JP2004165377A - 表面改質方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】被処理基体の表面から所望の深さまでの所望の物質の濃度を増加させ、高品位な表面改質を短時間で行う表面改質方法を提供する。
【解決手段】被処理基体の表面をマイクロ波表面波プラズマにより改質する方法において、プラズマ処理により前記被処理基体に注入した物質が実質的に被処理基体中を拡散しない温度、かつ、焼きなまし効果を得られる温度に前記被処理基体を維持する工程と、プラズマ処理室内に前記物質を含む処理ガスを導入する工程と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成する工程と、前記プラズマの電子温度を少なくとも一回変更する工程とを有することを特徴とする。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般には、半導体製造方法に係り、特に、マイクロ波表面波プラズマにより、被処理基体を、高品位に、高速で、改質する方法に関する。本発明は、例えば、シリコン酸窒化膜を形成するのに好適である。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体装置の微細化にともない、シリコン酸窒化膜を、厚さ３ｎｍ以下のゲート絶縁膜に、応用しつつある。シリコン酸窒化膜は、シリコン酸化膜中に窒素を導入して製造するものである。シリコン酸窒化膜は、高比誘電率であり、リーク電流抑制効果やゲート電極からのボロン拡散防止効果を有し、その優れた特性により注目されている。
【０００３】
シリコン酸化膜を窒化処理する方法に、熱処理と、リモートプラズマ処理等が検討されている。
【０００４】
熱処理によるシリコン酸窒化膜製法では、例えば、一酸化窒素ガス雰囲気中で、数時間、ウエハを加熱する方法が提案されており（第６２回応用物理学会学術講演会講演予稿集、Ｎｏ．２、６３０頁）、この方式はシリコン酸化膜を熱窒化するものである。熱窒化には８００℃から１０００℃という高温が必要であるため、窒素はシリコン酸化膜中を容易に移動し、シリコン酸化膜とシリコンの界面に到達する。シリコン酸化膜とシリコンでは拡散のしやすさが異なるため、窒素は、シリコン酸化膜とシリコンの界面に蓄積する。よって、熱窒化によるシリコン酸化膜中の深さ方向窒素濃度分布は、表面に窒素が局在せず、シリコンとシリコン酸化膜の界面の窒素濃度が高くなる。
【０００５】
リモートプラズマ処理によるシリコン酸窒化膜製法では、窒素プラズマのうち窒素イオンを十分減らし窒素活性種のみをウエハに輸送し、シリコン酸化膜を窒化するといった方法が提案されている（第６２回応用物理学会学術講演会講演予稿集、Ｎｏ．２、６３１頁）。この方式は、反応性の高い窒素活性種を利用することにより、比較的低い４００℃程度の温度でシリコン酸化膜を窒化することができる。反応容器を高圧に保ったり、プラズマ発生部とウエハを大きく離したりし、プラズマ中の窒素イオンを減じ窒素活性種のみを利用している。リモートプラズマ処理によるシリコン酸化膜中の深さ方向窒素濃度分布は、表面ほど大きく、シリコンとシリコン酸化膜の界面で小さくすることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
これら従来のシリコン酸化膜の窒化方法には、幾つか問題点があり、実用に至っていない。
【０００７】
例えば、熱窒化処理においては、シリコン酸化膜とシリコンの界面の窒素濃度が高く、素子特性が悪い。また、８００℃から１０００℃という高温でウエハを処理するため、窒素以外の物質も一緒に拡散させ、更に素子特性を悪化させやすい。また、処理時間が非常に長い。
