JP2004178880A - プラズマ表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放電維持電極12と第1誘電体層14とが内側に形成された第1パネル10と、第1パネル10の内側に放電空間が形成されるように張り合わされる第2パネル20とを有する交流駆動型プラズマ表示装置である。第2パネル20の内側には、アドレス電極22が形成してあり、アドレス電極22の内側には第2誘電体層23が形成してある。第2誘電体層23が、酸化アルミニウム(たとえばAl2 O3 )、ダイヤモンドライクカーボン、酸化クロム(たとえばCr2 O3 )および窒素化合物の少なくともいずれかを含む膜を有する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、アドレス電極を含む背面基板上に配されている誘電体材料に特徴を有する交流駆動型プラズマ表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在主流の陰極線管(CRT)に代わる画像表示装置として、平面型(フラットパネル形式)の表示装置が種々検討されている。このような平面型の表示装置として、液晶表示装置(LCD)、エレクトロルミネッセンス表示装置(ELD)、プラズマ表示装置(PDP:プラズマ・ディスプレイ)を例示することができる。中でも、プラズマ表示装置は、大画面化や広視野角化が比較的容易であること、温度、磁気、振動等の環境要因に対する耐性に優れること、長寿命であること等の長所を有し、家庭用の壁掛けテレビの他、公共用の大型情報端末機器への適用が期待されている。
【0003】
プラズマ表示装置は、希ガスから成る放電ガスを放電空間内に封入した放電セルに電圧を印加して、放電ガス中でのグロー放電に基づき発生した紫外線で放電セル内の蛍光体層を励起することによって発光を得る表示装置である。つまり、個々の放電セルは蛍光灯に類似した原理で駆動され、放電セルが、通常、数十万個のオーダーで集合して1つの表示画面が構成されている。プラズマ表示装置は、放電セルへの電圧の印加方式によって直流駆動型(DC型)と交流駆動型(AC型)とに大別され、それぞれ一長一短を有する。
【0004】
AC型プラズマ表示装置は、表示画面内で個々の放電セルを仕切る役割を果たす隔壁を例えばストライプ状に形成すればよいので、高精細化に適している。しかも、放電のための電極の表面が誘電体材料から成る保護層で覆われているので、かかる電極が磨耗し難く、長寿命であるといった長所を有する。
【0005】
現在商品化されているAC型プラズマ表示装置においては、放電の安定性、パネル価格の低下、信頼性の向上が課題となっている。AC型プラズマ表示装置では、アドレス(データ)電圧のコントロールによって色表示の制御を行っているが、アドレスパルス印加時の放電の安定性が画質の程度に影響を与える。また、パネル価格の中では回路に起因するものがセット価格の4割から5割程度をしめており、その中でもアドレス駆動に必要なICの価格は大きな比重を占める。また、アドレス電圧印加時に異常放電が生ると、書込のエラーが生じ、さらに状況が悪いときには断線、ショートにまで至ってしまうことも考えられる。
【0006】
従来では、アドレス電極を含む背面基板上に誘電体層を形成してあり、その誘電体層は、通常、ガラスペースト等を印刷により塗布して形成している。AC駆動においては、この誘電体に電荷を蓄積し、維持電極との間に電圧を印加することで蓄積された電荷を放出し、壁電荷の制御を行うことでサステイン放電を起こすか起こさないかをコントロールしている。そのため、アドレスに印加する電圧が低くても十分な壁電荷のコントロールができるように、誘電体層の膜質、厚み薄膜化する方法が考えられる。
【0007】
しかし、誘電体層の厚みを薄くすると、誘電体の薄い部分、亀裂部などから異常放電が発生しやすくなるという問題がある。また、一般的には、印刷にて誘電体を形成しているが、印刷では薄く形成することが困難ということもある。
【0008】
すなわち、ペースト印刷法で誘電体層を形成したAC型プラズマ表示装置では、アドレス駆動の安定性およびアドレス電圧の低減の点で不十分であることが、本発明者の最近の研究により判明している。
【0009】
なお、下記の特許文献1に示すように、ペースト印刷法で低融点ガラスからなる誘電体層を形成するために、その中間膜として、酸化アルミニウム膜を用いる技術が開示してある。しかしながら、この特許文献1に開示してある技術では、酸化アルミニウム膜などを中間膜として形成するのは、低融点ガラスにおける焼成時の濡れ性や熱伝導率の差異などを解消するためであり、アドレス電圧を低減し、アドレス駆動の安定性を向上させるものではない。アドレス電圧の低減にはアドレス電極を含む背面基板上に配されている誘電体の膜質が大きく起因しており、その膜厚、材料の改善が大きな課題であった。
