JP2004168057A - Fluorine composite resin film and solar cell - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表面防汚性のフッ素系複合樹脂フィルムに関するものであり、さらにこのフッ素系複合樹脂フィルムを用いた表面防汚性の太陽電池に関するものである。 The present invention relates to a surface antifouling fluorine-based composite resin film, and more particularly to a surface antifouling solar cell using the fluorine-based composite resin film.
光半導体(いわゆる光触媒)を含有するコーティング材の硬化被膜が、表面で超親水性を発現し、屋外構造物の汚れ防止、特に透明部材の光透過率あるいは光反射率の維持に有効であることが知られている(例えば、特許文献1等参照)。 A cured film of a coating material containing an optical semiconductor (so-called photocatalyst) exhibits superhydrophilicity on the surface and is effective in preventing soiling of outdoor structures, particularly in maintaining light transmittance or light reflectance of a transparent member. Is known (for example, refer to Patent Document 1 and the like).
しかしながら、代表的な光半導体物質であるTiO2は高屈折率材料であるため、その硬化被膜は高屈折膜になり、透明部材にこのような硬化被膜を形成すると、透明部材が元々有していた透過率よりも、片面コーティングで1%〜5%程度透過率が低くなり、屋外での汚染物質に対する防汚染性効果で透過率を維持したとしても、光半導体を含有させることによって初期の透過率が低下している分だけ不利になり、採用に当たっては、長期的な透過率データを必要とする。また、光半導体は有機物を分解する作用を有するため、ポリカーボネイト、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の有機基材に直接コーティングすると、有機基材が光半導体の作用で分解・白化するおそれがある。そのため、有機基材と光半導体を含有するコーティング被膜との間にシリコーン樹脂からなるバリアー層を設けることが必要となり、この結果、さらに透過率を低下させてしまうことになるものであった。同様のことは、反射膜の付いた反射板でも、初期反射率を低下させてしまうということで問題になるものであった。 However, since TiO 2, which is a typical optical semiconductor substance, is a high refractive index material, its cured film becomes a high refractive film. When such a cured film is formed on a transparent member, the transparent member originally has 1% to 5% lower than that of the single-sided coating, and even if the transmittance is maintained due to the antifouling effect against outdoor contaminants, the initial transmission is achieved by including the optical semiconductor. The reduced rate is disadvantageous and requires long-term transmittance data for adoption. In addition, since the optical semiconductor has a function of decomposing organic substances, if it is directly coated on an organic substrate such as polycarbonate, an acrylic resin, or a fluororesin, the organic substrate may be decomposed or whitened by the action of the optical semiconductor. Therefore, it is necessary to provide a barrier layer made of a silicone resin between the organic substrate and the coating film containing the optical semiconductor, and as a result, the transmittance is further reduced. The same is a problem because a reflective plate provided with a reflective film lowers the initial reflectance.
一方、透明部材の表面に高屈折膜と低屈折膜を積層して、例えばディスプレイ表面の反射防止を行なうことが一般的に行なわれているが、現在はディスプレイの平面化に伴い、PETフィルムに代表される透明有機フィルムに液体コーティング材を塗布して高屈折層と低屈折層を積層した反射防止フィルムが用いられている。この反射防止フィルムにおける反射防止能は、同時に透過率がアップすることを意味している(例えば、特許文献2等参照)。 On the other hand, it is common practice to laminate a high-refractive film and a low-refractive film on the surface of a transparent member, for example, to prevent reflection on the display surface. An antireflection film is used in which a liquid coating material is applied to a representative transparent organic film and a high refractive layer and a low refractive layer are laminated. The antireflection ability of this antireflection film means that the transmittance is simultaneously increased (for example, see Patent Document 2).
しかし、この反射防止フィルムにおいて、最表面の低屈折層は、一般的にはフッ素樹脂系材料からなるが、コーティング法で形成されるフッ素樹脂系材料であるので、フッ素樹脂フィルムで知られるような屋外30年耐久性は有していない。そのため、上記のようなディスプレイ用の反射防止フィルムを屋外で使用することはできないという問題があった。また、フッ素樹脂材料は表面が通常撥水性であるので、屋外で汚れが表面に蓄積しやすく、この汚れで透過率あるいは反射率が短期間で低下する傾向にあるという問題もあった。
本発明は上記の問題点を解決するものであり、表面の親水性による耐汚染性機能によって、光透過率を屋外で長期間に亘って維持することができるフッ素系複合樹脂フィルムを提供することを目的とするものであり、また発電効率を向上させることができる太陽電池を提供することを目的とするものである。 The present invention is to solve the above problems, and to provide a fluorine-based composite resin film capable of maintaining a light transmittance outdoors for a long period of time by a stain resistance function due to hydrophilicity of the surface. It is another object of the present invention to provide a solar cell capable of improving power generation efficiency.
本発明の請求項1に係るフッ素系複合樹脂フィルムは、透明フッ素系フィルムの表面に、このフッ素系フィルムより屈折率の高いアクリル系フィルムが積層され、且つこのアクリル系フィルムの表面に1層以上の透明樹脂層が積層されて形成されるフッ素系複合樹脂フィルムにおいて、最表面の透明樹脂層が、シリコーン化合物の縮合物をバインダー成分とし、且つ表面水滴接触角が40°以下のコーティング乾燥被膜から形成されていると共に、この最表面の乾燥被膜の屈折率は、その直下に位置する透明樹脂層あるいはアクリル系フィルムの屈折率より低いことを特徴とするものである。 The fluorine-based composite resin film according to claim 1 of the present invention has an acrylic film having a higher refractive index than the fluorine-based film laminated on the surface of the transparent fluorine-based film, and one or more layers on the surface of the acrylic film. In a fluorine-based composite resin film formed by laminating a transparent resin layer of the above, the outermost transparent resin layer is formed from a coating dry film having a condensate of a silicone compound as a binder component, and a surface water droplet contact angle of 40 ° or less. While being formed, the refractive index of the outermost dried film is lower than the refractive index of the transparent resin layer or acrylic film located immediately below.
また請求項2の発明は、請求項1において、最表面の乾燥被膜の直下の透明樹脂層が、熱硬化性ハードコート樹脂層であることを特徴とするものである。 A second aspect of the present invention is characterized in that, in the first aspect, the transparent resin layer immediately below the outermost dry film is a thermosetting hard coat resin layer.
また請求項3の発明は、請求項1又は2において、少なくとも一部の透明樹脂層が光拡散手段を有して形成されていることを特徴とするものである。 According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, at least a part of the transparent resin layer is formed having a light diffusing means.
また請求項4の発明は、請求項3において、光拡散手段が紫外線吸収機能を有する無機粒子で形成されていることを特徴とするものである。 According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect, the light diffusing means is formed of inorganic particles having an ultraviolet absorbing function.
また請求項5の発明は、請求項4において、無機粒子が金属酸化物であることを特徴とするものである。 According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect, the inorganic particles are metal oxides.
また請求項6の発明は、請求項1乃至5のいずれかに記載のフッ素系複合樹脂フィルムが、太陽電池モジュールの最表面に備えられたことを特徴とするものである。 The invention of claim 6 is characterized in that the fluorine-based composite resin film according to any one of claims 1 to 5 is provided on the outermost surface of a solar cell module.
請求項1の発明によれば、光半導体を用いる必要なくシリコーン化合物の縮合物をバインダー成分として表面を親水性に形成することができ、表面の親水性による耐汚染性機能によって、光透過率を屋外で長期間に亘って維持することができるものである。しかもフッ素系フィルムの表面にはフッ素系フィルムより屈折率の高いアクリル系フィルムが積層されているため、フッ素系フィルムの上に直接形成する場合よりも高い屈折率の乾燥被膜でも透過率を向上させることが可能になり、乾燥被膜を形成するコーティング材組成物の設計の自由度を高くすることができるものである。 According to the invention of claim 1, the surface can be formed to be hydrophilic by using a condensate of a silicone compound as a binder component without using an optical semiconductor, and the light transmittance is improved by the stain resistance function due to the hydrophilicity of the surface. It can be maintained outdoors for a long time. In addition, since an acrylic film having a higher refractive index than the fluorine-based film is laminated on the surface of the fluorine-based film, the transmittance is improved even with a dry coating having a higher refractive index than when directly formed on the fluorine-based film. This makes it possible to increase the degree of freedom in designing a coating material composition for forming a dry film.
また請求項2の発明によれば、フッ素系複合樹脂フィルムの耐候性を高めることができるものである。 According to the invention of claim 2, the weather resistance of the fluorine-based composite resin film can be enhanced.
また請求項3の発明によれば、反射光を拡散させて透過率を高めることができるものである。 According to the third aspect of the present invention, the transmittance can be increased by diffusing the reflected light.
また請求項4の発明によれば、光拡散機能と共に紫外線吸収機能を同時に付与することができるものである。 Further, according to the invention of claim 4, it is possible to simultaneously provide the ultraviolet light absorbing function together with the light diffusing function.
また請求項5の発明によれば、フッ素系複合樹脂フィルムの耐候性を高めることができるものである。 According to the invention of claim 5, the weather resistance of the fluorine-based composite resin film can be improved.
請求項6の発明によれば、太陽電池モジュールの表面が汚れて光の透過率が低下することを防止することができ、発電効率を向上させることができるものである。しかもフッ素系複合樹脂フィルムは薄く軽量であり、太陽電池を家屋の屋根の上などに設置するにあたって重量負担を軽減することができるものである。 According to the invention of claim 6, it is possible to prevent the surface of the solar cell module from being stained and to reduce the light transmittance, thereby improving the power generation efficiency. Moreover, the fluorine-based composite resin film is thin and lightweight, and can reduce the weight burden when the solar cell is installed on the roof of a house or the like.
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。 Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described.
本発明に係るフッ素系複合樹脂フィルムは、透明フッ素系フィルムの表面に、このフッ素系フィルムより屈折率の高いアクリル系フィルムを積層したものを樹脂フィルム基材とし、この樹脂フィルム基材のアクリル系フィルムの表面に、シリコーン化合物の縮合物をバインダー成分とするコーティング材組成物をコーティングして乾燥被膜を作製し、この乾燥被膜で最表面の透明樹脂層を形成することによって得られるものである。 The fluorine-based composite resin film according to the present invention, a transparent fluorine-based film on the surface, a laminate of an acrylic film having a higher refractive index than the fluorine-based film as a resin film substrate, the acrylic film of the resin film substrate The film is obtained by coating the surface of a film with a coating material composition containing a condensate of a silicone compound as a binder component to form a dried film, and forming the outermost transparent resin layer with the dried film.
本発明で形成される上記のシリコーン化合物(マトリクス形成材料)の縮合物からなる乾燥被膜において、このマトリクス形成材料は多孔質のマトリクス(バインダー)を形成する性質を有するものである。ここで、この多孔質のマトリクスを形成する性質とは、マトリクス形成材料を、それが溶解し得る適切な液体溶媒(例えば水、有機溶媒等)に溶解させて得られる液体混合物を、基材に塗布して形成される塗膜を乾燥して得られる被膜としてのフィルム状物が微細な空隙を含む多孔質体となる性質を意味する。空隙の形態は特に限定されるものではなく、独立気泡のように独立していても、あるいは連続気泡のようにつながっていてもよい。空隙の形状も特に限定されるものではなく、例えば球形であっても、あるいは細長い孔状であってもよい。コーティング材組成物を塗布して乾燥することによって形成される被膜において、マトリクス形成材料以外に微粒子が存在する場合、マトリクスと微粒子との間の境界部に空隙が存在するときや、微粒子同士の間の境界部に空隙が存在するときには、これらの空隙もマトリクスの多孔質を構成する微細な空隙と実質的に同じである。 In the dried film formed of the above-mentioned condensate of the silicone compound (matrix forming material) formed in the present invention, the matrix forming material has a property of forming a porous matrix (binder). Here, the property of forming a porous matrix means that a liquid mixture obtained by dissolving a matrix forming material in a suitable liquid solvent in which the matrix forming material can be dissolved (eg, water, an organic solvent, etc.) is used as a base material. It means that a film-like material obtained by drying a coating film formed by coating becomes a porous body containing fine voids. The form of the void is not particularly limited, and may be independent like closed cells or connected like open cells. The shape of the void is not particularly limited, and may be, for example, spherical or elongated. In the film formed by applying and drying the coating material composition, when fine particles are present in addition to the matrix forming material, when there is a void at the boundary between the matrix and the fine particles, or between fine particles. When there are voids at the boundary of the matrix, these voids are also substantially the same as the fine voids that constitute the porosity of the matrix.
このように、コーティング材組成物を用いて形成された乾燥被膜は多孔質のマトリクスからなるものであり、バインダーとして作用するマトリクスがその中に微細な空隙を多数含む状態であるので、マトリクスの見かけ比重がマトリクスを構成する材料自体(即ち、空隙が実質的に存在しない場合の材料)の真比重より小さい。マトリクスの真比重に対するマトリクスの見かけ比重の割合(見かけ比重/真比重)は、好ましくは0.90以下、より好ましくは0.75以下である。尚、この割合は、塗膜が上記の微粒子の存在に起因する空隙を含む場合、このような空隙の体積をも含んで算出される値である。 As described above, the dried film formed using the coating material composition is composed of a porous matrix, and the matrix acting as a binder contains a large number of fine voids therein. The specific gravity is smaller than the true specific gravity of the material constituting the matrix itself (that is, the material when there are substantially no voids). The ratio of the apparent specific gravity of the matrix to the true specific gravity of the matrix (apparent specific gravity / true specific gravity) is preferably 0.90 or less, more preferably 0.75 or less. Note that, when the coating film includes voids due to the presence of the fine particles, the ratio is a value calculated including the volume of such voids.