【０００８】
リモートプラズマ処理においては、プラズマ中の窒素イオンと一緒に必要な窒素活性種も減るため、十分な窒素活性種を得られず、処理時間が非常に長い。また、シリコン酸化膜中の深さ方向窒素濃度分布は、深さに伴い急減するので、窒素面密度を高めることが難しい。
【０００９】
本発明は、これら従来技術の問題点を解決すべく、被処理基体の表面から所望の深さまでの所望の物質の濃度を増加させ、高品位な表面改質を短時間で行う表面改質方法を提供することを例示的な目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の一側面としての表面改質方法は、被処理基体の表面をマイクロ波表面波プラズマにより改質する方法において、プラズマ処理により前記被処理基体に注入した物質が実質的に被処理基体中を拡散しない温度、かつ、焼きなまし効果を得られる温度に前記被処理基体を維持する工程と、プラズマ処理室内に前記物質を含む処理ガスを導入する工程と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成する工程と、前記プラズマの電子温度を少なくとも一回変更する工程とを有することを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
【実施例】
【実施例１】
本発明の第１の実施例のマイクロ波表面波干渉プラズマ処理装置を、図１を参照して詳細に説明する。図１において、１はプラズマ処理室、２は被処理基体、３は被処理基体２を保持する被処理基体載置台、４はヒーター、５は処理用ガス導入手段、６は排気口、８はマイクロ波をプラズマ処理室１に導入するためのスロット付無終端環状導波管、１１は無終端環状導波管８にマイクロ波管内波長の１／２又は１／４毎に設けられたスロット、７はプラズマ処理室１内にマイクロ波を導入する誘電体窓、１０は無終端環状導波管８に内蔵された冷却水路である。プラズマ処理室１内壁、誘電体窓７は、被処理基体２への金属コンタミの恐れのない石英である。被処理基体戴置台３は、内蔵ヒーター４熱伝導と金属コンタミを考慮し、窒化アルミニウムを主成分としたセラミックである。
【００１２】
プラズマ処理においては、冷却水路１０に冷却水を流し、無終端環状導波管８を室温に冷却する。また、被処理基体戴置台３をヒーター４により加熱し２００℃にする。表面に厚さ２ｎｍのシリコン酸化膜の付いた被処理基体２を載置台３に搬送して載置する。次に、当業界で周知の圧力調整弁２５ａや真空ポンプ（例えば、樫山製作所製）２５ｂを有する排気系２５を介してプラズマ処理室１内を真空排気する。続いて、処理用ガス導入手段５を介して窒素ガスを２００ｓｃｃｍでプラズマ処理室１に導入する。次に、排気系２５に設けられたコンダクタンスバルブなどの圧力調整弁２５ａを調整し、プラズマ処理室１内を第一の圧力（例えば、１３０Ｐａ）に保持する。
【００１３】
次いで、マイクロ波電源より１．５ｋＷのマイクロ波を、無終端環状導波管８、誘電体７を介して、プラズマ処理室１内に供給し、プラズマ処理室１内でプラズマを発生させる。無終端環状導波管８内に導入されたマイクロ波は、左右に二分配され、自由空間よりも長い管内波長をもって伝搬し、スロット１１から誘電体７を介してプラズマ処理室１に導入され、誘電体７表面を表面波として伝搬する。この表面波は、隣接するスロット間で干渉し、電界を形成する。この電界によりプラズマを生成する。プラズマ発生部の電子温度と電子密度は高いので、窒素を効率良く解離できる。また、電子温度は、プラズマ発生部から離れると、急速に低下する。プラズマ中の窒素イオンは、被処理基体２近辺に拡散等で輸送され、被処理基体２表面に発生したイオンシースにより加速され、被処理基体２に衝突する。１分経過後、プラズマ処理室１内を第二の圧力（例えば、４００Ｐａ）に保持する。更に、２分経過後、マイクロ波電源を停止し、窒素ガスを停止し、プラズマ処理室１内を０．１Ｐａ以下まで真空排気した後、被処理基体２をプラズマ処理室１外へ搬送する。被処理基体２温度は、プラズマにより加熱され、２７０℃となっていた。