【0010】
【特許文献1】特開昭62−194225号公報
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、アドレス駆動の安定性を図るとともに、アドレス電圧を低減し、安定した駆動を行うことにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係るプラズマ表示装置は、
放電維持電極と第1誘電体層とが内側に形成された第1パネルと、
前記第1パネルの内側に放電空間が形成されるように張り合わされる第2パネルとを有し、
前記第2パネルの内側には、アドレス電極が形成してあり、前記アドレス電極の内側には第2誘電体層が形成してあり、
前記第2誘電体層が、酸化アルミニウム(たとえばAl2 O3 )、ダイヤモンドライクカーボン、酸化クロム(たとえばCr2 O3 )および窒素化合物の少なくともいずれかを含む膜を有する。
これらの膜は、好ましくは薄膜形成法により成膜される。薄膜成膜法としては、特に限定されないが、スパッタリング、蒸着法、CVD法などが例示される。
【0012】
本発明に係るプラズマ表示装置では、第2誘電体層として上記の膜を少なくとも含む膜を用いていることから、第2誘電体層が緻密な膜となり、第2誘電体層の耐圧を向上させることができると共に、電荷を安定的に蓄積でき、アドレス電圧を低減し、異常放電を防止し、安定した画質を得ることができる。したがって、信頼性の高いプラズマ表示装置を提供することができる。
【0013】
好ましくは、前記窒素化合物膜が、窒化シリコン(たとえばSiNx)、窒化酸化シリコン(たとえばSiOx Ny )、窒化マグネシウム(たとえばMg3 N2 )、窒化アルミニウム(たとえばAlN)、窒化ボロン(たとえばBN)、窒化炭化ボロン(たとえばBCN)の少なくともいずれかを含む。このような窒素化合物膜で第2誘電体層を構成すれば、本発明の効果が向上する。
【0014】
本発明では、前記第2誘電体層が、二層以上の多層膜で構成してあっても良い。また、前記第2誘電体層は、酸化シリコンからなる膜をさらに有する。本発明では、前記第2誘電体層は、異なる材質の膜を交互に積層しても良い。
【0015】
前記第2誘電体層の厚さは、好ましくは、1.0×10−6m〜3.0×10−5m、さらに好ましくは、1.0×10−6m〜1.5×10−5m、特に好ましくは、1.0×10−6m〜1.0×10−5mである。このような厚み範囲とすることで、特に、アドレス駆動に要する印加電圧を低減できる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係るプラズマ表示装置の要部概略断面図である。
【0017】
プラズマ表示装置の構成
図1に示すように、本実施形態に係る交流駆動型プラズマ表示装置(以下、単に、プラズマ表示装置とも呼ぶ)は、いわゆる3電極型に属し、1対の放電維持電極12の間で放電が生じる。このAC型プラズマ表示装置2は、フロントパネルに相当する第1パネル10と、リアパネルに相当する第2パネル20とが貼り合わされて成る。第2パネル20上の蛍光体層25R,25G,25Bの発光は、たとえば、第1パネル10を通して観察される。すなわち、第1パネル10が、表示面側となる。
【0018】
第1パネル10は、透明な第1基板11と、第1基板11上にストライプ状に設けられ、透明導電材料から成る複数対の放電維持電極12と、放電維持電極12のインピーダンスを低下させるために設けられ、放電維持電極12よりも電気抵抗率の低い材料から成るバス電極13と、バス電極13および放電維持電極12上を含む第1の基板11上に形成された第1誘電体層14と、その上に形成された保護層15とから構成されている。なお、保護層15は、必ずしも形成されている必要はないが、形成されていることが好ましい。
【0019】
一方、第2パネル20は、第2基板21と、第2基板21上にストライプ状に設けられた複数のアドレス電極(データ電極とも呼ばれる)22と、アドレス電極22上を含む第2基板21上に形成された第2誘電体層23と、第2誘電体層23上であって隣り合うアドレス電極22の間の領域に形成された絶縁性の隔壁24と、第2誘電体層23上から隔壁24の側壁面上に亘って設けられた蛍光体層とから構成されている。蛍光体層は、赤色蛍光体層25R、緑色蛍光体層25G、および青色蛍光体層25Bから構成されている。
【0020】
図1は、表示装置の一部分解斜視図であり、実際には、第2パネル20側の隔壁24の頂部が第1パネル10側の保護層15に当接している。一対の放電維持電極12と、2つの隔壁24の間に位置するアドレス電極22とが重複する領域が、単一の放電セルに相当する。そして、隣り合う隔壁24と蛍光体層25R,25G,25Bと保護層15とによって囲まれた放電空間4内には、放電ガスが封入されている。第1パネル10と第2パネル20とは、それらの周辺部において、フリットガラスを用いて接合されている。
