JP2004126054A - Display element and its manufacturing method - Google Patents

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Hiroko Kitsu
岐 津 裕 子
Masao Tanaka
田 中 雅 男
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light weight, high performance and high resolution display element and to provide a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: The display device is provided with a first substrate 10 in which a resin substrate 12 and a first glass substrate 11 are stuck to each other via an adhesive layer and which has a first display region where elements are formed on the first glass substrate, a signal connection part 15 formed at the external part of the display region and wiring 14 connecting the signal connection part to the elements; a second substrate 20 wherein a resin substrate 22 and a second glass substrate 21 are stuck to each other via an adhesive layer, which has a second display region and is held leaving a prescribed interval between the second substrate and the first substrate so that the first display region and the second display region are opposed to and superposed on each other between the inner sides of the first and the second glass substrates and whose end surface is positioned above the wiring; and a material film 18 consisting of a material which cuts off light-shielding a laser beam in the UV region and provided at the position on the wiring of the first substrate corresponding to the end surface 25 of the second substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は表示素子およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
今日、液晶ディスプレイ(以下、LCDとも云う)や有機ELディスプレイ(以下、OLEDとも云う)は、ノート型パソコンやテレビ、携帯電話や携帯情報端末(以下、PDAとも云う)などのモバイル情報機器の表示端末として広く用いられている。しかし、現在用いられているLCDやOLEDの大部分は厚さが0.7mm程度のガラス基板上に形成されている。このため、LCDやOLEDを含めた表示素子への要求として、更なる薄型化や、軽量化が求められている。
これらの要求を満たすため、厚さの薄いガラスや、熱硬化性樹脂、紫外線(以下、UVとも云う)硬化性樹脂、熱可塑性樹脂など、ガラスより比重の小さいプラスチック材料などの材料がLCDやOLEDの基板として用いられている。例えば、非特許文献1には、アモルファスシリコンからなる薄膜トランジスタ(以下、TFTとも云う)をプラスチック基板上に形成したLCDが開示されている。
【0003】
【非特許文献1】
SID INTERNATOINAL SYMPOSIUM DIGEST OF TECHNICAL PAPERS, Vol. XXXIII, Number II, 2002,p802−805.
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、熱可塑性樹脂は耐熱温度が200℃以下であるものが多く、アモルファスシリコンや、ポリシリコンを用いた薄膜トランジスタ(以下、TFTとも云う)の製造に必要な350℃〜600℃のプロセスには耐えられない。このため、製造されたTFTの移動度が低く、高性能のTFTを得ることができない。また、プラスチック基板は伸び縮みするので高精細にできない。したがって、熱可塑性樹脂からなる基板上に高性能で精細度の高いTFTを含むアクティブマトリクス型のアレイ基板を形成することは非常に困難である。
【0005】
本発明は、上記事情を考慮してなされたものであって、軽量でかつ高性能で精細度の高い表示素子およびその製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の態様による表示素子は、樹脂基板と第1のガラス基板とを接着層を介して接着され、前記第1のガラス基板に素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、樹脂基板と第2のガラス基板とを接着層を介して接着され、第2の表示領域を有し、前記第1のガラス基板及び前記第2のガラス基板を内側として前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、端面が前記配線上に位置する第2の基板と、前記第2の基板の前記端面に対応する、前記第1の基板の前記配線上の位置に設けられた紫外領域のレーザー光を遮光する材料からなる材料膜とを備えたことを特徴とする。
【0007】
なお、前記材料膜は、前記第1の基板側に絶縁層を介して形成された前記紫外領域のレーザー光を遮光する遮光層を備えていても良い。
【0008】
なお、前記材料膜は、前記第2の基板側に絶縁層を介して形成された前記紫外領域のレーザー光を遮光する遮光層を備えても良い。
【0009】
なお、前記材料膜は、前記第1の基板の前記配線上の位置から前記第2の基板の前記端面に達するように形成された紫外領域のレーザー光を遮光する材料からなるスペーサであっても良い。
【0010】
また、本発明の第2の態様による表示素子の製造方法は、素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板と、前記第2の基板の切断線に対応する、前記第1の基板の前記配線上の位置に形成された紫外領域のレーザー光を遮光する遮光層とを備え、前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、前記パネルの前記第2の基板に前記切断線に沿って紫外領域のレーザー光を照射し、切断することを特徴とする。
【0011】
また、本発明の第3の態様による表示素子の製造方法は、素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板と、前記第2の基板の前記切断線の一部の近傍に形成された紫外領域のレーザー光を遮光する遮光層とを備え、前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、前記パネルの前記第2の基板に前記切断線に沿って紫外領域のレーザー光を照射し、切断することを特徴とする。
【0012】
また、本発明の第4の態様による表示素子の製造方法は、素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板と、前記第2の基板の前記切断線に対応する、前記第1の基板の前記配線上の位置に前記切断線に達するように形成された紫外領域のレーザー光を吸収する材料からなるスペーサとを備え、前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、前記パネルの前記第2の基板に前記切断線に沿って紫外領域のレーザー光を照射し、切断することを特徴とする。
【0013】
また、本発明の第5の態様による表示素子の製造方法は、素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板とを備え、前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、前記パネルを、紫外領域のレーザー光を吸収する液体に浸し、前記パネルの前記第2の基板に前記切断線に沿って紫外領域のレーザー光を照射し、切断することを特徴とする。
【0014】
また、本発明の第6の態様による表示素子の製造方法は、素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板とを備え、前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、前記パネルの前記第2の基板に紫外領域のレーザー光を前記切断線に沿って照射して切断する際に、前記切断線の少なくとも一部上では、前記配線の間にのみ紫外領域のレーザー光を照射することを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を以下に図面を参照して詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
【0016】
まず、本発明の各実施形態の前提となる表示素子を説明する。
【0017】
表示素子を軽量化するために、薄いガラスと薄いプラスチックの積層基板を用いることが考えられる。この積層基板を用いるとTFTの特性を低下させずに軽く、曲げが可能なLCDを得ることができると予想される。そして、この場合、積層基板を用いるのは、アレイ基板ばかりでなく、対向基板も積層基板を用いる。これは、積層基板を用いないと、そりが生じるためである。
【0018】
薄いガラスと薄いプラスチックからなる積層基板を、アレイ基板および対向基板に用いた場合、配線部分を出すために、機械的に切断すると、切断面が滑らかでないことから、クラックなどが伸展し易い。このため、削りかすが出て液晶を封入する際にこの削りかす液晶に混入する可能性がある。
【0019】
このため、基板が吸収する波長領域のレーザー光を用いて所定の寸法に切り出すことが考えられる。ガラスやプラスチックの場合、紫外領域で光を吸収するので、波長が紫外線領域のレーザー光を用いて加工することが可能となっている。
【0020】
なお、ここでいうレーザー光の波長とは、レーザー光の発振波長の他に、入射レーザー光が光学変換素子により変換された後の波長も含めており、例えばYAGレーザー(発振波長:1.064μm)の3次高調波(波長:355nm)や4次高調波(波長:266nm)も、波長が紫外線領域のレーザー光に含まれているものとする。なお、ガラスとプラスチックからなる積層基板を赤外レーザーを用いて切断すると、赤外レーザーは、加熱溶断するので温度が上がり、ガラスとプラスチックの膨張率が異なることから、ガラスに熱応力が印加されて割れが生じるという問題がある。紫外領域のレーザー(以下、UVレーザーとも云う)は、分子間の結合を切断する分子破壊であるので、これが用いられる。
【0021】
厚さが薄い熱可塑性樹脂基板とガラス基板を重ね合わせた基板を用いたアクティブマトリクス型液晶表示素子の液晶パネルを、波長が紫外線領域のレーザー光を用いて所定の形状に切断する方法について、図19乃至図22を参照して説明する。図19はアレイ基板10と、対向基板20を重ね合わせた液晶パネルの断面図を示し、図20は図19に示す切断線A−Aで切断したときの断面図を示す。この液晶パネルは、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板11と熱可塑性樹脂基板12が接着されたアレイ基板10と、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板21と熱可塑性樹脂基板22が接着された対向基板20とを備えている。これらのアレイ基板10および対向基板20は、ガラス基板11、21の面が対向して配置され、かつスペーサ31によって所定の間隔を保持するように形成された構造となっている。アレイ基板10を構成するガラス基板11の表示領域上には、複数の走査線(図示せず)と、これらの複数の走査線に交差する複数の信号線(図示せず)と、走査線と信号線との交差点に設けられた画素電極(図示せず)と、画素電極に対応して設けられて対応する走査線によって開閉動作し一端が対応する信号線に接続され他端が対応する画素電極に接続されるTFT(図示せず)とが形成されている。また、アレイ基板10上の表示領域より外側には、信号接続部15が形成されており、これらの信号接続部15は配線14を介して上記信号線および走査線と接続されている。
【0022】
一方、対向基板20を構成するガラス基板21の、上記表示領域に対応する領域には、ITO(Indium−Tin Oxide) からなる対向電極が設けられている。そして、アレイ基板10と対向基板20との間の上記表示領域には液晶35が挟持されている。この液晶35は上記表示領域の周囲に塗布されたシール材32によって封止されている。
【0023】
アレイ基板10、対向基板20のそれぞれに対し、樹脂基板12、22側から波長240nm〜270nmの紫外線領域のレーザー光50を照射すると、樹脂基板12、22およびガラス基板11、21とも上記波長領域で光を吸収するため、基板10、20を切断することができる。図19に示すように、アレイ基板10は表示領域の外側でかつ信号接続部15の領域の外側を切断線40に沿って切断すれば良く、対向基板20は表示領域の外側を、信号接続部15の領域を含まないように切断線41に沿って切断すれば良い。切断線40、41に沿って基板10、20を切断すると、図21、22に示すアクティブマトリクス型液晶表示素子を得ることができる。
【0024】
上記のような切断方法により基板を加工した場合、信号接続部15を含まない辺に対してはアレイ基板10と対向基板20を同じ位置で切断すれば良いが、信号接続部15を含む辺に対しては、アレイ基板10の方を対向基板20より外側で切断することになる。対向基板20を切断する際に、レーザー光50が対向基板20の熱可塑性樹脂基板およびガラス基板で十分吸収されない場合には、レーザー光50は対向基板20を通り抜け、アレイ基板10上まで到達するため、アレイ基板10上に形成された配線部にダメージを与え、配線14が断線し、映像信号を表示できなくなるという問題が生じる。
【0025】
また、上述のような薄いガラスや樹脂からなる基板を用いた場合、基板の剛性が十分でないため、平坦度を保つことが難しくなる。例えばLCDにおいては2枚の基板をある一定の間隔で重ね合わせて保持しておく必要があり、その間隔は約5μmと非常に狭いため、表示領域内ではスペーサ31により、表示領域外ではシール材32によりその間隔を精度よく保っている。
【0026】
剛性が小さい基板は反りやすく、特に信号接続部15の近傍には幅や間隔の小さい配線が密集しているため、図23に示すように対向基板20が反ってアレイ基板10上の配線14をこすり、配線14のオープンやショートが発生しやすい、という問題が生じる。
【0027】
そこで、本発明の各実施形態においては、配線が断線またはショートするのを防止することのできる表示素子およびその製造方法について説明する。
【0028】
(第1実施形態)
本発明の第1の実施形態による液晶表示素子を図1および図2を参照して説明する。図1は、本実施形態による液晶表示素子の構成を示す断面図であり、図2は、図1に示す切断線A−Aで切断したときの断面図である。
【0029】
