary amino group is introduced into a monomer (addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer) structure, and in addition to a trihalogenated methyl-s-triazine compound, titanocene or the like is added. Techniques using a metallocene compound in combination (for example, see Patent Literature 11) have been proposed, but with these techniques, although the sensitivity was improved, the printing durability was insufficient.
[0007]
Also, use of a compound having a low fog and having a certain kind of tribromomethylsulfonyl group for the purpose of improving the raw preservability of the light-sensitive material (for example, see Patent Document 12). It has been proposed to use another type of compound having a tribromomethylsulfonyl group in order to obtain an image with little increase in sensitivity and small fluctuation in sensitivity (for example, see Patent Document 13). However, these all relate to photothermographic materials.
[0008]
In order to improve the printing durability, it is necessary to improve the adhesion between the photosensitive layer and the support. To improve the adhesion, it is preferable to apply the photosensitive layer after anodic oxidation. In the process, the photosensitive layer cannot be completely removed or dissolved, resulting in ink stains. As a countermeasure for this, generally, a treatment with a silicate or polyvinylphosphonic acid (PVPA) can be given as a hydrophilization treatment, but under the conventional treatment conditions (for example, see Patent Documents 14, 15, 16) Had the problem of becoming too bad, and there was a demand for the immediate development of a solution.
[0009]
[Patent Document 1]
JP-A-48-36281
[0010]
[Patent Document 2]
JP-A-54-74887
[0011]
[Patent Document 3]
JP-A-64-35548
[0012]
[Patent Document 4]
JP-A-59-219307
[0013]
[Patent Document 5]
JP-A-62-150242
[0014]
[Patent Document 6]
JP-A-62-143044
[0015]
[Patent Document 7]
JP-A-64-35548
[0016]
[Patent Document 8]
JP-A-63-41483
[0017]
[Patent Document 9]
JP-A-2-291
[0018]
[Patent Document 10]
JP-A-1-105238
[0019]
[Patent Document 11]
JP-A-2-127404
[0020]
[Patent Document 12]
JP 2000-284408 A
[0021]
[Patent Document 13]
JP 2000-305213 A
[0022]
[Patent Document 14]
JP-A-8-132751
[0023]
[Patent Document 15]
JP-A-5-278361
[0024]
[Patent Document 16]
JP-A-58-16893
[0025]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to achieve a high level of both printing durability and the recovery of unexposed areas from contamination, and to improve the photosensitivity with improved linearity during laser exposure. A lithographic printing plate and a processing method thereof are provided.
[0026]
[Means for Solving the Problems]
The above object of the present invention has been achieved by the following constitutions.
[0027]
1. A photosensitive lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer, wherein the contact angle of water on the surface of the support before coating the photopolymerizable photosensitive layer is 30 degrees or more and 70 degrees or less. Lithographic printing plate.
[0028]
2. 2. The photosensitive lithographic printing plate as described in 1 above, wherein the support is treated with a polyvinylphosphonic acid solution having a temperature of 20 ° C or more and 70 ° C or less after anodizing treatment.
[0029]
3. 2. The photosensitive lithographic printing plate as described in 1 above, wherein the support is treated with a sodium silicate solution having a temperature of 20 ° C or more and 50 ° C or less after anodizing treatment.
[0030]
4. 4. The photosensitive lithographic printing plate according to any one of 1 to 3, wherein the photopolymerizable photosensitive layer contains a tertiary amine monomer.
[0031]
5. 5. The photosensitive lithographic printing plate as described in 4 above, wherein the photopolymerizable photosensitive layer contains at least one selected from a titanocene compound, an iron compound and a boron compound.
[0032]
6. 6. The photosensitive lithographic printing plate as described in 5 above, wherein the photopolymerizable photosensitive layer contains a polyhaloacetylamide compound.
[0033]
7. The photosensitive lithographic printing plate as described in any one of 1 to 6 above, further comprising at least one sensitizing dye having an absorption maximum at 350 nm or more and 450 nm or less.
[0034]
8. 8. A method for processing a photosensitive lithographic printing plate, comprising: treating the photosensitive lithographic printing plate according to any one of 1 to 7 with a developer containing the compound A, the compound B, or the compound C.
[0035]
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention is a photosensitive lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer, wherein the contact angle of water on the surface of the support before coating the photopolymerizable photosensitive layer is 30 degrees or more and 70 degrees. It is characterized by the following. The contact angle is 30 degrees or more and 70 degrees or less, and more preferably 35 degrees or more and 65 degrees or less. If it is less than 30 degrees, the printing durability may deteriorate. On the other hand, if it exceeds 70 degrees, the recovery may be poor.
[0036]
In the present invention, the contact angle refers to the angle between the liquid surface and the solid surface at the place where the free surface of the stationary liquid contacts the solid wall, and refers to the angle inside the liquid. An acute angle is used when the liquid wets the solid, and an obtuse angle is used when the liquid is not wetted (see Dictionary of Physical and Chemical Sciences).
[0037]
The measurement can be performed using, for example, Contact-Angle Meter CA-D of Kyowa Kagaku Co., Ltd. The measurement was also performed for the examples using this apparatus.
[0038]
At room temperature of 25 ° C., pure was dropped on the surface of the support with a dropper and measured.
Under a condition of 25 ° C. and a relative humidity of 50%, pure water was dropped on the surface of the support, and a tangent was drawn on the water drop to determine a contact angle.
[0039]
(Ethylene double bond-containing monomer capable of addition polymerization)
An ethylenic double bond-containing monomer capable of addition polymerization is preferably used in the photosensitive composition of the photopolymerizable photosensitive layer (hereinafter, also simply referred to as a photosensitive layer) of the present invention.
[0040]
The addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer is a general radically polymerizable monomer or a monomer having a plurality of addition-polymerizable ethylenic double bonds in a molecule generally used for an ultraviolet curable resin. Functional monomers and polyfunctional oligomers can be used. The compound is not limited, but preferred examples thereof include, for example, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, glycerol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenoxyethyl acrylate, nonylphenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryloxyethyl acrylate, and tetrahydrofuran. Monofunctional acrylates such as furfuryloxyhexanolide acrylate, ε-caprolactone adduct of 1,3-dioxane alcohol, and 1,3-dioxolane acrylate, or acrylates of these methacrylates, itaconates, crotonates, and maleates Methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester such as ethylene glycol diacrylic acid , Diethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, hydroquinone diacrylate, resorcinol diacrylate, hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate diacrylate, Diacrylate of neopentyl glycol adipate, diacrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate, 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5-hydroxymethyl-5-ethyl-1, 3-dioxane diacrylate, tricyclodecane dimethylol acrylate, ε-caprolactone adduct of tricyclodecane dimethylol acrylate Bifunctional acrylates such as diacrylate of diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, or methacrylate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester obtained by replacing these acrylates with methacrylate, itaconate, crotonate, and maleate; For example, trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol Ε-caprolactone adduct of hexaacrylate, pyrogallol triacryle Polyfunctional acrylate acid such as propionic acid / dipentaerythritol triacrylate, propionic acid / dipentaerythritol tetraacrylate, hydroxypivalylaldehyde-modified dimethylolpropane triacrylate, or methacrylate, itaconate, crotonate, or these acrylates. Methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester and the like in place of maleate can be given.
[0041]
Further, a prepolymer can be used in the same manner as described above. Examples of the prepolymer include the compounds described below, and a prepolymer obtained by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight and imparting photopolymerizability can also be suitably used. One or more of these prepolymers may be used in combination, or may be used as a mixture with the above-mentioned monomer and / or oligomer.
[0042]
As the prepolymer, for example, adipic acid, trimellitic acid, maleic acid, phthalic acid, terephthalic acid, hymic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, itaconic acid, pyromellitic acid, fumaric acid, glutaric acid, pimelic acid, Polybasic acids such as sebacic acid, dodecanoic acid and tetrahydrophthalic acid, and ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, propylene oxide, 1,4-butanediol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin and trimethylol Polyester obtained by introducing (meth) acrylic acid into a polyester obtained by bonding a polyhydric alcohol such as propane, pentaerythritol, sorbitol, 1,6-hexanediol, and 1,2,6-hexanetriol. Acrylates, for example, epoxy acrylates obtained by introducing (meth) acrylic acid into an epoxy resin such as bisphenol A / epichlorohydrin / (meth) acrylic acid and phenol novolak / epichlorohydrin / (meth) acrylic acid; for example, ethylene glycol / adipin Acid ・ tolylene diisocyanate ・ 2-hydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol ・ tolylene diisocyanate ・ 2-hydroxyethyl acrylate, hydroxyethylphthalyl methacrylate ・ xylene diisocyanate, 1,2-polybutadiene glycol ・ tolylene diisocyanate ・ 2-hydroxyethyl acrylate Of trimethylolpropane / propylene glycol / tolylene diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate As described above, urethane acrylate in which (meth) acrylic acid is introduced into urethane resin, for example, polysiloxane acrylate, silicone resin acrylates such as polysiloxane / diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate, and (meth) acryloyl in oil-modified alkyd resin Examples include prepolymers such as alkyd-modified acrylates having introduced groups and spirane resin acrylates.
[0043]
The photosensitive composition of the photopolymerizable photosensitive layer of the present invention includes a phosphazene monomer, triethylene glycol, isocyanuric acid EO (ethylene oxide) -modified diacrylate, isocyanuric acid EO-modified triacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, It may contain a monomer such as trimethylolpropane acrylate benzoate, alkylene glycol-type acrylic acid-modified, urethane-modified acrylate, etc. and an addition-polymerizable oligomer or prepolymer having a structural unit formed from the monomer. it can.
[0044]
Further, examples of the ethylenic monomer that can be used in combination in the present invention include a phosphate compound containing at least one (meth) acryloyl group. The compound is a compound in which at least a part of the hydroxyl group of phosphoric acid is esterified, and is not particularly limited as long as it has a (meth) acryloyl group.
[0045]
In addition, JP-A-58-212994, JP-A-61-6649, JP-A-62-46688, JP-A-62-48589, JP-A-62-173295, JP-A-62-187092, and 63- Compounds described in JP-A-67189, JP-A-1-244891 and the like can be mentioned, and furthermore, "11290 Chemical Products", Chemical Daily, p. 286-p. 294, “UV / EB curing handbook (raw material edition)”, Polymer Publishing Association, p. The compounds described in 11 to 65 and the like can also be suitably used in the present invention. Of these, compounds having two or more acrylic or methacrylic groups in the molecule are preferred in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are preferred.
[0046]
Further, the photosensitive composition of the photopolymerizable photosensitive layer of the present invention includes a tertiary amine monomer according to the present invention, an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing unit containing a tertiary amino group in the molecule. It is preferred to use a dimer. Although there is no particular limitation on the structure, a compound obtained by modifying a tertiary amine compound having a hydroxyl group with glycidyl methacrylate, methacrylic chloride, acrylic acid chloride or the like is preferably used. Specifically, the polymerizable compounds described in JP-A-1-165613, JP-A-1-203413, and JP-A-1-197213 are preferably used.
[0047]
Furthermore, in the present invention, a tertiary amine monomer according to the present invention, a polyhydric alcohol containing a tertiary amino group in the molecule, a diisocyanate compound, and an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule. It is preferable to use the reaction product of the compound contained.
[0048]
As the polyhydric alcohol having a tertiary amino group in the molecule, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, N-tert. -Butyldiethanolamine, N, N-di (hydroxyethyl) aniline, N, N, N ', N'-tetra-2-hydroxypropylethylenediamine, p-tolyldiethanolamine, N, N, N', N'-tetra- 2-hydroxyethylethylenediamine, N, N-bis (2-hydroxypropyl) aniline, allyldiethanolamine, 3- (dimethylamino) -1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, N, N -Di (n-propyl) amino-2,3-propanediol, N, N-di (iso-propyl) amino-2,3-propanediol, 3- (N-methyl-N-benzylamino) -1, Examples include, but are not limited to, 2-propanediol.
[0049]
Examples of the diisocyanate compound include butane-1,4-diisocyanate, hexane-1,6-diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, octane-1,8-diisocyanate, and 1,3-diisocyanatomethyl-cyclohexanone. 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,2-phenylene diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, tolylene-2,4-diisocyanate, tolylene Examples thereof include 2,5-diisocyanate, tolylene-2,6-diisocyanate, 1,3-di (isocyanatomethyl) benzene, and 1,3-bis (1-isocyanato-1-methylethyl) benzene. Limited to Not.
[0050]
Examples of the compound containing an ethylenic double bond capable of undergoing addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule include, but are not limited to, compounds MH-1 to MH-13.
[0051]
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[0052]
Preferably, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxypropylene-1,3-dimethacrylate, 2-hydroxypropylene-1-methacrylate-3-acrylate and the like are exemplified.
[0053]
These reactions can be carried out in the same manner as in the method of synthesizing urethane acrylate by the reaction of ordinary diol compounds, diisocyanate compounds, and hydroxyl group-containing acrylate compounds.
[0054]
Specific examples of the reaction products of a polyhydric alcohol containing a tertiary amino group in the molecule, a diisocyanate compound, and a compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule are described below. Shown in
[0055]
M-1: Reaction product of triethanolamine (1 mol), hexane-1,6-diisocyanate (3 mol), 2-hydroxyethyl methacrylate (3 mol)
M-2: Reaction product of triethanolamine (1 mol), isophorone diisocyanate (3 mol), 2-hydroxyethyl acrylate (3 mol)
M-3: Nn-butyldiethanolamine (1 mol), 1,3-bis (1-isocyanato-1-methylethyl) benzene (2 mol), 2-hydroxypropylene-1-methacrylate-3-acrylate ( 2 mol) reaction product
M-4: Reaction formation of Nn-butyldiethanolamine (1 mol), 1,3-di (isocyanatomethyl) benzene (2 mol), 2-hydroxypropylene-1-methacrylate-3-acrylate (2 mol) object
M-5: Reaction product of N-methyldiethanolamine (1 mol), tolylene-2,4-diisocyanate (2 mol), 2-hydroxypropylene-1,3-dimethacrylate (2 mol)
In addition, acrylates or alkyl acrylates described in JP-A-1-105238 and JP-A-2-127404 can be used.
[0056]
In the present invention, the addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer is a compound represented by the following general formula (4) or (5) (tertiary amine monomer according to the present invention). Is particularly preferred.
[0057]
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[0058]
[Where Q¹Is
[0059]
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[0060]
Or -S-, R⁴Represents an alkyl group, a hydroxyalkyl group or an aryl group;¹And R²Each represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxyalkyl group;³Represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group;¹Represents a divalent group having 2 to 12 carbon atoms, and X²Is a divalent group to a tetravalent group, or
[0061]
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[0062]
And Z represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxyl group, or a heterocyclic group, p represents an integer of 1 to 4, and q represents an integer of 1 to 3. D¹And D²Represents a divalent group each having 1 to 5 carbon atoms, E is a divalent group having 2 to 12 carbon atoms, a 5-membered ring to a 7-membered ring, and a nitrogen atom An aliphatic group having a heterocyclic ring containing one or two types of atoms selected from the group consisting of an oxygen atom and a sulfur atom, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, or a 5- or 6-membered ring A represents 0 or an integer of 1 to 4, b represents 0 or 1, c represents an integer of 1 to 3, and m represents Q¹Represents an integer of 2 to 4, n represents an integer of 1 to m, and all groups having the same definition can be mutually the same or different. ]
[0063]
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[0064]
[Where Q²Is
[0065]
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[0066]
And R⁸Represents an alkyl group, a hydroxyalkyl group or an aryl group;⁵And R⁶Each represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxyalkyl group;⁷Represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group;³And D⁴Represents a saturated hydrocarbon group each having 1 to 5 carbon atoms, F represents a saturated hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms, 5 to 7 ring members and up to 2 N Represents a cycloaliphatic group containing an O, S or S atom as a ring member, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, or a heterocyclic aromatic group having 5 to 6 ring members, and d and e are Represents an integer of 1 to 4, and g represents Q²Represents an integer of 2 to 4, f represents an integer of 1 to g, and all groups having the same definition can be mutually the same or different. ]
Hereinafter, the compound represented by Formula (4) will be described.
[0067]
In the general formula (4), R⁴As the alkyl group represented by, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, iso-pentyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl Groups, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-docosadecyl group and the like. R⁴Examples of the hydroxyalkyl group represented by include a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, and a hydroxypentyl group. R⁴Examples of the aryl group represented by include a phenyl group and a naphthyl group.
[0068]
In the general formula (4), R¹And R²Is an alkyl group represented by R⁴Has the same meaning as the alkyl group represented by R¹And R²Examples of the alkoxyalkyl group represented by include a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxymethyl group, and a propoxyethyl group.
[0069]
In the general formula (4), X¹Examples of the divalent group having 2 to 12 carbon atoms represented by are a saturated hydrocarbon group, an arylene group, and the like. X¹As a saturated hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms represented by, for example, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, propylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, heptamethylene group Octamethylene group, nonamethylene group, decamethylene group, undecamethylene group, dodecamethylene group, cyclohexylene group (eg, 1,6-cyclohexanediyl group), cyclopentylene group (eg, 1,5-cyclopentanediyl) And the like). X¹Examples of the arylene group represented by include a phenylene group and a naphthylene group.
