JP2004125850A - Infrared sensitive photosensitive composition - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an infrared sensitive photosensitive composition which is high in the difference (dissolution discrimination) of alkali solubility in exposed and unexposed sections and has excellent development latitude and high sensitivity when the composition is used for an image forming layer etc., of an original plate for a planographic printing plate. <P>SOLUTION: The composition is characterized by containing (A) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, (B) a photothermal conversion material, and (C) a compound which is decomposed by the action of acid to generate a sulfonic acid. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【００１３】
式中、
Ｒはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。
Ｒ_０は−ＣＯＯ−Ｒ_０で酸の作用により分解する基を構成する基を表す。
Ｒ_１はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基又はアリーロキシ基を表す。
Ｒ_２はアルキル基又はアラルキル基を表す。
Ｒ_３はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ_４及びＲ_５は各々独立に、アルキル基を表す。但し、Ｒ_４とＲ_５が互いに結合し環を形成してもよい。
Ｒ_６は水素原子又はアルキル基を表す。
Ｒ_７及びＲ_９は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。但し、Ｒ_７とＲ_９が互いに結合し環を形成してもよい。
Ｒ_８はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ_１０及びＲ_１１は各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基又はアルケニルオキシ基を表す。但し、Ｒ_１０とＲ_１１が互いに結合し環を形成してもよい。
【００１４】
本発明の機構については不明な点があるが、成分（Ｃ）の酸の作用により分解し、スルホン酸を発生する化合物を含有させることで、未露光部のアルカリ溶解阻止性が向上し、露光部においてはアルカリ溶解性が向上する作用を発現するものと考えられる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の感赤外線感光性組成物の各成分について、詳細に説明する。
［本発明（Ａ）のフェノール水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂］
本発明において使用するアルカリ可溶性樹脂は（以下、適宜、アルカリ可溶性高分子と称する）とは、水不溶性且つアルカリ溶解性を有する高分子化合物であり、高分子中の主鎖および／または側鎖にフェノール性水酸基を含有する単独重合体、これらの共重合体またはこれらの混合物を包含する。従って、本発明に係る感熱層は、赤外線レーザー露光後、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものである。
本発明に使用されるアルカリ可溶性高分子は、従来公知のものであれば特に制限はない。例えば以下のものが例示されるが、これらに限定されるものではない。
【００１６】
（１）ノボラック又はレゾール樹脂
フェノール、クレゾール（ｏ−、ｍ−、ｐ−体）、キシレノール（２，３−、２，５−、３，５−体等）、レゾルシン、ピロガロールを適宜混合し、ホルムアルデヒドと縮合させたノボラック樹脂やレゾール樹脂が挙げられる。好ましくはノボラック樹脂であり、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂、フェノール／キシレノール（２，３−、２，５−、３，５−、又はこれらの混合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）／キシレノール（２，３−、２，５−、３，５−、又はこれらの混合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂、フェノール／キシレノール（２，３−、２，５−、３，５−、又はこれらの混合のいずれでもよい）／レゾルシン又はピロガロール混合ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール／キシレノール（２，３−、２，５−、３，５−、又はこれらの混合のいずれでもよい）／レゾルシン又はピロガロール混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、更にレゾルシン又はピロガロールアセトン樹脂が挙げられる。
（２）側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物
側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。
【００１７】
フェノール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、３−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン、３−メトキシ−ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート等を好適に使用することができる。好適にはポリヒドロキシスチレン類（ｏ−、ｍ−、ｐ−ヒドロキシスチレン、３−置換−４−ヒドロキシスチレン及びこれらの共重合体）を挙げることができる。
本発明において、フェノール性水酸基を側鎖に有する高分子化合物が、上記フェノール性水酸基を有する重合性モノマーと他の重合性モノマーとの共重合体である場合には、フェノール性水酸基を有するモノマーは１０モル％以上含むことが好ましく、２０モル％以上含むものがより好ましい。共重合成分が１０モル％より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやすく、現像ラチチュードの向上効果が十分達成されないことがある。
【００１８】
フェノール性水酸基を有する重合性モノマーと共重合させるモノマー成分としては、下記（ｍ１）〜（ｍ１２）に挙げる化合物を例示することができるが、これらに限定されるものではない。
（ｍ１）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（ｍ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート等のアルキルアクリレート。
（ｍ３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
（ｍ４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
【００１９】
（ｍ５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（ｍ６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（ｍ７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（ｍ８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（ｍ９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（ｍ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（ｍ１１）マレイミド、ｎ−メチルマレイミド、ｎ−シクロヘキシルマレイミド、ｎ−フェニルマレイミド等の不飽和イミド類。
（ｍ１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【００２０】
アルカリ可溶性高分子化合物の共重合の方法としては、従来知られている、グラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることができる。
【００２１】
また本発明におけるフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂の分子量は、前記ノボラック樹脂又はレゾール樹脂の場合、重量平均分子量Ｍｗが好ましくは５００〜２０，０００、より好ましくは１，０００〜１０，０００であり、数平均分子量Ｍｎが好ましくは２００〜５，０００、より好ましくは５００〜３，０００である。分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は３〜１２の範囲である。フェノール性水酸基を側鎖に有する高分子化合物の場合、重量平均分子量で２，０００以上、数平均分子量が５００以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が５，０００〜３００，０００で、数平均分子量が８００〜１００，０００であり、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．１〜８のものである。分子量が小さすぎると十分な塗膜が得られず、大きすぎると現像性が劣る傾向がある。
【００２２】
これらフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂は、１種あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
これらアルカリ可溶性樹脂は、組成物の全固形分中、好ましくは３０〜９９質量％、より好ましくは４０〜９５質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％の添加量で用いられる。アルカリ可溶性樹脂の添加量が３０質量％未満であると感熱層の耐久性が悪化し、また、９９質量％を超えると感度、耐久性の両面で好ましくない。
【００２３】
［本発明（Ｂ）の光熱変換物質］
本発明において用いられる光熱変換物質は、赤外光を吸収し熱を発生する物質であれば特に制限はなく、赤外線吸収染料のほか、赤外線吸収顔料として知られる種々の顔料を用いることができる。好ましくは赤外線吸収染料であり、以下に示したものが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００２４】
本発明に係る赤外線吸収染料としては、市販の染料及び文献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明において、これらの染料のうち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。
【００２５】
そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料としては例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号各公報等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号各公報等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号各公報等に記載されているナフトキノン染料、　特開昭５８−１１２７９２号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第４３４，８７５号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【００２６】
更に、染料として米国特許第５，１５６，９３８号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号各公報に開示されているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ　ＩＩＩ−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ　ＩＩＩ−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ　ＩＩＩ−１２５等が、特に好ましく用いられる。
また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【００２７】
赤外線吸収顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
【００２８】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
【００２９】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【００３０】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは分散物の記録層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると記録層の均一性の点で好ましくない。
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。
【００３１】
本発明において光熱変換物質の添加量としては、感光性組成物の全固形分に対し好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％、特に好ましくは０．５〜１０質量％である。染料の添加量が０．０１質量％未満であると感度が低くなる傾向があり、また５０質量％を超えると感熱層の均一性が失われ、感熱層の耐久性が悪くなる傾向がある。
【００３２】
［本発明（Ｃ）の酸の作用により分解しスルホン酸を発生する化合物］
本発明（Ｃ）の酸の作用により分解し、スルホン酸を発生する化合物は、酸の存在下、好ましくは加熱条件でスルホン酸を発生する化合物である。発生したスルホン酸により、再度化合物（Ｃ）よりスルホン酸を発生する。従って連鎖的にスルホン酸発生が進行する。このような化合物としては、Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｏｆ　ＳＰＩＥ，ｖｏｌ．３０４９，ｐ７６−８２及び特開平８−２４８５６１号公報に開示された、光酸発生化合物から発生した酸により新たにスルホン酸を発生する化合物を例示することができる。好ましくは下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化合物が挙げられる。
【００３３】
【化３】

【００３４】
一般式（Ｉ）中、
Ｒはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。
Ｒ_０は−ＣＯＯ−Ｒ_０で酸の作用により分解する基を構成する基を表す。
Ｒ_１はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基又はアリーロキシ基を表す。
Ｒ_２はアルキル基又はアラルキル基を表す。
一般式（ＩＩ）中、
Ｒは前記一般式（Ｉ）で説明したのと同義である。
Ｒ_３はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ_４及びＲ_５は各々独立に、アルキル基を表す。但し、Ｒ_４とＲ_５が互いに結合し環を形成してもよい。
Ｒ_６は水素原子又はアルキル基を表す。
一般式（ＩＩＩ）中、
Ｒは前記一般式（Ｉ）で説明したのと同義である。
Ｒ_７及びＲ_９は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。但し、Ｒ_７とＲ_９が互いに結合し環を形成してもよい。
Ｒ_８はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。
一般式（ＩＶ）中、
Ｒは前記一般式（Ｉ）で説明したのと同義である。
Ｒ_１０及びＲ_１１は各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基又はアルケニルオキシ基を表す。但し、Ｒ_１０とＲ_１１が互いに結合し環を形成してもよい。
一般式（Ｖ）中、
Ｒは前記一般式（Ｉ）で説明したのと同義である。
尚、上記において、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基及びアルケニルオキシ基は各々置換基を有していてもよい。
【００３５】
上記アルキル基としては、例えば炭素数１〜８個のアルキル基であって、具体的には置換基を有しても良いメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基を好ましく挙げることができる。
シクロアルキル基としては単環型でも良く、多環型でも良い。単環型としては炭素数３〜８個のものであって、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基を好ましく挙げることができる。多環型としては例えば、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボロニル基、カンファニル基、ジシクロペンチル基、α−ピネル基、トリシクロデカニル基等を好ましく挙げることができる。
【００３６】
アリール基としては、例えば炭素数６〜１５個のアリール基であって、具体的には置換基を有しても良いフェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基、アントリル基等を好ましく挙げることができる。
アラルキル基としては、例えば炭素数７〜１２個のアラルキル基であって、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等を好ましく挙げることができる。
アルケニル基としては、例えば炭素数２〜８個のアルケニル基であって、具体的には、ビニル基、アリル基、ブテニル基、シクロヘキセニル基を好ましく挙げることができる。
【００３７】
アルコキシ基としては、例えば炭素数１〜８個のアルコキシ基であって、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、アリルオキシ基、オクトキシ基等を好ましく挙げることができる。
アリーロキシ基としては、例えば炭素数６〜１５個のアリーロキシ基であって、具体的には、フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフトキシ基等を好ましく挙げることができる。
アルケニルオキシ基としては、例えば炭素数２〜８個のアルケニルオキシ基であって、具体的には、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、ブテニルオキシ基等を好ましく挙げることができる。
【００３８】
またこれらの基に置換される置換基としては、アミド基、ウレイド基、ヒドロキシル基等の活性水素を有するものや、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等）、チオエーテル基、アシル基（アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基等）、アミノ基、アルキルアミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基等）、ジアルキルアミノ基（ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピル基、ピロリジル基等）、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【００３９】
またＲ_４とＲ_５が互いに結合して形成する環としては、１，３−ジオキソラン環、１，３−ジオキサン環等が挙げられる。Ｒ_７とＲ_９が互いに結合して形成する環としては、シクロペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられる。Ｒ_１０とＲ_１１が互いに結合して形成する環としては、環内に酸素原子を含んでいてもよい、３−オキソシクロヘキセニル環、３−オキソインデニル環等が挙げられる。
【００４０】
酸分解性基−ＣＯＯ−Ｒ_０中のＲ_０としては、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基等の３級アルキル基、イソボロニル基等の３級シクロアルキル基、１−エトキシエチル基、１−ブトキシエチル基、１−イソブトキシエチル基、１−シクロヘキシルオキシエチル基等の１−アルコキシエチル基、１−メトキシメチル基、１−エトキシメチル基等のアルコキシメチル基の他、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、トリアルキルシリル基、３−オキソシクロヘキシル基等を好ましく挙げることができる。
以下に一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４１】
【化４】

