JP2004114148A

JP2004114148A - レーザトリミング装置及びレーザトリミング方法

Info

Publication number: JP2004114148A
Application number: JP2002285247A
Authority: JP
Inventors: Nobuyuki Komagata; 駒形　信幸; Tatsuya Ishida; 石田　竜也; Kenji Karasawa; 唐沢　賢志
Original assignee: Tokai Rika Co Ltd
Current assignee: Tokai Rika Co Ltd
Priority date: 2002-09-30
Filing date: 2002-09-30
Publication date: 2004-04-15

Abstract

【課題】回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方を与えた状態の被トリミング体における電気抵抗を測定しつつ、同被トリミング体に対してトリミングができるレーザトリミング装置及びレーザトリミング方法を提供する。
【解決手段】レーザトリミング装置は、磁気センサＳにレーザビームＬ３を照射してその磁気センサＳのトリミングを行うレーザ照射装置と、磁気センサＳの電位差出力電圧（電気抵抗）を測定する測定装置を備える。レーザトリミング装置は磁気センサＳに対して被トリミング面Ｓｆに平行な任意の方向の磁束（静磁場）や回転する磁束（回転磁場）を与える磁気プローブ１９を備える。このため、回転磁場や静磁場を与えた状態の磁気センサＳにおける電位差出力電圧を測定しつつ、磁気センサＳに対してトリミングを行うことができる。
【選択図】　図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハチップ上に形成された被トリミング体に対し、レーザを照射してトリミングを行うレーザトリミング装置及びレーザトリミング方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、特許文献１のレーザトリミング装置が提案されている。このトリミング装置は、半導体ウエハチップ上に形成された薄膜抵抗体における電流値などの電気特性を測定装置にて測定しながら、所望の電気特性が得られるようにレーザビームにて前記薄膜抵抗体をトリミングするようになっている。
【０００３】
ところで、近年では、半導体ウエハチップ上に、例えば４つの磁気抵抗素子をフルブリッジ構成となるように接続した磁気センサが提案されている。この種の磁気センサは、例えば、回転角センサとして用いられており、磁束の方向の変化（磁界の変化）に応じた出力が得られるようになっている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−２８８７５３号公報（段落番号「００１０」、第２図）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような磁気センサでは、磁場の変化に応じて磁気抵抗素子の抵抗値が異なるため、磁場の変化がない状態でトリミングを行う従来のレーザトリミング装置では、磁場のない場合の抵抗値しか測定できないことになる。
【０００６】
そこで、上記のような磁気抵抗素子を被トリミング体としてトリミングする際に、磁場を変化させてトリミングできるレーザトリミング装置が要望されている。
【０００７】
本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、その目的は回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方を与えた状態の被トリミング体における電気抵抗を測定しつつ、同被トリミング体に対してトリミングができるレーザトリミング装置及びレーザトリミング方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、被トリミング体にレーザを照射して同被トリミング体をトリミングするレーザ出力手段と、前記被トリミング体に接続されると共に同被トリミング体の電気抵抗を測定する測定手段とを備えたレーザトリミング装置において、前記被トリミング体の被トリミング面に対して平行な回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方をその被トリミング体に与える磁場付与手段を備えたことを要旨とする。