JP2004181054A - 浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌方法 - Google Patents

Abstract

【課題】熱効率良く、しかも作業性良く、浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌を行うことができるようにすること。
【解決手段】温水加熱殺菌装置１０では、既設の給湯設備から給湯経路１３を介して温水槽ＷＴに温水を導入し、温水を浴水還管４に流して当該浴水還管４を加熱する。温水流速を低速にして、浴水還管４の残留水が温水と混合することを抑制し、効率良く浴水還管４を加熱する。次に、温水槽内蔵の電気ヒータＤＨにより、温水を、加熱殺菌に必要な温度に加熱しながら、浴水還管４を経由する温水循環経路１４を循環させ、浴水還管４を温水加熱殺菌する。温水循環経路１４を構成するための下流側温水往管２５と浴槽吸込口３との接続部分には、低い圧力しか作用しないように、温水循環を行うことにより、当該接続部分からの温水の漏洩を防止でき、効率の良い殺菌動作を実現できる。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、浴水循環ろ過システムにおける浴槽からろ過器に浴水を還流させるための浴水還管に温水を通してレジオネラ菌などを死滅させるのに適した温水加熱殺菌方法および温水加熱殺菌装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および解決しようとする課題】
従来の循環風呂などに付設されている浴水循環ろ過システムでは、塩素、オゾン、紫外線などによる殺菌効果を利用した殺菌装置が採用されている。殺菌装置は、ろ過装置への悪影響、あるいは設置の困難性などの観点から、浴水還流経路におけるろ過装置の下流側の浴水往管に介挿されている。このため、浴水往管においてはレジオネラ菌発生の問題は生じない。しかるに、浴水還管とろ過装置は菌対策が何も施されていないので、レジオネラ菌発生などの問題がある。
【０００３】
ここで、ろ過装置は一般に分解洗浄が可能であるが、浴水還管の殆どは浴水循環運転の停止時には浴水が滞留する構造となっており、当該浴水還管内での菌増殖の大きな要因となっている。
【０００４】
レジオネラ菌に対しては、温水加熱殺菌が有効であることは良く知られているが、これを浴水循環ろ過システムに適用した場合、浴槽を含めた温水加熱殺菌では必要熱量が大きすぎ、実用化が困難である。
【０００５】
ここで、浴水還管内のレジオネラ菌を温水により加熱殺菌するためには、浴水還管の管内表面温度を殺菌温度６０℃とし、その状態を１０分以上保持しなければならない。温水は熱容量が大きく熱伝達特性が良い。よって、例えば、管長が３０ｍあり、管内の汚れ熱抵抗が０．００２ｍ^２ｈ℃／ｋｃａｌもある裸管であっても、６３℃未満の温水を流速０．１ｍ／ｓで流せば、浴水還管の管内表面温度を６０℃以上とすることができる。温水加熱殺菌前の浴水還管の温度は周囲温度から４２℃前後の間にあり、これを所定の殺菌温度まで上昇して維持する必要がある。このために必要な熱量は次の三種類である。
【０００６】
（１）昇温後の定常放熱損失Ｑｓ
（２）浴水還管内の水及び管材を所定の温度まで上昇させるために要する熱量（初期熱量）Ｑｐ
（３）昇温中に生ずる非定常放熱損失Ｑｐ’
【０００７】
これらの熱量はいずれも浴水還管の施工状態が同一であれば管長に比例する。定常放熱損失Ｑｓは小さい値であり、通常の保温施工があれば循環ろ過で使用されるポンプ出力の２０％以下である。初期熱量Ｑｐは、浴水還管内の水と管材の熱容量と温度差に比例し時間に反比例するものであり、定常放熱損失Ｑｓに比較して非常に大きな値である。非定常放熱損失Ｑｐ’は、昇温時間が短ければ無視しうる値である。
【０００８】
温水加熱殺菌システムを構築するにあたり、定常放熱損失Ｑｓを基準にすれば昇温時間が長くなり過ぎ、初期熱量Ｑｐを基準にすれば熱源が過大になる。したがって、単に、既設浴槽に温水加熱殺菌システムを適用しても、熱効率良く温水加熱殺菌を行うことが困難である。