【0021】
放電空間4内に封入される放電ガスとしては、特に限定されないが、キセノン(Xe)ガス、ネオン(Ne)ガス、ヘリウム(He)ガス、アルゴン(Ar)ガス、窒素(N2)ガス等の不活性ガス、あるいはこれらの不活性ガスの混合ガスなどが用いられる。封入されている放電ガスの全圧は、特に限定されないが、6×103 Pa〜8×104 Pa程度である。
【0022】
放電維持電極12の射影像が延びる方向とアドレス電極22の射影像が延びる方向とは略直交(必ずしも直交する必要はないが)しており、一対の放電維持電極12と、3原色を発光する蛍光体層25R,25G,25Bの1組とが重複する領域が1画素(1ピクセル)に相当する。グロー放電が一対の放電維持電極12間で生じることから、このタイプのプラズマ表示装置は「面放電型」と称される。このプラズマ表示装置の駆動方法については、後述する。
【0023】
本実施形態のプラズマ表示装置2は、いわゆる反射型プラズマ表示装置であり、蛍光体層25R,25G,25Bの発光は、第1パネル10を通して観察されるので、アドレス電極22を構成する導電性材料に関して透明/不透明の別は問わないが、放電維持電極12を構成する導電性材料は透明である必要がある。なお、ここで述べる透明/不透明とは、蛍光体層材料に固有の発光波長(可視光域)における導電性材料の光透過性に基づく。即ち、蛍光体層から射出される光に対して透明であれば、放電維持電極やアドレス電極を構成する導電性材料は透明であると言える。
【0024】
不透明な導電性材料として、Ni,Al,Au,Ag,Al,Pd/Ag,Cr,Ta,Cu,Ba,LaB6 ,Ca0.2 La0.8 CrO3 等の材料を、単独または適宜組み合わせて用いることができる。透明な導電性材料としては、ITO(インジウム・錫酸化物)やSnO2 を挙げることができる。放電維持電極12またはアドレス電極22は、スパッタ法、蒸着法、スクリーン印刷法、メッキ法等によって形成することができ、フォトリソグラフィ法、サンドブラスト法、リフトオフ法などによってパターン加工される。放電維持電極12の電極幅は、特に限定されないが、200〜400μm程度である。また、これらの対となる電極12相互間の距離は、特に限定されないが、好ましくは5〜150μm程度である。また、アドレス電極22の幅は、たとえば50〜100μm程度である。
【0025】
バス電極13は、典型的には、金属材料、たとえば、Ag,Au,Al,Ni,Cu,Mo,Crなどの単層金属膜、あるいはCr/Cu/Crなどの積層膜などから構成することができる。かかる金属材料から成るバス電極13は、反射型のプラズマ表示装置においては、蛍光体層から放射されて第1基板11を通過する可視光の透過光量を低減させ、表示画面の輝度を低下させる要因となり得るので、放電維持電極全体に要求される電気抵抗値が得られる範囲内で出来る限り細く形成することが好ましい。具体的には、バス電極13の電極幅は、放電維持電極12の電極幅よりも小さく、たとえば30〜200μm程度である。バス電極13は、放電維持電極12などと同様な方法により形成することができる。
【0026】
放電維持電極12の表面に形成される第1誘電体層14の材質および製法は、本実施形態では、後で詳細に説明する第2誘電体層23と同じでも異なっていても良いが、好ましくは同じものである。通常は、第1誘電体層14は、低融点ガラスペーストを用いた印刷法により成膜される。第1誘電体層14の厚みは、特に限定されないが、薄膜形成法により第1誘電体層14を成膜する場合には、1〜10μm、特に7μm以下である。ただし、低融点ガラスペーストを用いた印刷法により第1誘電体層14を成膜する場合には、10μm以上の膜厚であっても良い。
【0027】
第1誘電体層14を設けることによって、放電空間4内で発生するイオンや電子が、放電維持電極12と直接に接触することを防止することができる。その結果、放電維持電極12の磨耗を防ぐことができる。第1誘電体層14は、アドレス期間に発生する壁電荷を蓄積して放電状態を維持するするメモリ機能、過剰な放電電流を制限する抵抗体としての機能を有する。
【0028】
第1誘電体層14の放電空間側表面に形成してある保護層15は、第1誘電体層14を保護し、イオンや電子との直接接触を防止する作用を奏する。その結果、放電維持電極12の磨耗を効果的に防ぐことができる。また、保護層15は、放電に必要な2次電子を放出する機能も有する。保護層15を構成する材料として、酸化マグネシウム(MgO)、フッ化マグネシウム(MgF2 )、フッ化カルシウム(CaF2 )を例示することができる。中でも酸化マグネシウムは、化学的に安定であり、スパッタリング率が低く、蛍光体層の発光波長における光透過率が高く、放電開始電圧が低い等の特色を有する好適な材料である。なお、保護層15を、これらの材料から成る群から選択された少なくとも2種類の材料から構成された積層膜構造としてもよい。