[0070]
In the general formula (4), X²The divalent group represented by¹As a divalent group having 2 to 12 carbon atoms represented by the following, a saturated hydrocarbon group, an arylene group, or the like can be used. Those in which a methylene group is substituted by an oxygen atom can be used.
[0071]
In the general formula (4), X²Is a trivalent group represented by X²Is a divalent group (saturated hydrocarbon group, arylene group, or the like) represented by the formula (1) further having one binding group, for example, ethanetriyl group, propanetriyl group, butanetriyl group, pentanetriyl group, hexanetriyl group. Yl group, heptanetriyl group, octanetriyl group, nonantriyl group, decanetriyl group, undecanetriyl group, dodecanetriyl group, cyclohexanetriyl group, cyclopentanetriyl group, benzenetriyl group, naphthalenetriyl group, etc. No.
[0072]
In the general formula (4), X²The tetravalent group represented by²Is a trivalent group represented by the general formula (1), further having one bonding group, for example, a propanediylidene group, a 1,3-propanediyl-2-ylidene group, a butanediylidene group, a pentanedylidene group, a hexanediylidene group. Group, heptanediylidene group, octanediylidene group, nonanediylidene group, decanediylidene group, undecanediylidene group, dodecanediylidene group, cyclohexanediylidene group, cyclopentanediylidene group, benzenetetrayl group, naphthalenetetrayl group, etc. No.
[0073]
X in general formula (4)²In the above, Z represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxyl group, or a heterocyclic group. Examples of the alkyl group represented by Z include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an iso-pentyl group, a 2-ethylhexyl group, an octyl group, and a decyl group. Examples of the alkenyl group represented by Z include a 2-propenyl group, a 3-butenyl group, a 1-methyl-3-propenyl group, a 3-pentenyl group, a 1-methyl-3-butenyl group, a 4-hexenyl group, and the like. Is mentioned. Examples of the aryl group represented by Z include a phenyl group, an m-chlorophenyl group, a p-tolyl group, and a naphthyl group. Examples of the halogen atom represented by Z include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkoxyl group represented by Z include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group and the like. Examples of the heterocyclic group represented by Z include a pyridyl group, a pyrrolyl group, a 2-methylpyrrolyl group, an indolyl group, an imidazolyl group, a furyl group, a thiazolyl group, and a pyrimidinyl group.
[0074]
In the general formula (4), D¹And D²Examples of the divalent group having 1 to 5 carbon atoms represented by include a methylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a propylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, and a cyclopentylene group. .
[0075]
In the general formula (4), the divalent group having 2 to 12 carbon atoms represented by E is represented by X¹Has the same meaning as a divalent group having 2 to 12 carbon atoms represented by
[0076]
In the general formula (4), a 5- to 7-membered ring represented by E and a heterocyclic ring containing up to two atoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are substituted. Examples of the heterocyclic ring constituting the aliphatic group having a group, for example, a pyridine ring, a furan ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, a pyran ring, a thiophene ring, Oxazole ring, pyrroline ring, imidazoline ring, imidazolidine ring, pyrazolidine ring, pyrazoline ring, piperidine ring, piperazine ring, morpholine ring, quinuclidine ring and the like.
[0077]
Examples of the aliphatic group include a divalent group having 2 to 12 carbon atoms having a heterocyclic ring as described above, and the divalent group is represented by X¹Has the same meaning as a divalent group having 2 to 12 carbon atoms represented by
[0078]
In the general formula (4), examples of the arylene group having 6 to 12 carbon atoms represented by E include a phenylene group and a naphthylene group.
[0079]
In the general formula (4), examples of the aromatic heterocyclic ring constituting the aromatic heterocyclic group having a 5- or 6-membered ring represented by E include a furan ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, and an oxazole ring. , Thiazole ring, 1,2,3-oxadiazole ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring , Pyrazine ring, s-triazine ring, benzofuran ring, indole ring, benzothiophene ring, benzimidazole ring, benzothiazole ring, purine ring, quinoline ring and isoquinoline ring.
[0080]
Here, each substituent represented by the above general formula (4) may further have a substituent.
[0081]
In the general formula (4), preferably Q¹Is> N-, X¹Has an aromatic ring, and more preferably X¹Has a structure such as 4-12 to 4-15 in the following specific examples of the compound derived from tolylene diisocyanate, and more preferably X¹Has a structure such as 4-16 to 4-20 derived from tetramethylxylene diisocyanate.
[0082]
The compound represented by the general formula (4) can be synthesized by referring to a method well known to those skilled in the art, for example, a method described in Japanese Patent No. 2509288.
[0083]
Hereinafter, specific examples of the compound represented by Formula (4) will be given, but the present invention is not limited thereto.
[0084]
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[0085]
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[0090]
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[0091]
Next, the compound represented by Formula (5) will be described.
In the general formula (5), R⁸May be different from each other when (g-f) is 2 or more. Compounds in which g and f have the same value are preferred. R⁸Is an alkyl group or a hydroxyalkyl group, the number of carbon atoms is preferably 2 to 8, more preferably 2 to 4. R⁸Is preferably an aryl or monocyclic ring, more preferably a monocyclic ring, and may be substituted with an alkyl group, alkoxyalkyl group or halogen atom having up to 5 carbon atoms. R⁵And R⁶Is an alkyl group or an alkoxyalkyl group, it preferably has 1 to 5 carbon atoms. R⁷Is preferably a methyl group.
[0092]
D³And D⁴May be the same or different and are preferably a 6-membered saturated heterocycle containing two nitrogen atoms.
[0093]
When F is a saturated hydrocarbon group, it preferably has 2 to 6 carbon atoms; when F is an arylene group, a phenylene group is preferable; when F is a cycloaliphatic group, a cyclohexylene group is preferable; In the case of a group, a 5- or 6-membered ring containing a nitrogen atom or a sulfur atom is preferable.
[0094]
To obtain the compound represented by the general formula (5), Q²Is> N- and n and m have the same value, glycidyl acrylate or alkyl acrylate is reacted with hydroxyalkylamine. Other compounds can be obtained in a similar manner.
[0095]
Specific examples of the compound represented by formula (5) of the present invention are shown below.
[0096]
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[0097]
The addition amount of the addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer according to the present invention is preferably 30 to 70% by mass, more preferably 40 to 60% by mass of the nonvolatile component of the photopolymerizable photosensitive layer.
[0098]
The photopolymerizable photosensitive layer of the present invention preferably contains a polyhaloacetyl compound as a photopolymerization initiator composition. Examples of the polyhaloacetyl compound include polyhaloacetyl compounds, particularly preferably trihaloacetylamide compounds. For example, the compound represented by the following general formula (1) (polyhaloacetyl compound) or more preferably the following general formula ( Compound (2) (trihaloacetylamide compound).
[0099]
General formula (1) R¹-CX₂-(C = O) -R²
In the formula, X represents a chlorine atom or a bromine atom. R¹Represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or a cyano group. R²Represents a monovalent substituent. Also, R¹And R²May combine to form a ring.
[0100]
General formula (2) CX₃-(C = O) -YR³
In the formula, X represents a chlorine atom or a bromine atom. R³Represents a monovalent substituent. Y is -O- or -NR⁴Represents-. R⁴Represents a hydrogen atom or an alkyl group. Also, R³And R⁴May combine to form a ring.
[0101]
Representative specific examples (BR1 to BR76) of the compound represented by the general formula (1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0102]
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[0103]
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[0104]
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[0105]
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[0106]
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[0108]
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[0110]
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[0111]
Further, as the polyhaloacetyl compound, a compound represented by the general formula (2) is preferably used. Preferred specific examples of the compound represented by the general formula (2) include the above-mentioned compounds BR2 to BR47 and BR67 to BR76.
[0112]
Among the compounds represented by the general formula (1) and the compounds represented by the general formula (2) (polychlorine compounds and polybromine compounds), polybromine compounds are more preferred.
[0113]
Next, the polyhaloacetyl compound and the trihaloacetylamide compound according to the present invention, preferably the compound represented by the general formula (1) or the compound represented by the general formula (2) (hereinafter, unless otherwise specified) Titanocene compounds that can obtain more favorable effects when used in combination with any of these (hereinafter, collectively referred to as a polyhalogen compound according to the present invention) will be described.
[0114]
Examples of the titanocene compound include compounds described in JP-A-63-41483 and JP-A-2-291. More preferred specific examples include bis (cyclopentadienyl) -Ti-di-chloride, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-phenyl, and bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3. , 4,5,6-pentafluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,4 , 6-trifluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,6-difluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,4-difluorophenyl, bis (methylcyclopenta Dienyl) -Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3,5 6-tetrafluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis-2,6-difluorophenyl (IRUGACURE727L: manufactured by Ciba Specialty Chemicals), bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6- Difluoro-3- (pyrid-1-yl) phenyl) titanium (IRUGACURE784: manufactured by Ciba Specialty Chemicals), bis (cyclopentadienyl) -bis (2,4,6-trifluoro-3- (pyri-1) -Yl) phenyl) titanium bis (cyclopentadienyl) -bis (2,4,6-trifluoro-3- (2-5-dimethylpyr-1-yl) phenyl) titanium and the like.
[0115]
The structure of a typical titanocene compound is shown below.
[0116]
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[0117]
The addition amount of the titanocene compound is preferably from 0.1 to 15% by mass, more preferably from 1 to 15% by mass, and still more preferably from 1.5 to 10% by mass, based on the nonvolatile components of the photopolymerizable photosensitive layer.
[0118]
Next, an iron arene complex compound that can achieve a more favorable effect when used in combination with any of the polyhalogen compounds according to the present invention will be described.
[0119]
Examples of the iron arene complex compound include a compound described in JP-A-59-219307, and a typical example thereof is a compound represented by the following general formula (6).
[0120]
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[0121]
Where R₁₁, R₁₂Are the same or different groups,₁~ C₁₂An alkyl group of C₂~ C₁₂Alkynyl group, C₁~ C₈Alkoxy, cyano, alkylthio, phenoxy, C₂~ C₆Monocarboxylic acid and ester groups of C₂~ C₅Selected from alkanoyl groups, ammonium salts, pyridinium groups, nitro groups, alkylsulfinyl groups, alkylsulfonyl groups, sulfamoyl groups and halogen atoms of R₁₂May form a condensed polycyclic compound with a benzene ring. X is BF₄, PF₆, AsF₆, SbF₆, FeCl₄, SnCl₆, SbCl₆, BiCl₆Represents m represents a positive integer of 1 to 4, and n represents a positive integer of 1 to 5.
[0122]
The iron arene complex compound represented by the general formula (6) is specifically (η6-benzene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-toluene) (η5-cyclopentane (Dienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-cumene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-benzene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexa Fluoroarsenate, (η6-benzene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) tetrafluoroporate, (η6-naphthalene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-anthracene ) (Η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-pyrene) (η5-cyclopenta (Enyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-benzene) (η5-cyanocyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-toluene) (η5-acetylcyclopentazinyl) iron (2) Hexafluorophosphate, (η6-cumene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) tetrafluoroborate, (η6-benzene) (η5-carboethoxycyclohexadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6- Benzene) (η5-1,3-dichlorocyclohexadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-cyanobenzene) (η5-cyclohexadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-acetophenone) ( η5-cyclohexadienyl) iron (2) hexafluorophosphe (Η6-methylbenzoate) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-benzenesulfonamide) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) tetrafluoroborate, (η6 -Benzamide) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-cyanobenzene) (η5-cyanocyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate (η6-chloronaphthalene) (η5- (Cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-anthracene) (η5-cyanocyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-chlorobenzene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-chlorobenzene) ( η5-cyclopentadienyl) iron (2) tetrafluoroborate and the like. These compounds are described in Dokl. Akd. Nauk SSSR 149 615 (1963).
[0123]
The addition amount of the iron arene complex compound is preferably from 0.1 to 15% by mass, more preferably from 1 to 15% by mass, and still more preferably from 1.5 to 10% by mass, based on the nonvolatile components of the photopolymerizable photosensitive layer.
[0124]
Next, an organic borate compound that can obtain more favorable effects when used in combination with any of the polyhalogen compounds according to the present invention will be described.
[0125]
Examples of the organic borate compounds include monoalkyltriaryl borate compounds described in JP-A-62-150242 and JP-A-62-143044. Specific examples include tetra-n-butylammonium n-butyl-trinaphthalen-1-yl-borate, tetra-n-butylammonium n-butyl-triphenyl-borate, and tetra-n-butylammonium n-butyl-tri- ( 4-tert-butylphenyl) -borate, tetra-n-butylammonium n-hexyloxytri- (3-chloro-4-methylphenyl) -borate, tetra-n-butylammonium n-hexyloxytri- (3-fluorophenyl)- Borate and the like.
[0126]
The organic borate compound can be typically represented by the following general formula (7).
[0127]
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[0128]
Where R₁, R₂, R₃And R₄Each independently represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a silyl group, a heterocyclic group or a halogen atom;⁺Represents an arbitrary cation.
[0129]
Specific examples of the organic borate compound represented by the general formula (7) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0130]
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[0131]
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[0132]
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[0133]
Other organic borate compounds represented by the general formula (7) include the compounds described in Japanese Patent Application No. 2002-185985.
[0134]
The addition amount of the organic borate compound is preferably from 0.1 to 15% by mass, more preferably from 1 to 15% by mass, and still more preferably from 1.5 to 10% by mass, based on the nonvolatile component of the photopolymerizable photosensitive layer.
[0135]
In addition, an arbitrary photopolymerization initiator can be used in combination. For example, J. Carbonyl compounds, organic sulfur compounds, persulfides, redox compounds, azo and diazo compounds, halogen compounds, photoreducible dyes as described in Chapter 5 of "Light Sensitive Systems" by J. Kosar. And the like. More specific compounds are disclosed in GB 1,459,563.
[0136]
That is, the following can be used as a photopolymerization initiator that can be used in combination. Benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin-i-propyl ether, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone; benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4′-bis (dimethyl Benzophenone derivatives such as amino) benzophenone; thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone and 2-i-propylthioxanthone; anthraquinone derivatives such as 2-chloroanthraquinone and 2-methylanthraquinone; N-methylacridone and N-butylacridone Α, α-diethoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone and uranyl compounds, as well as JP-B-59-1281, JP-B-61-9621, and JP-A-60-60104. Described triazine derivatives; organic peroxides described in JP-A-59-1504 and JP-A-61-243807; JP-B-43-23684, JP-A-44-6413, and JP-A-44-6413. Diazonium compounds described in JP-A-47-1604 and U.S. Pat. No. 3,567,453; U.S. Pat. Nos. 2,848,328, 2,852,379 and 2,940,853. Organic azide compounds described in JP-B-36-22062, JP-B-37-13109, JP-B-38-18015, and JP-B-45-9610; 39162, JP-A-59-14023, "Macromolecules", Vol. 10, p. 1307 (1977) Various onium compounds; azo compounds described in JP-A-59-142205; JP-A-1-54440, European Patents 109,851 and 126,712, "Journal of Imaging" Science (J. Imag. Sci.), Vol. 30, p. 174 (1986); (oxo) sulfonium described in Japanese Patent Application Nos. 4-56831 and 4-89535. Organic boron complexes; Transition metal complexes containing transition metals such as ruthenium described in "Coordination Chemistry Review", vol. 84, pp. 85-277 (1988), and JP-A-2-182701; 2,4,5-tri as described in JP-A-3-209777 Reel imidazole dimer; carbon tetrabromide, organic halogen compounds described in JP-A-59-107344, and the like.
[0137]
(Spectral sensitizing dye)
When laser light is used as the light source, a spectral sensitizing dye is preferably added to the photosensitive layer. It is preferable to use a dye having an absorption maximum wavelength near the wavelength of the light source.
[0138]
Compounds that sensitize wavelength from visible light to near infrared include, for example, cyanine, phthalocyanine, merocyanine, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, azo compound, diphenylmethane, triphenyl Keto alcohol borate complexes such as methane, polymethine acridine, coumarin, coumarin derivatives, ketocoumarin, quinacridone, indigo, styryl, pyrylium compounds, pyromethene compounds, pyrazolotriazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, thiobarbituric acid derivatives, etc. And further, European Patent 568,993, U.S. Pat. Nos. 4,508,811 and 5,227,227, JP-A-2001-1252. 5 discloses, compounds described in JP-A 11-271969 Patent Publication also used.
[0139]
Next, any of the polyhalogen compounds according to the present invention, or any of the polyhalogen compounds according to the present invention and the titanocene compound, iron arene complex compound, organic borate compound (hereinafter, unless otherwise specified, titanocene compounds, A dye having an absorption maximum at 350 nm or more and 600 nm or less, which can obtain a favorable effect when used in combination with any one of an iron arene complex compound and an organic borate compound (hereinafter, collectively referred to as an organic metal compound), will be described.
[0140]