【００４２】
【化５】

【００４３】
【化６】

【００４４】
【化７】

【００４５】
本発明において、（Ｃ）のスルホン酸発生化合物の添加量としては、感光性組成物の全固形分に対し０．０１〜１０質量％であるのが好ましく、より好ましくは０．０５〜５質量％である。（Ｃ）成分の添加量が少なすぎると感度が低下し、逆に多すぎると共存するフェノール性水酸基を有する樹脂との相溶性が劣化し、印刷時の耐刷性が低下する。
【００４６】
［その他の成分］
本発明の感赤外線感光性組成物を形成するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。以下に、添加剤の例を挙げて説明する。
例えばオニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することは、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点では、好ましい。オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げることができる。
【００４７】
本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えば　Ｓ．　Ｉ．　Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，　Ｐｈｏｔｏｇｒ．　Ｓｃｉ．　Ｅｎｇ．，　１８，　３８７（１９７４）　、Ｔ．　Ｓ．　Ｂａｌ　ｅｔ　ａｌ，　Ｐｏｌｙｍｅｒ，　２１，　４２３（１９８０）　、特開平５−１５８２３０号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５　号、同４，０６９，０５６　号、特開平３−１４０１４０号の明細書に記載のアンモニウム塩、Ｄ．　Ｃ．　Ｎｅｃｋｅｒ　ｅｔ　ａｌ，　　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，　１７，　２４６８（１９８４）、Ｃ．　Ｓ．　Ｗｅｎ　ｅｔ　ａｌ，　Ｔｅｈ，　Ｐｒｏｃ．　Ｃｏｎｆ．　Ｒａｄ．　Ｃｕｒｉｎｇ　ＡＳＩＡ，　ｐ４７８　Ｔｏｋｙｏ，　Ｏｃｔ　（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５　号、同４，０６９，０５６　号に記載のホスホニウム塩、Ｊ．　Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，　１０（６），　１３０７　（１９７７）、Ｃｈｅｍ．　＆　Ｅｎｇ．　Ｎｅｗｓ，　Ｎｏｖ．　２８，　ｐ３１　（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３　号、米国特許第３３９，０４９　号、同第４１０，２０１　号、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、Ｊ．　Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｊ．　１７，　７３　（１９８５）、Ｊ．　Ｖ．　Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ．　Ｊ．　Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，　４３，　３０５５　（１９７８）、Ｗ．　Ｒ．　Ｗａｔｔ　ｅｔ　ａｌ，　Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ．，　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，　２２，　１７８９　（１９８４）　、Ｊ．　Ｖ．　Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｂｕｌｌ．，　１４，　２７９　（１９８５）、Ｊ．　Ｖ．　Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，　１４（５）　，１１４１（１９８１）、Ｊ．　Ｖ．　Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔａｌ，　Ｊ．　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ．，　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍ．　Ｅｄ．，　１７，　２８７７　（１９７９）　、欧州特許第３７０，６９３　号、同２３３，５６７　号、同２９７，４４３　号、同２９７，４４２　号、米国特許第４，９３３，３７７　号、同３，９０２，１１４　号、同４１０，２０１　号、同３３９，０４９　号、同４，７６０，０１３　号、同４，７３４，４４４　号、同２，８３３，８２７　号、独国特許第２，９０４，６２６　号、同３，６０４，５８０　号、同３，６０４，５８１　号に記載のスルホニウム塩、Ｊ．　Ｖ．　Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，　１０（６），　１３０７　（１９７７）、Ｊ．　Ｖ．　Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，　Ｊ．　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ．，　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，　１７，　１０４７　（１９７９）　に記載のセレノニウム塩、Ｃ．　Ｓ．　Ｗｅｎ　ｅｔ　ａｌ，　Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．　Ｒａｄ．　Ｃｕｒｉｎｇ　ＡＳＩＡ，　ｐ４７８　Ｔｏｋｙｏ，　Ｏｃｔ　（１９８８）に記載のアルソニウム塩等があげられる。
オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平５−１５８２３０号公報記載のものがあげられる。
【００４８】
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
【００４９】
好適なキノンジアジド類としてはｏ−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、ｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ．　Ｉｎｃ．）第３３９〜３５２頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭４３−２８４０３　号公報に記載されているようなベンゾキノン（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第３，０４６，１２０　号及び同第３，１８８，２１０　号に記載されているベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
【００５０】
さらにナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。
例えば特開昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２　号、特開昭４８−６３８０３　号、特開昭４８−９６５７５　号、特開昭４９−３８７０１　号、特開昭４８−１３３５４　号、特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公昭４９−１７４８１　号、米国特許第２，７９７，２１３　号、同第３，４５４，４００　号、同第３，５４４，３２３　号、同第３，５７３，９１７　号、同第３，６７４，４９５　号、同第３，７８５，８２５　号、英国特許第１，２２７，６０２　号、同第１，２５１，３４５　号、同第１，２６７，００５　号、同第１，３２９，８８８　号、同第１，３３０，９３２　号、ドイツ特許第８５４，８９０　号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。
【００５１】
ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は好ましくは本発明の組成物の全固形分に対し、１〜５０質量％、更に好ましくは５〜３０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
【００５２】
ｏ−キノンジアジド化合物以外の上記の添加剤の添加量は、好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは５〜３０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％である。
【００５３】
また、画像のディスクリミネーションの強化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開２０００−１８７３１８号公報に記載されているような、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することが好ましい。添加量としては、組成物中に占める割合が０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。
【００５４】
本発明の感赤外線感光性組成物には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許第６１１７９１３号明細書に用いられているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルなどを挙げることが出来る。添加量として好ましいのは、組成物中に占める割合が０．１〜１０質量％。より好ましくは０．５〜５質量％である。
【００５５】
また、本発明の感赤外線感光性組成物には、必要に応じて溶解性を向上させる目的で低分子量の酸性基を有する化合物を含んでもよい。酸性基としては、チオール基、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、活性メチレン基等のｐＫａ値が７〜１１までの酸性基を挙げることができる。
添加量として好ましいのは、組成物中に占める割合が０．０５〜５質量％。より好ましくは０．１〜３質量％である。５％より多いと各層の現像液に対する溶解性が増加してしまう傾向があり、好ましくない。
【００５６】
また、本発明においては、溶解性を調節する目的で種々の溶解抑制剤を含んでもよい。溶解抑制剤としては、特開平１１−１１９４１８公報に示されるようなジスルホン化合物又はスルホン化合物が好適に用いられ、具体例として、４，４’−ビスヒドロキシフェニルスルホンを用いることが好ましい。
添加量として好ましいのは、それぞれ組成物中に占める割合が０．０５〜２０質量％。より好ましくは０．５〜１０質量％である。
【００５７】
また、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８　号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−Δ４　−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。
フェノール類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４′，４″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
【００５８】
更に、有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の組成物中に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
【００５９】
また、本発明の感赤外線感光性組成物には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平１１−２８８０９３号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。さらに、塗布面質を向上するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
【００６０】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一工業（株）製）等が挙げられる。
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、（株）チッソ社製、ＤＢＥ−２２４，ＤＢＥ−６２１，ＤＢＥ−７１２，ＤＢＰ−７３２，ＤＢＰ−５３４、独Ｔｅｇｏ社製、Ｔｅｇｏ　Ｇｌｉｄｅ１００等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることが出来る。
上記界面活性剤の組成物中に占める割合は、０．０５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【００６１】
本発明の感赤外線感光性組成物には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６４４号及び同６３−５８４４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
【００６２】
画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。
具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい。
これらの染料は、組成物の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で添加することができる。
【００６３】
更に本発明の組成物中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
【００６４】
その他本発明の組成物中には、画像のインキ着肉性を向上させるための、疎水基を有する各種樹脂、例えばオクチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｔ−ブチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｔ−ブチルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジン変性ノボラック樹脂、及びこれら変性ノボラック樹脂のｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル等を加えることができる。これらの添加量は組成物全質量に対して、０．０１〜３０質量％の範囲が好ましい。
【００６５】
更にこれらの組成物中には、皮膜の耐摩耗性を更に向上させるための公知の樹脂を添加できる。これらの樹脂としては、例えばポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、ナイロン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等があり、単独または混合して使用することができる。添加量は組成物全質量に対して、２〜４０質量％の範囲が好ましい。
【００６６】
本発明の組成物は、上記した通り、平版印刷版用の画像形成層（以下感光層と呼ぶことがある）として使用するのが好ましい。
本発明の感赤外線感光性組成物から平版印刷版用感光材料を得る場合には、まずそれが適当な支持体上に画像形成層として設けられる。
以下、本発明の組成物を、平版印刷版用の画像形成層として使用する場合について説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、下記の有機溶剤の単独あるいは混合したものに溶解または分散され、支持体に塗布され乾燥される。
有機溶剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、沸点４０℃〜２００℃、特に６０℃〜１６０℃の範囲のものが、乾燥の際における有利さから選択される。
【００６７】
有機溶剤としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−またはイソ−プロピルアルコール、ｎ−またはイソ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メトキシベンゼン等の炭化水素類、エチルアセテート、ｎ−またはイソ−プロピルアセテート、ｎ−またはイソ−ブチルアセテート、エチルブチルアセテート、ヘキシルアセテート等の酢酸エステル類、メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼン等のハロゲン化物、イソプロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテル、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
【００６８】
エチレングリコール、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、ジエチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール等の多価アルコールとその誘導体、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の特殊溶剤などが単独あるいは混合して好適に使用される。そして、組成物中の固形分の濃度は、２〜５０質量％とするのが適当である。
【００６９】
本発明の組成物の塗布方法としては、例えばロールコーティング、ディップコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、グラビアオフセットコーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーティング、スプレーコーティング等の方法が用いられ、乾燥後の質量にして０．３〜４．０ｇ／ｍ^２が好ましい。塗布量が小さくなるにつれて画像を得るための露光量は小さくて済むが、膜強度は低下する。塗布量が大きくなるにつれ、露光量を必要とするが感光膜は強くなり、例えば、印刷版として用いた場合、印刷可能枚数の高い（高耐刷の）印刷版が得られる。
【００７０】
支持体上に塗布された感光性組成物の乾燥は、通常加熱された空気によって行われる。加熱は３０℃〜２００℃、特に４０℃〜１４０℃の範囲が好適である。乾燥の温度は乾燥中一定に保たれる方法だけでなく段階的に上昇させる方法も実施し得る。また、乾燥風は除湿することによって好結果が得られる場合もある。加熱された空気は、塗布面に対し０．１ｍ／秒〜３０ｍ／秒、特に０．５ｍ／秒〜２０ｍ／秒の割合で供給するのが好適である。
【００７１】
［支持体］
感光性平版印刷版等に使用される支持体は、寸度的に安定な板状物であり、これ迄印刷版の支持体として使用されたものが含まれ、好適に使用することができる。かかる支持体としては、紙、プラスチックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、例えばアルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチックスのフイルム、上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含むものである。
【００７２】
支持体は、必要に応じて表面処理される。例えば感光性平版印刷版の場合には、支持体の表面に、親水化処理が施される。また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい。また、米国特許第２，７１４，０６６号明細書に記載されているように、砂目立てしたのちケイ酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。
上記陽極酸化処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、ホウ酸等の無機酸、若しくはシュウ酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
【００７３】
また、米国特許第３，６５８，６６２号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させる為に施されるものである。アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い。
前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われている。
【００７４】
砂目立て方法としては、機械的、化学的および電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸またはこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表面の中心線表面粗さ（Ｒａ）が０．３〜１．０μｍとなるような範囲で施されることが好ましい。このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗および化学的にエッチングされる。
【００７５】
エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これらのエッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間１分あたり０．３グラムから４０ｇ／ｍ^２になる様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回るものであっても差支えない。
【００７６】
エッチングは上記エッチング液にアルミニウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５〜１０ｇ／ｍ^２の範囲となるように処理されることが好ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来より行なわれている方法で行なうことができる。
具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることができる。
【００７７】