上述の塗膜の乾燥に際しては、マトリクス形成材料がマトリクスに転換される間、マトリクス形成材料は化学的に変化してもよく、あるいは化学的に変化しなくてもよい。そのような化学的な変化は、例えば加水分解反応およびその後の縮合反応等に起因するマトリクス形成材料の変化であってもよい。化学的に変化しない場合であっても、マトリクス形成材料は、液体に溶解した状態から多孔質状態に構造が変化する。ここで乾燥とは、コーティング材組成物を塗布することによって形成した塗膜の液体成分が実質的に残らないようにして、固体の被膜が残るようにする処理であり、この乾燥に際しては、加熱してもよい。 Upon drying of the coating film described above, the matrix-forming material may or may not chemically change while the matrix-forming material is converted to a matrix. Such a chemical change may be, for example, a change in the matrix forming material resulting from a hydrolysis reaction and a subsequent condensation reaction. Even if it does not chemically change, the structure of the matrix forming material changes from a state of being dissolved in a liquid to a state of being porous. Here, the drying is a treatment for preventing a liquid component of a coating film formed by applying the coating material composition from remaining substantially so that a solid coating film remains. May be.
尚、マトリクス形成材料が乾燥に際して多孔質のマトリクスを転換するメカニズムは、いずれの適当なものであってもよい。例えば、マトリクス形成材料を含む液体混合物の塗膜を乾燥してフィルム状物を得る過程において、マトリクス形成材料の化学的変化によってフィルム状物自体が多孔質構造を有するメカニズムを採用できる。具体的には、マトリクス形成材料が架橋および/または縮合することに起因して多孔質構造を固有的に有するマトリクスを形成できる。また、別の態様では、マトリクス形成材料を含む液体混合物の塗膜から液体成分を除去した後に、液体成分が予め占めていた領域がそのまま空隙として残るメカニズムを採用することができる。更に、マトリクス形成材料の一部が、比較的熱分解し易い官能基を含み、乾燥被膜形成後に熱乾燥することにより官能基が熱分解され、官能基が予め占めていた領域がそのまま空隙として残るメカニズムも採用できる。更には、マトリクス形成材料の液状での分子構造を制御する方法(例えば3次元架橋/2次元架橋の比率、分子量等の制御)を採用することができる。2次元架橋が多いほど、あるいは分子量が小さいほど乾燥被膜はより多孔質になる傾向にある。 The mechanism by which the matrix forming material converts the porous matrix upon drying may be any suitable one. For example, in the process of drying a coating film of a liquid mixture containing a matrix forming material to obtain a film, a mechanism in which the film itself has a porous structure due to a chemical change of the matrix forming material can be employed. Specifically, a matrix inherently having a porous structure can be formed due to crosslinking and / or condensation of the matrix forming material. In another embodiment, a mechanism can be adopted in which after the liquid component is removed from the coating film of the liquid mixture containing the matrix forming material, a region previously occupied by the liquid component remains as a void. Furthermore, a part of the matrix forming material contains a functional group that is relatively easily decomposed by thermal decomposition, and the functional group is thermally decomposed by heat drying after forming a dry film, and a region previously occupied by the functional group remains as a void. Mechanisms can also be employed. Furthermore, a method of controlling the molecular structure of the matrix forming material in a liquid state (for example, controlling the ratio of three-dimensional crosslinking / two-dimensional crosslinking, molecular weight, etc.) can be adopted. The more the two-dimensional crosslinks or the lower the molecular weight, the more the dried film tends to be more porous.
そして本発明において、マトリクス形成材料によって形成されるマトリクスは、耐候性の観点からシリコーン系樹脂(シリカ樹脂)等であることが必要である。 In the present invention, the matrix formed from the matrix forming material needs to be a silicone resin (silica resin) or the like from the viewpoint of weather resistance.
本発明で用いるコーティング材組成物の1つの態様において、マトリクス形成材料として使用できるシリコーン化合物は、シロキサン結合を有する珪素化合物(これを「珪素化合物(1)」と呼ぶ)であるか、あるいはフィルム状物(乾燥被膜)を形成する過程において、シロキサン結合を新たにもたらし得る珪素化合物(これを「珪素化合物(2)」と呼ぶ)である。後者の珪素化合物(2)は、既にシロキサン結合を有していてもよい。これらの珪素化合物には、有機珪素化合物(即ち、有機基を有する珪素化合物)、ハロゲン化珪素化合物(例えば、塩素、フッ素等のハロゲンを含む珪素化合物)および有機ハロゲン化珪素化合物(即ち、有機基およびハロゲンを含む珪素化合物)等が含まれる。 In one embodiment of the coating material composition used in the present invention, the silicone compound that can be used as the matrix forming material is a silicon compound having a siloxane bond (this is referred to as “silicon compound (1)”) or a film-like compound. In the process of forming the product (dry film), it is a silicon compound (this is referred to as “silicon compound (2)”) that can newly introduce a siloxane bond. The latter silicon compound (2) may already have a siloxane bond. These silicon compounds include organic silicon compounds (that is, silicon compounds having an organic group), silicon halide compounds (for example, silicon compounds containing halogen such as chlorine and fluorine), and organic silicon halide compounds (that is, organic group). And a silicon compound containing halogen).
コーティング材組成物のマトリクス形成材料が、シロキサン結合を新たにもたらし得る珪素化合物(2)である場合、加水分解可能置換基および水酸基から選択される基の少なくとも2つが、同じまたは異なる珪素原子に結合している珪素化合物であるのが好ましい。これらの少なくとも2つの基は、同じであっても、あるいは異なっていてもよい。加水分解可能置換基は水の存在下で加水分解して水酸基を有する化合物(シラノール化合物)となる。従って、加水分解可能置換基および水酸基から選択される基の少なくとも2つが同じまたは異なる珪素原子に結合している珪素化合物は、水の存在下、加水分解可能置換基および水酸基から選択される基の少なくとも2つが同じまたは異なる珪素原子に結合している同じ種類または別の種類の珪素化合物と縮合して新たにシロキサン結合をもたらす。 When the matrix forming material of the coating material composition is a silicon compound (2) capable of newly providing a siloxane bond, at least two of the groups selected from a hydrolyzable substituent and a hydroxyl group are bonded to the same or different silicon atoms. It is preferably a silicon compound. These at least two groups may be the same or different. The hydrolyzable substituent is hydrolyzed in the presence of water to form a compound having a hydroxyl group (silanol compound). Therefore, a silicon compound in which at least two of the groups selected from the hydrolyzable substituents and the hydroxyl groups are bonded to the same or different silicon atoms, in the presence of water, the group selected from the hydrolyzable substituents and the hydroxyl group. Condensation with the same or another type of silicon compound in which at least two are bonded to the same or different silicon atoms results in a new siloxane bond.
本発明で用いるコーティング材組成物の他の1つの態様において、マトリクス形成材料として使用することができるシリコーン化合物は、次の一般式(1): In another embodiment of the coating material composition used in the present invention, the silicone compound that can be used as the matrix forming material has the following general formula (1):
(式中、置換基X1、X2、X3およびX4は水素、ハロゲン(例えば塩素、フッ素等)、1価の炭化水素基、OR(Rは1価の炭化水素基)で表されるアルコキシ基およびOHで表される水酸基から選択される基であり、これらは相互に異なっても、部分的に異なっても、あるいは全部同じであってもよい。X1〜X4のうち少なくとも2つは、それぞれアルコキシ基および水酸基から選択される基である。)
で表されるシラン化合物である(これを「シラン化合物(1)」と呼ぶ)。このシラン化合物(1)は、上記珪素化合物(2)に相当し、少なくとも2つ、好ましくは3つ、より好ましくは4つの同じまたは異なるアルコキシル基および/もしくは水酸基を有する。マトリクス形成材料は、このシラン化合物(1)の少なくとも1つのアルコキシル基が加水分解されているものであってもよい。
(Wherein, substituents X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are represented by hydrogen, halogen (eg, chlorine, fluorine, etc.), a monovalent hydrocarbon group, OR (R is a monovalent hydrocarbon group)) Selected from the group consisting of an alkoxy group and a hydroxyl group represented by OH, which may be different from each other, partially different from each other, or the same as at least one of X 1 to X 4 . Two are groups selected from an alkoxy group and a hydroxyl group, respectively.)
(This is referred to as “silane compound (1)”). This silane compound (1) corresponds to the silicon compound (2) and has at least two, preferably three, and more preferably four identical or different alkoxyl groups and / or hydroxyl groups. The matrix forming material may be one in which at least one alkoxyl group of the silane compound (1) is hydrolyzed.
さらに別の態様では、マトリクス形成材料としてのシリコーン化合物は、上記シラン化合物(1)の1種またはそれ以上が、加水分解可能な場合には加水分解した後、縮合することによって生成するシロキサン化合物またはポリシロキサン化合物(このシロキサン化合物とポリシロキサン化合物を総称して「(ポリ)シロキサン化合物(1)」と呼ぶ)である。尚、ポリシロキサン化合物とは2以上のシロキサン結合を有する化合物を意味する。この(ポリ)シロキサン化合物(1)は、上記珪素化合物(1)に相当する。また、この(ポリ)シロキサン化合物(1)は、少なくとも2つのアルコキシル基および/または水酸基を置換基として有するのが好ましく(このような(ポリ)シロキサン化合物を「(ポリ)シロキサン化合物(2)」と呼ぶ)、その場合、この(ポリ)シロキサン化合物(2)は、シロキサン結合を既に有するが、上記珪素化合物(2)に相当する。 In still another embodiment, the silicone compound as a matrix-forming material is a siloxane compound or a siloxane compound formed by condensing one or more of the silane compounds (1) after hydrolyzing, if hydrolyzable. A polysiloxane compound (the siloxane compound and the polysiloxane compound are collectively referred to as “(poly) siloxane compound (1)”). The polysiloxane compound means a compound having two or more siloxane bonds. This (poly) siloxane compound (1) corresponds to the silicon compound (1). The (poly) siloxane compound (1) preferably has at least two alkoxyl groups and / or hydroxyl groups as substituents (such a (poly) siloxane compound is referred to as a “(poly) siloxane compound (2)”). In this case, the (poly) siloxane compound (2) already has a siloxane bond, but corresponds to the silicon compound (2).
尚、上記のシラン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)は、アルコキシル基を有する場合、アルコキシル基が加水分解して生成する水酸基を有することができる。その結果、これらのシラン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)も、コーティング材組成物を塗布して乾燥するに際して、少なくとも部分的に縮合して架橋し、多孔質のマトリクスを形成できる。従って、この縮合に際しては、生成する全ての水酸基が縮合に関与するとは限らず、一般的には、一部分の水酸基は、そのままの状態で残る。尚、(ポリ)シロキサン化合物(1)は、アルコキシ基および/または水酸基の置換基を有さない場合であっても、コーティング材組成物を塗布して乾燥するに際して、多孔質のマトリクスを形成できる。 When the silane compound (1) and the (poly) siloxane compound (2) have an alkoxyl group, they may have a hydroxyl group generated by hydrolysis of the alkoxyl group. As a result, the silane compound (1) and the (poly) siloxane compound (2) can be at least partially condensed and cross-linked to form a porous matrix when the coating material composition is applied and dried. . Therefore, at the time of this condensation, not all the generated hydroxyl groups are involved in the condensation, and generally, a part of the hydroxyl groups remains as it is. Incidentally, the (poly) siloxane compound (1) can form a porous matrix when the coating material composition is applied and dried even if it has no alkoxy group and / or hydroxyl group substituent. .
このように、シラン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)は、架橋して多孔質のマトリクスを形成するが、置換基の水酸基、または置換基がアルコキシ基の場合はそれが加水分解して生成する水酸基は、珪素化合物同士の縮合による架橋をもたらすと共に、架橋に関与せずに残存するものは、親水性基として機能してコーティング基材等への密着性を向上させることができるものであり、また被膜が帯電し難くなるものである。 As described above, the silane compound (1) and the (poly) siloxane compound (2) are cross-linked to form a porous matrix. However, when the substituent is a hydroxyl group or the substituent is an alkoxy group, it is hydrolyzed. The hydroxyl group generated by the crosslinking causes cross-linking due to condensation between silicon compounds, and the one remaining without participating in the cross-linking can function as a hydrophilic group to improve adhesion to a coating substrate or the like. And the film is hardly charged.
このようなシラン化合物(1)はその分子量が40〜300であるのが好ましく、100〜200であるのがより好ましい。また、(ポリ)シロキサン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)は、乾燥被膜の機械的強度が要求される場合は、その重量平均分子量が約200〜2000であるのが好ましく、600〜1200であるのがより好ましい。この範囲の分子量であると、乾燥被膜の強度がアップしかつマトリクスの多孔質率がアップし易い傾向にある。また、(ポリ)シロキサン化合物(1)および(ポリ)シロキサン化合物(2)は、乾燥被膜に機械的強度を要求されない場合は、その重量平均分子量が約2000以上であるのが好ましく、5000以上であるのがより好ましい。この範囲の分子量であると、より加水分解反応が進むため、未反応のアルコキシ基がほとんど存在せず、乾燥被膜はより低屈折率になりやすい傾向にある。 Such a silane compound (1) preferably has a molecular weight of 40 to 300, and more preferably 100 to 200. In the case where the (poly) siloxane compound (1) and the (poly) siloxane compound (2) are required to have a mechanical strength of a dry film, the weight average molecular weight thereof is preferably about 200 to 2,000. More preferably, it is で 1200. When the molecular weight is in this range, the strength of the dried film tends to increase and the porosity of the matrix tends to increase. When the (poly) siloxane compound (1) and the (poly) siloxane compound (2) do not require a mechanical strength in the dry film, the weight average molecular weight is preferably about 2,000 or more, preferably 5,000 or more. More preferably, there is. When the molecular weight is in this range, the hydrolysis reaction proceeds more, and there is almost no unreacted alkoxy group, and the dry film tends to have a lower refractive index.
