JP2004153270A - Method and equipment for separating semiconductor devices and method for mounting semiconductor devices - Google Patents

Method and equipment for separating semiconductor devices and method for mounting semiconductor devices Download PDF

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JP2004153270A JP2003365449A JP2003365449A JP2004153270A JP 2004153270 A JP2004153270 A JP 2004153270A JP 2003365449 A JP2003365449 A JP 2003365449A JP 2003365449 A JP2003365449 A JP 2003365449A JP 2004153270 A JP2004153270 A JP 2004153270A
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均 小田島
Kazuyuki Futaki
和行 二木
Masato Matsuoka
真人 松岡
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and equipment for separating semiconductor devices in which a thin semiconductor wafer, which is stuck to an adhesive sheet, is cut into pieces of thin semiconductor devices, and the group of thin-semiconductor devices is taken off the adhesive sheet at a high speed, without being scratched or cracked, then a specified number of semiconductor devices are picked up and separated from the others of the group. <P>SOLUTION: This method includes a separation process for attaching a semiconductor wafer to an adhesive sheet of which circumference is secured to a frame, for cutting the semiconductor wafer into pieces of semiconductor devices, for positioning the group of semiconductor devices and holding it with a chuck 150 of cutting off the rim of the adhesive sheet around the group of semiconductor devices, and for peeling the adhesive sheet away from the group of semiconductor devices; and a receiving process for picking up a specified number of semiconductor devices from the group of semiconductor devices held by the chuck, and of receiving them in a tray 2. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

本発明は、半導体ウエハまたは電子部品を連ねた状態から半導体素子(半導体チップ)または電子部品の単位に切断し、該切断された半導体素子または電子部品をピックアップしてトレイまたは回路基板等の被搭載基板に搭載する半導体素子等の搭載方法、半導体素子等の分離方法およびその装置並びにICカードの製造方法に関する。   According to the present invention, a semiconductor wafer or an electronic component is cut into a unit of a semiconductor element (semiconductor chip) or an electronic component from a connected state, and the cut semiconductor element or the electronic component is picked up and mounted on a tray or a circuit board. The present invention relates to a method for mounting a semiconductor element or the like mounted on a substrate, a method for separating a semiconductor element or the like, an apparatus therefor, and a method for manufacturing an IC card.

例えば、半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された半導体素子を粘着シートから剥がしてピックアップする従来技術として、特開平6-295930号公報(従来技術1)、
および特開平6−97214号公報(従来技術2)が知られている。
For example, JP-A-6-295930 discloses a conventional technique in which a semiconductor wafer is stuck on an adhesive sheet and cut into units of semiconductor elements (semiconductor chips), and the cut semiconductor element is peeled off from the adhesive sheet and picked up. (Prior art 1),
And JP-A-6-97214 (prior art 2) are known.

従来技術1には、剥離すべき半導体チップを接着している粘着シートの裏面を摺動ピンで擦ることで、半導体チップとの粘着力を弱め、該摺動ピンの周囲に設けられた突き上げピンを摺動ピンと一緒に上昇して半導体チップを均等に持ち上げることによって粘着力の弱まった半導体チップを粘着シートから剥離することが記載されている。   In prior art 1, the back surface of the adhesive sheet to which the semiconductor chip to be peeled is adhered is rubbed with a sliding pin to weaken the adhesive force with the semiconductor chip, and a push-up pin provided around the sliding pin is provided. It is described that the semiconductor chip having weakened adhesive strength is peeled off from the adhesive sheet by lifting the semiconductor chip together with the sliding pins to evenly lift the semiconductor chip.

また、従来技術2には、多数個のペレットが粘着された粘着シートを、ペレットを下側にして固定的に保持し、ニードルユニットの下端の球状形状で粘着シートの押え面を形成し、ニードルユニットから先端の尖ったニードルを突き下げることによって、ペレットを粘着シートから剥離し、下方に位置するコレットによって真空吸着することが記載されている。   Further, in prior art 2, a pressure-sensitive adhesive sheet to which a large number of pellets are adhered is fixedly held with the pellets on the lower side, and the pressing surface of the pressure-sensitive adhesive sheet is formed in a spherical shape at the lower end of the needle unit. It is described that the pellet is peeled off from the adhesive sheet by pushing down a needle having a sharp tip from the unit, and vacuum-adsorbed by a collet located below.

ところで、半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、半導体素子(半導体チップ)の単位に切断する従来技術としては、特開平1−264236号公報(
従来技術3)が知られている。この従来技術3には、フレームリングに貼付けられた粘着シートとその粘着シートで固定されたセミフルカット済みのウエハとを
、粘着シートの裏面から、中央部に膨らみのあるローラを押し当てて移動させることによって、ウエハ状態の半導体素子を素子単位に切離するウエハブレーク技術が記載されている。
By the way, as a conventional technique of cutting a semiconductor element (semiconductor chip) into units in a state where a semiconductor wafer is stuck on an adhesive sheet, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 1-264236 (
Prior art 3) is known. In the prior art 3, the pressure-sensitive adhesive sheet adhered to the frame ring and the semi-full-cut wafer fixed by the pressure-sensitive adhesive sheet are moved from the back surface of the pressure-sensitive adhesive sheet by pressing a roller having a bulge at the center. Accordingly, a wafer break technique for separating a semiconductor element in a wafer state into element units is described.

特開平6-295930号公報JP-A-6-295930

特開平6−97214号公報JP-A-6-97214 特開平1−264236号公報JP-A-1-264236

ところで、例えば、ICカード等に実装する半導体チップは、ICカード等の製品を薄くする必要性から、薄肉化が要求されている。このように、薄肉の半導体チップをICカード等の製品を形成する回路基板(被搭載基板)に搭載してICカード等の製品を製造する際、薄肉の半導体チップに傷をつけたり、割ることなく実行する必要がある。   By the way, for example, a semiconductor chip mounted on an IC card or the like is required to be thinner in order to make the product such as the IC card thinner. As described above, when manufacturing a product such as an IC card by mounting a thin semiconductor chip on a circuit board (substrate to be mounted) that forms a product such as an IC card, the thin semiconductor chip is not damaged or broken. Need to do it.

しかしながら、上記従来技術1は、摺動ピンの周囲に設けられた突き上げピンを摺動ピンと一緒に上昇して半導体チップを均等に持ち上げることによって半導体チップを粘着シートから剥離するものであるため、半導体チップの粘着面に対して分離する面が小さく、薄肉の半導体チップの場合、分離できずに割ってしまったり、傷を付けてしまう可能性が高いものである。   However, in the above-mentioned prior art 1, the push-up pins provided around the slide pins are lifted together with the slide pins to evenly lift the semiconductor chips, thereby separating the semiconductor chips from the adhesive sheet. In the case of a thin semiconductor chip having a small surface to be separated from the adhesive surface of the chip, it is highly likely that the semiconductor chip cannot be separated and is broken or damaged.

また、上記従来技術2においても、先端の尖ったニードルを突き下げることによって、ペレットを粘着シートから剥離するものであるため、薄肉の半導体チップの場合、分離できずに割ってしまったり、傷を付けてしまう可能性が高いものである。   Also, in the above prior art 2, since the pellet is peeled off from the adhesive sheet by pushing down a needle having a sharp tip, in the case of a thin semiconductor chip, it cannot be separated and is broken or damaged. It is likely to be attached.

また、従来技術3は、ウエハ状態の半導体素子を素子単位に切離するウエハブレーク技術に関するものである。   Further, Prior Art 3 relates to a wafer break technique for separating a semiconductor element in a wafer state into individual elements.

このように、上記いずれの従来技術においても、薄肉の半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、薄肉の半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された列状態の薄肉の半導体素子群を各半導体素子に傷つけることなく、しかも割ることなく高速で粘着シートから剥がして吸着コレットによって粘着シートから分離しようとする点について、考慮されていなかった。   As described above, in any of the above-described prior arts, the thin semiconductor wafer is cut into units of thin semiconductor elements (semiconductor chips) in a state where the thin semiconductor wafer is adhered to the adhesive sheet, and the thin semiconductor elements in the cut row state are cut. No consideration has been given to the point that the group is peeled off from the pressure-sensitive adhesive sheet at high speed without damaging each semiconductor element, and without breaking, and is separated from the pressure-sensitive adhesive sheet by a suction collet.

本発明の目的は、上記課題を解決すべく、薄肉の半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、薄肉の半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された薄肉の半導体素子群を各半導体素子に傷つけることなく、しかも割ることなく高速で粘着シートから剥がし、剥がされた半導体素子群から半導体素子をピックアップして分離できるようにした半導体素子の分離方法及びその装置を提供することにある。   An object of the present invention is to cut a thin semiconductor element (semiconductor chip) into thin semiconductor element units in a state where a thin semiconductor wafer is attached to an adhesive sheet in order to solve the above problem. Provided is a method of separating a semiconductor element and an apparatus for separating a semiconductor element from a separated semiconductor element group by picking up and separating the semiconductor element from the adhesive sheet at a high speed without damaging each semiconductor element and without breaking the semiconductor element. is there.

また、本発明の他の目的は、薄肉の半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、薄肉の半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された薄肉の半導体素子群を各半導体素子に傷つけることなく、しかも割ることなく高速で粘着シートから剥がし、剥がされた半導体素子群から半導体素子をピックアップしてトレイに収納できるようにした半導体素子の分離方法及びその装置を提供することにある。   Another object of the present invention is to cut a thin semiconductor element (semiconductor chip) into units in a state where a thin semiconductor wafer is stuck on an adhesive sheet, and cut the cut thin semiconductor element group into each semiconductor element. It is an object of the present invention to provide a method and an apparatus for separating a semiconductor element in which a semiconductor element can be picked up from a peeled semiconductor element group and stored in a tray without peeling off the adhesive sheet at a high speed without damaging the chip. .

また、本発明の他の目的は、薄肉の半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、薄肉の半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された薄肉の半導体素子群を各半導体素子に傷つけることなく、しかも割ることなく高速で粘着シートから剥がし、剥がされた半導体素子群から半導体素子をピックアップしてトレイまたは回路基板等の被搭載基板に搭載できるようにした半導体素子の搭載方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to cut a thin semiconductor element (semiconductor chip) into units in a state where a thin semiconductor wafer is stuck on an adhesive sheet, and cut the cut thin semiconductor element group into each semiconductor element. A semiconductor element mounting method that allows a semiconductor element to be picked up from a peeled semiconductor element group and mounted on a tray or a substrate to be mounted, such as a circuit board, at a high speed without damaging the device and without breaking it. To provide.

また、本発明の他の目的は、高品質の薄型のICカードを効率よく、安価に製造できるようにしたICカードの製造方法を提供することにある。   It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing an IC card which enables efficient and inexpensive manufacture of a high-quality thin IC card.

上記目的を達成するために、本発明は、粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす分離工程と、該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップしてトレイに収納するトレイ収納工程とを有することを特徴とする半導体素子の分離方法である。   In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor device group attached to an adhesive sheet in the form of a semiconductor wafer, and a semiconductor element group held on a chuck for an object cut in units of semiconductor elements. A separation step of peeling the pressure-sensitive adhesive sheet from the element group, and a tray storage step of picking up semiconductor elements in a desired unit from the semiconductor element group held in the chuck where the pressure-sensitive adhesive sheet is peeled off in the separation step and storing the semiconductor elements in a tray. A method for separating a semiconductor element, comprising the steps of:

また、本発明は、枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを上記保持された半導体素子群から剥がす分離工程と、該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップしてトレイに収納するトレイ収納工程とを有することを特徴とする半導体素子の分離方法である。   The present invention also provides a semiconductor wafer attached to an adhesive sheet having its periphery fixed to a frame in the form of a semiconductor wafer, positioning an object cut in units of semiconductor elements, and holding a semiconductor element group on a chuck, A separation step of cutting the pressure-sensitive adhesive sheet around the element group and peeling the cut pressure-sensitive adhesive sheet from the held semiconductor element group, and a step of separating the pressure-sensitive adhesive sheet from the semiconductor element group held by the chuck in the separation step. A tray storing step of picking up semiconductor elements in desired units and storing them in trays.

また、本発明は、粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす分離工程と、該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ工程とを有することを特徴とする半導体素子の分離方法である。   Further, the present invention also provides a semiconductor device group which is attached to a pressure-sensitive adhesive sheet in a state of a semiconductor wafer and held on a chuck with respect to an object cut in units of semiconductor elements. A separation step of peeling off the adhesive sheet, and a pickup step of independently picking up semiconductor elements from a semiconductor element group held by a chuck in which the adhesive sheet has been peeled off in the separation step. is there.

また、本発明は、枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを上記保持された半導体素子群から剥がす分離工程と、該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ工程とを有することを特徴とする半導体素子の分離方法である。   The present invention also provides a semiconductor wafer attached to an adhesive sheet having its periphery fixed to a frame in the form of a semiconductor wafer, positioning an object cut in units of semiconductor elements, and holding a semiconductor element group on a chuck, A separation step of cutting the pressure-sensitive adhesive sheet around the element group and peeling the cut pressure-sensitive adhesive sheet from the held semiconductor element group, and a step of separating the pressure-sensitive adhesive sheet from the semiconductor element group held by the chuck in the separation step. A pickup step of independently picking up the semiconductor elements.

また、本発明は、上記半導体素子の分離方法において、分離工程とピックアップ工程とを並行することを特徴とする。   According to the present invention, in the method for separating a semiconductor element, the separating step and the pickup step are performed in parallel.

また、本発明は、枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を、チャックに保持される粘着性を有する仮固定用シート上に粘着させて保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを半導体素子群から剥がすことによって各半導体素子をピックアップ可能に半導体素子群を仮固定用シート上に粘着させたものを得ることを特徴とする半導体素子の分離方法である。   Further, the present invention has an adhesive property in which a semiconductor element group is attached to a pressure-sensitive adhesive sheet having a periphery fixed to a frame in a state of a semiconductor wafer, and a semiconductor element group is positioned by positioning an object cut in units of semiconductor elements and held by a chuck. Each semiconductor element can be picked up by holding the semiconductor element group by sticking it on the temporary fixing sheet, cutting the adhesive sheet around the held semiconductor element group, and peeling the cut adhesive sheet from the semiconductor element group. A method for separating a semiconductor element, comprising obtaining an element group adhered to a temporary fixing sheet.

また、本発明は、枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを上記保持された半導体素子群から剥がしながら、半導体素子群の上記粘着シートが貼付られていた側に、各半導体素子をピックアップ可能に粘着性を有する仮固定用シートを粘着させることを特徴とする半導体素子の分離方法である。   The present invention also provides a semiconductor wafer attached to an adhesive sheet having its periphery fixed to a frame in the form of a semiconductor wafer, positioning an object cut in units of semiconductor elements, and holding a semiconductor element group on a chuck, While cutting the adhesive sheet around the element group and peeling the cut adhesive sheet from the held semiconductor element group, each semiconductor element can be picked up on the side of the semiconductor element group on which the adhesive sheet was stuck. A method for separating a semiconductor element, comprising: adhering an adhesive temporary fixing sheet to the substrate.

また、本発明は、粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群を保持するチャック手段と該チャック手段によって保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす剥離手段とを有する分離手段と、該分離手段の剥離手段により粘着シートが剥がされて上記チャック手段により保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップしてトレイに収納するトレイ収納手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置である。   The present invention also provides a chucking device for holding a semiconductor device group and a semiconductor device group held by the chucking device, which are attached to an adhesive sheet in a state of a semiconductor wafer and are cut into semiconductor device units. Separating means having a peeling means for peeling the pressure-sensitive adhesive sheet, the semiconductor element is picked up in a desired unit from the semiconductor element group which is peeled off by the peeling means of the separating means and held by the chuck means, and is placed on a tray. And a tray storage means for storing the semiconductor device.

また、本発明は、枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を保持するチャック手段と該チャック手段により保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断する切断手段と該切断手段で切断された粘着シートを上記チャック手段により保持された半導体素子群から剥がす剥離手段とを有する分離手段と、該分離手段の剥離手段により粘着シートが剥がされて上記チャック手段により保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップしてトレイに収納するトレイ収納手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置である。   Further, the present invention provides a chucking means for holding a semiconductor element group by positioning an object cut in a semiconductor element unit and holding the semiconductor element group, which is affixed in a state of a semiconductor wafer to an adhesive sheet having a periphery fixed to a frame. Separating means having cutting means for cutting the adhesive sheet around the separated semiconductor element group, peeling means for peeling the adhesive sheet cut by the cutting means from the semiconductor element group held by the chuck means, and the separating means And a tray accommodating means for picking up semiconductor elements in a desired unit from the semiconductor element group held by the chuck means in a desired unit and accommodating the semiconductor elements in a tray. It is a separation device.

また、本発明は、粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群を保持するチャック手段と該チャック手段により保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす剥離手段とを有する分離手段と、該分離手段の剥離手段により粘着シートが剥がされて上記チャック手段により保持された半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置である。   The present invention also provides a chucking device for holding a semiconductor device group and a semiconductor device group held by the chucking device, which are attached to a pressure-sensitive adhesive sheet in a state of a semiconductor wafer and are cut into semiconductor device units. Separating means having a peeling means for peeling the pressure-sensitive adhesive sheet, and a pick-up means for independently picking up semiconductor elements from the semiconductor element group held by the chuck means, wherein the pressure-sensitive adhesive sheet is peeled off by the peeling means of the separating means. A semiconductor device separation device comprising:

また、本発明は、枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を保持するチャック手段と該チャック手段により保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断する切断手段と切断手段により切断された粘着シートを上記チャック手段により保持された半導体素子群から剥がす剥離手段とを有する分離手段と
、該分離手段の剥離手段により粘着シートが剥がされて上記チャック手段により保持された半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置である。
Further, the present invention provides a chucking means for holding a semiconductor element group by positioning an object cut in a semiconductor element unit and holding the semiconductor element group, which is affixed in a state of a semiconductor wafer to an adhesive sheet having a periphery fixed to a frame. A separating unit having a cutting unit that cuts the adhesive sheet around the set of semiconductor elements and a peeling unit that peels the adhesive sheet cut by the cutting unit from the semiconductor element group held by the chuck unit; and A semiconductor device separating apparatus, comprising: a pickup device for independently picking up semiconductor devices from a semiconductor device group held by the chuck device after the adhesive sheet has been peeled off by a peeling device.

また、本発明は、上記半導体素子の分離装置において、分離手段による半導体素子群からの粘着シートの剥がしとピックアップ手段による半導体素子のピックアップとを並行できるようにチャック手段を回動できるように構成したことを特徴する。   Further, the present invention is configured such that in the semiconductor device separating apparatus, the chuck means can be rotated so that the peeling of the adhesive sheet from the semiconductor element group by the separating means and the pickup of the semiconductor element by the pickup means can be performed in parallel. It is characterized.

また、本発明は、上記半導体素子の分離装置における分離手段において、対象物の半導体素子群の外観を検出する外観検出手段を有することを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that, in the separating device of the above-described semiconductor device separating apparatus, there is provided appearance detecting means for detecting the appearance of the semiconductor element group of the object.

また、本発明は、上記半導体素子の分離装置における分離手段において、対象物の半導体素子群がチャック手段に保持された状態を基準にして、半導体素子群における半導体素子の番地を検知する検知手段を有することを特徴とする。   Further, according to the present invention, in the separating device of the semiconductor device separating device, the detecting device for detecting the address of the semiconductor device in the semiconductor device group based on a state in which the semiconductor device group of the object is held by the chucking device. It is characterized by having.

また、本発明は、上記半導体素子の分離装置において、更に、ピックアップ手段でピックアップされた後、チャック手段のチャック面に残されたゴミを除去する除去手段を備えたことを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that the semiconductor device separating apparatus further comprises a removing means for removing dust remaining on the chuck surface of the chuck means after being picked up by the pick-up means.

また、本発明は、枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を粘着性を有する仮固定用シート上に粘着させて該仮固定用シートを保持するチャック手段と、該チャック手段に仮固定用シートを介して保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断する切断手段と、該切断手段により切断された粘着シートを上記チャック手段に仮固定用シートを介して保持された半導体素子群から剥がすことによって各半導体素子をピックアップ可能に半導体素子群を仮固定用シート上に粘着させたものを得る剥離手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置である。   In addition, the present invention is also applied to a pressure-sensitive adhesive sheet having a periphery fixed to a frame, in a state of a semiconductor wafer, positioning an object cut in units of semiconductor elements, and positioning a semiconductor element group on a temporary fixing sheet having adhesiveness. Chuck means for adhering and holding the temporary fixing sheet; cutting means for cutting the adhesive sheet around the semiconductor element group held by the chuck means via the temporary fixing sheet; and cutting means for cutting the adhesive sheet. Peeling means for peeling off the pressure-sensitive adhesive sheet from the semiconductor element group held by the chuck means via the temporary fixing sheet to obtain a semiconductor element group adhered on the temporary fixing sheet so that each semiconductor element can be picked up. And a semiconductor device separating device.

また、本発明は、枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を保持するチャック手段と、該チャック手段で保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断する切断手段と、該切断手段により切断された粘着シートを上記チャック手段により保持された半導体素子群から剥がす剥離手段と、該剥離手段により粘着シートを剥がした半導体素子群の上記粘着シートが貼付られていた側に、各半導体素子をピックアップ可能に粘着性を有する仮固定用シートを粘着させる粘着手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置である。   Further, the present invention is a chuck means for attaching a semiconductor wafer to a pressure-sensitive adhesive sheet having a periphery fixed to a frame, positioning an object cut in units of semiconductor elements, and holding a semiconductor element group, and the chuck means. Cutting means for cutting the adhesive sheet around the held semiconductor element group, peeling means for peeling the adhesive sheet cut by the cutting means from the semiconductor element group held by the chuck means, and adhesive sheet by the peeling means On the side of the semiconductor element group from which the adhesive sheet was adhered, adhesive means for adhering a temporary fixing sheet having adhesiveness so that each semiconductor element could be picked up was provided. It is a separation device.

また、本発明は、粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群を保持するチャック手段と、該チャック手段により半導体素子群を保持した状態で、上記粘着シートの端を保持して粘着シートを所定の方向に引っ張る引張機構と、該引張機構で粘着シートを引っ張る際、上記粘着シートを押さえながら所定の方向に移動して上記粘着シートを半導体素子群から剥がす成形手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置である。   Further, according to the present invention, a chuck unit for holding a semiconductor element group, and a semiconductor element group held by the chuck unit are attached to a pressure-sensitive adhesive sheet in a state of a semiconductor wafer, and the object cut in units of semiconductor elements. In the state, a tension mechanism that holds the edge of the pressure-sensitive adhesive sheet and pulls the pressure-sensitive adhesive sheet in a predetermined direction, and when the pressure-sensitive adhesive sheet is pulled by the pulling mechanism, the pressure-sensitive adhesive sheet moves in a predetermined direction while pressing the pressure-sensitive adhesive sheet. And a forming means for peeling off from the semiconductor element group.

また、本発明は、上記半導体素子の分離装置において、更に、粘着シートが剥がされた状態の半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ手段を備えたことを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that in the above-mentioned semiconductor device separating apparatus, a pickup means for independently picking up semiconductor elements from the semiconductor element group in a state where the adhesive sheet has been peeled off is further provided.

また、本発明は、上記半導体素子の分離装置において、更に、粘着シートを半導体素子群から剥がす際、チャック手段による半導体素子群の保持力が低下するのを低減する手段を備えたことを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that the semiconductor device separating apparatus further comprises means for reducing a decrease in holding force of the semiconductor element group by the chuck means when the adhesive sheet is peeled from the semiconductor element group. I do.

また、本発明は、上記半導体素子の分離装置の剥離手段を、粘着シートの端を保持して粘着シートを引っ張る引張手段と、該引張手段で粘着シートを引っ張る際、粘着シートを押さえつつ粘着シートの折れ曲げ形状を成形させる成形機構とを少なくとも粘着シートの面に沿った方向に移動するように構成したことを特徴とする。   Further, the present invention provides a peeling means of the semiconductor device separating device, a pulling means for holding the edge of the pressure-sensitive adhesive sheet and pulling the pressure-sensitive adhesive sheet, and when the pressure-sensitive adhesive sheet is pulled by the pulling means, the pressure-sensitive adhesive sheet is held down. And a forming mechanism for forming a bent shape of the pressure-sensitive adhesive sheet are moved at least in a direction along a surface of the pressure-sensitive adhesive sheet.