【0029】
第1基板11および第2基板21の構成材料として、高歪点ガラス、ソーダガラス(Na2 O・CaO・SiO2 )、硼珪酸ガラス(Na2 O・B2 O3 ・SiO2 )、フォルステライト(2MgO・SiO2 )、鉛ガラス(Na2 O・PbO・SiO2 )を例示することができる。第1基板11と第2基板21の構成材料は、同じであっても異なっていてもよいが、熱膨張係数が同じであることが好ましい。
【0030】
蛍光体層25R,25G,25Bは、たとえば、赤色を発光する蛍光体層材料、緑色を発光する蛍光体層材料および青色を発光する蛍光体層材料から成る群から選択された蛍光体層材料から構成され、アドレス電極22の上方に設けられている。プラズマ表示装置がカラー表示の場合、具体的には、たとえば、赤色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層(赤色蛍光体層25R)がアドレス電極22の上方に設けられ、緑色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層(緑色蛍光体層25G)が別のアドレス電極22の上方に設けられ、青色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層(青色蛍光体層25B)が更に別のアドレス電極22の上方に設けられており、これらの3原色を発光する蛍光体層が1組となり、所定の順序に従って設けられている。そして、前述したように、一対の放電維持電極12と、これらの3原色を発光する1組の蛍光体層25R,25G,25Bとが重複する領域が、1画素に相当する。赤色蛍光体層、緑色蛍光体層および青色蛍光体層は、ストライプ状に形成されていてもよいし、格子状に形成されていてもよい。
【0031】
蛍光体層25R,25G,25Bを構成する蛍光体層材料としては、従来公知の蛍光体層材料の中から、量子効率が高く、真空紫外線に対する飽和が少ない蛍光体層材料を適宜選択して用いることができる。カラー表示を想定した場合、色純度がNTSCで規定される3原色に近く、3原色を混合した際の白バランスがとれ、残光時間が短く、3原色の残光時間がほぼ等しくなる蛍光体層材料を組み合わせることが好ましい。
【0032】
蛍光体層材料の具体的な例示を次に示す。たとえば真空紫外線の照射により赤色に発光する蛍光体層材料として、(Y2O3:Eu),(YBO3Eu),(YVO4:Eu),(Y0.96P0.60V0.40O4:Eu0.04),[(Y,Gd)BO3:Eu],(GdBO3:Eu),(ScBO3:Eu),(3.5MgO・0.5MgF2・GeO2:Mn)、真空紫外線の照射により緑色に発光する蛍光体層材料として、(ZnSiO2:Mn),(BaA112O19:Mn),(BaMg2A116O27:Mn),(MgGa2O4:Mn),(YBO3:Tb),(LuBO3:Tb),(Sr4Si3O8Cl4:Eu)、真空紫外線の照射により青色に発光する蛍光体層材料として、(Y2SiO5:Ce),(CaWO4:Pb),CaWO4,YP0.85V0.15O4,(BaMgA114O23:Eu),(Sr2P2O7:Eu),(Sr2P2O7:Sn)などが例示される。
【0033】
蛍光体層25R,25G,25Bの形成方法として、厚膜印刷法、蛍光体層粒子をスプレーする方法、蛍光体層の形成予定部位に予め粘着性物質を付けておき、蛍光体層粒子を付着させる方法、感光性の蛍光体層ペーストを使用し、露光および現像によって蛍光体層をパターニングする方法、全面に蛍光体層を形成した後に不要部をサンドブラスト法により除去する方法を挙げることができる。
【0034】
なお、蛍光体層25R,25G,25Bはアドレス電極22の上に直接形成されていてもよいし、アドレス電極22上から隔壁24の側壁面上に亘って形成されていてもよい。あるいはまた、蛍光体層25R,25G,25Bは、アドレス電極22上に設けられた第2誘電体層23上に形成されていてもよいし、アドレス電極22上に設けられた第2誘電体層上から隔壁24の側壁面上に亘って形成されていてもよい。更には、蛍光体層25R,25G,25Bは、隔壁24の側壁面上にのみ形成されていてもよい。
【0035】
本実施形態では、第2誘電体層23は、酸化アルミニウム(たとえばAl2 O3 )、ダイヤモンドライクカーボン、酸化クロム(たとえばCr2 O3 )および窒素化合物の少なくともいずれかを含む膜で構成してある。窒素化合物膜としては、窒化シリコン(たとえばSiNx)、窒化酸化シリコン(たとえばSiOx Ny )、窒化マグネシウム(たとえばMg3 N2 )、窒化アルミニウム(たとえばAlN)、窒化ボロン(たとえばBN)、窒化炭化ボロン(たとえばBCN)などが例示される。