【００１４】
被処理基体２表面シリコン酸化膜中の窒素濃度は、ＳＩＭＳにより測定したところ、深さ１ｎｍから急減し、２ｎｍの深さにあるシリコン酸化膜とシリコンの界面において０．４ａｔｍ％以下であった。ＳＩＭＳ測定原理から言って、実際のシリコン酸化膜とシリコン界面における窒素濃度は、これより更に低いと思われる。また、ＸＰＳで測定したところ、窒素濃度面密度は、処理中に圧力を変えない場合と比較し増加しており、約５ａｔｍ％であった。また、窒素は、ＸＰＳにより測定したところ、珪素とＳｉ３Ｎ結合のみしていた。また、エリプソメーターにより測定したところ、光学的酸化膜換算膜厚均一性は３％であった。
【００１５】
プラズマ処理室１内の圧力は、制御部２１が、真空ポンプ２５ｂを運転しながら、処理室１の圧力を検出する圧力センサー２４が所定の値になるように、処理室１の圧力を弁の開き具合で調整する圧力調整弁２５ａ（例えば、ＶＡＴ製の圧力調整機能付きゲートバルブやＭＫＳ製排気スロットバルブ）を制御することによって調節することができる。
【００１６】
シリコン酸化膜中を窒素が拡散しない温度に被処理基体２を保ちながら、シリコン酸化膜に窒素を注入するので、窒素は注入された位置に留まる。シリコン酸化膜中の窒素原子の拡散活性化エネルギーは、シリコン酸化膜にもよるが、本発明者らの実験によれば、０．７〜数ｅＶと推定される。つまり、シリコン酸化膜中窒素濃度勾配や処理時間にもよるが被処理基体２の温度を概ね４００℃以下に保てば、シリコン酸化膜に注入された窒素は、その場に留まる。もし、被処理基体２が８００℃程度の高温であれば、シリコン酸化膜に注入された窒素はシリコン酸化膜とシリコンの界面に向かい拡散してしまい、素子特性が悪化する。低温であれば、このようにならないため好ましい。
【００１７】
一方、被処理基体２を焼きなまし効果の得られる温度に保つので、窒素イオン注入に由来する格子欠陥を修復することができる。この温度（即ち、欠陥密度が許容値以下になる温度）は、本発明者らの実験によれば、約２００℃以上である。
【００１８】
よって、被処理基体２温度を２００〜４００℃に保つことにより、シリコン酸化膜中に窒素を拡散させず、かつ、焼きなまし効果を得ることができる。被処理基体２は、ヒーター４と窒素イオン照射により、加熱される。被処理基体２温度が窒化処理中に２００℃〜４００℃となるように、窒化処理前に被処理基体２をヒーター４で加熱する。
【００１９】
被処理基体２の温度は、直接に（例えば、熱電対を直接接触させるなど）、若しくは、間接的に（例えば、載置台３に温度計を埋め込んで載置台３の温度を測定したり、被処理基体２の温度を輻射熱を利用して測定するなど）測定したりしてもよい。本発明は、温度計が被処理基体２に直接接触して温度測定する熱電対などを使用することを妨げるものではないが、直接接触は一般にコンタミの原因になる。温度制御機構は、制御部２１と、温度計２２と、ヒーター４（のヒーター線）及び制御部２１に接続された電源２３から構成される。制御部２１は、温度計２２が測定した被処理基体２の温度が２００℃〜４００℃になるように、ヒーター４への通電を制御する。
【００２０】