本発明で用いるコーティング材組成物の好ましい1つの態様において、マトリクス形成材料として使用することのできるシリコーン化合物は、SiX4(Xは加水分解可能な1価の有機置換基、例えばアルコキシル基)で表される4官能加水分解可能オルガノシランである。この4官能加水分解可能オルガノシランは、上記のシラン化合物(1)に含まれるものである。 In one preferred embodiment of the coating material composition used in the present invention, the silicone compound that can be used as the matrix forming material is represented by SiX 4 (X is a hydrolyzable monovalent organic substituent, for example, an alkoxyl group). Is a tetrafunctional hydrolyzable organosilane. This tetrafunctional hydrolyzable organosilane is included in the silane compound (1).
本発明で用いるコーティング材組成物の好ましいもう1つの態様において、マトリクス形成材料として使用することのできるシリコーン化合物は、SiX4(Xは加水分解可能な有機置換基、例えばアルコキシ基)で表される4官能加水分解可能オルガノシランの部分加水分解物及び/又は完全加水分解物が縮合して生成するシロキサン結合を有する化合物、好ましくは複数のシロキサン結合を有する樹脂(この化合物および樹脂を総称して「シリコーンレジン」と呼ぶ)である。このようなシリコーンレジンは上記の(ポリ)シロキサン化合物(1)に含まれるが、シリコーンレジンが、珪素に結合した水酸基または加水分解可能な有機置換基を有する縮合性である場合には、(ポリ)シロキサン化合物(2)に相当する。尚、完全加水分解物とは加水分解可能な有機置換基が全て加水分解したもの、即ち、テトラヒドロキシシラン(Si(OH)4)を意味し、部分加水分解物とはそれ以外の加水分解物(即ち、ジまたはトリヒドロキシシラン)を意味する。このようなシリコーンレジンについても、重量平均分子量は約200〜2000であるのが好ましく、600〜1200であるのがより好ましい。 In another preferable embodiment of the coating material composition used in the present invention, the silicone compound that can be used as the matrix forming material is represented by SiX 4 (X is a hydrolyzable organic substituent, for example, an alkoxy group). A compound having a siloxane bond formed by condensation of a partial hydrolyzate and / or a complete hydrolyzate of a tetrafunctional hydrolyzable organosilane, preferably a resin having a plurality of siloxane bonds (the compound and the resin are collectively referred to as “ Silicone resin "). Such a silicone resin is included in the above-mentioned (poly) siloxane compound (1). However, when the silicone resin is condensable having a hydroxyl group bonded to silicon or a hydrolyzable organic substituent, the (poly) siloxane ) It corresponds to the siloxane compound (2). The complete hydrolyzate means a product in which all hydrolyzable organic substituents are hydrolyzed, that is, tetrahydroxysilane (Si (OH) 4 ), and the partial hydrolyzate is other hydrolyzate. (I.e., di- or trihydroxysilane). The weight average molecular weight of such a silicone resin is preferably about 200 to 2,000, and more preferably 600 to 1200.
上述のようなシラン化合物(1)、(ポリ)シロキサン化合物(1)、(ポリ)シロキサン化合物(2)、4官能加水分解可能オルガノシランならびにシリコーンレジンは、それによって形成されるフィルム状物(乾燥被膜)が親水性となるものが好ましく、例えば、石英ガラス基材の表面に膜厚100nmとなるように塗布して乾燥し、100℃における熱処理によって得られる被膜の表面水滴接触角が40°以下、好ましくは20°以下、より好ましくは10°以下となるようなフィルム状物を形成できるのが好ましい。 The silane compound (1), the (poly) siloxane compound (1), the (poly) siloxane compound (2), the tetrafunctional hydrolyzable organosilane and the silicone resin as described above are used to form a film (dry) It is preferable that the coating film becomes hydrophilic. For example, the coating film is coated on the surface of a quartz glass substrate so as to have a thickness of 100 nm, dried, and the surface water contact angle of the coating film obtained by the heat treatment at 100 ° C. is 40 ° or less. It is preferable to be able to form a film-like material having an angle of preferably 20 ° or less, more preferably 10 ° or less.
例えばシリコーンレジンは、SiX4(X=OR、Rは1価の炭化水素基)で表されるテトラアルコキシシランを、モル比[H2O]/[OR]が1.0以上、例えば1.0〜5.0、好ましくは1.0〜3.0となる量の水の存在下、ならびに好ましくは酸又はアルカリ触媒存在下で、加水分解して得られた部分加水分解物及び/又は完全加水分解物を用いて得ることができる。特に酸触媒存在下で、加水分解して得られる加水分解物及び/又は完全加水分解物は、2次元架橋構造を形成しやすいため、乾燥被膜の多孔質率アップになる傾向がある。また1.0未満のモル比では未反応アルコキシル基の量が多くなり、被膜の屈折率を高くするといった悪影響を及ぼすおそれがあり、逆に、5.0より大きい場合には縮合反応が極端に速くに進み、コーティング材組成物のゲル化を招くおそれがある。この場合、加水分解は、いずれの適当な条件で実施してもよい。例えば、5℃〜30℃の温度で10分〜2時間、これらの材料を撹拌して混合することによって加水分解できる。また、分子量を2000以上にして、マトリクス材料自身の屈折率をより小さくするためには、得られた加水分解物を、例えば40〜100℃で2〜100時間反応させて所望のシリコーンレジンを得ることができる。 For example, silicone resin is prepared by mixing tetraalkoxysilane represented by SiX 4 (X = OR, R is a monovalent hydrocarbon group) with a molar ratio [H 2 O] / [OR] of 1.0 or more, for example, 1. Partial hydrolyzate and / or complete hydrolyzate obtained in the presence of water in an amount of from 0 to 5.0, preferably from 1.0 to 3.0, and preferably in the presence of an acid or alkali catalyst. It can be obtained using a hydrolyzate. In particular, a hydrolyzate and / or a complete hydrolyzate obtained by hydrolysis in the presence of an acid catalyst tends to form a two-dimensional crosslinked structure, and thus tends to increase the porosity of the dried film. When the molar ratio is less than 1.0, the amount of the unreacted alkoxyl group increases, which may adversely affect the refractive index of the coating film. There is a possibility that the coating material composition may progress rapidly and cause gelation of the coating material composition. In this case, the hydrolysis may be performed under any suitable conditions. For example, hydrolysis can be performed by stirring and mixing these materials at a temperature of 5 ° C to 30 ° C for 10 minutes to 2 hours. Further, in order to make the molecular weight 2000 or more and lower the refractive index of the matrix material itself, the obtained hydrolyzate is reacted at, for example, 40 to 100 ° C. for 2 to 100 hours to obtain a desired silicone resin. be able to.
上記のように分子量2000以上のシリコーンレジンを得るに際して、SiX4と水と希釈シンナー及び他成分合計量に対して、5重量%以上20重量%以下のSiO2換算の固形分(SiX4に含まれるSiが全てSiO2に変換されると仮定した場合のSiO2の量)となるような量のSiX4を用いて加水分解反応して得られる部分加水分解物及び/又は加水分解物を用いるのが特に好ましい。SiX4の量が5重量%未満では、上記の量の水を配合しても未反応アルコキシル基の量が多くなる場合があり、マトリクス材料の屈折率を高くするといった悪影響を及ぼすおそれがあり、逆に、20重量%より大きくなると、上記の量の水を配合してもコーティング材組成物のゲル化を招くおそれがある。 When a silicone resin having a molecular weight of 2,000 or more is obtained as described above, a solid content in terms of SiO 2 of 5% by weight or more and 20% by weight or less with respect to the total amount of SiX 4 , water, a diluted thinner and other components (contained in Six 4 Si is used for all partial hydrolyzate obtained by hydrolysis with the amount of SiX 4 such that SiO 2 quantity) assuming that is converted to SiO 2 and / or hydrolyzate Is particularly preferred. If the amount of SiX 4 is less than 5% by weight, the amount of unreacted alkoxyl groups may increase even if the above amount of water is blended, which may adversely affect the refractive index of the matrix material, Conversely, if it is more than 20% by weight, gelling of the coating material composition may occur even if the above amount of water is blended.
本発明で用いるコーティング材組成物には、バインダー成分の他に各種の微粒子を含有させることができる。この微粒子としては、シリカ系微粒子を用いるのが好ましく、使用用途が透過率向上の場合は、中空微粒子、特に中空シリカ微粒子を用いるのが好ましい。ここで、中空微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有する粒子である。中空微粒子自体の屈折率は、1.20〜1.40であるのが好ましく1.20〜1.35であるのがより好ましい。尚、中空微粒子の屈折率は、特開2001−233611号公報に開示されている方法によって測定できる。すなわち、標準屈折液としてCARGILL製のSeriesA、AAを用い、微粒子分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させ、これを120℃で乾燥し、粉末とする。次に屈折率が既知の標準屈折液を2、3滴ガラス板上に滴下し、これにこの粉末を混合する。そしてこの操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率を微粒子の屈折率とする。 The coating material composition used in the present invention can contain various fine particles in addition to the binder component. As the fine particles, silica-based fine particles are preferably used, and when the application is to improve the transmittance, hollow fine particles, particularly hollow silica fine particles, are preferably used. Here, the hollow fine particles are particles having a cavity surrounded by an outer shell. The refractive index of the hollow fine particles themselves is preferably from 1.20 to 1.40, and more preferably from 1.20 to 1.35. The refractive index of the hollow fine particles can be measured by the method disclosed in JP-A-2001-233611. That is, Series A and AA manufactured by CARGILL are used as the standard refraction liquid, the fine particle dispersion liquid is taken in an evaporator, the dispersion medium is evaporated, and the dispersion medium is dried at 120 ° C. to obtain a powder. Next, a few drops of a standard refraction liquid having a known refractive index are dropped on a glass plate, and this powder is mixed therewith. This operation is performed using various standard refraction liquids, and the refractive index of the standard refraction liquid when the mixture becomes transparent is defined as the refractive index of the fine particles.
また中空微粒子の好ましい外径は5〜2000nmであり、より好ましくは20〜100nmである。外殻は、いずれの好ましい材料からできていてもよく、そのような好ましい材料には、金属酸化物、シリカ等が含まれる。中空微粒子は、その平均粒子径に比べて外殻の厚みが薄いものを用いるのが好ましく、また、乾燥被膜中に占める中空微粒子の体積が多くなるようにすることが好ましい。 Further, the preferable outer diameter of the hollow fine particles is 5 to 2000 nm, more preferably 20 to 100 nm. The outer shell may be made of any preferred material, such preferred materials include metal oxides, silica, and the like. The hollow fine particles preferably have a smaller outer shell thickness than the average particle diameter, and the volume of the hollow fine particles occupying the dry film is preferably large.
中空微粒子の外殻を構成する材料としては、より具体的には、SiO2、SiOx、TiO2、TiOx、SnO2、CeO2、Sb2O5、ITO、ATO、Al2O3等の単独材料や、またはこれらの材料を組み合わせた混合物材料を例示することができる。また、これらの材料のいずれかを組み合わせた複合酸化物であってもよい。尚、SiOxは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、SiO2となるものが好ましい。本発明の乾燥被膜はマトリクス材料がシリコーン樹脂からなるので、SiO2系材料を使用することが好ましい。 As the material constituting the outer shell of the hollow fine particles, more specifically, a single material such as SiO 2 , SiOx, TiO 2 , TiOx, SnO 2 , CeO 2 , Sb 2 O 5 , ITO, ATO, Al 2 O 3, etc. Examples of the material and a mixture material obtained by combining these materials can be given. Further, a composite oxide obtained by combining any of these materials may be used. Incidentally, SiOx, when firing in an oxidizing atmosphere, which becomes a SiO 2 are preferred. Since the dry film of the present invention has a matrix material made of a silicone resin, it is preferable to use a SiO 2 material.
また、中空微粒子の屈折率は、マトリクス形成材料の乾燥被膜からなるフィルム状物の屈折率より小さいのが好ましく、この場合、両者の差は少なくとも0.05が好ましく、より好ましくは少なくとも0.10である。この場合、フィルム状物の屈折率は比較的低いのが好ましく、例えば1.35〜1.50であるのが特に好ましい。別の態様では、中空微粒子の屈折率は、フィルム状物の屈折率より大きいのが好ましく、この場合、両者の差は少なくとも0.10が好ましく、好ましくは少なくとも0.15である。尚、フィルム状物の屈折率は、本発明で用いるコーティング材組成物により形成される乾燥被膜のマトリクスの部分の屈折率に対応する。 Further, the refractive index of the hollow fine particles is preferably smaller than the refractive index of a film-like substance formed of a dry film of the matrix forming material. In this case, the difference between the two is preferably at least 0.05, more preferably at least 0.10. It is. In this case, the refractive index of the film is preferably relatively low, for example, particularly preferably 1.35 to 1.50. In another aspect, the refractive index of the hollow fine particles is preferably larger than the refractive index of the film-like material, and in this case, the difference between the two is preferably at least 0.10, and more preferably at least 0.15. Incidentally, the refractive index of the film-like material corresponds to the refractive index of the matrix portion of the dry film formed by the coating material composition used in the present invention.