【0036】
これらの膜は、薄膜形成法により成膜することが好ましい。薄膜成膜法としては、特に限定されないが、スパッタリング、蒸着法、CVD法などが例示される。
【0037】
第2誘電体層23は、上記のいずれかの膜を二層以上に積層してある多層膜で構成しても良い。また、第2誘電体層23は、酸化シリコンからなる膜をさらに有しても良く、異なる材質の膜を交互に積層しても良い。
【0038】
第2誘電体層23の厚さは、好ましくは、1.0×10−6m〜3.0×10−5m、さらに好ましくは、1.0×10−6m〜1.5×10−5m、特に好ましくは、1.0×10−6m〜1.0×10−5mである。
【0039】
第2基板21には、前述したように、アドレス電極22と平行に延びる隔壁24(リブ)が形成されている。なお、隔壁(リブ)24は、ミアンダ構造を有していてもよい。第2誘電体層23が第2基板21およびアドレス電極22上に形成されている場合には、隔壁24は第2誘電体層上に形成されている場合もある。隔壁24の構成材料として、従来公知の絶縁材料を使用することができ、たとえば広く用いられている低融点ガラスにアルミナ等の金属酸化物を混合した材料を用いることができる。隔壁24は、たとえば幅が50μm以下程度で、高さが100〜150μm程度である。隔壁24のピッチ間隔は、たとえば100〜400μm程度である。
【0040】
隔壁24の形成方法として、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、ドライフィルム法、感光法を例示することができる。ドライフィルム法とは、基板上に感光性フィルムをラミネートし、露光および現像によって隔壁形成予定部位の感光性フィルムを除去し、除去によって生じた開口部に隔壁形成用の材料を埋め込み、焼成する方法である。感光性フィルムは焼成によって燃焼、除去され、開口部に埋め込まれた隔壁形成用の材料が残り、隔壁24となる。感光法とは、基板上に感光性を有する隔壁形成用の材料層を形成し、露光および現像によってこの材料層をパターニングした後、焼成を行う方法である。なお、隔壁24を黒くすることにより、いわゆるブラック・マトリックスを形成し、表示画面の高コントラスト化を図ることができる。隔壁24を黒くする方法として、黒色に着色されたカラーレジスト材料を用いて隔壁を形成する方法を例示することができる。
【0041】
第2基板21上に形成された一対の隔壁24と、一対の隔壁24によって囲まれた領域内を占める放電維持電極12とアドレス電極22と蛍光体層25R,25G,25Bによって1つの放電セルが構成される。そして、かかる放電セルの内部、より具体的には、隔壁によって囲まれた放電空間の内部に、混合ガスから成る放電ガスが封入されており、蛍光体層25R,25G,25Bは、放電空間4内の放電ガス中で生じた交流グロー放電に基づき発生した紫外線に照射されて発光する。
【0042】
プラズマ表示装置の製造方法
次に、本発明の実施形態に係るプラズマ表示装置の製造方法について説明する。 第1パネル10は、以下の方法で作製することができる。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第1基板11の全面にたとえばスパッタリング法によりITO層を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりITO層をストライプ状にパターニングすることによって、一対の放電維持電極12を、複数、形成する。放電維持電極12は、第1の方向に延びている。
【0043】
次に、第1基板11の内面全面に、たとえば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりアルミニウム膜をパターニングすることによって、各放電維持電極12の縁部に沿ってバス電極13を形成する。その後、バス電極13が形成された第1基板11の内面全面に、たとえばシリコン酸化物(SiO2 )から成る第1誘電体層14を形成する。
【0044】
本実施形態では、第1誘電体層14の形成に際しては、スパッタリング法を用い、しかも、第1誘電体層14のトラップ密度および/または可動金属イオン密度が、1×1018個/cm3以下、1×1017個/cm3 以下となるように、しかも、リーク電流密度は、2.5×10−9A/cm2 以下、特に1×10−10 A/cm2 以下となるように、スパッタリング装置に導入される雰囲気ガス(Arガスを主成分)中の酸素(O2)ガスの分圧(O2 /(Ar+O2 ))を15%以上40%以下となるように制御する。スパッタリングにおける酸素ガスの分圧が低すぎると、得られるシリコン酸化物膜のトラップ密度(および/または可動金属イオン密度および/またはリーク電流密度)が高くなる傾向にあり、逆に高すぎる場合には、成膜が困難になる傾向にある。なお、本実施形態では、第1誘電体層14は、ガラスペーストを用いた印刷法により成膜しても良い。
