JP2004205145A - Substrate drying apparatus for plasma display panel - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレィ用基板(以下PDP用基板)の製造において、ガラス基板上に形成された電極、透明誘電体層、リブ、又は、蛍光体層等の膜を乾燥させるために使用するPDP用基板乾燥装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種のPDP用基板乾燥装置は、PDP用の前面基板上に形成された電極の膜を乾燥し、上記前面基板上に形成された透明誘電体層等の膜を乾燥させるようにしている。また、PDP用基板乾燥装置は、PDP用の背面基板上に形成されたリブの膜を乾燥し、上記背面基板上に形成された蛍光体層等の膜を乾燥させるようにしている。上記各乾燥工程のために、長尺な横置き型乾燥炉が、それぞれ配置されている。
【0003】
しかしながら、上記構造のものでは、平面的に複数の乾燥炉を横置きに並べているため、工場内における乾燥装置の占有面積がかなり大きくなるとともに、乾燥装置全体の表面積も、大きくなっている。その結果、乾燥装置から放散される熱量も全消費熱量のうち40〜50%を占める。
【0004】
そこで、工場内における乾燥装置の占有面積及び乾燥装置全体の表面積を減少させる目的で、横置き型乾燥炉の乾燥装置に代わり、各乾燥炉を上方向に何段にも積み重ねた、縦型の多段の乾燥室より構成される多段乾燥装置が提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2参照。)。
【0005】
このような多段乾燥装置によって、省スペ−ス化、省エネルギ−化を実現することができる。
【0006】
ところで、基板上に形成された膜を乾燥させるための乾燥室内の温度は、基板上に形成された膜の種類によって、変更する必要がある。例えば、基板上に形成されたリブを乾燥させるのに必要な乾燥室内の温度は、大略200℃前後であり、基板上に形成された蛍光体層を乾燥させるのに必要な温度は、大略100℃前後である。これらの異なる種類の基板上の膜を同時に乾燥処理すべく、何段にも積み重ねられた各乾燥室内は、それぞれ断熱材を挟んで仕切られており、それぞれ異なった温度に設定できるようになっている。具体的には、ある乾燥室内の温度が大略200℃前後に設定され、該乾燥室と断熱材を挟んで設けられる別の乾燥室内の温度が大略100℃前後に設定されることで、リブと蛍光体層を同時に乾燥処理できるようになっている。大略200℃前後に設定された高温の乾燥室内の熱が、大略100℃前後に設定された低温の乾燥室内へ移動しないように、50mm〜200mmの厚みを有した断熱材が、高温側の乾燥室と低温側の乾燥室との間に設けられている。
【0007】
【特許文献1】
特開平5−203364号公報
【特許文献2】
特開平5−203365号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかし上記の構造では、積み重ねられた乾燥室と乾燥室との間に設けられる断熱材の厚みの形成寸法が大きいため、多段の乾燥装置の全高が高くなり、装置の省スペース化が十分には図れないといった問題があった。
【0009】
従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、多段の乾燥装置の全高を低くして省スペース化を図り、乾燥室内の熱を効率良く断熱することができるPDP用基板乾燥装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
【0011】
本発明の第1態様によれば、搬出搬入口より、PDP用基板を乾燥室内に搬入し、上記基板に対して上記基板上方の給排気管から加熱ガスを給排気して上記基板を乾燥させる乾燥室が、上下に積み重ねられ、かつ上記上下の乾燥室での室内の温度が互いに異なるPDP用基板乾燥装置において、
上記上側の乾燥室の底部の外側に設けられ、上記底部と大略同じ面積を有する第1断熱材と、
上記下側の乾燥室の上部の外側に設けられ、上記上部と大略同じ面積を有する第2断熱部材と、
上記第1断熱材と上記第2断熱材とに挟まれるように設けられ、上記第1断熱材または上記断熱材と大略同じ面積を有する金属板と、
冷却媒体が循環する通路を有する管であって、上記金属板に接するように設けられた冷却管とを備えて、
上記いずれか一方の断熱材を伝わってきた熱を上記冷却管に移動させることにより、上記いずれか他方の断熱材に移動するのを低減させるようにしたことを特徴とするPDP用基板乾燥装置を提供する。
【0012】
本発明の第2態様によれば、上記冷却管は上記金属板の大略全面に渡り、蛇行して設けられた第1の態様に記載のPDP用基板冷却装置を提供する。
【0013】
本発明の第3態様によれば、上記金属板及び上記冷却管の材質はアルミニウムである第1または第2態様に記載のPDP用基板乾燥装置を提供する。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【0015】