また、本発明は、粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす分離工程と、該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップして搭載位置へ搬送する搬送工程と、該搬送工程によって搬送されてきた半導体素子をトレイ上または被搭載基板上に搭載する搭載工程とを有することを特徴とする半導体素子の搭載方法である。   Further, the present invention also provides a semiconductor device group which is attached to a pressure-sensitive adhesive sheet in a state of a semiconductor wafer and held on a chuck with respect to an object cut in units of semiconductor elements. A transporting step of picking up semiconductor elements in a desired unit from a semiconductor element group held by a chuck and transporting the semiconductor elements to a mounting position, wherein the adhesive sheet is peeled off in the separating step, and a transporting step of transporting the semiconductor elements to the mounting position. And mounting the semiconductor element on a tray or a substrate to be mounted.

また、本発明は、枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを上記保持された半導体素子群から剥がす分離工程と、該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップして搭載位置へ搬送する搬送工程と、該搬送工程によって搬送されてきた半導体素子をトレイ上または被搭載基板上に搭載する搭載工程とを有することを特徴とする半導体素子の搭載方法である。   The present invention also provides a semiconductor wafer attached to an adhesive sheet having its periphery fixed to a frame in the form of a semiconductor wafer, positioning an object cut in units of semiconductor elements, and holding a semiconductor element group on a chuck, A separation step of cutting the pressure-sensitive adhesive sheet around the element group and peeling the cut pressure-sensitive adhesive sheet from the held semiconductor element group, and a step of separating the pressure-sensitive adhesive sheet from the semiconductor element group held by the chuck in the separation step. A transport step of picking up semiconductor elements in a desired unit and transporting the semiconductor elements to a mounting position; and a mounting step of mounting the semiconductor elements transported by the transport step on a tray or a substrate to be mounted. This is a method for mounting a semiconductor element.

以上説明したように、前記構成によれば、0.002〜0.2mm程度の薄肉の半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、薄肉の半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された薄肉の半導体素子群を各半導体素子に傷つけることなく、しかも割ることなく高速で粘着シートから剥がして吸着コレットによって分離してトレイに収納または被搭載基板(回路基板)に搭載することができる。   As described above, according to the above configuration, a thin semiconductor wafer having a thickness of about 0.002 to 0.2 mm is cut into units of thin semiconductor elements (semiconductor chips) in a state where the thin semiconductor wafer is attached to the adhesive sheet. The separated thin semiconductor element group can be peeled off from the adhesive sheet at high speed without damaging each semiconductor element and without breaking, separated by a suction collet, and stored in a tray or mounted on a substrate (circuit board). .

また、前記構成によれば、電子部品をつらねた状態のものを粘着シートに貼付けた状態で、電子部品の単位に切断し、該切断された電子部品群を各電子部品に傷つけることなく、高速で粘着シートから剥がして吸着コレットによって分離し
、そのままの状態でトレイに収納または被搭載基板(回路基板)に搭載することができる。
Further, according to the above configuration, the electronic components are cut into units of electronic components in a state where the electronic components are held together on the adhesive sheet, and the cut electronic component group is not damaged to each electronic component, and the high-speed operation is performed. Then, the adhesive sheet is separated from the pressure-sensitive adhesive sheet, separated by a suction collet, and can be stored in a tray or mounted on a mounting substrate (circuit board) as it is.

また、前記構成によれば、高品質の薄型のICカードを効率よく、安価に製造することができる。   Further, according to the configuration, a high-quality thin IC card can be manufactured efficiently and at low cost.

本発明によれば、0.002〜0.2mm程度の薄肉の半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、薄肉の半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された薄肉の半導体素子群を各半導体素子に傷つけることなく、しかも割ることなく高速で粘着シートから剥がして分離することができる効果を奏する。   According to the present invention, a thin semiconductor wafer having a thickness of about 0.002 to 0.2 mm is cut into units of thin semiconductor elements (semiconductor chips) in a state of being adhered to an adhesive sheet, and the cut thin semiconductor element is cut. There is an effect that the group can be peeled off and separated from the adhesive sheet at a high speed without damaging the semiconductor element and without breaking the group.

また、本発明によれば、0.002〜0.2mm程度の薄肉の半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、薄肉の半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された薄肉の半導体素子群を各半導体素子に傷つけることなく、しかも割ることなく高速で粘着シートから剥がして分離して持ち運びができるトレイ詰めした状態のものあるいはそれに近い状態のものが取得することができる効果を奏する。   Further, according to the present invention, a thin semiconductor wafer having a thickness of about 0.002 to 0.2 mm is cut into units of thin semiconductor elements (semiconductor chips) in a state of being attached to the adhesive sheet, and the cut thin wafer is cut. The semiconductor element group can be obtained in a tray-packed state or a state close to it, which can be peeled off from the adhesive sheet at high speed without breaking the semiconductor element group and without breaking, and can be carried separately. .

また、本発明によれば、0.002〜0.2mm程度の薄肉の半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、薄肉の半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された薄肉の半導体素子群を各半導体素子に傷つけることなく、しかも割ることなく高速で粘着シートから剥がし、剥がされた半導体素子群を所定の単位で順次搬送し、各半導体素子を順次トレイまたは被搭載基板(回路基板)に搭載することができる効果を奏する。   Further, according to the present invention, a thin semiconductor wafer having a thickness of about 0.002 to 0.2 mm is cut into units of thin semiconductor elements (semiconductor chips) in a state of being attached to the adhesive sheet, and the cut thin wafer is cut. The semiconductor element group is peeled off from the adhesive sheet at a high speed without damaging each semiconductor element and without breaking, and the peeled semiconductor element group is sequentially transported in a predetermined unit, and each semiconductor element is sequentially placed on a tray or a substrate (circuit). This has the effect of being able to be mounted on a substrate.

また、本発明によれば、高品質の薄型のICカードを効率よく、安価に製造することができる効果を奏する。   Further, according to the present invention, there is an effect that a high-quality thin IC card can be efficiently and inexpensively manufactured.

本発明に係る実施の形態について図を用いて説明する。   An embodiment according to the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明に係るICカード等を構成する回路基板に薄肉の半導体チップ(半導体素子)を薄肉の半導体ウエハ(半導体基板)の状態からダイシング(切断)してトレイ等に搭載(収納)する全体のシステムの第1の実施の形態を示す概略構成を示す図である。このシステムは、0.002〜0.2mm程度の薄肉の半導体ウエハ(半導体基板)の状態からダイシング(切断)して0.002〜0.2mm程度の薄肉の半導体チップ(半導体素子)10を分離し、列状態にある薄肉の半導体チップ(半導体素子)の群20を一度に吸着コレット101に吸着する分離機構部(分離手段)100と、該分離機構部100で薄肉の半導体ウエハ(半導体基板)の状態から分離され、吸着コレット101に吸着されて搬入されて載置される列状態にある薄肉の半導体チップ(半導体素子)の群20から薄肉の半導体チップ毎に分離して反転し、この反転された薄肉の半導体チップを吸着ノズル216で吸着する分離コンベア部(搬送手段)200と、該分離コンベア部200で吸着ノズル216によって吸着して搬入された薄肉の半導体チップ10をトレイ等に搭載して詰める搭載機構部(トレイ詰め部)300とから構成される。なお、半導体ウエハの他に基板またはテープで多数つらねたチップサイズパッケージ等の半導体装置に対しても適用することが可能である。   FIG. 1 shows a dicing (cutting) of a thin semiconductor chip (semiconductor element) from a thin semiconductor wafer (semiconductor substrate) on a circuit board constituting an IC card or the like according to the present invention, and mounting (storing) on a tray or the like. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of an entire system to be implemented. This system separates a thin semiconductor chip (semiconductor element) 10 of about 0.002 to 0.2 mm by dicing (cutting) from a state of a thin semiconductor wafer (semiconductor substrate) of about 0.002 to 0.2 mm. Then, a separating mechanism (separating means) 100 for adsorbing a group of thin semiconductor chips (semiconductor elements) 20 in a row to the suction collet 101 at once, and a thin semiconductor wafer (semiconductor substrate) formed by the separating mechanism 100 Is separated from the group of thin semiconductor chips (semiconductor elements) 20 in a line state, which are sucked into the suction collet 101, carried in, and placed, and are separated and inverted for each thin semiconductor chip. A separation conveyor unit (transporting means) 200 for sucking the separated thin semiconductor chip by the suction nozzle 216, and suction by the suction nozzle 216 on the separation conveyor unit 200 Mounting mechanism for reducing the thin semiconductor chip 10 which is carried by mounting the trays Te composed of (a Tray section) 300.. In addition to the semiconductor wafer, the present invention can be applied to a semiconductor device such as a chip size package formed by a large number of substrates or tapes.

次に、分離機構部100のステージ61上に供給されて載置されるワーク60の製造方法について図2を用いて説明する。   Next, a method of manufacturing the work 60 supplied and placed on the stage 61 of the separation mechanism unit 100 will be described with reference to FIG.

薄肉の半導体ウエハ40は、シリコン等の基材上に通常の半導体製造方法によって半導体回路がチップ単位で作り込まれる。このようにして、半導体回路が作り込まれた薄肉の半導体ウエハ40は、検査工程において、電気的特性試験や外観検査等により、良品ペレットと修復不可能な不良品ペレットとに選別され、不良品ペレットについてはマークが付されるか、あるいは薄肉の半導体ウエハの品番に対応させて不良品ペレットの位置座標が検査装置の記録媒体または記憶装置に格納される。   In the thin semiconductor wafer 40, a semiconductor circuit is formed in a chip unit on a base material such as silicon by an ordinary semiconductor manufacturing method. In the inspection process, the thin semiconductor wafer 40 in which the semiconductor circuit is formed is separated into non-defective pellets and non-repairable defective pellets by an electrical characteristic test, appearance inspection, and the like. A mark is attached to the pellet, or the position coordinates of the defective pellet are stored in a recording medium or a storage device of the inspection device in accordance with the product number of the thin semiconductor wafer.

このように検査された薄肉の半導体ウエハ40の裏面には、シート粘着工程によって、外形より大きな粘着シート50が粘着される。粘着シート50は、例えば、PVC(ポリ塩化ビニル)、PET(ポリエチレンテレフタレート)等の伸
縮性を有する樹脂が用いられてウエハよりも大きい径の薄膜形状に形成されているシート基材51を備え、このシート基材51の片面に所定の粘着剤が塗布されて粘着剤層52を形成している。この粘着剤は、ポリイミド系の材料で、紫外線(UV)の照射により硬化して粘着力が低下する性質のものである。この粘着剤としては、アクリル系の材料で、熱を加えることによって硬化して粘着力が低下する性質のものも使用することは可能である。当然この粘着剤を使用する場合、UV照射の代わりに熱を加えることになる。
An adhesive sheet 50 larger than the outer shape is adhered to the back surface of the thin semiconductor wafer 40 inspected in this manner by a sheet adhesive process. The pressure-sensitive adhesive sheet 50 includes a sheet base material 51 formed of a thin film having a diameter larger than that of a wafer by using an elastic resin such as PVC (polyvinyl chloride) or PET (polyethylene terephthalate). A predetermined adhesive is applied to one surface of the sheet substrate 51 to form an adhesive layer 52. The pressure-sensitive adhesive is a polyimide-based material that has a property of being cured by irradiation with ultraviolet (UV) light and having a reduced adhesive strength. As the pressure-sensitive adhesive, it is possible to use an acrylic material having a property of being hardened by application of heat and having a reduced adhesive strength. Of course, when using this adhesive, heat is applied instead of UV irradiation.

次いで、治具装着工程において、図2(a)に示す如く、ステンレス鋼等の金属枠(キャリアリング)55に薄肉の半導体ウエハ40を粘着した粘着シート50の外周部を弛みのないように引き伸ばされて貼付けて装着される。   Next, in the jig mounting step, as shown in FIG. 2A, the outer peripheral portion of the adhesive sheet 50 in which the thin semiconductor wafer 40 is adhered to a metal frame (carrier ring) 55 of stainless steel or the like is stretched without loosening. It is attached and attached.

金属枠(キャリアリング)55に装着された粘着シート50上に粘着された薄肉の半導体ウエハ40は、ダイシング工程において、図2(b)に示すように薄肉の砥石61を用いて薄肉の半導体チップ毎に切断される。薄肉の半導体ウエハ40は、粘着シート50がダイシング時に充分に保持可能な粘着力で粘着されているため、ダイシングが可能である。また、このダイシングによって粘着シート50は、切断されていないので、切断された半導体チップの群20は、粘着シート50に粘着力で粘着されている状態である。   The thin semiconductor wafer 40 adhered on the adhesive sheet 50 mounted on the metal frame (carrier ring) 55 is subjected to a thin semiconductor chip using a thin grindstone 61 as shown in FIG. Disconnected every time. The thin semiconductor wafer 40 can be diced because the pressure-sensitive adhesive sheet 50 is adhered with an adhesive force that can be sufficiently held during dicing. Further, since the adhesive sheet 50 is not cut by the dicing, the cut semiconductor chip group 20 is in a state of being adhered to the adhesive sheet 50 with adhesive force.

次に、図2(c)に示すように、半導体チップ10が粘着シート50に粘着されている領域に紫外線(UV)を照射して粘着シート50における粘着剤52を硬化して粘着力を低下させる。   Next, as shown in FIG. 2C, the region where the semiconductor chip 10 is adhered to the adhesive sheet 50 is irradiated with ultraviolet rays (UV) to cure the adhesive 52 in the adhesive sheet 50 and reduce the adhesive strength. Let it.

以上のようにして製造されたワーク60は、分離機構部100に供給されて移動可能なステージ(搬送手段)170上に搭載されて固定される。   The work 60 manufactured as described above is supplied to the separation mechanism unit 100 and mounted and fixed on a movable stage (transporting means) 170.

次に、本発明に係る分離機構部100の原理について、図3〜図6を用いて説明する。   Next, the principle of the separation mechanism 100 according to the present invention will be described with reference to FIGS.

まず、分離機構部(分離手段)100の動作を図3を用いて説明する。図3(
a)に示すようにワーク60に対して切断された半導体チップの電極11が形成されている面の全体を保持するチャック150で強力に保持する。チャック150としては、各半導体チップ10に対応して表面に真空吸着用の溝152を形成し、該各溝152を真空源153に接続したチャック面部材151を備えて構成される。このように、チャック150により強力に保持されたワーク60に対して金属枠55の内周端近傍の粘着シートをカッタ155を回転させることによって切断し、金属枠55を粘着シート50から切り離す。
First, the operation of the separating mechanism (separating means) 100 will be described with reference to FIG. FIG. 3 (
As shown in a), the work 60 is strongly held by a chuck 150 for holding the entire surface of the semiconductor chip on which the electrodes 11 of the cut semiconductor chip are formed. The chuck 150 includes a chuck surface member 151 in which a groove 152 for vacuum suction is formed on the surface corresponding to each semiconductor chip 10, and the groove 152 is connected to a vacuum source 153. In this manner, the adhesive sheet near the inner peripheral end of the metal frame 55 is cut by rotating the cutter 155 on the work 60 held strongly by the chuck 150, and the metal frame 55 is separated from the adhesive sheet 50.

ところで、チャック150としては、必ずしも真空チャックで構成する必要はなく、各半導体チップを強力に保持できるのであればよく、マグネットチャックや冷凍チャック(チャック面の水分を急速冷凍する急速冷凍作用によって半導体チップ群を固定し、解凍作用によって着脱するもの)で構成しても良い。   Incidentally, the chuck 150 does not necessarily need to be formed of a vacuum chuck, but may be any one that can strongly hold each semiconductor chip. For example, a magnetic chuck or a freezing chuck (a semiconductor chip is provided by a rapid freezing action of rapidly freezing moisture on the chuck surface). (A group is fixed and detached by a thawing action).

また、真空源153の真空圧を自在に変えて、半導体チップの種類(材質)によって、チャック150のチャック力を可変にすることも可能である。この一実施例は、図30に示す如く、真空源153として、配管153aと真空ポンプ153cとの間に電圧を変えることで流量を制御できる比例電磁バルブ153bを入れて構成する。従って、比例電磁バルブ153bに対する電圧を外部から変えて制御することで、チャック150の真空圧を自在に変更することができる。また、チャック150の真空圧を制御することにより、図12〜図14に示すように、開口部の押さえシート(テープ)192に加える圧力を可変設定することができる。   Further, it is also possible to freely change the vacuum pressure of the vacuum source 153 to make the chucking force of the chuck 150 variable depending on the type (material) of the semiconductor chip. In this embodiment, as shown in FIG. 30, as a vacuum source 153, a proportional electromagnetic valve 153b capable of controlling a flow rate by changing a voltage is provided between a pipe 153a and a vacuum pump 153c. Therefore, the vacuum pressure of the chuck 150 can be freely changed by changing the voltage applied to the proportional electromagnetic valve 153b from outside. Further, by controlling the vacuum pressure of the chuck 150, as shown in FIGS. 12 to 14, the pressure applied to the pressing sheet (tape) 192 at the opening can be variably set.

次に、図3(b)に示すように、チャック150と一対のクランプローラからなるクランプ手段160とを相対的に移動接近させて、金属枠55が切り離された粘着シート50の一端を、一対のクランプローラからなるクランプ手段(引張手段)160でクランプする。   Next, as shown in FIG. 3B, the chuck 150 and the clamping means 160 composed of a pair of clamp rollers are relatively moved and approached, and one end of the adhesive sheet 50 from which the metal frame 55 has been cut is put in a pair. Is clamped by a clamping means (pulling means) 160 composed of a clamp roller.

続いて、更にチャック150とクランプ手段160とを相対的に移動させながら、クランプ手段160全体を軸161を中心して矢印162で示すように180度回動することによって、図3(c)に示すように、粘着シート50の一端は
、上方に持ち上げられる状態となる。
Subsequently, while further moving the chuck 150 and the clamping means 160 relatively, the entire clamping means 160 is rotated by 180 degrees about the shaft 161 as shown by an arrow 162, as shown in FIG. Thus, one end of the adhesive sheet 50 is in a state of being lifted upward.

続いて、更にチャック150とクランプ手段160とを相対的に移動させることによって、図3(d)に示すように、薄肉の半導体チップ群にUV照射によって著しく低下した粘着力で粘着された粘着シート50は横方向に引っ張られてチャック150に保持された薄肉の半導体チップ群から割れることなく、剥がされることになる。この実施例においても、粘着シートに作用する引っ張り力によって、薄肉の半導体チップ群から剥がすことになるので、各半導体チップについて一端から他端へと、粘着シートを剥がすことになり、チャック150に保持された薄肉の半導体チップの全てを割ることなく、しかも傷付けることなく、粘着シート50を剥がすことが可能となる。更に、薄肉の半導体チップ10についての粘着シート50からの剥がし方向を半導体チップの角から剥がすように設定して行うと更に弱い力で剥がすことが可能である。   Subsequently, by further moving the chuck 150 and the clamping means 160 relatively, as shown in FIG. 3D, an adhesive sheet adhered to the thin semiconductor chip group with the adhesive force significantly reduced by UV irradiation. 50 is pulled from the thin semiconductor chip group held in the chuck 150 by being pulled in the lateral direction without being cracked. Also in this embodiment, the adhesive sheet is peeled off from the thin semiconductor chip group by the pulling force acting on the adhesive sheet. Therefore, the adhesive sheet is peeled from one end to the other end of each semiconductor chip, and the semiconductor chip is held by the chuck 150. The adhesive sheet 50 can be peeled off without breaking and damaging all of the thin semiconductor chips. Further, when the direction of peeling the thin semiconductor chip 10 from the adhesive sheet 50 is set so as to be peeled from the corner of the semiconductor chip, the peeling can be performed with a smaller force.

即ち、この実施例において、粘着シート50に作用する引っ張り力Fによって薄肉の半導体チップ10の群から剥がす際、半導体チップの粘着面に対する引っ張り力Fの作用方向角度ψと半導体チップ10に作用する力Fx、Fyとの関係を図4に示す。剥がし力Fx は、Fx =Fcosψに近似する関係から、ψを小さく
した方が大きな剥がし力が得られ、薄肉の半導体チップ10の群から容易に粘着シート50を剥がすことが可能となる。他方半導体チップ10のチャック150への保持力に抗する力Fy は、ψを小さくした方が小さくなってチャック150の保持力を非常に大きくする必要がなくなり、薄肉の半導体チップ10を割る可能性を著しく低減することができる。
That is, in this embodiment, when the semiconductor chip 10 is peeled off from the group of thin semiconductor chips 10 by the tensile force F acting on the adhesive sheet 50, the acting direction angle ψ of the tensile force F with respect to the adhesive surface of the semiconductor chip and the force acting on the semiconductor chip 10. FIG. 4 shows the relationship between Fx and Fy. Since the peeling force Fx is close to Fx = Fcosψ, a smaller peeling force gives a larger peeling force, and the adhesive sheet 50 can be easily peeled from the group of thin semiconductor chips 10. On the other hand, the force Fy that resists the holding force of the semiconductor chip 10 on the chuck 150 is smaller when ψ is smaller, so that it is not necessary to increase the holding force of the chuck 150 very much. Can be significantly reduced.

ところで、粘着シート50の材質と粘着剤の特性(柔らかさ)とも関係があり
、粘着シート、接着剤(粘着剤)が薄く、柔らかい方が、半導体チップ10との剥離角度が小さく(曲率半径が小さい)、角度固定治具165に密着し、剥がれ
やすくなることは明らかである。
Incidentally, there is a relationship between the material of the pressure-sensitive adhesive sheet 50 and the characteristics (softness) of the pressure-sensitive adhesive, and the thinner and softer the pressure-sensitive adhesive sheet and the pressure-sensitive adhesive (pressure-sensitive adhesive), the smaller the peel angle with the semiconductor chip 10 (the smaller the radius of curvature). (Small), it is clear that it adheres to the angle fixing jig 165 and easily peels off.

