JP2004212783A - Rubbing apparatus and rubbing roller used for the same, manufacturing method using the rubbing apparatus, and method for manufacturing liquid crystal device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ラビング装置とこれに用いるラビングローラに関し、特に、周面がラビングクロスで構成されたラビングローラに関する。
【0002】
【従来の技術】
周知のように、液晶装置は、ガラス基板、石英基板等からなる2枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、TFTと称す)をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【0003】
また、TFTを配置したTFT基板と、このTFT基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【0004】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板の液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、TFT基板と対向基板とを対向させ、一方の基板上の周縁に接着剤となるシール部を設け、このシール部を用いてTFT基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。
【0005】
ここで、ラビング処理とは、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板表面に形成された配向膜上に回転しながら接触させ直線的に移動させて、基板配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものであり、このように配向膜に一定方向の溝を形成するラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【0006】
ところで、このような配向膜形成時のラビング処理に用いるラビングローラにおいて、上記ラビングローラ周面を形成するラビングクロスは、図5に示すように、格子状に編んだキュプラ繊維等の地糸105に、レーヨン等の有機高分子100を織り上げ、この織り上げたクロスにメチロール,ステアロアミド等の脂肪酸アミド(C18H35CONHCH2OH)の滑材120を塗布し、上記クロスの裏面をアクリル樹脂等の補強剤110でコートする(以下、バックコートと称す)ことにより構成されている。
【0007】
上記脂肪酸アミド等の滑材120を上記織り上げたクロスに塗布することで、クロスの表面を柔らかくし、ラビング処理時に、ラビングローラが基板表面を接触移動する際、基板表面に形成された配向膜面に、上記ローラのクロスによって傷が生じることを防止している。また、上記裏面補強剤110は、上記織り上げたクロスをバックコートすることにより、上記クロスのほつれを防止している。
【0008】
このように周面がラビングクロスで構成されたラビングローラを用いてラビング処理を行うラビング装置は、特許文献1に開示されている。
【0009】
【特許文献1】
特開平5−289083号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献1に開示されているラビング装置に用いるラビングローラでは、上記織り上げたクロスに脂肪酸アミド成分を含む滑材120を塗布することにより、ラビングローラの周面を形成するラビングクロスの表面を柔らかくし、ラビング処理時に、ラビングローラが基板表面を接触移動する際、基板表面に形成された配向膜面に、上記ローラのクロスによって傷が生じることを防止している。
【0011】
しかしながら、ラビング処理時には、ラビングローラが基板表面を接触移動することから、滑材120に含まれる脂肪酸アミド成分が基板に転写されてしまう。
【0012】
この転写物が液晶パネル表示時に視認されてしまい、表示異常となる問題があった。
【0013】
本発明は上記問題に着目してなされたものであり、その目的は、ラビング処理時に、基板表面に形成された配向膜面に脂肪酸アミド成分が転写することなくラビング処理を行うことのできるラビング装置とそれに用いるラビングローラを提供するにある。
【0014】
【課題を解決するための手段及び作用】
本発明に係るラビング装置の一つの態様としては、滑剤が塗布されたラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置であって、上記滑剤は、脂肪酸アミド成分の含有が5%以下であることを特徴とする。
【0015】
また、本発明のラビング装置は、滑剤が塗布されたラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置であって、上記滑剤は、脂肪酸アミド成分を含有しないことを特徴とする。
【0016】
本発明のラビング装置によれば、ラビングローラ周面を形成するラビングクロスに、脂肪酸アミド成分が5%以下好ましくは含有されていないことにより、ラビング処理時に脂肪酸アミド成分が基板に転写することにより発生する基板の表示不良を防止することができるという効果を有する。
【0017】