本発明の第1の実施形態にかかるPDP用基板乾燥装置500は、図1に示すように、直方体形状の乾燥室502の下面全体に配置された基台501上において、図1の左半分に直方体形状の上下移載空間506内に配置された上下移載部300と、図1の右半分のほぼ中央部に配置された冷却部200と、その冷却部200の上に4段に積み重ねられた乾燥部100と、乾燥部100を動作制御している制御部600とを備えている。
【0016】
乾燥室502の外側で図1の左側下部に炉外排気口503と、その炉外排気口503の上方に配置された搬入・搬出口505と、上下移載空間506の天井に配置されたフィルターユニット504とを備えている。
【0017】
搬入・搬出口505は、PDP用基板乾燥装置500外においてガラス基板10上に被乾燥物の一例として電極又は透明誘電体層又はリブ又は蛍光体層等の膜が形成されたPDP用基板10を上記乾燥室502内に搬入する搬入口であり、かつ、PDP用基板乾燥装置500内で乾燥後のPDP用基板10をPDP用基板乾燥装置500外に搬出する搬出口である。
【0018】
上下移載部300は、PDP用基板10を出し入れする基板移載部310と、基板移載部310を昇降させる上下駆動部320を備えている。
【0019】
基板移載部310は、四角筒の形状しており、搬入・搬出口505と、4段の各乾燥部100と、冷却部200とに対してPDP用基板10を出し入れするように駆動する。
【0020】
上下駆動部320は、基板移載部310を、乾燥部100の4段それぞれに対向する4つの位置と、冷却部200かつ搬入・搬出口505に対向する位置とに適宜上昇下降して、位置決めして停止する。尚、冷却部200かつ搬入・搬出口505に対向する基板移載部310の位置を基準位置20とする。
【0021】
上下駆動部320は、上下方向に平行に配設された上下駆動軸321aと321bと、制御部600に接続されかつ上下駆動軸321aと321bとを同期して上下に移動させるように駆動する上下駆動モータ322aと322bとを備えている。よって、上下駆動モータ322aと322bとを駆動することにより基準位置20を含む上記5つの位置に位置決めして停止することができる。上下駆動軸321aと321bの各上端に基板移載部310の底面が取り付けられ、各下端はフリーとなっていて、上下駆動軸321aと321bとの上下軸の途中に上下駆動モータ322aと322bが乾燥室502に固定されている。2つの上下駆動モータ322aと322bとを、制御部600の制御の下に正逆同期回転させて上下駆動軸321aと321bとを昇降させることにより、基板移載部310を上記所定位置に位置決め停止可能としている。
【0022】
以下、図1において左側を正面側とし、右側を背面側とする。
【0023】
基板移載部310は、筐体315と、搬入・搬出口側受け渡し口312と、乾燥部側受け渡し口313と、ローラ311と、ヒータ314とを備えている。
【0024】
筐体315は、四角筒の形状でありかつ正面側と背面側に開口があり、正面側開口部に搬入・搬出口側受け渡し口312と、背面側開口部に乾燥部側受け渡し口313とを備えている。
【0025】
ローラ311は、筐体315内部において上記両側の受け渡し口312、313間の下方に等間隔で横方向に平行にかつPDP用基板10が入ってくる方向に直交して複数本、例えば4本設けられ、PDP用基板10を両側の上記受け渡し口312、313へそれぞれ移動させるように制御部600の制御の下で例えば、図示しないモータにより正逆同期回転可能となっている。尚、ローラ311の一方の端部に設けた図示しない歯車に図示しないチェーンベルトを渡し掛け、チェーンベルトに図示しないモータから動力を伝達することによって、一斉に駆動されて回転するようになっている。
【0026】
ヒータ314は、筐体315内部を一定温度に加熱して保持するために、筐体315内側上面のほぼ全体に設けられている。
【0027】
一方、上下移載空間506の天井にはフィルターユニット504が設けられ、フィルターユニット504を通った清浄なエアーが、上下移載空間506を通って、乾燥室502の下部に設けられた排気口503より排気されることで、乾燥室502内を清浄に保つようにしている。
【0028】
上記乾燥部100は、上下移載部300から送られてくるPDP用基板10上の電極又は透明誘電体層又はリブ又は蛍光体層等を、乾燥させるためにそれぞれ適した温度を維持するようにそれぞれ異なる温度、例えば大略120℃前後、大略160℃前後、大略100℃前後にそれぞれ温度管理された室であり、独立した各室は、断熱部700を介して重ねて配置されている。断熱部700の詳細は後述する。
【0029】
各乾燥部100は、筐体101と、正面扉102と、背面メンテナンス用扉103と、揺動ローラ104と、正面ヒータ105と、背面ヒータ106と、側面ヒータ107と、上部ヒータユニット110と、下ヒータユニット120とを備えている。
【0030】
筐体101は、四角筒の形状でありかつ正面側と背面側にそれぞれ正面側開口101aと背面側開口101bとを備えており、正面側開口101aに配置された正面扉102と、背面側開口101bに配置された背面メンテナンス用扉103とを備えている。