【０００９】
本発明の課題は、このような点に鑑みて、作業性良く、しかも、熱効率良く、浴水循環ろ過システムの浴水還管に対して温水加熱殺菌を行うことのできる温水加熱殺菌方法および温水加熱殺菌装置を提案することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明における浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌方法は、
浴水循環ろ過システムにおける浴槽からろ過器に浴水を還流させるための浴水還管に対して、その浴槽側の上流端から温水を流し、
この浴水還管の下流端から排出される温水の温度が予め定めた第１の温度以上になると、当該浴水還管の下流端から排出された温水を上流端に戻して、当該浴水還管を介しての温水循環を開始し、
温水温度を予め定めた第２の温度に保持しながら、この温水循環を所定時間継続して、前記浴水還管を温水加熱殺菌することを特徴としている。
【００１１】
ここで、前記浴水還管の上流端から温水を流す工程では、浴槽に温水を供給するための給湯設備からの温水を前記浴水還管に供給することができる。
【００１２】
本発明では、例えば、浴水設備に併設されている給湯設備を利用して、その給湯ボイラーから湯を浴水還管に流し、その昇温を行う。給湯ボイラーの出湯温度は６０℃以上あるものが普通であり、出湯温度が充分高ければ、温水を浴水還管に流すだけで殺菌温度以上に管内温度を上げることができる。また、出湯温度が低い場合でも、循環温水を加熱して殺菌温度に近い定常状態を得るための時間が短時間で済む。
【００１３】
さらに、浴水還管のみを経由させて温水を循環させているので、温水循環量は、浴水循環ろ過システムにおける浴水循環量の１／１０以下の温水循環量で済む。また、既設の給湯設備を利用して所定温度の温水を導入することにより、初期熱量Ｑｐを確保できるので、浴水循環ろ過システムに用いられているポンプ出力以下の容量の電気ヒータを、循環温水を加熱するための熱源として用いることができる。よって、効率良く、浴水還管の温水加熱殺菌を行うことができる。
【００１４】
これに加えて、殺菌温度まで上昇した温水を循環させるようにしているので、浴水還管を介して温水を垂れ流す場合に比べて、使用温水量を約５％以下に抑制できる。
【００１５】
次に、本発明では、前記浴水還管の上流端と前記浴槽の浴水排出口との接続部分に作用する水のゲージ圧力が、−０．０３〜０．０１ＭＰａの範囲内の値となるように、前記温水加熱殺菌運転を行うことを特徴としている。
【００１６】
本発明の温水加熱殺菌方法は、既設の浴水循環ろ過システムの浴水還管のレジオネラ菌対策を主要な目的としている。前述のように、この場合の一番の問題点は、温水加熱殺菌するための浴水還管への温水出入り口ノズルの取り付けである。浴水還管の下流端側の温水出口ノズルは、浴水循環ろ過システムのろ過装置付近の配管を加工するか、ろ過装置の計器口、空気抜口、排水口などを利用すればよい。しかるに、浴水還管の上流端の温水入口ノズルは、浴槽の浴水還管吸込部の目皿、管端に接続しなければならない。
【００１７】
上記のように、本発明の方法では、浴水還管の上流端と前記浴槽の浴水排出口との接続部分に作用する水のゲージ圧力が、−０．０３〜０．０１ＭＰａの範囲内の値となるように、温水加熱殺菌運転を行っている。例えば、循環温水を加熱するための電気ヒータが配置されている温水槽を開放型とし、温水循環路には循環ポンプのヘッド圧しか加えないようにすることにより、浴水還管吸込部での接続部分に作用する圧力を、昇温通湯時において０．０１ＭＰａ以下にでき、また、循環運転時には−０．０３ＭＰａ以内の負圧にすることができる。この結果、強固な接合を形成しなくても、循環温水の漏洩を回避でき、温水加熱殺菌を行うことができ、また、空洞現象の発生も回避できる。このように、接続部分が簡単な構造でよいので、温水加熱殺菌時における作業性が改善される。
【００１８】