プラズマ処理室１内を第一の圧力に保ち、図２のようなシリコン酸化膜中窒素濃度分布を形成する。また、プラズマ処理室１内を第二の圧力に保ち、図３のようなシリコン酸化膜中窒素濃度分布を形成する。図２及び図３のシリコン酸化膜中窒素濃度分布を重ねあわせることによって、図４に示すようなシリコン酸化膜中窒素濃度分布を形成することができる。つまり、第一の圧力において、比較的深いシリコン酸化膜中に窒素を注入し、更に、第二の圧力において、第一の圧力で濃度の低かったシリコン酸化膜表層に窒素を注入することで、シリコン酸化膜とシリコンの界面の窒素濃度を増やすことなく、シリコン酸化膜中の中ほどから表層にかけての窒素濃度を増加している。また、注意深く処理時間や処理圧力や圧力変更回数を選ぶことによって、シリコン酸化膜の表層から中ほどにかけての窒素濃度をほぼ一定にすることも可能である。
【００２１】
被処理基体２近傍のプラズマ電子温度を、プラズマ処理室１内圧力の変更により、窒化処理中に一回変更することで、所望のシリコン酸化膜中窒素濃度分布を形成することができる。
【００２２】
プラズマ処理室１内の圧力と窒素濃度分布ピーク深さには図５に示すような相関がある。プラズマ電子温度は、圧力が高いほどコリジョンにより低下する。また、窒素イオン照射エネルギーは、窒素イオンを十分大きい絶縁体に入射するイオンと見なした下式によって示され、電子温度に比例する。よって、プラズマ処理室１内圧力変更により、プラズマ電子温度を変更し、窒素イオン照射エネルギーを変更し、所望のシリコン酸化膜中の窒素濃度分布を得ている。
【００２３】
【数１】
Figure 2004165377
【００２４】
ここで、ｅ・Ｖｗは窒素イオン照射エネルギー、ｅは素電荷、Ｖｗは被処理基体の電位（プラズマポテンシャルを０Ｖ）、ｋはボルツマン定数、Ｔｅは電子温度、ｍｉはイオン質量、ｍｅは電子質量とする。
【００２５】
図１に示すマイクロ波表面波干渉プラズマ処理装置は、プラズマ電子温度が被処理基体２近傍で１〜２ｅＶであり、窒素濃度分布ピークを１ｎｍ以下にでき、極薄い酸化膜の窒化処理に有望である。
【００２６】
マイクロ波表面波プラズマ処理装置を用いた窒化処理は、特許公報第２９２５５３５号等に触れられているが、極薄い酸化膜を窒化処理するための諸条件、特に処理中に電子温度を少なくとも一回変更する方法を開示していない。
【００２７】
また、他方式リモートプラズマによる窒化処理と比較し、高窒素イオン密度、低電子温度であるマイクロ波表面波プラズマを利用しているので、被処理基体２に与えるダメージを小さくでき、かつ、処理時間を短くできるという長所を有している。
【００２８】
【実施例２】
本発明の第２の実施例を、以下、図１及び図９を参照して説明する。第２の実施例では、プラズマ処理室内に導入するガスの混合比を変更することにより、窒化処理中に電子温度を一回変更し、シリコン酸化膜を窒化処理している。即ち、窒素プラズマのみでシリコン酸化膜中ほどを窒化した後、更にアルゴンを添加しプラズマ電子温度を低下させ、シリコン酸化膜表層を窒化することで、シリコン酸化膜とシリコンの界面の窒素濃度を増やすことなく、シリコン酸化膜中の中ほどから表層にかけての窒素濃度を増加している。アルゴンガスなどの希ガスを添加すると、電子密度が上がり、電子温度が低下する傾向がある。これは、エネルギー総量が不変で、電子密度が上がるので、個々の電子の電子温度が低下するためである。
【００２９】