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変化するので一般には決定され得ないが一般的には電解液の濃度が１〜８０質量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ^２、電圧１〜１００Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法および米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６１号明細書に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例えばケイ酸ナトリウム水溶液または特公昭３６−２２０６３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
【００７８】
［マット層］
上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ましい。具体的には、特開昭５０−１２５８０５号、特公昭５７−６５８２号、同６１−２８９８６号の各公報に記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭６２−６２３３７号公報に記載されているような固体粉末を熱融着させる方法などが挙げられる。
【００７９】
［有機下塗層］
本発明の組成物を用いて感光性平版印刷版を製造する際には、上記した感光層を塗設する前に有機下塗層を設けることが非画像部の感光層残りを減らす上で好ましい。かかる有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
【００８０】
また、有機下塗り層にオニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物は特開２０００−１０２９２号、特開２０００−１０８５３８等公報に詳述されている。
その他ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる少なくとも１種の化合物を用いることができる。より具体的にはｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などがあげられる。
【００８１】
この有機下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。
前者の方法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０質量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。
【００８２】
これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜１２の範囲で使用することもできる。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。さらにこの溶液には、下記一般式（ａ）で示される化合物を添加することもできる。
（ＨＯ）ｘ−Ｒ_５−（ＣＯＯＨ）ｙ　　（ａ）
但し、Ｒ_５は置換基を有してもよい炭素数１４以下のアリーレン基を表し、ｘ，ｙは独立して１から３の整数を表す。
【００８３】
上記一般式（ａ）で示される化合物の具体的な例として、３−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、１０−ヒドロキシ−９−アントラセンカルボン酸などが挙げられる。
有機下塗層の乾燥後の被覆量は、１〜１００ｍｇ／ｍ^２が適当であり、好ましくは２〜７０ｍｇ／ｍ^２である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ^２より少ないと十分な耐刷性能が得られにくい。また、１００ｍｇ／ｍ^２より大きくても同様である。
【００８４】
［バックコート］
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物および特開平６−３５１７４号公報記載の有機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_４、Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｓｉ（ＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｓｉ（ＯＣ_４Ｈ_９）_４などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
【００８５】
上記のようにして作成された平版印刷版は、通常、像露光、現像処理を施される。像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
【００８６】
［アルカリ現像液］
本発明の感赤外線感光性樹脂組成物を用いる平版印刷版の現像液として好ましいものは、（ａ）非還元糖から選ばれる少なくとも一種の糖類および（ｂ）少なくとも一種の塩基を含有し、ｐＨが９．０〜１３．５の範囲にある現像液である。以下この現像液について詳しく説明する。なお、本明細書中において、特にことわりのない限り、現像液とは現像開始液（狭義の現像液）と現像補充液とを意味する。
【００８７】
現像液としては、その主成分が、非還元糖から選ばれる少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種の塩基からなるものが好ましく、液のｐＨが９．０〜１３．５の範囲であることが好ましい。かかる非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体および糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも好適に用いられる。トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしてはＤ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシットおよびアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトールおよびオリゴ糖の水素添加で得られる還元体（還元水あめ）が好適に用いられる。　これらの中で特に好ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にＤ−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なｐＨ領域に緩衝作用があることと、低価格であることで好ましい。
【００８８】
これらの非還元糖は、単独もしくは二種以上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める割合は０．１〜３０質量％が好ましく、更に好ましくは、１〜２０質量％である。
この範囲以下では十分な緩衝作用が得られず、またこの範囲以上の濃度では、高濃縮化し難く、また原価アップの問題が出てくる。尚、還元糖を塩基と組み合わせて使用した場合、経時的に褐色に変色し、ｐＨも徐々に下がり、よって現像性が低下するという問題点がある。
【００８９】
非還元糖に組み合わせる塩基としては従来より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
【００９０】
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいのは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。その理由は、非還元糖に対するこれらの量を調整することにより広いｐＨ領域でｐＨ調整が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。
これらのアルカリ剤は現像液のｐＨを９．０〜１３．５の範囲になるように添加され、その添加量は所望のｐＨ、非還元糖の種類と添加量によって決められるが、より好ましいｐＨ範囲は１０．０〜１３．２である。
【００９１】
現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液として用いられる弱酸としては、解離定数（ｐＫａ）が１０．０〜１３．２のものが好ましい。
このような弱酸としては、Ｐｅｒｇａｍｏｎ　Ｐｒｅｓｓ社発行のＩＯＮＩＳＡＴＩＯＮ　ＣＯＮＳＴＡＮＴＳ　ＯＦ　ＯＲＧＡＮＩＣ　ＡＣＩＤＳ　ＩＮ　ＡＱＵＥＯＵＳ　ＳＯＬＵＴＩＯＮなどに記載されているものから選ばれ、例えば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール−１（ＰＫａ１２．７４）、トリフルオロエタノール（同１２．３７）、トリクロロエタノール（同１２．２４）などのアルコール類、ピリジン−２−アルデヒド（同１２．６８）、ピリジン−４−アルデヒド（同１２．０５）などのアルデヒド類、サリチル酸（同１３．０）、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（同１２．８４）、カテコール（同１２．６）、没食子酸（同１２．４）、スルホサリチル酸（同１１．７）、３，４−ジヒドロキシスルホン酸（同１２．２）、３，４−ジヒドロキシ安息香酸（同１１．９４）、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン（同１１．８２）、ハイドロキノン（同１１．５６）、ピロガロール（同１１．３４）、ｏ−クレゾール（同１０．３３）、レゾルシノール（同１１．２７）、ｐ−クレゾール（同１０．２７）、ｍ−クレゾール（同１０．０９）などのフェノール性水酸基を有する
化合物、
【００９２】
２−ブタノンオキシム（同１２．４５）、アセトキシム（同１２．４２）、１，２−シクロヘプタンジオンジオキシム（同１２．３）、２−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム（同１２．１０）、ジメチルグリオキシム（同１１．９）、エタンジアミドジオキシム（同１１．３７）、アセトフェノンオキシム（同１１．３５）などのオキシム類、アデノシン（同１２．５６）、イノシン（同１２．５）、グアニン（同１２．３）、シトシン（同１２．２）、ヒポキサンチン（同１２．１）、キサンチン（同１１．９）などの核酸関連物質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸（同１２．３２）、１−アミノ−３，３，３−トリフルオロ安息香酸（同１２．２９）、イソプロピリデンジホスホン酸（同１２．１０）、１，１−エチリデンジホスホン酸（同１１．５４）、１，１−エチリデンジホスホン酸１−ヒドロキシ（同１１．５２）、ベンズイミダゾール（同１２．８６）、チオベンズアミド（同１２．８）、ピコリンチオアミド（同１２．５５）、バルビツル酸（同１２．５）などの弱酸が挙げられる。
【００９３】
これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホサリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合わせによりｐＨを好ましい範囲内に調整して使用される。
【００９４】
現像液には、現像性の促進や現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。
【００９５】
界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界面活性剤、
【００９６】
脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン界面活性剤、
【００９７】
アルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホべタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。
以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
【００９８】
更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤である。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。
上記の界面活性剤は、単独もしくは２種以上を組み合わせて使用することができ、現像液中に０．００１〜１０質量％、より好ましくは０．０１〜５質量％の範囲で添加される。
【００９９】
現像液には、種々の現像安定化剤を用いることができる。それらの好ましい例として、特開平６−２８２０７９号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭５０−５１３２４号公報記載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特開昭５５−９５９４６号公報記載の水溶性カチオニックポリマー、特開昭５６−１４２５２８号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質を挙げることができる。
【０１００】
更に、特開昭５９−８４２４１号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭６０−１１１２４６号公報記載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭６０−１２９７５０号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭６１−２１５５５４号公報記載の重量平均分子量３００以上のポリエチレングリコール、特開昭６３−１７５８５８号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平２−３９１５７号公報の酸またはアルコールに４モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。
【０１０１】
現像液には更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が約１０質量％以下のものが適しており、好ましくは５質量％以下のものから選ばれる。例えば、１−フェニルエタノール、２−フェニルエタノール、３−フェニル−１−プロパノール、４−フェニル−１−ブタノール、４−フェニル−２−ブタノール、２−フェニル−１−ブタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコール、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノールおよび４−メチルシクロヘキサノール、Ｎ−フェニルエタノールアミンおよびＮ−フェニルジエタノールアミンなどを挙げることができる。
有機溶剤の含有量は使用液の総質量に対して０．１〜５質量％である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
【０１０２】
現像液には更に還元剤を加えることができる。これは印刷版の汚れを防止するものである。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、２−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げることができる。
これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、０．０５〜５質量％の範囲で含有される。
【０１０３】
現像液には更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数８〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、ｐ−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、２，４−ジヒドロシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。
【０１０４】
上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はないが、０．１質量％より低いと効果が十分でなく、また１０質量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して０．１〜１０質量％であり、より好ましくは０．５〜４質量％である。
【０１０５】
現像液には、更に必要に応じて、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤および硬水軟化剤などを含有させることもできる。硬水軟化剤としては例えば、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸および１，３−ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸）および１−ヒドロキシタエン−１，１−ジホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げることができる。
【０１０６】
このような硬水軟化剤はそのキレート化と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液に０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜０．５質量％の範囲である。この範囲より少ない添加量では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさない程度が適当である。
【０１０７】
本発明の感赤外線感光性組成物を用いる平版印刷版の現像液としてはまた、上記非還元糖の代わりに、適度なｐＨ領域に緩衝作用を有する化合物として、シリケート化合物を添加して使用できる。具体的には、珪酸塩の成分である酸化ケイ素ＳｉＯ_２と、アルカリ成分としてのアルカリ酸化物Ｍ_２Ｏの混合物を添加できる（Ｍはアルカリ金属を表す）。ケイ素ＳｉＯ_２とＭ_２Ｏとの混合比率は、濃度の調整により最適な範囲に容易に調節することができる。これら珪酸塩は基板の親水化成分としての作用も有する。
好ましい酸化ケイ素ＳｉＯ_２とアルカリ酸化物Ｍ_２Ｏとの混合比率（ＳｉＯ_２／Ｍ_２Ｏのモル比）は０．７５〜４．０であり、より好ましくは０．７５〜３．０、更に好ましくは０．７５〜１．５の範囲で使用される。
前記ＳｉＯ_２／Ｍ_２Ｏが０．７５未満であると、アルカリ性が強くなり、平版印刷版原版の支持体としてのアルミ基板の陽極酸化皮膜が過度に溶解（エッチング）され、前記放置汚れが発生したり、溶解アルミと珪酸との錯体形成による不溶性のカスが生じることがある。また４．０更には３．０を超えると、現像性が低下したり珪酸塩の縮合した不溶性のカスが発生するという問題が生じることがある。
また現像液中の珪酸アルカリの濃度としては、アルカリ水溶液の質量に対して、０〜１０質量％が好ましく、より好ましくは３〜８質量％の範囲で使用される。この濃度が０．５質量％未満であると、現像性、現像処理能力が低下することがあり、１０質量％を超えると沈殿や結晶を生成し易くなり、また廃液時の中和の際にゲル化し易くなる結果、廃液処理に支障を来たすことがある。
【０１０８】
現像液にはさらに、現像性の促進や現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
【０１０９】
かかる組成の現像液で現像処理された平版印刷版（以下、ＰＳ版と呼ぶことがある）は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明において、ＰＳ版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【０１１０】
近年、型版・印刷業界では製版作業の合理化および標準化のため、ＰＳ版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、ＰＳ版を搬送する装置と、各処理液槽およびスプレー装置からなり、露光済みのＰＳ版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像および後処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによってＰＳ版を浸漬搬送させて現像処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水を版面に供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈水としで再利用する方法も知られている。
【０１１１】
このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼動時間等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０１１２】
【実施例】
以下本発明を実施例に基づいて更に説明する。ただし本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【０１１３】
［支持体の作製］
ＪＩＳ　Ａ　１０５０アルミニウムシートをパミス−水懸濁液を研磨剤として回転ナイロンブラシで表面を砂目立てした。このときの表面粗さ（中心線平均粗さ）は０．５μｍであった。水洗後、１０％苛性ソーダ水溶液を７０℃に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ^３になるようにエッチングした。水洗後、３０％硝酸水溶液に１分間浸漬して中和し、十分水洗した。その後に、０．７％硝酸水溶液中で、陽極時電圧１３ボルト、陰極時電圧６ボルトの矩形波交番波形電圧を用いて２０秒間電解粗面化を行ない、２０％硫酸の５０℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、水洗した。
粗面化後のアルミニウムシートに、２０％硫酸水溶液中で直流を用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行なった。電流密度５Ａ／ｄｍ^２で電解を行ない、電解時間を調節して、表面に質量４．０ｇ／ｍ^２の陽極酸化皮膜を有する基板を作製した。この基板を１００℃１気圧において飽和した蒸気チャンバーの中で１０秒間処理して封孔率６０％の基板（ａ）を作成した。
基板（ａ）をケイ酸ナトリウム２．５質量％水溶液で３０℃１０秒間処理して表面親水化を行なった後、下記下塗り液を塗布し、塗膜を８０℃で１５秒間乾燥し平版印刷版用支持体〔Ａ〕を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は１５ｍｇ／ｍ^２であった。
【０１１４】
〔下塗り液〕
・下記共重合体（１）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００ｇ
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
【０１１５】
【化８】