さらには、既設の浴水設備であっても、浴水還管との接続部分を可撓継ぎ手などを用いて簡単に接続することが可能になるので、一般的な規模の浴水循環ろ過システムの場合では全作業工程を３０分前後で行うことが可能になり、また、浴水還管内の後処理も不要になる。
【００１９】
これに加えて、温水温度を低くでき、浴水還管内に高圧をかけないので、浴水還管が塩ビ管の場合にも使用できる。
【００２０】
次に、本発明の方法は、前記浴水還管の上流端から温水を流す工程において、温水の流速を０．１５ｍ／ｓ以下に設定することを特徴としている。
【００２１】
昇温時に浴水還管内の温水流速を０．１５ｍ／ｓ以下の低速としているので、導入した温水が浴水還管残留水と混合することが少なく、例えば管長が３０ｍあっても昇温を１０分以内の短時間で行うことができる。よって、効率良く温水加熱殺菌を行うことができる。
【００２２】
一方、本発明は、上記の温水加熱殺菌方法により、浴水還管の温水加熱殺菌を行う浴水循環ろ過システムの温水還管の温水加熱殺菌装置であって、
電気ヒータが内蔵された開放型の温水槽と、
前記温水槽に外部から温水を導入するための温水導入手段と、
前記温水槽の温水を、前記浴水還管を介して循環させる温水循環手段と、
前記浴水還流路の下流端から排出される温水の温度が前記第１の温度未満の場合には、前記温水循環手段によって前記温水槽に戻る温水を、当該温水槽に戻すことなく外部に排出する温水排出手段と、
前記温水槽の温水温度を検知する第１の温度検出手段と、
前記温水循環手段によって前記温水槽に戻る温水温度を検出する第２の温度検出手段と、
前記温水槽の水位を検出する水位検出手段と、
前記水位検出手段の検出結果に基づき前記温水導入手段を駆動して前記温水槽の水位を制御し、前記第１および第２の温度検出手段による検出結果に基づき、前記電気ヒータ、前記温水循環手段および前記温水排出手段の駆動を制御する制御手段とを有していることを特徴としている。
【００２３】
ここで、前記温水循環手段は、前記温水槽と前記浴水還管との間に接続される温水往管を有しており、
この温水往管は、前記温水槽の側に接続された上流側温水往管と、前記浴水還管の側に接続される下流側温水往管とを備えており、
前記下流側温水往管の両端は、前記上流側温水往管の下流端および前記浴水還管の上端が接続されている浴槽底面に開いている浴水吸込口に対して、それぞれ、着脱自在の状態で接続可能であることを特徴としている。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下に、図面を参照して、本発明を適用した浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌装置を説明する。
【００２５】
図１は、本発明による温水加熱殺菌装置を備えた浴水循環ろ過システムを示す全体構成図である。この図に示す浴水循環ろ過システム１は、浴槽２の底面に開いた浴水吸込口３に上流端４ａが接続されている浴水還管４と、この浴水還管４を介して還流する浴水から塵を除去する除塵器５と、除塵器５を経由した浴水をろ過するためのろ過器６と、ろ過後の浴水を所定温度に加熱するための給湯設備の熱交換器７と、熱交換後の浴水を、再び、浴槽２に循環させるための浴水往管８とを備えている。浴水往管８の下流端８ａは、浴槽２の側面上端に形成されている吐出口９に接続されている。
【００２６】
この浴水循環ろ過システム１に付設されている温水加熱殺菌装置１０は、当該システム１における浴水還管４を温水加熱殺菌するためのものであり、既設の浴水循環ろ過システム１に後付け可能なものである。この温水加熱殺菌装置１０は、電気ヒータＤＨが内蔵された開放型の温水槽ＷＴと、この温水槽ＷＴにシステム１の給湯設備の側から温水を導入するための給湯経路１３と、温水槽ＷＴの温水を、浴水還管４を経由させて循環させるための温水循環経路１４と、この温水循環経路１４に付設されている温水排出経路１５と、温水槽ＷＴに貯留している温水の水位を検出する水位センサ１６と、温水加熱殺菌装置１０による動作を制御する制御盤ＣＢとを有している。また、温水槽ＷＴ内の温水温度を検出するための温度検知器ＴＣ１と、温水循環経路１４を経由して温水槽ＷＴに戻る温水温度を検出するための温度検知器ＴＣ２を有している。