本実施形態による液晶表示素子は、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板11と熱可塑性樹脂基板12が接着されたアレイ基板10と、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板21と熱可塑性樹脂基板22が接着された対向基板20とを備えている。これらのアレイ基板10および対向基板20は、ガラス基板11、21の面が対向して配置され、かつスペーサ31によって所定の間隔を保持するように形成された構造となっている。アレイ基板10を構成するガラス基板11の表示領域上には、複数の走査線(図示せず)と、これらの複数の走査線に交差する複数の信号線(図示せず)と、走査線と信号線との交差点に設けられた画素電極(図示せず)と、画素電極に対応して設けられて対応する走査線によって開閉動作し一端が対応する信号線に接続され他端が対応する画素電極に接続されるTFT(図示せず)とが形成されている。また、ガラス基板11上の表示領域より外側には、信号接続部15が形成されており、これらの信号接続部15は配線14を介して上記信号線および走査線と接続されている。そして、対向基板20の切断された端面25に対応する、各配線14の領域上には、絶縁層17と金属遮光層18からなる積層膜が設けられた構成となっている。
【0030】
一方、対向基板20を構成するガラス基板21の、上記表示領域に対応する領域には、ITO(Indium−Tin Oxide) からなる対向電極が設けられている。そして、アレイ基板10と対向基板20との間の上記表示領域には液晶35が挟持されている。この液晶35は上記表示領域の周囲に塗布されたシール材32によって封止されている。
【0031】
次に、本実施形態による液晶表示素子の製造方法を、図3および図4を参照して説明する。
【0032】
上記液晶表示素子は、必要なサイズより大きいサイズのアレイ基板10および対向基板20上にパターン形成などを行った後、切断線40、41に沿ってレーザー光を照射することで液晶表示素子として必要な外形寸法に切り出すことにより製造される。図3は、パターンは形成されたが、レーザー光を照射することにより液晶表示素子として必要な外形寸法に切り出す前の液晶パネルの断面図を示し、図4は、図3に示す切断線B−Bで切断したときの断面図を示す。
【0033】
まず、通常の製造工程を用いて、アレイ基板10を構成する厚さが0.1mmのガラス基板11の表示領域上に、複数の走査線(図示せず)、これらの複数の走査線に交差する複数の信号線(図示せず)、走査線と信号線との交差点に設けられた画素電極(図示せず)、画素電極に対応して設けられて対応する走査線によって開閉動作し一端が対応する信号線に接続され他端が対応する画素電極に接続される例えばポリシリコンからなるTFT(図示せず)を形成する。また、ガラス基板11上の表示領域より外側に、信号接続部15と、これらの信号接続部15に上記信号線および走査線を介して接続される配線14を形成する。そして、レーザー光を照射することにより切断される対向基板20の端面25に対応する、各配線14の領域上に、絶縁層17と金属遮光層18からなる積層膜を形成する。更に、表示領域内にスペーサ31を形成する。
【0034】
その後、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板11と熱可塑性樹脂基板12を接着剤で接着し、アレイ基板10を形成する(図3参照)。
【0035】
一方、対向基板20を構成するガラス基板21の、上記表示領域に対応する領域に、ITO(Indium−Tin Oxide) からなる対向電極を形成する。その後、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板21と熱可塑性樹脂基板22を接着剤で接着し、対向基板20を形成する(図3参照)。
【0036】
そして、アレイ基板10を構成するガラス基板11の表示領域の周囲にシール材31を塗布し、上記ガラス基板11と対向基板を構成するガラス基板21とが向かい合いかつスペーサ31によって所定の間隔に保持されるように、アレイ基板10と、対向基板20とを張り合わせる。
【0037】
その後、図示しない注入口から、上記表示領域に液晶35を注入し、上記注入口を例えば紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射することにより上記紫外線硬化樹脂を硬化させ、液晶35を封止する。これにより、図3に示す液晶パネルが完成する。
【0038】
このように形成された液晶パネルにおいては、図3に示すように、アレイ基板10の信号接続部15のない辺では、アレイ基板10の切断線40と対向基板20の切断線41とは平面的に重なるが、信号接続部15のある辺では、対向基板20の切断線41はアレイ基板10の信号接続部15より内側に位置し、アレイ基板10上の配線14と交差する部分が生じる。配線14と対向基板20の切断線41が交差する、配線14の領域上に絶縁層17を介して金属遮光層18が積層されている。
【0039】
次に、アレイ基板10の樹脂基板12側から切断線40に沿ってYAGレーザーの4次高調波(波長:266nm)を照射する。ガラス基板11、樹脂基板12ともにYAGレーザーの4次高調波の光50を吸収するため、アレイ基板10を所定の形状に切り出すことができる。同様に、対向基板20の樹脂基板22側から切断線41に沿ってYAGレーザーの4次高調波の光50を照射し、対向基板20を所定の形状に切り出す。これにより、図3および図4に示すように、アレイ基板10の辺端部に形成された信号接続部15を露出させることができる。
【0040】
この際、アレイ基板10上の配線14と、対向基板20の切断線41が交差する配線14上には、絶縁層17を介して金属遮光層18が形成されているので、対向基板20を切断するときに対向基板20を通り抜けてきたレーザー光50は金属遮光層18を透過しないために、配線14が損傷を受けず、走査線または信号線と信号接続部15との電気的接続を保ったまま、対向基板20を所定の形状に切り出すことができる。
【0041】
以上説明したように、本実施形態によれば、遮光層を設けたことにより、UVレーザーを用いて積層基板を切断した場合に配線が断線またはショートするのを防止することができる。
【0042】
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態による液晶表示素子を、図5および図6を参照して説明する。図5は、本実施形態による液晶表示素子の構成を示す断面図であり、図6は、図5に示す切断線A−Aで切断したときの断面図である。
【0043】
第1実施形態の液晶表示素子においては、アレイ基板10の配線14と対向基板20の切断線41が交差する位置に設けられる絶縁層および金属遮光層からなる積層膜は、アレイ基板10の配線14上に形成されていたが、本実施形態においては、上記積層膜を対向基板側に設けた構成となっている。すなわち、図5および図6に示すように、対向基板20を構成するガラス基板21の表示領域の外の、アレイ基板10の配線14と対向基板20の切断線が交差する位置に、絶縁層23および金属遮光層24からなる積層膜が形成されている。上記積層膜以外は第1実施形態による液晶表示素子と同じ構成となっている。
【0044】
次に、次に、本実施形態による液晶表示素子の製造方法を、図7および図8を参照して説明する。
【0045】
上記液晶表示素子は、必要なサイズより大きいサイズのアレイ基板10および対向基板20上にパターン形成などを行った後、切断線40、41に沿ってレーザー光を照射することで液晶表示素子として必要な外形寸法に切り出すことにより製造される。図7は、パターンは形成されたが、レーザー光を照射することにより液晶表示素子として必要な外形寸法に切り出す前の液晶パネルの断面図を示し、図8は、図7に示す切断線B−Bで切断したときの断面図を示す。
【0046】
まず、通常の製造工程を用いて、アレイ基板10を構成するガラス基板11の表示領域上に、複数の走査線(図示せず)、これらの複数の走査線に交差する複数の信号線(図示せず)、走査線と信号線との交差点に設けられた画素電極(図示せず)、画素電極に対応して設けられて対応する走査線によって開閉動作し一端が対応する信号線に接続され他端が対応する画素電極に接続される例えばポリシリコンからなるTFT(図示せず)を形成する。また、ガラス基板11上の表示領域より外側に、信号接続部15と、これらの信号接続部15に上記信号線および走査線を介して接続される配線14を形成する。更に、表示領域内にスペーサ31を形成する。その後、第1実施形態の場合と同様にして、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板11と熱可塑性樹脂基板12を接着剤で接着し、アレイ基板10を形成する(図7参照)。
【0047】
一方、対向基板20を構成するガラス基板21の、上記表示領域に対応する領域に、ITOからなる対向電極を形成する。そして、レーザー光50が照射される切断線41と、アレイ基板10の配線14が交差する、ガラス基板21の位置上に、絶縁層23と金属遮光層24からなる積層膜を形成する。続いて、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板21と熱可塑性樹脂基板22を接着剤で接着し、対向基板20を形成する(図7参照)。
【0048】
その後、アレイ基板10を構成するガラス基板11の表示領域の周囲にシール材31を塗布し、上記ガラス基板11と対向基板を構成するガラス基板21とが向かい合いかつスペーサ31によって所定の間隔に保持されるように、アレイ基板10と、対向基板20とを張り合わせる。
【0049】
その後、図示しない注入口から、上記表示領域に液晶35を注入し、上記注入口を例えば紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射することにより上記紫外線硬化樹脂を硬化させ、液晶35を封止する。これにより、図7に示す液晶パネルが完成する。
【0050】
このように形成された液晶パネルにおいては、図7に示すように、アレイ基板10の信号接続部15のない辺では、アレイ基板10の切断線40と対向基板20の切断線41とは平面的に重なるが、信号接続部15のある辺では、対向基板20の切断線41はアレイ基板10の信号接続部15より内側に位置し、アレイ基板10上の配線14と交差する部分が生じる。配線14と対向基板20の切断線41が交差する、対向基板20の位置上に絶縁層17を介して金属遮光層18が積層されている。
【0051】
次に、アレイ基板10の樹脂基板12側から切断線40に沿ってYAGレーザーの4次高調波(波長:266nm)を照射する。ガラス基板11、樹脂基板12ともにYAGレーザーの4次高調波の光50を吸収するため、アレイ基板10を所定の形状に切り出すことができる。同様に、対向基板20の樹脂基板22側から切断線41に沿ってYAGレーザーの4次高調波の光50を照射し、対向基板20を所定の形状に切り出す。これにより、図7および図8に示すように、アレイ基板10の辺端部に形成された信号接続部15を露出させることができる。
【0052】
この際、アレイ基板10上の配線14と、対向基板20の切断線41が交差する、対向基板20の位置上には、絶縁層23を介して金属遮光層24が形成されているので、対向基板20を切断するときに対向基板20を通り抜けてきたレーザー光50は金属遮光層24を透過しないために、配線14が損傷を受けず、走査線または信号線と信号接続部15との電気的接続を保ったまま、対向基板20を所定の形状に切り出すことができる。
【0053】
この際、アレイ基板10の信号接続部15のある辺での対向基板20の切断線41上およびその近傍には金属遮光層24が形成されており、薄い基板だけの場合と比較して強度が強くなっており、クラックが発生しにくく、基板が割れにくい。
【0054】
以上説明したように、本実施形態によれば、遮光層を設けたことにより、UVレーザーを用いて積層基板を切断した場合に配線が断線またはショートするのを防止することができる。
【0055】
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態による液晶表示素子を、図9および図10を参照して説明する。図1は本実施形態による液晶表示素子の構成を示す断面図であり、図10は図9に示す切断線A−Aで切断したときの断面図である。
【0056】
この実施形態の液晶表示素子は、第1実施形態の液晶表示素子において、信号接続部15のある辺での対向基板20の切断線41と重なる部分に、絶縁層17および金属遮光層18からなる積層膜を設ける代わりに、対向基板20に達する遮光体からなるスペーサ37を設けた構成となっている。
【0057】
次に、本実施形態による液晶表示素子の製造方法を、図11および図12を参照して説明する。
【0058】
上記液晶表示素子は、必要なサイズより大きいサイズのアレイ基板10および対向基板20上にパターン形成などを行った後、切断線40、41に沿ってレーザー光を照射することで液晶表示素子として必要な外形寸法に切り出すことにより製造される。図11は、パターンは形成されたが、レーザー光を照射することにより液晶表示素子として必要な外形寸法に切り出す前の液晶パネルの断面図を示し、図12は、図11に示す切断線B−Bで切断したときの断面図を示す。
【0059】
まず、通常の製造工程を用いて、アレイ基板10を構成するガラス基板11の表示領域上に、複数の走査線(図示せず)、これらの複数の走査線に交差する複数の信号線(図示せず)、走査線と信号線との交差点に設けられた画素電極(図示せず)、画素電極に対応して設けられて対応する走査線によって開閉動作し一端が対応する信号線に接続され他端が対応する画素電極に接続される例えばポリシリコンからなるTFT(図示せず)を形成する。また、ガラス基板11上の表示領域より外側に、信号接続部15と、これらの信号接続部15に上記信号線および走査線を介して接続される配線14を形成する。そして、レーザー光を照射することにより切断される対向基板20の端面に対応する、各配線14の領域上に、絶縁層17と金属遮光層18からなる積層膜を形成する。更に、表示領域内にスペーサ31を形成する。このスペーサ31を形成する際に、アレイ基板10の信号接続部15のある辺での対向基板20の切断線41と重なる部分に、遮光体からなるスペーサ37を形成する。その後、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板11と熱可塑性樹脂基板12を接着剤で接着し、アレイ基板10を形成する(図11参照)。
【0060】
一方、対向基板20を構成するガラス基板21の、上記表示領域に対応する領域に、ITOからなる対向電極を形成する。その後、それぞれ厚さが0.1mmのガラス基板21と熱可塑性樹脂基板22を接着剤で接着し、対向基板20を形成する(図11参照)。
【0061】
そして、アレイ基板10を構成するガラス基板11の表示領域の周囲にシール材31を塗布し、上記ガラス基板11と対向基板を構成するガラス基板21とが向かい合いかつスペーサ31、37によって所定の間隔に保持されるように、アレイ基板10と、対向基板20とを張り合わせる。なお、スペーサ37は、波長が紫外線領域のレーザー光を吸収する材料から構成されている。
【0062】
その後、図示しない注入口から、上記表示領域に液晶35を注入し、上記注入口を例えば紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射することにより上記紫外線硬化樹脂を硬化させ、液晶35を封止する。これにより、図11に示す液晶パネルが完成する。
【0063】
このように形成された液晶パネルにおいては、図11に示すように、アレイ基板10の信号接続部15のない辺では、アレイ基板10の切断線40と対向基板20の切断線41とは平面的に重なるが、信号接続部15のある辺では、対向基板20の切断線41はアレイ基板10の信号接続部15より内側に位置し、アレイ基板10上の配線14と交差する部分が生じる。配線14と対向基板20の切断線41が交差する、配線14の領域上に絶縁層17を介して金属遮光層18が積層されている。
【0064】
次に、アレイ基板10の樹脂基板12側から切断線40に沿ってYAGレーザーの4次高調波(波長:266nm)を照射する。ガラス基板11、樹脂基板12はともにYAGレーザーの4次高調波の光50を吸収するため、アレイ基板10を所定の形状に切り出すことができる。同様に、対向基板20の樹脂基板22側から切断線41に沿ってYAGレーザーの4次高調波の光50を照射し、対向基板20を所定の形状に切り出す。これにより、図11および図12に示すように、アレイ基板10の辺端部に形成された信号接続部15を露出させることができる。この際、アレイ基板10上の配線14と、対向基板20の切断線41が交差する配線14上には、レーザー光を吸収する材料からなるスペーサ37が形成されているので、対向基板20を切断するときに対向基板20を通り抜けてきたレーザー光50はスペーサ37を透過しないために、配線14が損傷を受けず、走査線または信号線と信号接続部15との電気的接続を保ったまま、対向基板20を所定の形状に切り出すことができる。
