JP2004113270A - 耳孔式ｓａｗ体温計及び該体温計による体温管理システム - Google Patents
耳孔式ｓａｗ体温計及び該体温計による体温管理システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004113270A JP2004113270A JP2002276908A JP2002276908A JP2004113270A JP 2004113270 A JP2004113270 A JP 2004113270A JP 2002276908 A JP2002276908 A JP 2002276908A JP 2002276908 A JP2002276908 A JP 2002276908A JP 2004113270 A JP2004113270 A JP 2004113270A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- body temperature
- thermometer
- pulse signal
- reflector
- type saw
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
- Arrangements For Transmission Of Measured Signals (AREA)
- Measuring And Recording Apparatus For Diagnosis (AREA)
Abstract
【課題】体の動きを制限することなく体温データを連続的に計測することができると共に、ネットワークを経由して多数の患者の体温データを一元管理することができる、耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムを得る。
【解決手段】体温データを計測するための体温計測用リフレクタとＩＤ情報を取得するためのＩＤ用リフレクタとデータ検出パルス信号の受信及び反射パルス信号の送信を行うためのＩＤＴを有したＳＡＷ体温計デバイス及びアンテナをケーシングに内蔵した耳孔式ＳＡＷ体温計と、該耳孔式ＳＡＷ体温計に対しデータ検出パルス信号の送信及び当該耳孔式ＳＡＷ体温計から出力される反射パルス信号の受信を行うと共に、該反射パルス信号を演算処理することにより体温データの計測及びＩＤ情報の取得を行い、更にはネットワークを経由して前記体温データ及びＩＤ情報をサーバーに伝送することができる体温計測装置にて構成する。
【選択図】 図１
【解決手段】体温データを計測するための体温計測用リフレクタとＩＤ情報を取得するためのＩＤ用リフレクタとデータ検出パルス信号の受信及び反射パルス信号の送信を行うためのＩＤＴを有したＳＡＷ体温計デバイス及びアンテナをケーシングに内蔵した耳孔式ＳＡＷ体温計と、該耳孔式ＳＡＷ体温計に対しデータ検出パルス信号の送信及び当該耳孔式ＳＡＷ体温計から出力される反射パルス信号の受信を行うと共に、該反射パルス信号を演算処理することにより体温データの計測及びＩＤ情報の取得を行い、更にはネットワークを経由して前記体温データ及びＩＤ情報をサーバーに伝送することができる体温計測装置にて構成する。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＳＡＷ（Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｃｏｕｓｔｉｃ Ｗａｖｅ：弾性表面波）体温計デバイスを内蔵した耳孔式ＳＡＷ体温計により患者の正確な体温データの計測とＩＤ情報の取得を行うことができると共に、ネットワークを経由して多数の患者の体温データを一元管理することができる、耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、人体の体温を測る手段として水銀体温計や温度センサーによる電子体温計が使用されていた。また、近年において耳孔内の鼓膜及びその周辺部から放射される赤外線を焦電センサーにて数秒のうちに計測する耳孔式体温計が普及し始めている。
【０００３】
上記水銀体温計や電子体温計又は耳孔式体温計は定期的な検温時間における体温測定に使用するものであり、連続的な体温データが必要な病院等の患者や保育器内の乳幼児等の体温測定を行う場合には、温度センサーを患者の体温計測部位に貼付して体温データをサンプリング計測する手段があるが、該手段における温度センサーには信号線があるため体の動きが制限されてしまうといった問題点があった。該問題点を解決するため、本願出願人による特願２００２−１３１３４６「ＩＤ付きＳＡＷデバイス体温計及び該体温計による体温管理システム」においては、ＳＡＷデバイス体温計から出力される反射パルス信号を受信して演算処理することにより体温測定を行うことができる、コードレスのＩＤ付きＳＡＷデバイス体温計を提案した。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記温度センサー又はＳＡＷデバイス体温計は、患者の体表面における体温計測部位に貼付して体温データをサンプリング計測する方式ため、外気や衣服等による温度変化の影響を受け易く、正確な体温測定を行うことができないといった問題点があった。