そこで、引っ張り力Fの作用方向角度ψをできるだけ小さくしてその角度を確保するために図5(a)(b)に示すような楔状の引き剥がし角度固定治具(成
形機構)165を用いる。この楔状の引き剥がし角度固定治具165は、剥がす角度ψを確保すると共に、切断された薄肉の半導体チップ群に対して剥がす位置も直線状に揃えて剥がし力を集中する役目をすることになる。なお、楔状の引き剥がし角度固定治具165の先端165aは、図6に示すように剥がす力が1点に集中しないように粘着シートに対して所定の曲面(半径が0.1〜20mm程度)が形成されるようにして半導体チップ10の割れを防止する。該曲面の半径が小さくなれば、剥がす力が集中して剥がし易くなる。当然粘着シートの厚さが薄くなれば、曲面の半径が小さくなって剥がす力が集中することになる。また、楔状の引き剥がし角度固定治具165における剥がす角度ψとしては、図4に示す関係から10°〜20°程度が望ましいことがわかる。なお、この剥がす角度ψとしては、引き剥がし角度固定治具165の姿勢を機構的に変更させる場合も含ませても良い。この場合、当然、引き剥がし角度固定治具165の先端の角度は、10°〜20°程度よりも小さくなる。しかし、楔状の引き剥がし角度固定治具165を移動させる条件として、図5および図6に示すように、引き剥がし角度固定治具165を粘着シート50に接触させる必要がある。そのために、引き剥がし角度固定治具165をばね部材等から構成された押圧手段168で粘着シート50に対して押圧すればよい。このように、押圧手段168で押圧しながら、引き剥がし角度固定治具165を移動させることによって、粘着シートの剥がし力が先端部165aに集中させて剥がし曲率が増大するのを防止して薄肉の半導体チップ10を割る可能性を著しく低減すると共に半導体チップ10の吸着を維持することができる。押圧手段168で押圧しながら、引き剥がし角度固定治具165を移動させることによって、薄肉の半導体チップ10の肉厚にばらつきがあっても、このばらつきに対して同じ剥がし曲率を確保して円滑に剥がすことが可能となる。
Therefore, a wedge-shaped peeling angle fixing jig (forming mechanism) 165 as shown in FIGS. 5A and 5B is used in order to minimize the acting direction angle ψ of the pulling force F and secure the angle. The wedge-shaped peeling angle fixing jig 165 serves to secure the peeling angle ψ and to align the peeling position with the cut thin semiconductor chip group in a straight line so as to concentrate the peeling force. . The tip 165a of the wedge-shaped peeling angle fixing jig 165 has a predetermined curved surface (radius of about 0.1 to 20 mm) with respect to the adhesive sheet so that the peeling force is not concentrated on one point as shown in FIG. Is formed to prevent the semiconductor chip 10 from cracking. If the radius of the curved surface is small, the peeling force is concentrated and the peeling is easy. Naturally, if the thickness of the pressure-sensitive adhesive sheet is reduced, the radius of the curved surface is reduced and the peeling force is concentrated. Further, it can be seen that the peeling angle に お け る of the wedge-shaped peeling angle fixing jig 165 is preferably about 10 ° to 20 ° from the relationship shown in FIG. The peeling angle ψ may include a case where the posture of the peeling angle fixing jig 165 is mechanically changed. In this case, the angle of the tip of the peeling angle fixing jig 165 is naturally smaller than about 10 ° to 20 °. However, as a condition for moving the wedge-shaped peeling angle fixing jig 165, it is necessary to bring the peeling angle fixing jig 165 into contact with the adhesive sheet 50 as shown in FIGS. For this purpose, the peeling angle fixing jig 165 may be pressed against the pressure-sensitive adhesive sheet 50 by pressing means 168 formed of a spring member or the like. As described above, the peeling angle fixing jig 165 is moved while being pressed by the pressing means 168, thereby preventing the peeling force of the adhesive sheet from being concentrated on the front end portion 165a and preventing the peeling curvature from increasing, thereby reducing the thickness. The possibility of breaking the semiconductor chip 10 is significantly reduced, and the suction of the semiconductor chip 10 can be maintained. By moving the peeling angle fixing jig 165 while pressing with the pressing means 168, even if the thickness of the thin semiconductor chip 10 varies, the same peeling curvature can be secured against the variation to ensure smoothness. It can be peeled off.

なお、引き剥がし角度固定治具165が押圧手段168の押圧力により上下に微動できるように構成されているため、引き剥がし角度固定治具165を図7(b)に示す粘着シート50の上面上の位置までスムーズに乗り上げるために、図5および図8に示すように引き剥がし角度固定治具165の両端に突起169が設けられている。この突起169の高さhは半導体チップ10の厚さより僅か小さくなっていて、半導体チップ10が存在しない領域においては、突起169が例えばチャック150の周辺の上面に当接するように構成されている。また、押圧手段168による押圧力は、半導体チップ10の種類(例えば厚さ)に応じて可変できるように構成されている。即ち、半導体チップ10の厚さが薄い場合には、押圧手段168による押圧力を弱め、半導体チップ10の厚さが厚い場合には、押圧手段168による押圧力を強め、半導体チップ10を割ること無く、円滑に粘着シートを剥がすことができる。   Since the peeling angle fixing jig 165 can be finely moved up and down by the pressing force of the pressing means 168, the peeling angle fixing jig 165 is placed on the upper surface of the adhesive sheet 50 shown in FIG. 5 and 8, projections 169 are provided at both ends of the peeling angle fixing jig 165, as shown in FIGS. The height h of the projection 169 is slightly smaller than the thickness of the semiconductor chip 10, and in a region where the semiconductor chip 10 does not exist, the projection 169 is configured to contact, for example, the upper surface around the chuck 150. The pressing force of the pressing means 168 is configured to be variable according to the type (eg, thickness) of the semiconductor chip 10. That is, when the thickness of the semiconductor chip 10 is thin, the pressing force by the pressing means 168 is reduced, and when the thickness of the semiconductor chip 10 is thick, the pressing force by the pressing means 168 is increased to break the semiconductor chip 10. The adhesive sheet can be peeled off smoothly.

次に、この楔状の引き剥がし角度固定治具(成形機構)165を用いた分離機構部(分離手段)100について、図7を用いて説明する。図7(a)(b)は
、基本的には、図3(a)(b)と同様である。次に、図7(b)に示すように
、引き剥がし角度固定治具165を押圧手段168で押し付けて粘着シート50の上面に接触させて右端に位置させる。次に、チャック150とクランプ手段160とを相対的に移動させながら、クランプ手段160全体を軸161を中心して矢印162で示すように180度回動することによって、図7(c)に示すように、粘着シート50の一端を、上方に持ち上げて、押圧手段168で押し付けられた引き剥がし角度固定治具165の先端165aで折り曲げる状態となる。次に、引き剥がし角度固定治具165の移動速度のほぼ倍の速度でクランプ手段(引張手段)160全体を移動させながら、クランプ手段160で粘着シート50に対して引っ張り力Fを与え、引き剥がし角度固定治具165の先端165aに形成された曲面で粘着シートの剥がし力を集中させることによって、各半導体チップ10の端から順次粘着シート50を円滑に剥がしていくことになる。このように、クランプ手段160の一方のローラにトルクモータの出力を接続して所望の回動トルクを付与することによって粘着シート50に対して引っ張り力Fを与えるように構成するので、クランプ手段160全体の移動速度を、引き剥がし角度固定治具165の移動速度のほぼ倍にすればよい。なお、引き剥がし角度固定治具165を定位置に設置し、チャック150を矢印方向に移動するように構成してもよい。なお、引き剥がし角度固定治具165を元の位置に戻す際、チャック150の上面との接触を避けるために、引き剥がし角度固定治具165を上昇させるか、またはチャック150を下降させればよい。
Next, a separating mechanism (separating means) 100 using the wedge-shaped peeling angle fixing jig (forming mechanism) 165 will be described with reference to FIG. FIGS. 7A and 7B are basically the same as FIGS. 3A and 3B. Next, as shown in FIG. 7B, the peeling angle fixing jig 165 is pressed by the pressing means 168 so as to be in contact with the upper surface of the adhesive sheet 50 and positioned at the right end. Next, while moving the chuck 150 and the clamping means 160 relatively, the entire clamping means 160 is rotated by 180 degrees about the shaft 161 as shown by an arrow 162, as shown in FIG. Then, one end of the adhesive sheet 50 is lifted upward, and the adhesive sheet 50 is bent by the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165 pressed by the pressing means 168. Next, a pulling force F is applied to the adhesive sheet 50 by the clamp means 160 while moving the entire clamp means (tensile means) 160 at a speed almost twice the moving speed of the peeling angle fixing jig 165, and peeling. By concentrating the peeling force of the adhesive sheet on the curved surface formed at the tip 165a of the angle fixing jig 165, the adhesive sheet 50 is smoothly peeled from the end of each semiconductor chip 10 sequentially. As described above, the output of the torque motor is connected to one of the rollers of the clamp means 160 and a desired rotational torque is applied to apply a pulling force F to the adhesive sheet 50. What is necessary is just to make the whole moving speed almost twice the moving speed of the peeling angle fixing jig 165. Note that the peeling angle fixing jig 165 may be set at a fixed position, and the chuck 150 may be moved in the direction of the arrow. When the peeling angle fixing jig 165 is returned to the original position, in order to avoid contact with the upper surface of the chuck 150, the peeling angle fixing jig 165 may be raised or the chuck 150 may be lowered. .

以上説明したように、押圧手段168で押圧される引き剥がし角度固定治具(
成形機構)165を用いることによって剥がす角度ψを確保すると共に、切断された薄肉の半導体チップ群に対して剥がす位置も直線状に揃えて剥がし力を集中させることができ、各薄肉の半導体チップを割ることなく、粘着シート50を円滑に剥がすことが可能となる。特に、図6に示すように引き剥がし角度固定治具165の先端165aが半導体チップ10の右端から粘着シート50を剥がす始める際、半導体チップ10を吸着保持する力が最も必要となるが、常に押圧手段168により引き剥がし角度固定治具165を介して半導体チップ10を押し付けて粘着シート50を剥がすことになるので、チャック150に吸着保持された半導体チップから粘着シートを円滑に剥がすことができる。
As described above, the peeling angle fixing jig (pressed by the pressing means 168)
By using the molding mechanism 165, the peeling angle ψ is secured, and the peeling force can be concentrated by aligning the peeling position with the cut thin semiconductor chip group in a straight line. The adhesive sheet 50 can be peeled off smoothly without breaking. In particular, when the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165 starts peeling the adhesive sheet 50 from the right end of the semiconductor chip 10 as shown in FIG. Since the semiconductor chip 10 is pressed by the peeling angle fixing jig 165 by the means 168 to peel the adhesive sheet 50, the adhesive sheet can be smoothly peeled from the semiconductor chip sucked and held by the chuck 150.

特に引き剥がし角度固定治具165の表面の摩擦力を小さくすることによって先端部における粘着シートの曲率を小さくして半導体チップから粘着シート50を剥がしやすくすることができる。   In particular, by reducing the frictional force on the surface of the peeling angle fixing jig 165, the curvature of the pressure-sensitive adhesive sheet at the distal end portion can be reduced, and the pressure-sensitive adhesive sheet 50 can be easily peeled from the semiconductor chip.

ところで、チャック150の実施例としては、図9および図10に示す構成が考えられる。即ち、図9(a)に示すチャック150aは、チャック面部材151aに所定の間隔で真空吸着穴157につながった溝または穴152を穿設し、その上に図5にも示すようにセラミックス材等で形成された多孔質吸着プレート156を設ける構成にしたものである。特に、多孔質吸着プレート156としては、各半導体チップ毎に複数の吸着孔が必要であることからして、吸着孔の分布が全面に亘って均一である必要があり、セラミックス材はこの性質を有し、適切である。このチャック150aによれば、半導体チップ群以外の吸着穴を塞ぐ必要もなく、しかも吸着穴の配列を半導体チップ10の配列にあわせる必要がなくなる。しかしながら、多孔質吸着プレート156を用いると粘着シート50を剥がしていくほど、吸着力が急激に、且つ大幅に低下することになる。そこで、後述するように引き剥がし角度固定治具165を後追いするように例えばテープ192で覆うことによって真空力の低下を防止(減少)させることができる。   By the way, as an embodiment of the chuck 150, a configuration shown in FIGS. 9 and 10 can be considered. That is, in the chuck 150a shown in FIG. 9A, grooves or holes 152 connected to the vacuum suction holes 157 are formed at predetermined intervals in the chuck surface member 151a, and a ceramic material is formed thereon as shown in FIG. In this configuration, a porous suction plate 156 formed by the above method is provided. In particular, since the porous suction plate 156 requires a plurality of suction holes for each semiconductor chip, the distribution of the suction holes needs to be uniform over the entire surface, and the ceramic material has this property. Have and be appropriate. According to the chuck 150a, there is no need to block the suction holes other than the semiconductor chip group, and it is not necessary to align the arrangement of the suction holes with the arrangement of the semiconductor chips 10. However, when the porous adsorption plate 156 is used, as the pressure-sensitive adhesive sheet 50 is peeled off, the adsorption force is rapidly and greatly reduced. Therefore, as will be described later, the peeling angle fixing jig 165 can be prevented (decreased) by covering it with, for example, a tape 192 so as to follow the peeling angle fixing jig 165.

また、図9(b)に示すチャック150bは、チャック面部材151bに半導体チップの配列に適合するように真空吸着穴157を穿設して構成したものである。このチャック150bによれば、金属枠55を付けた粘着シート50に粘着された半導体チップ群をチャック150bに保持する際、多少位置ずれが生じても各吸着穴157で各半導体チップ10を吸着できる半導体チップ10が大きいものに対して適用することができる。なお、吸着面にフッ素樹脂膜を施すことによって、吸着力を確保し、しかも、半導体チップの電極等が形成された回路面をある程度の保持力を確保して吸着する関係で、回路面を傷付けないようにすることが可能となる。しかしながら、フッ素樹脂膜の表面に電荷が帯電することになるので、ときおりイオン放出手段(図示せず)によりイオンブローをすることによって中和させて半導体チップに影響を与えないようにすることができる。   Further, the chuck 150b shown in FIG. 9B has a configuration in which a vacuum suction hole 157 is formed in the chuck surface member 151b so as to conform to the arrangement of the semiconductor chips. According to the chuck 150b, when the semiconductor chip group adhered to the adhesive sheet 50 with the metal frame 55 attached thereto is held by the chuck 150b, the semiconductor chips 10 can be sucked by the suction holes 157 even if a slight displacement occurs. The present invention can be applied to a semiconductor chip having a large size. By applying a fluororesin film to the suction surface, the suction force is secured, and the circuit surface on which the electrodes and the like of the semiconductor chip are formed is sucked while securing a certain holding force. It is possible to do so. However, since charges are charged on the surface of the fluororesin film, it is sometimes possible to neutralize by ion blowing by an ion emitting means (not shown) so that the semiconductor chip is not affected. .

また、図9(c)に示すチャック150cは、チャック面部材151cに半導体チップの大きさよりも細かい間隔でランダムに、微小な真空吸着穴157を穿設して構成したものである。そのため、図9(a)に示す多孔質吸着プレート156の場合に近い吸着特性を有することになる。このチャック150cによれば
、半導体チップ群以外の吸着穴を塞ぐ必要もなく、しかも吸着穴の配列を半導体チップ10の配列にあわせる必要がなくなる。しかしながら、このチャック150cを用いると粘着シート50を剥がしていくほど、吸着力が低下することになる。そこで、後述するように引き剥がし角度固定治具165を後追いするように例えばテープ192で覆うことによって真空力の低下を防止することができる。なお、吸着面にフッ素樹脂膜を施すことによって、吸着力を確保し、しかも、半導体チップの電極等が形成された回路面をある程度の保持力を確保して吸着する関係で、回路面を傷付けないようにすることが可能となる。しかしながら、フッ素樹脂膜の表面に電荷が帯電することになるので、ときおりイオン放出手段(図示せず)によりイオンブローをすることによって中和させて半導体チップに影響を与えないようにすることができる。
Further, the chuck 150c shown in FIG. 9C has a structure in which minute vacuum suction holes 157 are randomly formed in the chuck surface member 151c at intervals smaller than the size of the semiconductor chip. Therefore, it has an adsorption characteristic close to that of the porous adsorption plate 156 shown in FIG. According to the chuck 150c, there is no need to block the suction holes other than the semiconductor chip group, and it is not necessary to align the arrangement of the suction holes with the arrangement of the semiconductor chips 10. However, when the chuck 150c is used, as the pressure-sensitive adhesive sheet 50 is peeled off, the attraction force decreases. Then, as described later, the peeling angle fixing jig 165 is covered with, for example, a tape 192 so as to follow the peeling angle fixing jig 165, so that a reduction in vacuum force can be prevented. By applying a fluororesin film to the suction surface, the suction force is secured, and the circuit surface on which the electrodes and the like of the semiconductor chip are formed is sucked while securing a certain holding force. It is possible to do so. However, since charges are charged on the surface of the fluororesin film, it is sometimes possible to neutralize by ion blowing by an ion emitting means (not shown) so that the semiconductor chip is not affected. .

また、図10(a)(b)に示すチャック150dは、チャック面部材151
dに所定の間隔で真空吸着穴157につながった溝または穴152を穿設し、その上に吸着孔が均一に分布したセラミックス材等で形成され、仕切板または接着剤159等で半導体チップ単位もしくは図5に示す引き剥がし角度固定治具165の先端165aに沿った1乃至3程度の列単位で区切られた多孔質吸着プレート156’を設け、更に、各真空吸着穴157を塞ぐ塞ぐ機構70を設けて構成にしたものである。塞ぐ機構70は、シリンダ状の駆動源71と、該駆動源71の出力であって各真空吸着穴157に当接させて塞ぐ出力部材72と、真空室の真空を保つためのジャバラもしくは真空シール73とで構成される。そして、これら塞ぐ機構70の順次駆動は、真空室内の真空圧力の低下に応じて行うか、引き剥がし角度固定治具165の移動量に合わせて行えばよい。なお、出力部材72の先端部には、塞いだ際、真空吸着穴157と真空室とを繋げる細孔72aが穿設され、半導体チップ10を弱い吸着力で保持できるようになっている。また、出力部材72の先端部に細孔72aを穿設せずに、その代わりに多孔質吸着プレート156’の上面と半導体チップ10との間に弱い接着力を持たせてもよい。
The chuck 150d shown in FIGS.
d, a groove or hole 152 connected to the vacuum suction hole 157 is formed at predetermined intervals, and the suction hole is formed of a ceramic material or the like in which the suction hole is uniformly distributed, and a semiconductor chip unit is formed by a partition plate or an adhesive 159 or the like. Alternatively, a porous suction plate 156 ′ divided into about one to three rows along the tip 165 a of the peeling angle fixing jig 165 shown in FIG. 5 is provided, and a closing mechanism 70 for closing each vacuum suction hole 157 is provided. Is provided. The closing mechanism 70 includes a cylindrical driving source 71, an output member 72 which is an output of the driving source 71 and closes by contacting each vacuum suction hole 157, and a bellows or a vacuum seal for maintaining a vacuum in the vacuum chamber. 73. The closing mechanism 70 may be sequentially driven in accordance with a decrease in the vacuum pressure in the vacuum chamber or may be performed in accordance with the amount of movement of the peeling angle fixing jig 165. When the output member 72 is closed, a pore 72a for connecting the vacuum suction hole 157 and the vacuum chamber is formed when the output member 72 is closed, so that the semiconductor chip 10 can be held with a weak suction force. Further, instead of forming the fine holes 72a at the tip of the output member 72, a weak adhesive force may be provided between the upper surface of the porous suction plate 156 'and the semiconductor chip 10 instead.

従って、粘着シート50が完全に剥がされた半導体チップを真空吸着している箇所の真空吸着穴を順次機構70を駆動して出力部材72で塞いでいけば、粘着シート50の剥離にともなって起きる真空吸着力の低下を防止することができる。しかし、その箇所の半導体チップ10の吸着保持力は、細孔72aを通して得ることができる。また、多孔質吸着プレート156’との間の弱い接着力を持たせることによって半導体チップをチャックに保持させることが可能となる。いずれにしても、多孔質吸着プレート156を用いた場合、粘着シート50を剥がす始めると真空吸着力が急減に低下することになるが、仕切板または接着剤159等で区切られた多孔質吸着プレート156’と塞ぐ機構70とを用いることによって、真空吸着力の急減な低下を著しく減少させることができる。   Therefore, if the vacuum suction holes at the locations where the semiconductor chips from which the adhesive sheet 50 has been completely peeled off are vacuum-sucked are sequentially closed by driving the mechanism 70 with the output member 72, this will occur with the peeling of the adhesive sheet 50. It is possible to prevent a reduction in vacuum suction force. However, the suction holding power of the semiconductor chip 10 at that location can be obtained through the fine holes 72a. In addition, the semiconductor chip can be held on the chuck by giving a weak adhesive force to the porous suction plate 156 '. In any case, when the porous suction plate 156 is used, when the pressure-sensitive adhesive sheet 50 starts to be peeled off, the vacuum suction force rapidly decreases, but the porous suction plate divided by the partition plate or the adhesive 159 or the like is used. By using the 156 'and the closing mechanism 70, a sharp decrease in the vacuum suction force can be significantly reduced.

そして、粘着シート50の剥がしが終わった後、再び全ての塞ぐ機構70による全ての真空吸着穴の塞ぎを開放することによって、全ての半導体チップ10を強い吸着力で保持することができる。また、半導体チップ単位で、多孔質吸着プレート156’を仕切ると共に塞ぐ機構70を設けることによって、半導体チップ単位で塞ぐ機構70を作動させることによって、半導体チップ単位でチャック150dからピックアップすることができる。また、列単位で多孔質吸着プレート156’を仕切ると共に塞ぐ機構70を設けることによって、列単位で塞ぐ機構70を作動させることによって、半導体チップを列単位でチャック150dからピックアップすることもできる。   Then, after the peeling of the adhesive sheet 50 is completed, all the semiconductor chips 10 can be held with a strong suction force by opening all the vacuum suction holes by all the closing mechanisms 70 again. In addition, by providing a mechanism 70 for partitioning and closing the porous suction plate 156 'for each semiconductor chip, by operating the closing mechanism 70 for each semiconductor chip, the semiconductor chip can be picked up from the chuck 150d. Further, by providing a mechanism 70 for partitioning and closing the porous suction plate 156 'in units of rows, the semiconductor chip can also be picked up from the chuck 150d in units of rows by operating the closing mechanism 70 for units of row.

また、図5および図9(a)に示すように、チャック150aとして多孔質吸着プレート156を用いる場合、図11に示すように多孔質吸着プレート156の径Dを半導体ウエハの直径にできるだけあわせることによって、吸着面の面積を低減でき、その結果、半導体ウエハを吸着保持した際の真空の低下率を低く抑えることができ、真空ポンプの容量も小さくして済ませることができる。そして
、図11に示すチャック面部材151aの周辺に設けられた穴75は、チャック本体の上面に設けられた突起に嵌合させて位置決めして取り付けるために利用される。
When the porous suction plate 156 is used as the chuck 150a as shown in FIGS. 5 and 9 (a), the diameter D of the porous suction plate 156 should be adjusted to the diameter of the semiconductor wafer as shown in FIG. As a result, the area of the suction surface can be reduced, and as a result, the rate of decrease in vacuum when the semiconductor wafer is suction-held can be suppressed low, and the capacity of the vacuum pump can be reduced. The holes 75 provided around the chuck surface member 151a shown in FIG. 11 are used for fitting and positioning by fitting into projections provided on the upper surface of the chuck body.

また、図7に示すように、引き剥がし角度固定治具165の先端部165aのすぐ後を追うように粘着シート50が剥がされつつある半導体チップの列を、ばね等の押圧手段195で押圧される押さえ付け手段167で押さえ付けることによって、常に各半導体チップ10は、押圧手段で押圧される引き剥がし角度固定治具165と押圧手段195で押圧される押さえ付け手段167の何方かで必ず押さえ付けられ、その結果チャック150の吸着力が弱くても粘着シート50が剥がされた半導体チップ群をチャック150に保持することが可能となる。即ち
、引き剥がし角度固定治具165と押さえ付け手段167との間の間隙Hを半導体チップのサイズWよりも小さくすることによって、常に各半導体チップ10を
、引き剥がし角度固定治具165と押さえ付け手段167の何方かで必ず押さえ付けることが可能となる。特に、引き剥がし角度固定治具165の先端部165aが半導体チップの左端近傍に位置したとき、押さえ付け手段167による半導体チップ10を押さえ付ける効果を発揮することができる。この場合、図7(b
)に示す状態から図7(c)に示す状態へと粘着シート50の一端を、上方に持ち上げて、引き剥がし角度固定治具165の先端165aで折り曲げた後、押さえ付け手段167を退避した状態から、引き剥がし角度固定治具165の先端部165aのすぐ後を追うように進入させる必要がある。なお、この場合、押さえ付け手段167として、押圧機構の先に転がる長尺ローラを付けて構成し、引き剥がし角度固定治具165の先端部165aのすぐ後を追うようにチャック150との間で相対的に移動させてもよい。
As shown in FIG. 7, the row of semiconductor chips from which the adhesive sheet 50 is being peeled is pressed by a pressing means 195 such as a spring so as to follow immediately after the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165. Each semiconductor chip 10 is always pressed by any one of the peeling angle fixing jig 165 pressed by the pressing means and the pressing means 167 pressed by the pressing means 195. As a result, even if the chucking force of the chuck 150 is weak, the semiconductor chip group from which the adhesive sheet 50 has been peeled can be held by the chuck 150. That is, by making the gap H between the peeling angle fixing jig 165 and the pressing means 167 smaller than the size W of the semiconductor chip, each semiconductor chip 10 is always pressed against the peeling angle fixing jig 165. It is possible to press down by any means of the means 167. In particular, when the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165 is located near the left end of the semiconductor chip, the effect of pressing the semiconductor chip 10 by the pressing means 167 can be exhibited. In this case, FIG.
7) from the state shown in FIG. 7 (c) to the state shown in FIG. 7 (c), lifting one end of the adhesive sheet 50 upward, bending it at the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165, and then retracting the pressing means 167. Therefore, it is necessary to enter the jig 165 so as to follow immediately after the distal end portion 165a of the peeling angle fixing jig 165. In this case, the pressing means 167 is configured by attaching a long roller that rolls to the tip of the pressing mechanism, and the pressing means 167 is moved between the chuck 150 and the chuck 150 so as to follow immediately after the tip 165 a of the peeling angle fixing jig 165. You may move relatively.