【０１１６】
［感熱層の形成］
上記により得られた下塗り処理後のアルミ支持体〔Ａ〕、及び溶解速度測定用としてフラットなＳＵＳ基板上に、以下の感光液を塗布量が１．５ｇ／ｍ^２になるよう塗布、乾燥して感光層（記録層）を形成し、本発明の感熱性平版印刷用原版１（アルミ処理基板）及び２（ＳＵＳ基板）を得た。なお感光液に使用した本発明（Ｃ）のスルホン酸発生化合物を表１に示す。
【０１１７】

【０１１８】
【化９】

【０１１９】
［比較例の感熱層の形成］
上記感光液における本発明（Ｃ）の化合物を含まない以外は上記と同じ感光液を用い、下塗り処理後のアルミ支持体〔Ａ〕及びフラットなＳＵＳ基板上に、上記と同様にして塗布、乾燥して、塗布量が１．５ｇ／ｍ^２の比較例の感熱性平版印刷用原版を作製した。
【０１２０】
［現像液の調製］
〔現像液Ａ〕
Ｄ−ソルビット０．２２モル／Ｌ、水酸化カリウム０．２２モル／Ｌ、クエン酸カリウム１８ｇ／Ｌの濃度で各成分を調整、混合し現像液Ａとした。この現像液Ａの電導度は約４５ｍＳ／ｃｍであった。
〔現像液Ｂ〕
酸化ケイ素（ＳＯ_２）及び酸化カリウム（Ｋ_２Ｏ）の混合比（ＳＯ_２／Ｋ_２Ｏ）が１．１のケイ酸カリウム４ｗｔ％、クエン酸０．５ｗｔ％、ポリエチレングリコールラウリルエーテル０．５ｗｔ％の濃度で現像液Ｂを作製した。この現像液Ｂの電導度は約４７ｍＳ／ｃｍであった。
【０１２１】
＜実施例１〜７及び比較例１（現像における溶解ディスクリミネーションの評価）＞
上記で得られた原版２（ＳＵＳ基板）に対し、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４にて、ビーム強度９Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍの条件で２００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで露光を行った。上記組成のアルカリ現像液Ａ又は現像液Ｂを用いて、露光部及び未露光部が完全に溶解除去される時間を溶解速度モニター（Ｐｅｒｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ社製ＤＲＭ）にて測定した。結果を表１に示す。
【０１２２】
【表１】

【０１２３】
表１より、本発明の組成物を使用した場合、未露光部の溶解性に影響なく、露光部の溶解性が向上した。未露光部／露光部の溶解速度比（溶解時間比）が拡大して、溶解ディスクリミネーションが向上したことが判る。
【０１２４】
＜実施例８〜１２及び比較例２＞
実施例１〜５と同様にして、表２に示す実施例８〜１２の感光層を形成させた。
［現像ラチチュードの評価］
得られた平版印刷版用原版１及び比較例の原版をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４にてビーム強度９ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍでテストパターンを画像状に描き込みを行った。
まず、上記の条件で露光した平版印刷版原版を、上記現像液Ａの１．５倍濃縮液を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサー９００Ｈを用い、液温を３０℃に保ち、現像時間１２秒で現像した。
次に、現像液を徐々に水で希釈しながら、処理を繰り返した。この時、現像不良の記録層残膜に起因する汚れや画像部の濃度低下の有無を確認した。更に、水で希釈しながら処理を繰り返し、問題なく現像できた時の現像液の電導度を測定した。上限値と下限値との差が大きいものを現像ラチチュードに優れると評価する。
【０１２５】
［感度の評価］
上記得られた平版印刷版用原版１及び比較例の原版をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４にて、各種の露光エネルギーで２００線、３〜９７％の網点画像を露光し、上記現像液Ａにて液温３０℃、現像時間１２秒で現像した。３％の網点画像が再現する露光エネルギーにより、感度とした。露光エネルギーが小さい程、高感度であることを示している。
結果を表２に示す。
【０１２６】
【表２】

【０１２７】
表２の結果より、本発明の感赤外線感光性組成物を平版印刷版用原版の画像形成層に適用することで、現像ラチチュード及び感度が優れることが判る。
【０１２８】
【発明の効果】
本発明により、平版印刷用原版の画像形成層として用いる場合、現像ラチチュードに優れ、高感度な感赤外線感光性組成物を提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an infrared-sensitive composition, and more particularly to an infrared-sensitive composition that can be used for an image forming layer of a positive lithographic printing plate precursor for so-called direct plate making that can be directly made from a digital signal of a computer or the like. The present invention relates to a sex composition.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a system for making a plate directly from digital data of a computer, there are (1) an electrophotographic method, (2) a photopolymerization system by a combination of exposure with a visible light or UV light laser of 532 nm, 488 nm, 405 nm, etc. and post-heating. Sensitive materials, (3) Silver salt sensitive materials laminated on photosensitive resin, (4) Silver master type, (5) Discharge destruction or those caused by breaking the silicone rubber layer by laser light, etc. It has been.
[0003]
However, in the method using the electrophotographic method (1), processing such as charging, exposure, and development is complicated, and the apparatus is complicated and large. The method (2) requires a post-heating step and requires a highly sensitive plate material, which makes it difficult to handle in a bright room. In the methods (3) and (4), since silver salt is used, the treatment becomes complicated and there is a disadvantage that the cost is increased. The method (5) is a method with a relatively high degree of completion, but has a problem in removing the silicone soot remaining on the printing plate.
On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared can easily obtain high-power and small-sized ones. These lasers are very useful as an exposure light source when directly making a plate from digital data such as a computer in terms of downsizing of the plate making system, ambient light during plate making work, and plate material cost.
[0004]
As a conventional lithographic printing plate material, a recording material comprising a recording layer mixed with a polymer compound or composition that is insoluble or slightly soluble before heating and can be made more soluble in a solvent under the influence of heat And a method of forming an image according to the above (for example, see Patent Document 1). A heat-sensitive recording material having a heat-sensitive layer containing a novolac-type phenolic resin and carbon black has also been proposed (see, for example, Patent Document 2).
However, these are only disclosed examples in which an image is recorded without using laser light, and the above-mentioned near infrared to infrared is used as an exposure light source when directly making a plate from digital data such as a computer. When an image is recorded using a laser having a light emitting area, a good printed matter cannot always be obtained due to background stains or a decrease in printing durability. In order to obtain a good printed matter, the exposed portion (non-image portion) is easily dissolved during the development with an alkali developer after exposure, and the portion that has not been exposed to light (image portion) The remaining image portion needs to have good durability. That is, in the above-described known technique, when laser light is used, it is considered that the non-image area is hardly dissolved and the image area is easily dissolved because the image recording property is not good.
[0005]
With respect to the problems of the above-mentioned known techniques, an image is provided for the purpose of providing an image recording apparatus capable of directly making a plate from digital data such as a computer, which can use a conventional processing apparatus or printing apparatus as it is. An image recording material comprising a forming layer containing a binder, a substance that absorbs light and generates heat, and a substance that is thermally decomposable and substantially reduces the alkali solubility of the binder when not decomposed. There has been proposed a method using (see, for example, Patent Document 3).
[0006]
In addition, it is disclosed that a positive photosensitive composition containing a photothermal conversion substance and an alkali-soluble resin contains an organic acid, so that the remaining film ratio in an unexposed portion is improved during alkali development (Patent Document 4). reference.). Furthermore, a positive photosensitive composition containing a photothermal conversion substance and a novolac resin and an acrylic resin containing a specific weight ratio is disclosed (see Patent Document 5), which is highly sensitive and unexposed. A film with an improved residual film ratio is obtained.
[0007]
In addition, it is disclosed that by combining an acid-colorable dye or a base-colorable dye with an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, the remaining film ratio of the unexposed area and the contrast between the unexposed area and the exposed area can be improved. (For example, see Patent Document 6 and Patent Document 7).
However, even in the technology disclosed above, the difference in alkali solubility between the exposed and unexposed areas (so-called dissolution discrimination) is not large, and as a result, the development latitude is insufficient. Further, in order to increase the productivity at the time of making a planographic printing plate, further improvement in sensitivity is desired.
[0008]
On the other hand, a technique for improving sensitivity by including a photoacid-generating compound and a compound that newly generates sulfonic acid by an acid generated from the compound (see Patent Document 8), and photoacid generation. A chemically amplified resist for lithography (see Non-Patent Document 1) containing a compound, a partially protected acid-decomposable alicyclic polymer, and a compound that generates sulfonic acid by an acid generated from a photoacid generating compound is also known. . However, these techniques are not satisfactory in development latitude and sensitivity.
[0009]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Publication No.46-27919
[Patent Document 2]
JP 56-69192 A
[Patent Document 3]
JP-A-7-285275
[Patent Document 4]
JP-A-10-282463
[Patent Document 5]
JP 2001-324808 A
[Patent Document 6]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-143076
[Patent Document 7]
JP-A-11-190903
[Patent Document 8]
JP-A-8-248561
[Non-Patent Document 1]
Proceeding of SPII
SPIE), 3049 (Vol. 3049), 1997, p. 76-82
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
The object of the present invention is to overcome the drawbacks of the conventional techniques described above, and when used in an image forming layer or the like of a lithographic printing plate precursor, there is a difference in alkali solubility (dissolved discrimination) between exposed and unexposed areas. The object is to provide a high-sensitivity infrared-sensitive composition having a large development latitude and high sensitivity.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The above-described problems of the present invention have been solved by the following means.
(1) Infrared sensitive material containing (A) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, (B) a photothermal conversion substance, and (C) a compound capable of decomposing by the action of an acid and generating a sulfonic acid. Photosensitive composition.
(2) The infrared-sensitive property as described in (1) above, wherein the compound that decomposes by the action of an acid to generate a sulfonic acid is a compound represented by the following general formulas (I) to (V): Composition.
[0012]
[Chemical 2]