【0031】
正面扉102は基板移載部310よりPDP用基板10を出し入れするために、正面側開口101aの下端縁部に配置されたヒンジ161により開閉可能かつ密閉可能に正面側開口101aに配置されている。PDP用基板10を出し入れするときのみ正面扉102が開閉することで、乾燥部100内の熱量が逃げることを最小限に抑えることが可能となっている。
【0032】
正面ヒータ105は、正面扉102の内側に溶剤の結露が生じないように正面扉102の内側を一定温度、例えば、大略80℃前後に保持するために、正面扉102の内側のほぼ全体に設けられている。
【0033】
背面メンテナンス用扉103は、乾燥部100のメンテナンスを行うために、背面側開口101bに開閉可能かつ密閉可能に背面側開口101bに配置されている。
【0034】
背面ヒータ106は、背面扉103の内側に溶剤の結露が生じないように背面扉103の内側を一定温度例えば、大略80℃前後に保持するために、背面扉103の内側のほぼ全体に設けられている。
【0035】
側面ヒータ107も、筐体101内部の相対する両側面側に溶剤の結露が生じないように筐体101内部の両側面を一定温度に保持するために、筐体101内部の両側面のほぼ全体にそれぞれ設けらている。
【0036】
揺動ローラ104は、筐体101の内部において、上記両側の扉102、103の間の下方に等間隔で横方向に平行にかつPDP用基板10が入ってくる方向に直交して複数本、例えば6本設けられ、上下移載部300に対してPDP用基板10を出し入れしかつ筐体内で図1の左右に揺動させるように制御部600の制御の下で例えば図示しないモータにより正逆同期回転可能となっている。尚、ローラ311の一方の端部に設けた図示しない歯車に図示しないチェーンベルトを渡し掛け、チェーンベルトに図示しないモータから動力を伝達することによって、一斉に駆動されて回転するようになっている。また, PDP用基板10を左右に揺動するストロークは、ローラ104が停止した位置から例えば左に1/2ピッチと、右に1/2ピッチとの間の範囲とすることができる。ここで、ピッチとは、等間隔に配置された揺動ローラ104の配置ピッチを表す。
【0037】
上部ヒータユニット110は、膜乾燥用として筐体101内部を加熱して一定温度に保持するために、筐体101内側上面のほぼ全体に設けられており、給気管112と排気管113とを備えている。給気管112に形成された図示しない給気穴よりガスが乾燥部100内に供給されるようになっている。また、乾燥部100内の溶剤を含んだガスは、排気管113に形成された図示しない排気穴から排気管113を通って冷却部200の外へ排気されるようになっている。
【0038】
下ヒータユニット120は、膜乾燥用として筐体101内部を加熱して一定温度に保持するために、上部ヒータユニット110に相対するように揺動ローラ104の下方に設けられている。
【0039】
このような乾燥部100の構成は、4段における他の段の乾燥部100の構成と同一である。
【0040】
4段の乾燥部100の最下部に配置されている乾燥部100のさらに下方に断熱部700を介して配置された冷却部200は、筐体201と、正面扉202と、背面メンテナンス用扉203と、揺動ローラ204と、正面ヒ−タ205と、背面ヒータ236と、側面ヒータ207と、下部冷却プレート206と、上部ヒータ211とを備えている。
【0041】
筐体201は、四角筒の形状でありかつ正面側と背面側にそれぞれ正面側開口201aと背面側開口201bとを備えており、正面側開口201aに配置された正面扉202と、背面側開口201bに配置された背面メンテナンス用扉203とを備えている。
【0042】
正面扉202は基板移載部310よりPDP用基板10を出し入れするために、正面側開口201aの下端縁部に配置されたヒンジ261により開閉可能かつ密閉可能に正面側開口に配置されている。PDP用基板10を出し入れするときのみ正面扉202が開閉することで、冷却部200内の熱量が逃げることを最小限に抑えることが可能となる。正面ヒータ205は、正面扉202内側に溶剤の結露が生じないように正面扉202内側を一定温度、例えば、大略80℃前後に保持するために、正面扉202内側のほぼ全体に設けられている。
【0043】
背面メンテナンス用扉203は、冷却部200のメンテナンスを行うために、背面側開口201bの上端縁部に配置されたヒンジ262により開閉可能かつ密閉可能に背面側開口201bに配置される。背面ヒータ206は、背面扉203の内側に溶剤の結露が生じないように背面扉203の内側を一定温度例えば、大略80℃前後に保持するために、背面扉203の内側のほぼ全体に設けられている。
【0044】