【００２７】
給湯経路１３は、温水槽ＷＴの上端部分に連通している給湯管２１と、ここに介挿されている電動式の開閉弁（電動二方ボール弁）Ｍ１を備えている。
【００２８】
温水循環経路１４は、温水槽ＷＴのほぼ中ほどの高さ位置の所に接続された温水送出用の内部配管２３と、この内部配管２３の下流端２３ａに接続された上流側温水往管２４と、この上流側温水往管２４の下流端２４ｂおよび浴槽２の浴水吸引口３の間に接続可能な下流側温水往管２５と、上記のシステム１の浴水還管４と、この浴水還管４の下流端側の部分に接続されている温水還管２６と、この温水還管２６の下流端２６ｂおよび温水槽ＷＴの間に接続されている温水還流用の内部配管２７とにより構成されている。
【００２９】
温水送出用の内部配管２３には、その上流側から、送湯ポンプＰ１、流量調整弁（玉形弁）２８、電動式の送湯弁（電動二方ボール弁）Ｍ２が介挿されている。また、温水還流用の内部配管２７には、その上流側から、電動式の排水・循環切り替え弁（電動三方ボール弁）Ｍ３および循環ポンプＰ２が介挿されている。また、循環切り替え弁Ｍ３の下流側の位置において、温度検知器ＴＣ２によって、温水温度が検知されるようになっている。
【００３０】
温水排出経路１５は、温水槽ＷＴより下側に配置されている排水槽ＤＴと、上記の排水・循環切り替え弁Ｍ３を介して温水を排水槽ＤＴに導くための排水管２９を備えている。
【００３１】
次に、温水槽ＷＴに設置されている水位センサ１６は、４本の電極ＥＲ（１）、（２）、（３）、（Ｅ）を備えており、電極ＥＲ（１）は給湯弁Ｍ１を閉鎖する水位を検出するためのものであり、電極ＥＲ（２）は給湯弁Ｍ１を開くための水位を検出するためのものであり、電極ＥＲ（３）は温水加熱運転を開示するための水位を検出するためのものである。
【００３２】
次に、図２は、上記構成の温水加熱殺菌装置１０の温水加熱殺菌動作を示すフローチャートであり、図３、４、５は各運転状態を示す説明図である。
【００３３】
まず、運転に先立って、下流側温水往管２５を取り付けて、その上流端を上流側温水往管２４に接続し、その下流端を浴槽２の吸引口３に接続する。しかる後に、制御盤ＣＢに運転信号を入力する（図２の時点Ｔ１）。これにより、運転が開始され、給湯弁Ｍ１が開き、温水槽ＷＴに温水が供給される。図３はこの状態を示してある。
【００３４】
温水槽ＷＴの温水の湯面レベルが水位センサ１６の電極ＥＲ（３）によって検出されるレベルに達すると（時点Ｔ２）、送湯弁Ｍ２を開けると共に送湯ポンプＰ１の駆動を開始する。この結果、図４に示すように、温水槽ＷＴに溜まった温水が、内部配管２３、上流側温水往管２４、下流側温水往管２５を経由して、浴水還管４に流れ込む。浴水還管４に流れ込んだ温水は、その下流端から温水還管２６および内部配管２７を経由して、排水・循環切り替え弁Ｍ３に到る。この時点では、弁Ｍ３は排水側管２９の側に切り替わっているので、温水は排水管２９および排水槽ＤＴを経由して外部に排出される。なお、温水槽ＷＴの湯面レベルは、水位センサ１６の電極ＷＥＲ（１）、ＥＲ（２）によって規定されるレベル内となるように、給湯弁Ｍ１が開閉制御される。
【００３５】
ここで、浴水還管４を経由して流れる温水の流速は、０．１ｍ／ｓ前後あるいはそれ以下の低速となるように制御される。この結果、浴水還管４の残留水が温水と混合することが少ない状態で、残留水が押し出されて外部に排出される。よって、浴水還管４の昇温を迅速に効率良く行うことができる。
【００３６】
次に、浴水還管４から排出される温水温度が予め設定されている温度、例えば、６０℃を超えたことが温度検知器ＴＣ２によって検知されると（図２の時点Ｔ３）、給湯弁Ｍ１を閉じて給湯動作を終了し、温水循環運転に移行する。すなわち、循環ポンプＰ２を駆動すると共に、温水還流用の内部配管２７に介挿されている排水・循環切り替え弁Ｍ３を切り替えて、温水を当該内部配管２７を介して温水槽ＷＴに還流させるようにする。この結果、温水槽ＷＴから浴水還管４を経由して再び温水槽ＷＴに戻る温水循環運転が開始する。これと同時に、温水槽ＷＴの電気ヒータＤＨをオンにして、温水槽内の温水の加熱を開始する。