本発明に係るラビング装置に用いるラビングローラの一つの態様としては、基板上に形成された配向膜に、ラビング処理を施すラビング装置に用いるラビングローラであって、上記ラビングローラの周面を形成するラビングクロスは、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されており、この織り上げたクロスは、脂肪酸アミド成分の含有が5%以下であることを特徴とする。
【0018】
また、本発明のラビング装置は、基板上に形成された配向膜に、ラビング処理を施すラビング装置に用いるラビングローラであって、上記ラビングローラの周面を形成するラビングクロスは、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されており、この織り上げたクロスには、脂肪酸アミド成分が含有されていないことを特徴とする。
【0019】
さらに、本発明のラビング装置に用いるラビングローラとしては、格子状に編んだ地糸にパイル糸を織り込んで織り上げる原糸織り上げ工程と、この織り上げられたクロスを規定の大きさにカットするシャーリング工程と、上記カットされたクロスに脱脂処理及び汚染除去クリーニング処理を施す精錬処理工程と、上記クロスを乾燥する乾燥工程と、上記乾燥したクロスにアミドレス滑剤を塗布する仕上樹脂加工工程と、この仕上樹脂加工の終わったクロスの起毛処理を行う起毛工程と、の各工程を経て作製されたラビングクロスを用いて構成されたことを特徴とする。
【0020】
本発明のラビング装置に用いるラビングローラによれば、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されたラビングクロスに、脂肪酸アミド成分が5%以下好ましくは含まれていないことにより、上記ラビングローラを用いて行うラビング処理時に、脂肪酸アミド成分が基板に転写することにより発生する基板の表示不良を防止することができるという効果を有する。
【0021】
また、本発明のラビング装置に用いるラビングローラとしては、上記パイル糸は、レーヨン、コットン、ナイロン等の有機高分子で構成されていることを特徴とする。
【0022】
この構成によれば、ラビングクロスを構成するパイル糸に、レーヨン、コットン、ナイロン等の有機高分子を用いることにより、ラビング効果を大きくすることができ、また、上記パイル糸に脂肪酸アミド成分が5%以下好ましくは含まれていないことで、ラビング処理時に、アミド成分が基板に転写することで発生する基板の表示不良を防止することができるという効果を有する。
【0023】
また、本発明のラビング装置用いた製造方法は、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施すためのラビング装置を用いた製造方法であって、脂肪酸アミド成分の含有が5%以下の滑剤が塗布されたラビングクロスをラビングローラに貼り付ける工程と、前記ラビングローラを回転させ、前記ラビングクロスを基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す工程と、を有することを特徴とする。
【0024】
また、本発明の液晶装置の製造方法は、基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す工程を有する液晶装置の製造方法であって、脂肪酸アミド成分の含有が5%以下の滑剤が塗布されたラビングクロスが貼り付けられたラビングローラを回転させ、前記ラビングクロスを基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施すことを特徴とする。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図1は、本発明の一実施の形態であるラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、図2は、ラビングローラの周面を形成するラビングクロスの製造工程の一例を示すフローチャート、図3及び図4は、ラビングクロスの製造工程の一部を示した要部拡大斜視図である。
【0026】
図1に示すように、ラビング装置1は、基台4の上面(以下、基準平面と称す)に固定されたラビングローラ2と、ラビング処理時に基板3を載置して上記基準平面上を移動するステージ5と、このステージ5に載置した基板3がラビングローラ2に当接するよう、ステージ5を上記基準平面上で移動するガイド6とで、その主要部が構成されている。
【0027】
上記ラビングローラ2は、ラビングクロスで形成されたローラ周面2bを有するローラ部2aと、ローラ回転軸2cとで構成されており、ローラ回転軸2cは、一対の軸受け2dにより上記基準平面に平行な平面上に回転自在に軸支されている。この一対の軸受け2dは、上記基準平面に対し図示しない高さ調節機構を有していて、ローラ回転軸2cを基準平面に対して任意の高さに調節し得るようになっている。また、ローラ回転軸2cは図示されない駆動源によって回転駆動されるようになっている。このように構成されたラビングローラ2は、軸受け2dで支持された回転軸2cを中心に一方向に回転しながら基板3の表面に形成された配向膜に当接し、基板3の配向膜表面に細かい溝を形成して前記配向膜を配向異方性の膜にする。
【0028】
次に、このように構成されたラビング装置1に用いるラビングローラ2のローラ部2aの周面2bを形成するラビングクロスの製造方法について、図2のフローチャート及び図3、図4の斜視図を用いて説明する。