[0013]
Where
R represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
R ₀ Is -COO-R ₀ The group which comprises the group decomposed | disassembled by the effect | action of an acid is represented.
R ₁ Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or an aryloxy group.
R ₂ Represents an alkyl group or an aralkyl group.
R ₃ Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R ₄ And R ₅ Each independently represents an alkyl group. However, R ₄ And R ₅ May combine with each other to form a ring.
R ₆ Represents a hydrogen atom or an alkyl group.
R ₇ And R ₉ Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. However, R ₇ And R ₉ May combine with each other to form a ring.
R ₈ Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R ₁₀ And R ₁₁ Each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group or an alkenyloxy group. However, R ₁₀ And R ₁₁ May combine with each other to form a ring.
[0014]
Although there is an unclear point about the mechanism of the present invention, by containing a compound that decomposes by the action of the acid of component (C) and generates sulfonic acid, the alkali dissolution inhibiting property of the unexposed area is improved, and exposure is performed. In part, it is considered that the effect of improving alkali solubility is exhibited.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, each component of the infrared-sensitive composition of the present invention will be described in detail.
[Alkali-soluble resin having phenolic hydroxyl group of the present invention (A)]
The alkali-soluble resin used in the present invention (hereinafter referred to as an alkali-soluble polymer as appropriate) is a polymer compound having water insolubility and alkali solubility, and has a main chain and / or a side chain in the polymer. A homopolymer containing a phenolic hydroxyl group, a copolymer thereof, or a mixture thereof is included. Therefore, the heat-sensitive layer according to the present invention has a property of being dissolved upon contact with an alkaline developer after infrared laser exposure.
The alkali-soluble polymer used in the present invention is not particularly limited as long as it is a conventionally known polymer. For example, the following are exemplified, but not limited thereto.
[0016]
(1) Novolac or resole resin
Novolac resin in which phenol, cresol (o-, m-, p-isomer), xylenol (2,3-, 2,5-, 3,5-isomer, etc.), resorcin, and pyrogallol are mixed as appropriate and condensed with formaldehyde And resole resin. Preferred are novolak resins, such as phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, or m- / p -Any mixed) mixed formaldehyde resin, phenol / xylenol (2,3-, 2,5-, 3,5-, or any of these) mixed formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, or m- / p-mixed) / xylenol (can be 2,3-, 2,5-, 3,5-, or any mixture thereof) mixed formaldehyde resin, phenol / xylenol ( 2,3-, 2,5-, 3,5-, or any combination thereof ) / Resorcin or pyrogallol mixed formaldehyde resin, cresol / xylenol (any of 2,3-, 2,5-, 3,5-, or a mixture thereof) / novolak resin such as resorcin or pyrogallol mixed formaldehyde resin, Furthermore, resorcinol or pyrogallol acetone resin can be mentioned.
(2) Polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain
As a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer comprising a low molecular compound having at least one unsaturated bond polymerizable with the phenolic hydroxyl group is homopolymerized, or other polymerizable property is added to the monomer. Examples thereof include a polymer compound obtained by copolymerizing monomers.
[0017]
Examples of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group. Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3 -Hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p- Hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 3-methyl-p-hydroxystyrene, 3-methoxy-p-hydroxystyrene, 2- 2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl Methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate and the like can be suitably used. Preferable examples include polyhydroxystyrenes (o-, m-, p-hydroxystyrene, 3-substituted-4-hydroxystyrene and copolymers thereof).
In the present invention, when the polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain is a copolymer of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group and another polymerizable monomer, the monomer having a phenolic hydroxyl group is The content is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more. When the copolymerization component is less than 10 mol%, alkali solubility tends to be insufficient, and the development latitude improvement effect may not be sufficiently achieved.
[0018]
Examples of the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include the compounds listed in the following (m1) to (m12), but are not limited thereto.
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
[0019]
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, n-methylmaleimide, n-cyclohexylmaleimide, and n-phenylmaleimide.
(M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.
[0020]
As a copolymerization method of the alkali-soluble polymer compound, a conventionally known graft copolymerization method, block copolymerization method, random copolymerization method, or the like can be used.
[0021]
In the present invention, the molecular weight of the alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 10,000, in the case of the novolak resin or resol resin. The number average molecular weight Mn is preferably 200 to 5,000, more preferably 500 to 3,000. The degree of dispersion (Mw / Mn) is in the range of 3-12. In the case of a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more are preferred. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 100,000, and the dispersity (Mw / Mn) is 1.1 to 8. If the molecular weight is too small, a sufficient coating film cannot be obtained, and if it is too large, developability tends to be inferior.
[0022]
These alkali-soluble resins having a phenolic hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more.
These alkali-soluble resins are used in an added amount of preferably 30 to 99% by mass, more preferably 40 to 95% by mass, and particularly preferably 50 to 90% by mass in the total solid content of the composition. When the addition amount of the alkali-soluble resin is less than 30% by mass, the durability of the heat-sensitive layer is deteriorated, and when it exceeds 99% by mass, it is not preferable in terms of both sensitivity and durability.
[0023]
[Photothermal Conversion Material of the Present Invention (B)]
The photothermal conversion substance used in the present invention is not particularly limited as long as it is a substance that absorbs infrared light and generates heat, and various pigments known as infrared absorbing pigments can be used in addition to infrared absorbing dyes. Infrared absorbing dyes are preferable, and those shown below are exemplified, but the invention is not limited thereto.
[0024]
As the infrared absorbing dye according to the present invention, commercially available dyes and known dyes described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these dyes, those that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferred because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light.
[0025]
Examples of dyes that absorb such infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787. Cyanine dyes described in each publication, methine dyes described in JP-A Nos. 58-173696, 58-181690, 58-194595, etc. Nos. 112793, 58-224793, 59-48187, 59-73996, 60-52940, 60-63744, etc. Examples thereof include naphthoquinone dyes, squarylium dyes described in JP-A No. 58-112792, and cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.
[0026]
Further, near-infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used as dyes, and substituted arylbenzoates described in US Pat. No. 3,881,924 are also preferred. (Thio) pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59- 41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, and pyrine compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, For example, pentamethine thiopyrylium salt described in US Pat. No. 4,283,475, Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 The indicated pyrylium compounds and the like, as commercially available products, Eporin Co. Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 and the like are particularly preferably used.
Another particularly preferable example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.
[0027]
Examples of infrared absorbing pigments include a commercially available pigment and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (CMC Publishing, 1986), The pigments described in “Printing Ink Technology” published by CMC (published in 1984) can be used.
[0028]
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used.
[0029]
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. Surface treatment methods include a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Conceivable. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.
[0030]
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. When the particle diameter of the pigment is less than 0.01 μm, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the recording layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the recording layer.
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).
[0031]
In the present invention, the amount of the photothermal conversion substance added is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and particularly preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive composition. 10% by mass. When the added amount of the dye is less than 0.01% by mass, the sensitivity tends to be low, and when it exceeds 50% by mass, the uniformity of the heat-sensitive layer is lost and the durability of the heat-sensitive layer tends to deteriorate.
[0032]
[Compound capable of decomposing by the action of acid of the present invention (C) to generate sulfonic acid]
The compound which decomposes | disassembles by the effect | action of the acid of this invention (C) and generate | occur | produces a sulfonic acid is a compound which generate | occur | produces a sulfonic acid on presence of an acid, Preferably on heating conditions. The sulfonic acid generated again generates sulfonic acid from the compound (C). Therefore, sulfonic acid generation proceeds in a chain. Such compounds include Proceeding of SPIE, vol. 3049, p76-82 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-248561 can be exemplified by compounds that newly generate sulfonic acid by an acid generated from a photoacid generating compound. Preferred examples include compounds represented by the following general formulas (I) to (V).
[0033]
[Chemical 3]

[0034]
In general formula (I),
R represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
R ₀ Is -COO-R ₀ The group which comprises the group decomposed | disassembled by the effect | action of an acid is represented.
R ₁ Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or an aryloxy group.
R ₂ Represents an alkyl group or an aralkyl group.
In general formula (II),
R has the same meaning as explained in the general formula (I).
R ₃ Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R ₄ And R ₅ Each independently represents an alkyl group. However, R ₄ And R ₅ May combine with each other to form a ring.
R ₆ Represents a hydrogen atom or an alkyl group.
In general formula (III),
R has the same meaning as explained in the general formula (I).
R ₇ And R ₉ Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. However, R ₇ And R ₉ May combine with each other to form a ring.
R ₈ Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
In general formula (IV),
R has the same meaning as explained in the general formula (I).
R ₁₀ And R ₁₁ Each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group or an alkenyloxy group. However, R ₁₀ And R ₁₁ May combine with each other to form a ring.
In general formula (V),
R has the same meaning as explained in the general formula (I).
In the above, each of the alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group, aryloxy group and alkenyloxy group may have a substituent.
[0035]
As said alkyl group, it is a C1-C8 alkyl group, Comprising: Specifically, the methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, sec-butyl group which may have a substituent is mentioned. , A hexyl group, a 2-ethylhexyl group, and an octyl group.
The cycloalkyl group may be monocyclic or polycyclic. The monocyclic type has 3 to 8 carbon atoms, and preferred examples include a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Preferred examples of the polycyclic type include an adamantyl group, norbornyl group, isobornyl group, camphanyl group, dicyclopentyl group, α-pinel group, tricyclodecanyl group and the like.
[0036]
As the aryl group, for example, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, specifically, a phenyl group, tolyl group, dimethylphenyl group, naphthyl group, anthryl group and the like which may have a substituent are preferably exemplified. be able to.
As the aralkyl group, for example, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, specifically, a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, and the like can be preferably exemplified.
As an alkenyl group, it is a C2-C8 alkenyl group, for example, Specifically, a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, and a cyclohexenyl group can be mentioned preferably.
[0037]
Examples of the alkoxy group include an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and specifically include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, a butoxy group, a pentoxy group, an allyloxy group, and an octoxy group. Preferred examples include groups.
The aryloxy group is, for example, an aryloxy group having 6 to 15 carbon atoms, and specific examples include a phenoxy group, a tolyloxy group, a naphthoxy group, and the like.
As the alkenyloxy group, for example, an alkenyloxy group having 2 to 8 carbon atoms, specifically, a vinyloxy group, an allyloxy group, a butenyloxy group and the like can be preferably exemplified.
[0038]
Substituents substituted with these groups include those having active hydrogen such as amide group, ureido group, hydroxyl group, halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), alkoxy group (methoxy group). Group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.), thioether group, acyl group (acetyl group, propanoyl group, benzoyl group, etc.), amino group, alkylamino group (methylamino group, ethylamino group, etc.), dialkylamino group (Dimethylamino group, diethylamino group, dipropyl group, pyrrolidyl group, etc.), cyano group, nitro group and the like.
[0039]
Also R ₄ And R ₅ Examples of the ring formed by bonding to each other include a 1,3-dioxolane ring and a 1,3-dioxane ring. R ₇ And R ₉ Examples of the ring formed by bonding to each other include a cyclopentyl ring and a cyclohexyl ring. R ₁₀ And R ₁₁ Examples of the ring formed by bonding to each other include a 3-oxocyclohexenyl ring and a 3-oxoindenyl ring which may contain an oxygen atom in the ring.
[0040]
Acid-decomposable group -COO-R ₀ R inside ₀ As tertiary alkyl groups such as t-butyl group and t-amyl group, tertiary cycloalkyl groups such as isobornyl group, 1-ethoxyethyl group, 1-butoxyethyl group, 1-isobutoxyethyl group, 1- In addition to 1-alkoxyethyl groups such as cyclohexyloxyethyl group, alkoxymethyl groups such as 1-methoxymethyl group and 1-ethoxymethyl group, tetrahydropyranyl group, tetrahydrofuranyl group, trialkylsilyl group, 3-oxocyclohexyl group Etc. can be mentioned preferably.
Specific examples of the compounds represented by the general formulas (I) to (V) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0041]
[Formula 4]