揺動ローラ204は、筐体201の内部において、上記両側の扉202、203の間の下方に等間隔で横方向に平行にかつPDP用基板10が入ってくる方向に直交して複数本、例えば6本設けられ、上下移載部300に対してPDP用基板10を出し入れしかつ筐体201内で図1の左右に揺動させるように制御部600の制御の下で例えば図示しないモータにより正逆同期回転可能となっている。尚、ローラ311の一方の端部に設けた図示しない歯車に図示しないチェーンベルトを渡し掛け、チェーンベルトに図示しないモータから動力を伝達することによって、一斉に駆動されて回転するようになっている。また, PDP用基板10を左右に揺動するストロークは、ローラ204が停止した位置から例えば左に1/2ピッチと、右に1/2ピッチとの間の範囲とすることができる。ここで、ピッチとは、等間隔に配置された揺動ローラ204の配置ピッチを表す。
【0045】
上部ヒータ211は、筐体201内部の上面に溶剤の結露が生じないように筐体201内部の上面を一定温度、例えば、大略80℃前後に保持するために、筐体201内部の上面のほぼ全体に設けられて、上部ヒータ211に相対するように揺動ローラ204の下方に板状の下部冷却プレート206が、PDP用基板10を冷却するために設けられている。
【0046】
側面ヒータ207も、筐体201内部の相対する両側面側に溶剤の結露が生じないように筐体201内部の両側面を一定温度に保持するために、筐体201内部の両側面のほぼ全体にそれぞれ設けらている。ここで、冷却工程とは、PDP基板10を冷却部200内で冷却している間をいう。
【0047】
冷却プレート206には、冷却部200内にガスを給気するための図示しない給気穴が複数個形成されており、図示しない給気穴よりガスが冷却部200に給気されるようになっている。また、冷却部200内の溶剤を含んだガスは、図示しない排気管から冷却部200の外へ排気されるようになっている。
【0048】
乾燥部100及び冷却部200に供給されるガスの一例としては空気を用いることができ、被乾燥物に応じてO2の多く含まれた空気や、N2の多く含まれた不活性ガス等を用いる。
【0049】
上記被乾燥物とは、背面基板用のPDP用基板上10に形成された電極、透明誘電体層、リブ、又は、蛍光体層等の膜のことをいい、また前面基板用のPDP用基板上10に形成された電極または透明誘電体層の膜のことをいう。
【0050】
以上のように構成されたPDP用基板乾燥装置500の各乾燥部100、冷却部200、上下移載部300、排気部400、給気部420のそれぞれの動作は、制御部600に格納されている動作制御プログラムによって動作制御されている。
【0051】
なお、上記のように構成された、上記PDP用基板乾燥装置500は、以下の如く動作する。
【0052】
まず、乾燥対象のPDP用基板10が、搬入・搬出口505を通って、基板移載部310のローラ311の回転により基板移載部310に搬入される。PDP用基板10が搬入された基板移載部310、上下駆動モータ322a、322bの同期回転により、昇降し、所定の温度設定された乾燥部100に対向する位置で位置決め停止される。位置決め停止が完了すると、基板移載部310のローラ311及び、乾燥部100のローラ104の回転によって、PDP用基板10は乾燥部100内に搬入される。乾燥部100内に搬入されたPDP用基板10は、所定時間で乾燥が終了し、再び基板移載部310に移載され、冷却部200に同様に搬入される。冷却部200内で冷却されたPDP用基板10は、基板移載部310を通って、基板搬入・搬出口505から搬出される。
【0053】
一方、図2〜4に図示するように、4段に積み重ねられた乾燥部100において、各乾燥部100をそれぞれ仕切っている断熱部700及び最下段の乾燥部と冷却部200とを仕切っている断熱部700について説明する。
【0054】
断熱部700は、第1断熱材702と、金属板703と、冷却水管701と、第2断熱材704とを上から下にこの順で備えている。
【0055】
第1断熱材702は、筐体101の底面の面積とほぼ同じ面積を有する板状の部材であって、上側の筐体101の底部101eに設けられている。
【0056】
金属板703は、伝熱性の良い、例えばアルミニウムの材質であって、第1断熱材702の下面の面積とほぼ同じ面積を有する板状の部材であって、第1断熱材702の下面に設けられている。また、金属板703は、冷却水管701の表面に熱を移動させるのに十分な厚みを持っていれば良い。
【0057】
冷却水管701は、伝熱性の良い、例えばアルミニウム管であって、金属板703の下面に沿って、PDP用基板乾燥装置500の背面側と正面側とで複数個所折り返して、蛇行するように金属板703に接して設けられている。ここで、背面側は図2の下側で、正面側は図2の上側である。冷却水管701が金属板703の下面に接することで、金属板703の熱が冷却水管701に直接移動するようになっている。また、冷却水管701の一端は、PDP用基板乾燥装置500外に設けられているポンプ710に連通して接続され、他端はPDP用基板乾燥装置500外に設けられている冷却装置711に連通して接続されている。なお、ポンプ710と冷却装置711は連通して接続されている。よって、ポンプ710から送り出される冷却水は、冷却水管701の一端から冷却水管701内を通って、冷却水管701の他端から排出され、冷却装置711を通ってポンプ710に戻るようになっている。また、冷却水は冷却装置を通る際に、図示しない放熱板に形成された通路を通ることで、冷却されるようになっている。つまり、冷却水が冷却水管701と冷却装置711とポンプ710とを循環することで、冷却水管701内には常に冷却された冷却水が供給されるようになっている。