Dyes having an absorption maximum at 350 nm or more and 600 nm or less, which can obtain a preferable effect when used in combination with any of the polyhalogen compounds according to the present invention and the titanocene compound, include xanthenes, acridines, and coumarins. And barbiturates, and more preferably a dye represented by the following general formula (8).
[0141]
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[0142]
In the general formula (8), A¹And A²Represents a carbon atom or a heteroatom, respectively. Q¹Is A¹, A²And a non-metallic atomic group required to form a heterocyclic ring together with carbon atoms adjacent thereto. R¹And R²Represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, respectively. R¹And R²And may combine with each other to form a ring. X¹And X²Each represents a cyano group or a substituted carbonyl group;¹And X²And may combine with each other to form a ring. n is 0, 1 or 2.
[0143]
Specific examples of the spectral sensitizing dye represented by the general formula (8) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following, Q¹Ring completed in (Q¹), X¹And X²May be represented by a combination of a carbon divalent group and n bonded to each other.¹= R²= H.
[0144]
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[0145]
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[0146]
Other dyes represented by the general formula (8) include the compounds described in JP-A-9-328505.
[0147]
A dye having an absorption maximum at 350 nm or more and 600 nm or less, which can obtain a preferable effect when further used in combination with any of the polyhalogen compounds according to the present invention and the iron arene complex compound, is represented by the following general formula (9) Or a dye that can be represented by the general formula (10).
[0148]
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[0149]
Where R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹, R¹², R^Thirteen, R¹⁴, R^FifteenIs hydrogen, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, a cyano group, a carboxyl group, an alkyloxycarbonyl group;¹Is an aryl group, a heterocyclic group, or -COR¹⁶(R¹⁶Represents an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group or a heterocyclic group. ).
[0150]
Specific examples of the spectral sensitizing dye represented by the general formula (9) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0151]
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[0152]
Where R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹, R²⁰, R²¹, R²², R²³, R²⁴, R²⁵Is hydrogen, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, a cyano group, a carboxyl group, an alkyloxycarbonyl group;²Is an aryl group, a heterocyclic group, or -COR²⁶(R²⁶Represents an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group or a heterocyclic group. ).
[0153]
Specific examples of the spectral sensitizing dye represented by the general formula (10) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0154]
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[0155]
Other dyes having an absorption maximum at 350 nm or more and 600 nm or less, which can obtain a preferable effect by further using any of the polyhalogen compounds according to the present invention and the iron arene complex compound in combination, include Rose Bengal, Xanthene dyes such as phloxine, erythrosine, eosin, and fluorescein, coumarin dyes, and anthracene dyes. Specific examples of the dye are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0156]
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[0157]
Dyes having an absorption maximum at 350 nm or more and 600 nm or less, which can obtain preferable effects when used in combination with any of the polyhalogen compounds according to the present invention and the organic borate compound, include cyanine dyes and carbocyanine dyes. , Hemicyanine dyes, rhodamine dyes and azamethine dyes. Specific examples of the dye are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0158]
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[0159]
Next, any one of the polyhalogen compounds according to the present invention, or any one of the polyhalogen compounds according to the present invention and any one of the titanocene compounds, iron arene complex compounds, and organic borate compounds (organometallic compounds) is further used. Examples of the dye having an absorption maximum at 350 nm or more and 450 nm or less, which can provide a preferable effect when used in combination, include JP-A-2000-98605, JP-A-2000-147763, JP-A-2000-206690, and JP-A-2000-206690. Dyes described in JP-A-258910, JP-A-2001-42524, JP-A-2001-100412 and the like are preferable. More preferably, a compound represented by the following general formula (11) is preferable.
[0160]
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[0161]
Where R¹⁴Is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent Represents a ring group. R^Fifteen, R¹⁶Represents a substituent which can be linked to form a ring. X¹¹, X¹²Are each independently -C (R¹⁷R¹⁸)-, -O-, -S-, -N (R¹⁹)-. R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹Each independently has a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent or a substituent. Represents an optionally substituted heterocyclic group.
[0162]
R¹⁴Examples of the alkyl group optionally having a substituent represented by, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, isopropyl group, isobutyl group, Examples include an isopentyl group, a tert-butyl group, a 2-ethylhexyl group, and the like.¹⁴Examples of the alkenyl group which may have a substituent represented by are, for example, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl -3-butenyl group, 4-hexenyl group and the like.¹⁴Examples of the aryl group which may have a substituent represented by are, for example, an aralkyl group such as a phenyl group and a naphthyl group, for example, a benzyl group and a phenethyl group.¹⁴As the heterocyclic group optionally having a substituent represented by, for example, a pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, oxazole ring, thiazole ring, oxadiazole ring, thiadiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring And a heterocyclic group derived from a 5- or 6-membered heterocyclic ring such as a furan ring, a thiophene ring, a chroman ring, a coumarin ring, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a morpholine ring, a sulfolane ring, a tetrahydrofuran ring, and a tetrahydropyran ring. be able to.
[0163]
Also, R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹An alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a hetero group which may have a substituent As the ring group, the above R¹⁴And the same groups as described in the above.
[0164]
Examples of the spectral sensitizing dye represented by the general formula (11) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0165]
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[0166]
The spectral sensitizing dye represented by the general formula (11) can be obtained by a person skilled in the art by synthesizing according to a conventionally known method.
[0167]
The absorption maximum of the spectral sensitizing dye is dissolved in acetonitrile and the visible light spectrum is measured at room temperature. The dye insoluble in acetonitrile may be measured by dissolving it in alcohols, 2-butanone, water or the like.
[0168]
In the present invention, as a method for adding the spectral sensitizing dye, an appropriate solvent such as water or an organic solvent can be selected and dissolved and added thereto, and examples of the organic solvent include methanol, ethanol, and propanol. , Butanol, etc .; ketones, such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone; aromatic hydrocarbons, such as benzene, toluene, xylene; glycols, such as ethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol; ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl Glycol ethers such as carbitol, butyl carbitol, diethyl cellosolve, and diethyl carbitol; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.
[0169]
In the present invention, the amount of the spectral sensitizing dye to be added cannot be specified unconditionally, but is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the photosensitive composition excluding the solvent. It is 5 to 5 parts by mass. The molar ratio of the photopolymerization initiator and the spectral sensitizing dye is preferably in the range of 1: 100 to 100: 1.
[0170]
(Polymer binder)
Next, the polymer binder will be described.
[0171]
Examples of the polymer binder used in the photopolymerizable photosensitive layer of the present invention include, for example, acrylic polymers, polyvinyl butyral resins, polyurethane resins, polyamide resins, polyester resins, epoxy resins, phenol resins, polycarbonate resins, and polyvinyl butyral Resin, polyvinyl formal resin, shellac, other natural resins and the like can be used. Further, two or more of these may be used in combination.
[0172]
In each of the above-mentioned polymer binders, it is preferably a vinyl copolymer obtained by copolymerization of an acrylic monomer. Further, the copolymer composition of the polymer binder includes (a) a carboxyl group-containing monomer, (b) It is preferably a copolymer of an alkyl methacrylate or an alkyl acrylate.
[0173]
Specific examples of the carboxyl group-containing monomer include α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, and itaconic anhydride. In addition, a carboxylic acid such as a half ester of phthalic acid and 2-hydroxymethacrylate is also preferable.
[0174]
Specific examples of alkyl methacrylate and alkyl acrylate include, for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, methacryl Nonyl acid, decyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate And unsubstituted alkyl esters such as decyl acrylate, undecyl acrylate, and dodecyl acrylate, and cyclic alkyl esters such as cyclohexyl methacrylate and cyclohexyl acrylate. Ter, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate, etc. Substituted alkyl esters and the like can be mentioned.
[0175]
Further, in the polymer binder according to the present invention, monomers and the like described in the following (1) to (14) can be used as other copolymerized monomers.
[0176]
(1) Monomers having an aromatic hydroxyl group, for example, o- (or p-, m-) hydroxystyrene, o- (or p-, m-) hydroxyphenyl acrylate and the like.
[0177]
(2) Monomers having an aliphatic hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 5-hydroxypentyl Methacrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide, hydroxyethyl vinyl ether and the like.
[0178]
(3) Monomers having an aminosulfonyl group, for example, m- (or p-) aminosulfonylphenyl methacrylate, m- (or p-) aminosulfonylphenyl acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- ( p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.
[0179]
(4) Monomers having a sulfonamide group, for example, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide and the like.
[0180]
(5) acrylamide or methacrylamides, for example, acrylamide, methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N- (4-nitrophenyl) acrylamide, N-ethyl-N -Phenylacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
[0181]
(6) Monomers containing an alkyl fluoride group, for example, trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, N -Butyl-N- (2-acryloxyethyl) heptadecafluorooctylsulfonamide and the like.
[0182]
(7) Vinyl ethers, for example, ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether and the like.
[0183]
(8) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate.
[0184]
(9) Styrenes, for example, styrene, methylstyrene, chloromethylstyrene and the like.
[0185]
(10) Vinyl ketones, for example, methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone and the like.
[0186]
(11) Olefins, for example, ethylene, propylene, i-butylene, butadiene, isoprene and the like.
[0187]
(12) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine and the like.
[0188]
(13) Monomers having a cyano group, for example, acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethylacrylate, o- (or m-, p-) cyanostyrene and the like.
[0189]
(14) Monomers having an amino group, for example, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, polybutadiene urethane acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N , N-dimethylacrylamide, acryloylmorpholine, Ni-propylacrylamide, N, N-diethylacrylamide and the like.
[0190]
Further, other monomers copolymerizable with these monomers may be copolymerized.
Further, a double bond-containing vinyl copolymer obtained by subjecting a carboxyl group present in the molecule of the vinyl copolymer to an addition reaction of a compound having a (meth) acryloyl group and an epoxy group in the molecule is also included. Preferred as a polymer binder. Specific examples of the compound containing both a double bond and an epoxy group in the molecule include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and an epoxy group-containing double compound described in JP-A-11-271969.
[0191]
These copolymers preferably have a mass average molecular weight of from 10,000 to 200,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC), but are not limited to this range.
[0192]
The polymer binder may include, if necessary, any other polymer binder such as a polyvinyl butyral resin, a polyurethane resin, a polyamide resin, a polyester resin, an epoxy resin, a novolak resin, and a natural resin. You may use together with a copolymer.
[0193]
The content of the polymer binder in the composition for coating the photopolymerizable photosensitive layer is preferably from 10 to 90% by mass, more preferably from 15 to 70% by mass, and still more preferably from 20 to 60% by mass. Is particularly preferable from the viewpoint of sensitivity.
[0194]
Further, the vinyl-based copolymer obtained by copolymerization of an acrylic monomer is preferably 50 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass in the polymer binder.
[0195]
The acid value of the polymer contained in the polymer binder according to the present invention is preferably used in the range of 10 to 150, more preferably in the range of 30 to 120, and more preferably in the range of 50 to 90. It is particularly preferable from the viewpoint of balancing the polarities of the entire photosensitive layer, whereby the aggregation of the pigment in the coating solution for the photosensitive layer can be prevented.
[0196]
Hereinafter, various additives that can be added to the photosensitive composition in the present invention, a support as a photosensitive lithographic printing plate, a protective layer, coating the support of the photosensitive composition, the photosensitive lithographic printing plate The image recording method and the like will be sequentially described.
[0197]
(Various additives)
In the present invention, the photopolymerizable photosensitive layer containing the photosensitive composition, in addition to the above-described components, an ethylenic double double bond monomer polymerizable during the production or storage of the photosensitive lithographic printing plate It is desirable to add a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary polymerization. Suitable polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol). , 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxylamine, 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5) -Methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate and the like.
[0198]
The addition amount of the polymerization inhibitor is preferably from about 0.01% to about 5% based on the total solid content of the composition. Also, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, or may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. Good. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% to about 10% of the whole composition.
[0199]
A coloring agent can also be used, and conventionally known coloring agents including commercially available coloring agents can be suitably used. For example, those described in the revised new edition “Pigment Handbook”, edited by the Japan Pigment Technical Association (Seibundo Shinkosha), Color Index Handbook, and the like can be mentioned.
[0200]
Examples of the type of the pigment include a black pigment, a yellow pigment, a red pigment, a brown pigment, a violet pigment, a blue pigment, a green pigment, a fluorescent pigment, and a metal powder pigment. Specifically, inorganic pigments (titanium dioxide, carbon black, graphite, zinc oxide, Prussian blue, cadmium sulfide, iron oxide, and chromates of lead, zinc, barium, and calcium, etc.) and organic pigments (azo, thioindigo) , Anthraquinone, anthranthrone, and triphenedioxazine pigments, vat dye pigments, phthalocyanine pigments and derivatives thereof, and quinacridone pigments.
[0201]
Among these, it is preferable to select and use a pigment that does not substantially absorb in the absorption wavelength region of the spectral sensitizing dye corresponding to the exposure laser to be used, and in this case, an integrating sphere at the laser wavelength to be used is used. The reflection and absorption of the pigment used is preferably 0.05 or less. The amount of the pigment is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass, based on the solid content of the composition.
[0202]
When an argon laser (488 nm) or an SHG-YAG laser (532 nm) is used as an exposure light source, violet pigments and blue pigments are used from the viewpoints of pigment absorption in the above-described photosensitive wavelength region and visibility after development. Preferably, it is used. Such materials include, for example, cobalt blue, cerulean blue, alkali blue lake, Phonatone blue 6G, Victoria blue lake, metal-free phthalocyanine blue, phthalocyanine blue fast sky blue, indanthrene blue, indico, dioxane violet, isohexane Biolanthrone violet, indanthrone blue, indanthrone BC and the like can be mentioned. Among these, phthalocyanine blue and dioxane violet are more preferred.
[0203]
In addition, the composition can contain a surfactant as a coating improver as long as the performance of the present invention is not impaired. Among them, preferred are fluorine-based surfactants.
[0204]
Further, in order to improve the physical properties of the cured film, additives such as an inorganic filler and a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate and tricresyl phosphate may be added. These addition amounts are preferably 10% or less of the total solids.
[0205]
Examples of the solvent used when preparing the photosensitive composition of the photopolymerizable photosensitive layer according to the present invention include, for example, alcohols: derivatives of polyhydric alcohols, sec-butanol, isobutanol, n-hexanol, Benzyl alcohol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,5-pentanediol, ethers: propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, ketones, aldehydes: diacetone Alcohol, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and esters: ethyl lactate, butyl lactate, diethyl oxalate, methyl benzoate and the like are preferred.
[0206]
(Protective layer: oxygen blocking layer)
It is preferable to provide a protective layer on the photopolymerizable photosensitive layer according to the invention. The protective layer (oxygen blocking layer) preferably has high solubility in a developing solution (generally an aqueous alkaline solution) described later, and specific examples thereof include polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone. Polyvinyl alcohol has an effect of suppressing oxygen permeation, and polyvinyl pyrrolidone has an effect of securing adhesiveness with an adjacent photosensitive layer.
[0207]
In addition to the above two polymers, if necessary, polysaccharide, polyethylene glycol, gelatin, glue, casein, hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, methylcellulose, hydroxyethylstarch, acacia, saccharose octaacetate, ammonium alginate, sodium alginate And water-soluble polymers such as polyvinylamine, polyethylene oxide, polystyrenesulfonic acid, polyacrylic acid, and water-soluble polyamide.
[0208]
In the photosensitive lithographic printing plate of the invention, the peeling force between the photosensitive layer and the protective layer is preferably at least 35 mN / mm, more preferably at least 50 mN / mm, even more preferably at least 75 mN / mm. Preferred protective layer compositions include those described in Japanese Patent Application No. 8-161645.