【0065】
以上説明したように、本実施形態によれば、配線が断線またはショートするのを防止することができる。
【0066】
また、本実施形態の液晶表示素子によれば、対向基板20所定の形状に切り出す際には、アレイ基板10で信号接続部15のある辺での対向基板20の切断線41上およびその近傍にはスペーサ37が形成されており、ギャップが一定に保たれているため、剛性の小さい基板を用いても基板の反りが発生しないために、対向基板20が反ってアレイ基板10に接することによる配線のオープンやショートの発生を抑えることができる。
【0067】
(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態による液晶表示素子の製造方法を、図13乃至図15を参照して説明する。
【0068】
この実施形態による液晶表示素子の製造方法は、まず図13に示す液晶パネル、すなわち、図19に示す液晶パネルを形成する。
【0069】
次に、この液晶パネルを形成した後、信号接続部15のある辺の端部を、紫外線領域の光を吸収したり散乱したりすることにより透過させない液体65中に浸す。この液体65は、容器60内に保持されている。液体65の例としては、溶剤中にブラックカーボンや、黒、赤などの色素や顔料を溶かしたものを入れる。
液体65は毛細管現象により2枚の基板10、20に挟まれた領域に入り込む。
【0070】
その後、図15に示すように、対向基板20の樹脂基板22側から切断線41に沿ってYAGレーザーの4次高調波の光50を照射し、対向基板20を所定の形状に切り出す。このとき、信号接続部15のある辺ではレーザー光50が液体65により吸収されたり散乱されたりして強度が弱まるため、アレイ基板10上の配線14が損傷を与えなない。なお、アレイ基板10の切断は切断線40に沿って行う。
【0071】
最後に、清浄な空気洗浄を行うことにより、上記液体65を除去し、液晶表示素子を完成する。
【0072】
以上説明したように、本実施形態によれば、配線が断線またはショートするのを防止することのできる。
【0073】
(第5実施形態)
次に、本発明の第5実施形態による液晶表示素子の製造方法を、図16乃至図18を参照して説明する。
【0074】
この実施形態による液晶表示素子の製造方法は、まず図16に示す液晶パネル、すなわち、図19に示す液晶パネルを形成する。
【0075】
この液晶パネルは、アレイ基板10で信号接続部15のない辺では、アレイ基板10の切断線40と、対向基板20の切断線41とは平面的に重なるが、信号接続部15のある辺では、対向基板20の切断線41はアレイ基板10の信号接続部15より内側に位置し、アレイ基板10上の配線14と交差する部分が生じる。切断線41と交差する部分の配線14は、図17に示すように、一定間隔で配置されている部分を含み、配線14の太さL1は20μm〜500μm、隣接する配線14間の間隔L2は30μm〜500μm程度となっている。
【0076】
なお、この液晶パネルにおいては、信号接続部15は1辺のみに形成されているが、複数の辺に形成されていても同様である。
【0077】
続いて、YAGレーザーの4次高調波(波長:266nm)の光50を照射することでアレイ基板10、対向基板20を切断線40、41に沿って、所定の形状に切り出す。ガラス、プラスチックフィルムともにYAGレーザーの4次高調波の光50を吸収するため、基板を加工することができる。図18に示すように、照射されるレーザービームのスポット径51は10μm〜20μm程度、照射エネルギーは100mW〜1000mW程度である。上記切り出しは、まず、アレイ基板10の樹脂基板12側からYAGレーザーの4次高調波の光50を切断線40に沿って照射し、アレイ基板10を所定の形状に切り出す。この場合、切断線40上を途切れないように連続的にレーザーを照射しても良いし、切断線40上を間引いて不連続的に照射しても良い。
【0078】
同様に、対向基板20の樹脂基板22側から切断線41に沿ってYAGレーザーの4次高調波の光50を照射し、対向基板20を所定の形状に切り出す。このとき、アレイ基板10で信号接続部15のない辺での対向基板20の切断は、アレイ基板10と同様に, 切断線41上を途切れないように連続的にレーザーを照射しても良いし、切断線41上を間引いて不連続的に照射しても良い。しかし、アレイ基板10で信号接続部15のある辺での対向基板20の切断は、レーザー照射によりアレイ基板10上の配線14に損傷を与えないように、図18に示すように、隣接する配線14の間にのみレーザー光50が照射されるようにすれば良い。
【0079】
以上説明したように、本実施形態によれば、配線が断線またはショートするのを防止することのできる。
【0080】
次に、薄いガラス基板とプラスチックフィルムからなる樹脂基板が接着剤で接着された基板を用いて液晶パネルを形成する方法としては、板厚が厚い2枚のガラス基板を用いて液晶パネルを形成後、それぞれのガラス基板の裏面をエッチングして薄くし、プラスチックフィルムからなる樹脂基板を接着する方法や、2枚のガラス基板のそれぞれを裏面からエッチングして薄くした後、プラスチックフィルムからなる樹脂基板を接着し、更にそれらを組み合わせて液晶パネルを形成する方法などがある。それぞれについて説明する。
【0081】
(a)パネル形成後ガラス基板をエッチングする場合
まず、硼珪酸ガラスなどの無アルカリガラスからなる第1のガラス基板上にTFT、配線、接続パッドなどのパターンを形成する。これらの形成方法はポリシリコンをTFTに用いた従来のアクティブマトリックス型LCDにおけるアレイ基板の形成方法を用いることができる。第1のガラス基板の厚さは0.7mm乃至1.1mm程度であり、上記パターンを形成する際のプロセスにおいて割れにくいための十分な強度を有している。
【0082】
第1のガラス基板上の表示領域にはポリシリコンからなるTFTがマトリクス状に配列されている。また、TFTには、このTFTに信号を入力するための厚さ400nmのAlからなる信号線、TFTを駆動するための厚さ300nmのMo−W合金からなるゲート線、ITOなどの透明導電体材料からなる画素電極、などが接続されている。
【0083】
表示領域の周囲には、ポリシリコンからなるTFTを含む駆動回路が形成されており、更に、第1のガラス基板の端部には、信号入出力用に信号接続部が配置されている。表示領域と駆動回路との間や、駆動回路と信号接続部との間はAlやMo−Wなどの配線により接続されている。これらの配線はゲート線や信号線を形成するのと同時に形成しても良い。
【0084】
次に、硼珪酸ガラスなどの無アルカリガラスからなる第2のガラス基板上のうち、表示領域に相当する部分にITOなどの透明導電体材料からなる対向電極を形成する。第2のガラス基板の厚さは0.7mm乃至1.1mm程度であり、上記対向電極を形成する際のプロセスにおいて割れにくいための十分な強度を有している。
【0085】
続いて、第1のガラス基板と第2のガラス基板のうちの一方の基板の上に有機樹脂からなるスペーサを形成し、表示領域の外側には接着性を持つ材料からなるシールを形成した後、第1のガラス基板と第2のガラス基板を重ねあわせ、約5μmの間隔となるよう保持する。さらに第1のガラス基板と第2のガラス基板に挟まれ、シールに囲まれた領域に液晶を注入する。このようにして第1のガラス基板と第2のガラス基板を含む液晶パネルが完成する。
【0086】
続いて、上の方法で作製した液晶パネルの第1のガラス基板および第2のガラス基板を裏面より研磨し、それぞれのガラス基板の厚さを0.01mm〜0.2mm程度まで薄くする。0.01mm以上とすることにより水分等の侵入を防止して高い信頼性を得ることができ、0.2mm以下とすることにより軽量で曲げが可能となる。研磨の方法としては、砥石や研磨剤を用いた機械的研磨、薬液を用いてガラスを溶かす化学的エッチング、およびその組み合わせがある。ガラスを溶かす薬液としては、弗酸や弗酸を含む混酸がある。薬液を用いてガラスを研磨する場合には、上記シールが薬液にさらされてダメージを受けることがないように、セルの端面を保護しておく必要がある。
【0087】
さらに、上記の方法で薄くした第1のガラス基板および第2のガラス基板に接着剤を用いてプラスチックフィルムを貼り付ける。接着剤としては紫外線硬化接着剤、アクリル接着剤、エポキシ樹脂、熱硬化接着剤などを用いればよい。また、プラスチックフィルムとしては0.025mm〜0.4mm程度の厚さのものが望ましく、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリアリレート、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリイミド(PI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリオレフィンなどがよい。また、上記実施形態のように液晶ディスプレイとして用いる場合は可視領域で透明で、屈折率の異方性が小さいものがより望ましい。
【0088】
このようなプロセスにより、薄いガラス基板と樹脂基板が貼りついた基板からなるパネルが得られる。
【0089】
(b)ガラス基板をエッチング後にパネルを形成する場合
まず、硼珪酸ガラスなどの無アルカリガラスからなる第1のガラス基板上にTFT、配線、接続パッドなどのパターンを形成する。これらの形成方法はポリシリコンをTFTに用いた従来のアクティブマトリクス基板の形成方法を用いることができる。第1のガラス基板の厚さは0.7mm乃至1.1mm程度であり、上記パターンを形成する際のプロセスにおいて割れにくいための十分な強度を有している。
【0090】
第1のガラス基板上のうち、表示領域にはポリシリコンからなるTFTがマトリクス状に配列されている。TFTには、TFTに信号を入力するための厚さ400nmのAlからなる信号線、TFTを駆動するための厚さ300nmのMo−W合金からなるゲート線、ITOなどの透明導電体材料からなる画素電極、などが接続されている。
【0091】
表示領域の周囲には、ポリシリコンのTFTを含む駆動回路が形成されており、更に、第1のガラス基板の端部には、信号入出力用に信号接続部が配置されている。表示領域と駆動回路との間や、駆動回路と信号接続部との間はAlやMo−Wなどの配線により接続されている。これらの配線はゲート線や信号線を形成するのと同時に形成しても良い。
【0092】
次に、硼珪酸ガラスなどの無アルカリガラスからなる第2のガラス基板上のうち、表示領域に相当する部分にITOなどの透明導電体材料からなる対向電極を形成する。第2のガラス基板の厚さは0.7mm乃至1.1mm程度であり、上記パターンを形成する際のプロセスにおいて割れにくいための十分な強度を有している。
【0093】
続いて、上の第1のガラス基板および第2のガラス基板のそれぞれを裏面より研磨し、それぞれのガラスの厚さを0.01mm〜0.2 mm程度まで薄くする。研磨の方法としては、砥石や研磨剤を用いた機械的研磨、薬液を用いてガラスを溶かす化学的エッチング、およびその組み合わせがある。ガラスを溶かす薬液としては、弗酸や弗酸を含む混酸がある。薬液を用いてガラスを研磨する場合には、第1のガラス基板や第2のガラス基板の表面や端面が薬液にさらされてダメージを受けることがないように保護しておく必要がある。
【0094】
さらに、上記の方法で薄くした第1のガラス基板および第2のガラス基板の裏面に接着剤を用いてプラスチックフィルムを貼り付ける。接着剤としては紫外線硬化接着剤、アクリル接着剤、エポキシ樹脂、熱硬化接着剤などを用いればよい。また、プラスチックフィルムとしては0.025mm〜0.4mm程度の厚さのものが望ましく、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリアリレート、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリイミド(PI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリオレフィンなどがよい。また、上記実施形態のように液晶ディスプレイとして用いる場合は可視領域で透明で、屈折率の異方性が小さいものがより望ましい。
【0095】
このようなプロセスにより、薄ガラスとプラフィルムが貼りついた第1の基板と第2の基板が得られる。
【0096】
続いて、第1の基板と第2の基板のうちの一方の基板の上に有機樹脂からなるスペーサを形成し、表示領域の外側には接着性を持つ材料からなるシールを形成した後、第1の基板と第2の基板を重ねあわせ、約5μmの間隔となるよう保持する。さらに第1の基板と第2の基板に挟まれ、シールに囲まれた領域に液晶を注入する。
【0097】
このようなプロセスにより、薄ガラスとプラ基板が貼りついた基板からなる液晶パネルが得られる。
【0098】
なお、UVレーザーは1nm〜400nm程度の波長のものをいい、上記各実施形態においては、UVレーザーとして、波長が150nm〜400nmのものを用いることが好ましい。この波長範囲とすることにより、切断に十分なパワーを持ち、ガラスに吸収されない紫外領域のレーザーを用いることができる。
【0099】
なお、上記各実施形態において、金属遮光層としては、Al、Mo、Cr、Cu、Ta、Ti、Wもしくはこれらの合金が用いられる。また、Crからなる金属遮光層を対向基板側に形成した場合には、BM(Black Matrix)と一緒に形成することができるので、工程数が削減される。
【0100】
なお、本願発明においては、配線の断線やショートを防ぐことができれば良く、遮光層において、レーザーを完全に遮光できなくとも良い。例えば、遮光層自体にダメージがあっても良い。
【0101】
また、スペーサとしては、スペーサ柱とスペーサ球がある。スペーサ柱を形成するために、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミドなどが用いられる。プロセス的には、感光性が有る方が工程数が少なくてすむため、感光性アクリル樹脂、感光性ポリイミドなどが用いられる。特に、スペーサを遮光用に用いる場合には、表示面内のスペーサと一緒に形成することができるので、工程数を削減することができる。また、スペーサ球としては、ジビニルベンゼン共重合体(商品名:ミクロパール)、シリカ(SiO)、またはシリカの周りにジビニルベンゼンを被覆したもの等が用いられる。
【0102】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、配線が断線またはショートするのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態による液晶表示素子の構成を示す断面図。
【図2】図1に示す切断線A−Aで切断したときの第1実施形態による液晶表示素子の断面図。
【図3】第1実施形態による液晶表示素子の液晶パネルを示す断面図。
【図4】図3に示す切断線B−Bで切断したときの第1実施形態による液晶表示素子の断面図。
【図5】本発明の第2実施形態による液晶表示素子の構成を示す断面図。
【図6】図5に示す切断線A−Aで切断したときの第2実施形態による液晶表示素子の断面図。
【図7】第2実施形態による液晶表示素子の液晶パネルを示す断面図。
【図8】図7に示す切断線B−Bで切断したときの第2実施形態による液晶表示素子の断面図。
【図9】本発明の第3実施形態による液晶表示素子の構成を示す断面図。
【図10】図9に示す切断線A−Aで切断したときの第3実施形態による液晶表示素子の断面図。
【図11】第3実施形態による液晶表示素子の液晶パネルを示す断面図。
【図12】図11に示す切断線B−Bで切断したときの第3実施形態による液晶表示素子の断面図。
【図13】本発明の第4実施形態による液晶表示素子の製造方法に用いられる液晶お亜ネルの構成を示す断面図。
【図14】第4実施形態による製造方法を説明する図。
【図15】第4実施形態による製造方法を説明する図。
【図16】第5実施形態による液晶表示素子の製造方法に用いられる液晶パネルの構成を示す断面図。
【図17】第5実施形態の製造方法に用いられる液晶パネルに係る信号接続部に接続される配線間の関係を説明する図。
【図18】第5実施形態による製造方法を説明する図。
【図19】液晶表示素子構成を示す断面図。
【図20】図19に示す切断線A−Aで切断したときの液晶表示素子の断面図。
【図21】液晶表示素子の液晶パネルを示す断面図。
【図22】図21に示す切断線B−Bで切断したときの液晶表示素子の断面図。
【図23】剛性が小さい対向基板を用いたときの問題を説明する図。
【符号の説明】
10 アレイ基板
11 ガラス基板
12 樹脂基板
14 配線
15 信号接続部
17 絶縁層
18 金属遮光層