【0029】
まず、図2に示すように、ステップS1の原糸(繊維)織り上げ工程では、キュプラ繊維で構成された地糸に、ワックス等の潤滑油を付着させて、図3に示すように、地糸を縦糸10並びに横糸11で格子状に編み、この格子状に編んだ上記地糸に、レーヨン、コットン、ナイロン等の有機高分子で構成されたパイル糸15をW状に織り込み、クロス20を織り上げる。その後、ステップS2に移行する。ステップS2では、クロス20を規定の大きさにカット(シャーリング)し、ステップS3に移行する。
【0030】
ステップS3では、規定の大きさにカットしたクロス20に、上記ステップS1の織り上げ工程で付着したワックス等を除去する脱脂処理や、その他の汚染を除去するクリーニング等の精錬処理が既知の技術により行われ、ステップS4に移行し、ステップS4では、クロス20の乾燥が行われ、ステップS5に移行する。
【0031】
ステップS5では、図4に示すように、ステップS4で乾燥処理の行われたクロス20に、メチロール,ステアロアミド等の脂肪酸アミドの成分が5%以下好ましくは含有されていないアミドレス滑剤30を、既知のディップ処理により塗布する仕上げ樹脂加工を行う。これにより、クロス20に脂肪酸アミド成分が5%以下好ましくは含まれていないことで、このラビングクロス20により周面2bが形成されたローラ部2aを有するラビングローラ2(図1参照)を用いてラビング処理を行う際、脂肪酸アミド成分が基板に転写することで発生する基板汚染を防止することができる。仕上げ樹脂加工を行った後、ステップS6に移行する。
【0032】
ステップS6では、不図示のブラシを用いて、ラビングクロス20のレーヨン等のパイル糸15に起毛処理を実施する。この処理で、ラビングクロス20は、表面がパイル糸15で起毛した状態となる。
【0033】
ここで、従来のクロス製造工程においては、この起毛処理後の前記クロス20の裏面を樹脂等の補強剤でバックコートすることにより、クロス20のほつれを防止していた。
【0034】
ところが、本実施の形態においては、上述したステップS5に示したように、クロス20に、メチロール,ステアロアミド等の脂肪酸アミド成分が5%以下好ましくは含有されていないアミドレス滑剤30を塗布したことにより、クロス20自体が十分柔らかくなっていない。このことにより、糸のほつれは殆ど生じなくなる。
【0035】
よって、本実施の形態においては、ラビングクロス20のバックコートは行わない。このように、クロス20の裏面を硬化しないことにより、脂肪酸アミド成分を含有する滑剤を塗布しなくともクロス20を柔らかい状態に保つことができる。
【0036】
最後にステップS7では、上述したステップS1〜ステップS6までの工程で製造したラビングクロスの検査が行われ、脂肪酸アミド成分の含有量、クロス20のほつれ等の確認が行われる。アミド成分の含有量の確認は、ガスクロマトグラフ質量分析装置を用いた既知のGC/MS(Gas Chromatography Mass Spectrometry)解析法により行われ、有機溶媒中濃度5%以下であれば、アミド成分が基板に転写することで発生する基板の表示不良を防止することができる。
【0037】
このように、ラビング装置1に用いるラビングローラ2(図1参照)のローラ部2aの周面を形成する、脂肪酸アミド成分を5%以下好ましくは含有していないアミドレスクロスが製造され、これによりラビングローラ2のローラ部2aの周面2bが形成される。
【0038】
尚、上記実施形態においては、ラビングクロス20を構成するパイル糸15は、レーヨン、コットン、ナイロン等で構成したが、これに限らず、ラビング効果を高め、ラビング処理時に、基板3にダメージを与えない有機高分子であれば、どのような材質のものであっても良いことは勿論である。
【0039】
また、従来のラビングクロス20に塗布する滑剤で、基板3に転写する成分は、メチロール,ステアロアミド等の脂肪酸アミドであるとしたが、他の脂肪酸アミド(例えば、ステアリン酸アミド等)であっても、基板表面にアミド成分を転写してしまう。よって、本発明のラビングロールに用いられるラビングクロス20に塗布する滑剤は、どのような脂肪酸アミド成分をも5%以下好ましくは含有しないものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態であるラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、
【図2】ラビングローラの周面を形成するラビングクロスの製造工程を示すフローチャート、
【図3】クロスの製造工程において、地糸にパイル糸を織り上げた状態を示したクロスの要部拡大斜視図、
【図4】クロスの製造工程において、クロスに滑剤を塗布した状態を示したクロスの要部拡大斜視図、
【図5】従来のクロスの製造工程の一例を示したクロスの要部拡大斜視図。
【符号の説明】
1…ラビング装置
2…ラビングローラ
2a…ラビングローラ周面
10…地糸(縦糸)
11…地糸(横糸)
20…ラビングクロス[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a rubbing device and a rubbing roller used for the rubbing device, and more particularly to a rubbing roller having a peripheral surface formed of a rubbing cloth.