上記のように中空微粒子は、外殻の内部に空洞が形成されたものであり、いずれの適当な既知の中空微粒子を使用してもよいが、本発明において特に使用するのが好ましい中空微粒子は、シリカ系中空微粒子である。その平均粒子径、屈折率は先に説明したものがよい。具体的には、以下のようなものを用いることができる。すなわち、シリカ系無機酸化物からなる外殻(シェル)の内部に空洞を有した中空シリカ微粒子を用いることができる。シリカ系無機酸化物とは、(A)シリカ単一層、(B)シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる複合酸化物の単一層、及び(C)上記(A)層と(B)層との二重層を包含するものをいう。外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第1シリカ被覆層及び外側の第2シリカ被覆層からなる複数のシリカ系被覆層であることが好ましい。外側に第2シリカ被覆層を設けることにより、外殻の微細孔を閉塞させて外殻を緻密化したり、さらには、内部の空洞を密封した中空シリカ微粒子を得ることができる。 As described above, the hollow fine particles are those in which cavities are formed inside the outer shell, and any suitable known hollow fine particles may be used, but hollow fine particles particularly preferably used in the present invention are: And silica-based hollow fine particles. The average particle diameter and the refractive index are preferably as described above. Specifically, the following can be used. That is, hollow silica fine particles having a cavity inside a shell made of a silica-based inorganic oxide can be used. The silica-based inorganic oxide includes (A) a single layer of silica, (B) a single layer of a composite oxide composed of silica and an inorganic oxide other than silica, and (C) a layer of (A) and a layer of (B). And a double layer. The outer shell may be porous with pores, or the pores may be closed so that the cavity is sealed against the outside of the outer shell. The outer shell is preferably a plurality of silica-based coating layers including an inner first silica coating layer and an outer second silica coating layer. By providing the second silica coating layer on the outside, the fine pores of the outer shell can be closed to make the outer shell more dense, and further, hollow silica fine particles in which the inner cavity is sealed can be obtained.
外殻の厚みは1〜50nm、特に5〜20nmの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが1nm未満であると、中空微粒子が所定の粒子形状を保持していない場合がある。逆に、外殻の厚みが50nmを超えると、中空シリカ微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。更に、外殻の厚みは、中空微粒子の平均粒子径の1/50〜1/5の範囲にあることが好ましい。上述のように第1シリカ被覆層および第2シリカ被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記1〜50nmの範囲となるようにすればよく、特に、緻密化された外殻には、第2シリカ被覆層の厚みは20〜49nmの範囲が好適である。 The thickness of the outer shell is preferably in the range of 1 to 50 nm, especially 5 to 20 nm. If the thickness of the outer shell is less than 1 nm, the hollow fine particles may not have a predetermined particle shape. Conversely, if the thickness of the outer shell exceeds 50 nm, the cavities in the hollow silica fine particles are small, and as a result, the proportion of the cavities may be reduced and the refractive index may not be sufficiently reduced. Further, the thickness of the outer shell is preferably in the range of 1/50 to 1/5 of the average particle diameter of the hollow fine particles. In the case where the first silica coating layer and the second silica coating layer are provided as outer shells as described above, the total thickness of these layers may be in the range of 1 to 50 nm, and in particular, it is densified. For the outer shell, the thickness of the second silica coating layer is preferably in the range of 20 to 49 nm.
尚、空洞には中空シリカ微粒子を調製するときに使用した溶媒及び/又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよい。また、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞には残存していてもよい。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。ここで、前駆体物質とは、外殻によって包囲された核粒子から、核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。無機酸化物としては、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、Ce2O3、P2O5、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等の1種又は2種以上を挙げることができる。2種以上の無機酸化物として、TiO2−Al2O3、TiO2−ZrO2等を例示することができる。なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い中空シリカ微粒子が得られ、この中空シリカ微粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。 The cavity may contain the solvent used when preparing the hollow silica fine particles and / or the gas that enters during drying. In addition, a precursor substance for forming a cavity described later may remain in the cavity. The precursor material may adhere to the outer shell and remain slightly or occupy most of the cavity. Here, the precursor substance is a porous substance remaining after removing some of the constituent components of the core particles from the core particles surrounded by the outer shell. As the core particles, porous composite oxide particles composed of silica and an inorganic oxide other than silica are used. Examples of the inorganic oxide include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , Ce 2 O 3 , P 2 O 5 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. One or more kinds can be mentioned. Examples of two or more inorganic oxides include TiO 2 —Al 2 O 3 and TiO 2 —ZrO 2 . The solvent or gas may be present in the pores of the porous substance. At this time, when the removal amount of the constituent components of the core particles is increased, the volume of the cavity is increased, and hollow silica fine particles having a low refractive index are obtained. Excellent prevention performance.
上記のように中空シリカ微粒子の平均粒子径は5nm〜2μm(2000nm)の範囲が好ましい。5nmよりも平均粒子径が小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さく、逆に2μmよりも平均粒子径が大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射(Anti−Glare)による寄与が大きくなってしまう。コーティング材組成物を用いて形成される乾燥被膜が高い透明性を有することが要求される用途として、例えばディスプレイ最表面等の反射防止用途がある。そのためには、使用する中空シリカ微粒子の粒子径は5〜100nmの範囲内にあるのが好ましい。尚、本発明において粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。 As described above, the average particle diameter of the hollow silica fine particles is preferably in the range of 5 nm to 2 μm (2000 nm). When the average particle diameter is smaller than 5 nm, the effect of lowering the refractive index by the hollow is small. Conversely, when the average particle diameter is larger than 2 μm, the transparency becomes extremely poor, and the contribution by diffuse reflection (anti-glare) is made. Becomes large. Applications in which a dried film formed using a coating material composition is required to have high transparency include, for example, antireflection applications such as the outermost surface of a display. For this purpose, the particle diameter of the hollow silica fine particles used is preferably in the range of 5 to 100 nm. In the present invention, the particle diameter is a number average particle diameter as observed by a transmission electron microscope.
上記のような中空シリカ微粒子の製造方法は特開2001−233611号公報において公知であり、またこの方法で製造されたものが市販品として提供されており、市販品を容易に入手して使用に供することができる。 A method for producing hollow silica fine particles as described above is known in JP-A-2001-233611, and a product produced by this method is provided as a commercial product, and a commercial product is easily obtained and used. Can be offered.
上記のように本発明で用いるコーティング材組成物において、シリコーン化合物の1つの態様は、SiX4(Xは加水分解可能置換基)で表される4官能加水分解可能オルガノシラン、その部分加水分解物及び加水分解物、ならびにこれらが縮合したもの(即ち、シリコーンレジン)から選択されるものである。これらの材料はいずれも、中空シリカ微粒子の分散安定性に優れている。これに対して他の金属酸化物微粒子あるいは有機系中空微粒子を用いる場合には分散安定性に欠け、かつ得られる乾燥被膜の機械的強度が、シリカ中空微粒子より劣る傾向にある。他の金属酸化物あるいは有機系中空微粒子も、外殻最表面がシリカ系材料で被覆されている場合は、分散安定性、乾燥被膜の機械的強度を向上させることができる。また、これらの4官能加水分解可能オルガノシランおよびそれに由来する材料は、3官能加水分解可能オルガノシラン、2官能加水分解可能オルガノシラン、その部分加水分解物及び加水分解物、ならびにこれらのシランが縮合して生じるレジンをマトリクス形成材料として用いる場合と比較して、得られるフィルム状物の屈折率をより小さくし、更に、乾燥被膜の架橋密度をより高くすることができる。 As described above, in the coating material composition used in the present invention, one embodiment of the silicone compound is a tetrafunctional hydrolyzable organosilane represented by SiX 4 (X is a hydrolyzable substituent), and a partial hydrolyzate thereof. And a hydrolyzate thereof, and a product obtained by condensing them (that is, a silicone resin). All of these materials are excellent in dispersion stability of hollow silica fine particles. On the other hand, when other metal oxide fine particles or organic hollow fine particles are used, the dispersion stability is lacking, and the mechanical strength of the obtained dried film tends to be inferior to that of the silica hollow fine particles. When the outermost surface of the other metal oxide or organic hollow fine particles is coated with a silica-based material, the dispersion stability and the mechanical strength of the dried film can be improved. In addition, these tetrafunctional hydrolyzable organosilanes and materials derived therefrom include trifunctional hydrolyzable organosilanes, difunctional hydrolyzable organosilanes, partial hydrolysates and hydrolysates thereof, and condensation of these silanes. As compared with the case where the resin thus obtained is used as a matrix forming material, the refractive index of the obtained film-like material can be made smaller, and the crosslink density of the dried film can be made higher.
上記の4官能加水分解可能オルガノシランとしては、下記式(2)で表される4官能アルコキシシランを挙げることができる。 Examples of the above-mentioned tetrafunctional hydrolyzable organosilane include tetrafunctional alkoxysilane represented by the following formula (2).
Si(OR)4 式(2)
上記化学式(2)中のアルコキシル基「OR」の「R」は1価の炭化水素基であれば特に限定されるものではないが、炭素数1〜8の1価の炭化水素基が好適である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペプチル基、オクチル基等のアルキル基等を例示することができる。アルコキシル基中に含有されるアルキル基のうち、炭素数が3以上のものについては、n−プロピル基、n−ブチル基等のように直鎖状のものであってもよいし、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基等のように分岐を有するものであってもよい。
Si (OR) 4 Formula (2)
The “R” of the alkoxyl group “OR” in the chemical formula (2) is not particularly limited as long as it is a monovalent hydrocarbon group, but is preferably a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. is there. For example, alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group can be exemplified. Among the alkyl groups contained in the alkoxyl group, those having 3 or more carbon atoms may be linear such as an n-propyl group, an n-butyl group, or an isopropyl group, It may have a branch such as an isobutyl group or a t-butyl group.
4官能アルコキシシラン等の4官能加水分解可能オルガノシランを用いてシリコーンレジンを調製するにあたっては、4官能加水分解可能オルガノシランを加水分解(以下、部分加水分解も含む)して縮合する。ここで、得られるシリコーンレジンの重量平均分子量は特に限定されるものではないが、コーティング材組成物中のより少ない割合のシリコーンレジンによって、得られる乾燥被膜のより大きい機械的強度を得るためには、重量平均分子量は200〜2000の範囲にあることが好ましい。重量平均分子量が200より小さいと被膜形成能力に劣るおそれがあるが、機械的強度を必要しない用途では、マトリクス材料自身の屈折率を小さくするために分子量2000以上が有効である。尚、分子量は、後述するようにGPCを用いて測定した数値である。 In preparing a silicone resin using a tetrafunctional hydrolyzable organosilane such as a tetrafunctional alkoxysilane, the tetrafunctional hydrolyzable organosilane is hydrolyzed (hereinafter, also partially hydrolyzed) and condensed. Here, the weight-average molecular weight of the obtained silicone resin is not particularly limited, but in order to obtain a larger mechanical strength of the obtained dried film by a smaller proportion of the silicone resin in the coating material composition. The weight average molecular weight is preferably in the range of 200 to 2,000. If the weight-average molecular weight is smaller than 200, the film-forming ability may be inferior. However, in applications that do not require mechanical strength, a molecular weight of 2000 or more is effective to reduce the refractive index of the matrix material itself. The molecular weight is a numerical value measured using GPC as described later.
一般的に、4官能加水分解可能オルガノシランSiX4を加水分解して縮合することによって得られるシリコーンレジンは、分子内に未反応基、即ち、加水分解可能置換基Xが一部残った状態で縮合して、オリゴマー化あるいは高分子化されている。コーティング材組成物をコーティングして被膜を形成する場合、マトリクス形成材料としてのシリコーンレジンがその分子内に未反応基が残留しており、その結果、形成されるマトリクスが未反応の置換基を有していても、乾燥して得られる被膜を300℃を超える温度で熱処理して硬化被膜を得る場合には、未反応基は分解されるので、最終的に得られる硬化被膜の屈折率に悪影響を及ぼすことはない。熱処理が50〜300℃、特に50℃〜150℃のように比較的低温で行われる場合には、未反応基は分解されることなく硬化被膜中に残留することがあり、その結果、マトリクスとしての屈折率が高くなるという悪影響を及ぼすおそれがある。 In general, a silicone resin obtained by hydrolyzing and condensing a tetrafunctional hydrolyzable organosilane SiX 4 has a structure in which an unreacted group, that is, a hydrolyzable substituent X partially remains in the molecule. It is condensed and oligomerized or polymerized. When a coating is formed by coating a coating material composition, an unreacted group remains in the molecule of the silicone resin as a matrix forming material, and as a result, the formed matrix has an unreacted substituent. However, when a cured film is obtained by heat-treating a film obtained by drying at a temperature exceeding 300 ° C., unreacted groups are decomposed, which adversely affects the refractive index of the finally obtained cured film. Does not affect. When the heat treatment is performed at a relatively low temperature such as 50 to 300 ° C., particularly 50 to 150 ° C., unreacted groups may remain in the cured film without being decomposed, and as a result, as a matrix May have an adverse effect of increasing the refractive index.