20 対向基板
21 ガラス基板
22 樹脂基板
23 絶縁層
24 金属遮光層
25 端面
31 スペーサ
32 シール材
35 液晶
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a display element and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
Today, liquid crystal displays (hereinafter, also referred to as LCDs) and organic EL displays (hereinafter, also referred to as OLEDs) are used for display of mobile information devices such as notebook computers, televisions, mobile phones, and personal digital assistants (hereinafter, also referred to as PDAs). Widely used as terminals. However, most of currently used LCDs and OLEDs are formed on a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm. For this reason, as a demand for display elements including LCDs and OLEDs, further reduction in thickness and weight are required.
In order to satisfy these requirements, materials such as thin glass, thermosetting resin, ultraviolet (hereinafter also referred to as UV) curable resin, thermoplastic resin, and other plastic materials having a lower specific gravity than glass are used for LCDs and OLEDs. Used as a substrate. For example, Non-Patent Document 1 discloses an LCD in which a thin film transistor (hereinafter, also referred to as a TFT) made of amorphous silicon is formed on a plastic substrate.
[0003]
[Non-patent document 1]
SID INTERNATIONAL TOINAL SYMPOSIUM DIGEST OF TECHNICAL PAPERS, Vol. XXXIII, Number II, 2002, p802-805.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, many thermoplastic resins have a heat-resistant temperature of 200 ° C. or less, and withstand a process of 350 ° C. to 600 ° C. required for manufacturing a thin film transistor (hereinafter also referred to as a TFT) using amorphous silicon or polysilicon. I can't. For this reason, the mobility of the manufactured TFT is low, and a high-performance TFT cannot be obtained. Also, the plastic substrate expands and contracts, so that high definition cannot be achieved. Therefore, it is very difficult to form an active matrix type array substrate including TFTs with high performance and high definition on a substrate made of a thermoplastic resin.
[0005]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a light-weight, high-performance, high-definition display element and a method of manufacturing the same.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The display element according to the first aspect of the present invention is configured such that a resin substrate and a first glass substrate are bonded to each other via an adhesive layer, and a first display region in which the element is formed on the first glass substrate; A first substrate having a signal connection portion formed outside the region, and a wiring connecting the signal connection portion and the element, and a resin substrate and a second glass substrate bonded to each other via an adhesive layer; A first display area having a second display area, wherein the first display area and the second display area face each other such that the first glass substrate and the second glass substrate are inside; And a second substrate having an end face located on the wiring and provided at a position on the wiring of the first substrate corresponding to the end face of the second substrate. A material film made of a material that blocks laser light in the ultraviolet region. It is characterized in.
[0007]
The material film may include a light-shielding layer formed on the first substrate side with an insulating layer interposed therebetween, for blocking the laser light in the ultraviolet region.
[0008]
Note that the material film may include a light-shielding layer formed on the second substrate side via an insulating layer and shielding the ultraviolet region laser light.
[0009]
Note that the material film may be a spacer formed of a material that blocks laser light in an ultraviolet region formed so as to reach the end face of the second substrate from a position on the wiring of the first substrate. good.
[0010]
Further, the method for manufacturing a display element according to the second aspect of the present invention includes the first display area where the element is formed, the signal connection part formed outside the display area, and the signal connection part and the element. A first substrate having a wiring connecting the first substrate and a second display region, and a predetermined distance from the first substrate so that the first display region and the second display region face each other and overlap each other. A second substrate in which at least a part of the cutting line is located on the wiring, and a position on the wiring of the first substrate corresponding to the cutting line of the second substrate. A light-shielding layer for shielding the laser light in the ultraviolet region formed, wherein a resin substrate and a glass substrate are bonded via an adhesive layer as the first and second substrates, and the glass substrate is And forming the panel on the second substrate of the panel. The laser beam in the ultraviolet region radiated along, characterized by cutting.
[0011]
Further, in the method for manufacturing a display element according to the third aspect of the present invention, the first display area in which the element is formed, the signal connection part formed outside the display area, and the signal connection part and the element A first substrate having a wiring connecting the first substrate and a second display region, and a predetermined distance from the first substrate so that the first display region and the second display region face each other and overlap each other. And a second substrate in which at least a part of the cutting line is located on the wiring, and a laser beam in an ultraviolet region formed near the part of the cutting line on the second substrate. A light-shielding layer for shielding light, wherein a resin substrate and a glass substrate are bonded via an adhesive layer as the first substrate and the second substrate, and panels having the glass substrate inside are formed, respectively, Laser in the ultraviolet region along the cutting line on the second substrate Irradiated with, characterized by cutting.
[0012]
The method for manufacturing a display element according to the fourth aspect of the present invention may further include a first display area in which the element is formed, a signal connection portion formed outside the display area, and the signal connection section and the element. A first substrate having a wiring connecting the first substrate and a second display region, and a predetermined distance from the first substrate so that the first display region and the second display region face each other and overlap each other. A second substrate on which at least a part of a cutting line is located on the wiring, and a position on the wiring of the first substrate corresponding to the cutting line of the second substrate. A spacer made of a material that absorbs laser light in an ultraviolet region formed so as to reach the cutting line, and a resin substrate and a glass substrate are bonded through an adhesive layer as the first substrate and the second substrate. To form panels with the glass substrate inside. And, along said cutting line is irradiated with laser light in the ultraviolet region to the second substrate of the panel, characterized by cutting.