[0209]
The peeling force in the present invention is such that when a pressure-sensitive adhesive tape of a predetermined width having a sufficiently large adhesive force is applied on the protective layer and the protective tape is peeled off at an angle of 90 degrees with respect to the plane of the photosensitive lithographic printing plate material. It can be determined by measuring the force.
[0210]
The protective layer may further contain a surfactant, a matting agent, and the like, if necessary. The protective layer composition is dissolved in a suitable solvent, coated on the photosensitive layer and dried to form a protective layer. The main component of the coating solvent is particularly preferably water or alcohols such as methanol, ethanol, i-propanol and the like.
[0211]
The thickness of the protective layer is preferably from 0.1 to 5.0 μm, particularly preferably from 0.5 to 3.0 μm.
[0212]
(Support)
The support according to the present invention has a hydrophilic surface, for example, a metal plate of aluminum, stainless steel, chromium, nickel, or the like, or a plastic film such as a polyester film, a polyethylene film, or a polypropylene film laminated or deposited with the above-described metal thin film. Can be used, and polyester films, vinyl chloride films, nylon films, etc., whose surfaces have been subjected to a hydrophilization treatment can be used.Aluminum supports are preferably used, and in this case, pure aluminum or aluminum It may be an alloy.
[0213]
As the aluminum alloy of the support, various materials can be used, for example, an alloy of aluminum with a metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, or iron is used. .
[0214]
The support is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove rolling oil on the surface prior to surface roughening (graining treatment). Examples of the degreasing treatment include a degreasing treatment using a solvent such as trichlene and thinner, and an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon and triethanol. For the degreasing treatment, an aqueous solution of an alkali such as caustic soda can be used. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the above degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is formed on the surface of the support. In this case, the smut is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof and desmutted. Preferably, a treatment is applied. Examples of the method of surface roughening include a mechanical method and a method of etching by electrolysis.
[0215]
The mechanical surface roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The surface roughening by the brush polishing method is performed, for example, by rotating a rotating brush using brush bristles having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and applying, for example, particles of volcanic ash having a particle size of 10 to 100 μm to water on the support surface. It can be performed by pressing a brush while supplying a uniformly dispersed slurry. For surface roughening by honing polishing, for example, particles of volcanic ash having a particle diameter of 10 to 100 μm are uniformly dispersed in water, pressure is applied from a nozzle to be ejected, and the surface is made to impinge obliquely on the support to roughen the surface. Can be. Further, for example, abrasive particles having a particle size of 10 to 100 μm are formed on the surface of the support at an interval of 100 to 200 μm by 2.5 × 10³-10 × 10³Pieces / cm²The sheets can be roughened by laminating the coated sheets so that the sheets are present at a density of 1 and transferring the rough surface pattern of the sheet by applying pressure.
[0216]
After the surface is roughened by the above-mentioned mechanical surface roughening method, it is preferable to immerse the substrate in an aqueous solution of an acid or an alkali in order to remove the abrasive, the formed aluminum dust and the like that have penetrated the surface of the support. As the acid, for example, sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid and the like are used, and as the base, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like are used. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. The dissolution amount of aluminum on the surface is 0.5 to 5 g / m²Is preferred. After performing the immersion treatment with an alkali aqueous solution, it is preferable to immerse in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, and chromic acid or a mixed acid thereof to perform a neutralization treatment.
[0217]
Although the electrochemical surface roughening method is not particularly limited, a method of performing electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable. As the acidic electrolytic solution, an acidic electrolytic solution usually used for an electrochemical surface roughening method can be used, but a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution is preferably used. As the electrochemical surface roughening method, for example, the methods described in JP-B-48-28123, UK Patent 896,563, and JP-A-53-67507 can be used. This surface roughening method can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 10 to 30 volts. Current density is 10-200 A / dm²Can be used, but 50 to 150 A / dm²It is preferable to select from the range. Electricity is 100-5000 c / dm²Can be used, but 100 to 2000 c / dm²It is preferable to select from the range. The temperature for performing the surface roughening method can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C.
[0218]
When performing electrochemical surface roughening using a nitric acid-based electrolyte as an electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in a range of 1 to 50 volts, but is selected from a range of 10 to 30 volts. Is preferred. Current density is 10-200 A / dm²Can be used, but 20 to 100 A / dm²It is preferable to select from the range. Electricity is 100-5000 c / dm²Can be used, but 100 to 2000 c / dm²It is preferable to select from the range. The temperature at which the electrochemical surface roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The nitric acid concentration in the electrolytic solution is preferably from 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrate, chloride, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.
[0219]
When a hydrochloric acid-based electrolyte is used as the electrolyte, it can be generally applied by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 2 to 30 volts. Current density is 10-200 A / dm²Can be used, but 50 to 150 A / dm²It is preferable to select from the range. Electricity is 100-5000 c / dm²Can be used, but 100 to 2000 c / dm², And 200-1000 c / dm²It is preferable to select from the range. The temperature at which the electrochemical surface roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of hydrochloric acid in the electrolyte is preferably 0.1 to 5% by mass.
[0220]
After the surface is roughened by the above-mentioned electrochemical surface roughening method, it is preferable to immerse in an aqueous solution of an acid or alkali to remove aluminum dust and the like on the surface. As the acid, for example, sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid and the like are used, and as the base, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like are used. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution. The dissolution amount of aluminum on the surface is 0.5 to 5 g / m²Is preferred. Further, it is preferable that after immersion treatment with an aqueous alkali solution, immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof to perform neutralization treatment.
[0221]
The mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may be used alone for roughening, or the mechanical surface roughening method may be followed by the electrochemical surface roughening method. The surface may be roughened.
[0222]
Subsequent to the roughening treatment, an anodic oxidation treatment can be performed. The method of the anodic oxidation treatment that can be used in the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. By performing the anodic oxidation treatment, an oxide film is formed on the support. In the anodic oxidation treatment, an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid at a concentration of 10 to 50% is used as an electrolytic solution, and the current density is 1 to 10 A / dm.²A method of electrolysis at a high current density in sulfuric acid described in U.S. Pat. No. 1,412,768, and a method of electrolysis at high current density described in U.S. Pat. No. 3,511,661 are also used. And a method using a solution containing one or more of chromic acid, oxalic acid, malonic acid, and the like. The formed anodized coating amount is 1 to 50 mg / dm.²Is suitable, and preferably 10 to 40 mg / dm.²It is. The anodic oxidation coating amount can be determined by, for example, immersing the aluminum plate in a chromic acid phosphoric acid solution (prepared by dissolving 35 g of 85% phosphoric acid and 20 g of chromium (IV) oxide in 1 L of water) to dissolve the oxide film. It can be determined by measuring the change in mass before and after dissolving the coating on the plate.
[0223]
In the present invention, the support is preferably treated with a sodium silicate solution having a temperature of 20 ° C. or more and 50 ° C. or less after the anodizing treatment. The temperature is preferably from 20 ° C to 50 ° C, more preferably from 20 ° C to 45 ° C. If the temperature is lower than 20 ° C., the soil recovery may be poor. On the other hand, if the temperature is higher than 50 ° C., the printing durability may deteriorate. The concentration of sodium silicate is not particularly limited, but is preferably 0.01% or more and 35% or less, more preferably 0.1% or more and 5% or less.
[0224]
In the present invention, the support is preferably treated with a polyvinylphosphonic acid solution having a temperature of 20 ° C. or more and 70 ° C. or less after the anodizing treatment. The temperature is preferably from 20 ° C to 70 ° C, more preferably from 30 ° C to 65 ° C. If the temperature is lower than 20 ° C., the soil recovery may be poor. On the other hand, if the temperature is higher than 70 ° C., the printing durability may deteriorate. The concentration of the polyvinylphosphonic acid solution is not particularly limited, but is preferably 0.01% or more and 35% or less, more preferably 0.1% or more and 5% or less.
[0225]
(Application)
The prepared photosensitive composition (photopolymerizable photosensitive layer coating solution) is applied onto a support by a conventionally known method and dried to prepare a photosensitive lithographic printing plate material. Examples of the application method of the application liquid include an air doctor coater method, a blade coater method, a wire bar method, a knife coater method, a dip coater method, a reverse roll coater method, a gravure coater method, a cast coating method, a curtain coater method, an extrusion coater method, and the like. Can be mentioned.
[0226]
If the drying temperature of the photosensitive layer is too low, sufficient printing durability cannot be obtained, and if it is too high, not only Marangoni occurs but also fogging of non-image areas occurs. The preferred drying temperature range is 60 to 160 ° C, more preferably 80 to 140 ° C, and particularly preferably 90 to 120 ° C.
[0227]
(Image recording method)
In the present invention, the light source for imagewise exposing the lithographic printing plate includes, for example, a laser, a light emitting diode, a xenon lamp, a xenon flash lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, a high-pressure mercury lamp, an electrodeless light source, and the like. Can be mentioned.
[0228]
In the case of collective exposure, a mask material in which a negative pattern of a desired exposure image is formed of a light-shielding material may be overlaid on the photopolymerizable photosensitive layer and exposed.
[0229]
When an array-type light source such as a light-emitting diode array is used, or when a light source such as a halogen lamp, a metal halide lamp, or a tungsten lamp is subjected to exposure control using an optical shutter material such as a liquid crystal or PLZT, a digital signal corresponding to an image signal is used. Exposure is possible and preferred. In this case, writing can be performed directly without using a mask material.
[0230]
In the case of laser exposure, light can be squeezed into a beam to perform scanning exposure in accordance with image data, so that it is suitable for directly writing without using a mask material. When a laser is used as a light source, the exposure area can be easily reduced to a very small size, and high-resolution image formation is possible.
[0231]
As a laser light source, any of an argon laser, a He—Ne gas laser, a YAG laser, a semiconductor laser, and the like can be suitably used. In the present invention, a laser light source having an emission wavelength in the visible region is preferably used. Specifically, there are a double high wavelength YAG laser emitting at around 532 nm, an Ar ion laser emitting at around 488 nm, and the like. In the present invention, a semiconductor laser that uses an InGaN-based or ZnSe-based material and that can continuously oscillate in the 380 to 430 nm region is also preferably used.
[0232]
Laser scanning methods include cylinder outer surface scanning, cylinder inner surface scanning, and plane scanning. In the cylindrical outer surface scanning, laser exposure is performed while rotating a drum around which a recording material is wound around the outer surface, and rotation of the drum is defined as main scanning and movement of laser light is defined as sub-scanning. In the cylinder inner surface scanning, a recording material is fixed on the inner surface of the drum, a laser beam is irradiated from the inside, and a main scan is performed in the circumferential direction by rotating a part or all of the optical system, and a part of the optical system or Sub-scanning is performed in the axial direction by moving the whole linearly in parallel to the axis of the drum. In the planar scanning, the main scanning of the laser beam is performed by combining a polygon mirror or a galvanometer mirror with an fθ lens or the like, and the sub-scanning is performed by moving the recording medium. The scanning of the outer surface of the cylinder and the scanning of the inner surface of the cylinder are easier to improve the precision of the optical system, and are suitable for high-density recording.
[0233]
(Preheat)
In the present invention, it is preferable to heat-treat the photosensitive lithographic printing plate material after exposing the lithographic printing plate to an image and before or during the developing process. By performing the heat treatment in this manner, the adhesiveness between the photosensitive layer and the support is improved, and the effect of the invention according to the present invention can be improved.
[0234]
Preheating according to the present invention, for example, in an automatic developing device for developing a photosensitive lithographic printing plate material, by a preheat roller that heats the photosensitive lithographic printing plate carried during the developing process to a predetermined temperature range before development. A heating method can be given. For example, the pre-heat roller includes a pair of rollers including at least one roller having a heating unit therein, and the roller having the heating unit includes a hollow member made of a metal having a high thermal conductivity (eg, aluminum, iron, or the like). A pipe in which a nichrome wire or the like is embedded as a heating element inside the pipe and the outer surface of the metal pipe is covered with a plastic sheet such as polyethylene, polystyrene, or Teflon (R) can be used. For details of such a preheat roller, reference can be made to JP-A-64-80962.
[0235]
The preheating in the present invention is preferably performed at 70 to 180 ° C. for about 3 to 120 seconds.
[0236]
(Developer)
The exposed portion of the photosensitive layer subjected to image exposure is cured. By developing this with an alkali developing solution, the unexposed portion is removed and an image can be formed. As such a developing solution, a conventionally known aqueous alkali solution can be used. For example, sodium silicate, potassium, ammonium; dibasic sodium, potassium, ammonium; sodium bicarbonate, potassium, ammonium; sodium carbonate, potassium, ammonium; sodium bicarbonate, potassium, ammonium An alkali developer using an inorganic alkali agent such as sodium hydroxide, potassium, ammonium and lithium;
[0237]
Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, mono-i-propylamine, di-i-propylamine, tri-i-propylamine, butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, Organic alkaline agents such as mono-i-propanolamine, di-i-propanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine can also be used.
[0238]
These alkaline agents are used alone or in combination of two or more. Further, an organic solvent such as an anionic surfactant, an amphoteric surfactant, or an alcohol can be added to the developer as needed.
[0239]
In the present invention, the developer preferably contains the compound A, compound B or compound C according to the present invention.
[0240]
(Compound A according to the present invention)
The compound A according to the present invention has a hydrophobic group having a saturated alkyl group in the molecule, and the molecular weight of the saturated alkyl group is 0 to 25% of the total molecular weight of the hydrophobic group (that is, the saturated alkyl moiety in the hydrophobic group). Is 0 to 25%), and preferably 0 to 5% of the molecular weight of the whole hydrophobic group.
[0241]
Here, "the molecular weight of the saturated alkyl group is 0 to 25% of the molecular weight of the entire hydrophobic group" means that when the molecule has two or more hydrophobic groups having a saturated alkyl group in the molecule, the molecule has The results obtained by calculating the total molecular weight of all the hydrophobic group elements as a denominator and calculating the molecular weight of all the saturated alkyl group elements of the hydrophobic group as a molecule (saturated alkyl part) are shown in%. In this case, in the present invention, when a molecule has several hydrophobic groups, each hydrophobic group averages that “the molecular weight of the saturated alkyl group is 0 to 25% of the molecular weight of the entire hydrophobic group”. However, those in which each hydrophobic group is out of the above range on average are also useful.
[0242]
Further, the total molecular weight of the hydrophobic group elements is preferably a certain size, and the molecular weight is preferably about 120 or more and about 2,000 or less.
[0243]
In addition, the hydrophobic group (hydrophobic group) referred to here is a group (atomic group) in a molecule which is hard to form a bond with a water molecule, and is generally referred to as a hydrophobic group. Can be defined by the degree of hydrophobicity. Here, the degree of hydrophobicity is represented by methanol wettability. The methanol wettability is to evaluate the wettability to methanol, and this method is described below. In 50 ml of distilled water placed in a measuring cylinder having a capacity of 1000 ml, 0.2 g of a compound (particulate form) consisting of a group to be measured is weighed and gently added so as to be placed on the surface of distilled water. Methanol is slowly dropped from a burette whose tip is immersed in distilled water until all the compound fine particles are wet and completely submerged in the distilled water / methanol mixed solvent. When the amount of methanol required to completely wet the fine particles is a (ml), the degree of hydrophobicity is calculated by the following equation.
[0244]
Hydrophobicity = {a / (a + 50)} × 100
In the present invention, the degree of hydrophobicity is preferably from 20 to 95%.
[0245]
Next, preferred examples of the compound A according to the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.
[0246]
Embedded image