これを考慮すると、4官能加水分解可能オルガノシランは、部分加水分解物よりも完全に加水分解した状態でマトリクス形成材料として使用するか、あるいは、完全に加水分解した状態のものを用いてシリコーンレジンを調製して、それをマトリクス形成材料として用いる方が好ましいが、完全に加水分解をするためには、一般的には分子量2000以上の高分子になるため、乾燥被膜の機械的強度は期待できず、比較的機械的強度を必要としない用途に有効である。完全に反応した加水分解物は分子末端に−OH基のみを有しているので、この完全加水分解物を用いて被膜を形成した場合、残存している基は−OHのみとなるので、この被膜の表面は親水性に優れたものとなり、表面水滴接触角は小さくなる。また、機械的強度を必要とする用途には、分子量600〜2000のシリコーンレジンが有効であり、この分子量範囲では部分加水分解物であるため、マトリクス材料自身の屈折率は、完全加水分解したシリコーンレジンより大きくなるが、低分子量の縮合物から形成される乾燥被膜はより多孔率が高くなる傾向にあり、乾燥被膜中に占める微粒子/シリコーンレジン縮合物の比率が高くなっても、機械的強度を保つことが可能である。ちなみに、分子量2000以上のシリコーンレジンでは微粒子/シリコーンレジン縮合物の比率に関わらず、機械的強度は期待できない。 In consideration of this, the tetrafunctional hydrolyzable organosilane is used as a matrix-forming material in a state of being completely hydrolyzed than a partially hydrolyzed product, or is used as a silicone resin in a completely hydrolyzed state. And it is preferable to use it as a matrix-forming material. However, in order to completely hydrolyze, it is generally a polymer having a molecular weight of 2,000 or more, so that the mechanical strength of the dried film can be expected. And is effective for applications that do not require relatively high mechanical strength. Since the completely reacted hydrolyzate has only the -OH group at the molecular terminal, when a film is formed using this complete hydrolyzate, the remaining group is only -OH. The surface of the coating has excellent hydrophilicity, and the contact angle of the surface water droplet is small. For applications requiring mechanical strength, a silicone resin having a molecular weight of 600 to 2,000 is effective. Since the resin is a partially hydrolyzed product in this molecular weight range, the refractive index of the matrix material itself is a completely hydrolyzed silicone. Although it is larger than resin, the dry film formed from the low molecular weight condensate tends to have higher porosity, and the mechanical strength is high even if the ratio of fine particles / silicone resin condensate in the dry film is high. It is possible to keep Incidentally, with a silicone resin having a molecular weight of 2000 or more, mechanical strength cannot be expected regardless of the ratio of fine particles / silicone resin condensate.
具体的には、機械的強度を必要としない用途においては、コーティング材組成物のマトリクス形成材料に用いるシリコーンレジンとしては、これを石英ガラス基材の表面に膜厚100nmとなるように塗布して乾燥し、100℃で熱処理して得られた硬化被膜の表面水滴接触角が20°以下、好ましくは10°以下、より好ましくは5°以下(実質上の下限は、0°)となるものを用いるのが好ましい。即ち、そのようなシリコーンレジンをマトリクス形成材料として用いれば、被膜を低温で処理しても−OH以外の未反応基が残留せず、硬化被膜の屈折率が上昇するのを容易に抑制することができるものであり、逆に、上記表面水滴接触角が10°、特に20°を超えることになるシリコーンレジンを用いる場合には、被膜をより高い温度で熱処理しないと、硬化被膜の屈折率の上昇を抑制するのは困難となるおそれがある。また、分子量2000以下のシリコーンレジンは、上記のような方法で表面水滴接触角を測定しても、表面水滴接触角は20°以下にはならない。これは未反応基が残留しているためである。硬化被膜の水滴接触角は、使用する中空微粒子/シリコーンレジン種、その分子量及び中空微粒子/シリコーンレジン縮合物比率によって異なるが、例えば、中空微粒子が中空シリカ微粒子、シリコーンレジンが4官能アルコキシドシランの部分加水分解物及び/あるいは加水分解物の場合、シリコーンレジンの分子量が2000以上で、かつ上述シリコーンレジン単独の乾燥被膜(石英ガラス上での)の水滴接触角が20°以下の場合は、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン縮合物の比率、硬化被膜の乾燥温度に関わらず、硬化被膜の表面水滴接触角は40°以下になる。また、シリコーンレジンの分子量が2000以下の場合は、硬化被膜の乾燥温度が酸化雰囲気下で300℃以上の高温であれば、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン縮合物の比率に関わらず、表面水滴接触角は40°以下になるが、乾燥温度が300℃以下の低温であれば、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン縮合物の重量比率が60/40以上でないと、硬化被膜の水滴接触角は40°以下にならない傾向にある。 Specifically, in applications that do not require mechanical strength, as a silicone resin used as a matrix forming material of the coating material composition, this is applied to the surface of a quartz glass substrate so as to have a thickness of 100 nm. A cured film obtained by drying and heat-treating at 100 ° C. has a surface water contact angle of 20 ° or less, preferably 10 ° or less, more preferably 5 ° or less (substantial lower limit is 0 °). Preferably, it is used. That is, if such a silicone resin is used as a matrix-forming material, unreacted groups other than -OH do not remain even when the coating is treated at a low temperature, and the refractive index of the cured coating is easily prevented from increasing. Conversely, when using a silicone resin, the surface water droplet contact angle of which is more than 10 °, especially more than 20 °, if the coating is not heat-treated at a higher temperature, the refractive index of the cured coating becomes higher. It may be difficult to suppress the rise. In addition, the surface water droplet contact angle of a silicone resin having a molecular weight of 2000 or less does not become 20 ° or less even when the surface water droplet contact angle is measured by the method described above. This is because unreacted groups remain. The water droplet contact angle of the cured coating varies depending on the type of hollow fine particles / silicone resin used, its molecular weight and the ratio of hollow fine particles / silicone resin condensate. For example, the hollow fine particles are hollow silica fine particles, and the silicone resin is a tetrafunctional alkoxide silane. In the case of a hydrolyzate and / or a hydrolyzate, when the molecular weight of the silicone resin is 2,000 or more and the contact angle of water droplet of the dry coating of the silicone resin alone (on quartz glass) is 20 ° or less, hollow silica is used. Regardless of the ratio of the fine particles / silicone resin condensate and the drying temperature of the cured film, the surface water contact angle of the cured film is 40 ° or less. When the molecular weight of the silicone resin is 2,000 or less, if the drying temperature of the cured film is as high as 300 ° C. or more in an oxidizing atmosphere, the contact angle of the water droplet on the surface is irrespective of the ratio of the hollow silica fine particles / silicone resin condensate. When the drying temperature is as low as 300 ° C. or less, if the weight ratio of the hollow silica fine particles / silicone resin condensate is not 60/40 or more, the water droplet contact angle of the cured film becomes 40 ° or less. It tends not to be.
本発明で用いるコーティング材組成物において、含まれる中空微粒子の量とマトリクス形成材料の量は、いずれの適当な割合であってよいが、一般的には、中空微粒子の重量のマトリクス形成材料に対する重量比(即ち、中空微粒子重量/マトリクス形成材料重量)は、30/70〜95/5であるのが好ましく、例えば4官能シリコーンレジンを使用する場合で、分子量が2000以上の場合は、30/70〜60/40、分子量が2000以下の場合は、70/30〜90/10であるのがより好ましい。 In the coating material composition used in the present invention, the amount of the hollow fine particles and the amount of the matrix forming material contained in the coating material composition may be in any appropriate ratio. The ratio (that is, the weight of the hollow fine particles / the weight of the matrix forming material) is preferably 30/70 to 95/5. For example, when a tetrafunctional silicone resin is used and the molecular weight is 2,000 or more, 30/70. When the molecular weight is 6060/40 and 2,000 or less, the ratio is more preferably from 70/30 to 90/10.
尚、乾燥被膜中に占める中空微粒子(例えば中空シリカ微粒子)の割合が多いほど、被膜の屈折率を低下させることができるが、その反面、被膜の機械的強度が低下する。従って、中空微粒子の割合を多くすることによって、相対的に少ない割合となったマトリクス材料によって被膜の機械的強度を向上させる必要がある。そのためには、4官能加水分解可能アルコキシシランまたはそれに由来する縮合性のシリコーンレジンをマトリクス材料として使用する場合、特にシリコーンレジンの分子量が2000以下の場合、被膜の形成に際して、これらを縮合させてマトリクスを形成する際にその架橋密度を向上させるのがよい。 The larger the proportion of hollow fine particles (for example, hollow silica fine particles) in the dried film, the more the refractive index of the film can be reduced, but on the other hand, the mechanical strength of the film decreases. Therefore, it is necessary to improve the mechanical strength of the coating by increasing the ratio of the hollow fine particles to a relatively small ratio of the matrix material. For this purpose, when a tetrafunctional hydrolyzable alkoxysilane or a condensable silicone resin derived therefrom is used as a matrix material, particularly when the molecular weight of the silicone resin is 2,000 or less, when forming a coating, these are condensed to form a matrix. It is preferable to improve the crosslink density when forming the polymer.
マトリクス形成材料を調製するために、上記のシラン化合物(1)、特に4官能アルコキシシラン等の4官能加水分解可能オルガノシランを加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒は、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び/あるいは加水分解物が2次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、また、加水分解に要する時間を短縮する点から、酸性触媒が好ましい。このような酸性触媒としては、特に限定されないが、例えば、有機酸(例えば酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等)、無機酸(例えば塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等)、酸性ゾル状フィラー(例えば酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等)を挙げることができ、これらの1種又はそれ以上を使用することができる。アルコキシドの加水分解は、機械的強度を必要としない用途では必要に応じて、加温して行ってもよく、特に40〜100℃の条件下で2〜100時間かけて加水分解反応を促進させると、未反応アルコキシド基を限りなく少なくすることができてマトリクス形成材料自身の屈折率が低下して好ましい。上記の温度範囲や時間範囲を外れて加水分解すると、未反応アルコキシド基が残留するおそれがある。尚、上記酸性触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等のアルカリ性触媒を用いてもよいが、アルカリ性触媒では3次元架橋を形成しやすく、乾燥被膜の多孔質率が低くなるという点や、ゲル化しやすいという点で、酸性触媒の方が好ましい。またマトリクス形成材料として加水分解可能置換基を有する場合には、加水分解触媒を含んでよい。 When hydrolyzing the above-mentioned silane compound (1), particularly a tetrafunctional hydrolyzable organosilane such as a tetrafunctional alkoxysilane, in order to prepare a matrix-forming material, a catalyst may be used as necessary. The catalyst to be used is not particularly limited, but the obtained partial hydrolyzate and / or hydrolyzate is likely to have a two-dimensional crosslinked structure, and the condensed compound is easily made porous. From the viewpoint of shortening the time required, an acidic catalyst is preferable. Examples of such an acidic catalyst include, but are not particularly limited to, organic acids such as acetic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, and malonic acid. , Toluenesulfonic acid, oxalic acid, etc.), inorganic acids (eg, hydrochloric acid, nitric acid, halogenated silanes, etc.), and acidic sol-like fillers (eg, acidic colloidal silica, titania sol, etc.). The above can be used. The hydrolysis of the alkoxide may be carried out by heating, if necessary, in applications that do not require mechanical strength, and in particular, accelerates the hydrolysis reaction over 2 to 100 hours under conditions of 40 to 100 ° C. This is preferable because unreacted alkoxide groups can be reduced as much as possible, and the refractive index of the matrix forming material itself is reduced. If the hydrolysis is performed outside the above temperature range or time range, unreacted alkoxide groups may remain. Incidentally, instead of the acidic catalyst, sodium hydroxide, an aqueous solution of an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide such as calcium hydroxide, aqueous ammonia, an alkaline catalyst such as an aqueous solution of amines may be used, An acidic catalyst is preferable in the point that an alkaline catalyst easily forms three-dimensional crosslinks, lowers the porosity of a dried film, and easily gelates. When the matrix-forming material has a hydrolyzable substituent, the matrix-forming material may contain a hydrolysis catalyst.
本発明で用いるコーティング材組成物は、上述の微粒子、好ましくは中空シリカ微粒子および上述のマトリクス形成材料からなるシリコーン化合物を含有して調製されるものであるが、塗布して塗膜を形成すること、また、マトリクス形成材料の少なくとも部分的な加水分解が起こるのが好ましい場合があることの点から、水または水と他の液体、例えば有機溶媒との混合物を含むのが好ましい。この有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体、及びジアセトンアルコール等の親水性有機溶媒を挙げることができ、これらからなる群より選ばれる1種あるいは2種以上を使用することができる。更に、これらの親水性有機溶媒と併用して、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等の1種あるいは2種以上のものを使用することができる。 The coating material composition used in the present invention is prepared by containing the above-mentioned fine particles, preferably a hollow silica fine particle, and a silicone compound composed of the above-mentioned matrix-forming material. It is also preferred to include water or a mixture of water and another liquid, such as an organic solvent, in that at least partial hydrolysis of the matrix-forming material may preferably occur. Examples of the organic solvent include lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), n-butanol, isobutanol, ethylene glycol derivatives such as ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether acetate; and diethylene glycol. And diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol monobutyl ether; and hydrophilic organic solvents such as diacetone alcohol. One or more selected from the group consisting of these can be used. Further, one or more of toluene, xylene, hexane, heptane, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketoxime and the like may be used in combination with these hydrophilic organic solvents. it can.
本発明で用いるコーティング材組成物において、マトリクス形成材料は、以下の3つの態様(a)、(b)および(c)に分類できる:
(a)1つの態様では、マトリクス形成材料は、上述のシラン化合物(1)(好ましくは4官能加水分解可能オルガノシラン、より好ましくは4官能加水分解可能アルコキシシラン)である。この場合、シラン化合物(1)は、構成成分を配合・混合してコーティング材組成物を調製する間、および/または、調製後にベースフィルムに塗布して塗膜を乾燥する間、水の存在下で縮合してマトリクスを形成する。
In the coating material composition used in the present invention, the matrix forming material can be classified into the following three embodiments (a), (b) and (c):
(A) In one embodiment, the matrix forming material is the silane compound (1) described above (preferably a tetrafunctional hydrolyzable organosilane, more preferably a tetrafunctional hydrolyzable alkoxysilane). In this case, the silane compound (1) is added in the presence of water during the preparation and coating of the coating material composition by mixing and mixing the constituent components, and / or during the coating of the base film after preparation and drying of the coating film. To form a matrix.