【0045】
次に、第1誘電体層14の上に、電子ビーム蒸着法またはスパッタリング法により厚さ0.6μmの酸化マグネシウム(MgO)から成る保護層15を形成する。なお、第1誘電体層14と保護層15との間にバリア層を形成する場合には、第1誘電体層14の上に、SiONなどで構成されるバリア層を形成した後、その上に、保護層15を形成する。以上の工程により第1パネル10を完成することができる。
【0046】
また、第2パネル20を以下の方法で作製する。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第2の基板21上に、たとえば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりパターニングすることで、アドレス電極22を形成する。アドレス電極22は、第1の方向と直交する第2の方向に延びている。次に、スパッタリング、蒸着法、CVD法などで、第2誘電体層23を形成する。
【0047】
その後、隣り合うアドレス電極22の間の領域の上方の第2誘電体層23上に、たとえばスクリーン印刷法により低融点ガラスペーストを印刷する。その後、この第2基板21を、焼成炉内で焼成し、隔壁24を形成する。この時の焼成(隔壁焼成工程)は、空気中で行い、焼成温度は、560°C程度である。焼成時間は、2時間程度である。
【0048】
次に、第2基板21に形成された隔壁24の間に3原色の蛍光体層スラリーを順次印刷する。その後、この第2基板21を、焼成炉内で焼成し、隔壁24の間の第2誘電体層上から隔壁24の側壁面上に亘って、蛍光体層25R,25G,25Bを形成する。その時の焼成(蛍光体焼成工程)温度は、510°C程度である。焼成時間は、10分程度である。
【0049】
次に、プラズマ表示装置の組み立てを行う。即ち、先ず、たとえばスクリーン印刷により、第2パネル20の周縁部にシール層を形成する。次に、第1パネル10と第2パネル20とを貼り合わせ、焼成してシール層を硬化させる。その後、第1パネル10と第2パネル20との間に形成された空間を排気した後、放電ガスを封入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置2を完成させる。
【0050】
かかる構成を有するプラズマ表示装置の交流グロー放電動作の一例を説明する。先ず、たとえば、全ての一方の放電維持電極12に、放電開始電圧Vbdよりも高いパネル電圧を短時間印加する。これによってグロー放電が生じ、双方の放電維持電極の近傍の第1誘電体層14の表面に相互に反対極の電荷が付着して、壁電荷が蓄積し、見掛けの放電開始電圧が低下する。その後、アドレス電極22に電圧を印加しながら、表示をさせない放電セルに含まれる一方の放電維持電極12に電圧を印加することによって、アドレス電極22と一方の放電維持電極12との間にグロー放電を生じさせ、蓄積された壁電荷を消去する。この消去放電を各アドレス電極22において順次実行する。一方、表示をさせる放電セルに含まれる一方の放電維持電極には電圧を印加しない。これによって、壁電荷の蓄積を維持する。その後、全ての一対の放電維持電極12間に所定のパルス電圧を印加することによって、壁電荷が蓄積されていたセルにおいては一対の放電維持電極12の間でグロー放電が開始し、放電セルにおいては、放電空間内における放電ガス中でのグロー放電に基づき発生した真空紫外線の照射によって励起された蛍光体層が、蛍光体層材料の種類に応じた特有の発光色を呈する。なお、一方の放電維持電極と他方の放電維持電極に印加される放電維持電圧の位相は半周期ずれており、電極の極性は交流の周波数に応じて反転する。
【0051】
本実施形態に係るプラズマ表示装置2では、第2誘電体層23として、薄膜形成法により得られるAl2 O3 などの膜を用いていることから、第2誘電体層23が緻密な膜となり、第2誘電体層23の耐圧を向上させることができると共に、電荷を安定的に蓄積でき、アドレス電圧を低減し、異常放電を防止し、安定した画質を得ることができる。したがって、信頼性の高いプラズマ表示装置を提供することができる。
【0052】
さらに本実施形態では、第1誘電体層14の膜としても緻密な膜を用いてあることから、放電開始電圧の変動や輝度の低下が生じ難くなり、信頼性および寿命が向上する。
【0053】
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
【0054】