[0013]
Further, the method for manufacturing a display element according to the fifth aspect of the present invention includes the first display area where the element is formed, the signal connection part formed outside the display area, and the signal connection part and the element. A first substrate having a wiring connecting the first substrate and a second display region, and a predetermined distance from the first substrate so that the first display region and the second display region face each other and overlap each other. A second substrate in which at least a part of the cutting line is located on the wiring, and as the first substrate and the second substrate, a resin substrate and a glass substrate are bonded with an adhesive layer. And forming a panel with the glass substrate inside, immersing the panel in a liquid that absorbs laser light in an ultraviolet region, and irradiating the second substrate of the panel with the ultraviolet light along the cutting line. It is characterized by irradiating the area with laser light and cutting it. .
[0014]
The method of manufacturing a display element according to the sixth aspect of the present invention may further include a first display area in which the element is formed, a signal connection formed outside the display area, and the signal connection and the element. A first substrate having a wiring connecting the first substrate and a second display region, and a predetermined distance from the first substrate so that the first display region and the second display region face each other and overlap each other. A second substrate in which at least a part of the cutting line is located on the wiring, and as the first substrate and the second substrate, a resin substrate and a glass substrate are bonded with an adhesive layer. Forming a panel with the glass substrate inside, and irradiating the second substrate of the panel with a laser beam in an ultraviolet region along the cutting line to cut the cutting line. On at least a part of the region, only the region between the wirings has an ultraviolet region. And irradiating the Heather light.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings, but the present invention is not limited to these embodiments.
[0016]
First, a display element which is a premise of each embodiment of the present invention will be described.
[0017]
In order to reduce the weight of the display element, it is conceivable to use a laminated substrate of thin glass and thin plastic. It is expected that a light and bendable LCD can be obtained by using this laminated substrate without deteriorating the characteristics of the TFT. In this case, the laminated substrate is used not only for the array substrate but also for the opposing substrate. This is because warpage occurs unless a laminated substrate is used.
[0018]
When a laminated substrate made of thin glass and thin plastic is used for the array substrate and the opposing substrate, cracks and the like are likely to extend because the cut surface is not smooth when cut mechanically in order to expose the wiring portion. Therefore, there is a possibility that shavings will come out and mix with the shavings liquid crystal when the liquid crystal is sealed.
[0019]
For this reason, it is conceivable to cut out to a predetermined size using a laser beam in a wavelength region absorbed by the substrate. In the case of glass or plastic, light is absorbed in the ultraviolet region, so that processing can be performed using laser light having a wavelength in the ultraviolet region.
[0020]
Note that the wavelength of the laser light here includes the wavelength after the incident laser light is converted by the optical conversion element in addition to the oscillation wavelength of the laser light. For example, a YAG laser (oscillation wavelength: 1.064 μm ), The third harmonic (wavelength: 355 nm) and the fourth harmonic (wavelength: 266 nm) are also included in the laser light in the ultraviolet region. When a laminated substrate made of glass and plastic is cut using an infrared laser, the infrared laser heats and melts, so the temperature rises, and the glass and plastic have different expansion coefficients, so that thermal stress is applied to the glass. There is a problem that cracks occur. Lasers in the ultraviolet region (hereinafter also referred to as UV lasers) are used because they are molecular breaks that break bonds between molecules.
[0021]
A method of cutting a liquid crystal panel of an active matrix type liquid crystal display element using a substrate obtained by laminating a thin thermoplastic resin substrate and a glass substrate into a predetermined shape using a laser beam having a wavelength in an ultraviolet region. This will be described with reference to FIGS. FIG. 19 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel in which the array substrate 10 and the counter substrate 20 are overlapped, and FIG. 20 is a cross-sectional view taken along a cutting line AA shown in FIG. This liquid crystal panel has an array substrate 10 on which a glass substrate 11 and a thermoplastic resin substrate 12 each having a thickness of 0.1 mm are bonded, and a glass substrate 21 and a thermoplastic resin substrate 22 each having a thickness of 0.1 mm. Opposing substrate 20 provided. The array substrate 10 and the opposing substrate 20 have a structure in which the surfaces of the glass substrates 11 and 21 are arranged to face each other, and are formed so as to maintain a predetermined interval by a spacer 31. A plurality of scanning lines (not shown), a plurality of signal lines (not shown) intersecting the plurality of scanning lines, and a plurality of scanning lines are provided on a display area of the glass substrate 11 constituting the array substrate 10. A pixel electrode (not shown) provided at the intersection with the signal line; and a pixel electrode provided corresponding to the pixel electrode, which is opened and closed by a corresponding scanning line, and one end is connected to the corresponding signal line and the other end is a corresponding pixel. A TFT (not shown) connected to the electrode is formed. Further, signal connection portions 15 are formed outside the display area on the array substrate 10, and these signal connection portions 15 are connected to the signal lines and the scanning lines via the wirings 14.
[0022]
On the other hand, a counter electrode made of ITO (Indium-Tin Oxide) is provided in a region of the glass substrate 21 constituting the counter substrate 20 corresponding to the display region. A liquid crystal 35 is sandwiched in the display area between the array substrate 10 and the counter substrate 20. The liquid crystal 35 is sealed by a sealing material 32 applied around the display area.
[0023]
When the array substrate 10 and the counter substrate 20 are irradiated with the laser light 50 in the ultraviolet region having a wavelength of 240 nm to 270 nm from the resin substrates 12 and 22 side, respectively, both the resin substrates 12 and 22 and the glass substrates 11 and 21 have the above-mentioned wavelength region. The substrates 10, 20 can be cut to absorb light. As shown in FIG. 19, the array substrate 10 may cut the outside of the display region and the outside of the region of the signal connection portion 15 along the cutting line 40, and the counter substrate 20 may cut the outside of the display region and the signal connection portion. What is necessary is just to cut along the cutting line 41 so that 15 areas may not be included. When the substrates 10 and 20 are cut along the cutting lines 40 and 41, an active matrix type liquid crystal display device shown in FIGS. 21 and 22 can be obtained.
[0024]
When the substrate is processed by the above-described cutting method, the array substrate 10 and the opposing substrate 20 may be cut at the same position on the side not including the signal connection portion 15. On the other hand, the array substrate 10 is cut outside the counter substrate 20. When the laser beam 50 is not sufficiently absorbed by the thermoplastic resin substrate and the glass substrate of the counter substrate 20 when cutting the counter substrate 20, the laser beam 50 passes through the counter substrate 20 and reaches the array substrate 10. In addition, the wiring portion formed on the array substrate 10 may be damaged, and the wiring 14 may be disconnected, so that a video signal cannot be displayed.
[0025]
Further, when a substrate made of thin glass or resin as described above is used, it is difficult to maintain flatness because the rigidity of the substrate is not sufficient. For example, in an LCD, two substrates need to be overlapped and held at a certain interval, and the interval is very narrow, about 5 μm. Therefore, a spacer 31 is used in the display area and a sealing material is used outside the display area. 32 accurately maintains the interval.
[0026]
A substrate having a small rigidity is likely to be warped. In particular, since wirings having a small width and a small interval are densely arranged in the vicinity of the signal connection portion 15, the counter substrate 20 warps as shown in FIG. There is a problem that the rubbing and the opening or shorting of the wiring 14 are likely to occur.
[0027]
Therefore, in each embodiment of the present invention, a display element capable of preventing a wiring from being disconnected or short-circuited and a method for manufacturing the same will be described.
[0028]
(1st Embodiment)
A liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the liquid crystal display device according to the present embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a cutting line AA shown in FIG.
[0029]
The liquid crystal display device according to the present embodiment includes an array substrate 10 on which a glass substrate 11 and a thermoplastic resin substrate 12 each having a thickness of 0.1 mm are bonded, a glass substrate 21 having a thickness of 0.1 mm each, and a thermoplastic resin. And a counter substrate 20 to which a substrate 22 is adhered. The array substrate 10 and the opposing substrate 20 have a structure in which the surfaces of the glass substrates 11 and 21 are arranged to face each other, and are formed so as to maintain a predetermined interval by a spacer 31. A plurality of scanning lines (not shown), a plurality of signal lines (not shown) intersecting the plurality of scanning lines, and a plurality of scanning lines are provided on a display area of the glass substrate 11 constituting the array substrate 10. A pixel electrode (not shown) provided at the intersection with the signal line; and a pixel electrode provided corresponding to the pixel electrode, which is opened and closed by a corresponding scanning line, and one end is connected to the corresponding signal line and the other end is a corresponding pixel. A TFT (not shown) connected to the electrode is formed. Further, signal connection portions 15 are formed outside the display area on the glass substrate 11, and these signal connection portions 15 are connected to the signal lines and the scanning lines via the wirings 14. Then, on the region of each wiring 14 corresponding to the cut end face 25 of the counter substrate 20, a laminated film including the insulating layer 17 and the metal light shielding layer 18 is provided.
[0030]
On the other hand, a counter electrode made of ITO (Indium-Tin Oxide) is provided in a region of the glass substrate 21 constituting the counter substrate 20 corresponding to the display region. A liquid crystal 35 is sandwiched in the display area between the array substrate 10 and the counter substrate 20. The liquid crystal 35 is sealed by a sealing material 32 applied around the display area.
[0031]
Next, the method for fabricating the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIGS.
[0032]
The liquid crystal display element is required as a liquid crystal display element by forming a pattern on the array substrate 10 and the opposing substrate 20 having a size larger than the required size and then irradiating a laser beam along the cutting lines 40 and 41. Manufactured by cutting into various external dimensions. FIG. 3 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel on which a pattern has been formed but has not yet been cut into external dimensions required for a liquid crystal display element by irradiating a laser beam, and FIG. FIG. 2 shows a cross-sectional view when cut at B.
[0033]
First, a plurality of scanning lines (not shown), which intersect with the plurality of scanning lines, are formed on a display region of a glass substrate 11 having a thickness of 0.1 mm which constitutes the array substrate 10 by using a normal manufacturing process. A plurality of signal lines (not shown), a pixel electrode (not shown) provided at the intersection of the scanning line and the signal line, and a scanning line provided corresponding to the pixel electrode to open and close with one end. A TFT (not shown) made of, for example, polysilicon is connected to the corresponding signal line and the other end is connected to the corresponding pixel electrode. Further, outside the display area on the glass substrate 11, a signal connection portion 15 and a wiring 14 connected to the signal connection portion 15 via the signal line and the scanning line are formed. Then, a laminated film including the insulating layer 17 and the metal light-shielding layer 18 is formed on the region of each wiring 14 corresponding to the end face 25 of the opposite substrate 20 cut by irradiating the laser beam. Further, a spacer 31 is formed in the display area.
[0034]
Thereafter, the glass substrate 11 and the thermoplastic resin substrate 12 each having a thickness of 0.1 mm are bonded with an adhesive to form an array substrate 10 (see FIG. 3).
[0035]
On the other hand, a counter electrode made of ITO (Indium-Tin Oxide) is formed in a region of the glass substrate 21 constituting the counter substrate 20 corresponding to the display region. Thereafter, the glass substrate 21 and the thermoplastic resin substrate 22 each having a thickness of 0.1 mm are bonded with an adhesive to form a counter substrate 20 (see FIG. 3).
[0036]
Then, a sealing material 31 is applied around the display area of the glass substrate 11 constituting the array substrate 10, and the glass substrate 11 and the glass substrate 21 constituting the opposing substrate face each other and are held at a predetermined interval by the spacer 31. In such a manner, the array substrate 10 and the counter substrate 20 are attached to each other.
[0037]
Thereafter, the liquid crystal 35 is injected into the display area from an injection port (not shown), and the injection port is coated with, for example, an ultraviolet curable resin, and the ultraviolet curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays to seal the liquid crystal 35. . Thus, the liquid crystal panel shown in FIG. 3 is completed.