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のレーザトリミング装置において、前記磁場付与手段は、その一部が直交状態で互いに交わる２つの磁気回路の協働により前記被トリミング面に対して平行な回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方を前記被トリミング体に付与するものであることを要旨とする。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のレーザトリミング装置において、前記磁界付与手段は、エアギャップを有しかつ第１磁気回路を構成する第１磁気回路構成体と、エアギャップを有しかつ第２磁気回路を構成する第２磁気回路構成体とを備え、前記第１磁気回路構成体のエアギャップと前記第２磁気回路構成体のエアギャップとが互いに交わると共に、そのエアギャップ位置において、前記第１磁気回路と前記第２磁気回路とが互いに直交状態で交わるように前記第１磁気回路構成体及び前記第２磁気回路構成体が設けられていることを要旨とする。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のレーザトリミング装置において、前記第１磁気回路構成体及び前記第２磁気回路構成体は、コイルとコアとをそれぞれ備えたことを要旨とする。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載のレーザトリミング装置において、前記コアは、磁性体特性を有するアモルファス金属または残留磁化の小さい材料にて設けられていることを要旨とする。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、強磁性体からなる被トリミング体の電気抵抗を測定しつつ、同被トリミング体に対してレーザを照射してトリミングを行うレーザトリミング方法において、前記被トリミング体の被トリミング面に対して平行な回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方をその被トリミング体に与えた状態で、同被トリミング体の電気抵抗の値が所望の値となるようにレーザを照射してトリミングを行うことを要旨とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図１１に従って説明する。
図１に示すように、レーザトリミング装置１１は、レーザ発振器１２、ビームエキスパンダ１３、マスク部１４、対物レンズ１５、測定装置１６、加工物載置テーブル１７、制御装置１８、及び磁気プローブ１９（図２参照）を備えている。
【００１５】
なお、説明の便宜上、磁気プローブ１９は図１において図示していない。
前記測定装置１６は測定手段に相当し、前記磁気プローブ１９は磁場付与手段に相当する。
【００１６】
前記レーザ発振器１２から発振されたレーザ光Ｌ１は、ビームエキスパンダ１３に照射される。
前記ビームエキスパンダ１３はレンズ１３ａを備えており、前記レーザ発振器１２から照射されたレーザ光Ｌ１を前記レンズ１３ａを通して平行光Ｌ２にエキスパンドする。
【００１７】
前記マスク部１４は開口部１４ａを備えており、前記ビームエキスパンダ１３にてエキスパンドされた平行光Ｌ２を前記開口部１４ａに通過させることにより、前記ウエハＷ上のトリミング対象部分に照射するレーザビームＬ３の形状を決定する。前記レーザビームＬ３はレーザに相当する。
【００１８】
前記対物レンズ１５は、前記マスク部１４にて形成されたレーザビームＬ３を、ウエハＷ上のトリミング対象部分の微細な加工スポットに集光させる。
前記レーザ発振器１２、ビームエキスパンダ１３、マスク部１４、及び対物レンズ１５にてレーザ出力手段としてのレーザ照射装置２０が構成されている。
【００１９】
前記マスク部１４にはＸ−Ｙ駆動装置３０が接続され、同Ｘ−Ｙ駆動装置３０には前記制御装置１８が電気的に接続されている。そして、前記Ｘ−Ｙ駆動装置３０は、制御装置１８から出力される制御信号によりマスク部１４を図１におけるＸ，Ｙ軸方向へ移動させ、この結果、レーザビームＬ３が同図におけるＸ，Ｙ軸方向へ移動される。
【００２０】
また、前記加工物載置テーブル１７には載置台駆動装置３１が接続され、同載置台駆動装置３１には前記制御装置１８が電気的に接続されている。そして、前記載置台駆動装置３１は、制御装置１８から出力される制御信号により加工物載置テーブル１７を図１におけるＸ，Ｙ，Ｚ軸方向へ移動させる。
【００２１】