次に、チャック面に多孔質吸着プレート156や微小な真空吸着穴を多数設けて粘着シート50の剥離にともなって起きる真空吸着力の低下を防止する他の方法について説明する。即ち、図12に示すように、引き剥がし角度固定治具165の先端部165aのすぐ後を追うように粘着シート50が剥がされつつある半導体チップの列を含めて全体を、リール191から解されたテープ192で覆うことによってチャック150の吸引力の低下を防止して粘着シート50を剥がそうとする半導体チップのチャック150への吸着力を維持することが可能となる
。即ち、テープ192の先端193をプッシャ等の押し付け手段194で例えばチャック150に固定し、ばね等の押圧手段195で押圧される金属製の押さえ付け手段167をチャック150との間で相対的に移動させることによってリール191からテープ192を解されることになる。これを模式的に示したのが、図13(a)である。
ここで、ばね等の押圧手段195による押さえ付け手段167を介してのテープ192への押し付け力を、半導体チップ10の厚さ、材質に応じて変更することもできる。
Next, another method of providing a large number of porous suction plates 156 and minute vacuum suction holes on the chuck surface to prevent a decrease in vacuum suction force caused by peeling of the adhesive sheet 50 will be described. That is, as shown in FIG. 12, the entirety including the row of semiconductor chips from which the adhesive sheet 50 is being peeled off immediately after the tip 165 a of the peeling angle fixing jig 165 is released from the reel 191. By covering the adhesive sheet 50 with the tape 192, it is possible to prevent a decrease in the suction force of the chuck 150 and to maintain the suction force of the semiconductor chip, from which the adhesive sheet 50 is to be peeled off, on the chuck 150. That is, the tip 193 of the tape 192 is fixed to the chuck 150 by pressing means 194 such as a pusher, and the metal pressing means 167 pressed by the pressing means 195 such as a spring is relatively moved between the tape 150 and the chuck 150. By doing so, the tape 192 is released from the reel 191. This is schematically shown in FIG.
Here, the pressing force against the tape 192 by the pressing means 167 such as a spring via the pressing means 167 can be changed according to the thickness and material of the semiconductor chip 10.

なお、テープ192の先端をチャック150に固定した後、テープ192を最初リール191から繰り出すようにすれば、その後チャック150からもれる吸着力でテープ192を吸引することができ、その結果図13(b)に示す如く、引き剥がし角度固定治具165の先端部165aのすぐ後を追うように粘着シート50が剥がされつつある半導体チップの列を含めて全体を、テープ192で覆うことによってチャック150の吸引力の低下を防止して粘着シート50を剥がそうとする半導体チップのチャック150への吸着力を維持することが可能となる。   Incidentally, if the tape 192 is first unwound from the reel 191 after the tip of the tape 192 is fixed to the chuck 150, the tape 192 can be sucked by the suction force leaking from the chuck 150, and as a result, FIG. As shown in b), the entire tape including the row of semiconductor chips from which the adhesive sheet 50 is being peeled off is directly covered with the tape 192 so as to follow immediately after the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165. It is possible to prevent the suction force of the semiconductor chip from peeling off the adhesive sheet 50 while maintaining the suction force of the semiconductor chip to be peeled off.

特に、図14に示すように、半導体チップ10のサイズが小さくなった場合、引き剥がし角度固定治具165の先端部165aと後追いするテープ192との間の間隙を小さくする必要がある。即ち、次に示す(数1)式の関係を満足させる必要がある。   In particular, as shown in FIG. 14, when the size of the semiconductor chip 10 is reduced, it is necessary to reduce the gap between the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165 and the tape 192 to be followed. That is, it is necessary to satisfy the following equation (1).

W>t1+t2+R1+R2 (数1)
但し、Wは半導体チップ10のサイズ、t1は粘着シート50(接着剤も含む
)の厚さ、t2はテープ192の厚さ、R1は、引き剥がし角度固定治具165の先端部165aの半径、R2は金属製の押さえ付け手段167の半径である。
W> t1 + t2 + R1 + R2 (Equation 1)
Here, W is the size of the semiconductor chip 10, t1 is the thickness of the adhesive sheet 50 (including the adhesive), t2 is the thickness of the tape 192, R1 is the radius of the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165, R2 is the radius of the metal pressing means 167.

そこで、R1、R2を0.1mm程度にし、t1を0.065mm程度、t2を0.05mm程度にし、間隙Hとして0.1mmをとることによって、半導体チップのサイズWが0.415mm程度まで半導体チップ10を真空吸着した状態で粘着シート50を円滑に剥がすことができる。また、テープ192で粘着シート50が剥がされた半導体チップを覆うことによって、吸着力の低下も防止することができる。   Therefore, R1 and R2 are set to about 0.1 mm, t1 is set to about 0.065 mm, t2 is set to about 0.05 mm, and the gap H is set to 0.1 mm, so that the size W of the semiconductor chip becomes about 0.415 mm. The adhesive sheet 50 can be peeled off smoothly in a state where the chip 10 is sucked by vacuum. Further, by covering the semiconductor chip from which the adhesive sheet 50 has been peeled off with the tape 192, it is possible to prevent a decrease in the attraction force.

また、各半導体チップ10への吸着力は、各半導体チップ10への吸着面積と真空度との積に比例することになる。他方、各半導体チップ10への剥がし力は
、半導体チップ10のサイズWと粘着シート50に対する接着力の積に比例することになる。従って、半導体チップ10のサイズWが大きくなれば、真空度を増大した方が好ましいことになる。
Further, the attraction force to each semiconductor chip 10 is proportional to the product of the attraction area to each semiconductor chip 10 and the degree of vacuum. On the other hand, the peeling force of each semiconductor chip 10 is proportional to the product of the size W of the semiconductor chip 10 and the adhesive force to the adhesive sheet 50. Therefore, as the size W of the semiconductor chip 10 increases, it is preferable to increase the degree of vacuum.

また、切断された半導体チップ群に対して粘着シート50を剥がす方向としては、図5(a)に示すように半導体チップの配列方向と図5(b)に示すように半導体チップの配列方向に対して平面的に傾ける方向(例えば約45°)とがある。図5(b)に示す場合は、各半導体チップに対して粘着シートが角部から剥がされ始めることになるため、図5(a)に示す場合に比べて剥がされ易くなる
。この場合、各半導体チップに作用する力として中央で最大で左右の端に行くに従って低下することになり、半導体チップを吸着保持する上でも有利となる。
The direction in which the pressure-sensitive adhesive sheet 50 is peeled off from the cut semiconductor chip group is determined in the arrangement direction of the semiconductor chips as shown in FIG. 5A and the arrangement direction of the semiconductor chips as shown in FIG. There is a direction (for example, about 45 °) inclined in a plane with respect to the above. In the case shown in FIG. 5B, the pressure-sensitive adhesive sheet starts to be peeled off from the corners with respect to each semiconductor chip, and thus is more easily peeled off than in the case shown in FIG. 5A. In this case, the force acting on each semiconductor chip decreases at the center at the maximum toward the left and right ends, which is advantageous in holding the semiconductor chip by suction.

また、引き剥がし角度固定治具165を用いて粘着シート50を半導体チップ配列から剥がす方法としては、図15に示す方法もある。この方法は、クランプ手段160で粘着シート50を所望の張力で引っ張りながら、粘着シート50に対して引き剥がし角度固定治具165を押し込んで行くことによって引き剥がし角度固定治具165の先端下面に粘着シート50の折り返す部分を作って粘着シート50を半導体チップ配列から剥がすものである。なお、この場合、引き剥がし角度固定治具165の下面と半導体チップの上面との間に粘着シートの2枚よりも僅か大きい間隙を形成すればよく、必ずしも引き剥がし角度固定治具165を矢印76で示すように下方に押圧する必要はない。もし、引き剥がし角度固定治具165を矢印76で示すように下方に押圧する場合には、非常に弱い力で押圧すればよい。この方法によれば、粘着シート50の剥離角度を最小にして粘着シート50を半導体チップ配列から剥がすことができるので、チャック150による半導体チップ配列の真空吸着力が弱くても粘着シート50を半導体チップ配列から剥がすことができる。また、粘着シート50の剥離角度を最小にすることによって、紫外線の照射などにより硬化して粘着力が低下した粘着剤が割れて剥がれ易くなる。   As a method of peeling the adhesive sheet 50 from the semiconductor chip array using the peeling angle fixing jig 165, there is also a method shown in FIG. In this method, the peeling angle fixing jig 165 is pushed into the adhesive sheet 50 while the adhesive sheet 50 is pulled with a desired tension by the clamping means 160, so that the lower surface of the tip of the peeling angle fixing jig 165 is adhered. The adhesive sheet 50 is peeled off from the semiconductor chip array by forming a folded portion of the sheet 50. In this case, a gap slightly larger than the two adhesive sheets may be formed between the lower surface of the peeling angle fixing jig 165 and the upper surface of the semiconductor chip. It is not necessary to press downward as shown by. If the peeling angle fixing jig 165 is pressed downward as indicated by an arrow 76, it may be pressed with a very weak force. According to this method, the pressure-sensitive adhesive sheet 50 can be peeled from the semiconductor chip array with the peel angle of the pressure-sensitive adhesive sheet 50 minimized. Can be peeled from the array. Further, by minimizing the peeling angle of the pressure-sensitive adhesive sheet 50, the pressure-sensitive adhesive which has been cured by irradiation with ultraviolet rays and has reduced adhesive strength is easily broken and peeled off.

ところで、チャック150に保持されている半導体チップに対して粘着シート50を剥がし終わるに近ずくに従って粘着シート50に貼り付いている半導体チップ数が大幅に少なくなってくるため、剥がす力Fx の反作用としてチャック150に保持されている半導体チップを横方向に移動させようとする大きな力が働いて移動してしまい粘着シートを数少ない半導体チップから剥がすことができないこともある。もし剥がされても半導体チップは吸着面で横ずれを起こし、半導体チップのピックアップができなかったり、剥がされたチップと接触し割れ等を起こす。そこで、粘着シート50の終端をチャック150の周辺(枠)に仮固定しておくことによって半導体チップの吸着面からの横ずれを防止することができる。   By the way, as the number of semiconductor chips stuck to the adhesive sheet 50 decreases significantly as the pressure of the adhesive sheet 50 approaches the end of peeling of the semiconductor chip held by the chuck 150, the reaction force of the peeling force Fx In some cases, a large force acts to move the semiconductor chip held by the chuck 150 in the lateral direction and moves, so that the adhesive sheet cannot be peeled off from a few semiconductor chips. Even if the semiconductor chip is peeled off, the semiconductor chip is shifted laterally on the suction surface, and the semiconductor chip cannot be picked up, or the semiconductor chip comes into contact with the peeled chip to cause a crack or the like. Therefore, by temporarily fixing the end of the adhesive sheet 50 to the periphery (frame) of the chuck 150, lateral displacement of the semiconductor chip from the suction surface can be prevented.

次に、分離機構部(分離手段)100の具体的な実施例について図16を用いて説明する。ワーク60は、粘着シート50の側を上に向けて、退避も可能な搬送手段170により粘着シートを剥離する剥離ステーションに供給されて金属枠55が位置決め固定される。   Next, a specific embodiment of the separating mechanism (separating means) 100 will be described with reference to FIG. The work 60 is supplied to a peeling station where the adhesive sheet is peeled by the transporting means 170 capable of retracting, with the adhesive sheet 50 facing upward, and the metal frame 55 is positioned and fixed.

チャック150は、インデックスステージ172上に2つ設けられ、粘着シート50の剥がしと、粘着シート50が剥がされた半導体チップの配列のピックアップとを並行するように構成する。夫々のチャック150は、夫々の支持部材171上に取付けられている。該夫々の支持部材171は、基台175上に設けられ、駆動源174から駆動力によってインデックスされるインデックスステージ172に対して駆動源173によって昇降可能に支持されている。従って、剥離ステーションにおいて、チャック150を上昇させてチャック力を付与することによって、チャック150は、支持部材171に固定されたワーク60の半導体チップの電極11が形成されている面の全体を強力に保持することになる。そして、駆動源182を駆動することによって、カッタ155を取付けた回転部材178を支持する支持部材179を降下させ、駆動源180を駆動して回転部材178を回転させて、回転部材178の先のカッタ155で粘着シートの周辺を切断することによって金属枠55が粘着シート50から切り離されることになる。なお、181は、支持部材179を昇降可能に支持する部材である。   Two chucks 150 are provided on the index stage 172 so that the peeling of the adhesive sheet 50 and the pickup of the array of semiconductor chips from which the adhesive sheet 50 has been peeled off are performed in parallel. Each chuck 150 is mounted on each support member 171. Each of the support members 171 is provided on a base 175, and is supported by a drive source 173 so as to be able to move up and down with respect to an index stage 172 indexed by a drive force from the drive source 174. Therefore, in the peeling station, by raising the chuck 150 to apply the chucking force, the chuck 150 strongly applies the entire surface of the work 60 fixed to the support member 171 on which the electrode 11 of the semiconductor chip is formed. Will be retained. Then, by driving the drive source 182, the support member 179 that supports the rotary member 178 to which the cutter 155 is attached is lowered, and the drive source 180 is driven to rotate the rotary member 178, and the tip of the rotary member 178 is rotated. By cutting the periphery of the adhesive sheet with the cutter 155, the metal frame 55 is separated from the adhesive sheet 50. 181 is a member that supports the support member 179 so as to be able to move up and down.

次に、カッタ155を上昇させると共に、駆動源173を駆動してチャック150を降下し、搬送手段170を退避させ、再びチャック150を上昇させて粘着シート50の始端を一対のクランプからなるクランプ手段160でクランプできる状態となる。該クランプ手段160は、横方向に移動させる駆動源181を有する移動機構(ガイドレールと送りねじ機構184から構成される。)185
と180度回転させる駆動源(図示せず)を有する回転機構(図示せず)とを備えている。更に、押圧手段168で押圧されて引き剥がし角度固定治具165を上下に微動できるように支持し、更にテープ192を巻き取って収納しているリール191を支持すると共に押圧手段195で押圧されて金属製の押さえ付け手段167を上下に微動できるように支持する支持部材は、横方向に移動させる駆動源186を有する移動機構(ガイドレールと送りねじ機構187から構成される。)上に取り付けられている。従って、図14に示す如く引き剥がし角度固定
治具165と押さえ付け手段167とを一緒に所定の間隔Hを保って横方向に移動させることが可能となる。なお、クランプ手段160で粘着シートの始端をクランプして180度回転させるまで、リール191および押さえ付け手段167を上記支持部材上において退避させておく必要がある。
Next, the cutter 155 is raised, the driving source 173 is driven, the chuck 150 is lowered, the conveying means 170 is retracted, the chuck 150 is raised again, and the starting end of the adhesive sheet 50 is clamped by a pair of clamps. At 160, a state in which clamping is possible is achieved. The clamping means 160 has a moving mechanism (constituted by a guide rail and a feed screw mechanism 184) having a drive source 181 for moving the clamp in the lateral direction.
And a rotation mechanism (not shown) having a drive source (not shown) for rotating by 180 degrees. Further, the peeling angle fixing jig 165 which is pressed by the pressing means 168 is supported so that it can be finely moved up and down, and the reel 191 which winds and stores the tape 192 is supported and pressed by the pressing means 195. A support member that supports the metal pressing means 167 so that it can be finely moved up and down is mounted on a moving mechanism (comprising a guide rail and a feed screw mechanism 187) having a driving source 186 that moves in the horizontal direction. ing. Therefore, as shown in FIG. 14, the peeling angle fixing jig 165 and the pressing means 167 can be moved in the lateral direction together with the predetermined interval H. The reel 191 and the pressing means 167 need to be retracted on the support member until the clamping means 160 clamps the starting end of the adhesive sheet and rotates it 180 degrees.

次に、前述した通り、粘着シート50の始端をクランプ手段160でクランプした後、押圧手段168で押圧される引き剥がし角度固定治具165の先端165aで粘着シートを折り曲げながら、さらに引き剥がし角度固定治具165を追うように押圧手段195で押圧される押さえ付け手段167でリール191からテープ192を解いて粘着シートが剥がされた半導体チップ群を覆って、チャック150とクランプ手段160および引き剥がし角度固定治具165と押さえ付け手段167の相対的な動作によって、チャック150による吸着力低下をもたらすことなくチャック150に保持された薄肉の半導体チップ群から円滑に粘着シート50を剥がし、剥がされた粘着シートを吸着手段176で吸着して排除することになる。   Next, as described above, after the starting end of the adhesive sheet 50 is clamped by the clamping means 160, the adhesive sheet is bent by the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165 pressed by the pressing means 168, and the peeling angle is further fixed. The tape 150 is released from the reel 191 by the pressing means 167 pressed by the pressing means 195 so as to follow the jig 165 to cover the semiconductor chip group from which the adhesive sheet has been peeled off, and the chuck 150, the clamping means 160, and the peeling angle By the relative operation of the fixing jig 165 and the pressing means 167, the adhesive sheet 50 is smoothly peeled off from the thin semiconductor chip group held by the chuck 150 without causing a decrease in the attraction force of the chuck 150, and the peeled adhesive is provided. The sheet is removed by suction by the suction means 176.

次に、インデックスステージ172を回転させることによって粘着シート50を剥離した薄肉の半導体チップ群を剥離ステーションからピックアップステーションに移動させる。   Next, the thin semiconductor chip group from which the adhesive sheet 50 has been peeled off by rotating the index stage 172 is moved from the peeling station to the pickup station.

ピックアップステーションでは、チャック150による薄肉の半導体チップ群へのチャック力を弱めて、シリンダ等の駆動源102を駆動制御して移動ブロック105を降下させると共に吸着コレット101を降下させ、ばね部材106を圧縮させて吸着コレット101の先端を粘着シート50から剥がされて置かれた例えば一列単位の薄肉の半導体チップ群20と接触または若干の隙間をもたせて吸着コレット101により例えば一列単位の薄肉の半導体チップ群20を吸着し
、移動ブロック105の上昇に伴って吸着コレット101を上昇することによって、例えば一列単位の薄肉の半導体チップ群20を粘着シート50から分離されることになる。即ち、ピックアップステーションにおいて、インデックスされたチャック150から、多数列から構成される半導体チップ群を、吸着コレット101によって例えば一列単位でピックアップするためには、上記チャック150または吸着コレット101を相対的に図16の紙面に垂直方向に移動させる機構を設ける必要がある。これにより、吸着コレット101は、チャック150上の多数列から構成される半導体チップ群から順次一列単位の薄肉の半導体チップ群20をピックアップすることが可能となる。
In the pickup station, the chucking force of the chuck 150 on the thin semiconductor chip group is weakened, the driving source 102 such as a cylinder is controlled to lower the moving block 105 and the suction collet 101, thereby compressing the spring member 106. Then, the tip of the suction collet 101 is separated from the pressure-sensitive adhesive sheet 50 and placed, for example, in contact with the thin semiconductor chip group 20 in one row unit, or with a slight gap. By adsorbing the semiconductor chip 20 and raising the suction collet 101 as the moving block 105 is raised, the thin semiconductor chip group 20 in one row unit is separated from the adhesive sheet 50, for example. That is, in order to pick up a semiconductor chip group composed of many rows from the indexed chuck 150 by the suction collet 101 in, for example, a row at the pickup station, the chuck 150 or the suction collet 101 is relatively viewed. It is necessary to provide a mechanism for vertical movement on the paper surface of No. 16. Thus, the suction collet 101 can sequentially pick up the thin semiconductor chip groups 20 in one-row units from the semiconductor chip group composed of many rows on the chuck 150.

更に、駆動源108を駆動して送り機構109により例えば一列単位の薄肉の半導体チップ群20を吸着した吸着コレット101を、図17示すように、分離コンベア部200へ支持部材103と共に移動させ、その後、シリンダ等の駆動源102を駆動制御して移動ブロック105を降下させると共に吸着コレット101を降下させ、ばね部材106を圧縮させて吸着コレット101の先端に吸着された例えば一列単位の薄肉の半導体チップ群20をコンベアと接触させ、吸着コレット101による吸着を解除することによって、コンベア201上に置くことが可能となる。以上により、例えば一列単位の半導体チップ群ごとに電極面と反対の面を吸着コレット101で吸着して電極面を下側にしてコンベア201上に載せることが可能となる。   Further, the drive source 108 is driven to move the suction collet 101, which has sucked the thin semiconductor chips 20 in, for example, one row by the feed mechanism 109, to the separation conveyer 200 together with the support member 103 as shown in FIG. , A drive source 102 such as a cylinder is controlled to lower the moving block 105 and lower the suction collet 101, thereby compressing the spring member 106 and adsorbing the tip of the suction collet 101. By bringing the group 20 into contact with the conveyor and releasing the suction by the suction collet 101, the group 20 can be placed on the conveyor 201. As described above, for example, for each semiconductor chip group in one row, the surface opposite to the electrode surface can be sucked by the suction collet 101 and placed on the conveyor 201 with the electrode surface facing down.

次に、本発明に係るICカード等を構成する回路基板に薄肉の半導体チップ(
半導体素子)を薄肉の半導体ウエハ(半導体基板)の状態からダイシング(切断
)してトレイに詰めたり或いはICカード等を構成する回路基板に搭載する全体のシステムの第1の実施例について説明する。分離機構部100については、既に説明したので省略する。分離コンベア部200は、基台218上に設けられ、分離機構部100の吸着コレット101で搬入されて載置される列状態にある薄肉の半導体チップ(半導体素子)の群20を搬送するコンベア201と、該コンベア201で搬送される来る半導体チップにマークされた不良チップを検出し、該コンベア201によって搬送されて吸着コレット101で薄肉の半導体チップ(半導体素子)の群20を載せるスペースが確保できることを検出するセンサ202と、コンベア201によって搬送されて半導体チップが分離位置にきたことを検出するセンサ203と、センサ202で検出された不良の半導体チップが分離位置にきたことをセンサ203で検出された場合、そのチップを排出すべくシュート206および収納容器207から構成された排出手段と、良品の半導体チップをコンベア201からコンベア251へと移し換える手段250と、良品の半導体チップを搬送するコンベア251と、コンベア251で搬送される半導体チップ10の外形を測定する撮像手段209と、コンベア251で搬送されてきた半導体チップ10を吸着ノズル216で吸着してトレイ詰め部(搭載機構部)300まで搬送するための搬送機構230とから構成される。この実施例の場合
、図16に示すように、分離コンベア部(搬送手段)200において、薄肉の半導体チップ群20は、電極面を下側にしてコンベア201に載せられるので、図1に示す反転機構208が不要となる。
Next, a thin semiconductor chip (
A first embodiment of an entire system in which a semiconductor element) is diced (cut) from a thin semiconductor wafer (semiconductor substrate) and packed in a tray or mounted on a circuit board constituting an IC card or the like will be described. The description of the separation mechanism 100 is omitted because it has already been given. The separation conveyor unit 200 is provided on a base 218, and conveys a group 20 of thin semiconductor chips (semiconductor elements) in a line state, which are carried in and placed by the suction collet 101 of the separation mechanism unit 100. Detecting a defective chip marked on a semiconductor chip conveyed by the conveyer 201 and securing a space for carrying a group 20 of thin semiconductor chips (semiconductor elements) conveyed by the conveyer 201 and held by the suction collet 101. , A sensor 203 that detects that the semiconductor chip has been transported by the conveyor 201 and has come to the separation position, and a sensor 203 that has detected that the defective semiconductor chip detected by the sensor 202 has come to the separation position. In this case, a chute 206 and a storage container 207 are provided to discharge the chips. Discharging means, means 250 for transferring non-defective semiconductor chips from conveyor 201 to conveyor 251, conveyor 251 for conveying non-defective semiconductor chips, and imaging means for measuring the outer shape of semiconductor chips 10 conveyed by conveyer 251 209 and a transport mechanism 230 for sucking the semiconductor chip 10 conveyed by the conveyor 251 by the suction nozzle 216 and conveying the semiconductor chip 10 to the tray filling section (mounting mechanism section) 300. In the case of this embodiment, as shown in FIG. 16, in the separation conveyor section (transporting means) 200, the thin semiconductor chip group 20 is placed on the conveyor 201 with the electrode surface facing down. The mechanism 208 becomes unnecessary.