[0038]
In the liquid crystal panel thus formed, as shown in FIG. 3, the cutting line 40 of the array substrate 10 and the cutting line 41 of the counter substrate 20 are planar on the side of the array substrate 10 where the signal connection portion 15 is not provided. However, on one side of the signal connection portion 15, the cutting line 41 of the counter substrate 20 is located inside the signal connection portion 15 of the array substrate 10, and a portion intersecting with the wiring 14 on the array substrate 10 is generated. The metal light-shielding layer 18 is laminated via the insulating layer 17 on the region of the wiring 14 where the wiring 14 intersects the cutting line 41 of the counter substrate 20.
[0039]
Next, the fourth harmonic (wavelength: 266 nm) of the YAG laser is irradiated along the cutting line 40 from the resin substrate 12 side of the array substrate 10. Since both the glass substrate 11 and the resin substrate 12 absorb the light 50 of the fourth harmonic of the YAG laser, the array substrate 10 can be cut into a predetermined shape. Similarly, the fourth substrate 50 of the YAG laser is irradiated along the cutting line 41 from the resin substrate 22 side of the opposing substrate 20 to cut out the opposing substrate 20 into a predetermined shape. Thereby, as shown in FIGS. 3 and 4, the signal connection portion 15 formed at the side edge of the array substrate 10 can be exposed.
[0040]
At this time, since the metal light-shielding layer 18 is formed via the insulating layer 17 on the wiring 14 where the wiring 14 on the array substrate 10 and the cutting line 41 of the opposing substrate 20 intersect, the opposing substrate 20 is cut off. Since the laser light 50 that has passed through the counter substrate 20 during transmission does not pass through the metal light shielding layer 18, the wiring 14 is not damaged, and the electrical connection between the scanning line or the signal line and the signal connection portion 15 is maintained. The counter substrate 20 can be cut into a predetermined shape as it is.
[0041]
As described above, according to the present embodiment, the provision of the light shielding layer can prevent the wiring from being disconnected or short-circuited when the laminated substrate is cut using the UV laser.
[0042]
(2nd Embodiment)
Next, a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a sectional view showing the configuration of the liquid crystal display device according to the present embodiment, and FIG. 6 is a sectional view taken along the cutting line AA shown in FIG.
[0043]
In the liquid crystal display element of the first embodiment, the laminated film including the insulating layer and the metal light-shielding layer provided at the position where the wiring 14 of the array substrate 10 Although formed above, in the present embodiment, the laminated film is provided on the counter substrate side. That is, as shown in FIG. 5 and FIG. 6, the insulating layer 23 Further, a laminated film including the metal light shielding layer 24 is formed. Except for the above-mentioned laminated film, it has the same configuration as the liquid crystal display element according to the first embodiment.
[0044]
Next, the method for fabricating the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIGS.
[0045]
The liquid crystal display element is required as a liquid crystal display element by forming a pattern on the array substrate 10 and the opposing substrate 20 having a size larger than the required size and then irradiating a laser beam along the cutting lines 40 and 41. It is manufactured by cutting into various external dimensions. FIG. 7 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel on which a pattern has been formed, but has not yet been cut into external dimensions required for a liquid crystal display element by irradiating a laser beam, and FIG. FIG. 2 shows a cross-sectional view when cut at B.
[0046]
First, a plurality of scanning lines (not shown) and a plurality of signal lines (not shown) intersecting the plurality of scanning lines are formed on the display area of the glass substrate 11 constituting the array substrate 10 using a normal manufacturing process. Not shown), a pixel electrode (not shown) provided at the intersection of the scanning line and the signal line, an opening / closing operation by a corresponding scanning line provided corresponding to the pixel electrode, and one end connected to the corresponding signal line. A TFT (not shown) made of, for example, polysilicon and having the other end connected to the corresponding pixel electrode is formed. Further, outside the display area on the glass substrate 11, a signal connection portion 15 and a wiring 14 connected to the signal connection portion 15 via the signal line and the scanning line are formed. Further, a spacer 31 is formed in the display area. Thereafter, in the same manner as in the first embodiment, the glass substrate 11 and the thermoplastic resin substrate 12 each having a thickness of 0.1 mm are bonded with an adhesive to form the array substrate 10 (see FIG. 7).
[0047]
On the other hand, a counter electrode made of ITO is formed in a region corresponding to the display region of the glass substrate 21 constituting the counter substrate 20. Then, a laminated film including the insulating layer 23 and the metal light shielding layer 24 is formed on the position of the glass substrate 21 where the cutting line 41 irradiated with the laser beam 50 and the wiring 14 of the array substrate 10 intersect. Subsequently, a glass substrate 21 and a thermoplastic resin substrate 22 each having a thickness of 0.1 mm are bonded with an adhesive to form a counter substrate 20 (see FIG. 7).
[0048]
Thereafter, a sealing material 31 is applied around the display area of the glass substrate 11 constituting the array substrate 10, and the glass substrate 11 and the glass substrate 21 constituting the opposing substrate face each other and are held at a predetermined interval by the spacer 31. In such a manner, the array substrate 10 and the counter substrate 20 are attached to each other.
[0049]
Thereafter, the liquid crystal 35 is injected into the display area from an injection port (not shown), and the injection port is coated with, for example, an ultraviolet curable resin, and the ultraviolet curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays to seal the liquid crystal 35. . Thus, the liquid crystal panel shown in FIG. 7 is completed.
[0050]
In the liquid crystal panel thus formed, as shown in FIG. 7, the cutting line 40 of the array substrate 10 and the cutting line 41 of the counter substrate 20 are planar on the side of the array substrate 10 where the signal connection portion 15 is not provided. However, on one side of the signal connection portion 15, the cutting line 41 of the counter substrate 20 is located inside the signal connection portion 15 of the array substrate 10, and a portion intersecting with the wiring 14 on the array substrate 10 is generated. The metal light-shielding layer 18 is laminated via the insulating layer 17 on the position of the counter substrate 20 where the wiring 14 crosses the cutting line 41 of the counter substrate 20.
[0051]
Next, the fourth harmonic (wavelength: 266 nm) of the YAG laser is irradiated along the cutting line 40 from the resin substrate 12 side of the array substrate 10. Since both the glass substrate 11 and the resin substrate 12 absorb the light 50 of the fourth harmonic of the YAG laser, the array substrate 10 can be cut into a predetermined shape. Similarly, the fourth substrate 50 of the YAG laser is irradiated along the cutting line 41 from the resin substrate 22 side of the opposing substrate 20 to cut out the opposing substrate 20 into a predetermined shape. Thereby, as shown in FIGS. 7 and 8, the signal connection portion 15 formed at the side edge of the array substrate 10 can be exposed.
[0052]
At this time, since the metal light shielding layer 24 is formed via the insulating layer 23 on the position of the opposing substrate 20 where the wiring 14 on the array substrate 10 and the cutting line 41 of the opposing substrate 20 intersect, Since the laser light 50 that has passed through the counter substrate 20 when cutting the substrate 20 does not pass through the metal light shielding layer 24, the wiring 14 is not damaged, and the electrical connection between the scanning line or the signal line and the signal connection portion 15 is prevented. The counter substrate 20 can be cut into a predetermined shape while maintaining the connection.
[0053]
At this time, the metal light-shielding layer 24 is formed on the vicinity of the cutting line 41 of the opposing substrate 20 at the side where the signal connection portion 15 of the array substrate 10 is located and in the vicinity thereof, so that the strength is lower than in the case of using only a thin substrate. Being strong, cracks are hardly generated, and the substrate is hardly broken.
[0054]
As described above, according to the present embodiment, the provision of the light shielding layer can prevent the wiring from being disconnected or short-circuited when the laminated substrate is cut using the UV laser.
[0055]
(Third embodiment)
Next, a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of the liquid crystal display device according to the present embodiment, and FIG. 10 is a cross-sectional view taken along a cutting line AA shown in FIG.
[0056]
The liquid crystal display element of this embodiment is different from the liquid crystal display element of the first embodiment in that an insulating layer 17 and a metal light-shielding layer 18 are provided at a portion where the signal connection portion 15 overlaps the cutting line 41 of the counter substrate 20. Instead of providing the laminated film, a configuration is provided in which a spacer 37 made of a light-shielding body reaching the counter substrate 20 is provided.
[0057]
Next, the method for fabricating the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIGS.
[0058]
The liquid crystal display element is required as a liquid crystal display element by forming a pattern on the array substrate 10 and the opposing substrate 20 having a size larger than the required size and then irradiating a laser beam along the cutting lines 40 and 41. It is manufactured by cutting into various external dimensions. FIG. 11 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel on which a pattern has been formed, but has not yet been cut into external dimensions necessary for a liquid crystal display element by irradiating a laser beam, and FIG. FIG. 2 shows a cross-sectional view when cut at B.
[0059]
First, a plurality of scanning lines (not shown) and a plurality of signal lines (not shown) intersecting the plurality of scanning lines are formed on the display area of the glass substrate 11 constituting the array substrate 10 by using a normal manufacturing process. Not shown), a pixel electrode (not shown) provided at the intersection of the scanning line and the signal line, an opening / closing operation by a corresponding scanning line provided corresponding to the pixel electrode, and one end connected to the corresponding signal line. A TFT (not shown) made of, for example, polysilicon and having the other end connected to the corresponding pixel electrode is formed. Outside the display area on the glass substrate 11, a signal connection portion 15 and a wiring 14 connected to the signal connection portion 15 via the signal line and the scanning line are formed. Then, a laminated film including the insulating layer 17 and the metal light shielding layer 18 is formed on the region of each wiring 14 corresponding to the end surface of the counter substrate 20 cut by irradiating the laser beam. Further, a spacer 31 is formed in the display area. When the spacer 31 is formed, a spacer 37 made of a light-shielding body is formed at a portion of the array substrate 10 where the signal connection portion 15 is located and overlaps with the cutting line 41 of the counter substrate 20. Thereafter, the glass substrate 11 and the thermoplastic resin substrate 12 each having a thickness of 0.1 mm are bonded with an adhesive to form the array substrate 10 (see FIG. 11).
[0060]
On the other hand, a counter electrode made of ITO is formed in a region corresponding to the display region of the glass substrate 21 constituting the counter substrate 20. Thereafter, the glass substrate 21 and the thermoplastic resin substrate 22 each having a thickness of 0.1 mm are bonded with an adhesive to form a counter substrate 20 (see FIG. 11).
[0061]
Then, a sealing material 31 is applied around the display area of the glass substrate 11 constituting the array substrate 10, and the glass substrate 11 and the glass substrate 21 constituting the opposing substrate face each other and are spaced at predetermined intervals by the spacers 31 and 37. The array substrate 10 and the opposing substrate 20 are bonded so as to be held. The spacer 37 is made of a material that absorbs laser light having a wavelength in the ultraviolet region.
[0062]
Thereafter, the liquid crystal 35 is injected into the display area from an injection port (not shown), and the injection port is coated with, for example, an ultraviolet curable resin, and the ultraviolet curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays to seal the liquid crystal 35. . Thus, the liquid crystal panel shown in FIG. 11 is completed.
[0063]
In the liquid crystal panel thus formed, as shown in FIG. 11, the cutting line 40 of the array substrate 10 and the cutting line 41 of the counter substrate 20 are planar on the side of the array substrate 10 where the signal connection portion 15 is not provided. However, on one side of the signal connection portion 15, the cutting line 41 of the counter substrate 20 is located inside the signal connection portion 15 of the array substrate 10, and a portion intersecting with the wiring 14 on the array substrate 10 is generated. The metal light-shielding layer 18 is laminated via the insulating layer 17 on the region of the wiring 14 where the wiring 14 intersects the cutting line 41 of the counter substrate 20.