[0042]
[Chemical formula 5]

[0043]
[Chemical 6]

[0044]
[Chemical 7]

[0045]
In the present invention, the addition amount of the sulfonic acid generating compound (C) is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 5% by mass, based on the total solid content of the photosensitive composition. %. If the amount of component (C) added is too small, the sensitivity will decrease. If it is too large, the compatibility with the resin having a phenolic hydroxyl group that coexists will deteriorate, and the printing durability during printing will decrease.
[0046]
[Other ingredients]
In forming the infrared-sensitive composition of the present invention, various additives can be added as necessary, in addition to the above essential components, as long as the effects of the present invention are not impaired. Below, the example of an additive is given and demonstrated.
For example, a substance that is thermally decomposable, such as an onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, and an aromatic sulfonic acid ester compound, and that substantially reduces the solubility of the alkaline water-soluble polymer compound when not decomposed This is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibition of the image area in the developer. Examples of onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, and arsonium salts.
[0047]
Preferred examples of the onium salt used in the present invention include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T .; S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, JP-A-3-140140. Ammonium salts described in the specification of C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, U.S. Pat. Nos. 339,049, 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-296514, J . V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. , 43, 3055 (1978), W.M. R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. , 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, US Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 Nos. 410, 201, 339, 049, 4, 760, 013, 4, 734, 444, 2, 833, 827, German Patent No. 2,904, 626, Sulfonium salts described in JP-A-3,604,580 and JP-A-3,604,581; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J. MoI. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), C.I. S. Wen et al, Theh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).
Of the onium salts, diazonium salts are particularly preferred. Particularly suitable diazonium salts include those described in JP-A-5-158230.
[0048]
The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.
[0049]
Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339-352 of “Light-Sensitive Systems” (John Wiley & Sons. Inc.) by Korser can be used, and in particular, o reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. -Sulfonic acid esters or sulfonic acid amides of quinonediazides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in U.S. Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210. Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.
[0050]
Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents.
For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17478, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267, No. 005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.
[0051]
The addition amount of the o-quinonediazide compound is preferably in the range of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass with respect to the total solid content of the composition of the present invention. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.
[0052]
The addition amount of the above-mentioned additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass.
[0053]
Further, for the purpose of enhancing the discrimination of the image and the resistance to scratches on the surface, a perfluoroalkyl group having 3 to 20 carbon atoms in the molecule as described in JP-A-2000-187318. It is preferable to use in combination a polymer having a (meth) acrylate monomer having 2 or 3 as a polymerization component. As addition amount, the ratio for which it accounts in a composition is 0.1-10 mass%, More preferably, it is 0.5-5 mass%.
[0054]
For the purpose of imparting scratch resistance, a compound that lowers the static friction coefficient of the surface can also be added to the infrared-sensitive composition of the present invention. Specific examples include esters of long-chain alkyl carboxylic acids as used in US Pat. No. 6,117,913. The preferred amount added is 0.1 to 10% by mass in the composition. More preferably, it is 0.5-5 mass%.
[0055]
Moreover, the infrared-sensitive composition of the present invention may contain a compound having a low molecular weight acidic group for the purpose of improving the solubility, if necessary. Examples of the acidic group include acidic groups having a pKa value of 7 to 11, such as a thiol group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, and an active methylene group.
The amount of addition in the composition is preferably 0.05 to 5% by mass. More preferably, it is 0.1-3 mass%. If it exceeds 5%, the solubility of each layer in the developer tends to increase, such being undesirable.
[0056]
In the present invention, various dissolution inhibitors may be included for the purpose of adjusting the solubility. As the dissolution inhibitor, a disulfone compound or a sulfone compound as disclosed in JP-A-11-119418 is preferably used, and as a specific example, 4,4′-bishydroxyphenylsulfone is preferably used.
The preferred amount added is 0.05 to 20% by mass in each composition. More preferably, it is 0.5-10 mass%.
[0057]
Further, for the purpose of further improving sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination. Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used.
As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ', 3", 4 "-tetrahydroxy-3,5,3', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like.
[0058]
Further, examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphoric esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid Acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbine An acid etc. are mentioned.
The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the composition is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, particularly preferably 0.1 to 10%. % By mass.
[0059]
In addition, in the infrared-sensitive composition of the present invention, nonionic ions as described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 are used in order to broaden the processing stability against development conditions. Surfactants, amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149, siloxane compounds as described in EP950517, JP-A-11-288093 Fluorine-containing monomer copolymers such as those described in the publication can be added. Further, a surfactant for improving the coating surface quality, for example, a fluorosurfactant described in JP-A-62-170950 can be added.
[0060]
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.).
The siloxane compound is preferably a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide. Specific examples include DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732, DBP-534, manufactured by Chisso Corporation. And polyalkylene oxide-modified silicones such as Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany.
The proportion of the surfactant in the composition is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.
[0061]
To the infrared-sensitive composition of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644, and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.
[0062]
As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes.
Specifically, oil yellow # 101, oil yellow # 103, oil pink # 312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred.
These dyes can be added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the composition.
[0063]
Furthermore, a plasticizer is added to the composition of the present invention as necessary in order to impart flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.
[0064]
In addition, in the composition of the present invention, various resins having a hydrophobic group, for example, octylphenol / formaldehyde resin, t-butylphenol / formaldehyde resin, t-butylphenol / benzaldehyde resin, rosin, are used to improve the ink inking property of the image. Modified novolak resins, o-naphthoquinonediazide sulfonic acid esters of these modified novolak resins, and the like can be added. These addition amounts are preferably in the range of 0.01 to 30% by mass with respect to the total mass of the composition.
[0065]
Further, a known resin for further improving the abrasion resistance of the film can be added to these compositions. Examples of these resins include polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, epoxy resin, vinyl chloride resin, nylon, polyester resin, acrylic resin, and the like, which can be used alone or in combination. The addition amount is preferably in the range of 2 to 40% by mass with respect to the total mass of the composition.
[0066]
As described above, the composition of the present invention is preferably used as an image forming layer for a lithographic printing plate (hereinafter sometimes referred to as a photosensitive layer).
When a lithographic printing plate photosensitive material is obtained from the infrared-sensitive photosensitive composition of the present invention, it is first provided as an image forming layer on a suitable support.
Hereinafter, the case where the composition of the present invention is used as an image forming layer for a lithographic printing plate will be described.
The photosensitive resin composition of the present invention is dissolved or dispersed in one or a mixture of the following organic solvents, applied to a support and dried.
Any known organic solvent can be used, but an organic solvent having a boiling point in the range of 40 ° C. to 200 ° C., particularly 60 ° C. to 160 ° C. is selected from the advantages in drying.
[0067]
Examples of the organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n- or iso-propyl alcohol, n- or iso-butyl alcohol, diacetone alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, and methyl amyl. Ketones such as ketone, methyl hexyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, acetylacetone, hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane, methoxybenzene, ethyl acetate, n- or iso-propyl acetate, Acetic esters such as n- or iso-butyl acetate, ethyl butyl acetate, hexyl acetate, methylene dichloride, ethylene dichloride, mono Halides, isopropyl ether, etc. Rorubenzen, n- butyl ether, dioxane, dimethyl dioxane, tetrahydrofuran and the like,
[0068]
Ethylene glycol, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, diethyl cellosolve, cellosolve acetate, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl Polyhydric alcohols such as ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol and derivatives thereof; Methyl sulfoxide, N, and special solvents such as N- dimethylformamide is preferably used singly or as a mixture. And it is suitable that the density | concentration of the solid content in a composition shall be 2-50 mass%.
[0069]
Examples of the method for applying the composition of the present invention include roll coating, dip coating, air knife coating, gravure coating, gravure offset coating, hopper coating, blade coating, wire doctor coating, and spray coating. 0.3 to 4.0 g / m in mass ² Is preferred. As the coating amount decreases, the exposure amount for obtaining an image can be reduced, but the film strength decreases. As the coating amount increases, the exposure amount is required, but the photosensitive film becomes stronger. For example, when used as a printing plate, a printing plate having a high printable number (high printing durability) can be obtained.
[0070]
Drying of the photosensitive composition coated on the support is usually performed with heated air. The heating is preferably in the range of 30 ° C to 200 ° C, particularly 40 ° C to 140 ° C. Not only a method in which the drying temperature is kept constant during drying, but also a method in which the temperature is raised stepwise can be carried out. Also, good results may be obtained by dehumidifying the dry air. The heated air is preferably supplied at a rate of 0.1 m / second to 30 m / second, particularly 0.5 m / second to 20 m / second, with respect to the coated surface.
[0071]
[Support]
The support used for the photosensitive lithographic printing plate or the like is a dimensionally stable plate-like material, and includes those that have been used as a support for a printing plate so far and can be suitably used. Such supports include paper, paper laminated with plastics (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), eg, a metal plate such as aluminum (including aluminum alloys), zinc, iron, copper, etc., eg, diacetic acid Cellulose, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose butyrate acetate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Although vapor-deposited paper or plastic film is included, an aluminum plate is particularly preferable. Aluminum plates include pure aluminum plates and aluminum alloy plates. Various aluminum alloys can be used. For example, an alloy of a metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, and aluminum is used. These compositions contain some iron and titanium as well as other negligible amounts of impurities.
[0072]
The support is surface-treated as necessary. For example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate, the surface of the support is subjected to a hydrophilic treatment. In the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, surface treatment such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluoride zirconate, phosphate or the like, or anodization treatment may be performed. It is preferable that it is made. Further, as described in US Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate that has been grained and then dipped in an aqueous sodium silicate solution is disclosed in US Pat. No. 3,181,461. As described above, an aluminum plate that has been anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used.
The anodic oxidation treatment is, for example, an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid or boric acid, an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or an aqueous solution or non-aqueous solution of these salts, or a combination of two or more. In this electrolyte solution, an aluminum plate is used as an anode and a current is passed.
[0073]
Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. These hydrophilization treatments are performed to make the surface of the support hydrophilic, in order to prevent harmful reactions with the photosensitive composition provided thereon, and to improve adhesion to the photosensitive layer. It is given to improve. Prior to graining the aluminum plate, the surface may be pretreated if necessary to remove the rolling oil on the surface and expose a clean aluminum surface.
For the former, a solvent such as trichlene, a surfactant or the like is used. For the latter, a method using an alkali / etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used.
[0074]
As the graining method, any of mechanical, chemical and electrochemical methods is effective. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a blast polishing method, a brush polishing method in which an aqueous dispersion slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush, and a chemical method is disclosed in JP-A No. 54-31187. A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in the publication is suitable, and as an electrochemical method, a method of alternating current electrolysis in an acidic electrolyte such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof Is preferred. Among such surface roughening methods, in particular, a surface roughening method combining mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in JP-A-55-137993, This is preferable because of its strong adhesion to the support. Graining by the method as described above is preferably performed in such a range that the center line surface roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm. The grained aluminum plate is washed with water and chemically etched as necessary.
[0075]
The etching treatment liquid is usually selected from an aqueous solution of a base or acid that dissolves aluminum. In this case, a film different from aluminum derived from the etching solution component should not be formed on the etched surface. Examples of preferable etching agents include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, dipotassium phosphate, etc. as basic substances; sulfuric acid, persulfuric acid as acidic substances Phosphoric acid, hydrochloric acid and salts thereof, and the like, but metals such as zinc, chromium, cobalt, nickel, and copper, which have a lower ionization tendency than aluminum, are not preferable because an unnecessary film is formed on the etched surface. These etching agents have a dissolution rate of aluminum or an alloy to be used of 0.3 g to 40 g / m / min. ² Although it is most preferable to carry out so that it becomes, it may be above or below this.
[0076]
Etching is performed by immersing an aluminum plate in the above etching solution or by applying an etching solution to the aluminum plate. The etching amount is 0.5 to 10 g / m. ² It is preferable to process so that it may become this range. As the etching agent, it is desirable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, since a smut is generated, a normal desmut process is performed. As the acid used for the desmut treatment, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. The etched aluminum plate is washed with water and anodized as necessary. Anodization can be performed by a method conventionally used in this field.
Specifically, when direct current or alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc. or a combination of two or more thereof, aluminum An anodized film can be formed on the surface of the support.
[0077]
The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot generally be determined. Generally, however, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by mass, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. ~ 60A / dm ² A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes are suitable. Among these anodizing treatments, in particular, the method of anodizing at high current density in sulfuric acid described in British Patent 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661. A method of anodizing the described phosphoric acid as an electrolytic bath is preferred. The roughened and further anodized aluminum plate as described above may be subjected to a hydrophilic treatment as required. Preferred examples thereof include US Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181. 461, alkali metal silicates such as aqueous sodium silicate or potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B 36-22063 and US Pat. No. 4,153,461 There are methods of treatment with polyvinylphosphonic acid as disclosed in the literature.
[0078]
[Matte layer]
It is preferable to provide a mat layer on the surface of the photosensitive layer provided as described above in order to shorten the time for evacuation during contact exposure using a vacuum printing frame and to prevent printing blur. Specifically, a method for providing a mat layer as described in JP-A-50-125805, JP-B-57-6582, and JP-A-61-2986, and JP-B-62-62337. And a method of thermally fusing the solid powder as described above.
[0079]
[Organic subbing layer]
When producing a photosensitive lithographic printing plate using the composition of the present invention, it is preferable to provide an organic undercoat layer before coating the above-mentioned photosensitive layer in order to reduce the remaining photosensitive layer in the non-image area. . Examples of the organic compound used in the organic undercoat layer include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid optionally having a substituent, and naphthyl. Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, organic such as phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphonic acid which may have a substituent Phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and organic phosphinic acids such as glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and triethanolamine hydrochloride Hydro Although selected from such as hydrochloric acid salt of an amine having a group, it may be used as a mixture of two or more thereof.
[0080]
It is also preferred that the organic undercoat layer contains a compound having an onium group. The compounds having an onium group are described in detail in JP-A Nos. 2000-10292 and 2000-108538.