こうしたマスク部１４及び加工物載置テーブル１７の移動によって、前記ウエハＷに対するレーザビームＬ３の照射位置が変更可能とされている。なお、本実施形態においては、マスク部１４の移動によるレーザビームＬ３の照射位置の変更は、１つのトリミング箇所に対してトリミング量やトリミング形状を調整する際に行われる。一方、加工物載置テーブル１７のＸ，Ｙ軸方向への移動によるレーザビームＬ３の照射位置の変更はトリミング箇所の移動の際に行われる。
【００２２】
ところで、本実施形態において、前記「ウエハＷ上のトリミング対象部分」とは、図８及び図９に示す磁気センサＳを構成する４つの磁気抵抗素子（薄膜抵抗体）Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４の不要部分とされている。前記磁気センサＳにおけるコア３５側の面は被トリミング面Ｓｆ（図２参照）とされている。前記磁気センサＳは被トリミング体に相当する。前記磁気センサＳは強磁性体からなる。前記４つの磁気抵抗素子（薄膜抵抗体）Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はフルブリッジ構成となるように接続されている。前記磁気センサＳは、例えば、回転角センサとして用いられており、磁束の方向の変化（磁場の変化）に応じた出力が得られるようになっている。
【００２３】
図８に示すように、前記磁気抵抗素子Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４の配置パターンは、磁気抵抗素子Ｒ１と磁気抵抗素子Ｒ４、磁気抵抗素子Ｒ２と磁気抵抗素子Ｒ３がそれぞれ平行となるように配置されている。また、磁気抵抗素子Ｒ１（Ｒ４）と磁気抵抗素子Ｒ２（Ｒ３）とが直交するように配置されている。
【００２４】
前記磁気センサＳは４つの端子Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４を備えている。前記端子Ｔ１は両磁気抵抗素子Ｒ１，Ｒ３間に接続され、端子Ｔ２は両磁気抵抗素子Ｒ２，Ｒ４間に接続されている。前記端子Ｔ３は両磁気抵抗素子Ｒ１，Ｒ２間に接続され、端子Ｔ４は両磁気抵抗素子Ｒ３，Ｒ４間に接続されている。
【００２５】
図１に示すように、前記測定装置１６はプローブ１６ａを備えている。そして、前記磁気センサＳの端子Ｔ１，Ｔ２間に電源を供給した状態において、前記プローブ１６ａにて磁気センサＳの端子Ｔ３と端子Ｔ４間の電位差出力電圧ΔＶ（図９参照）を検出する。
【００２６】
次に、本実施形態の特徴的な構成について説明する。
図２に示すように、加工物載置テーブル１７上でかつウエハＷ上には、磁気プローブ１９が配置されている。
【００２７】
図３〜図５に示すように、前記磁気プローブ１９は、コア３５と、４つのコイル３６，３７，３８，３９とを備えている。前記コア３５は磁性体特性を有するアモルファス金属にて形成されている。前記コア３５は、輪状部３５ａと、その輪状部３５ａ内周面から内方へ突出したコイル巻装部３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ，３５ｅとを備えている。前記コイル巻装部３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ，３５ｅは、輪状部３５ａの周方向へ向けて９０度間隔となるように配置されている。
【００２８】
また、コイル巻装部３５ｂの先端部とコイル巻装部３５ｄの先端部、コイル巻装部３５ｃの先端部とコイル巻装部３５ｅの先端部とが互いに対向するように配置されている。即ち、前記コイル巻装部３５ｂ，３５ｄの突出方向がＸ軸方向に沿う方向とされ、前記コイル巻装部３５ｃ，３５ｅの突出方向がＹ軸方向に沿う方向とされている。前記コイル巻装部３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ，３５ｅには、前記コイル３６，３７，３８，３９がそれぞれ巻装されている。
【００２９】
前記コア３５及びコイル３６，３８にて第１磁気回路構成体としての第１電磁石４５が構成されている。また、前記コア３５及びコイル３７，３９にて第２磁気回路構成体としての第２電磁石４６が構成されている。
【００３０】
前記レーザビームＬ３は、コイル巻装部３５ｂとコイル巻装部３５ｄとがなすエアギャップ、及びコイル巻装部３５ｃとコイル巻装部３５ｅとがなすエアギャップを介してウエハＷに照射される。
【００３１】
以下、コイル巻装部３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ，３５ｅの先端面にて囲まれた空間を空間Ｋという。