【００３７】
ここで、温水槽ＷＴとして開放型のものを使用しており、浴水還管４には、ポンプのヘッド圧しか作用しない。浴水還管吸込口３と下流側温水往管２５との接続部分に作用する圧力を、昇温通湯時（図２の時点Ｔ２〜Ｔ３間）において例えば０．０１ＭＰａ以下に制御し、循環運転時（図２の時点Ｔ３〜Ｔ５間）において例えば−０．０３ＭＰａ以内の負圧に制御できる。よって、強固な接合をしなくとも、温水が漏洩するおそれがない。
【００３８】
また、浴水還管４の昇温に、既設の給湯設備を利用しているので、温水加熱殺菌装置１０の熱源としては、循環ろ過ポンプ出力以下の容量の電気ヒータＤＨを用いればよい。よって、熱効率良く浴水還管４の温水加熱殺菌を行うことができる。
【００３９】
この後は、浴水還管４を経由して温水槽ＷＴに戻る温水温度が、浴水還管４を温水加熱殺菌するために充分な温度、例えば、６２℃に達したことが温度検知器ＴＣ２によって検知された後は（図２の時点Ｔ４）、温水温度が６２℃に保持されるように、電気ヒータＤＨをオンオフ制御する。この温度状態による温水循環運転を所定時間継続した後に、運転を停止する（図２の時点Ｔ５）。以上により、浴水還管４の温水加熱殺菌運転が終了する。
【００４０】
【実施例】
次に、上記構成の温水加熱殺菌装置１０を、浴槽容積５ｍ^３、往復配管長４０ｍの浴水循環ろ過システムに適用した場合の実施例を示す。
【００４１】
システム１の浴水還管４の管長、管種、管径はそれぞれ２０ｍ、耐熱塩ビ管、５０Ａであり、内容積は０．０４１ｍ^３、相当管長は３０ｍである。また、循環ろ過ポンプは４０×３２Ａ、１．５ｋＷであり、循環量は１５ｍ^３／ｈ、全揚程は１９ｍである。
【００４２】
温水加熱殺菌装置１０は次の通りである。
【００４３】

また、温度設定は、給湯温度が６５℃に対して、温度検知器ＴＣ１による温水槽の温度設定を電気ヒータの比例制御により６３℃とし、温度検知器ＴＣ２による通湯・循環切り替え設定温度を６０℃とし、殺菌温度設定を６２℃とした。
【００４４】
この場合において、給湯開始から温水加熱殺菌運転に要する時間（図２の時点Ｔ１からＴ２まで）が０．５分であり、通湯・循環切り替え設定温度（６０℃）に要する時間（時点Ｔ２から時点Ｔ３まで）が７分であり、殺菌温度設定（６２℃）に要する時間（時点Ｔ３から時点Ｔ４まで）が２．５分であり、温水加熱殺菌運転延長時間（時点Ｔ４からＴ５まで）が１２分の、合計２２分で温水加熱殺菌運転を終了することができた。また、この時に、浴水還管吸込部に加わる圧力は、通湯時では０．００６ＭＰａ（ゲージ圧）であり、循環時では−０．０２３ＭＰａであった。
【００４５】
なお、本実施例では、温水加熱殺菌装置の排水開放部は、浴水還管吸込部より０．６ｍ高い位置であったが、この高さ管径は上を正として１ｍ〜−３ｍ前後の許容範囲が考えられる。高さがマイナスとは、ろ過装置が浴槽の下に設置されている場合であり、このときは、送湯ポンプ一台だけで、通湯、循環運転すればよい。また、浴水還管吸込部の接合が簡単かつ強固に行える場合には、温水槽を密閉型とすることも可能である。
【００４６】
（接続金具の例）
次に、図６（ａ）には、既設の浴槽の底面に形成されている吸込口に、図１に示す下流側温水往管２５を接続するために用いる接続金具の例を示してある。この形状の接続金具３０は、図６（ｂ）に示すように、浴槽吸込口に接続されている既設鋼管に対しては、ステンレススチール製の受け金具３１を取り付けることにより接続可能である。また、図６（ｃ）のように浴槽吸込口に角型底部吸込金具３２が用いられている場合には、当該接続金具３０をそのまま接続可能である。さらに、図６（ｄ）に示すように、耐熱塩ビ管３３が接続されている場合には、その先端開口部に耐熱塩ビ製の台座３４を接着し、この台座３４にステンレススチール製の受け金具３５を取り付けて、接続金具３０を接続可能にする。
【００４７】