[0002]
[Prior art]
As is well known, a liquid crystal device is configured such that liquid crystal is sealed between two substrates such as a glass substrate and a quartz substrate, and a thin film transistor (hereinafter, referred to as a TFT) is provided on one of the substrates. ) Are arranged in a matrix, an opposing electrode is arranged on the other substrate, and the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between the two substrates are changed according to an image signal, thereby enabling image display.
[0003]
In addition, a TFT substrate on which a TFT is disposed and a counter substrate disposed opposite to the TFT substrate are manufactured separately, and both substrates are bonded with high precision in a panel assembling process and then filled with liquid crystal. It is supposed to be.
[0004]
In the panel assembling step, first, an alignment film for aligning liquid crystal molecules along the substrate surface is formed on the surface of the TFT substrate and the counter substrate, which are manufactured in each substrate manufacturing step, in contact with the liquid crystal layer. This alignment film is formed, for example, by printing polyimide with a thickness of about several tens of nanometers. After that, baking is performed, and further, a rubbing treatment is performed to determine the arrangement of the liquid crystal molecules when no voltage is applied. Next, the TFT substrate and the opposing substrate are opposed to each other, and a seal portion serving as an adhesive is provided on the periphery of one of the substrates. The TFT substrate and the opposing substrate are attached to each other using this seal portion, and pressure-bonded and cured while performing alignment. Then, a method of sealing the liquid crystal through a notch provided in a part of the seal portion is used.
[0005]
Here, the rubbing treatment is a process in which a rubbing roller, whose peripheral surface is formed by a rubbing cloth, is linearly moved while being in contact with the alignment film formed on the substrate surface while rotating, so that a fine groove is formed on the substrate alignment film surface. Is formed to make the alignment film anisotropically oriented. The rubbing treatment for forming a groove in a fixed direction in the alignment film in this manner can regulate the arrangement of the liquid crystal molecules.
[0006]
By the way, in the rubbing roller used for the rubbing treatment at the time of forming the alignment film, the rubbing cloth forming the rubbing roller peripheral surface is formed on the
[0007]
By applying the
[0008]
A rubbing device that performs a rubbing process by using a rubbing roller having a peripheral surface formed of a rubbing cloth is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-163,036.
[0009]
[Patent Document 1]
JP-A-5-289083
[Problems to be solved by the invention]
In the rubbing roller used in the rubbing device disclosed in Patent Document 1, by applying a
[0011]
However, during the rubbing treatment, the rubbing roller contacts and moves on the substrate surface, so that the fatty acid amide component contained in the
[0012]
This transcript is visually recognized at the time of display on the liquid crystal panel, which causes a problem of display abnormality.
[0013]
The present invention has been made in view of the above problem, and has as its object to provide a rubbing apparatus capable of performing a rubbing treatment without transferring a fatty acid amide component to an alignment film surface formed on a substrate surface during a rubbing treatment. And a rubbing roller used therefor.
[0014]
Means and Action for Solving the Problems
As one mode of the rubbing device according to the present invention, an electric rubbing process is performed in which a rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth coated with a lubricant is brought into contact with an alignment film formed on a substrate. A rubbing device for a substrate in an optical device, wherein the lubricant has a fatty acid amide component content of 5% or less.
[0015]
Further, the rubbing device of the present invention is directed to a substrate in an electro-optical device that performs a rubbing process by bringing a rubbing roller having a peripheral surface formed of a rubbing cloth coated with a lubricant into contact with an alignment film formed on the substrate. The rubbing device according to the above, wherein the lubricant does not contain a fatty acid amide component.
[0016]
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the rubbing apparatus of this invention, since the rubbing cloth which forms the rubbing roller peripheral surface does not contain preferably 5% or less of the fatty acid amide component, it is produced by the transfer of the fatty acid amide component to the substrate during the rubbing treatment. This has the effect that display defects of the substrate can be prevented.
[0017]
One aspect of the rubbing roller used in the rubbing device according to the present invention is a rubbing roller used in a rubbing device that performs a rubbing process on an alignment film formed on a substrate, and forms a peripheral surface of the rubbing roller. The rubbing cloth is formed by weaving a pile yarn on a ground yarn, and the woven cloth is characterized in that the content of the fatty acid amide component is 5% or less.