次に磁気プローブ１９の回路構成について説明する。
【００３２】
図７に示すように、前記制御装置１８には駆動回路２１が電気的に接続され、駆動回路２１には交流電源装置４７が電気的に接続されている。前記駆動回路２１は制御装置１８に制御される。
【００３３】
そして、前記駆動回路２１にはコイル３６とコイル３８とが直列に接続され、第１回路Ｃ１が構成されている。前記駆動回路２１からコイル３６側へ電源を供給した際には、コイル巻装部３５ｂの先端部はＮ極となり、コイル巻装部３５ｄの先端部はＳ極となるように、コイル３６，３８はコイル巻装部３５ｂ，３５ｄにそれぞれ巻装されている。
【００３４】
このため、駆動回路２１がコイル３６，３８に交流電源を供給すると、コイル巻装部３５ｂ、輪状部３５ａ、コイル巻装部３５ｄ、コイル巻装部３５ｄとコイル巻装部３５ｂとのエアギャップ、コイル巻装部３５ｂを循環する第１磁気回路Ｍ１が形成される（図３参照）。
【００３５】
また、前記駆動回路２１にはコイル３７とコイル３９とが直列に接続され、第２回路Ｃ２が構成されている。前記駆動回路２１からコイル３７側へ電源を供給した際には、コイル巻装部３５ｃの先端部はＮ極となり、コイル巻装部３５ｅの先端部はＳ極となるように、コイル３７，３９はコイル巻装部３５ｃ，３５ｅにそれぞれ巻装されている。
【００３６】
このため、駆動回路２１がコイル３７，３９に交流電源を供給すると、コイル巻装部３５ｃ、輪状部３５ａ、コイル巻装部３５ｅ、コイル巻装部３５ｅとコイル巻装部３５ｃとのエアギャップ、コイル巻装部３５ｃを循環する第２磁気回路Ｍ２が形成される（図４参照）。
【００３７】
また、空間Ｋにおいて第１磁気回路Ｍ１の一部と第２磁気回路Ｍ２の一部とが直交状態で互いに交わるように、前記第１電磁石４５及び前記第２電磁石４６は形成されている。
【００３８】
前記制御装置１８は、駆動回路２１に対して第１回路Ｃ１又は第２回路Ｃ２の何れか一方に交流電源を供給するように制御したり、第１回路Ｃ１及び第２回路Ｃ２に対して同時に交流電源を供給するように制御したりする。
【００３９】
また、制御装置１８は、第１回路Ｃ１及び第２回路Ｃ２に対して交流電源を供給する際に、第１回路Ｃ１と第２回路Ｃ２とにおいて、互いに異なる位相の交流電源を供給可能とするように駆動回路２１に対して制御する。
【００４０】
次に、本実施形態のように構成されたレーザトリミング装置１１における磁気プローブ１９の作用について説明する。
制御装置１８の制御により、駆動回路２１にて第１回路Ｃ１にのみ交流電源を供給すると、空間Ｋにおいて被トリミング面Ｓｆに平行でかつＸ軸方向に沿った磁束（例えば図６における磁束Ｚ１）が発生する。
【００４１】
そして、制御装置１８の制御により、駆動回路２１にて第２回路Ｃ２にのみ交流電源を供給すると、空間Ｋにおいて被トリミング面Ｓｆに平行でかつＹ軸方向に沿った磁束（例えば図６における磁束Ｚ２）が発生する。
【００４２】
加えて、制御装置１８の制御により、第１回路Ｃ１に供給する交流電源と、第２回路Ｃ２に供給する交流電源とが互いに同じ大きさの交流電源でかつ位相が同じ際には、被トリミング面Ｓｆに平行でかつ４５°方向に沿った磁束（例えば図６における磁束Ｚ３）が発生する。なお、上記４５°方向とは、Ｙ軸とＸ軸とがなす直角の二等分線に沿う方向のことをいう。また、この第１回路Ｃ１に供給する交流電源と第２回路Ｃ２に供給する交流電源との大きさを任意に変更することにより、Ｘ，Ｙ軸平面（被トリミング面Ｓｆに平行な面）において磁束の方向を任意に設定できる。
【００４３】
なお、本実施形態では、前記磁束Ｚ１，Ｚ２，Ｚ３は静磁場に相当する。
さらに、制御装置１８の制御により、駆動回路２１にて第１回路Ｃ１に供給する交流電源と、第２回路Ｃ２に供給する交流電源とが互いに同じ大きさの交流電源でかつ位相が互いに９０°ずれている際には、空間Ｋには被トリミング面Ｓｆに平行でかつ回転する磁束（例えば図６における磁束Ｚ４）が発生する。なお、前記磁束Ｚ４は回転磁界ともいい、輪状部３５ａの軸心を中心として回転する。
【００４４】
そして、磁気プローブ１９により発生した前記磁束Ｚ１，Ｚ２，Ｚ３，Ｚ４は、空間Ｋに対応する磁気センサＳに与えられる。
次に、本実施形態のように構成されたレーザトリミング装置１１のトリミング方法について説明する。
【００４５】
レーザ発振器１２から照射されたレーザ光Ｌ１は、ビームエキスパンダ１３、マスク部１４、対物レンズ１５を介してレーザビームＬ３となり、そのレーザビームＬ３がウエハＷに照射される。制御装置１８にてＸ−Ｙ駆動装置３０及びマスク部１４を制御することにより、レーザビームＬ３が図１のＸ，Ｙ軸方向における任意の位置に移動する。この結果、空間Ｋに対応する磁気センサＳにおいて、磁気抵抗素子Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４の不要部分が前記レーザビームＬ３によりトリミング（溶融除去）される。