(b)別の態様では、マトリクス形成材料は、(ポリ)シロキサン化合物(2)(好ましくは縮合性シリコーンレジン)である。この場合、(ポリ)シロキサン化合物(2)は、コーティング材組成物を調製する間、および/または、調製後にベースフィルムに塗布して塗膜を乾燥する間、水の存在下で縮合してマトリクスを形成する。尚、縮合が生じる程度は、マトリクス形成材料としてシラン化合物(1)が含まれる上述の態様より小さい。 (B) In another aspect, the matrix forming material is a (poly) siloxane compound (2), preferably a condensable silicone resin. In this case, the (poly) siloxane compound (2) is condensed in the presence of water during the preparation of the coating material composition and / or during the coating of the base film after the preparation and drying of the coating film, thereby forming a matrix. To form In addition, the degree to which the condensation occurs is smaller than the above-described embodiment in which the silane compound (1) is included as the matrix forming material.
(c)更にもう1つの態様では、マトリクス形成材料は、(ポリ)シロキサン化合物(1)(好ましくはシリコーンレジン)であって、この化合物は水酸基も加水分解可能置換基も実質的に有さない化合物である。この場合、(ポリ)シロキサン化合物(1)は、コーティング材組成物を調製する間および調製後にベースフィルムに塗布して塗膜を乾燥する間、縮合することなく多孔質のマトリクスを形成する。 (C) In yet another aspect, the matrix-forming material is a (poly) siloxane compound (1), preferably a silicone resin, wherein the compound has substantially no hydroxyl groups or hydrolyzable substituents. Compound. In this case, the (poly) siloxane compound (1) forms a porous matrix without condensation during the preparation of the coating material composition and during the coating of the base film and the drying of the coating film after the preparation.
上記のコーティング材組成物によって得られる乾燥被膜は、中空微粒子および多孔質マトリクスを有し、その空隙率は10〜95%、好ましくは30〜80%、より好ましくは40〜60%の範囲に存する。特に大きい空隙率である場合に、特に低い屈折率を有する乾燥被膜を形成できる。コーティング材組成物を調製する際に、配合する中空微粒子およびマトリクス形成材料の処方を種々変えることによって、上述の範囲の空隙率を達成できる。ここで空隙率は次のようにして求めることができる。すなわち、XPS(Xレイ ホトエレクトロン スペクトロスコピィー)で、乾燥被膜中に固体として存在する元素種及び平均元素比率を測定し、その比率から固体部の密度(ds)を算出する(水素は検出されないが、原子量が小さいので無視する)。また、乾燥被膜の膜厚をエリプソメーターで測定し、さらに乾燥被膜の重量、乾燥被膜を形成した基板の重量を形成前後の重量測定し(測定誤差を少なくするため、基板としてはアルミ箔、基板サイズは300mm角程度、形成被膜の膜厚は約1μmが好ましい)、乾燥被膜の密度(df)と、乾燥被膜の体積(Vf)を算出する。そして空隙率は下記式から算出される。 The dried film obtained by the above coating material composition has hollow fine particles and a porous matrix, and the porosity thereof is in the range of 10 to 95%, preferably 30 to 80%, more preferably 40 to 60%. . When the porosity is particularly large, a dried film having a particularly low refractive index can be formed. When preparing the coating material composition, the porosity in the above range can be achieved by variously changing the formulations of the hollow fine particles and the matrix forming material to be blended. Here, the porosity can be determined as follows. That is, the element species and the average element ratio present as a solid in the dried film are measured by XPS (X-ray photoelectron spectroscopy), and the density (ds) of the solid part is calculated from the ratio (no hydrogen is detected). However, the atomic weight is so small that it is ignored.) In addition, the thickness of the dried film is measured with an ellipsometer, and the weight of the dried film and the weight of the substrate on which the dried film is formed are measured before and after the formation. The size is about 300 mm square, and the thickness of the formed film is preferably about 1 μm), the density (df) of the dried film, and the volume (Vf) of the dried film are calculated. The porosity is calculated from the following equation.
ds×Vf×(1−空隙率/100)=df×Vf
尚、必要に応じてその他の成分を加えることによって、空隙率を変えることもできる。
ds × Vf × (1−porosity / 100) = df × Vf
The porosity can be changed by adding other components as needed.
本発明で用いるコーティング材組成物には、中空ではない微粒子、例えば中空ではないシリカ微粒子(以下、単にシリカ粒子という)を含有させることもできる。このような微粒子を共存させることによって、形成される乾燥被膜の機械的強度を向上させることができ、更には、被膜の表面平滑性と耐クラック性をも改善することができるものである。 The coating material composition used in the present invention may contain non-hollow fine particles, for example, non-hollow fine silica particles (hereinafter, simply referred to as silica particles). By coexisting such fine particles, the mechanical strength of the formed dried film can be improved, and further, the surface smoothness and crack resistance of the film can be improved.
上記のシリカ粒子の形態としては、特に限定されるものではなく、例えば、粉体状の形態でもゾル状の形態でもよい。シリカ粒子をゾル状の形態、すなわちコロイダルシリカとして使用する場合、特に限定されるものではないが、例えば、水分散コロイダルシリカあるいはアルコール等の親水性の有機溶媒に分散したコロイダルシリカを使用することができる。一般にこのようなコロイダルシリカは、固形分としてのシリカを20〜50重量%含有しており、この値からシリカ配合量を決定することができる。 The form of the silica particles is not particularly limited, and may be, for example, a powder form or a sol form. When the silica particles are used in the form of a sol, that is, as colloidal silica, there is no particular limitation.For example, water-dispersed colloidal silica or colloidal silica dispersed in a hydrophilic organic solvent such as alcohol may be used. it can. Generally, such colloidal silica contains 20 to 50% by weight of silica as a solid content, and the amount of silica can be determined from this value.
ここで、水分散コロイダルシリカを使用する場合には、このコロイダルシリカ中に固形分以外として存在する水は、シラン化合物(1)、例えば4官能加水分解可能オルガノシランの加水分解に使用することができる。従って、この加水分解の際の水の量には、水分散コロイダルシリカの水を加算する必要がある。水分散コロイダルシリカは通常、水ガラスから作られるものであり、市販品を容易に入手して使用することができる。 Here, when water-dispersed colloidal silica is used, water present in the colloidal silica as a component other than solids may be used for hydrolysis of the silane compound (1), for example, a tetrafunctional hydrolyzable organosilane. it can. Therefore, it is necessary to add water of water-dispersed colloidal silica to the amount of water at the time of this hydrolysis. The water-dispersed colloidal silica is usually made of water glass, and a commercially available product can be easily obtained and used.
また、有機溶媒分散コロイダルシリカは、上記の水分散コロイダルシリカの水を有機溶媒と置換することによって容易に調製することができる。このような有機溶媒分散コロイダルシリカも、水分散コロイダルシリカと同様に、市販品を容易に入手して使用することができる。有機溶媒分散コロイダルシリカにおいて、コロイダルシリカが分散している有機溶媒の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体、及びジアセトンアルコール等の親水性有機溶媒を挙げることができ、これらからなる群より選ばれる1種あるいは2種以上を使用することができる。更に、これらの親水性有機溶媒と併用して、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等の1種あるいは2種以上のものを使用することができる。 The organic solvent-dispersed colloidal silica can be easily prepared by substituting the water of the water-dispersed colloidal silica with an organic solvent. Such an organic solvent-dispersed colloidal silica can be easily obtained and used as a commercial product, similarly to the water-dispersed colloidal silica. In the organic solvent-dispersed colloidal silica, the type of the organic solvent in which the colloidal silica is dispersed is not particularly limited. For example, lower fats such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), n-butanol, and isobutanol are used. Aromatic alcohols, ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol derivatives such as ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol, diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol monobutyl ether, and hydrophilic organic solvents such as diacetone alcohol, One or more selected from the group consisting of these can be used. Furthermore, one or more of toluene, xylene, hexane, ethyl heptane acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketoxime and the like can be used in combination with these hydrophilic organic solvents. .
この非中空の微粒子、例えば上記のシリカ粒子の添加量は、コーティング材組成物中における固形分全量に対して、0.1〜30重量%であることが好ましい。0.1重量%未満ではこのシリカ粒子の添加による効果を得ることができないおそれがあり、逆に30重量%を超えると、乾燥被膜の機械的強度に悪影響を及ぼすおそれがある。 The amount of the solid fine particles, for example, the above-mentioned silica particles, is preferably 0.1 to 30% by weight based on the total solid content in the coating material composition. If the amount is less than 0.1% by weight, the effect of the addition of the silica particles may not be obtained. If the amount exceeds 30% by weight, the mechanical strength of the dried film may be adversely affected.
上記のコーティング材組成物によって形成される乾燥被膜は、低屈折率の被膜となるため、この被膜は色を帯びることがある。この場合には、予めコーティング材組成物中に色素化合物を含有させておいて、被膜の色を調節するようにするのがよい。色素化合物としては、無機・有機など特に限定はなく、被膜の屈折率に大きな影響を与えない範囲で所望する色調となるように、市販されているものを適量添加すればよい。また、コーティング材組成物には、必要に応じてレベリング材や粘度調整剤を添加することもできる。 Since the dried film formed by the above coating material composition is a film having a low refractive index, the film may be colored. In this case, it is preferable that a coloring compound is previously contained in the coating material composition to adjust the color of the film. The dye compound is not particularly limited, such as inorganic or organic, and a commercially available compound may be added in an appropriate amount so as to obtain a desired color tone within a range that does not significantly affect the refractive index of the film. Further, a leveling material and a viscosity modifier can be added to the coating material composition as needed.
尚、上記のようにして得られるコーティング材組成物は、既述のように、必要に応じて有機溶媒や水で希釈してもよく、またコーティング材組成物を調製するにあたって、予め個々の成分を必要に応じて有機溶媒、水等で希釈しておいてもよい。希釈する際の有機溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体、及びジアセトンアルコール等を挙げることができ、これらからなる群より選ばれる1種あるいは2種以上を使用することができる。更に、これらの親水性有機溶媒と併用して、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等の1種あるいは2種以上のものを使用することができる。 In addition, the coating material composition obtained as described above may be diluted with an organic solvent or water as necessary, as described above, and in preparing the coating material composition, the individual components are previously prepared. May be diluted with an organic solvent, water or the like as necessary. The organic solvent used for the dilution is not particularly limited, and for example, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), n-butanol and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether And ethylene glycol derivatives such as ethylene glycol monoethyl ether acetate; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; and diacetone alcohol. One or more selected from the group consisting of these are used. be able to. Furthermore, one or more of toluene, xylene, hexane, ethyl heptane acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketoxime and the like can be used in combination with these hydrophilic organic solvents. .
そして、上記のようにして調製したコーティング材組成物をフッ素系の樹脂フィルム基材の表面にコーティングして塗膜を形成し、この塗膜を乾燥・硬化させることによって乾燥被膜を得ることができ、最表面に低屈折率を有する透明樹脂層が形成されたフッ素系複合樹脂フィルムを得ることができるものである。この乾燥被膜によって形成される最表面の透明樹脂層は、表面水滴接触角が40°以下(表面接触角は小さい程よく、理想的には0°)の親水性であり、汚れが付着し難く、付着した汚れも雨水などで容易に洗い流され、表面防汚性に形成されている。従って、このフッ素系複合樹脂フィルムを、熱融着や、接着剤による接着や、粘着剤による接着で、物品の表面に貼着することによって、表面防汚性物品を得ることができるものである。また、透明樹脂層を複数層に形成する場合、最表面の透明樹脂層はその直下の透明樹脂層よりも屈折率が低いものとして形成することが、反射を防止して透過率を向上させるうえで必要である。 Then, the coating material composition prepared as described above is coated on the surface of the fluorine-based resin film substrate to form a coating film, and a dried coating film can be obtained by drying and curing the coating film. And a fluorine-based composite resin film having a transparent resin layer having a low refractive index formed on the outermost surface. The transparent resin layer on the outermost surface formed by this dried film has a hydrophilic property with a surface water droplet contact angle of 40 ° or less (the smaller the surface contact angle, the better, ideally 0 °). The adhered dirt is easily washed away with rainwater or the like, and is formed to have a surface antifouling property. Therefore, a surface antifouling article can be obtained by attaching this fluorine-based composite resin film to the surface of the article by heat sealing, bonding with an adhesive, or bonding with an adhesive. . Further, when the transparent resin layer is formed in a plurality of layers, the transparent resin layer on the outermost surface may be formed to have a lower refractive index than the transparent resin layer therebelow to prevent reflection and improve transmittance. Is necessary.