[0064]
Next, the fourth harmonic (wavelength: 266 nm) of the YAG laser is irradiated along the cutting line 40 from the resin substrate 12 side of the array substrate 10. Since the glass substrate 11 and the resin substrate 12 both absorb the fourth harmonic light 50 of the YAG laser, the array substrate 10 can be cut into a predetermined shape. Similarly, the fourth substrate 50 of the YAG laser is irradiated along the cutting line 41 from the resin substrate 22 side of the opposing substrate 20 to cut out the opposing substrate 20 into a predetermined shape. Thereby, as shown in FIGS. 11 and 12, the signal connection portion 15 formed at the side edge of the array substrate 10 can be exposed. At this time, since the spacers 37 made of a material that absorbs laser light are formed on the wirings 14 at which the wirings 14 on the array substrate 10 and the cutting lines 41 of the counter substrate 20 intersect, the counter substrate 20 is cut. Since the laser beam 50 that has passed through the counter substrate 20 during transmission does not pass through the spacer 37, the wiring 14 is not damaged, and the electrical connection between the scanning line or the signal line and the signal connection unit 15 is maintained. The counter substrate 20 can be cut into a predetermined shape.
[0065]
As described above, according to the present embodiment, disconnection or short circuit of the wiring can be prevented.
[0066]
Further, according to the liquid crystal display element of the present embodiment, when the opposing substrate 20 is cut into a predetermined shape, the opposing substrate 20 is cut on the cutting line 41 of the opposing substrate 20 at the side where the signal connection portion 15 is located on the array substrate 10 and in the vicinity thereof. Since the spacer 37 is formed and the gap is kept constant, the substrate is not warped even if a rigid substrate is used. Open or short circuit can be suppressed.
[0067]
(Fourth embodiment)
Next, a method for fabricating the liquid crystal display device according to the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
[0068]
In the method of manufacturing the liquid crystal display element according to this embodiment, first, the liquid crystal panel shown in FIG. 13, that is, the liquid crystal panel shown in FIG. 19 is formed.
[0069]
Next, after this liquid crystal panel is formed, the end of one side of the signal connection portion 15 is immersed in a liquid 65 that does not transmit by absorbing or scattering light in the ultraviolet region. The liquid 65 is held in the container 60. As an example of the liquid 65, a solution in which a dye or pigment such as black carbon, black, or red is dissolved in a solvent is used.
The liquid 65 enters a region sandwiched between the two substrates 10 and 20 by capillary action.
[0070]
Thereafter, as shown in FIG. 15, the fourth substrate 50 of the YAG laser is irradiated along the cutting line 41 from the resin substrate 22 side of the counter substrate 20 to cut the counter substrate 20 into a predetermined shape. At this time, the laser light 50 is absorbed or scattered by the liquid 65 on the side where the signal connection portion 15 is located, and the intensity is weakened. Therefore, the wiring 14 on the array substrate 10 is not damaged. The cutting of the array substrate 10 is performed along the cutting line 40.
[0071]
Finally, the liquid 65 is removed by performing clean air cleaning to complete the liquid crystal display element.
[0072]
As described above, according to the present embodiment, disconnection or short circuit of the wiring can be prevented.
[0073]
(Fifth embodiment)
Next, the method for fabricating the liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
[0074]
In the method of manufacturing the liquid crystal display device according to this embodiment, first, the liquid crystal panel shown in FIG. 16, that is, the liquid crystal panel shown in FIG. 19 is formed.
[0075]
In this liquid crystal panel, the cutting line 40 of the array substrate 10 and the cutting line 41 of the counter substrate 20 are planarly overlapped on the side of the array substrate 10 where the signal connection portion 15 is not provided, but on the side where the signal connection portion 15 is provided. The cutting line 41 of the opposing substrate 20 is located inside the signal connection portion 15 of the array substrate 10, and a portion intersecting with the wiring 14 on the array substrate 10 occurs. As shown in FIG. 17, the wiring 14 at a portion that intersects the cutting line 41 includes a portion arranged at regular intervals, the thickness L1 of the wiring 14 is 20 μm to 500 μm, and the interval L2 between the adjacent wirings 14 is It is about 30 μm to 500 μm.
[0076]
In this liquid crystal panel, the signal connection portion 15 is formed on only one side, but the same applies to a case where the signal connection portion 15 is formed on a plurality of sides.
[0077]
Subsequently, the array substrate 10 and the counter substrate 20 are cut into a predetermined shape along the cutting lines 40 and 41 by irradiating light 50 of the fourth harmonic (wavelength: 266 nm) of the YAG laser. Since both glass and plastic films absorb the light 50 of the fourth harmonic of the YAG laser, the substrate can be processed. As shown in FIG. 18, the spot diameter 51 of the irradiated laser beam is about 10 μm to 20 μm, and the irradiation energy is about 100 mW to 1000 mW. First, the array substrate 10 is irradiated with the fourth harmonic light 50 of the YAG laser along the cutting line 40 from the resin substrate 12 side of the array substrate 10 to cut the array substrate 10 into a predetermined shape. In this case, the laser may be continuously irradiated so as not to be interrupted on the cutting line 40, or may be discontinuously irradiated by thinning the cutting line 40.
[0078]
Similarly, the fourth substrate 50 of the YAG laser is irradiated along the cutting line 41 from the resin substrate 22 side of the opposing substrate 20 to cut out the opposing substrate 20 into a predetermined shape. At this time, the cutting of the opposing substrate 20 on the side of the array substrate 10 where the signal connection portion 15 is not provided may be performed by continuously irradiating a laser so as not to be interrupted on the cutting line 41 similarly to the array substrate 10. Alternatively, the irradiation may be discontinuously performed with the cutting line 41 thinned out. However, the cutting of the opposing substrate 20 on the side of the array substrate 10 where the signal connection portion 15 is located is performed as shown in FIG. 18 so as not to damage the wiring 14 on the array substrate 10 due to laser irradiation. It suffices that the laser beam 50 is irradiated only during the period 14.
[0079]
As described above, according to the present embodiment, disconnection or short circuit of the wiring can be prevented.
[0080]
Next, as a method of forming a liquid crystal panel using a substrate in which a thin glass substrate and a resin substrate made of a plastic film are bonded with an adhesive, a method of forming a liquid crystal panel using two thick glass substrates is used. After etching the back surface of each glass substrate to make it thinner and bonding a resin substrate made of a plastic film, or etching each of the two glass substrates from the back surface to make it thinner, the resin substrate made of a plastic film is removed. There is a method of forming a liquid crystal panel by bonding and further combining them. Each will be described.
[0081]
(A) When etching a glass substrate after forming a panel
First, a pattern such as a TFT, a wiring, and a connection pad is formed on a first glass substrate made of non-alkali glass such as borosilicate glass. For these forming methods, a forming method of an array substrate in a conventional active matrix type LCD using polysilicon for TFT can be used. The thickness of the first glass substrate is about 0.7 mm to 1.1 mm, and has sufficient strength to prevent cracking in the process of forming the pattern.
[0082]
In the display area on the first glass substrate, TFTs made of polysilicon are arranged in a matrix. The TFT includes a signal line made of Al having a thickness of 400 nm for inputting a signal to the TFT, a gate line made of a Mo-W alloy having a thickness of 300 nm for driving the TFT, and a transparent conductor such as ITO. A pixel electrode made of a material is connected.
[0083]
A drive circuit including a TFT made of polysilicon is formed around the display region, and a signal connection portion for signal input / output is arranged at an end of the first glass substrate. The wiring between the display region and the driving circuit and between the driving circuit and the signal connection portion are connected by wiring such as Al or Mo-W. These wirings may be formed at the same time as the formation of the gate lines and signal lines.
[0084]
Next, a counter electrode made of a transparent conductor material such as ITO is formed on a portion corresponding to a display region on a second glass substrate made of non-alkali glass such as borosilicate glass. The thickness of the second glass substrate is about 0.7 mm to 1.1 mm, and has sufficient strength to prevent cracking in the process of forming the counter electrode.
[0085]
Subsequently, a spacer made of an organic resin is formed on one of the first glass substrate and the second glass substrate, and a seal made of an adhesive material is formed outside the display region. Then, the first glass substrate and the second glass substrate are overlapped and held so as to have an interval of about 5 μm. Further, liquid crystal is injected into a region sandwiched between the first glass substrate and the second glass substrate and surrounded by the seal. Thus, a liquid crystal panel including the first glass substrate and the second glass substrate is completed.
[0086]
Subsequently, the first glass substrate and the second glass substrate of the liquid crystal panel manufactured by the above method are polished from the back surface, and the thickness of each glass substrate is reduced to about 0.01 mm to 0.2 mm. By setting the thickness to 0.01 mm or more, it is possible to prevent moisture or the like from entering and high reliability can be obtained. As a polishing method, there are mechanical polishing using a grindstone or an abrasive, chemical etching for melting glass using a chemical solution, and a combination thereof. Examples of the chemical solution for dissolving glass include hydrofluoric acid and mixed acids containing hydrofluoric acid. When the glass is polished with a chemical, it is necessary to protect the end face of the cell so that the seal is not exposed to the chemical and damaged.
[0087]
Further, a plastic film is attached to the first glass substrate and the second glass substrate thinned by the above method using an adhesive. As the adhesive, an ultraviolet curable adhesive, an acrylic adhesive, an epoxy resin, a thermosetting adhesive, or the like may be used. A plastic film having a thickness of about 0.025 mm to 0.4 mm is desirable. , Polyether ether ketone (PEEK), polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyolefin and the like. Further, when used as a liquid crystal display as in the above-described embodiment, it is more desirable that the material be transparent in the visible region and have small anisotropy in refractive index.
[0088]
By such a process, a panel including a thin glass substrate and a substrate to which a resin substrate is attached can be obtained.
[0089]
(B) When forming a panel after etching a glass substrate
First, a pattern such as a TFT, a wiring, and a connection pad is formed on a first glass substrate made of non-alkali glass such as borosilicate glass. For these forming methods, a conventional method for forming an active matrix substrate using polysilicon for a TFT can be used. The thickness of the first glass substrate is about 0.7 mm to 1.1 mm, and has sufficient strength to prevent cracking in the process of forming the pattern.
[0090]
In the display area on the first glass substrate, TFTs made of polysilicon are arranged in a matrix. The TFT includes a signal line made of Al having a thickness of 400 nm for inputting a signal to the TFT, a gate line made of a Mo-W alloy having a thickness of 300 nm for driving the TFT, and a transparent conductor material such as ITO. Pixel electrodes, etc. are connected.
[0091]
A drive circuit including a polysilicon TFT is formed around the display area, and a signal connection portion for signal input / output is arranged at an end of the first glass substrate. The wiring between the display region and the driving circuit and between the driving circuit and the signal connection portion are connected by wiring such as Al or Mo-W. These wirings may be formed at the same time as the formation of the gate lines and signal lines.
[0092]
Next, a counter electrode made of a transparent conductor material such as ITO is formed on a portion corresponding to a display region on a second glass substrate made of non-alkali glass such as borosilicate glass. The thickness of the second glass substrate is about 0.7 mm to 1.1 mm, and has a sufficient strength to prevent cracking in the process of forming the pattern.
[0093]
Subsequently, each of the upper first glass substrate and the second glass substrate is polished from the back surface, and the thickness of each glass is reduced to about 0.01 mm to 0.2 mm. As a polishing method, there are mechanical polishing using a grindstone or an abrasive, chemical etching for melting glass using a chemical solution, and a combination thereof. Examples of the chemical solution for dissolving glass include hydrofluoric acid and mixed acids containing hydrofluoric acid. In the case of polishing glass using a chemical, it is necessary to protect the surfaces and end faces of the first glass substrate and the second glass substrate from being exposed to the chemical and being damaged.
[0094]
Further, a plastic film is attached to the back surfaces of the first and second glass substrates thinned by the above method using an adhesive. As the adhesive, an ultraviolet curable adhesive, an acrylic adhesive, an epoxy resin, a thermosetting adhesive, or the like may be used. A plastic film having a thickness of about 0.025 mm to 0.4 mm is desirable. , Polyether ether ketone (PEEK), polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyolefin and the like. Further, when used as a liquid crystal display as in the above-described embodiment, it is more desirable that the material be transparent in the visible region and have small anisotropy in refractive index.