図７には、浴槽吸込口が丸型底部吸込金物３７の場合に用いることのできる接続金具３８を示してある。
【００４８】
（その他の実施の形態）
温水加熱殺菌の循環加熱の熱源としては、電気ヒータの代わりに、蒸気ボイラーがある場合にはその水蒸気、ドレンを使用することができる。
【００４９】
また、新設の浴水設備の場合には、浴槽の浴水吸込口、吐出口を予め加工して配管しておくことにより、全自動で温水加熱殺菌を行うことができる。
【００５０】
図８には、浴槽吸込口および浴槽吐出口に用いるのに適した共用タイプのノズル例と、これを用いた浴水、温水の配管状態とを示してある。ノズル４０は、外側円筒管４１と、内側円筒管４２と、この内側円筒管４２における外側円筒管４１の下側から突出している部分の側面に形成した浴水出入口４３と、外側円筒管４１の上端開口部４４を開閉可能な弁４５と、この弁４４を開閉するためのエアシリンダ４６とを備えている。
【００５１】
外側円筒管４１の上端開口部４４は浴槽吸込口３あるいは浴槽吐出口９に接続され、浴水は、当該上端開口部４４、内側円筒管４２、浴水出入口４３を経由して流れる。
【００５２】
エアシリンダ４６によって上端開口部４４が封鎖されると、外側円筒管４１の側面に形成された温水出入口４７、円環状通路４８、内側円筒管４２に空けた連通孔４９を介して、浴水出入口４３に到る通路が形成される。弁４５を閉じることにより、浴水還管の温水加熱殺菌を行うことができる。
【００５３】
なお、浴水循環ろ過システムに付属の昇温装置の熱源が、蒸気、熱媒油あるいは６５℃以上の温水である場合には、浴槽の浴水吸込口、吐出口を加工して、あるいは図８に示すノズルを利用して、これら浴水吸込口、吐出口を当該熱源に接続することにより、ろ過装置を運転するだけで、浴水還管の温水加熱殺菌を行うことができる。
【００５４】
一方、上記の実施の形態では、浴水還管の温水加熱殺菌を目的としているが、浴槽を除く、浴水往管、ろ過装置などの浴水設備の温水加熱殺菌にも、本発明を適用できる。
【００５５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の浴水循環ろ過システムの温水加熱殺菌方法および温水加熱殺菌装置によれば、浴水設備に付属の給湯設備を利用して、浴槽以外の浴水還管などの殺菌対象部分に温水を流して当該部分を加熱して所定温度状態とし、この状態で温水を循環させて当該部分の温水加熱殺菌を行うようにしている。したがって、本発明によれば、従来においては殺菌を行うことが面倒あるいは困難であった浴水還管などの部分を熱効率良く温水加熱殺菌することができる。
【００５６】
また、本発明では、浴水還管の浴槽吸込口に作用する圧力を、０．０１ＭＰａ〜−０．０３ＭＰａの範囲内としてあるので、温水加熱殺菌時において、浴水還管に接続される温水往管の接続部分を強固にしなくとも温水が漏洩することがない。よって、既設の浴水還管の温水加熱殺菌を、作業性良く、しかも効率良く行うことができる。
【００５７】
さらに、本発明では、浴水還管への通湯を、温水流速が０．１ｍ／ｓ前後あるいはそれ以下の低速で行うようにしているので、浴水還管の残留水が温水と混合してしまうことを抑制できる。よって、浴水還管の昇温を効率良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した温水加熱殺菌装置を備えた浴水循環ろ過システムを示す全体構成図である。
【図２】図１の温水加熱殺菌装置の動作を示すフローチャートである。
【図３】図１の温水加熱殺菌装置における給湯運転状態を示す説明図である。
【図４】図１の温水加熱殺菌装置における通湯運転状態を示す説明図である。
【図５】図１の温水加熱殺菌装置における温水循環運転状態を示す説明図である。
【図６】図１の温水加熱殺菌装置における接続金具の例およびその使用形態を示す説明図である。
【図７】図１の温水加熱殺菌装置における接続金具の別の例およびその使用形態を示す説明図である。
【図８】新設の浴水循環ろ過システムにおける浴槽吸込口および浴槽吐出口に用いるのに適したノズルを示す断面図、および当該ノズルを用いた配管例を示す説明図である。