ここで、本発明においてフッ素系の樹脂フィルム基材としては、透明フッ素系樹脂フィルムの上に透明アクリル樹脂フィルムを積層したフィルムを用いるものである。フッ素系樹脂フィルム単独では、屈折率が1.34〜1.40の範囲にあるので、透過率を向上させるためには、本発明で形成する乾燥被膜の屈折率は1.30以下が必要とされる。これに対して、アクリル樹脂フィルムの屈折率はフッ素系樹脂フィルムより高い1.47以上であるので、このようにアクリル樹脂フィルムをフッ素系樹脂フィルムの上に積層すると、透過率を向上させるためには、本発明で形成する乾燥被膜の屈折率はアクリル樹脂フィルムの屈折率より低い1.44以下でよくなり、乾燥被膜を形成するコーティング材組成物の設計の自由度を高くすることができるものである。 Here, in the present invention, a film in which a transparent acrylic resin film is laminated on a transparent fluorine-based resin film is used as the fluorine-based resin film substrate. Since the refractive index of the fluororesin film alone is in the range of 1.34 to 1.40, in order to improve the transmittance, the dry film formed by the present invention needs to have a refractive index of 1.30 or less. Is done. On the other hand, since the refractive index of the acrylic resin film is 1.47 or higher, which is higher than that of the fluororesin film, when the acrylic resin film is laminated on the fluororesin film in this way, it is necessary to improve the transmittance. The dry film formed by the present invention has a refractive index of 1.44 or less, which is lower than the refractive index of the acrylic resin film, so that the degree of freedom in designing a coating material composition for forming the dry film can be increased. It is.
上記のフッ素系樹脂フィルムとしては、特に限定されるものではないが、ポリテトラフルオロエチレン樹脂(PTFE)、ポリフッ化ビニリデン樹脂(PVdF)、ポリフッ化ビニル樹脂(PVF)、及びフッ素を含む共重合体樹脂、例えば2フッ化エチレン、3フッ化エチレン、3フッ化塩化エチレン、4フッ化エチレン、6フッ化プロピレン、フロロアルキルビニルエーテル及びエチレンからなる群から選ばれた2種以上のモノマーからなる共重合体樹脂、具体的には、PFA(パーフルオロアルコキシアルカン)、PFEP(パーフルオロエチレンプロペンコポリマー)、ETFE(エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー)、PCTFE(ポリクロロトリフルオロエチレン)、ECTFE(エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー)、TFE−FEP、TFE−PVdF、TFE−FEP−PVdF等、から選ばれた少なくとも1種を好ましく使用することが出来る。 The fluorine-based resin film is not particularly limited, but may be a polytetrafluoroethylene resin (PTFE), a polyvinylidene fluoride resin (PVdF), a polyvinyl fluoride resin (PVF), or a copolymer containing fluorine. Resins, for example, copolymers comprising two or more monomers selected from the group consisting of ethylene difluoride, ethylene trifluoride, ethylene trifluoride chloride, ethylene tetrafluoride, propylene hexafluoride, fluoroalkyl vinyl ether and ethylene Coalescing resin, specifically, PFA (perfluoroalkoxyalkane), PFEP (perfluoroethylene propene copolymer), ETFE (ethylene-tetrafluoroethylene copolymer), PCTFE (polychlorotrifluoroethylene), ECTFE (ethylene-chlorotriene) Fluoroethyl Nko polymer), TFE-FEP, TFE-PVdF, TFE-FEP-PVdF or the like, can be preferably used at least one selected from.
また、フッ素系樹脂フィルム基材の表面に予め、別の透明樹脂層が少なくとも1層以上形成されていても構わない。例えばこの別の透明樹脂層としては、紫外線硬化型ハードコート層、電子線硬化型ハードコート層、熱硬化型ハードコート層が挙げられる。これらの中でも、屋外での耐久性を考慮して、熱硬化型ハードコート層が好ましい。ハードコート層の材質は、アクリル樹脂、ウレタン樹脂を主体とする有機系、シリコーン系に大別される。このハードコート層中に紫外線吸収剤を添加することによって、紫外線吸収機能を付与することも可能である。 Further, at least one or more other transparent resin layers may be formed on the surface of the fluororesin film substrate in advance. For example, examples of the other transparent resin layer include an ultraviolet curable hard coat layer, an electron beam curable hard coat layer, and a thermosetting hard coat layer. Among these, a thermosetting hard coat layer is preferable in consideration of durability outdoors. The material of the hard coat layer is roughly classified into an organic resin mainly composed of an acrylic resin and a urethane resin, and a silicone resin. By adding an ultraviolet absorber to this hard coat layer, it is possible to impart an ultraviolet absorption function.
さらにハードコート層を形成する透明樹脂層内に大粒子径(0.3μm以上)の無機粒子を添加して、光拡散層の機能を付与することも可能である。光拡散層は、本発明のフッ素系複合樹脂フィルムを太陽電池モジュールの表面に貼着して太陽電池の保護フィルムとして使用するときに、特に重要である。太陽電池モジュール上での反射光をなるべく外に逃がさず、光拡散層から再び太陽電池モジュール表面に向かわすことができ、発電効率を高めることができるのである。このとき、無機粒子としてZnO、CeO2などの金属酸化物に代表される無機紫外線吸収剤を選択すれば、光拡散層に紫外線吸収機能、光拡散機能を同時に付与することができるものである。ハードコート層を形成する透明樹脂層の屈折率は、その上に形成される上記の乾燥被膜からなる透明樹脂層の屈折率にあわせて、適宜選択して調整すれば良い。また、フッ素系樹脂フィルム基材に紫外線吸収剤、大粒子径の粒子を添加することによって、上記と同様の機能を付与することが可能なことは言うまでもない。 Further, it is also possible to add inorganic particles having a large particle diameter (0.3 μm or more) to the transparent resin layer forming the hard coat layer to impart the function of the light diffusion layer. The light diffusion layer is particularly important when the fluorine-based composite resin film of the present invention is adhered to the surface of a solar cell module and used as a protective film for a solar cell. The reflected light on the solar cell module can be directed to the surface of the solar cell module again from the light diffusion layer without escaping the reflected light as much as possible, thereby increasing the power generation efficiency. At this time, if an inorganic ultraviolet absorber represented by a metal oxide such as ZnO or CeO 2 is selected as the inorganic particles, it is possible to simultaneously provide the light diffusion layer with an ultraviolet absorption function and a light diffusion function. The refractive index of the transparent resin layer forming the hard coat layer may be appropriately selected and adjusted according to the refractive index of the transparent resin layer formed of the above-mentioned dried film formed thereon. Needless to say, the same function as described above can be provided by adding an ultraviolet absorber and particles having a large particle diameter to the fluororesin film base material.
なお、コーティング材組成物をフッ素系樹脂フィルム基材の表面にコーティングする際に、被膜が均一に形成されるように、あるいは被膜とフッ素系樹脂フィルム基材との密着性が向上するように、フッ素系樹脂フィルム基材の表面(予め透明樹脂層が設けられている場合には透明樹脂層の表面)を前洗浄しておくのが好ましい。前洗浄の方法としては、アルカリ洗浄、フッ化アンモニウム洗浄、プラズマ洗浄(減圧プラズマおよび大気圧プラズマを含む)、UVオゾン洗浄、酸化セリウム洗浄、コロナ放電による洗浄等を挙げることができる。 Incidentally, when coating the coating material composition on the surface of the fluororesin film substrate, so that the coating is formed uniformly, or so as to improve the adhesion between the coating and the fluororesin film substrate, It is preferable to pre-clean the surface of the fluororesin film substrate (or the surface of the transparent resin layer if the transparent resin layer is provided in advance). Examples of the pre-cleaning method include alkali cleaning, ammonium fluoride cleaning, plasma cleaning (including reduced pressure plasma and atmospheric pressure plasma), UV ozone cleaning, cerium oxide cleaning, and cleaning by corona discharge.
また、コーティング材組成物をフッ素系樹脂フィルム基材の表面にコーティングするにあたって、その方法は特に限定されるものではないが、例えば、刷毛塗り、スプレーコート、浸漬(ディップコート)、ロールコート、グラビアコート、マイクログラビアコート、フローコート、カーテンコート、ナイフコート、スピンコート、テーブルコート、シートコート、枚葉コート、ダイコート、バーコート、リバースコート、キャップコート等の通常の各種塗布方法から選択することができる。このようにコーティング材組成物を用いたコーティング法で被膜を形成する場合、気相法や液相法よりも大面積の被膜を容易に得ることができると共に、高いスピードで被膜形成をすることができるものである。 The method for coating the surface of the fluororesin film substrate with the coating material composition is not particularly limited, and examples thereof include brush coating, spray coating, dipping (dip coating), roll coating, and gravure. Coating, microgravure coating, flow coating, curtain coating, knife coating, spin coating, table coating, sheet coating, single-wafer coating, die coating, bar coating, reverse coating, cap coating, etc. it can. When a coating is formed by a coating method using a coating material composition as described above, a coating having a larger area can be easily obtained than in a gas phase method or a liquid phase method, and a film can be formed at a high speed. You can do it.
そして、上記のようにフッ素系樹脂フィルム基材の表面にコーティング材組成物をコーティングして形成した被膜を乾燥させた後に、これに熱処理を行うのが好ましい。この熱処理によって、被膜の機械的強度をさらに向上させることができるものである。熱処理の際の温度は、特に限定されるものではない。このように熱処理をすることによって被膜の硬度を高めることができ、熱処理後の被膜を硬化被膜(hardened coating)にすることができる。 Then, it is preferable to perform a heat treatment on the film formed by coating the surface of the fluororesin film substrate with the coating material composition as described above, and then drying the film. By this heat treatment, the mechanical strength of the coating can be further improved. The temperature at the time of the heat treatment is not particularly limited. By performing the heat treatment in this manner, the hardness of the film can be increased, and the film after the heat treatment can be formed into a hardened coating.
例えば4官能アルコキシレジンから形成したシリコーンレジンをマトリクス形成材料として使用するコーティング材組成物を用いて被膜を形成する場合、低温、好ましくは100〜300℃、より好ましくは50〜150℃で5〜30分熱処理する。このように低温で熱処理を行っても、高温で熱処理を行う場合と実質的に同等の機械的強度を得ることができるので、この場合には、被膜の形成コストを低減することが可能となる。また、高温による熱処理の場合のように、ベースフィルムの種類が制限されることがなくなる。 For example, when a coating is formed using a coating material composition using a silicone resin formed from a tetrafunctional alkoxy resin as a matrix forming material, the coating is formed at a low temperature, preferably at 100 to 300 ° C, more preferably at 50 to 150 ° C for 5 to 30 ° C. Perform a partial heat treatment. Even if the heat treatment is performed at a low temperature in this manner, it is possible to obtain substantially the same mechanical strength as in the case of performing the heat treatment at a high temperature, and in this case, it is possible to reduce the cost of forming a coating film . In addition, unlike the case of heat treatment at a high temperature, the type of the base film is not limited.
また、フッ素系樹脂フィルム基材に形成する乾燥被膜(最表面の透明樹脂層)の膜厚は、使用用途、目的等に応じて適宜選択することができ、特に限定されるものではないが、0.01〜10.0μmの範囲が好ましく、乾燥被膜にクラックが発生するのを抑制するためには、0.01〜0.5μmの範囲がより好ましい。 Further, the thickness of the dried film (the outermost transparent resin layer) formed on the fluororesin film substrate can be appropriately selected depending on the intended use, purpose, and the like, and is not particularly limited. The range is preferably 0.01 to 10.0 μm, and more preferably 0.01 to 0.5 μm in order to suppress the occurrence of cracks in the dried film.
以下本発明を実施例によって具体的に説明する。尚、特に断らない限り、「部」は全て「重量部」を、「%」は、後述する全光線透過率、ヘーズ率を除き、全て「重量%」を表す。また、重量分子量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)により、測定機として東ソー(株)の「HLC8020」を用いて、標準ポリスチレンで検量線を作成し、その換算値として測定したものである。 Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples. Unless otherwise specified, all “parts” represent “parts by weight”, and “%” represents “% by weight” except for the total light transmittance and the haze ratio described later. The weight molecular weight was measured by GPC (gel permeation chromatography) using a standard polystyrene calibration curve using "HLC8020" manufactured by Tosoh Corporation as a measuring instrument, and the converted value was measured.
<実施例1>
テトラエトキシシラン208部にメタノール356部を加え、更に水126部及び0.01Nの塩酸18部(「H2O」/「OR」=2.0)を加え、これをディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を4000に調整することにより、シリコーンレジン(A)を得た。次にこのシリコーンレジン(A)に、シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:OSCAL1432「IPA分散コロイダルシリカ」、一次粒子径:10〜20nm、固形分30%)を、シリカ微粒子/シリコーンレジン(A)(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が40/60となるように配合し、その後、全固形分が1%になるようにIPAで希釈することによって、コーティング材組成物を調製した。
<Example 1>
To 208 parts of tetraethoxysilane, 356 parts of methanol is added, and 126 parts of water and 18 parts of 0.01N hydrochloric acid (“H 2 O” / “OR” = 2.0) are added, and these are mixed well using a disper. Thus, a mixed solution was obtained. This mixture was stirred in a thermostat at 25 ° C. for 2 hours, and the weight average molecular weight was adjusted to 4000 to obtain a silicone resin (A). Next, silica fine particles (trade name: OSCAL1432, “IPA-dispersed colloidal silica”, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., primary particle diameter: 10 to 20 nm, solid content 30%) were added to the silicone resin (A). ) (In terms of condensed compound) was blended so that the weight ratio was 40/60 based on the solid content, and then diluted with IPA so that the total solid content was 1%, to prepare a coating material composition. .