[0018]
Further, the rubbing device of the present invention is a rubbing roller used in a rubbing device for performing a rubbing process on an alignment film formed on a substrate, wherein a rubbing cloth forming a peripheral surface of the rubbing roller is formed by piled ground yarn. It is constituted by weaving yarn, and the woven cloth is characterized in that it does not contain a fatty acid amide component.
[0019]
Further, as a rubbing roller used in the rubbing device of the present invention, a raw yarn weaving step of weaving pile yarn into a ground yarn knitted in a lattice shape and a shearing step of cutting this woven cloth into a prescribed size. A refining process of performing a degreasing process and a decontamination cleaning process on the cut cloth, a drying process of drying the cloth, a finishing resin processing process of applying an amideless lubricant to the dried cloth, and a finishing resin process. And a rubbing cloth produced through the respective steps of raising the cloth after raising the cloth.
[0020]
According to the rubbing roller used in the rubbing device of the present invention, the rubbing cloth formed by weaving the pile yarn on the ground yarn preferably contains no fatty acid amide component of 5% or less. In the rubbing treatment, the display failure of the substrate caused by the transfer of the fatty acid amide component to the substrate can be prevented.
[0021]
The rubbing roller used in the rubbing device of the present invention is characterized in that the pile yarn is made of an organic polymer such as rayon, cotton, nylon and the like.
[0022]
According to this configuration, the rubbing effect can be increased by using an organic polymer such as rayon, cotton, or nylon for the pile yarn constituting the rubbing cloth, and the pile yarn has a fatty acid amide component of 5%. % Or less preferably has the effect of preventing display defects of the substrate caused by transfer of the amide component to the substrate during the rubbing treatment.
[0023]
Further, the production method using the rubbing device of the present invention is a production method using a rubbing device for performing a rubbing treatment by contacting an alignment film formed on a substrate, wherein a fatty acid amide component is contained. A step of applying a rubbing cloth coated with a lubricant of 5% or less to a rubbing roller, and a step of rotating the rubbing roller to bring the rubbing cloth into contact with an alignment film formed on a substrate to perform a rubbing treatment. And having the following.
[0024]
Further, the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal device including a step of performing a rubbing treatment by bringing the liquid crystal device into contact with an alignment film formed on a substrate, wherein the content of a fatty acid amide component is 5%. A rubbing process is performed by rotating a rubbing roller to which a rubbing cloth coated with the following lubricant is applied and bringing the rubbing cloth into contact with an alignment film formed on a substrate.
[0025]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic perspective view illustrating a configuration of a main part of a rubbing device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a flowchart illustrating an example of a manufacturing process of a rubbing cloth forming a peripheral surface of a rubbing roller. 3 and 4 are enlarged perspective views of a main part showing a part of the manufacturing process of the rubbing cloth.
[0026]
As shown in FIG. 1, a rubbing device 1 includes a rubbing
[0027]
The rubbing
[0028]
Next, a method of manufacturing a rubbing cloth for forming the
[0029]
First, as shown in FIG. 2, in the raw yarn (fiber) weaving step of step S1, lubricating oil such as wax is attached to the ground yarn composed of cupra fibers, and as shown in FIG. Is knitted in a lattice by the
[0030]
In step S3, the
[0031]
In step S5, as shown in FIG. 4, the
[0032]
In step S6, a raising process is performed on the
[0033]
Here, in the conventional cloth manufacturing process, the back of the
[0034]
However, in the present embodiment, as shown in step S5 described above, the
[0035]
Therefore, in the present embodiment, the back coating of the rubbing
[0036]
Finally, in step S7, the rubbing cloth manufactured in the above-described steps S1 to S6 is inspected, and the content of the fatty acid amide component, the fraying of the
[0037]
In this manner, an amideless cloth which does not contain a fatty acid amide component of preferably 5% or less, which forms the peripheral surface of the roller portion 2a of the rubbing roller 2 (see FIG. 1) used in the rubbing device 1, is produced. A
[0038]
In the above embodiment, the
[0039]
In addition, although the component to be transferred to the
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a configuration of a main part of a rubbing device according to an embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a flowchart showing a manufacturing process of a rubbing cloth forming a peripheral surface of a rubbing roller;
FIG. 3 is an enlarged perspective view of a main part of the cloth showing a state in which pile yarn is woven on ground yarn in a cloth manufacturing process;
FIG. 4 is an enlarged perspective view of a main part of the cloth showing a state in which a lubricant is applied to the cloth in a cloth manufacturing process;
FIG. 5 is an enlarged perspective view of a main part of a cloth showing an example of a conventional cloth manufacturing process.