【００４６】
このトリミングの際に、制御装置１８の制御により駆動回路２１にて第１回路Ｃ１及び第２回路Ｃ２へ交流電源の供給が制御され、空間Ｋ内に所望の磁束が発生する。
【００４７】
前記磁束の影響を受けた空間Ｋに対応する磁気センサＳにおいて、その端子Ｔ１，Ｔ２間に電源を供給すると、端子Ｔ３と端子Ｔ４間に電位差出力電圧ΔＶが出力される。この電位差出力電圧ΔＶを前記測定装置１６のプローブ１６ａにて検出し、測定装置１６はその電位差出力電圧ΔＶを制御装置１８へ出力する。制御装置１８はその電位差出力電圧ΔＶに基づいて、Ｘ−Ｙ駆動装置３０を制御し、空間Ｋに対応する磁気センサＳが所望の特性となるようにトリミングを行う。
【００４８】
ところで、前記磁気プローブ１９のコア３５は、磁性体特性を有するアモルファス金属にて形成されている。これが例えば、前記コア３５が鋼鉄にて形成されている際には、図１０に示すようなヒステリシス特性となり、コイル３６，３７，３８，３９に交流電源を供給していない状態の残留磁気は、同図における残留磁気Ｂｒ１とされている。
【００４９】
しかしながら本実施形態では、前記コア３５を磁性体特性を有するアモルファス金属にて形成したことにより、図１１に示すようなヒステリシス特性となり、コイル３６，３７，３８，３９に交流電源を供給していない状態の残留磁気は、同図における残留磁気Ｂｒ２とされている。従って、残留磁気Ｂｒ２は残留磁気Ｂｒ１よりも小さく、この結果、磁性体特性を有するアモルファス金属にて形成されたコア３５は、鋼鉄性のコアよりも残留磁気が少ない。
【００５０】
なお、図１０、図１１は、磁化曲線（Ｂ−Ｈ曲線）を示し、横軸が磁界の強さ、縦軸は磁束密度である。
従って、本実施形態のレーザトリミング装置１１によれば、以下のような効果を得ることができる。
【００５１】
（１）本実施形態では、レーザトリミング装置１１は、磁気センサＳにレーザビームＬ３を照射してその磁気センサＳのトリミングを行うレーザ照射装置２０と、磁気センサＳの電位差出力電圧ΔＶ（電気抵抗）を測定する測定装置１６を備えた。また、レーザトリミング装置１１は磁気センサＳに対して被トリミング面Ｓｆに平行な任意の方向の磁束（静磁場）や回転する磁束（回転磁場）を与える磁気プローブ１９を備えた。従って、回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方を与えた状態の磁気センサＳにおける電位差出力電圧ΔＶを測定しつつ、磁気センサＳに対してトリミングを施すことができる。
【００５２】
（２）本実施形態では、第１電磁石４５のエアギャップと第２電磁石４６のエアギャップとが交わると共に、そのエアギャップ位置（空間Ｋ）において第１磁気回路Ｍ１と第２磁気回路Ｍ２とが直交状態で互いに交わるようにした。従って、第１磁気回路Ｍ１の磁束と第２磁気回路Ｍ２の磁束との協働により、被トリミング面Ｓｆに対して平行な任意の方向の磁束（静磁場）を発生させたり、回転する磁束（回転磁場）を発生させたりすることができる。
【００５３】
（３）本実施形態では、第１電磁石４５をコイル３６，３８及びコア３５にて構成し、第２電磁石４６をコイル３７，３９及びコア３５にて構成した。従って、コイル３６，３７，３８，３９に供給する電源を適宜制御することにより、空間Ｋ内に発生する磁束の方向（静磁場）や回転する磁束（回転磁場）を任意に設定できる。
【００５４】
（４）本実施形態では、コア３５を磁性体特性を有するアモルファス金属にて形成した。従って、コア３５を鋼鉄にて形成した場合と比べて、本実施形態のコア３５は残留磁気が少なく、良好な状態でトリミング加工を行うことができる。（他の実施形態）
なお、上記実施形態は以下のような他の実施形態に変更して具体化してもよい。
【００５５】
・本実施形態では、コア３５を磁性体特性を有するアモルファス金属にて形成していた。これに限らず、コア３５を磁性体特性を有する金属、例えば鋼鉄などにより形成してもよい。また、前記コア３５を残留磁化（残留磁気）の小さい材料としてのセンダストなどにより形成してもよい。
【００５６】
・本実施形態では、第１電磁石４５及び第２電磁石４６により空間Ｋに磁束を発生させていた。これに限らず、第１電磁石４５又は第２電磁石４６のうち何れか一方を省略してもよい。このように構成しても、空間ＫにおいてＸ軸方向に沿う方向の磁束又はＹ軸方向に沿う方向の磁束を発生させることができ、その磁束を磁気センサＳに与えながら磁気センサＳの電位差出力電圧ΔＶを測定しつつ、トリミングを行うことができる。