【0058】
第2断熱材704は、第1断熱材702の下面の面積とほぼ同じ面積を有する板状の部材であって、下側の筐体101の上部101fと金属板703との間で、冷却水管701の隙間に入るように設けられている。
【0059】
以上のように構成された断熱部700によって、例えば、図2の上側の乾燥部100内の温度が、下側の乾燥部100内の温度より高温に設定されている場合、上側の乾燥部100内の熱が筐体101の底部101eから第1断熱材702を通って金属板703の上面に移動する。金属板703の上面の熱は、金属板703内を通って金属板703に接して設けられている冷却水管701の表面に移動する。冷却水管701の表面の熱は、冷却水管701内の冷却水に移動し、冷却水が冷却水管701と冷却装置711とポンプ710との間を循環することで、冷却水の熱は、直ちに冷却水管701内から外部に移動するようになっている。また、冷却水管701の表面の熱は、断熱材704によって、下側の乾燥部100に移動しないようになっている。つまり、上側の乾燥部100内の熱が下側の乾燥部100内に移動しないようになっている。
【0060】
また、逆に、上側の乾燥部100内温度が、下側の乾燥部100内の温度より低温に設定されている場合、下側の乾燥部100内の熱は、第2断熱材704を通って、一部が冷却水管701の表面に移動し、残りが金属板703の下面に移動するようになっている。冷却水管701の表面の熱は、冷却水管701内の冷却水に移動し、冷却水の熱は、直ちに冷却水管701内から外部に移動するようになっている。金属板703の下面の熱は、金属板703内を通って冷却水管701の表面に移動し、冷却水管701の表面の熱は、冷却水管701内の冷却水に移動し、冷却水の熱は、直ちに冷却水管701内から外部に移動するようになっている。また、金属板703の上面の熱は、断熱材702によって、上側の乾燥部100に移動しないようになっている。つまり、下側の乾燥部100内の熱が上側の乾燥部100内に移動しないようになっている。
【0061】
このように、高温側の乾燥部100内から外部へ移動する熱は、熱伝導性の良い金属板703と熱伝導性の良い冷却水管701により効率的に冷却水管内の冷却水へ移動し、さらに該冷却水を冷却水管内とPDP用基板乾燥装置500外との間で循環させることで、冷却水管701内の冷却水の熱は、逐次、奪われるため、高温の乾燥部100内から低温の乾燥部100または冷却部200内への熱の移動を効率的に遮断することができる。また、金属板703、第1断熱材702及び第2断熱材704は、筐体の上部101fまたは底部101eとほぼ同じ大きさで設けられているため、高温側から低温側へ移動する熱が、冷却水管701の隙間を抜けていくことが無いようになっており、高温側から低温側への熱の移動を完全に遮断できる。
【0062】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。
【0063】
図4では、冷却水管701の上に金属板703を配置していたが、これに限らず図5に示すように、本実施形態の第1の変形例として、冷却水管701の下に配置しても良い。冷却水管701の下に金属板703を配置しても、冷却水管701の上に金属板703を配置した場合と同様に,高温側から低温側への熱の移動を効率的に、かつ完全に遮断することができる。
【0064】
上記実施形態によれば、室温が互いに異なる上下の乾燥部100間を隔てる第1断熱材702と第2断熱材704との間に、両断熱材702、704を仕切るように金属板703を配置するとともに、金属板703に冷却管701を接触させて設けるようにしている。従って、高温側の乾燥部100からいずれか一方の断熱材を通って金属板703に伝わった熱は、いずれか他方の断熱材に伝わるよりも、冷却管701の冷却媒体に伝わり、いずれか他方の断熱材に熱が移動するのを大幅に低減することができる。この結果、多段の乾燥装置の全高を低くして省スペース化を図り、乾燥室内の熱を効率良く断熱することができる。
【0065】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。本実施形態における第2の変形例である断熱部750を図6に示す。
【0066】
断熱部750は、冷却水管を1本ではなく、2本、即ち第1冷却水管705と第2冷却水管706に分割して設けたものである。図6の左側を第1側面側とし、図6の右側を第2側面側とし、また図6の上側はPDP用基板乾燥装置500の正面側を示し、図6の下側は背面側を示す。
【0067】
第1冷却水管705は、第1側面側とほぼ中央部付近との間で、複数個所折り返して蛇行し、金属板703の左側半分に接して設けられている。第2冷却水管706は、第1冷却水管705に対して対称に配置され、第2側面側とほぼ中央部付近との間で、複数個所折り返して蛇行し、金属板703の右側の半分に設けられている。