[0247]
The compound A according to the invention is preferably contained in the developer in an amount of 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5.0% by mass.
[0248]
(Compound C according to the present invention)
The compound C according to the present invention has a polyoxyethylene group-containing anion having a hydrophobic group having a saturated alkyl group in the molecule, wherein the molecular weight of the saturated alkyl group is 0 to 25% of the total molecular weight of the hydrophobic group. And a surfactant having a molecular weight of 0 to 5% of the total molecular weight of the hydrophobic group.
[0249]
Here, "the molecular weight of the saturated alkyl group is 0 to 25% of the molecular weight of the entire hydrophobic group" is the same as described in the above-mentioned compound A, and in this case, the compound C of the present invention contains several compounds. When the molecule has a hydrophobic group of the formula, each hydrophobic group preferably averages "the molecular weight of the saturated alkyl group is 0 to 25% of the molecular weight of the entire hydrophobic group". Those not in the above range are also useful.
[0250]
Further, the total molecular weight of the hydrophobic group elements is preferably a certain size, and the molecular weight is preferably about 120 or more and about 2,000 or less.
[0251]
Next, preferred examples of the compound C according to the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.
[0252]
Embedded image

[0253]
The compound C according to the present invention is preferably contained in the developer in an amount of 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5.0% by mass.
[0254]
In the compounds A and C described above, if the molecular weight of the hydrophobic group is too small, the dissolving ability of the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate at the time of development is reduced, and it becomes difficult to suppress the generation of sludge and sludge. If the molecular weight of the hydrophobic group is too large, the solubility of these compounds in the developer becomes poor, and it becomes difficult to prepare and maintain a uniform developer. Therefore, the above range is preferable.
[0255]
(Compound B according to the present invention)
The compound B according to the present invention is a compound represented by the following general formula (B),
General formula (B)
HO (C₂H₄O)_a(C₃H₆O)_b(C₂H₄O)_cH
(In the formula, abc represents an integer of 1 to 10,000.)
It is preferable that the molecular weight of the polyoxypropylene part of the compound B be in the range of 500 to 8000, and the ethylene oxide part contained in the total weight average molecular weight be 10 to 90% by mass. Furthermore, it is more preferable that the molecular weight of the polyoxypropylene part of the compound B is 1,000 to 4,000, and the ethylene oxide part is 40 to 80% by mass of the total molecular weight.
[0256]
Next, preferred examples of the compound B according to the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.
[0257]
Embedded image