図１に示すマイクロ波表面波干渉プラズマ処理装置を使用して、以下のようにプラズマ処理を行う。即ち、まず、被処理基体戴置台３の温度をヒーター４により加熱して２００℃に設定する。次いで、表面に厚さ２ｎｍのシリコン酸化膜の付いた被処理基体２を載置台３に搬送して載置する。次に、排気系２５を介してプラズマ処理室１内を真空排気する。続いて、処理用ガス導入手段５を介して窒素を２００ｓｃｃｍだけプラズマ処理室１に導入する。次に、排気系２５に設けられたコンダクタンスバルブなどの圧力調整弁２５ａを調整し、プラズマ処理室１内を１３０Ｐａに保持する。マイクロ波電源より１．５ｋＷのマイクロ波を、無終端環状導波管８、誘電体７を介して、プラズマ処理室１内に供給し、プラズマ処理室１内でプラズマを発生させる。１分経過後、アルゴンガス５０ｓｃｃｍ、窒素１５０ｓｃｃｍをプラズマ処理室１に導入する。更に、３分経過後、マイクロ波電源を停止し、窒素ガスを停止し、プラズマ処理室１内を０．１Ｐａ以下まで真空排気した後、被処理基体２をプラズマ処理室１外へ搬送する。被処理基体２の温度は、プラズマにより加熱され上昇していたが、３００℃以下であった。
【００３０】
被処理基体２の表面シリコン酸化膜中の窒素濃度は、ＳＩＭＳにより測定したところ、深さ１ｎｍから急減し、２ｎｍの深さにあるシリコン酸化膜とシリコンの界面において０．５ａｔｍ％以下であった。ＳＩＭＳ測定原理から、実際のシリコン酸化膜とシリコン界面における窒素濃度は、これより更に低いと思われる。また、ＸＰＳで測定したところ、窒素濃度は、処理中にガス流量比を変えない場合と比較し増加しており、約５ａｔｍ％であった。
【００３１】
図９に示すように、アルゴンガスや窒素ガスの流量は、制御部２１に接続され、ガスの質量流量を調整するマスフローコントローラ（例えば、ＭＫＳ製）等の質量流量制御器２７と、ガスをプラズマ処理室１に供給停止する弁２８を用いて調節することができる。制御部２１は、質量流量制御器２７に所望の質量流量を指示することによって所望の混合比のガスをプラズマ処理室１に供給する。あるガスを全く流さない時は弁２３を閉じる。アルゴンガスの代わりに、クリプトン、キセノンなどの希ガスを利用してもよい。これら希ガスは、反応性がないのでシリコン酸化膜に悪影響せず、また、電離しやすいのでプラズマ密度を増加し窒化処理速度を上昇する傾向がある。
【００３２】
【実施例３】
本発明の第３の実施例を、以下、図１及び図１０を参照して説明する。第３の実施例では、被処理基体戴置台３を昇降機構２９により昇降移動することにより、窒化処理中に被処理基体２近傍の電子温度を一回変更し、シリコン酸化膜を窒化処理する。即ち、被処理基体２を誘電体窓７に近づけシリコン酸化膜中ほどを窒化した後、更に、被処理基体２を誘電体窓７から遠ざけ被処理基体２近傍のプラズマ電子温度を低下させ、シリコン酸化膜表層を窒化することで、シリコン酸化膜とシリコンの界面の窒素濃度を増やすことなく、シリコン酸化膜中の中ほどから表層にかけてほぼ一定の窒素濃度にしている。図１０において、２９は、制御部２１に接続されて制御され、載置台３を昇降移動する昇降機構、３０は、載置台３に固定され、昇降機構２９によって上下する支持棒、３１は載置台３の位置を検出する上下位置検出器である。昇降機構２９は、不図示の内蔵する空気圧駆動回転機に取り付けた歯車の回転により支持棒３０を上下移動させる。上下位置検出器３１は、例えば、当業界で周知のポテンショメーターを利用することができる。制御部２１は、上下位置検出器３１が検出する載置台３の上下位置が所望の位置になるように、昇降機構２９を制御する。
【００３３】