[Explanation of symbols]
1 rubbing
11 ... ground yarn (weft)
20: Loving cloth
Claims (8)
上記滑剤は、脂肪酸アミド成分の含有が5%以下であることを特徴とするラビング装置。A rubbing device for a substrate in an electro-optical device that performs a rubbing process by bringing a rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth coated with a lubricant into contact with an alignment film formed on the substrate,
A rubbing device wherein the lubricant has a fatty acid amide component content of 5% or less.
上記滑剤は、脂肪酸アミド成分を含有しないことを特徴とするラビング装置。A rubbing device for a substrate in an electro-optical device that performs a rubbing process by bringing a rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth coated with a lubricant into contact with an alignment film formed on the substrate,
A rubbing device, wherein the lubricant does not contain a fatty acid amide component.
上記ラビングローラの周面を形成するラビングクロスは、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されており、この織り上げたクロスは、脂肪酸アミド成分の含有が5%以下であることを特徴とするラビング装置に用いるラビングローラ。A rubbing roller used in a rubbing device that performs a rubbing process on an alignment film formed on a substrate,
The rubbing cloth forming the peripheral surface of the rubbing roller is formed by weaving a pile yarn on ground yarn, and the woven cloth has a fatty acid amide component content of 5% or less. A rubbing roller used for the device.
上記ラビングローラの周面を形成するラビングクロスは、地糸にパイル糸を織り上げることによって構成されており、この織り上げたクロスには、脂肪酸アミド成分が含有されていないことを特徴とするラビング装置に用いるラビングローラ。A rubbing roller used in a rubbing device that performs a rubbing process on an alignment film formed on a substrate,
The rubbing cloth forming the peripheral surface of the rubbing roller is constituted by weaving pile yarn on ground yarn, and the woven cloth does not contain a fatty acid amide component. Rubbing roller used.
この織り上げられたクロスを規定の大きさにカットするシャーリング工程と、上記カットされたクロスに脱脂処理及び汚染除去クリーニング処理を施す精錬処理工程と、
上記クロスを乾燥する乾燥工程と、
上記乾燥したクロスにアミドレス滑剤を塗布する仕上樹脂加工工程と、
この仕上樹脂加工の終わったクロスの起毛処理を行う起毛工程と、の各工程を経て作製されたラビングクロスを用いて構成されたラビングローラ。An original yarn weaving process in which pile yarns are woven into a lattice-like ground yarn and woven.
A shearing step of cutting the woven cloth into a prescribed size, a refining processing step of performing a degreasing treatment and a decontamination cleaning treatment on the cut cloth,
A drying step of drying the cloth,
A finishing resin processing step of applying an amideless lubricant to the dried cloth,
A rubbing roller configured by using a rubbing cloth produced through each of the following steps: a raising step of raising the finished cloth.
脂肪酸アミド成分の含有が5%以下の滑剤が塗布されたラビングクロスをラビングローラに貼り付ける工程と、
前記ラビングローラを回転させ、前記ラビングクロスを基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施す工程と、
を有することを特徴とするラビング装置用いた製造方法。A manufacturing method using a rubbing device for performing a rubbing process by contacting an alignment film formed on a substrate,
Attaching a rubbing cloth coated with a lubricant having a fatty acid amide component content of 5% or less to a rubbing roller;
Rotating the rubbing roller, contacting the rubbing cloth with the alignment film formed on the substrate, and performing a rubbing process;
A manufacturing method using a rubbing device, comprising:
脂肪酸アミド成分の含有が5%以下の滑剤が塗布されたラビングクロスが貼り付けられたラビングローラを回転させ、前記ラビングクロスを基板上に形成された配向膜に当接させて、ラビング処理を施すことを特徴とする液晶装置の製造方法。A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: a step of performing a rubbing process by contacting an alignment film formed on a substrate,
A rubbing treatment is performed by rotating a rubbing roller to which a rubbing cloth coated with a lubricant having a fatty acid amide content of 5% or less is applied, and bringing the rubbing cloth into contact with an alignment film formed on a substrate. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising:
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