[0258]
【Example】
Hereinafter, a synthesis example, a support preparation example, and a photosensitive lithographic printing plate preparation example will be specifically described, but embodiments of the present invention are not limited thereto. In the examples, “parts” means “parts by mass” unless otherwise specified.
[0259]
Example 1
(Synthesis of binder)
(Synthesis of Acrylic Copolymer 1)
30 parts of methacrylic acid, 50 parts of methyl methacrylate, 20 parts of ethyl methacrylate, 500 parts of isopropyl alcohol and 3 parts of α, α′-azobisisobutyronitrile are put into a three-necked flask under a nitrogen stream, and the mixture is placed in a nitrogen stream. The reaction was performed for 6 hours in an oil bath at ℃. Then, after refluxing for 1 hour at the boiling point of isopropyl alcohol, 3 parts of triethylammonium chloride and 25 parts of glycidyl methacrylate were added and reacted for 3 hours to obtain an acrylic copolymer 1. The weight average molecular weight measured using GPC was about 35,000, and the glass transition temperature (Tg) measured using DSC (differential thermal analysis) was about 85 ° C.
[0260]
<< Preparation of support >>
A 0.3 mm-thick aluminum plate (material 1050, tempered H16) was immersed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution maintained at 65 ° C., subjected to a 1-minute degreasing treatment, and then washed with water. The degreased aluminum plate was immersed in a 10% hydrochloric acid aqueous solution maintained at 25 ° C. for 1 minute to neutralize, and then washed with water. Next, this aluminum plate was placed in a 15 g / L aqueous hydrochloric acid solution at 25 ° C. and a current density of 60 A / dm.²After the electrolytic surface roughening was performed with an alternating current for 60 seconds under the conditions described above, a desmut treatment was performed for 10 seconds in a 5% aqueous sodium hydroxide solution kept at 60 ° C. The surface-roughened aluminum plate subjected to desmut treatment is placed in a 15% sulfuric acid solution at 25 ° C. and a current density of 10 A / dm.²Anodizing treatment was performed for 1 minute under the condition of a voltage of 25 V, and the following polyvinylphosphonic acid (PVPA) solution (PVPA) solution (treating solution, treating concentration, treating temperature, treating time) as shown in Tables 1 and 2 PVPS 30 (polyvinyl phosphonic acid 30% solution): manufactured by Clariant and diluted with water so as to have the concentration shown in Tables 1 and 2, or a sodium silicate solution (an aqueous solution of sodium metasilicate shown in Tables 1 and 2) (Adjusted with water so as to have a concentration of 1%) to produce Supports 1 to 40.
[0261]
At this time, the center line average roughness (Ra) of the surface was 0.95 μm.
<< Preparation of photosensitive lithographic printing plate >>
On the supports 1 to 40, a photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1 having the following composition was dried at 1.5 g / m²And dried at 95 ° C. for 1.5 minutes to obtain Photopolymerized Photosensitive Layer Coated Samples 1 to 40.
[0262]
(Photopolymerizable photosensitive layer coating liquid 1)