図１に示すマイクロ波表面波干渉プラズマ処理装置を使用して、以下のようにプラズマ処理を行う。即ち、まず、被処理基体戴置台３の温度をヒーター４により加熱し１００℃に設定する。次いで、表面に厚さ２ｎｍのシリコン酸化膜の付いた被処理基体２を載置台３に搬送して載置する。次に、被処理基体戴置台３を誘電体窓７から５ｃｍ下に不図示の昇降手段により移動する。次に、排気系２５を介してプラズマ処理室１内を真空排気する。続いて、処理用ガス導入手段５を介し窒素を２００ｓｃｃｍだけプラズマ処理室１に導入する。次に、排気系２５に設けられたコンダクタンスバルブ等の圧力調整弁２５ａを調整し、プラズマ処理室１内を４００Ｐａに保持する。次いで、マイクロ波電源より１．５ｋＷのマイクロ波を、無終端環状導波管８、誘電体７を介して、プラズマ処理室１内に供給し、プラズマ処理室１内でプラズマを発生させる。１分経過後、マイクロ波電源を停止し、被処理基体戴置台３を誘電体窓７から１０ｃｍ下に下げる。次に、マイクロ波電源より１．５ｋＷのマイクロ波をプラズマ処理室１内に供給する。更に、２分経過後、マイクロ波電源を停止し、窒素ガスを停止し、プラズマ処理室１内を０．１Ｐａ以下まで真空排気した後、被処理基体２をプラズマ処理室１外へ搬送する。被処理基体２温度は、プラズマにより加熱され上昇していたが、３００℃以下であった。
【００３４】
被処理基体２表面シリコン酸化膜中の窒素濃度は、ＳＩＭＳにより測定したところ、深さ１ｎｍから急減し、２ｎｍの深さにあるシリコン酸化膜とシリコンの界面において０．５ａｔｍ％以下であった。ＳＩＭＳ測定原理から、実際のシリコン酸化膜とシリコン界面における窒素濃度は、これより更に低いと思われる。また、ＸＰＳで測定したところ、窒素濃度は、処理中に被処理基体戴置台を動かさない場合と比較し増加しており、約８ａｔｍ％であった。
【００３５】
【実施例４】
本発明の第４の実施例を、以下、図６に示すマイクロ波表面波干渉プラズマ処理装置を使用して説明する。第４の実施例では、被処理基体２を冷却するための機構を被処理基体戴置台３に更に設け、被処理基体２を冷却する。被処理基体２を冷却することにより、プラズマ処理中の温度上昇を緩和し、被処理基体２を窒素が実質的に拡散しない温度、かつ、焼きなまし効果を得られる温度に保つ。９は被処理基体戴置台３を冷却する冷却水路である。１２は被処理基体戴置台３と被処理基体２間に静電吸着力を発生させる双極式の吸着電極である。被処理基体戴置台３表面に、ヘリウム供給口１３とこれと連通した１００μｍ深さの凹部がある。その他、図１に示す部材と同一の部材は同一の参照番号を付して詳細な説明を省略する。
【００３６】
図６に示すマイクロ波表面波干渉プラズマ処理装置を利用して、以下のようにプラズマ処理を行う。即ち、まず、冷却水路９に冷却水を流し、被処理基体戴置台３を室温に保つ。次いで、表面に厚さ２ｎｍのシリコン酸化膜の付いた被処理基体２を載置台３に搬送して載置する。次に、双極式の吸着電極１２に不図示の高圧電源から±２００Ｖの電圧をかけ、被処理基体２を被処理基体戴置台３に吸着する。次に、戴置台３の表面凹部にヘリウム供給口１３からヘリウムを充填する。ヘリウムの圧力を０〜２０００Ｐａの範囲で適当に選びヘリウム熱伝導率を調整することで、被処理基体２の温度を調節することができる。本実施例では、ヘリウム圧力を８００Ｐａに設定した。次に、被処理基体戴置台３を誘電体窓７から５ｃｍ下に不図示の昇降手段により移動する。次に、排気系２５を介してプラズマ処理室１内を真空排気する。続いて、処理用ガス導入手段５を介し窒素を２００ｓｃｃｍだけプラズマ処理室１に導入する。次に、排気系２５に設けられたコンダクタンスバルブ等の圧力調整弁２５ａを調整し、プラズマ処理室１内を４００Ｐａに保持する。次に、マイクロ波電源より１．５ｋＷのマイクロ波を、無終端環状導波管８、誘電体７を介して、プラズマ処理室１内に供給し、プラズマ処理室１内でプラズマを発生させる。３分経過後、マイクロ波電源を停止し、被処理基体戴置台３を誘電体窓７から１０ｃｍ下に下げる。次に、マイクロ波電源より１．５ｋＷのマイクロ波をプラズマ処理室１内に供給する。更に、２分経過後、マイクロ波電源を停止し、窒素ガスを停止し、ヘリウムを停止し、プラズマ処理室１内を０．１Ｐａ以下まで真空排気した後、吸着電極１２の高電圧を停止し、被処理基体２をプラズマ処理室１外へ搬送する。被処理基体２は、プラズマにより加熱され上昇しており、約２５０℃であった。