そして、このコーティング材組成物を1時間放置した後に、PVdF/アクリル複合フィルム(呉羽化学工業製、商品名:クレハKFCフィルム、品番:FT−50Y、PVdF厚み:4μm、アクリル厚み:46μm、合計フィルム厚み:50μm、PVdF屈折率:1.42、アクリル屈折率:1.47)のアクリル表面にワイヤーバーコーターによって塗布して、膜厚が約100nmの塗膜を形成し、これを1分間放置して乾燥した後に、乾燥被膜を80℃で10分間酸素雰囲気下で熱処理し、フッ素系複合樹脂フィルムを得た。 Then, after leaving this coating material composition for 1 hour, a PVdF / acryl composite film (manufactured by Kureha Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Kureha KFC film, product number: FT-50Y, PVdF thickness: 4 μm, acrylic thickness: 46 μm, total film) A 50 μm thick, PVdF refractive index: 1.42, acrylic refractive index: 1.47) was coated on an acrylic surface with a wire bar coater to form a coating film having a thickness of about 100 nm, which was left for 1 minute. After drying, the dried film was heat-treated at 80 ° C. for 10 minutes in an oxygen atmosphere to obtain a fluorine-based composite resin film.
<実施例2>
テトラエトキシシラン208部にメタノール356部を加え、更に水126部及び0.01Nの塩酸18部(「H2O」/「OR」=2.0)を混合し、これをディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間撹拌し、60℃恒温槽中で20時間加熱して、重量平均分子量を6000に調整することにより、シリコーンレジン(B)を得た。次にこのシリコーンレジン(B)に、シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:OSCAL1432「IPA分散コロイダルシリカ」、一次粒子径:10〜20nm、固形分30%)を、シリカ微粒子/シリコーンレジン(B)(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が40/60となるように配合し、その後、全固形分が1%になるようにIPAで希釈することによって、コーティング材組成物を調製した。
<Example 2>
To 208 parts of tetraethoxysilane, 356 parts of methanol is added, and 126 parts of water and 18 parts of 0.01N hydrochloric acid (“H 2 O” / “OR” = 2.0) are further mixed. The mixture was obtained by mixing. This mixture was stirred in a constant temperature bath at 25 ° C. for 2 hours and heated in a constant temperature bath at 60 ° C. for 20 hours to adjust the weight average molecular weight to 6,000, thereby obtaining a silicone resin (B). Next, silica fine particles (trade name: OSCAL1432, “IPA-dispersed colloidal silica”, primary particle diameter: 10 to 20 nm, solid content: 30%) manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd. were added to the silicone resin (B). ) (In terms of condensed compound) was blended so that the weight ratio was 40/60 based on the solid content, and then diluted with IPA so that the total solid content was 1%, to prepare a coating material composition. .
そして、このコーティング材組成物を1時間放置した後に、PVdF/アクリル複合フィルム(呉羽化学工業製、商品名:クレハKFCフィルム、品番:FT−50Y、PVdF厚み:4μm、アクリル厚み:46μm、合計フィルム厚み:50μm、PVdF屈折率:1.42、アクリル屈折率:1.47)のアクリル表面にワイヤーバーコーターによって塗布して、膜厚が約100nmの塗膜を形成し、これを1分間放置して乾燥した後に、乾燥被膜を80℃で10分間酸素雰囲気下で熱処理し、フッ素系複合樹脂フィルムを得た。 After leaving this coating material composition for 1 hour, a PVdF / acryl composite film (Kureha Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Kureha KFC film, product number: FT-50Y, PVdF thickness: 4 μm, acrylic thickness: 46 μm, total film) A 50 μm thick, PVdF refractive index: 1.42, acrylic refractive index: 1.47) was coated on an acrylic surface with a wire bar coater to form a coating film having a thickness of about 100 nm, which was left for 1 minute. After drying, the dried film was heat-treated at 80 ° C. for 10 minutes in an oxygen atmosphere to obtain a fluorine-based composite resin film.
<実施例3>
実施例2において、シリカ微粒子を中空シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:CS−60IPA「IPA分散コロイダル中空シリカ」、一次粒子径:約60nm、外殻厚み約15nm、固形分20%)に変更した以外は、実施例2と同様にしてフッ素系複合樹脂フィルムを得た。
<Example 3>
In Example 2, the silica fine particles were changed to hollow silica fine particles (trade name: CS-60IPA “IPA-dispersed colloidal hollow silica”, manufactured by Catalyst Chemical Industry, primary particle diameter: about 60 nm, outer shell thickness: about 15 nm, solid content: 20%). A fluorine-based composite resin film was obtained in the same manner as in Example 2 except for performing the above.
<実施例4>
テトラエトキシシラン208部にメタノール356部を加え、更に水18部及び0.01Nの塩酸水溶液18部(「H2O」/「OR」=0.5)を加え、これをディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を850に調整したシリコーンレジン(C)を得た。次にこのシリコーンレジン(C)に、シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:OSCAL1432「IPA分散コロイダルシリカ」、一次粒子径:10〜20nm、固形分30%)を、シリカ微粒子/シリコーンレジン(C)(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が80/20となるように配合し、その後、全固形分が1%になるようにIPAで希釈することによって、コーティング材組成物を調製した。
<Example 4>
To 208 parts of tetraethoxysilane, 356 parts of methanol is added, and 18 parts of water and 18 parts of a 0.01 N hydrochloric acid aqueous solution (“H 2 O” / “OR” = 0.5) are added. The mixture was obtained by mixing. The mixture was stirred in a thermostat at 25 ° C. for 2 hours to obtain a silicone resin (C) whose weight average molecular weight was adjusted to 850. Next, silica fine particles (trade name: OSCAL1432, “IPA-dispersed colloidal silica”, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., primary particle diameter: 10 to 20 nm, solid content 30%) were mixed with the silicone resin (C). ) (Condensed compound equivalent) was blended so that the weight ratio was 80/20 on the solid content basis, and then diluted with IPA so that the total solid content was 1%, to prepare a coating material composition. .
そして、このコーティング材組成物を1時間放置した後に、PVdF/アクリル複合フィルム(呉羽化学工業製、商品名:クレハKFCフィルム、品番:FT−50Y、PVdF厚み:4μm、アクリル厚み:46μm、合計フィルム厚み:50μm、PVdF屈折率:1.42、アクリル屈折率:1.47)のアクリル表面にワイヤーバーコーターによって塗布して、膜厚が約100nmの塗膜を形成し、これを1分間放置して乾燥した後に、乾燥被膜を80℃で10分間酸素雰囲気下で熱処理し、フッ素系複合樹脂フィルムを得た。 After leaving this coating material composition for 1 hour, a PVdF / acryl composite film (Kureha Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Kureha KFC film, product number: FT-50Y, PVdF thickness: 4 μm, acrylic thickness: 46 μm, total film) A 50 μm thick, PVdF refractive index: 1.42, acrylic refractive index: 1.47) was coated on an acrylic surface with a wire bar coater to form a coating film having a thickness of about 100 nm, which was left for 1 minute. After drying, the dried film was heat-treated at 80 ° C. for 10 minutes in an oxygen atmosphere to obtain a fluorine-based composite resin film.
<実施例5>
実施例4において、シリカ微粒子を中空シリカ微粒子(触媒化成工業製 商品名:CS−60IPA「IPA分散コロイダル中空シリカ」、一次粒子径:約60nm、外殻厚み約15nm、固形分20%)に変更した以外は、実施例4と同様にしてフッ素系複合樹脂フィルムを得た。
<Example 5>
In Example 4, the silica fine particles were changed to hollow silica fine particles (trade name: CS-60IPA “IPA-dispersed colloidal hollow silica”, manufactured by Catalyst Chemical Industry, primary particle diameter: about 60 nm, outer shell thickness: about 15 nm, solid content: 20%). A fluorine-based composite resin film was obtained in the same manner as in Example 4 except for performing the above.
<実施例6>
シリコーン系コーティング材(松下電工製、商品名:フレッセラN−A210、固形分20%)に酸化亜鉛微粒子(住友大阪セメント製、一次粒子径:0.2μm)を、シリコーン系コーティング材(縮合化合物)/酸化亜鉛微粒子が重量比で80/20になるように添加してシリコーン系コーティング材組成物を調製した。そしてこのシリコーン系コーティング材組成物をPVdF/アクリル複合フィルムのアクリル表面上にワイヤーバーコーターによって塗布して、膜厚が約5μmの塗膜を形成し、これを1分間放置して乾燥した後に80℃で60分間酸素雰囲気下で熱処理して、透明のシリコーン系熱硬化型ハードコート樹脂層を形成した。このようにシリコーン系熱硬化型ハードコート樹脂層を形成した複合フィルムを使用するようにした他は、実施例2と同様にしてフッ素系複合樹脂フィルムを得た。
<Example 6>
Fine particles of zinc oxide (manufactured by Matsushita Electric Works, trade name: Fresella N-A210, solid content: 20%) are coated with zinc oxide fine particles (manufactured by Sumitomo Osaka Cement, primary particle diameter: 0.2 μm), and silicone-based coating material (condensation compound) The silicone-based coating material composition was prepared by adding the fine particles / zinc oxide in a weight ratio of 80/20. Then, this silicone-based coating material composition is applied on the acrylic surface of the PVdF / acryl composite film by a wire bar coater to form a coating film having a thickness of about 5 μm. Heat treatment was performed at 60 ° C. for 60 minutes in an oxygen atmosphere to form a transparent silicone-based thermosetting hard coat resin layer. A fluorine-based composite resin film was obtained in the same manner as in Example 2, except that the composite film on which the silicone-based thermosetting hard coat resin layer was formed was used.
<比較例1>
PVdF/アクリル複合フィルム(呉羽化学工業製、商品名:クレハKFCフィルム、品番:FT−50Y、PVdF厚み:4μm、アクリル厚み:46μm、合計フィルム厚み:50μm、PVdF屈折率:1.42、アクリル屈折率:1.47)を、何もコーティングしないで使用し、これを比較例1とした。
<Comparative Example 1>
PVdF / acrylic composite film (manufactured by Kureha Chemical Industry, trade name: Kureha KFC film, product number: FT-50Y, PVdF thickness: 4 μm, acrylic thickness: 46 μm, total film thickness: 50 μm, PVdF refractive index: 1.42, acrylic refraction) Rate: 1.47) was used without any coating and was used as Comparative Example 1.
<比較例2>
実施例5において、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(C)(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が50/50となるように配合した以外は、実施例5と同様にした。
<Comparative Example 2>
Example 5 was carried out in the same manner as in Example 5 except that the hollow silica fine particles / silicone resin (C) (condensed compound equivalent) were blended so that the weight ratio was 50/50 based on the solid content.
<比較例3>
メチルトリエトキシシラン178部にメタノール356部を加え、更に水90部及び0.01Nの塩酸18部(「H2O」/「OR」=2.0)を混合し、これをディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を800に調整することにより、シリコーンレジン(D)を得た。そしてこのシリコーンレジン(D)を使用した以外は、実施例1と同様にした。
<Comparative Example 3>
To 178 parts of methyltriethoxysilane, 356 parts of methanol is added, and 90 parts of water and 18 parts of 0.01N hydrochloric acid (“H 2 O” / “OR” = 2.0) are further mixed. Mix well to obtain a mixture. This mixture was stirred for 2 hours in a thermostat at 25 ° C., and the weight average molecular weight was adjusted to 800 to obtain a silicone resin (D). And it carried out similarly to Example 1 except having used this silicone resin (D).
上記の実施例1〜6及び比較例1〜3で得た複合樹脂フィルムについて、全光線透過率、ヘーズ率、表面の乾燥被膜の屈折率及び水滴接触角、防汚染性を測定し、複合樹脂フィルムの性能評価をした。 For the composite resin films obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3, the total light transmittance, the haze, the refractive index of the dried film on the surface, the contact angle of water droplets, and the stain resistance were measured, and the composite resin was measured. The performance of the film was evaluated.
(全光線透過率)
分光光度計(日立製作所製「U−3400」)を使用して、波長550nmの全光線透過率を測定した。
(Total light transmittance)
The total light transmittance at a wavelength of 550 nm was measured using a spectrophotometer (“U-3400” manufactured by Hitachi, Ltd.).
(ヘーズ率)
ヘーズメータ(日本電色工業製「NDH2000」)を使用して測定した。
(Haze rate)
It was measured using a haze meter ("NDH2000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
(屈折率)
走査型電子顕微鏡でフィルム破断面を観察し、乾燥被膜の膜厚を測定した後、エリプソメーター(ULVAC製「EMS−1」)で屈折率を導出した。
(Refractive index)
After observing the fracture surface of the film with a scanning electron microscope and measuring the film thickness of the dried film, the refractive index was derived with an ellipsometer (“EMS-1” manufactured by ULVAC).
(接触角)
接触角計(協和界面科学製「CA−W150」)を使用して測定した。
(Contact angle)
It measured using the contact angle meter ("CA-W150" by Kyowa Interface Science).
(防汚染性)
複合フィルムを屋外(松下電工構内「大阪府門真市門真1048」の建屋屋上)に、南方位、傾斜角30°で配置して、半年間暴露した後、全光線透過率を測定した。
(Stain resistance)
The composite film was placed outdoors (on the building rooftop of Kadoma 1048, Kadoma-shi, Osaka, Matsushita Electric Works) at a south direction and a tilt angle of 30 °, and after being exposed for half a year, the total light transmittance was measured.
上記の各試験結果を表1に示す。 Table 1 shows the test results.
表1の結果にみられるように、各実施例のものは、コーティング材組成物の乾燥被膜を形成しない比較例1や、乾燥被膜の接触角が大きい比較例2,3よりも、光透過率を屋外で長時間に亘って維持できることが確認された。 As can be seen from the results in Table 1, the light transmittance of each of the examples was higher than that of Comparative Example 1 in which a dry film of the coating material composition was not formed and Comparative Examples 2 and 3 in which the contact angle of the dry film was large. It has been confirmed that can be maintained for a long time outdoors.
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