ところで、上記搬送機構230は、ガイド212に沿って移動する移動部210と、該移動部210を送り機構213を介して移動させるための駆動源211と、吸着ノズル216を取付け、シリンダ等の駆動源214によって上記移動部210上に上下に昇降可能に支持された吸着ノズル付きブロック215とによって構成される。また、上記センサ202、203、撮像手段209、コンベア201を駆動する駆動源および搬送機構230の駆動源211、214等は、制御装置(図示せず)に接続されている。そして、制御装置は、センサ202、203、および撮像手段209などから得られる情報に基づいて、各種駆動源211
、214を駆動制御する。
The transport mechanism 230 has a moving unit 210 that moves along a guide 212, a driving source 211 for moving the moving unit 210 via a feed mechanism 213, and a suction nozzle 216. A block 215 with a suction nozzle is supported by the source 214 on the moving unit 210 so as to be able to move up and down. Further, the sensors 202 and 203, the imaging unit 209, the driving source for driving the conveyor 201, the driving sources 211 and 214 for the transport mechanism 230, and the like are connected to a control device (not shown). Then, the control device performs various driving sources 211 based on information obtained from the sensors 202 and 203 and the imaging unit 209 and the like.
, 214 are controlled.

従って、センサ202によって、薄肉の半導体チップ(半導体素子)の群20を載せるスペースが確保できていると検出されると、吸着コレット101によって分離機構部100から薄肉の半導体チップ(半導体素子)の群20が搬入されてコンベア201に載置されることになる。また、センサ202によってマークされた不良の半導体チップが検出されることになる。そして、コンベア201によって搬送されて、分離位置に来た各半導体チップをセンサ203が検出すると
、移し換え手段250のノズルが伸びることによって下降して分離位置に来た良品の半導体チップを吸着してコンベア251に移し換える。そして、コンベア251で搬送される半導体チップの外形を撮像手段209によって測定し、制御装置に入力させる。実際は、撮像手段209では、半導体チップにおいて電極11が形成されていない側を撮像することになるので、外形のみの情報が得られ、この情報に基づいて、半導体チップ10は、吸着ノズル216に吸着されることになる。即ち、図18(c)および(d)に示すように、実線で示される吸着ノズル216に吸着される半導体チップ10における図18(d)に鎖線で示される吸着ノズル216に対する位置情報(δx,δy)は、撮像手段209で測定される外形のみの情報から得られ、制御装置に入力されることになる。
Therefore, when it is detected by the sensor 202 that a space for mounting the group of thin semiconductor chips (semiconductor elements) 20 is secured, the group of thin semiconductor chips (semiconductor elements) is separated from the separation mechanism 100 by the suction collet 101. 20 is carried in and placed on the conveyor 201. Further, the defective semiconductor chip marked by the sensor 202 is detected. Then, when the sensor 203 detects each semiconductor chip that has been transported by the conveyor 201 and has come to the separation position, the nozzle of the transfer means 250 is extended, and the semiconductor chip of a non-defective product that comes down to the separation position is sucked. Transfer to conveyor 251. Then, the outer shape of the semiconductor chip conveyed by the conveyor 251 is measured by the imaging means 209 and input to the control device. Actually, the image pickup means 209 picks up an image of the side of the semiconductor chip on which the electrode 11 is not formed, so that only information on the outer shape is obtained. Based on this information, the semiconductor chip 10 sucks the suction nozzle 216. Will be done. That is, as shown in FIGS. 18C and 18D, position information (δx, δ) of the semiconductor chip 10 sucked by the suction nozzle 216 shown by the solid line with respect to the suction nozzle 216 shown by the chain line in FIG. δy) is obtained from information on only the outer shape measured by the imaging unit 209, and is input to the control device.

更に、コンベア251で搬送されてきたチップは、搬送機構230の吸着ノズル216に吸着されて搭載機構部(トレイ詰め部)300まで搬送されることになる。   Further, the chips transported by the conveyor 251 are sucked by the suction nozzles 216 of the transport mechanism 230 and transported to the mounting mechanism unit (tray packing unit) 300.

搭載機構部(トレイ詰め部)300においては、吸着ノズル216に吸着されて搬送機構230によって搬送されてきた半導体チップを、上記吸着ノズル216を降下させるだけで、基台307上に設けられたX−Yステージ302、303上に載置され、該X−Yステージ302、303によって位置決めされたトレイ2またはICカード等を形成することになる回路基板30上に搭載することが可能となる(トレイ2に対してはトレイ詰めが可能となる)。特に半導体チップ
を回路基板30上に搭載する際、半導体チップに形成された電極11と回路基板30上に形成された電極とを位置決めして搭載する必要がある。ところで、撮像手段306は、吸着ノズル216に吸着された半導体チップが搬送機構230によって搬送される経路に設置され、半導体チップにおける電極11が形成した側を撮像して外形を基準に各電極(パッド)11の位置(d1x,d1y)(d2
x,d2y)を測定し、制御装置80に入力されることになる。あくまでも、半導体チップ10は吸着ノズル216を基準にして搬送機構230により搭載機構部300まで決められた距離搬送されることになる。一方、搭載機構部300においては、吸着ノズル216を基準とした半導体チップに形成された各電極11の位置情報が必要となる。この各電極11の位置情報は、制御装置において、撮像手段306が撮像した外形を基準にした各電極(パッド)11の位置情報(d1x,d1y)(d2x,d2y)と撮像手段209が撮像した吸着ノズルを基
準とした外形位置情報(δx,δy)とに基づいて算出することが可能となる。そして、予め半導体チップに形成された電極11と接続される回路基板上に形成された電極の位置情報は、制御装置に入力されて例えば記憶装置に記憶されている。従って、制御装置は、半導体チップを回路基板30上に搭載する際、回路基板上に形成された電極の位置情報と上記算出された吸着ノズル216を基準とした半導体チップに形成された各電極11の位置情報とに基づいて、X−Yステージ302、303を駆動する駆動源304,305を駆動制御してX−Yステージ302、303を位置決めすることによって、回路基板上に形成された電極に半導体チップに形成された電極とを接合材を用いたりして接続することが可能となる。トレイ2に搭載(収納)する場合、位置決め精度が要求されないので、制御が簡単になる。
In the mounting mechanism unit (tray filling unit) 300, the semiconductor chip sucked by the suction nozzle 216 and conveyed by the conveyance mechanism 230 is simply moved down by the suction nozzle 216, and the X chip provided on the base 307. -It can be mounted on the circuit board 30 on which the tray 2 or IC card or the like which is placed on the Y stages 302 and 303 and positioned by the XY stages 302 and 303 is formed. 2 can be packed in a tray). In particular, when mounting the semiconductor chip on the circuit board 30, it is necessary to position and mount the electrodes 11 formed on the semiconductor chip and the electrodes formed on the circuit board 30. By the way, the image pickup means 306 is provided in a path on which the semiconductor chip sucked by the suction nozzle 216 is transferred by the transfer mechanism 230, and picks up an image of the side of the semiconductor chip on which the electrode 11 is formed, and sets each electrode (pad ) 11 position (d1x, d1y) (d2
x, d2y) are measured and input to the control device 80. To the last, the semiconductor chip 10 is transported by the transport mechanism 230 to the mounting mechanism 300 based on the suction nozzle 216 for a predetermined distance. On the other hand, the mounting mechanism unit 300 needs positional information of each electrode 11 formed on the semiconductor chip with reference to the suction nozzle 216. In the control device, the position information (d1x, d1y) (d2x, d2y) of each electrode (pad) 11 based on the outer shape imaged by the imaging unit 306 and the imaging information of the respective electrodes 11 are captured by the imaging unit 209. It is possible to calculate based on the external position information (δx, δy) based on the suction nozzle. The positional information of the electrodes formed on the circuit board connected to the electrodes 11 formed on the semiconductor chip in advance is input to the control device and stored in, for example, a storage device. Therefore, when the control device mounts the semiconductor chip on the circuit board 30, the position information of the electrodes formed on the circuit board and each of the electrodes 11 formed on the semiconductor chip with reference to the calculated suction nozzle 216 are used. The drive sources 304 and 305 for driving the XY stages 302 and 303 are controlled based on the positional information of the XY stages 302 and 303 to position the XY stages 302 and 303 so that the electrodes formed on the circuit board can be positioned. The electrodes formed on the semiconductor chip can be connected to each other by using a bonding material. In the case of mounting (storage) on the tray 2, since the positioning accuracy is not required, the control is simplified.

なお、分離コンベア部200において、不良の半導体チップをセンサ202で検出する場合について説明したが、前述した通り半導体ウエハ40の状態で,図19(a)(b)に示す如く不良の半導体チップについての半導体ウエハ座標(
図19(c)に示す。)での位置情報が検査によって検出されているので、その
位置情報を制御装置に入力しておけば、分離位置において不良の半導体チップを排出手段206、207で取り除くことが可能となる。
The case where the sensor 202 detects a defective semiconductor chip in the separation conveyor unit 200 has been described. However, as described above, in the state of the semiconductor wafer 40, the defective semiconductor chip is detected as shown in FIGS. Semiconductor wafer coordinates (
It is shown in FIG. Since the position information in (1) is detected by the inspection, if the position information is input to the control device, the defective semiconductor chip can be removed at the separation position by the discharge means 206 and 207.

次に、分離機構部100を縦形にした実施例について説明する。図20は、分離機構部100を縦形にした実施例を示す模式図である。多数の分離機構部100を並べて設置できるように横形にし、搬送機構からなる吸着コレット部120aにおける吸着コレット101aを搬送する動作として縦方向から横方向に変換することが可能な機構を追加する必要がある。このように分離機構部100を横形にした場合、図1で130で示す吸着コレット101の分離コンベア部200への搬送動作は、縦方向と横方向とが必要となる。しかし、分離機構部100を横形にすることによって、複数の分離機構部100を並べて設置することが可能となり、列状態の半導体チップ群20をより多く分離コンベア部200に供給することが可能となる。   Next, a description will be given of an embodiment in which the separating mechanism 100 is formed in a vertical shape. FIG. 20 is a schematic diagram showing an embodiment in which the separation mechanism unit 100 has a vertical shape. It is necessary to add a mechanism capable of converting the vertical direction to the horizontal direction as an operation of transporting the suction collet 101a in the suction collet unit 120a, which is a transport mechanism, so that a large number of separation mechanism units 100 can be installed side by side. is there. When the separation mechanism unit 100 is made horizontal as described above, the transport operation of the suction collet 101 to the separation conveyor unit 200 shown by 130 in FIG. 1 requires a vertical direction and a horizontal direction. However, by making the separation mechanism unit 100 horizontal, it becomes possible to arrange a plurality of separation mechanism units 100 side by side, and it becomes possible to supply more semiconductor chip groups 20 in a row to the separation conveyor unit 200. .

次に、吸着コレット部120の他の実施例について、図21を用いて説明する
。即ち、半導体チップのサイズが0.4〜0.5mm程度に小さくなった場合、チャック150に保持された半導体チップの配列と吸着コレット101の吸着穴とを位置あわせすることが難しくなるので、吸着コレット101においても、チャック150と同様に、吸着面にセラミックス等の多孔質吸着プレート77を設けた吸着コレット101bで構成するか、また吸着面に非常に微小な吸着穴をランダムに高密度で形成した吸着コレット101cで構成することによって、チャック150から列状態(列単位もしくは全面一括の)の半導体チップ群をピックアップすることが可能となる。
Next, another embodiment of the suction collet unit 120 will be described with reference to FIG. That is, when the size of the semiconductor chip is reduced to about 0.4 to 0.5 mm, it becomes difficult to align the arrangement of the semiconductor chips held by the chuck 150 with the suction holes of the suction collet 101. As in the case of the chuck 150, the collet 101 is formed of a suction collet 101b having a suction surface provided with a porous suction plate 77 made of ceramics or the like, or a very minute suction hole is formed at a high density on the suction surface at random. With the use of the suction collet 101c described above, it is possible to pick up a semiconductor chip group in a row state (in units of rows or collectively on the entire surface) from the chuck 150.

吸着コレット101でチャック150から半導体チップ群を全面一括で吸着して搬送系201に搭載する場合には、搬送系201から半導体チップをピックアップする吸着ノズル216にx、yの2次元の動きをさせるように構成すればよい。   When the semiconductor chip group is sucked by the suction collet 101 from the chuck 150 all at once and mounted on the transport system 201, the suction nozzle 216 for picking up the semiconductor chip from the transport system 201 is caused to move two-dimensionally in x and y. It may be configured as follows.

また、半導体チップのサイズが大きい場合には、吸着コレット101dを用いて多数列の半導体チップ群を一度にチャック150からピックアップして、搬送系201に搭載する際、吸着穴を塞ぐ機構78を選択的に作動させることによって例えば1列状態で搭載することもできる。また、半導体ウエハは、円形形状を有し、反面吸着コレットは定められた数の吸着穴を穿設されているので、吸着コレットが、チャック150に弱く保持された円形形状の半導体チップ群の端に位置したとき、吸着穴に対向する位置に半導体チップが存在しないことが生じるので、この吸着穴を塞ぐ機構78で塞ぐことにより吸着コレットの吸着力の低下を減少させることができる。また、吸着穴を塞ぐ機構78を選択的に作動させることによって所望の半導体チップをチャック150からピックアップをさせないようにすることもできる。   When the size of the semiconductor chip is large, a plurality of rows of semiconductor chip groups are picked up from the chuck 150 at a time by using the suction collet 101d, and when mounting the semiconductor chip group on the transport system 201, the mechanism 78 for closing the suction hole is selected. For example, it can be mounted in a single row by operating it in a row. In addition, the semiconductor wafer has a circular shape, and the suction collet is provided with a predetermined number of suction holes. Therefore, the suction collet is held at the end of the circular semiconductor chip group weakly held by the chuck 150. Since the semiconductor chip does not exist at a position opposing the suction hole when it is located at the position (2), a decrease in the suction force of the suction collet can be reduced by closing the suction hole with the mechanism 78 for closing the suction hole. Also, by selectively operating the mechanism 78 for closing the suction hole, it is possible to prevent a desired semiconductor chip from being picked up from the chuck 150.

また、多数のノズルから構成された吸着コレット101eを用いれば、搬送系201に対して任意のパターンで搭載することができる。   Further, if the suction collet 101e composed of a number of nozzles is used, it can be mounted on the transport system 201 in an arbitrary pattern.

また、剥離ステーションとピックアップステーションを別にしたので、チャック150から半導体チップ10をピックアップするのに時間をかけても良いので
、吸着コレット部120や分離コンベア部200を無くして直接搭載機構部300に直結することができる。即ち、ピックアップステーションのチャック150上から、吸着ノズル216によって半導体チップを各々独立的にピックアップさせることができる。この場合、移動部210にx,yの2軸方向の動きをさせる機構を設けるか、チャック150を支持する支持部材171にx,yの2軸方向の動きをさせるステージ機構を設ける必要がある。
Also, since the peeling station and the pick-up station are separated, it may be time-consuming to pick up the semiconductor chip 10 from the chuck 150. Therefore, the suction collet unit 120 and the separation conveyer unit 200 are eliminated and directly connected to the mounting mechanism unit 300. can do. That is, the semiconductor chips can be independently picked up from the chuck 150 of the pickup station by the suction nozzle 216. In this case, it is necessary to provide a mechanism for moving the moving unit 210 in two x and y directions, or provide a stage mechanism for moving the x and y two directions in the support member 171 that supports the chuck 150. .

また、搭載機構部300を分離機構部100に直結した場合、吸着ノズル216を複数にすることによって、トレイ2や回路基板に搭載する速度を向上させることができる。また、搭載機構部300を分離機構部100に直結した場合において、半導体チップを反転する必要のある場合には、ピックアップステーションにおけるチャック150と搭載機構部300の吸着ノズル216との間に反転機構208を設ければ良い。また、トレイ2において、吸着機能を有するものを用いれば、2つのトレイを用いて一方の吸着機能を有するトレイを反転させて他方のトレイに収納すれば、トレイに収納された半導体チップ群を一括で反転することもできる。   When the mounting mechanism unit 300 is directly connected to the separation mechanism unit 100, the speed of mounting on the tray 2 or the circuit board can be improved by using a plurality of suction nozzles 216. When the mounting mechanism unit 300 is directly connected to the separation mechanism unit 100 and the semiconductor chip needs to be inverted, the inversion mechanism 208 is disposed between the chuck 150 in the pickup station and the suction nozzle 216 of the mounting mechanism unit 300. Should be provided. If the tray 2 having a suction function is used, if two trays are used to invert one of the trays having the suction function and stored in the other tray, the semiconductor chip groups stored in the tray are collectively collected. Can be inverted.

次に、チャック150上において半導体チップの配列を反転し、しかもトレイとしての役目も果たす実施例について、図22を用いて説明する。この実施例は
、図22(a)に示すように粘着シート50が剥がされた半導体チップ群を覆うテープとして、下面に弱い粘着力をもったテープ192’を用い、そしてこのテープ192’の始端および終端を例えば、枠55に押し付けローラ194’で押しつけて再度接着(貼り付け)し、図22(b)に示すように終端を例えば砥石等のカッタ81で切断することによって、チャック150に吸着された半導体チップ群の全てを、再度枠55に貼り付けられた弱い粘着力をもつテープ192’に粘着させるものである。チャック150に吸着された半導体チップ群を、弱い粘着力をもつテープ192’に粘着させるのは、押圧手段195で押圧される押さえ付け手段167を移動させることによって行うことができる。しかも、テープ192’が押圧手段168で押圧される引き剥がし角度固定治具165を後追いする状態で、粘着シート50が剥がされた半導体チップの群をカバーするので
、チャック150における吸着力の低下を防止することもできる。しかし、テープが単にカバーするだけの場合には、リール191にカバーできるだけの長さのテープを収納していればよいが、弱い粘着力をもつテープ192’の場合には、所定の長さに切断されてしまうので、リール191には、相当量の長さのテープ192’を収納して供給できるようにする必要がある。繰り出しローラ80は、テープ192’をリール191から繰り出して始端を枠55に固定させるために用いるものである。次に、図22(c)に示すように、枠55に貼り付けられた弱い粘着力をもつテープ192’に粘着された半導体チップ群を、チャック150による吸着力を弱めて矢印で示すように反転機構(図示せず)で上記枠55を掴んで反転させることによって、吸着コレット101または吸着ノズル216で吸着してピックアップすることができる状態となる。これによって、半導体チップ群を反転させて吸着コレット101または吸着ノズル216で吸着できることになる。
Next, an embodiment in which the arrangement of the semiconductor chips on the chuck 150 is inverted and also functions as a tray will be described with reference to FIG. In this embodiment, as shown in FIG. 22A, a tape 192 'having a weak adhesive force on the lower surface is used as a tape covering the semiconductor chip group from which the adhesive sheet 50 has been peeled off, and the starting end of the tape 192' For example, the end is pressed against the frame 55 with a pressing roller 194 ′ and adhered (attached) again, and the end is cut with a cutter 81 such as a grindstone as shown in FIG. All of the semiconductor chip groups thus obtained are adhered again to the tape 192 ′ having a low adhesive strength, which is adhered to the frame 55 again. The semiconductor chip group adsorbed by the chuck 150 is adhered to the tape 192 ′ having a weak adhesive force by moving the pressing means 167 pressed by the pressing means 195. In addition, the adhesive sheet 50 covers the group of peeled semiconductor chips in a state where the tape 192 ′ follows the peeling angle fixing jig 165 pressed by the pressing means 168. It can also be prevented. However, in the case where the tape merely covers the tape, it is sufficient that the tape is long enough to cover the reel 191, but in the case of the tape 192 ′ having a weak adhesive strength, the tape 192 ′ has a predetermined length. Since the reel 191 is cut, it is necessary to store and supply a considerable amount of tape 192 ′ to the reel 191. The feeding roller 80 is used for feeding the tape 192 ′ from the reel 191 and fixing the starting end to the frame 55. Next, as shown in FIG. 22 (c), the semiconductor chips adhered to the tape 192 'having a weak adhesive force adhered to the frame 55 are weakened by the chuck 150 to reduce the suction force by the chuck 150 as shown by arrows. When the frame 55 is gripped and inverted by an inversion mechanism (not shown), the frame can be picked up by suction by the suction collet 101 or the suction nozzle 216. As a result, the semiconductor chip group can be inverted and sucked by the suction collet 101 or the suction nozzle 216.

また、枠55に貼り付けられた弱い粘着力をもつテープ192’に粘着された半導体チップ配列を、持ち運ぶことによって、トレイとしての役目をはたすことができる。もし、裸の状態で持ち運ぶことがまずければ、カセット等の容器に収納すればよい。そして、枠55に貼り付けられた弱い粘着力をもつテープ192
’に粘着された半導体チップ配列を、容器に収納して製品として販売することができる。ユーザは、これを、搭載機にセットし、搭載機において半導体チップをピックアップして回路基板等に搭載して実装することができることになる。また
、枠55に貼り付けられた弱い粘着力をもつテープ192’に粘着された半導体チップ配列を、搬送手段を用いて持ち運ぶことによって、別の場所に設置された搭載機にセットし、搭載機において半導体チップをピックアップして回路基板等に搭載して実装することもできる。
In addition, the semiconductor chip array adhered to the tape 192 ′ having a weak adhesive force attached to the frame 55 can be carried as a tray by being carried. If it is difficult to carry it naked, it may be stored in a container such as a cassette. Then, a tape 192 having a weak adhesive strength attached to the frame 55
The semiconductor chip array adhered to the 'can be stored in a container and sold as a product. The user can set this in a mounting machine, pick up the semiconductor chip in the mounting machine, mount the semiconductor chip on a circuit board or the like, and mount it. Further, the semiconductor chip array adhered to the tape 192 ′ having a weak adhesive force attached to the frame 55 is set by a carrying machine installed at another place by carrying the semiconductor chip array using a carrier means. , A semiconductor chip can be picked up, mounted on a circuit board or the like, and mounted.