[0095]
By such a process, a first substrate and a second substrate to which thin glass and a plastic film are adhered can be obtained.
[0096]
Subsequently, a spacer made of an organic resin is formed on one of the first substrate and the second substrate, and a seal made of an adhesive material is formed outside the display region. The first substrate and the second substrate are overlapped and held so as to have an interval of about 5 μm. Further, liquid crystal is injected into a region sandwiched between the first substrate and the second substrate and surrounded by the seal.
[0097]
By such a process, a liquid crystal panel including a substrate on which thin glass and a plastic substrate are adhered can be obtained.
[0098]
Note that the UV laser has a wavelength of about 1 nm to 400 nm, and in each of the above embodiments, it is preferable to use a UV laser having a wavelength of 150 nm to 400 nm. By setting the wavelength to this range, it is possible to use a laser in an ultraviolet region that has sufficient power for cutting and is not absorbed by glass.
[0099]
In each of the above embodiments, Al, Mo, Cr, Cu, Ta, Ti, W, or an alloy thereof is used as the metal light shielding layer. Further, when the metal light-shielding layer made of Cr is formed on the counter substrate side, it can be formed together with BM (Black Matrix), so that the number of steps is reduced.
[0100]
In the present invention, it is only necessary to prevent disconnection or short circuit of the wiring, and it is not necessary that the light-shielding layer can completely shield the laser. For example, the light shielding layer itself may be damaged.
[0101]
The spacer includes a spacer column and a spacer sphere. Acrylic resin, epoxy resin, polyimide, or the like is used to form the spacer pillar. In terms of process, photosensitive acrylic resin, photosensitive polyimide, or the like is used because the number of steps is reduced when the photosensitive material is used. In particular, when the spacer is used for light shielding, the spacer can be formed together with the spacer in the display surface, so that the number of steps can be reduced. As the spacer sphere, divinylbenzene copolymer (trade name: Micropearl), silica (SiO 2) 2 ) Or silica coated with divinylbenzene.
[0102]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, disconnection or short-circuit of a wiring can be prevented.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the first embodiment when cut along a cutting line AA shown in FIG.
FIG. 3 is a sectional view showing a liquid crystal panel of the liquid crystal display device according to the first embodiment.
FIG. 4 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the first embodiment when cut along a cutting line BB shown in FIG. 3;
FIG. 5 is a sectional view showing a configuration of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the second embodiment when cut along a cutting line AA shown in FIG.
FIG. 7 is a sectional view showing a liquid crystal panel of a liquid crystal display device according to a second embodiment.
8 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the second embodiment, taken along a cutting line BB shown in FIG.
FIG. 9 is a sectional view showing a configuration of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the third embodiment, taken along a cutting line AA shown in FIG.
FIG. 11 is a sectional view showing a liquid crystal panel of a liquid crystal display device according to a third embodiment.
FIG. 12 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the third embodiment when cut along a cutting line BB shown in FIG. 11;
FIG. 13 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal cell used in a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a view for explaining the manufacturing method according to the fourth embodiment;
FIG. 15 is a view for explaining the manufacturing method according to the fourth embodiment;
FIG. 16 is a sectional view showing the configuration of a liquid crystal panel used in the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the fifth embodiment.
FIG. 17 is a view for explaining a relationship between wirings connected to a signal connection portion of a liquid crystal panel used in the manufacturing method according to the fifth embodiment.
FIG. 18 is a view for explaining the manufacturing method according to the fifth embodiment;
FIG. 19 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display element.
20 is a cross-sectional view of the liquid crystal display element taken along a cutting line AA shown in FIG.
FIG. 21 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal panel of a liquid crystal display element.
FIG. 22 is a cross-sectional view of the liquid crystal display element when cut along a cutting line BB shown in FIG. 21;
FIG. 23 is a diagram illustrating a problem when a counter substrate having low rigidity is used.
[Explanation of symbols]
10 Array substrate
11 Glass substrate
12 Resin substrate
14 Wiring
15 signal connection
17 Insulating layer
18 Metal shading layer
20 Counter substrate
21 Glass substrate
22 Resin substrate
23 insulating layer
24 Metal shading layer
25 End face
31 Spacer
32 Sealing material
35 LCD

Claims (9)

樹脂基板と第1のガラス基板とを接着層を介して接着され、前記第1のガラス基板に素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、
樹脂基板と第2のガラス基板とを接着層を介して接着され、第2の表示領域を有し、前記第1のガラス基板及び前記第2のガラス基板を内側として前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、端面が前記配線上に位置する第2の基板と、
前記第2の基板の前記端面に対応する、前記第1の基板の前記配線上の位置に設けられた紫外領域のレーザー光を遮光する材料からなる材料膜と
を備えたことを特徴とする表示素子。
A first display region in which a resin substrate and a first glass substrate are bonded via an adhesive layer, and an element is formed on the first glass substrate; a signal connection portion formed outside the display region; A first substrate having a wiring connecting the signal connection portion and the element,
A resin substrate and a second glass substrate are adhered via an adhesive layer, and have a second display region, wherein the first glass substrate and the second glass substrate are inside and the first display region is A second substrate, which is held at a predetermined interval with the first substrate so that the second display region faces and overlaps with each other, and an end surface of which is located on the wiring;
And a material film made of a material that shields laser light in an ultraviolet region provided at a position on the wiring of the first substrate corresponding to the end face of the second substrate. element.
前記材料膜は、前記第1の基板側に絶縁層を介して形成された前記紫外領域のレーザー光を遮光する遮光層を備えていることを特徴とする請求項1記載の表示素子。2. The display element according to claim 1, wherein the material film includes a light-shielding layer formed on the first substrate side via an insulating layer to shield the laser light in the ultraviolet region. 前記材料膜は、前記第2の基板側に絶縁層を介して形成された前記紫外領域のレーザー光を遮光する遮光層を備えていることを特徴とする請求項1記載の表示素子。The display element according to claim 1, wherein the material film includes a light-shielding layer formed on the second substrate side via an insulating layer to shield the laser light in the ultraviolet region. 前記材料膜は、前記第1の基板の前記配線上の位置から前記第2の基板の前記端面に達するように形成された紫外領域のレーザー光を遮光する材料からなるスペーサであることを特徴とする請求項1記載の表示素子。The material film is a spacer formed of a material that blocks laser light in an ultraviolet region formed so as to reach the end face of the second substrate from a position on the wiring of the first substrate. The display element according to claim 1, wherein 素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板と、
前記第2の基板の切断線に対応する、前記第1の基板の前記配線上の位置に形成された紫外領域のレーザー光を遮光する遮光層と
を備え、
前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、
前記パネルの前記第2の基板に前記切断線に沿って紫外領域のレーザー光を照射し、切断することを特徴とする表示素子の製造方法。
A first substrate having a first display region in which elements are formed, a signal connection portion formed outside the display region, and a wiring connecting the signal connection portion and the element; and a second display region And the first display area and the second display area are held at a predetermined distance from the first substrate so as to face and overlap with each other, and at least a part of a cutting line is formed on the wiring. A second substrate located at
A light-shielding layer that shields laser light in an ultraviolet region formed at a position on the wiring of the first substrate corresponding to a cutting line of the second substrate,
As the first substrate and the second substrate, a resin substrate and a glass substrate are bonded via an adhesive layer, and panels with the glass substrate inside are formed, respectively.
A method for manufacturing a display element, comprising irradiating the second substrate of the panel with laser light in an ultraviolet region along the cutting line to cut the panel.
素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板と、前記第2の基板の前記切断線の一部の近傍に形成された紫外領域のレーザー光を遮光する遮光層と
を備え、
前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、前記パネルの前記第2の基板に前記切断線に沿って紫外領域のレーザー光を照射し、切断することを特徴とする表示素子の製造方法。
A first substrate having a first display region in which elements are formed, a signal connection portion formed outside the display region, and a wiring connecting the signal connection portion and the element; and a second display region And the first display area and the second display area are held at a predetermined distance from the first substrate so as to face and overlap with each other, and at least a part of a cutting line is formed on the wiring. And a light-shielding layer that shields laser light in an ultraviolet region formed near a part of the cutting line of the second substrate,
As the first substrate and the second substrate, a resin substrate and a glass substrate are bonded via an adhesive layer, and panels having the glass substrate inside are formed, respectively, and the second substrate of the panel is formed on the second substrate. A method for manufacturing a display element, comprising irradiating a laser beam in an ultraviolet region along a cutting line and cutting the same.
素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板と、前記第2の基板の前記切断線に対応する、前記第1の基板の前記配線上の位置に前記切断線に達するように形成された紫外領域のレーザー光を吸収する材料からなるスペーサとを備え、
前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、前記パネルの前記第2の基板に前記切断線に沿って紫外領域のレーザー光を照射し、切断することを特徴とする表示素子の製造方法。
A first substrate having a first display region in which elements are formed, a signal connection portion formed outside the display region, and a wiring connecting the signal connection portion and the element; and a second display region And the first display area and the second display area are held at a predetermined distance from the first substrate so as to face and overlap with each other, and at least a part of a cutting line is formed on the wiring. And a laser beam in an ultraviolet region formed so as to reach the cutting line at a position on the wiring of the first substrate corresponding to the cutting line of the second substrate. And a spacer made of an absorbing material,
As the first substrate and the second substrate, a resin substrate and a glass substrate are bonded via an adhesive layer, and panels having the glass substrate inside are formed, respectively, and the second substrate of the panel is formed on the second substrate. A method for manufacturing a display element, comprising irradiating a laser beam in an ultraviolet region along a cutting line and cutting the same.
素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板とを備え、
前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、前記パネルを、紫外領域のレーザー光を吸収する液体に浸し、前記パネルの前記第2の基板に前記切断線に沿って紫外領域のレーザー光を照射し、切断することを特徴とする表示素子の製造方法。
A first substrate having a first display region in which elements are formed, a signal connection portion formed outside the display region, and a wiring connecting the signal connection portion and the element; and a second display region And the first display area and the second display area are held at a predetermined distance from the first substrate so as to face and overlap with each other, and at least a part of a cutting line is formed on the wiring. And a second substrate located at
As the first substrate and the second substrate, a resin substrate and a glass substrate are bonded via an adhesive layer, and panels with the glass substrate inside are formed, and the panel is irradiated with laser light in an ultraviolet region. A method of manufacturing a display element, comprising immersing the substrate in an absorbing liquid, irradiating the second substrate of the panel with laser light in an ultraviolet region along the cutting line, and cutting the panel.
素子が形成された第1の表示領域、前記表示領域の外部に形成された信号接続部、および前記信号接続部と前記素子とを接続する配線を有する第1の基板と、第2の表示領域を有し、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域が対向して重なるように前記第1の基板と所定の間隔を有して保持され、切断線の少なくとも一部が前記配線上に位置する第2の基板とを備え、
前記第1の基板及び第2の基板として、樹脂基板とガラス基板とを接着層を介して接着し、夫々前記ガラス基板を内側としたパネルを形成し、前記パネルの前記第2の基板に紫外領域のレーザー光を前記切断線に沿って照射して切断する際に、前記切断線の少なくとも一部上では、前記配線の間にのみ紫外領域のレーザー光を照射することを特徴とする表示素子の製造方法。
A first substrate having a first display region in which elements are formed, a signal connection portion formed outside the display region, and a wiring connecting the signal connection portion and the element; and a second display region And the first display area and the second display area are held at a predetermined distance from the first substrate so as to face and overlap with each other, and at least a part of a cutting line is formed on the wiring. And a second substrate located at
As the first substrate and the second substrate, a resin substrate and a glass substrate are adhered through an adhesive layer to form panels with the glass substrate inside, respectively. A display element characterized in that when cutting by irradiating laser light in a region along the cutting line, at least a part of the cutting line is irradiated with laser light in an ultraviolet region only between the wirings. Manufacturing method.
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