[0263]
Embedded image

[0264]
On the photopolymerizable photosensitive layer coating samples 1 to 40, the oxygen blocking layer coating solution 1 having the following composition was dried at 1.8 g / m²And dried at 75 ° C. for 1.5 minutes to prepare photosensitive lithographic printing plates 101 to 140 having an oxygen barrier layer on the photosensitive layer.
[0265]
(Oxygen barrier coating solution 1)
89 parts of polyvinyl alcohol (GL-05: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Company)
Water-soluble polyamide (P-70: manufactured by Toray) 10 parts
Surfactant (Surfinol 465: manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.5 part
900 parts of water
<< Evaluation of photosensitive lithographic printing plate >>
The photosensitive lithographic printing plate obtained as described above was evaluated as follows.
[0266]
(Printing durability)
Appropriate exposure dose for 175-line images (twice the exposure dose at which 175 lines / 50% halftone dot exposure can reproduce 50% on the prepared lithographic printing plate surface without observing film loss in the image area) A lithographic printing plate prepared by exposing and developing using a 532 nm laser-equipped Tiger Cat equipped with an ECRM laser was coated with a printing machine (DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.) on coated paper and printing ink (Toyo Toyo). Printing was performed using Ink Co., Ltd. Toyo King Hi-Echo M Red and a fountain solution (Tokyo Ink Co., Ltd., H-solution SG-51, 1.5% concentration). And the number of prints where thinning of highlights and entanglement of shadows occur was used as an index of printing durability. One press life refers to the operation of wiping with a cleaner after continuous printing of 1000 sheets. The more it is, the more preferable.
[0267]
Developer composition (aqueous solution containing the following additives)
A potassium silicate 8.0 mass%
Surfactant shown in Table 1 and Table 3.0 3.0% by mass
Caustic potash pH = 12.3
(Soil recovery)
After continuous printing of 1,000 sheets, the sheet was wiped with a cleaner, and after 15 minutes, printing was resumed. The smaller the number, the better.
[0268]
(Linearity)
A halftone image of 175 lines was drawn at 2400 dpi (dpi is 1 inch, that is, the number of dots per 2.54 cm) from 0% to 100% in 5% steps without linearity correction. At this time, a halftone dot output image to be rendered 80% with a light quantity twice as high as the sensitivity was photographed with an optical microscope of 500 times, and the area of the image portion was calculated as linearity. The closer to 80%, the better.
[0269]
The results are shown in Tables 1 and 2.
[0270]
[Table 1]