In addition, at least one compound selected from the group of polymer compounds having a structural unit represented by poly (p-vinylbenzoic acid) in the molecule can be used. More specifically, a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltriethylammonium salt, a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltrimethylammonium chloride, and the like can be given.
[0081]
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. The organic compound is dissolved in the above organic solvent or a mixed solvent thereof to immerse the aluminum compound by immersing the aluminum plate, and then washed with water and dried to provide an organic undercoat layer. Is the method.
In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass of the organic compound can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
[0082]
The solution used for this can be used in a pH range of 1 to 12 by adjusting the pH with a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate. Furthermore, the compound shown by the following general formula (a) can also be added to this solution.
(HO) x-R ₅ -(COOH) y (a)
However, R ₅ Represents an arylene group having 14 or less carbon atoms which may have a substituent, and x and y independently represent an integer of 1 to 3.
[0083]
Specific examples of the compound represented by the general formula (a) include 3-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, salicylic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 2 -Hydroxy-3-naphthoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 10-hydroxy-9-anthracenecarboxylic acid and the like.
The coating amount after drying of the organic undercoat layer is 1 to 100 mg / m. ² Is suitable, preferably 2 to 70 mg / m ² It is. The above coating amount is 2 mg / m ² If it is less, sufficient printing durability is difficult to obtain. 100 mg / m ² It is the same even if it is larger.
[0084]
[Back coat]
A back coat is provided on the back surface of the support as necessary. As such a back coat, a coating layer comprising a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Is preferably used. Of these coating layers, Si (OCH ₃ ) ₄ , Si (OC ₂ H ₅ ) ₄ , Si (OC ₃ H ₇ ) ₄ , Si (OC ₄ H ₉ ) ₄ A silicon alkoxy compound such as the above is inexpensive and readily available, and a metal oxide coating layer obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent developer resistance.
[0085]
The lithographic printing plate prepared as described above is usually subjected to image exposure and development processing. As the actinic ray light source used for image exposure, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable.
[0086]
[Alkali developer]
A developer for a lithographic printing plate using the infrared-sensitive resin composition of the present invention preferably contains (a) at least one saccharide selected from non-reducing sugars and (b) at least one base, and has a pH of The developer is in the range of 9.0 to 13.5. Hereinafter, the developer will be described in detail. In the present specification, unless otherwise specified, the developing solution means a developing start solution (a developing solution in a narrow sense) and a developing replenisher.
[0087]
The developer is preferably composed of at least one compound selected from non-reducing sugars and at least one base as the main component, and the pH of the solution is preferably in the range of 9.0 to 13.5. . Such non-reducing sugars are saccharides that do not have a free aldehyde group or ketone group and do not exhibit reducing properties, and are trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded to each other, and glycosides in which a reducing group of saccharides and non-saccharides are bonded. It is classified into sugar alcohols reduced by hydrogenating the body and saccharides, and any of them is preferably used. Trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, mustard oil glycosides, and the like. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit and allozulcit. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide and a reduced form (reduced water candy) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide are preferably used. Among these, sugar alcohol and saccharose are particularly preferred non-reducing sugars, and D-sorbite, saccharose, and reduced syrup are particularly preferred because they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.
[0088]
These non-reducing sugars can be used alone or in combination of two or more thereof, and the proportion of the non-reducing sugar in the developer is preferably from 0.1 to 30% by mass, and more preferably from 1 to 20% by mass.
Below this range, a sufficient buffering effect cannot be obtained, and when the concentration is above this range, it is difficult to achieve high concentration, and the problem of increased costs arises. In addition, when reducing sugar is used in combination with a base, there is a problem that the color changes to brown over time, the pH gradually decreases, and thus developability decreases.
[0089]
A conventionally known alkaline agent can be used as the base to be combined with the non-reducing sugar. For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, Examples include inorganic alkali agents such as ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.
[0090]
These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred. The reason is that the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting these amounts relative to the non-reducing sugar. Further, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable because they have a buffering action.
These alkali agents are added so that the pH of the developer is in the range of 9.0 to 13.5, and the addition amount is determined by the desired pH, the type and addition amount of the non-reducing sugar, and more preferable pH. The range is 10.0 to 13.2.
[0091]
Further, an alkaline buffer composed of a weak acid other than sugars and a strong base can be used in combination with the developer. As the weak acid used as such a buffer, one having a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2 is preferable.
Such a weak acid is selected from those described in IONATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION published by Pergamon Press, for example, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (PKa12.74) , Alcohols such as trifluoroethanol (12.37) and trichloroethanol (12.24), aldehydes such as pyridine-2-aldehyde (12.68) and pyridine-4-aldehyde (12.05) , Salicylic acid (13.0), 3-hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7) 3,4-dihydroxysulfonic acid (12) 2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,4-trihydroxybenzene (11.82), hydroquinone (11.56), pyrogallol (11.34), o -It has a phenolic hydroxyl group such as cresol (10.33), resorcinol (11.27), p-cresol (10.27), m-cresol (10.09).
Compound,
[0092]
2-butanone oxime (12.45), acetoxime (12.42), 1,2-cycloheptanedione dioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (11.9), ethanediamide dioxime (11.37), oximes such as acetophenone oxime (11.35), adenosine (12.56), inosine (12.5), guanine (same) 12.3), nucleic acid-related substances such as cytosine (12.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9), diethylaminomethylphosphonic acid (12.32), 1- Amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.29), isopropylidenediphosphonic acid (12.10), 1,1-ethylidene Phosphonic acid (11.54), 1,1-ethylidene diphosphonic acid 1-hydroxy (11.52), benzimidazole (12.86), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (12) .55) and weak acids such as barbituric acid (12.5).
[0093]
Of these weak acids, sulfosalicylic acid and salicylic acid are preferred. As the base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium are preferably used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. The above various alkali agents are used by adjusting the pH within a preferable range depending on the concentration and combination.
[0094]
Various surfactants and organic solvents can be added to the developer as needed for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.
[0095]
Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan Fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, poly Glycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acids Ethanol amides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, anionic surfactants such as trialkyl amine oxides,
[0096]
Fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid ester salts, linear alkylbenzenesulfonic acid salts, branched alkylbenzenesulfonic acid salts, alkylnaphthalenesulfonic acid salts, alkylphenoxypolyoxyethylene Propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfuric acid ester salts, alkyl sulfuric acid ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfuric acid ester salts, fatty acid monoglyceride sulfuric acid ester salts, polyoxyethylene alkylpheny Ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride copolymers Anionic surfactants such as partially saponified products, partially saponified products of olefin / maleic anhydride copolymer, naphthalene sulfonate formalin condensates,
[0097]
Alkylamine salts, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, cationic surfactants such as polyoxyethylene alkylamine salts, polyethylene polyamine derivatives, carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfate esters And amphoteric surfactants such as imidazolines.
Among the surfactants listed above, those having polyoxyethylene can be read as polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene and polyoxybutylene, and these surfactants are also included.
[0098]
A more preferred surfactant is a fluorosurfactant containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, anionic types such as perfluoroalkyl phosphates, amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines, and perfluoroalkyltrimethylammonium salts. Cationic and perfluoroalkylamine oxides, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups Nonionic types such as group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, and lipophilic group-containing urethanes can be mentioned.
Said surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, and is added in 0.001-10 mass% in a developing solution, More preferably, it is added in 0.01-5 mass%.
[0099]
Various development stabilizers can be used in the developer. Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. A salt is a preferred example. Further, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are described. And water-soluble amphoteric polymer electrolytes that have been used.
[0100]
Furthermore, an organic boron compound to which an alkylene glycol is added as described in JP-A-59-84241, a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant as described in JP-A-60-111246, An alkylenediamine compound substituted with polyoxyethylene / polyoxypropylene disclosed in JP-A-60-129750, a polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more described in JP-A-61-215554, and a cation described in JP-A-63-175858 And a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol disclosed in JP-A-2-39157, a water-soluble polyalkylene compound, and the like.
[0101]
If necessary, an organic solvent is further added to the developer. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by mass or less are suitable, and are preferably selected from those having 5% by mass or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2- Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples thereof include amines and N-phenyldiethanolamine.
Content of the organic solvent is 0.1-5 mass% with respect to the total mass of a use liquid. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because the amount of the surfactant is small, and if the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, and therefore it is impossible to expect good developability.
[0102]
A reducing agent can be further added to the developer. This prevents the printing plate from being stained. Preferable organic reducing agents include phenol compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, metol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin, and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. More preferable inorganic reducing agents include sodium, potassium and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, hydrogen phosphite, dihydrogen phosphite, thiosulfuric acid and dithionite. A salt etc. can be mentioned.
Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the antifouling effect. These reducing agents are preferably contained in the range of 0.05 to 5% by mass with respect to the developing solution at the time of use.
[0103]
An organic carboxylic acid can also be added to the developer. Preferred organic carboxylic acids are aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include caproic acid, enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. . Further, it may be an unsaturated fatty acid having a double bond in the carbon chain or a branched carbon chain. The aromatic carboxylic acid is a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring or the like, and specifically includes o-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p- Hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydrobenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3, There are 5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid and the like. Naphthoic acid is particularly effective.
[0104]
The aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as sodium salts, potassium salts or ammonium salts in order to enhance water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if it is less than 0.1% by mass, the effect is not sufficient, and if it is 10% by mass or more, the effect cannot be further improved. In addition, dissolution may be hindered when other additives are used in combination. Therefore, the preferable addition amount is 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 4% by mass with respect to the developing solution at the time of use.
[0105]
The developer may further contain a preservative, a colorant, a thickener, an antifoaming agent, a hard water softening agent, and the like, if necessary. Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium and ammonium salts, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetra Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylene Phosphonic acid), triethylenetetramine hexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1-hydroxy-data-ene-1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts.
[0106]
The optimum value of such a hard water softener varies depending on the chelation and the hardness of the hard water used and the amount of hard water. %, More preferably in the range of 0.01 to 0.5 mass%. If the addition amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved. If the addition amount is more than this range, adverse effects on the image area such as color loss will occur. The remaining component of the developer is water. It is advantageous in terms of transportation that the developer is a concentrated solution having a water content less than that in use and is diluted with water when in use. In this case, the degree of concentration is appropriate such that each component does not cause separation or precipitation.
[0107]
As a developer for a lithographic printing plate using the infrared-sensitive photosensitive composition of the present invention, a silicate compound can be added and used as a compound having a buffering action in an appropriate pH region in place of the non-reducing sugar. Specifically, silicon oxide SiO which is a component of silicate ₂ And alkali oxide M as an alkali component ₂ A mixture of O can be added (M represents an alkali metal). Silicon SiO ₂ And M ₂ The mixing ratio with O can be easily adjusted to an optimum range by adjusting the concentration. These silicates also have a function as a hydrophilic component of the substrate.
Preferred silicon oxide SiO ₂ And alkali oxide M ₂ Mixing ratio with O (SiO ₂ / M ₂ The molar ratio of O is 0.75 to 4.0, more preferably 0.75 to 3.0, and still more preferably 0.75 to 1.5.
SiO ₂ / M ₂ When O is less than 0.75, the alkalinity becomes strong, the anodized film of the aluminum substrate as the support of the lithographic printing plate precursor is excessively dissolved (etched), and the above-mentioned stains are generated, Insoluble residue may form due to complex formation with silicic acid. On the other hand, if it exceeds 4.0 or even 3.0, there may be a problem that developability is lowered or insoluble residue with condensed silicate is generated.
Moreover, as a density | concentration of the alkali silicate in a developing solution, 0-10 mass% is preferable with respect to the mass of alkaline aqueous solution, More preferably, it is used in 3-8 mass%. When this concentration is less than 0.5% by mass, the developability and development processing ability may be reduced. When it exceeds 10% by mass, precipitation and crystals are likely to occur, and during neutralization during waste liquid. As a result of being easily gelled, the waste liquid treatment may be hindered.
[0108]
The above-mentioned various surfactants and organic solvents can be added to the developer as necessary for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area.
[0109]
A lithographic printing plate (hereinafter also referred to as PS plate) developed with a developer having such a composition is a finisher mainly composed of washing water, a rinsing solution containing a surfactant, gum arabic, a starch derivative and the like. And post-treatment with protective gum solution. In the present invention, these processes can be used in various combinations for the post-treatment of the PS plate.
[0110]
In recent years, automatic developing machines for PS plates have been widely used in the stencil and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of an apparatus for transporting the PS plate, each processing liquid tank and a spray device, and the exposed PS plate is pumped up while being transported horizontally. Each processing solution is sprayed from a spray nozzle to develop and post-process. In addition, recently, a PS plate is immersed and transported in a processing solution tank filled with a processing solution by a guide roll in the solution, and a small amount of washing water after development is supplied to the plate surface for washing. A method is also known in which the waste water is reused as dilution water for the developer stock solution.
[0111]
In such automatic processing, each processing solution can be processed while being replenished with each replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied. The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
[0112]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be further described based on examples. However, the present invention is not limited to these examples.
[0113]
[Production of support]
The surface of a JIS A 1050 aluminum sheet was grained with a rotating nylon brush using a pumice-water suspension as an abrasive. The surface roughness (centerline average roughness) at this time was 0.5 μm. After washing with water, a 10% aqueous solution of sodium hydroxide is immersed in a solution heated to 70 ° C., so that the aluminum dissolution amount is 6 g / m 2. ³ It etched so that it might become. After washing with water, it was neutralized by immersing in a 30% nitric acid aqueous solution for 1 minute and thoroughly washed with water. Then, electrolytic surface roughening was performed in a 0.7% nitric acid aqueous solution for 20 seconds using a rectangular wave alternating waveform voltage having an anode voltage of 13 volts and a cathode voltage of 6 volts. After dipping to wash the surface, it was washed with water.
The roughened aluminum sheet was subjected to a porous anodic oxide film forming treatment using direct current in a 20% aqueous sulfuric acid solution. Current density 5A / dm ² Electrolysis is performed, and the electrolysis time is adjusted so that the mass is 4.0 g / m on the surface. ² A substrate having an anodic oxide film was prepared. This substrate was treated for 10 seconds in a vapor chamber saturated at 100 ° C. and 1 atm to prepare a substrate (a) having a sealing rate of 60%.
The substrate (a) was treated with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C. for 10 seconds to make the surface hydrophilic, and then the following undercoat solution was applied, and the coating film was dried at 80 ° C. for 15 seconds. A support [A] was obtained. The coating amount after drying is 15 mg / m ² Met.
[0114]
[Undercoat liquid]
・ The following copolymer (1) 0.3 g
・ Methanol 100g
・ Water 1g
[0115]
[Chemical 8]