【0068】
第1冷却水管705には、第1ポンプ730と第1冷却装置731とが連通して接続されており、第2冷却水管706には、第2ポンプ740と第2冷却装置741とが連通して接続されている。
【0069】
このように、第1冷却水管705、706にそれぞれポンプ730、740及び冷却装置731、741を独立駆動可能に設けることで、より効果的に冷却水管705、706の冷却を行うことができ、高温側から低温側の熱の移動をさらに効果的かつ完全に遮断することができるようになる。
【0070】
なお、上記様々な実施形態のうちの任意の実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
【0071】
【発明の効果】
本発明によれば、室温が互いに異なる上下の乾燥部間を隔てる第1断熱材と第2断熱材との間に、両断熱材を仕切るように金属板を配置するとともに、金属板に冷却管を接触させて設けるようにしている。従って、高温側の乾燥部からいずれか一方の断熱材を通って金属板に伝わった熱は、いずれか他方の断熱材に伝わるよりも、冷却管の冷却媒体に伝わり、いずれか他方の断熱材に熱が移動するのを大幅に低減することができる。この結果、多段の乾燥装置の全高を低くして省スペース化を図り、乾燥室内の熱を効率良く断熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態にかかるPDP用基板乾燥装置の構成を表す一部断面を有する右側面図である。
【図2】本発明のPDP用基板乾燥装置の断熱部の構成を示す図1のA−A矢視図である。
【図3】本発明のPDP用基板乾燥装置の断熱部の構成を示す図1における拡大図である。
【図4】本発明のPDP用基板乾燥装置の断熱部の構成を示す図1のB−B矢視図である。
【図5】本発明の第1の変形例における断熱部の構成を示す図1のB−B矢視図である。
【図6】本発明の第2の変形例における断熱部の構成を示す図1のB−B矢視図である。
【符号の説明】
10…PDP用基板、100…乾燥部、101…筐体、101a…正面側開口、101e…底部、101f…上部、111…上ヒータ、112…給気管、113…排気管、701…冷却水管、702…第1断熱材、703…金属板、704…第2断熱材。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a PDP used for drying a film such as an electrode, a transparent dielectric layer, a rib, or a phosphor layer formed on a glass substrate in the manufacture of a plasma display substrate (hereinafter, a PDP substrate). The present invention relates to an apparatus for drying substrates.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, this type of PDP substrate drying apparatus dries an electrode film formed on a PDP front substrate and dries a film such as a transparent dielectric layer formed on the front substrate. I have. Further, the PDP substrate drying apparatus dries a rib film formed on the back substrate for PDP, and dries a film such as a phosphor layer formed on the back substrate. For each of the drying steps, a long horizontal drying oven is provided.
[0003]
However, in the above-described structure, since a plurality of drying furnaces are horizontally arranged in a plane, the area occupied by the drying apparatus in the factory becomes considerably large, and the surface area of the entire drying apparatus becomes large. As a result, the amount of heat dissipated from the drying device also accounts for 40 to 50% of the total consumed heat.