【００３７】
被処理基体２表面シリコン酸化膜中の窒素濃度は、ＳＩＭＳにより測定したところ、深さ１ｎｍから急減し、２ｎｍの深さにあるシリコン酸化膜とシリコンの界面において０．５ａｔｍ％以下であった。ＳＩＭＳ測定原理から、実際のシリコン酸化膜とシリコン界面における窒素濃度は、これより更に低いと思われる。また、ＸＰＳで測定したところ、窒素濃度は、処理中に被処理基体戴置台３を動かさない場合と比較し増加しており、約１５ａｔｍ％であった。
【００３８】
【実施形態５】
本発明の第５の実施例を、以下、図６乃至図８を参照して説明する。第５の実施例では、被処理基体４を予熱したあと、窒化処理する。予熱することで、被処理基体２と窒素の反応を促進し、窒素濃度を上げる効果がある。図７に示す予熱室１４と図６に示すマイクロ波表面波干渉プラズマ処理装置を利用する。図７において、１４は予熱室、１５は窒化アルミニウムのセラミックヒーター、１６は被処理基体２を保持する支持棒、１７は予熱室を真空排気する排気口である。図８の１８は被処理基体２を搬送する搬送装置、２０は被処理基体２を載置するポートである。プラズマ処理室１と予熱室１４とポート２０は、図８に示すように、不図示の手段により真空排気された搬送室１９で接続されている。また、各室は不図示の扉により隔離されている。
【００３９】
以下のように予熱する。予熱室１４を０．１Ｐａ以下まで排気系２５により真空排気され、セラミックヒーター１５は３００℃まで加熱されている。次に、被処理基体２を支持棒１６に載せる。３分経過後、被処理基体２を搬送装置１８により予熱室１４からプラズマ処理室１に搬送し、第４の実施例と同様の窒化処理を行う。
【００４０】
本実施例においては、シリコン酸化膜中に窒素を注入する場合を述べたが、窒素に限らず、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｏなどの注入にも有効である。また、シリコン酸化膜に限らず、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｔａなどの基体への注入にも有効である。
【００４１】
以上、本実施形態によれば、シリコン酸化膜とシリコンの界面の窒素濃度を十分小さくし、かつ、シリコン酸化膜中窒素濃度を高め、高品位のシリコン酸窒化膜を、短い処理時間で生成する被処理基体改質方法を提供することができる。即ち、本実施例によれば、極薄シリコン酸化膜とシリコン界面の窒素濃度を増やすことなく、シリコン酸化膜の中程から表層にかけての窒素濃度を高めた高品位のシリコン酸窒化膜を、短い処理時間で、生成することができる。また、被処理基体の極浅い表面に不純物を高濃度で、短い処理時間で、注入することができる。
【００４２】
本出願は更に以下の事項を開示する。
【００４３】
（実施態様１） 被処理基体の表面をマイクロ波表面波プラズマにより改質する方法において、
プラズマ処理により前記被処理基体に注入した物質が実質的に被処理基体中を拡散しない温度、かつ、焼きなまし効果を得られる温度に前記被処理基体を維持する工程と、
プラズマ処理室内に前記物質を含む処理ガスを導入する工程と、
前記プラズマ処理室内にプラズマを生成する工程と、
前記プラズマの電子温度を少なくとも一回変更する工程とを有することを特徴とする方法。
【００４４】