[0116]
[Formation of heat-sensitive layer]
On the aluminum support [A] after the undercoating treatment obtained above and a flat SUS substrate for measuring the dissolution rate, the following photosensitive solution was applied in an amount of 1.5 g / m. ² The photosensitive layer (recording layer) was formed by coating and drying to obtain heat-sensitive lithographic printing original plates 1 (aluminum-treated substrate) and 2 (SUS substrate) of the present invention. Table 1 shows the sulfonic acid generating compounds of the present invention (C) used for the photosensitive solution.
[0117]

[0118]
[Chemical 9]

[0119]
[Formation of heat-sensitive layer of comparative example]
Using the same photosensitive solution as above except that it does not contain the compound of the present invention (C) in the above-mentioned photosensitive solution, coating and drying in the same manner as described above on the aluminum support [A] and the flat SUS substrate after the undercoating treatment The coating amount is 1.5 g / m ² A heat-sensitive lithographic printing original plate of Comparative Example 1 was prepared.
[0120]
[Preparation of developer]
[Developer A]
Each component was adjusted and mixed at a concentration of 0.22 mol / L of D-sorbite, 0.22 mol / L of potassium hydroxide, and 18 g / L of potassium citrate to obtain developer A. The conductivity of the developer A was about 45 mS / cm.
[Developer B]
Silicon oxide (SO ₂ ) And potassium oxide (K ₂ O) mixing ratio (SO ₂ / K ₂ Developer B was prepared at a concentration of 4 wt% potassium silicate with O) of 1.1, 0.5 wt% citric acid and 0.5 wt% polyethylene glycol lauryl ether. The conductivity of this developer B was about 47 mS / cm.
[0121]
<Examples 1 to 7 and Comparative Example 1 (Evaluation of Dissolution Discrimination in Development)>
The original plate 2 (SUS substrate) obtained above is 200 mJ / cm under the conditions of a beam strength of 9 W and a drum rotation speed of 150 rpm using a Trendsetter 3244 manufactured by Creo. ² The exposure was performed with the energy of. Using alkaline developer A or developer B having the above composition, the time required for completely dissolving and removing the exposed and unexposed areas was measured with a dissolution rate monitor (DRM manufactured by Perkin Elmer). The results are shown in Table 1.
[0122]
[Table 1]

[0123]
From Table 1, when the composition of this invention was used, the solubility of the exposed part improved without affecting the solubility of an unexposed part. It can be seen that the dissolution rate ratio (dissolution time ratio) of the unexposed part / exposed part is increased and dissolution discrimination is improved.
[0124]
<Examples 8 to 12 and Comparative Example 2>
In the same manner as in Examples 1 to 5, photosensitive layers of Examples 8 to 12 shown in Table 2 were formed.
[Evaluation of development latitude]
The obtained lithographic printing plate precursor 1 and the comparative master plate were imaged in an image with a Trend setter 3244 manufactured by Creo at a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm.
First, a lithographic printing plate precursor exposed under the above conditions was developed using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. charged with a 1.5-fold concentrated solution of the developer A, and the liquid temperature was kept at 30 ° C. Developed in 12 seconds.
Next, the processing was repeated while gradually diluting the developer with water. At this time, the presence or absence of stains due to poorly developed recording layer residual film or density reduction in the image area was confirmed. Furthermore, the process was repeated while diluting with water, and the conductivity of the developer was measured when the development was successful. Those having a large difference between the upper limit value and the lower limit value are evaluated as being excellent in development latitude.
[0125]
[Evaluation of sensitivity]
The lithographic printing plate precursor 1 and the comparative master plate obtained above were exposed to a 200-line, 3-97% halftone dot image with various exposure energies using a Trend setter 3244 manufactured by Creo. Development was performed at a temperature of 30 ° C. and a development time of 12 seconds. Sensitivity was defined by the exposure energy at which a 3% halftone image was reproduced. The smaller the exposure energy, the higher the sensitivity.
The results are shown in Table 2.
[0126]
[Table 2]

[0127]
From the results of Table 2, it can be seen that the development latitude and sensitivity are excellent by applying the infrared-sensitive composition of the present invention to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor.
[0128]
【The invention's effect】
According to the present invention, when used as an image forming layer of an original plate for lithographic printing, it is possible to provide an infrared-sensitive composition having excellent development latitude and high sensitivity.

Claims (2)

An infrared-sensitive composition comprising (A) an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, (B) a photothermal conversion substance, and (C) a compound that decomposes by the action of an acid and generates a sulfonic acid. Stuff. The infrared-sensitive composition according to claim 1, wherein the compound that decomposes by the action of an acid to generate a sulfonic acid is a compound represented by the following general formulas (I) to (V).

Where
R represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
R ₀ represents a group constituting a group that is decomposed by the action of an acid as —COO—R ₀ .
R ₁ represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or an aryloxy group.
R ₂ represents an alkyl group or an aralkyl group.
R ₃ represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R ₄ and R ₅ each independently represents an alkyl group. However, R ₄ and R ₅ may be bonded to each other to form a ring.
R ₆ represents a hydrogen atom or an alkyl group.
R ₇ and R ₉ each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. However, R ₇ and R ₉ may be bonded to each other to form a ring.
R ₈ represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R ₁₀ and R ₁₁ each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group or an alkenyloxy group. However, R ₁₀ and R ₁₁ may be bonded to each other to form a ring.