[0004]
Therefore, in order to reduce the occupied area of the drying device in the factory and the surface area of the entire drying device, instead of the drying device of the horizontal drying furnace, each drying furnace is stacked in multiple stages in the vertical direction, and the vertical type is used. A multi-stage drying device including a multi-stage drying chamber has been proposed (for example, see
[0005]
With such a multi-stage drying apparatus, space saving and energy saving can be realized.
[0006]
By the way, the temperature in the drying chamber for drying the film formed on the substrate needs to be changed depending on the type of the film formed on the substrate. For example, the temperature in the drying chamber required to dry the ribs formed on the substrate is approximately 200 ° C., and the temperature required to dry the phosphor layer formed on the substrate is approximately 100 ° C. It is around ° C. In order to simultaneously dry the films on these different types of substrates, each of the drying chambers stacked in multiple layers is separated by a heat insulating material so that different temperatures can be set. I have. Specifically, the temperature in a certain drying chamber is set to about 200 ° C., and the temperature in another drying chamber provided with the heat insulating material and the drying chamber is set to about 100 ° C. The phosphor layer can be dried at the same time. A heat insulating material having a thickness of 50 mm to 200 mm is used to dry the high temperature side so that heat in the high temperature drying chamber set at about 200 ° C. does not move into the low temperature drying chamber set at about 100 ° C. It is provided between the room and the drying room on the low temperature side.
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-5-203364 [Patent Document 2]
JP-A-5-203365
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above structure, since the thickness of the heat insulating material provided between the stacked drying chambers and the drying chamber is large, the overall height of the multi-stage drying apparatus is increased, and the space saving of the apparatus is not sufficiently achieved. There was a problem that it could not be achieved.
[0009]
Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to reduce the overall height of a multi-stage drying apparatus to save space and efficiently insulate heat in a drying chamber. It is to provide a device.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows.
[0011]
According to the first aspect of the present invention, the PDP substrate is carried into the drying chamber from the carry-in / out entrance, and the substrate is dried by supplying / exhausting the heating gas to / from the substrate through the supply / exhaust pipe above the substrate. In a PDP substrate drying apparatus, drying chambers are stacked one above the other, and the indoor temperatures in the upper and lower drying chambers are different from each other.
A first heat insulating material provided outside the bottom of the upper drying chamber and having substantially the same area as the bottom;
A second heat insulating member provided outside the upper part of the lower drying chamber and having substantially the same area as the upper part;
A metal plate provided so as to be sandwiched between the first heat insulating material and the second heat insulating material, and having a substantially same area as the first heat insulating material or the heat insulating material;
A pipe having a passage through which a cooling medium circulates, and a cooling pipe provided so as to be in contact with the metal plate,
By transferring the heat transmitted through one of the heat insulating materials to the cooling pipe, it is possible to reduce the transfer to the one of the other heat insulating materials. provide.
[0012]
According to a second aspect of the present invention, there is provided the PDP substrate cooling device according to the first aspect, wherein the cooling pipe is provided to meander over substantially the entire surface of the metal plate.
[0013]
According to a third aspect of the present invention, there is provided the PDP substrate drying apparatus according to the first or second aspect, wherein the material of the metal plate and the cooling pipe is aluminum.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0015]
As shown in FIG. 1, the PDP
[0016]
Outside the
[0017]
The loading /
[0018]
The
[0019]
The
[0020]
The
[0021]
The
[0022]
Hereinafter, in FIG. 1, the left side is the front side, and the right side is the back side.
[0023]
The
[0024]
The
[0025]
A plurality of rollers, for example, four
[0026]
The
[0027]
On the other hand, a
[0028]
The drying
[0029]
Each drying
[0030]
The
[0031]
The
[0032]
The
[0033]
The
[0034]
The
[0035]
The side heaters 107 are also provided on substantially both sides of the inside of the
[0036]
A plurality of oscillating
[0037]
The upper heater unit 110 is provided on almost the entire upper surface inside the
[0038]
The lower heater unit 120 is provided below the
[0039]
The configuration of such a
[0040]
The
[0041]
The
[0042]
The
[0043]
The
[0044]
A plurality of oscillating
[0045]
The
[0046]
The
[0047]
The
[0048]
As an example of the gas supplied to the
[0049]
The object to be dried refers to a film such as an electrode, a transparent dielectric layer, a rib, or a phosphor layer formed on the
[0050]
The respective operations of the
[0051]
The PDP
[0052]
First, the
[0053]
On the other hand, as illustrated in FIGS. 2 to 4, in the drying
[0054]
The
[0055]
The first
[0056]
The
[0057]
The cooling
[0058]
The second
[0059]
For example, when the temperature in the
[0060]
Conversely, when the temperature in the
[0061]
In this way, the heat that moves from the inside of the
[0062]
Note that the present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented in other various modes.