次に、チャック150上において半導体チップの配列をトレイとしての役目も果たす他の実施例について、図23を用いて説明する。この実施例は、図23に示すようにチャック150の上面に、上面に弱い粘着力をもった粘着層86aを有する粘着シート86を吸着しておくものである。この粘着シート86を持ち運ぶ場合には、例えば金属枠85に貼付ておくことが望ましい。なお、この金属枠85の外径は、金属枠55の内径より小さくしておく必要がある。このように、チャック150の上面に予め、粘着シート86を吸着しておき、その上にワーク60を載置することによって、粘着シート86の弱い粘着力で切断された各半導体チップを保持することが可能となる。次に、粘着シート86に弱い粘着力で保持された半導体チップの配列から押圧手段168で押圧される引き剥がし角度固定治具165を用いて粘着シート50を折り曲げて剥がすことになる。しかし、粘着シート86による半導体チップに対する保持力が弱いので、図7に示すように、引き剥がし角度固定治具165の先端部165aに接近させて押圧手段195で押圧される押し付け手段167を後追いさせる必要がある。また、図15に示す方法を用いれば、粘着シート86による半導体チップに対する保持力が弱くても、半導体チップ配列から粘着シート50を剥がすことができる。以上により
、粘着シート50が剥がされて粘着シート86に保持された半導体チップ配列を得ることができる。
Next, another embodiment in which the arrangement of the semiconductor chips on the chuck 150 also serves as a tray will be described with reference to FIG. In this embodiment, as shown in FIG. 23, an adhesive sheet 86 having an adhesive layer 86a having a weak adhesive force on an upper surface of a chuck 150 is adsorbed on an upper surface of a chuck 150. When carrying the adhesive sheet 86, it is desirable that the adhesive sheet 86 be attached to, for example, a metal frame 85. The outer diameter of the metal frame 85 needs to be smaller than the inner diameter of the metal frame 55. As described above, the pressure-sensitive adhesive sheet 86 is previously adsorbed on the upper surface of the chuck 150, and the work 60 is placed on the pressure-sensitive adhesive sheet 86 to hold each semiconductor chip cut by the weak adhesive force of the pressure-sensitive adhesive sheet 86. Becomes possible. Next, the pressure-sensitive adhesive sheet 50 is bent and peeled off from the arrangement of the semiconductor chips held by the pressure-sensitive adhesive sheet 86 with a weak adhesive force by using the peeling angle fixing jig 165 pressed by the pressing means 168. However, since the holding force of the adhesive sheet 86 on the semiconductor chip is weak, as shown in FIG. 7, the pressing means 167 pressed by the pressing means 195 is moved backward by approaching the tip 165a of the peeling angle fixing jig 165. There is a need. Further, if the method shown in FIG. 15 is used, the adhesive sheet 50 can be peeled from the semiconductor chip array even if the holding force of the adhesive sheet 86 on the semiconductor chip is weak. As described above, the semiconductor chip arrangement in which the adhesive sheet 50 is peeled off and held on the adhesive sheet 86 can be obtained.

これにより、第1に、粘着シート86による半導体チップに対する保持力が弱いので、そのままの状態で、吸着コレット101または吸着ノズル216で吸着してピックアップすることができることになる。   First, since the holding force of the adhesive sheet 86 on the semiconductor chip is weak, it can be picked up by the suction collet 101 or the suction nozzle 216 as it is.

第2には、チャック150の吸着力を弱め、枠85に貼り付けられた弱い粘着力をもつ粘着シート86に粘着された半導体チップ配列を、持ち運ぶことによって、トレイとしての役目をはたすことができる。もし、裸の状態で持ち運ぶことがまずければ、カセット等の容器に収納すればよい。そして、枠85に貼り付けられた弱い粘着力をもつ粘着シート86に粘着された半導体チップ配列を、容器に収納して製品として販売することができる。ユーザは、これを、搭載機にセットし、搭載機において半導体チップをピックアップして回路基板等に搭載して実装することができることになる。また、枠85に貼り付けられた弱い粘着力をもつ粘着シート86に粘着された半導体チップ配列を、搬送手段を用いて持ち運ぶことによって、別の場所に設置された搭載機にセットし、搭載機において半導体チップをピックアップして回路基板等に搭載して実装することもできる。   Second, the suction force of the chuck 150 is weakened, and the semiconductor chip array adhered to the adhesive sheet 86 having a weak adhesive force attached to the frame 85 is carried, thereby serving as a tray. . If it is difficult to carry it naked, it may be stored in a container such as a cassette. Then, the semiconductor chip array adhered to the adhesive sheet 86 having a weak adhesive force attached to the frame 85 can be stored in a container and sold as a product. The user can set this in a mounting machine, pick up the semiconductor chip in the mounting machine, mount the semiconductor chip on a circuit board or the like, and mount it. In addition, the semiconductor chip array adhered to the adhesive sheet 86 having a weak adhesive force attached to the frame 85 is set by using a transporting means to a loading machine installed at another place by carrying it using a transporting means. , A semiconductor chip can be picked up, mounted on a circuit board or the like, and mounted.

また、以上説明した実施例は、薄肉の半導体ウエハを粘着シートに貼付けた状態で、薄肉の半導体素子(半導体チップ)の単位に切断し、該切断された薄肉の半導体素子群を粘着シートから剥がし、剥がされた半導体素子群を所定の単位で順次搬送し、各半導体素子を順次トレイ詰めまたは被搭載基板(回路基板)に搭載して実装する場合について説明したが、薄肉の半導体ウエハではなく、基板またはテープによって多数つらねたチップサイズパッケージのような半導体装置(電子部品:サイズが0.3〜20mm程度、厚さが0.5mm以下で、例えば水晶等の薄物(厚さが50μm程度以下)、脆い物、情報機器部品等)を粘着シ
ートに貼付けた状態で、つらねた基板またはテープを切断することによって半導体装置(電子部品)単位に切離し、該切離された半導体装置群を粘着シートから剥がし、剥がされた半導体装置群を所定の単位で順次搬送し、各半導体装置を順次トレイ詰めまたは被搭載基板(回路基板)に搭載して実装する場合に適用することも可能である。即ち、粘着シートに貼付る状態としては、様々な形態が考えられる。
In the embodiment described above, the thin semiconductor wafer is cut into units of thin semiconductor elements (semiconductor chips) with the thin semiconductor wafer attached to the adhesive sheet, and the cut thin semiconductor element group is peeled off from the adhesive sheet. The case where the peeled semiconductor element group is sequentially transported in a predetermined unit and each semiconductor element is sequentially packed in a tray or mounted on a mounted substrate (circuit board) and mounted is described, but not a thin semiconductor wafer. A semiconductor device such as a chip size package formed by a large number of substrates or tapes (electronic component: a size of about 0.3 to 20 mm, a thickness of 0.5 mm or less, for example, a thin object such as quartz (a thickness of about 50 μm or less) , Brittle objects, information equipment parts, etc.) on a pressure-sensitive adhesive sheet, and cut a flat substrate or tape to produce a semiconductor device (electronic component) unit The separated semiconductor device group is separated from the adhesive sheet, the separated semiconductor device group is sequentially transported in a predetermined unit, and each semiconductor device is sequentially packed in a tray or mounted on a substrate (circuit board) to be mounted. It is also possible to apply when implementing. That is, various forms can be considered as the state of sticking to the adhesive sheet.

このように、電子部品を粘着シートに貼付けた状態で、つらねた基板またはテープを切断することによって電子部品単位に切離し、該切離された電子部品群の搭載面をチャックで保持した状態で電子部品群を一括粘着シートから剥がすようにしたので、電子部品を反転させることなく、しかも高速で搭載位置へ供給することができる。   As described above, in a state where the electronic component is stuck to the adhesive sheet, the broken substrate or tape is cut to be separated into electronic component units, and the mounting surface of the separated electronic component group is held by the chuck so that the electronic component is held. Since the component group is peeled off from the batch adhesive sheet, the electronic component can be supplied to the mounting position at high speed without inverting the electronic component.

次に、上述した分離機構部(分離手段)100の他の実施例について、図31〜図38を用いて説明する。   Next, another embodiment of the above-described separating mechanism (separating means) 100 will be described with reference to FIGS.

図31は、金属枠55に張付けられた(装着された)粘着シート50に粘着され、ダイシングされた半導体チップ10の群を模式的に示した図である。半導体ウエハの状態からダイシングされた半導体チップ10の群に対しては、図31に示すように、マップと呼ばれる番地が分離機構部(分離手段)100に対して指定されることになる。即ち、太枠が、所定の形状にダイシングされた半導体チップ10の群に対してx軸、y軸の交点0を基準にして、x軸に沿ってx1、x2、・・・、y軸に沿ってy1、y2、・・・と番地指定された状態を示す。この状態おいて、(x1,y1)、及び(x3,y3)は、半導体チップをテストすると
きに用いられるテストパターンが形成されたチップで、通常の製品に用いられるチップとは表面状態を異ならしめている。
FIG. 31 is a diagram schematically illustrating a group of the semiconductor chips 10 that are adhered to the adhesive sheet 50 stuck (attached) to the metal frame 55 and diced. For a group of semiconductor chips 10 diced from the state of the semiconductor wafer, an address called a map is designated to the separation mechanism (separation means) 100 as shown in FIG. That is, the bold frame extends along the x-axis along x1, x2,..., Y-axis with respect to the intersection of the x-axis and the y-axis with respect to the group of the semiconductor chips 10 diced into a predetermined shape. Along the lines y1, y2,... In this state, (x1, y1) and (x3, y3) are chips on which a test pattern used for testing a semiconductor chip is formed, and have a surface state different from that of a chip used in a normal product. Squeezed.

また、ウエハ状態において性能テスト(動作テスト)において不良品と判定されたマップと呼ばれる番地(不良品ペレットの位置座標)が検査装置の記録媒体(FD)または記憶装置に格納され、上記記録媒体または記憶装置にネットワークで接続された分離機構部(分離手段)100の制御装置(図示せず)に対して指定されて入力されることになる。   In the wafer state, an address called a map (position coordinates of defective pellets) determined to be defective in the performance test (operation test) is stored in the recording medium (FD) or the storage device of the inspection apparatus, and It is designated and input to a control device (not shown) of the separation mechanism (separation means) 100 connected to the storage device via a network.

図32は、半導体チップ10の群を粘着させた粘着シート50を貼り付けた金属枠55の基準端面55aを基準位置決めピン322a、322bに当接して半導体チップ10の群を位置決めする位置決め機構320を示した図である。この位置決め機構320を、例えば図16に示す搬送手段170上に設けることによって、ワーク60を剥離ステーションに供給して位置決め固定することが可能となる。   FIG. 32 shows a positioning mechanism 320 that positions the group of the semiconductor chips 10 by abutting the reference end surface 55a of the metal frame 55 to which the adhesive sheet 50 on which the group of the semiconductor chips 10 is adhered to the reference positioning pins 322a and 322b. FIG. By providing this positioning mechanism 320 on, for example, the transporting means 170 shown in FIG. 16, the workpiece 60 can be supplied to the peeling station and positioned and fixed.

図33は、図3に示す分離機構部(分離手段)100の原理において、粘着シート50を金属枠(キャリアリング)55から切り離す前に、傷等が付いた半導体チップの外観を検出(認識)し、その欠陥の半導体チップについてはピックアップ時にピックアップを止めて被搭載基板(実装基板)やトレイ2に搭載するのを止める第1の実施例を示した図である。即ち、図32および図33(a)に示すように、半導体チップ10の群を粘着させた粘着シート50を貼り付けた金属枠55をプッシャ323で押圧することによって、金属枠55の基準端面55aを基準プレート321上に設けられた基準位置決めピン322a、322bに当接して半導体チップ10の群を位置決めする。そして、図33(a)に示すように、半導体チップの群において、傷等が生じた半導体チップの位置を、検出装置330を用いて位置決め機構320、即ちチャック150を基準に検出する。検出装置330としては、光学的に傷等を検出するものと、超音波によって探傷するものとがある。光学的に傷等の外観を検出する場合、正反射光(0次回折光)を受光しないで、傷等による散乱光をイメージセンサで受光して得られる画像信号に基いてその連続性(傷は連続性を有すること)から検出すれば良い。超音波によって探傷する場合には、半導体チップ10の群に対して超音波パルスを入射し、半導体チップに傷がある場合にはその傷から反射してくる反射波をブラウン管等で検出することによって傷等の外観を検知することができる。   FIG. 33 shows, based on the principle of the separating mechanism (separating means) 100 shown in FIG. 3, detecting (recognizing) the appearance of a damaged semiconductor chip before separating the adhesive sheet 50 from the metal frame (carrier ring) 55. FIG. 5 is a diagram showing a first embodiment in which the pickup of the defective semiconductor chip is stopped at the time of pickup to stop the semiconductor chip from being mounted on a mounting substrate (mounting substrate) or the tray 2. That is, as shown in FIG. 32 and FIG. 33A, the metal frame 55 to which the adhesive sheet 50 to which the group of the semiconductor chips 10 is adhered is pressed by the pusher 323, so that the reference end surface 55a of the metal frame 55 is pressed. Are brought into contact with reference positioning pins 322 a and 322 b provided on a reference plate 321 to position the group of semiconductor chips 10. Then, as shown in FIG. 33A, the position of the semiconductor chip in which a flaw or the like has occurred in the group of semiconductor chips is detected using the detection device 330 with reference to the positioning mechanism 320, that is, the chuck 150. The detection device 330 includes a device that optically detects a flaw or the like and a device that detects a flaw by ultrasonic waves. When optically detecting the appearance of a flaw or the like, the continuity of the flaw (flaw is determined based on an image signal obtained by receiving the scattered light due to the flaw or the like by the image sensor without receiving the specular reflected light (0th-order diffracted light). Continuity). In the case of flaw detection by ultrasonic waves, an ultrasonic pulse is incident on a group of semiconductor chips 10, and if there is a flaw in the semiconductor chip, a reflected wave reflected from the flaw is detected by a cathode ray tube or the like. The appearance such as a scratch can be detected.

なお、半導体チップ10の群から、傷が生じている欠陥チップの位置座標(番地)を位置決め機構320を基準にして検出するためには、位置決め機構320と検出装置330とを相対的に移動させて、半導体チップ10の群上を走行させる必要がある。   In order to detect the position coordinates (address) of the defective chip having a scratch from the group of the semiconductor chips 10 based on the positioning mechanism 320, the positioning mechanism 320 and the detection device 330 are relatively moved. Therefore, it is necessary to run on the group of the semiconductor chips 10.

以上により、図33(a)に示す過程において、傷が生じている欠陥チップの位置座標(番地)が検出されて分離機構部100に設けられた制御装置(図示せず)内の記憶装置に記憶されることになる。次に、位置決め機構320と一緒に
、ワーク60がチャック150上まで搬送されて図33(b)に示す位置付けされる。その後、図33(b)〜図33(e)までは、図3(a)〜図3(d)と同様にして、半導体チップ10の群がチャック150に吸着された状態で、粘着テープ50が剥がされる。そして、図33(d)に示すように、不良品チップや欠陥チップの位置座標(番地)が制御装置の記憶装置に記憶されているので、制御装置により不良品チップや欠陥チップや切れ端を残した状態で、良品の半導体チップのみを、吸着コレット101または直接吸着ノズル216によってピックアップしてトレイ2または被搭載基板に搭載することができる。
As described above, in the process shown in FIG. 33A, the position coordinates (address) of the defective chip having the scratch is detected and stored in the storage device in the control device (not shown) provided in the separation mechanism unit 100. Will be remembered. Next, together with the positioning mechanism 320, the work 60 is transported onto the chuck 150 and positioned as shown in FIG. Thereafter, in the same manner as in FIGS. 3 (a) to 3 (d), the adhesive tape 50 with the group of semiconductor chips 10 adsorbed on the chuck 150 is shown in FIGS. 33 (b) to 33 (e). Is peeled off. Then, as shown in FIG. 33 (d), since the position coordinates (address) of the defective chip or the defective chip are stored in the storage device of the control device, the control device leaves the defective chip, the defective chip or the piece. In this state, only good semiconductor chips can be picked up by the suction collet 101 or the direct suction nozzle 216 and mounted on the tray 2 or the substrate.

図34は、図3に示す分離機構部(分離手段)100の原理において、粘着シート50を金属枠(キャリアリング)55から切り離す直前に、UV光を照射し
、または熱を加えることによって粘着剤を硬化させて半導体チップを粘着シート50から剥がし易くする第2の実施例を示した図である。即ち、図2(c)には
、ワーク60を剥離ステーションに供給する前に、UV光を照射し、または熱を加えることによって粘着剤を硬化させて半導体チップを粘着シート50から剥がし易くしたが、図34(a)に示すように、ワーク60を剥離ステーションに供給して位置決めした後、UV光を照射し、または熱を加えることによって粘着剤を硬化させて半導体チップを粘着シート50から剥がし易くしても良い。この実施例の場合、ワーク60を剥離ステーションに供給してから半導体チップ群を粘着シート50から剥がし易くしたので、金属枠付の状態のワーク60を搬送中もしくは輸送中に半導体チップが粘着テープから剥がれてしまう可能性を低減することができる。図34(b)〜図34(e)までは、図3(a)〜図3(d)と同様にして、半導体チップ10の群がチャック150に吸着された状態で、粘着テープ50が剥がされる。
FIG. 34 shows the principle of the separating mechanism (separating means) 100 shown in FIG. 3 by irradiating UV light or applying heat immediately before separating the adhesive sheet 50 from the metal frame (carrier ring) 55. FIG. 7 is a view showing a second embodiment in which the semiconductor chip is easily peeled off from the adhesive sheet 50 by curing the adhesive. That is, in FIG. 2C, before supplying the work 60 to the peeling station, the adhesive is cured by irradiating UV light or applying heat so that the semiconductor chip is easily peeled off from the adhesive sheet 50. As shown in FIG. 34 (a), after supplying the work 60 to the peeling station and positioning it, the adhesive is cured by irradiating UV light or applying heat to peel the semiconductor chip from the adhesive sheet 50. It may be easier. In the case of this embodiment, since the semiconductor chips were easily peeled off from the adhesive sheet 50 after supplying the work 60 to the peeling station, the semiconductor chip was removed from the adhesive tape while the work 60 with the metal frame was being transported or transported. The possibility of peeling can be reduced. 34B to 34E, the adhesive tape 50 is peeled off in a state where the group of the semiconductor chips 10 is attracted to the chuck 150 in the same manner as in FIGS. 3A to 3D. It is.

図35は、図3に示す分離機構部(分離手段)100の原理において、粘着シート50を金属枠(キャリアリング)55から切り離す直前に、位置決め機構320を基準にチャック150に吸着される半導体チップ群の位置座標を検出(認識)し、この検出された半導体チップ群の位置座標に基いて良品の半導体チップを直接ピックアップして被搭載基板(実装基板)やトレイ2に搭載する第3の実施例を示した図である。即ち、図32および図35(a)に示すように、半導体チップ10の群を粘着させた粘着シート50を貼り付けた金属枠55は、搬送手段170上に設けられた位置決め機構320で位置決めされる。そして、図35(a)に示すように、位置決め機構320で位置決めされた半導体チップ群で、例えばテグパターンのように、外観上、又は内部性能(パターン等)上で、当初の設計仕様をもつ半導体チップと別の要素をもっているチップ(例えば、図31において(x1,y1)と(x3,y3)とで示す。)の画像を、走行するX−
Y−Θステージ350上に設けられたTVカメラ等の撮像手段351で撮像し、半導体チップ群に対してその位置座標を検出する。次に、図35(b)に示すように、位置決め機構320で位置決めされた状態で、半導体チップ群は、チャック150に吸着されることになる。即ち、位置決め機構320によって与えられる撮像手段351で撮像する座標系とチャック150との間の相対位置関係は決められている。要するに、撮像手段351で撮像される座標系(番地)は、チャック150を基準して検知されることになる。従って、図35(g)に示すピックアップする過程において、制御装置により撮像手段351で撮像した座標系(
番地)でもって、チャック150から不良品チップや切れ端を残した状態で、良品の半導体チップを、吸着コレット101または直接吸着ノズル216によって直接ピックアップして被搭載基板(実装基板)やトレイ2に搭載することが可能となる。この方法によれば、FD等の記録媒体に記録去れたマップ位置とズレることはない。また、FD等の記録媒体にもたせた良品半導体チップの中で性能分けデータにも、対応させることが可能である。なお、図35(c)〜図35(f
)までは、図3(a)〜図3(d)と同様である。
FIG. 35 shows a semiconductor chip that is attracted to the chuck 150 based on the positioning mechanism 320 immediately before the adhesive sheet 50 is separated from the metal frame (carrier ring) 55 in the principle of the separation mechanism section (separation means) 100 shown in FIG. A third embodiment in which the position coordinates of the group are detected (recognized), and non-defective semiconductor chips are directly picked up based on the detected position coordinates of the semiconductor chip group and mounted on a mounting substrate (mounting substrate) or the tray 2. It is a figure showing an example. That is, as shown in FIGS. 32 and 35 (a), the metal frame 55 to which the adhesive sheet 50 to which the group of the semiconductor chips 10 is adhered is positioned by the positioning mechanism 320 provided on the conveying means 170. You. Then, as shown in FIG. 35A, the semiconductor chip group positioned by the positioning mechanism 320 has an initial design specification in terms of external appearance or internal performance (pattern or the like), for example, like a Teg pattern. An image of a chip having different elements from the semiconductor chip (for example, indicated by (x1, y1) and (x3, y3) in FIG. 31) is used to travel X-
An image is picked up by an image pickup means 351 such as a TV camera provided on the Y-Θ stage 350, and the position coordinates of the semiconductor chip group are detected. Next, as shown in FIG. 35B, the semiconductor chip group is attracted to the chuck 150 while being positioned by the positioning mechanism 320. That is, the relative positional relationship between the chuck 150 and the coordinate system imaged by the imaging unit 351 provided by the positioning mechanism 320 is determined. In short, the coordinate system (address) imaged by the imaging means 351 is detected with reference to the chuck 150. Therefore, in the pickup process shown in FIG. 35G, the coordinate system (
Address), a good semiconductor chip is directly picked up by the suction collet 101 or the direct suction nozzle 216 and is mounted on the mounting substrate (mounting substrate) or the tray 2 in a state where the defective chip or the scrap is left from the chuck 150. It is possible to do. According to this method, there is no deviation from the map position recorded on the recording medium such as the FD. Further, it is possible to correspond to performance-divided data in a non-defective semiconductor chip provided on a recording medium such as an FD. 35 (c) to 35 (f)
) Are the same as in FIGS. 3A to 3D.

図36には、図33〜図35に示す実施例をすべて備えた第4の実施例を示す
。即ち、図36(a)は、図33(a)に示す過程と同様である。図36(b)は、図34(a)に示す過程と同様である。図36(c)、(d)は、図35(
a)、(b)に示す過程と同様である。図36(e)〜図36(h)は、図3(
a)〜図3(d)と同様である。図36(i)は、図33(f)および図35(
g)と同様である。
FIG. 36 shows a fourth embodiment provided with all the embodiments shown in FIGS. That is, FIG. 36A is the same as the process shown in FIG. FIG. 36B is the same as the process shown in FIG. FIGS. 36 (c) and (d) show FIG.
This is the same as the processes shown in a) and (b). FIGS. 36 (e) to 36 (h) correspond to FIG.
a) to FIG. 3 (d). FIG. 36 (i) shows FIG. 33 (f) and FIG.
Same as g).

図37には、チャック上に残った不良品チップや切れ端などのゴミを除去する除去手段の実施例を示す。即ち、静電気防止用の導電ブラシ371や導電ブラシ371を付けた回転体を移動させることによって、チャック150上に残った不良品チップや切れ端などのゴミ372を払って排出容器373に入れて除去されることになる。更に、真空吸引バルブ374を閉じ、バルブ375を開いて静電気防止用エアー(例えばイオンブロー)376を供給することによってチャック面から放出するようにして、チャック150上に残った不良品チップや切れ端などのゴミ372を払いやすくしてもよい。このようにすることによって、チャック150のチャック面に新たな半導体チップ群を支障なく吸着させることが可能となる。   FIG. 37 shows an embodiment of a removing means for removing dust such as defective chips and chips left on the chuck. That is, by moving the conductive brush 371 for preventing static electricity and the rotating body to which the conductive brush 371 is attached, dust 372 such as a defective chip or a piece remaining on the chuck 150 is removed and put into the discharge container 373 to be removed. Will be. Further, the vacuum suction valve 374 is closed, and the valve 375 is opened to supply air for preventing static electricity (for example, ion blow) 376 so that the air is released from the chuck surface. May be easier to pay. By doing so, a new semiconductor chip group can be adsorbed on the chuck surface of the chuck 150 without any trouble.