たとえば、本発明では、プラズマ表示装置の具体的な構造は、図1に示す実施形態に限定されず、その他の構造であっても良い。たとえば図1に示す実施形態では、いわゆる3電極型のプラズマ表示装置を例示したが、本発明のプラズマ表示装置は、いわゆる2電極のプラズマ表示装置であっても良い。この場合には、一対の放電維持電極の一方を第1基板に形成し、他方を第2基板に形成する構成となる。また、一方の放電維持電極の射影像は第1の方向に延び、他方の放電維持電極の射影像は、第1の方向とは異なる第2の方向(好ましくは第1の方向と略垂直)に延び、一対の放電維持電極が対面するごとく対向して配置されている。2電極型のプラズマ表示装置にあっては、必要に応じて、上述した実施形態の説明における「アドレス電極」を「他方の放電維持電極」と読み替えればよい。
【0055】
また、上述した実施形態のプラズマ表示装置は、第1パネル10が表示パネル側となり、いわゆる反射型のプラズマ表示装置であるが、本発明のプラズマ表示装置は、いわゆる透過型のプラズマ表示装置であっても良い。ただし、透過型のプラズマ表示装置では、蛍光体層の発光は第2パネル20を通して観察されるので、放電維持電極を構成する導電性材料に関して透明/不透明の別は問わないが、アドレス電極22を第2基板21上に設けるので、アドレス電極は透明である必要がある。
【0056】
【実施例】
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
【0057】
実施例1
第1パネル10は、以下の方法で作製した。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第1基板11の全面にたとえばスパッタリング法によりITO層を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりITO層をストライプ状にパターニングすることによって、一対の放電維持電極12を、複数、形成した。
【0058】
次に、第1基板11の内面全面に、たとえば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりアルミニウム膜をパターニングすることによって、各放電維持電極12の縁部に沿ってバス電極13を形成した。その後、バス電極13が形成された第1基板11の内面全面に、低融点ガラスペーストを用いた印刷法により第1誘電体層14を形成した。
【0059】
次に、このシリコン酸化物層から成る第1誘電体層14の上に電子ビーム蒸着法により厚さ0.6μmの酸化マグネシウム(MgO)から成る保護層15を形成した。以上の工程により第1パネル10を完成することができた。
【0060】
また、第2パネル20を以下の方法で作製した。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第2の基板21上に、アドレス電極22を形成した。アドレス電極22は、第1の方向と直交する第2の方向に延びている。
【0061】
次に、アドレス電極22が形成された第2基板21の表面に、第2誘電体層23として、Al2 O3 をスパッタリングにより形成した。第2誘電体層23の膜厚は、均一に成膜できることが確認できた。本実施例では、25μm、10μm、7μm、3μmと4種類の膜厚としたが、3μmでも1kV以上と十分な耐圧を確保することができることが確認できた。
【0062】
その後、隣り合うアドレス電極22の間の領域の上方の第2誘電体層23上に、たとえばスクリーン印刷法により低融点ガラスペーストを印刷した。その後、この第2基板21を、焼成炉内で焼成し、隔壁24を形成した。この時の焼成(隔壁焼成工程)は、空気中で行い、焼成温度は、560°C程度、焼成時間は、2時間程度であった。
【0063】
次に、第2基板21に形成された隔壁24の間に3原色の蛍光体層スラリーを順次印刷した。その後、この第2基板21を、焼成炉内で焼成し、隔壁24の間の第2誘電体層上から隔壁24の側壁面上に亘って、蛍光体層25R,25G,25Bを形成し、510°Cおよび10分の焼成を行い、第2パネル20を完成させた。
【0064】
次に、プラズマ表示装置の組み立てを行った。即ち、先ず、スクリーン印刷により、第2パネル20の周縁部にシール層を形成した。次に、第1パネル10と第2パネル20とを貼り合わせ、焼成してシール層を硬化させた。その後、第1パネル10と第2パネル20との間に形成された空間を排気した後、放電ガスを封入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置2を完成させた。放電ガスとしては、Xe100%を用い、30kPaの圧力で封入した。
【0065】
このプラズマ表示装置2について、アドレス電圧を測定したところ、第2誘電体層23の厚みが7μmで60Vのアドレス電圧であり、第2誘電体層23の厚みが3μmで55Vのアドレス電圧であり、十分にアドレス電圧を下げられることが確認できた。また、異常放電は観察されず、安定した画質を得ることができることが確認できた。