[0063]
In FIG. 4, the
[0064]
According to the above embodiment, the
[0065]
Note that the present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented in other various modes. FIG. 6 shows a
[0066]
The
[0067]
The first
[0068]
The
[0069]
As described above, by providing the
[0070]
Note that by appropriately combining any of the various embodiments described above, the effects of the respective embodiments can be achieved.
[0071]
【The invention's effect】
According to the present invention, a metal plate is arranged between a first heat insulating material and a second heat insulating material that separates upper and lower drying units having different room temperatures so as to partition both heat insulating materials, and a cooling pipe is provided on the metal plate. Are provided in contact with each other. Therefore, the heat transmitted from the drying section on the high-temperature side to the metal plate through one of the heat insulating materials is transmitted to the cooling medium of the cooling pipe rather than to one of the other heat insulating materials, and the heat is transmitted to the other heat insulating material. Heat transfer can be greatly reduced. As a result, it is possible to reduce the overall height of the multi-stage drying device to save space and efficiently insulate heat in the drying chamber.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a right side view having a partial cross section showing a configuration of a PDP substrate drying apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view taken along the line AA of FIG. 1 showing a configuration of a heat insulating portion of the substrate drying apparatus for a PDP of the present invention.
FIG. 3 is an enlarged view of FIG. 1 showing a configuration of a heat insulating portion of the PDP substrate drying apparatus of the present invention.
FIG. 4 is a view taken in the direction of arrows BB in FIG. 1 showing a configuration of a heat insulating portion of the substrate drying apparatus for a PDP of the present invention.
FIG. 5 is a view taken in the direction of arrows BB in FIG. 1 showing a configuration of a heat insulating portion in a first modified example of the present invention.
FIG. 6 is a view taken along the line BB of FIG. 1 showing a configuration of a heat insulating portion in a second modified example of the present invention.
[Explanation of symbols]
Reference Signs List 10: PDP substrate, 100: drying unit, 101: housing, 101a: front opening, 101e: bottom, 101f: top, 111: upper heater, 112: air supply pipe, 113: exhaust pipe, 701: cooling water pipe, 702: first heat insulating material, 703: metal plate, 704: second heat insulating material.
Claims (3)
上記上側の乾燥室の底部の外側に設けられ、上記底部と大略同じ面積を有する第1断熱材と、
上記下側の乾燥室の上部の外側に設けられ、上記上部と大略同じ面積を有する第2断熱部材と、
上記第1断熱材と上記第2断熱材とに挟まれるように設けられ、上記第1断熱材または上記断熱材と大略同じ面積を有する金属板と、
冷却媒体が循環する通路を有する管であって、上記金属板に接するように設けられた冷却管とを備えて、
上記いずれか一方の断熱材を伝わってきた熱を上記冷却管に移動させることにより、上記いずれか他方の断熱材に移動するのを低減させるようにしたことを特徴とするPDP用基板乾燥装置。A drying chamber for loading the PDP substrate into the drying chamber from the loading / unloading entrance and supplying and exhausting heating gas to and from the supply / exhaust pipe above the substrate to dry the substrate is stacked vertically. In the PDP substrate drying apparatus, in which the temperatures in the upper and lower drying chambers are different from each other,
A first heat insulating material provided outside the bottom of the upper drying chamber and having substantially the same area as the bottom;
A second heat insulating member provided outside the upper part of the lower drying chamber and having substantially the same area as the upper part;
A metal plate provided so as to be sandwiched between the first heat insulating material and the second heat insulating material, and having a substantially same area as the first heat insulating material or the heat insulating material;
A pipe having a passage through which a cooling medium circulates, and a cooling pipe provided so as to be in contact with the metal plate,
A substrate drying apparatus for a PDP, wherein the heat transmitted through one of the heat insulating materials is moved to the cooling pipe so that the heat is prevented from moving to the other heat insulating material.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002376436A JP2004205145A (en) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | Substrate drying apparatus for plasma display panel |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100765127B1 (en) | 2006-12-06 | 2007-10-12 | 오성엘에스티(주) | Apparatus for drying substrate |
KR100848389B1 (en) * | 2007-07-03 | 2008-07-24 | 윤세봉 | Treadmill |
-
2002
- 2002-12-26 JP JP2002376436A patent/JP2004205145A/en active Pending
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KR100848389B1 (en) * | 2007-07-03 | 2008-07-24 | 윤세봉 | Treadmill |
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