[0271]
Perex NBL is an anionic activator (Na butylnaphthalenesulfonate) manufactured by Kao Corporation and has a "30% ratio of saturated alkyl portion in hydrophobic group".
[0272]
[Table 2]

[0273]
As is clear from Tables 1 and 2, in the case of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention and the processing method thereof (the structures of the inventions of claims 1 to 3 and 8 of the present invention), the printing durability and the unexposed area It can be seen that the recovery of the contamination was compatible at a high level, and the linearity during laser exposure was improved.
[0274]
Example 2
Using the supports shown in Tables 3 and 4, the photosensitive lithographic printing plates 201 to 201 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the photopolymerizable photosensitive layer coating liquid 1 was changed to the following photopolymerizable photosensitive layer coating liquid 2. 235 was produced.
[0275]
(Photopolymerizable photosensitive layer coating liquid 2)

<< Evaluation of photosensitive lithographic printing plate >>
The photosensitive lithographic printing plate obtained as described above was evaluated as follows.
[0276]
(Printing durability)
Appropriate exposure dose for 175-line images (twice the exposure dose at which 175 lines / 50% halftone dot exposure can reproduce 50% on the prepared lithographic printing plate surface without observing film loss in the image area) A lithographic printing plate prepared by exposing and developing using a 532 nm laser-equipped Tiger Cat equipped with an ECRM laser was coated with a printing machine (DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.) on coated paper and printing ink (Toyo Toyo). Printing was performed using Ink Co., Ltd. Toyo King Hi-Echo M Red and a fountain solution (Tokyo Ink Co., Ltd., H-solution SG-51, 1.5% concentration). And the number of printed sheets where thinning of highlights and entanglement of shadows occur was used as an index of printing durability. One press life refers to the operation of wiping with a cleaner after continuous printing of 1000 sheets. The more it is, the more preferable.
[0277]
Developer composition (aqueous solution containing the following additives)
A potassium silicate 8.0 mass%
Surfactants shown in Tables 3 and 4 3.0% by mass
Caustic potash pH = 12.3
(Soil recovery)
After continuous printing of 1000 sheets, the sheet was wiped with a cleaner, and after 15 minutes, printing was resumed. The smaller the number, the better.
[0278]
(Linearity)
A halftone image of 175 lines was drawn at 2400 dpi (dpi is 1 inch, that is, the number of dots per 2.54 cm) from 0% to 100% in 5% steps without linearity correction. At this time, a halftone dot output image to be rendered 80% with a light quantity twice as high as the sensitivity was photographed with an optical microscope of 500 times, and the area of the image portion was calculated as linearity. The closer to 80%, the better.
[0279]
The results are shown in Tables 3 and 4.
[0280]
[Table 3]

[0281]
[Table 4]

[0282]
Embedded image

[0283]
As is clear from Tables 3 and 4, in the case of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention and the processing method thereof (the structures of the inventions of claims 4 to 6 and 8 of the present invention), the printing durability and the unexposed area It can be seen that the recovery of the contamination was compatible at a high level, and the linearity during laser exposure was improved.
[0284]
Example 3
Using the supports shown in Table 5, and changing the spectral sensitizing dye d-4 of the photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1 to violet dyes V-1 to V-4 as shown in Table 5, the procedure was carried out. In the same manner as in Example 1, photosensitive lithographic printing plates 301 to 320 were produced.
[0285]
<< Evaluation of photosensitive lithographic printing plate >>
The photosensitive lithographic printing plate obtained as described above was evaluated as follows.
[0286]
(Printing durability)
Appropriate exposure dose for 175-line images (twice the exposure dose at which 175 lines / 50% halftone dot exposure can reproduce 50% on the prepared lithographic printing plate surface without observing film loss in the image area) A lithographic printing plate prepared by exposing and developing using an ECRM Blue Dolpine equipped with a 405 nm laser diode of 30 mW and a 405 nm laser diode was coated with a printing machine (Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. DAIYA1F-1). Printing was performed using paper and printing ink (Toyo King Hi-Echo M Red, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) and dampening solution (H-solution SG-51, 1.5% concentration, manufactured by Tokyo Ink Co., Ltd.). After printing, the plate surface was wiped with a cleaner, and the number of prints at which highlights were thinned and shadows were entangled was used as an index of printing durability. One press life refers to the operation of wiping with a cleaner after continuous printing of 1000 sheets. The more it is, the more preferable.
[0287]
Developer composition (aqueous solution containing the following additives)
A potassium silicate 8.0 mass%
Surfactant shown in Table 5 3.0% by mass
Caustic potash pH = 12.3
(Soil recovery)
After continuous printing of 1000 sheets, the sheet was wiped with a cleaner, and after 15 minutes, printing was resumed. The smaller the number, the better.
[0288]
(Linearity)
A halftone image of 175 lines was drawn at 2400 dpi (dpi is 1 inch, that is, the number of dots per 2.54 cm) from 0% to 100% in 5% steps without linearity correction. At this time, a halftone dot output image to be rendered 80% with a light quantity twice as high as the sensitivity was photographed with an optical microscope of 500 times, and the area of the image portion was calculated as linearity. The closer to 80%, the better.
[0289]
Table 5 shows the results.
[0290]
[Table 5]

[0291]
Embedded image

[0292]
As is clear from Table 5, in the case of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention and the processing method thereof (the constitutions of the inventions of claims 7 and 8 of the present invention), the printing durability and the recovery of unexposed areas from contamination are high. It can be seen that both levels are compatible, and that the linearity during laser exposure is improved.
[0293]
Example 4
Using the supports described in Tables 6 and 7, the tertiary amine monomer, the photopolymerization initiator, and the trihaloacetyl compound (particularly, the trihaloacetylamide compound) of the photopolymerizable photosensitive layer coating liquid 2 are described in Tables 6 and 7. And the spectral sensitizing dyes d-4 were changed to violet dyes V-1 to V-4 as shown in Tables 6 and 7, and the photosensitive lithographic printing plates 401 to 441 were prepared in the same manner as in Example 2. Was prepared.
[0294]
<< Evaluation of photosensitive lithographic printing plate >>
The photosensitive lithographic printing plate obtained as described above was evaluated as follows.
[0295]
(Printing durability)
Appropriate exposure dose for 175-line images (twice the exposure dose at which 175 lines / 50% halftone dot exposure can reproduce 50% on the prepared lithographic printing plate surface without any film loss in the image area) A lithographic printing plate produced by exposing and developing using an ECRM Blue Dolphine equipped with a 405 nm laser diode of 30 mW at 30 mW was coated with a printing machine (DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.) on coated paper. , Printing using printing ink (Toyo King Hi-Echo M Red, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) and dampening solution (H-solution SG-51, 1.5% concentration, manufactured by Tokyo Ink Co., Ltd.), and printing 1000 sheets continuously Thereafter, the plate surface was wiped with a cleaner, and the number of printed sheets in which highlight portions were thinned and shadow portions were entangled was used as an index of printing durability. One press life refers to the operation of wiping with a cleaner after continuous printing of 1000 sheets. The more it is, the more preferable.
[0296]
Developer composition (aqueous solution containing the following additives)
A potassium silicate 8.0 mass%
Surfactants shown in Table 6 and Table 3.0 3.0% by mass
Caustic potash pH = 12.3
(Soil recovery)
After continuous printing of 1000 sheets, the sheet was wiped with a cleaner, and after 15 minutes, printing was resumed. The smaller the number, the better.
[0297]
(Linearity)
A halftone image of 175 lines was drawn at 2400 dpi (dpi is 1 inch, that is, the number of dots per 2.54 cm) from 0% to 100% in 5% steps without linearity correction. At this time, a halftone dot output image to be rendered 80% with a light quantity twice as high as the sensitivity was photographed with an optical microscope of 500 times, and the area of the image portion was calculated as linearity. The closer to 80%, the better.
[0298]
The results are shown in Tables 6 and 7.
[0299]
[Table 6]

[0300]
[Table 7]

[0301]
As is clear from Tables 6 and 7, in the case of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention and the processing method therefor (the structure of the invention according to claims 7 and 8 of the present invention), the printing durability and the contamination of the unexposed area were improved. It can be seen that the recovery was compatible at a high level and the linearity during laser exposure was improved.
[0302]
【The invention's effect】
According to the present invention, a photosensitive lithographic printing plate having both high printing durability and recovery of unexposed portions from being stained at a high level, and having improved linearity during laser exposure, and a processing method thereof can be provided.

Claims (8)

A photosensitive lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer, wherein the contact angle of water on the surface of the support before coating the photopolymerizable photosensitive layer is 30 degrees or more and 70 degrees or less. Lithographic printing plate. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the support is treated with a polyvinylphosphonic acid solution having a temperature of 20C to 70C after the anodizing treatment. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the support is treated with a sodium silicate solution having a temperature of 20C or more and 50C or less after anodizing treatment. The photosensitive lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the photopolymerizable photosensitive layer contains a tertiary amine monomer. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 4, wherein the photopolymerizable photosensitive layer contains at least one selected from a titanocene compound, an iron compound, and a boron compound. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 5, wherein the photopolymerizable photosensitive layer contains a polyhaloacetylamide compound. The photosensitive lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 6, further comprising at least one sensitizing dye having an absorption maximum at 350 nm or more and 450 nm or less. A method for processing a photosensitive lithographic printing plate, comprising treating the photosensitive lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 7 with a developer containing the following compound A, compound B or compound C.
Compound A: a nonionic surfactant in which the molecular weight of the saturated alkyl group in the hydrophobic group portion is 25% or less of the molecular weight of the entire hydrophobic group Compound B: a compound represented by the following general formula (B): HO (C ₂ H ₄ O) _a (C ₃ H ₆ O) _b (C ₂ H ₄ O) _c H
(In the formula, abc represents an integer of 1 to 10,000.)
Compound C: an anionic surfactant containing a polyoxyethylene group in which the molecular weight of the saturated alkyl group in the hydrophobic group is 25% or less of the molecular weight of the entire hydrophobic group