また、チャック150に吸着された半導体チップ群から、粘着テープ50を剥がす際、切れ端などのゴミが、粘着テープ50についてしまう場合が考えられる
。その場合、そのままの状態で、粘着テープ50を廃棄することができず、切れ端などのゴミや異物等を粘着テープから分離して廃棄する必要がある。そこで、図38に示すように、例えば引き剥がし角度固定治具165によって引き剥がされた粘着テープ50に対して、剥がれやすくなるように熱または光を加えながら吸引口381の先に取り付けられたブレード状のはけ382によって粘着テープ50についてしまった切れ端などのゴミや異物等383を払い落し、吸引口381で吸引することによって、切れ端などのゴミや異物383を粘着テープ50から分離して回収することが可能となる。当然、吸引口381を、引き剥がし角度固定治具165の移動と同期させて移動させることが必要となる。
Further, when the adhesive tape 50 is peeled off from the semiconductor chip group adsorbed by the chuck 150, dust such as cut pieces may be attached to the adhesive tape 50. In that case, the adhesive tape 50 cannot be discarded as it is, and it is necessary to separate dust and foreign matters such as cut pieces from the adhesive tape and discard them. Therefore, as shown in FIG. 38, for example, a blade attached to the tip of the suction port 381 while applying heat or light to the adhesive tape 50 peeled off by the peeling angle fixing jig 165 so as to be easily peeled off. The dust or foreign matter 383 such as a piece cut off the adhesive tape 50 by the brush-like brush 382 is removed, and the dust or the foreign matter 383 such as the piece is separated and collected from the adhesive tape 50 by suctioning with the suction port 381. It becomes possible. Naturally, it is necessary to move the suction port 381 in synchronization with the movement of the peeling angle fixing jig 165.

次に、以上説明した半導体チップを回路基板に実装して薄膜電子回路部品であるICカードの構成およびICカードの製造方法の一実施例について説明する。   Next, an embodiment of a configuration of an IC card which is a thin film electronic circuit component by mounting the semiconductor chip described above on a circuit board and a method of manufacturing the IC card will be described.

最初に、図24〜図26を用いて、ICカードの構成について説明する。図24はICカードの平面図、図25は図24のA−B−C−D断面図、図26は図25の要部拡大断面図である。   First, the configuration of the IC card will be described with reference to FIGS. 24 is a plan view of the IC card, FIG. 25 is a sectional view taken along the line ABCD of FIG. 24, and FIG. 26 is an enlarged sectional view of a main part of FIG.

図24に示すように、ICカード400は、フィルム410と、フィルム410の上に形成された導体パターン420と、導体パターン420に接続端子432を介して接続されたICチップ等の電子部品430(10)とから構成されている。導体パターン420の一部は、ループ状のアンテナコイル422を構成しており、アンテナコイル422は、導体パターンにより電子部品430(10)に接続されている。アンテナコイル422の巻数は、任意のターン数とする。また、電子部品430は、フィルム410に対して仮固定液440で固定される。   As shown in FIG. 24, the IC card 400 includes a film 410, a conductor pattern 420 formed on the film 410, and electronic components 430 (such as an IC chip) connected to the conductor pattern 420 via connection terminals 432. 10). A part of the conductor pattern 420 forms a loop-shaped antenna coil 422, and the antenna coil 422 is connected to the electronic component 430 (10) by the conductor pattern. The number of turns of the antenna coil 422 is an arbitrary number of turns. The electronic component 430 is fixed to the film 410 with the temporary fixing liquid 440.

ICカード400の幅D1は、例えば54mmであり、長さL1は、例えば85.6mmであり、所謂クレジットカードやテレホンカードと同一の大きさとしている。電子部品430(10)は、例えば幅D2が3mmの正方形のものを用いている。アンテナコイル422の幅D3および導体パターン420の幅D4は
、例えば0.2mmとしている。接続端子432は、導体パターン420の幅より狭い例えば0.15mm角としている。
The width D1 of the IC card 400 is, for example, 54 mm, and the length L1 is, for example, 85.6 mm, which is the same size as a so-called credit card or telephone card. The electronic component 430 (10) uses, for example, a square having a width D2 of 3 mm. The width D3 of the antenna coil 422 and the width D4 of the conductor pattern 420 are, for example, 0.2 mm. The connection terminal 432 is, for example, 0.15 mm square, which is narrower than the width of the conductor pattern 420.

次に、ICカードの断面構成について図25を用いて説明する。即ち、ICカード400のフィルム410の上には、導体パターン420およびアンテナコイル422が印刷形成されている。フィルム410の上には、ICチップ等の電子部品430(10)が、仮固定液440により固定されると共に、電子部品430の接続端子432は、導体パターン420と直接接合され、電気的に導通している。導体パターン420および電子部品430をはさむ状態でフィルム410とカバーフィルム460とは、ホットメルト等の糊450を用いてラミネートされて固定されている。そして、フィルム410およびカバーフィルム460の上には、絵柄等の印刷面470、472が印刷形成されている。   Next, a cross-sectional configuration of the IC card will be described with reference to FIG. That is, the conductor pattern 420 and the antenna coil 422 are printed on the film 410 of the IC card 400. On the film 410, an electronic component 430 (10) such as an IC chip is fixed with a temporary fixing solution 440, and the connection terminals 432 of the electronic component 430 are directly bonded to the conductor pattern 420 to be electrically conductive. are doing. The film 410 and the cover film 460 are laminated and fixed using a glue 450 such as hot melt while sandwiching the conductive pattern 420 and the electronic component 430. On the film 410 and the cover film 460, printing surfaces 470 and 472 such as a picture are formed by printing.

上記構成により、ICカード400の厚さHは、約0.25mmと薄型化を実現している。   With the above configuration, the thickness H of the IC card 400 is reduced to about 0.25 mm, which is thin.

このようなICカード400の構造上の特徴は、次の点にある。即ち、Ag、Cu等の導体ペーストによる導体パターン420、422の形成は、フィルム410の片面のみの単層化構造としている。最近試みられている方法では、フィルムの両面に導体パターン、特にアンテナコイルを形成するようにしていたものに対して、片面側の導体パターンを形成するためのスクリーン印刷工程とその後の乾燥工程をなくすことができ、工程数を低減できる。また、ICカードを単層化構造とすることにより、薄型化して、約0.25mmの厚さにすることができる
The structural features of such an IC card 400 are as follows. That is, the formation of the conductor patterns 420 and 422 using a conductor paste of Ag, Cu, or the like has a single-layer structure on only one surface of the film 410. A method that has been recently attempted eliminates the screen printing process and the subsequent drying process for forming a conductor pattern on one side of a film, in which a conductor pattern, particularly an antenna coil, is formed on both surfaces of the film. And the number of steps can be reduced. In addition, since the IC card has a single-layer structure, the IC card can be reduced in thickness to a thickness of about 0.25 mm.

次に、ICカードの製造方法について図27を用いて説明する。   Next, a method of manufacturing an IC card will be described with reference to FIG.

ICカードの製造方法は、フィルム410上にAg、Cu等の導体ペーストを用いて例えばスクリーン印刷方法で印刷して導体パターン420およびアンテナコイル422を形成する印刷工程P10と、該印刷された導体パターン420およびアンテナコイル422に対してレーザ光束を線状にスキャンさせて照射し、上記フィルム410と一緒に導体パターン420およびアンテナコイル422を移動させることによって導体ペーストの溶媒を瞬時に蒸発させて導体パターン420およびアンテナコイル422を乾燥させる乾燥工程P20と、電子部品430(10)を搭載する位置に仮固定剤440をディスペンサ等を用いて印刷または塗布する工程P30と、前述したように電子部品430(10)を搭載する搭載工程P40と、加熱・加圧によるラミネート加工および電子部品の同時接続を行う工程P50と、該工程P50でラミネートされたシートをICカード毎の大きさに切断する切断工程P60と、両面に絵柄等470、472を印刷する工程P70と、電子部品等に対する読み書き(R/W)の検査を行う検査工程P80と、外形を切断する工程P90とから構成されている。   The method for manufacturing an IC card includes a printing step P10 of forming a conductor pattern 420 and an antenna coil 422 by printing a conductor paste such as Ag or Cu on a film 410 by, for example, a screen printing method, and the printed conductor pattern. The laser beam is linearly scanned and irradiated on the antenna 420 and the antenna coil 422, and the conductor pattern 420 and the antenna coil 422 are moved together with the film 410, thereby instantaneously evaporating the solvent of the conductor paste to form the conductor pattern. A drying step P20 of drying the antenna 420 and the antenna coil 422, a step P30 of printing or applying a temporary fixing agent 440 using a dispenser or the like at a position where the electronic component 430 (10) is to be mounted, and a step of printing the electronic component 430 ( 10) Mounting process P40 for mounting and heating Step P50 of performing laminating by pressurization and simultaneous connection of electronic components, cutting step P60 of cutting the sheet laminated in step P50 into a size for each IC card, and printing pictures 470 and 472 on both sides. The process includes a process P70, an inspection process P80 for performing read / write (R / W) inspection on electronic components and the like, and a process P90 for cutting the outer shape.

ここで、フィルム410の材質としては、透明若しくは白色のPET(ポリエチレンテレフタレート)、PVC(ポリ塩化ビニール)、ポリイミド等のプラス
チック材料が用いられ、その厚さは、例えば75μm〜100μm程度のものを使用する。なお、フィルムは、ICカードの製造装置に対して幅が例えば250mmのロール状態から供給される。
Here, as a material of the film 410, a plastic material such as transparent or white PET (polyethylene terephthalate), PVC (polyvinyl chloride), or polyimide is used, and the thickness thereof is, for example, about 75 μm to 100 μm. I do. The film is supplied to the IC card manufacturing apparatus from a roll having a width of, for example, 250 mm.

印刷工程P10は、長尺のフィルム410上に多数のICカードに対応させて多数の導体パターン420およびアンテナコイル422を、Ag、Cu等の導体ペーストを用いて例えばスクリーン印刷方法で印刷して形成する工程である。   In the printing step P10, a large number of conductor patterns 420 and antenna coils 422 are formed on a long film 410 by using a conductor paste such as Ag or Cu, for example, by a screen printing method so as to correspond to a large number of IC cards. This is the step of performing

次の乾燥工程P20は、透明PETフィルムの場合、波長9〜10μmに吸収帯があるため、レーザ光として波長1.06μmのYAGレーザを用いることによって、Ag等の導体ペーストのみ加熱して乾燥させる工程である。   In the next drying step P20, since a transparent PET film has an absorption band at a wavelength of 9 to 10 μm, only a conductive paste such as Ag is dried by using a YAG laser having a wavelength of 1.06 μm as laser light. It is a process.

このようにレーザビームや荷電粒子ビーム等のエネルギービームを印刷された導体パターン420およびアンテナコイル422に対して線状にスキャンさせて照射し、フィルム410と一緒に導体パターン420およびアンテナコイル422を移動させることによって短時間(1分以下)で多数配列された導体パターン420およびアンテナコイル422を乾燥させることが可能となる。   The printed conductor pattern 420 and the antenna coil 422 are linearly scanned and irradiated with an energy beam such as a laser beam or a charged particle beam as described above, and the conductor pattern 420 and the antenna coil 422 are moved together with the film 410. By doing so, it is possible to dry the conductor patterns 420 and the antenna coils 422 arranged in a large number in a short time (1 minute or less).

次の工程P30は、電子部品430(10)を搭載する位置に、仮固定剤440をディスペンサ等を用いて塗布面積として電子部品サイズと同じか、少し広くして印刷または塗布する工程である。仮固定液の材質としては、100℃〜130℃で軟化する熱可塑性ホットメルトを用いる。また、ホットメルトに代えて、UV硬化性樹脂等を用いることが可能である。   The next step P30 is a step of printing or applying the temporary fixing agent 440 to a position where the electronic component 430 (10) is to be mounted, using a dispenser or the like so that the application area is equal to or slightly larger than the electronic component size. As a material of the temporary fixing solution, a thermoplastic hot melt that softens at 100 ° C. to 130 ° C. is used. In addition, a UV curable resin or the like can be used instead of hot melt.

次の搭載工程P40は、前述したように分割されて吸着ノズル216に吸着されて搬送されてきた半導体チップ等の電子部品430(10)の端子432を、XYステージ302、303上に搭載された被搭載基板30としてのフィルム回路基板上の導体パターン420の所定の端子部に対して位置決めし、上記電子部品430を導体パターン420上に搭載する工程である。フィルム回路基板410上には、工程P30において仮固定液440が塗布されているため、電子部品430は仮工程液440によってフィルム回路基板410上に固定される。なお
、電子部品430の接続端子432はボールボンディングによって形成されており、それ以外の部分はポリイミドによって絶縁処理が施されている。
In the next mounting step P40, the terminal 432 of the electronic component 430 (10) such as a semiconductor chip, which has been divided and sucked by the suction nozzle 216 and conveyed as described above, is mounted on the XY stages 302 and 303. In this step, the electronic component 430 is positioned on a predetermined terminal portion of the conductor pattern 420 on the film circuit board as the mounting substrate 30 and the electronic component 430 is mounted on the conductor pattern 420. Since the temporary fixing solution 440 is applied on the film circuit board 410 in the process P30, the electronic component 430 is fixed on the film circuit board 410 by the temporary process solution 440. The connection terminals 432 of the electronic component 430 are formed by ball bonding, and the other portions are insulated by polyimide.

次に、加熱・加圧によるラミネート加工および電子部品の同時接続する工程P50について、図28および図29を用いて説明する。図28において、カバーフィルム460は、フィルム410と同一材料で同一厚さのものを使用する。即ち、カバーフィルム460は、透明若しくは白色のPETを用いており、その厚さは、75〜100μm程度のものである。カバーフィルム460の一面には、予め例えば80μm程度の厚さの糊450が積層されている。ここで、糊450の材料としては、ホットメルトを使用している。なお、ホットメルト以外の接着剤を用いてもよい。   Next, a process P50 of simultaneous lamination processing and electronic component connection by heating and pressing will be described with reference to FIGS. 28, a cover film 460 having the same material and the same thickness as the film 410 is used. That is, the cover film 460 is made of transparent or white PET, and has a thickness of about 75 to 100 μm. On one surface of the cover film 460, a glue 450 having a thickness of, for example, about 80 μm is laminated in advance. Here, a hot melt is used as a material of the glue 450. Note that an adhesive other than hot melt may be used.

工程P50は、電子部品430(10)が搭載されたフィルム410と糊450が積層されたカバーフィルム460とが、ホットロール481、482の間に導入され、ホットロール481、482によりフィルム410とカバーフィルム460とをラミネートする工程である。ホットロール481、482は、鋼鉄製のロール用いており、ラミネートと同時に平坦化も行うようにしている。   In step P50, the film 410 on which the electronic component 430 (10) is mounted and the cover film 460 on which the glue 450 is laminated are introduced between the hot rolls 481 and 482, and the hot rolls 481 and 482 are used to cover the film 410 and the cover. This is a step of laminating the film 460. As the hot rolls 481 and 482, steel rolls are used, and flattening is performed simultaneously with lamination.

このとき、図28に示すように、同時に、電子部品430の端子432が仮固定液440に排除しながら導体パターン420に食い込ませて導体同志を接合して電気的に接続する。ここで、ラミネート圧力を、例えば20kgf/cm2程度とし、加熱エネルギーを、例えば130℃とすることにより、フィルム410とカバーフィルム460とのラミネートと同時に電子部品430の端子432と導体パターン420との接続も行うことができる。   At this time, as shown in FIG. 28, at the same time, the terminals 432 of the electronic component 430 are cut into the conductor pattern 420 while being excluded from the temporary fixing solution 440, and the conductors are joined and electrically connected. Here, by setting the laminating pressure to, for example, about 20 kgf / cm 2 and the heating energy to, for example, 130 ° C., the connection between the terminal 432 of the electronic component 430 and the conductor pattern 420 simultaneously with the lamination of the film 410 and the cover film 460. Can also be done.

なお、電子部品430を仮固定する接着剤としてホットメルトのような仮固定液440を用いることにより、例えば異方性導電接着剤を用いる場合に比べて、材料コストが安く、電子部品接続を短時間で行え、電子部品の搭載精度に高精度が要求されない利点がある。また、ラミネートは、ホットロールによる方法の他に、平坦プレスを用いることもできる。   By using a temporary fixing liquid 440 such as hot melt as an adhesive for temporarily fixing the electronic component 430, the material cost is lower and the connection of the electronic component can be shortened, for example, as compared with the case where an anisotropic conductive adhesive is used. This method has an advantage that it can be performed in a short time and high precision is not required for mounting precision of electronic components. In addition, for the lamination, a flat press can be used in addition to the method using a hot roll.

次に、切断工程P60でラミネートされたシートをICカード毎の大きさに切断し、工程P70で両面に絵柄等470、472を印刷し、検査工程P80で通信検査機によりアンテナ422に対して無線により電力を伝送し、無線によりデータを送受信させて電子部品等に対する読み出し、書き込み(R/W)の検査を行い、工程P90で外形を切断することによって、ICカード400が完成されることになる。   Next, the sheet laminated in the cutting step P60 is cut to the size of each IC card, pictures 470 and 472 are printed on both sides in the step P70, and the antenna 422 is wirelessly connected to the antenna 422 by the communication inspection machine in the inspection step P80. The IC card 400 is completed by transmitting power, transmitting and receiving data wirelessly, reading and writing (R / W) the electronic component and the like, and cutting the outer shape in the process P90. .

以上の実施の形態では、導体ペーストをスクリーン印刷して導体パターン420、422を形成する場合について説明したが、導体パターン420、422をエッチング若しくはワイヤにより形成してもよい。この場合、導体パターン420の上には、例えばSn/Bi系の低融点はんだ(融点:100℃〜150℃)や低融点のIn合金層を形成しておく。他方、電子部品430のボールボンディングにより形成された接続端子432の表面にAuめっきを施すことにより、加熱・加圧工程P50によって接続端子432と導体パターン420との間の接合接続を良好にすることが可能となる。当然ボールボンディングがAuの場合には
、Auめっきを施す必要はない。
In the above embodiment, the case where the conductor patterns 420 and 422 are formed by screen-printing the conductor paste has been described. However, the conductor patterns 420 and 422 may be formed by etching or wires. In this case, for example, an Sn / Bi-based low melting point solder (melting point: 100 ° C. to 150 ° C.) or a low melting point In alloy layer is formed on the conductor pattern 420. On the other hand, by applying Au plating to the surface of the connection terminal 432 formed by ball bonding of the electronic component 430, the bonding connection between the connection terminal 432 and the conductor pattern 420 is improved by the heating / pressing process P50. Becomes possible. Of course, when the ball bonding is Au, it is not necessary to apply Au plating.

以上説明したように、薄型のICカード400を高効率で、且つ安価に製造することが可能となる。   As described above, the thin IC card 400 can be manufactured with high efficiency and at low cost.

また、前述した如く、半導体ウエハを貼り付けた粘着テープを金属枠に取り付け、その後半導体チップ群にダイシングし、それをチャックに吸着して上記粘着テープを剥がし、半導体チップをピックアップする場合の実施の形態について説明したが、半導体ウエハに対して加工を施すために半導体ウエハにBGテープとして粘着テープを貼り付けし、加工が終了した時点において、BGテープとしての粘着テープを剥がす場合についても適用することが可能である。
In addition, as described above, an adhesive tape to which a semiconductor wafer is attached is attached to a metal frame, and then diced into a group of semiconductor chips, which is adsorbed on a chuck, the adhesive tape is peeled off, and a semiconductor chip is picked up. Although the embodiment has been described, the present invention is also applicable to a case where an adhesive tape is applied as a BG tape to a semiconductor wafer in order to perform processing on a semiconductor wafer, and the adhesive tape as the BG tape is peeled off when the processing is completed. Is possible.

本発明に係る薄肉の半導体チップを薄肉の半導体ウエハの状態からダイシングして搭載する全体のシステムの実施例を示す概略構成図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an entire system according to the present invention for mounting a thin semiconductor chip by dicing a thin semiconductor wafer from a thin wafer state. 本発明に係る分離機構部に供給されるワークの製造方法について説明するための図である。It is a figure for explaining the manufacturing method of the work supplied to the separation mechanism part concerning the present invention. 本発明に係る薄肉の半導体チップの分離機構部の原理を説明するための図である。It is a figure for explaining the principle of the separation mechanism part of the thin semiconductor chip concerning the present invention. 図3に示す分離機構において、粘着シートに作用する引っ張り力Fによって薄肉の半導体チップの群から剥がす際、半導体チップの粘着面に対する引っ張り力Fの作用方向角度ψと半導体チップに作用する力Fx、Fyとの関係を示す図である。In the separation mechanism shown in FIG. 3, when the semiconductor chip is peeled off from the group of thin semiconductor chips by the tensile force F acting on the adhesive sheet, the acting direction angle ψ of the tensile force F with respect to the adhesive surface of the semiconductor chip, and the force Fx acting on the semiconductor chip, It is a figure showing the relation with Fy. 図3に示す分離機構において、楔状の引き剥がし角度固定治具を用いて粘着シートを半導体チップ群から剥がす状態を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a state in which the adhesive sheet is peeled off from the semiconductor chip group using a wedge-shaped peeling angle fixing jig in the separation mechanism shown in FIG. 3. 楔状の引き剥がし角度固定治具を用いて粘着シートの折れ曲がり部を成形して半導体チップから粘着シートを剥がす状態を拡大して示した図である。It is the figure which expanded and showed the state which formed the bending part of an adhesive sheet using a wedge-shaped peeling angle fixing jig, and peeled an adhesive sheet from a semiconductor chip. 本発明に係る引き剥がし角度固定治具を用いて粘着シートを半導体チップ群から剥がす分離機構部の一実施例を説明するための図である。It is a figure for explaining an example of a separation mechanism part which separates an adhesive sheet from a semiconductor chip group using a peeling angle fixing jig concerning the present invention. 図7に示す分離機構部を側面からみた部分断面図である。FIG. 8 is a partial cross-sectional view of the separating mechanism shown in FIG. 7 when viewed from a side. 分離機構部における様々なチャックの形態を説明するための図である。It is a figure for explaining various forms of a chuck in a separation mechanism part. 図9とは異なるチャックの形態を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a form of a chuck different from FIG. 9. チャックの吸着面に多孔質吸着プレートを用いた場合の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram when a porous suction plate is used for a suction surface of a chuck. 本発明に係る引き剥がし角度固定治具を用いて粘着シートを半導体チップ群から剥がす分離機構部の他の実施例を説明するための図である。It is a figure for explaining other examples of a separation mechanism part which separates an adhesive sheet from a semiconductor chip group using a peeling angle fixing jig concerning the present invention. 図12に示す引き剥がし角度固定治具を後追いするテープ等の形態を説明するための図である。FIG. 13 is a view for explaining a form of a tape or the like following the peeling angle fixing jig shown in FIG. 12. 図12に示す分離機構部における寸法関係を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining a dimensional relationship in the separation mechanism shown in FIG. 12. 本発明に係る分離機構部において粘着テープの剥離角度を最小にする引き剥がし角度固定治具を用いた実施例を説明するための図である。It is a figure for explaining the example using the peeling angle fixing jig which minimizes the peeling angle of the adhesive tape in the separation mechanism unit according to the present invention. 本発明に係る薄肉の半導体チップを薄肉の半導体ウエハの状態からダイシングして搭載する全体のシステムの一実施例における分離機構部を示す構成図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram showing a separation mechanism in an embodiment of an entire system for dicing and mounting a thin semiconductor chip according to the present invention from a thin semiconductor wafer. 本発明に係る薄肉の半導体チップを薄肉の半導体ウエハの状態からダイシングして搭載する全体のシステムの一実施例における分離コンベア部および搭載機構部を示す構成図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram showing a separation conveyor unit and a mounting mechanism in one embodiment of an entire system for dicing and mounting a thin semiconductor chip according to the present invention from a thin semiconductor wafer. 被搭載基板等に搭載する際、半導体チップ側の基準となる吸着ノズルを基準にして半導体チップに形成された電極の位置を算出するための説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram for calculating the position of an electrode formed on a semiconductor chip with reference to a suction nozzle serving as a reference on the semiconductor chip side when the semiconductor chip is mounted on a mounting substrate or the like. 本発明に係るワークにおいて半導体ウエハに設定された座標系で不良の半導体チップを示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a semiconductor chip that is defective in a coordinate system set on a semiconductor wafer in a work according to the present invention. 本発明に係る分離機構部を縦型にした場合の実施例を示す概略構成図である。It is a schematic structure figure showing an example when a separation mechanism part concerning the present invention is made into a vertical type. 吸着コレットを様々な形態にした場合の搭載までの概念を示す図である。It is a figure which shows the concept until mounting when the suction collet is made into various forms. 分離機構部のチャック上において半導体チップ配列を反転させ、しかもトレイと同じ役目をすることができるようにした実施例を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining an embodiment in which the semiconductor chip arrangement is inverted on the chuck of the separation mechanism unit and can perform the same function as the tray. 分離機構部のチャック上においてトレイと同じ役目をすることができるようにした他の実施例を説明するための図である。FIG. 11 is a view for explaining another embodiment in which the same function as a tray can be performed on the chuck of the separation mechanism. 本発明に係るICカードを示す平面図である。It is a top view showing the IC card concerning the present invention. 図24のA−B−C−D断面図である。FIG. 25 is a sectional view taken along the line ABCD of FIG. 24. 図25の要部拡大断面図である。FIG. 26 is an enlarged sectional view of a main part of FIG. 25. 本発明に係るICカードの製造工程を示す図である。It is a figure showing the manufacturing process of the IC card concerning the present invention. ラミネート(加熱・加圧)、電子部品同時接続工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a lamination (heating and pressurization) and an electronic component simultaneous connection process. ラミネート(加熱・加圧)、電子部品同時接続工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a lamination (heating and pressurization) and an electronic component simultaneous connection process. 真空源の真空圧を自在に変えて、半導体チップの種類(材質)によって、チャックのチャック力を可変にする実施例を示す構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram showing an embodiment in which the vacuum pressure of the vacuum source is freely changed to change the chucking force of the chuck according to the type (material) of the semiconductor chip. 金属枠に張付けられた(装着された)粘着シートに粘着され、ダイシングされた半導体チップの群を模式的に示した図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a group of diced semiconductor chips adhered to an adhesive sheet attached (mounted) to a metal frame. 半導体チップの群を位置決めする位置決め機構を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing a positioning mechanism for positioning a group of semiconductor chips. 図3に示す分離機構部(分離手段)の原理における第1の実施例を示した図である。FIG. 4 is a view showing a first embodiment based on the principle of the separation mechanism (separation means) shown in FIG. 3. 図3に示す分離機構部(分離手段)の原理における第2の実施例を示した図である。FIG. 4 is a view showing a second embodiment based on the principle of the separating mechanism (separating means) shown in FIG. 3. 図3に示す分離機構部(分離手段)の原理における第3の実施例を示した図である。FIG. 4 is a view showing a third embodiment based on the principle of the separation mechanism (separation means) shown in FIG. 3. 図3に示す分離機構部(分離手段)の原理における第4の実施例を示した図である。FIG. 14 is a view showing a fourth embodiment based on the principle of the separation mechanism (separation means) shown in FIG. 3. チャック上に残った不良品チップや切れ端などのゴミを除去する除去手段の実施例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of a removing unit for removing dust such as defective chips and chips left on the chuck. 切れ端などのゴミや異物を粘着テープから分離して回収する実施例を示す図である。It is a figure showing an example which collects dirt and foreign substances, such as a piece, from an adhesive tape.