（実施態様２） 前記変更工程は、前記プラズマ処理室の圧力を変更することを特徴とする実施態様１記載の方法。
【００４５】
（実施態様３） 前記変更工程は、前記プラズマ処理室に導入される前記処理ガスの混合比を変更することを特徴とする実施態様１記載の方法。
【００４６】
（実施態様４） 前記変更工程は、前記プラズマを生成する発生部と被処理基体を載置する載置台との間の距離を変更することを特徴とする実施態様１記載の方法。
【００４７】
（実施態様５） 被処理基体の表面を所定の物質を含む処理ガスとマイクロ波表面波プラズマにより改質する方法において、
前記処理ガスをプラズマ化して前記被処理基体に注入し、前記被処理基体の前記表面に前記物質の少なくとも２つの濃度分布を形成する工程と、
前記物質が前記被処理基体の所定の深さ以上は拡散しない温度、かつ、前記被処理基体の欠陥密度を許容値以下にする温度に前記被処理基体の温度を維持する工程とを有する方法。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、被処理基体の表面から所望の深さまでの所望の物質の濃度を増加させ、高品位な表面改質を短時間で行う表面改質方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例としてのマイクロ波表面波干渉プラズマ処理装置の概略断面斜視図である。
【図２】被処理基体に形成されるシリコン酸化膜中の深さ方向の窒素濃度分布を示すグラフである。
【図３】被処理基体に形成されるシリコン酸化膜中の深さ方向の窒素濃度分布を示すグラフである。
【図４】被処理基体に形成されるシリコン酸化膜中の深さ方向の窒素濃度分布を示すグラフである。
【図５】処理室内の圧力と被処理基体に形成されるシリコン酸化膜中の窒素濃度分布ピーク深さの関係を示すグラフである。
【図６】図１に示すマイクロ波表面波干渉プラズマ処理装置の変形例の概略断面斜視図である。
【図７】本発明のマイクロ波表面破干渉プラズマ処理装置に適用可能な予熱室の概略斜視図である。
【図８】処理室と図７に示す予熱室の接続を説明するための概略斜視図である。
【図９】図１に示すマイクロ波表面破干渉プラズマ処理装置に適用可能なガス混合比調整機構の概略ブロック図である。
【図１０】図１に示すマイクロ波表面破干渉プラズマ処理装置に適用可能な載置台の昇降機構の概略ブロック図である。
【符号の説明】
１ プラズマ処理室
２ 被処理基体
３ 被処理基体戴置台
４ ヒーター
５ 処理用ガス導入手段
６ 排気口
７ 誘電体窓
８ スロット付無終端環状導波管
９ 冷却水路
１０ 冷却水路
１１ スロット
１２ 吸着電極
１３ ヘリウム供給口
１４ 予熱室
１５ セラミックヒーター
１６ 支持棒
１７ 排気口
１８ 搬送装置
１９ 搬送室
２０ ポート
２１ 制御部
２２ 温度計
２３ 電源
２４ 圧力センサー
２５ 排気系
２７ 質量流量制御器
２８ 弁
２９ 昇降機構
３０ 支持棒
３１ 上下位置検出器

Claims (1)

  1. 被処理基体の表面をマイクロ波表面波プラズマにより改質する方法において、
    プラズマ処理により前記被処理基体に注入した物質が実質的に被処理基体中を拡散しない温度、かつ、焼きなまし効果を得られる温度に前記被処理基体を維持する工程と、
    プラズマ処理室内に前記物質を含む処理ガスを導入する工程と、
    前記プラズマ処理室内にプラズマを生成する工程と、
    前記プラズマの電子温度を少なくとも一回変更する工程とを有することを特徴とする方法。
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