【００５７】
・また、第１電磁石４５及び第２電磁石４６を省略し、その代わりにエアギャップを有する磁気回路を構成する磁石を採用し、その磁石のエアギャップをトリミングを行う磁気センサＳに対応するように位置させてもよい。
【００５８】
・本実施形態では、回転角センサなどに用いられる磁気センサＳのトリミングを行うためにレーザトリミング装置１１を用いていた。これに限らず、レーザトリミング装置１１を用いるものとして、強磁性体を備え、その強磁性体に任意の方向の磁束を与えた状態で、所望の電気抵抗の値となっているかを測定しつつ、トリミングを行うものであれば何でもよい。
【００５９】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方を与えた状態の被トリミング体における電気抵抗を測定しつつ、同被トリミング体に対してトリミングができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態におけるレーザトリミング装置の斜視図。
【図２】本実施形態における磁気プローブと加工物載置テーブルとの位置関係を示す正面図。
【図３】本実施形態における磁気プローブの平面図。
【図４】本実施形態における磁気プローブの平面図。
【図５】本実施形態におけるコアの斜視図。
【図６】本実施形態における磁気プローブの拡大図。
【図７】本実施形態における磁気プローブの回路図。
【図８】本実施形態における磁気センサの平面図。
【図９】本実施形態における磁気センサの回路図。
【図１０】本実施形態におけるコアを鋼鉄で形成した際の磁気特性を示す特性図。
【図１１】本実施形態におけるコアの磁気特性を示す特性図。
【符号の説明】
１１…レーザトリミング装置、１６…測定手段としての測定装置、
１９…磁場付与手段としての磁気プローブ、
２０…レーザ出力手段としてのレーザ照射装置、３５…コア、
３６，３７，３８，３９…コイル、
４５…第１磁気回路構成体としての第１電磁石、
４６…第２磁気回路構成体としての第２電磁石、
Ｌ３…レーザとしてのレーザビーム、Ｍ１…第１磁気回路、
Ｍ２…第２磁気回路、Ｓ…被トリミング体としての磁気センサ、
Ｓｆ…被トリミング面。

Claims

被トリミング体にレーザを照射して同被トリミング体をトリミングするレーザ出力手段と、
前記被トリミング体に接続されると共に同被トリミング体の電気抵抗を測定する測定手段とを備えたレーザトリミング装置において、
前記被トリミング体の被トリミング面に対して平行な回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方をその被トリミング体に与える磁場付与手段を備えたことを特徴とするレーザトリミング装置。
前記磁場付与手段は、その一部が直交状態で互いに交わる２つの磁気回路の協働により前記被トリミング面に対して平行な回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方を前記被トリミング体に付与するものであることを特徴とする請求項１に記載のレーザトリミング装置。
前記磁場付与手段は、エアギャップを有しかつ第１磁気回路を構成する第１磁気回路構成体と、エアギャップを有しかつ第２磁気回路を構成する第２磁気回路構成体とを備え、
前記第１磁気回路構成体のエアギャップと前記第２磁気回路構成体のエアギャップとが互いに交わると共に、そのエアギャップ位置において、前記第１磁気回路と前記第２磁気回路とが互いに直交状態で交わるように前記第１磁気回路構成体及び前記第２磁気回路構成体が設けられていることを特徴とする請求項２に記載のレーザトリミング装置。
前記第１磁気回路構成体及び前記第２磁気回路構成体は、コイルとコアとをそれぞれ備えたことを特徴とする請求項３に記載のレーザトリミング装置。
前記コアは、磁性体特性を有するアモルファス金属または残留磁化の小さい材料にて設けられていることを特徴とする請求項４に記載のレーザトリミング装置。
強磁性体からなる被トリミング体の電気抵抗を測定しつつ、同被トリミング体に対してレーザを照射してトリミングを行うレーザトリミング方法において、
前記被トリミング体の被トリミング面に対して平行な回転磁場及び静磁場のうち少なくとも何れか一方をその被トリミング体に与えた状態で、同被トリミング体の電気抵抗の値が所望の値となるようにレーザを照射してトリミングを行うレーザトリミング方法。