符号の説明Explanation of reference numerals

2…トレイ、10…半導体チップ(半導体素子)、20…列状の半導体チップ
群、40…半導体ウエハ、50…粘着シート、55…金属枠(キャリアリング)
、60…ワーク、100…分離機構部(分離手段)、101、101a〜101
e…吸着コレット、102…駆動源、103…支持部材、105…移動ブロック
、108…駆動源、150、150a〜150d…チャック、152…溝、155…カッタ、156…多孔質吸着プレート、156’…仕切られた多孔質吸着プレート、157…真空吸着穴、160…クランプ手段、165…引き剥がし角度固定治具、167…押さえ付け手段、168…押圧手段、191…リール、192…テープ、192’…弱い粘着力を有するテープ、194…プッシャ、195…押圧手段、213…送り機構、120…吸着コレット部、200…分離コンベア部(搬送手段)、201…コンベア、202、203…センサ、208…ノズ
ル付回転部材、209…撮像手段、210…移動部、211、214…駆動源、215…ブロック、216…吸着ノズル、250…移し替え機構、300…搭載機構部(搭載手段)、302、303…XYステージ、304、305…駆動源
、306…撮像手段、320…位置決め機構、322、322a、322b…基準位置決めピン、323…プッシャ、330…検出装置、350…X−Y−Θステージ、351…撮像手段、371…導電ブラシ、373…排出容器、376…静電気防止用エアー(例えばイオンブロー)、381…吸引口、382…ブレー
ド状のはけ、400…ICカード、410…フィルム、420…導体パターン、422…アンテナコイル、430…電子部品(半導体チップ)、432…接続端
子、440…仮工程液(ホットメルト)、450…糊(ホットメルト)、460
…カバーフィルム。
Reference numeral 2: tray, 10: semiconductor chip (semiconductor element), 20: row of semiconductor chips, 40: semiconductor wafer, 50: adhesive sheet, 55: metal frame (carrier ring)
, 60... Work, 100... Separation mechanism (separation means), 101, 101 a to 101
e: suction collet, 102: drive source, 103: support member, 105: moving block, 108: drive source, 150, 150a to 150d: chuck, 152: groove, 155 ... cutter, 156: porous suction plate, 156 ' ... Partitioned porous suction plate, 157 ... Vacuum suction hole, 160 ... Clamp means, 165 ... Peel angle fixing jig, 167 ... Pressing means, 168 ... Pressing means, 191 ... Reel, 192 ... Tape, 192 ' .., Tape 195, pressing means, 213, feeding mechanism, 120, suction collet section, 200, separation conveyor section (transporting means), 201, conveyor, 202, 203, sensor, 208, Rotating member with nozzle, 209 imaging unit, 210 moving unit, 211, 214 driving source, 215 block, 2 6 suction nozzle, 250 transfer mechanism, 300 mounting mechanism (mounting means), 302, 303 XY stage, 304, 305 driving source, 306 imaging means, 320 positioning mechanism, 322, 322a, 322b ... Reference positioning pin, 323 ... Pusher, 330 ... Detector, 350 ... XY-− stage, 351 ... Imaging means, 371 ... Conductive brush, 373 ... Discharge container, 376 ... Electrostatic air (for example, ion blow), 381: suction port, 382: blade-shaped brush, 400: IC card, 410: film, 420: conductor pattern, 422: antenna coil, 430: electronic component (semiconductor chip), 432: connection terminal, 440: temporary process Liquid (hot melt), 450 paste (hot melt), 460
... cover film.

Claims (27)

粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす分離工程と、
該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップしてトレイに収納するトレイ収納工程とを有することを特徴とする半導体素子の分離方法。
A separation step in which the semiconductor element group is held on a chuck, and the adhesive sheet is peeled off from the held semiconductor element group, which is attached to the adhesive sheet in a state of a semiconductor wafer, and is cut into semiconductor elements.
A semiconductor element group picked up in a desired unit from a semiconductor element group held by a chuck after the adhesive sheet is peeled off in the separation step, and a tray storing step of storing the semiconductor elements in a tray.
枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを上記保持された半導体素子群から剥がす分離工程と、
該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップしてトレイに収納するトレイ収納工程とを有することを特徴とする半導体素子の分離方法。
A semiconductor wafer is affixed in the form of a semiconductor wafer to an adhesive sheet having its periphery fixed to the frame, the object cut in units of semiconductor elements is positioned, and the semiconductor element group is held on a chuck, and the adhesive around the held semiconductor element group is held. A separation step of cutting the sheet and peeling the cut adhesive sheet from the semiconductor element group held above,
A semiconductor element group picked up in a desired unit from a semiconductor element group held by a chuck after the adhesive sheet is peeled off in the separation step, and a tray storing step of storing the semiconductor elements in a tray.
粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす分離工程と、
該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ工程とを有することを特徴とする半導体素子の分離方法。
A separation step in which the semiconductor element group is held on a chuck, and the adhesive sheet is peeled off from the held semiconductor element group, which is attached to the adhesive sheet in a state of a semiconductor wafer, and is cut into semiconductor elements.
A pickup step of independently picking up semiconductor elements from a group of semiconductor elements held by a chuck after the adhesive sheet has been peeled off in the separation step.
枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを上記保持された半導体素子群から剥がす分離工程と、
該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ工程とを有することを特徴とする半導体素子の分離方法。
A semiconductor wafer is affixed in the form of a semiconductor wafer to an adhesive sheet having its periphery fixed to the frame, the object cut in units of semiconductor elements is positioned, and the semiconductor element group is held on a chuck, and the adhesive around the held semiconductor element group is held. A separation step of cutting the sheet and peeling the cut adhesive sheet from the semiconductor element group held above,
A pickup step of independently picking up semiconductor elements from a group of semiconductor elements held by a chuck after the adhesive sheet has been peeled off in the separation step.
請求項3または4記載の半導体素子の分離方法において、分離工程とピックアップ工程とを並行することを特徴とする半導体素子の分離方法。   5. The method according to claim 3, wherein the separation step and the pickup step are performed in parallel. 枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を、チャックに保持される粘着性を有する仮固定用シート上に粘着させて保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを半導体素子群から剥がすことによって各半導体素子をピックアップ可能に半導体素子群を仮固定用シート上に粘着させたものを得ることを特徴とする半導体素子の分離方法。   A semiconductor wafer is stuck on a pressure-sensitive adhesive sheet whose periphery is fixed to the frame in the state of a semiconductor wafer, and the object cut in units of semiconductor elements is positioned, and the semiconductor element group is placed on an adhesive temporary fixing sheet held by a chuck. For holding the semiconductor element group temporarily, so that each semiconductor element can be picked up by cutting the adhesive sheet around the held semiconductor element group and peeling the cut adhesive sheet from the semiconductor element group. A method for separating a semiconductor element, comprising obtaining a substance adhered on a sheet. 枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを上記保持された半導体素子群から剥がしながら、半導体素子群の上記粘着シートが貼付られていた側に、各半導体素子をピックアップ可能に粘着性を有する仮固定用シートを粘着させることを特徴とする半導体素子の分離方法。   A semiconductor wafer is affixed in the form of a semiconductor wafer to an adhesive sheet having its periphery fixed to the frame, the object cut in units of semiconductor elements is positioned, and the semiconductor element group is held on a chuck, and the adhesive around the held semiconductor element group is held. While the sheet is cut and the cut adhesive sheet is peeled off from the held semiconductor element group, a temporary adhesive sheet is provided on the side of the semiconductor element group where the adhesive sheet is attached so that each semiconductor element can be picked up. A method for separating a semiconductor element, comprising: adhering a fixing sheet. 粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群を保持するチャック手段と該チャック手段によって保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす剥離手段とを有する分離手段と、
該分離手段の剥離手段により粘着シートが剥がされて上記チャック手段により保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップしてトレイに収納するトレイ収納手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。
Chucking means for holding a semiconductor element group and peeling off the adhesive sheet from the semiconductor element group held by the chucking means for an object which is affixed in the form of a semiconductor wafer to an adhesive sheet and cut into semiconductor element units; Separation means having means;
A tray accommodating means for picking up semiconductor elements in a desired unit from a semiconductor element group held by the chuck means and for accommodating the semiconductor elements in a tray, wherein the adhesive sheet is peeled off by the peeling means of the separating means; Semiconductor device separation device.
枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を保持するチャック手段と該チャック手段により保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断する切断手段と該切断手段で切断された粘着シートを上記チャック手段により保持された半導体素子群から剥がす剥離手段とを有する分離手段と、
該分離手段の剥離手段により粘着シートが剥がされて上記チャック手段により保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップしてトレイに収納するトレイ収納手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。
A chuck means for holding a semiconductor element group by positioning an object cut in a semiconductor element unit and holding the semiconductor element group, which is affixed in a state of a semiconductor wafer to an adhesive sheet having a periphery fixed to a frame, and a semiconductor element group held by the chuck means; Separating means having a cutting means for cutting the surrounding adhesive sheet and a peeling means for peeling the adhesive sheet cut by the cutting means from the semiconductor element group held by the chuck means,
A tray accommodating means for picking up semiconductor elements in a desired unit from a semiconductor element group held by the chuck means and for accommodating the semiconductor elements in a tray, wherein the adhesive sheet is peeled off by the peeling means of the separating means; Semiconductor device separation device.
粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群を保持するチャック手段と該チャック手段により保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす剥離手段とを有する分離手段と、
該分離手段の剥離手段により粘着シートが剥がされて上記チャック手段により保持された半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。
Chucking means for holding a semiconductor element group and peeling off the adhesive sheet from the semiconductor element group held by the chucking means for an object which is affixed to an adhesive sheet in the state of a semiconductor wafer and cut in units of semiconductor elements; Separation means having means;
A semiconductor device separating apparatus, comprising: a pick-up means for independently picking up semiconductor elements from the semiconductor element group held by the chuck means, wherein the adhesive sheet is peeled off by the peeling means of the separating means.
枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を保持するチャック手段と該チャック手段により保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断する切断手段と切断手段により切断された粘着シートを上記チャック手段により保持された半導体素子群から剥がす剥離手段とを有する分離手段と、
該分離手段の剥離手段により粘着シートが剥がされて上記チャック手段により保持された半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。
A chuck means for holding a semiconductor element group by positioning an object cut in a semiconductor element unit and holding the semiconductor element group, which is affixed in a state of a semiconductor wafer to an adhesive sheet having a periphery fixed to a frame, and a semiconductor element group held by the chuck means; Separating means having a cutting means for cutting the surrounding adhesive sheet and a peeling means for peeling the adhesive sheet cut by the cutting means from the semiconductor element group held by the chuck means,
A semiconductor device separating apparatus, comprising: a pick-up means for independently picking up semiconductor elements from the semiconductor element group held by the chuck means, wherein the adhesive sheet is peeled off by the peeling means of the separating means.
請求項10または11記載の半導体素子の分離装置において、分離手段による半導体素子群からの粘着シートの剥がしとピックアップ手段による半導体素子のピックアップとを並行できるようにチャック手段を回動できるように構成したことを特徴する半導体素子の分離装置。   12. The semiconductor device separating apparatus according to claim 10, wherein the chuck means can be rotated so that peeling of the adhesive sheet from the semiconductor element group by the separating means and pickup of the semiconductor element by the pickup means can be performed in parallel. An apparatus for separating a semiconductor element, comprising: 請求項8または9または10または11または12記載の半導体素子の分離装置における分離手段において、対象物の半導体素子群の外観を検出する外観検出手段を有することを特徴とする半導体素子の分離装置。   13. The separation device of the semiconductor device separation device according to claim 8, further comprising an appearance detection unit that detects an appearance of a semiconductor element group of an object. 請求項8または9または10または11または12記載の半導体素子の分離装置における分離手段において、対象物の半導体素子群がチャック手段に保持された状態を基準にして、半導体素子群における半導体素子の番地を検知する検知手段を有することを特徴とする半導体素子の分離装置。   13. The separating means in the apparatus for separating a semiconductor element according to claim 8, 9 or 10, or 11 or 12, wherein addresses of the semiconductor elements in the semiconductor element group are based on a state in which the semiconductor element group of the object is held by the chuck means. An apparatus for separating a semiconductor device, comprising: a detecting means for detecting a pressure. 請求項8または9または10または11または12記載の半導体素子の分離装置において、更に、ピックアップ手段でピックアップされた後、チャック手段のチャック面に残されたゴミを除去する除去手段を備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。   13. The apparatus for separating a semiconductor device according to claim 8, further comprising removing means for removing dust left on the chuck surface of the chuck means after being picked up by the pick-up means. A semiconductor device separation device. 枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を粘着性を有する仮固定用シート上に粘着させて該仮固定用シートを保持するチャック手段と、
該チャック手段に仮固定用シートを介して保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断する切断手段と、
該切断手段により切断された粘着シートを上記チャック手段に仮固定用シートを介して保持された半導体素子群から剥がすことによって各半導体素子をピックアップ可能に半導体素子群を仮固定用シート上に粘着させたものを得る剥離手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。
A semiconductor wafer is stuck on a pressure-sensitive adhesive sheet whose periphery is fixed to the frame, and the object cut in units of semiconductor elements is positioned, and the semiconductor element group is adhered to a temporary fixing sheet having adhesiveness, thereby temporarily fixing the semiconductor element group. Chuck means for holding a sheet for use,
Cutting means for cutting the adhesive sheet around the semiconductor element group held via the temporary fixing sheet to the chuck means,
By peeling the adhesive sheet cut by the cutting means from the semiconductor element group held by the chuck means via the temporary fixing sheet, each semiconductor element can be picked up so that each semiconductor element can be picked up on the temporary fixing sheet. A separating device for a semiconductor element, comprising: a separating means for obtaining a semiconductor device.
枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群を保持するチャック手段と、
該チャック手段で保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断する切断手段と、
該切断手段により切断された粘着シートを上記チャック手段により保持された半導体素子群から剥がす剥離手段と、
該剥離手段により粘着シートを剥がした半導体素子群の上記粘着シートが貼付られていた側に、各半導体素子をピックアップ可能に粘着性を有する仮固定用シートを粘着させる粘着手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。
Chuck means which is attached in a state of a semiconductor wafer to an adhesive sheet having its periphery fixed to a frame, and which holds a semiconductor element group by positioning an object cut in units of semiconductor elements,
Cutting means for cutting the adhesive sheet around the semiconductor element group held by the chuck means,
Peeling means for peeling the adhesive sheet cut by the cutting means from the semiconductor element group held by the chuck means,
On the side of the semiconductor element group from which the adhesive sheet was peeled off by the peeling means, on the side where the adhesive sheet was stuck, an adhesive means for adhering a temporary fixing sheet having adhesiveness so that each semiconductor element could be picked up was provided. A semiconductor device separation device.
粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群を保持するチャック手段と、
該チャック手段により半導体素子群を保持した状態で、上記粘着シートの端を保持して粘着シートを所定の方向に引っ張る引張機構と、
該引張機構で粘着シートを引っ張る際、上記粘着シートを押さえながら所定の方向に移動して上記粘着シートを半導体素子群から剥がす成形手段とを備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。
Attached to the pressure-sensitive adhesive sheet in the state of a semiconductor wafer, for an object cut in units of semiconductor elements, chuck means for holding a semiconductor element group,
In a state where the semiconductor element group is held by the chuck means, a tension mechanism that holds the edge of the adhesive sheet and pulls the adhesive sheet in a predetermined direction,
A semiconductor device separating apparatus, comprising: a molding means for moving the adhesive sheet in a predetermined direction while pressing the adhesive sheet and peeling the adhesive sheet from the semiconductor element group when the adhesive sheet is pulled by the tension mechanism.
請求項18記載の半導体素子の分離装置において、更に、粘着シートが剥がされた状態の半導体素子群から半導体素子を各々独立的にピックアップするピックアップ手段を備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。   19. The apparatus for separating a semiconductor element according to claim 18, further comprising a pickup unit for independently picking up the semiconductor elements from the semiconductor element group in a state where the adhesive sheet has been peeled off. . 請求項18または19記載の半導体素子の分離装置において、更に、粘着シートを半導体素子群から剥がす際、チャック手段による半導体素子群の保持力が低下するのを低減する手段を備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。   20. The apparatus for separating a semiconductor element according to claim 18 or 19, further comprising means for reducing a decrease in holding force of the semiconductor element group by the chuck means when the adhesive sheet is peeled from the semiconductor element group. Semiconductor device separation device. 請求項8または9または10記載の剥離手段を、粘着シートの端を保持して粘着シートを引っ張る引張手段と、該引張手段で粘着シートを引っ張る際、粘着シートを押さえつつ粘着シートの折れ曲げ形状を成形させる成形機構とを少なくとも粘着シートの面に沿った方向に移動するように構成したことを特徴とする半導体素子の分離装置。   A tensioning means for holding the edge of the pressure-sensitive adhesive sheet and pulling the pressure-sensitive adhesive sheet, and a bending shape of the pressure-sensitive adhesive sheet while holding down the pressure-sensitive adhesive sheet when the pressure-sensitive adhesive sheet is pulled by the tensioning means. And a molding mechanism configured to move at least a direction along a surface of the pressure-sensitive adhesive sheet. 請求項21記載の半導体素子の分離装置において、更に、粘着シートを半導体素子群から剥がす際、チャック手段による半導体素子群の保持力が低下するのを低減する手段を備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。   22. The semiconductor device separating apparatus according to claim 21, further comprising means for reducing a decrease in holding force of the semiconductor element group by the chuck means when the adhesive sheet is peeled from the semiconductor element group. Device separation device. 請求項18または19記載の半導体素子の分離装置において、対象物の半導体素子群の外観を検出する外観検出手段を備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。   20. The apparatus for separating semiconductor elements according to claim 18 or 19, further comprising appearance detection means for detecting the appearance of the semiconductor element group of the object. 請求項18または19記載の半導体素子の分離装置において、対象物の半導体素子群がチャック手段に保持された状態を基準にして、半導体素子群における半導体素子の番地を検知する検知手段を備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。   20. The apparatus for separating a semiconductor element according to claim 18 or 19, further comprising a detection unit configured to detect an address of the semiconductor element in the semiconductor element group based on a state in which the semiconductor element group of the object is held by the chuck unit. An apparatus for separating a semiconductor element, comprising: 請求項18または19記載の半導体素子の分離装置において、更に、ピックアップ手段でピックアップされた後、チャック手段のチャック面に残されたゴミを除去する除去手段を備えたことを特徴とする半導体素子の分離装置。   20. The apparatus for separating a semiconductor device according to claim 18, further comprising removing means for removing dust remaining on the chuck surface of the chuck means after being picked up by the pickup means. Separation device. 粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物に対して、半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群から上記粘着シートを剥がす分離工程と、
該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップして搭載位置へ搬送する搬送工程と、
該搬送工程によって搬送されてきた半導体素子をトレイ上または被搭載基板上に搭載する搭載工程とを有することを特徴とする半導体素子の搭載方法。
A separation step in which the semiconductor element group is held on a chuck, and the adhesive sheet is peeled off from the held semiconductor element group, which is attached to the adhesive sheet in a state of a semiconductor wafer, and is cut into semiconductor elements.
A transporting step of picking up semiconductor elements in a desired unit from the semiconductor element group held by the chuck in which the adhesive sheet is peeled off in the separation step and transporting the semiconductor elements to a mounting position;
Mounting the semiconductor element transported in the transporting step on a tray or a substrate to be mounted.
枠に周囲を固定した粘着シートに半導体ウエハの状態で貼付けられ、半導体素子単位に切断された対象物を位置決めして半導体素子群をチャックに保持し、この保持された半導体素子群の周囲の粘着シートを切断し、この切断された粘着シートを上記保持された半導体素子群から剥がす分離工程と、
該分離工程で粘着シートが剥がされてチャックに保持された半導体素子群から半導体素子を所望の単位でピックアップして搭載位置へ搬送する搬送工程と、
該搬送工程によって搬送されてきた半導体素子をトレイ上または被搭載基板上に搭載する搭載工程とを有することを特徴とする半導体素子の搭載方法。
A semiconductor wafer is affixed in the form of a semiconductor wafer to an adhesive sheet having its periphery fixed to the frame, the object cut in units of semiconductor elements is positioned, and the semiconductor element group is held on a chuck, and the adhesive around the held semiconductor element group is held. A separation step of cutting the sheet and peeling the cut adhesive sheet from the semiconductor element group held above,
A transporting step of picking up semiconductor elements in a desired unit from the semiconductor element group held by the chuck in which the adhesive sheet is peeled off in the separation step and transporting the semiconductor elements to a mounting position;
Mounting the semiconductor element transported in the transporting step on a tray or a substrate to be mounted.
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