【0066】
比較例1
なお、比較例1として、第2誘電体層23を、酸化鉛を含む低融点ガラスを用いた印刷法により形成した以外は、前記実施例1と同様にしてプラズマ表示装置を作製した。第2誘電体層23の厚みが10μmで、70Vのアドレス電圧であったが、3μmの厚みではアドレス電圧の測定ができなかった。ペースト印刷法を用いた場合には、3μmの厚みでは、1kVの耐圧が得られないためと考えられる。
【0067】
実施例2
第2誘電体層23を、ダイヤモンドライクカーボン、Cr2 O3 、SiNx、SiOx Ny 、Mg3 N2 、AlN、BN、BCNのいずれかの膜で形成した以外は、実施例1と同様にしてプラズマ表示装置を作製した。実施例1と同様な結果が得られた。
【0068】
実施例3
第2誘電体層23を、Al2 O3 とSiNとの2層膜で形成した以外は、実施例1と同様にしてプラズマ表示装置を作製した。実施例1と同様な結果が得られた。
【0069】
実施例4
第2誘電体層23を、SiO2 とAl2 O3 との2層膜で形成した以外は、実施例1と同様にしてプラズマ表示装置を作製した。実施例1と同様な結果が得られた。
【0070】
実施例5
第2誘電体層23を、Al2 O3 とSiNとを交互に積層した多層膜で形成した以外は、実施例1と同様にしてプラズマ表示装置を作製した。実施例1と同様な結果が得られた。
【0071】
実施例6
第2誘電体層23を、SiO2 とAl2 O3 とを交互に積層した多層膜で形成した以外は、実施例1と同様にしてプラズマ表示装置を作製した。実施例1と同様な結果が得られた。
【0072】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、安定したアドレス放電を実現し、耐圧性に優れ、異常放電が起こりにくいプラズマ表示装置を実現することができる。また、本発明では、第2誘電体層を薄くすることも可能であり、アドレス電圧を低減することもできる。アドレス電圧が低減できると消費電力を低減できると共に、回路への負担も大幅に減少する。回路にかかる電圧を低減し、コストを削減でき、さらに駆動ICの設計が容易となる。このことは、コストの低減に加え、信頼性の向上にも繋がり、歩留まりも上昇できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の一実施形態に係るプラズマ表示装置の要部概略断面図である。
【符号の説明】
2… プラズマ表示装置
4… 放電空間
10… 第1パネル
11… 第1基板
12… 放電維持電極
13… バス電極
14… 第1誘電体層
15… 保護層
20… 第2パネル
21… 第2基板
22… アドレス電極
23… 第2誘電体層
24… 隔壁
25R,25G,25B… 蛍光体層
Claims (8)
- 放電維持電極と第1誘電体層とが内側に形成された第1パネルと、
前記第1パネルの内側に放電空間が形成されるように張り合わされる第2パネルとを有し、
前記第2パネルの内側には、アドレス電極が形成してあり、前記アドレス電極の内側には第2誘電体層が形成してあり、
前記第2誘電体層が、酸化アルミニウム、ダイヤモンドライクカーボン、酸化クロムおよび窒素化合物の少なくともいずれかを含む膜を有することを特徴とするプラズマ表示装置。 - 前記窒素化合物膜が、窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化マグネシウム、窒化アルミニウム、窒化ボロン、窒化炭化ボロンの少なくともいずれかを含むことを特徴とする交流駆動型プラズマ表示装置。
- 前記第2誘電体層が、二層以上の多層膜で構成してある請求項1または2に記載のプラズマ表示装置。
- 前記第2誘電体層は、酸化シリコンからなる膜をさらに有する請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマ表示装置。
- 前記第2誘電体層は、異なる材質の膜を交互に積層してある請求項3または4に記載のプラズマ表示装置。
- 前記第2誘電体層の厚さは、1.0×10−6m〜3.0×10−5mであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のプラズマ表示装置。
- 前記第2誘電体層の厚さは、1.0×10−6m〜1.5×10−5mであることを特徴とする請求項6に記載のプラズマ表示装置。
- 前記第2誘電体層の厚さは、1.0×10−6m〜1.0×10−5mであることを特徴とする請求項7に記載のプラズマ表示装置。
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