【符号の説明】
１ 浴水循環ろ過システム
２ 浴槽
３ 浴槽吸込口
４ 浴水還管
６ ろ過器
７ 熱交換器
９ 吐出口
１０ 温水加熱殺菌装置
１３ 給湯経路
１４ 温水循環経路
１５ 温水排出経路
１６ 水位センサ
ＴＣ１、ＴＣ２ 温度検知器
Ｍ１ 給湯弁
Ｍ２ 送湯弁
Ｍ３ 排水・循環切り替え弁
Ｐ１ 送湯ポンプ
Ｐ２ 循環ポンプ
ＤＨ 電気ヒータ
ＷＴ 温水槽
ＤＴ 排水槽
ＣＢ 制御盤

Claims (6)

1. 浴水循環ろ過システムにおける浴槽からろ過器に浴水を還流させるための浴水還管に対して、その浴槽側の上流端から温水を流し、
   この浴水還管の下流端から排出される温水の温度が予め定めた第１の温度以上になると、当該浴水還管の下流端から排出された温水を上流端に戻して、当該浴水還管を介しての温水循環を開始し、
   温水温度を予め定めた第２の温度に保持しながら、この温水循環を所定時間継続して、前記浴水還管を温水加熱殺菌することを特徴とする浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌方法。
2. 請求項１において、
   前記浴水還管の上流端から温水を流す工程では、浴槽に温水を供給するための給湯設備からの温水を前記浴水還管に供給することを特徴とする浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌方法。
3. 請求項１または２において、
   前記浴水還管の上流端と前記浴槽の浴水排出口との接続部分に作用する水のゲージ圧力が、−０．０３〜０．０１ＭＰａの範囲内の値となるように、前記温水加熱殺菌運転を行うことを特徴とする浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌方法。
4. 請求項１、２または３において、
   前記浴水還管の上流端から温水を流す工程では、温水の流速を０．１５ｍ／ｓ以下に設定することを特徴とする浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌方法。
5. 請求項１ないし４のうちのいずれかの項に記載の温水加熱殺菌方法により、温水還管の温水加熱殺菌を行う浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌装置であって、
   電気ヒータが内蔵された開放型の温水槽と、
   前記温水槽に外部から温水を導入するための温水導入手段と、
   前記温水槽の温水を、前記浴水還管を介して循環させる温水循環手段と、
   前記浴水還流路の下流端から排出される温水の温度が前記第１の温度未満の場合には、前記温水循環手段によって前記温水槽に戻る温水を、当該温水槽に戻すことなく外部に排出する温水排出手段と、
   前記温水槽の温水温度を検知する第１の温度検出手段と、
   前記温水循環手段によって前記温水槽に戻る温水温度を検出する第２の温度検出手段と、
   前記温水槽の水位を検出する水位検出手段と、
   前記水位検出手段の検出結果に基づき前記温水導入手段を駆動して前記温水槽の水位を制御し、前記第１および第２の温度検出手段による検出結果に基づき、前記電気ヒータ、前記温水循環手段および前記温水排出手段の駆動を制御する制御手段とを有していることを特徴とする浴水循環ろ過システムの浴水還管の温水加熱殺菌装置。
6. 請求項５において、
   前記温水循環手段は、前記温水槽と前記浴水還管との間に接続される温水往管を有しており、
   この温水往管は、前記温水槽の側に接続された上流側温水往管と、前記浴水還管の側に接続される下流側温水往管とを備えており、
   前記下流側温水往管の両端は、前記上流側温水往管の下流端および前記浴水還管の上端が接続されている浴槽底面に開いている浴水吸込口に対して、それぞれ、着脱自在の状態で接続可能であることを特徴とする温水加熱殺菌装置。

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