【０００５】
本発明は、以上のような問題点を解決するために提案されたものであり、ＳＡＷ体温計デバイスを内蔵した耳孔式ＳＡＷ体温計により患者の正確な体温データの計測とＩＤ情報の取得を行うことができ、更には信号線がないことにより体の動きを制限することなく体温データを連続的に計測することができると共に、ネットワークを経由して多数の患者の体温データを一元管理することができる、耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムは、体温データを計測するための体温計測用リフレクタとＩＤ情報を取得するためのＩＤ用リフレクタとデータ検出パルス信号の受信及び反射パルス信号の送信を行うためのＩＤＴを有したＳＡＷ体温計デバイス及びアンテナをケーシングに内蔵した耳孔式ＳＡＷ体温計と、該耳孔式ＳＡＷ体温計に対しデータ検出パルス信号の送信及び当該耳孔式ＳＡＷ体温計から出力される反射パルス信号の受信を行うと共に、該反射パルス信号を演算処理することにより体温データの計測及びＩＤ情報の取得を行い、更にはネットワークを経由して前記体温データ及びＩＤ情報をサーバーに伝送することができる体温計測装置にて構成する。また、前記ＩＤ情報に対応する体温データをサーバーにて連続的に計測し、患者毎にデータベース化することにより体温データの一元管理を行う。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図を用いて説明する。図１は本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計を耳孔内に挿着した状態及び測定方法を示した図である。
【０００８】
耳孔式ＳＡＷ体温計１は、ケーシング２において体温データを計測するための体温計測用リフレクタとＩＤ情報を取得するためのＩＤ用リフレクタとデータ検出パルス信号の受信及び反射パルス信号の送信を行うためのＩＤＴを有したＳＡＷ体温計デバイス３を先端部に鼓膜１１及びその周辺部から放射される赤外線を導入するための孔２ａを穿孔したプローブ２ｂに内蔵し、前記ＩＤＴに接続したアンテナ６を本体２ｃに内蔵して構成する。使用時には、該耳孔式ＳＡＷ体温計１のプローブ２ｂをイヤホンのように耳孔１０内に挿着するだけである。
【０００９】
体温測定を行う場合、体温計測装置１２のアンテナ１３より耳孔式ＳＡＷ体温計１に対しデータ検出パルス信号を送信すると当該耳孔式ＳＡＷ体温計１から反射パルス信号が出力される。そして、該反射パルス信号をアンテナ１３で受信して演算処理することにより体温データの計測及びＩＤ情報の取得を行うことができる。該体温データはＬＣＤ等のモニタ部２３に表示したりネットワーク２４を経由して体温データ及びＩＤ情報をサーバーに伝送することができる。
【００１０】
図２は本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計に内蔵するＳＡＷ体温計デバイスの構造を示した一実施例図であり、ＳＡＷ体温計デバイス３の基板４上の略中央部にＩＤＴ５（Ｉｎｔｅｒｄｉｇｉｔａｌ Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒｓ）を配設し、左側部に２本のリフレクタで構成される体温計測用リフレクタ７をＩＤＴ５と平行に配設し、更に右側部に多数のリフレクタで構成されるＩＤ用リフレクタ８をＩＤＴ５と平行に配設してある。前記ＩＤ用リフレクタ８は、ＩＤＴ５に対し手前側が短く奥側が長いリフレクタを当該リフレクタの基板内部側の先端の包絡線がＶ字型を成すと共に各ビットが交互にクシ型を成すように配設する。また、各ＩＤ用リフレクタ８の基板端部側にＩＤ設定用ヒューズ９を配設する。また、ＩＤＴ５の両端部を接続したアンテナ端子Ａに外部のアンテナ６を接続する。
【００１１】
上記図２において、基板４の下部側のＩＤＴ５に近い方よりビット１，ビット３，ビット５‥‥ビット２３を配設し、上部側のＩＤＴ５に近い方よりビット２，ビット４，ビット６‥‥ビット２４の計２４本のＩＤ用リフレクタ８を配設してあるため、最大２４ビットのＩＤパターンを発生することができる。なお、ビット２１〜２４まではＶ字型の底部に相当する部分であり、該底部における数ビット分の配設方法はクシ型にした以外は一般的方法である。また、ＩＤ設定用ヒューズ９は、ＩＤ用リフレクタ８のパターン幅に比べ非常に細くして微小抵抗成分を持たせている。
【００１２】
また、図３は本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムにおける体温計測装置の回路ブロック図であり、該体温計測装置１２はアンテナ１３より耳孔式ＳＡＷ体温計１に対しデータ検出パルス信号を送信したり耳孔式ＳＡＷ体温計１のアンテナ６から送信される体温データ及びＩＤ情報を含む反射パルス信号を受信するためのパルス送受信部１４と、前記データ検出パルス信号の原信号を生成するためのパルス発生部１５と、前記反射パルス信号を増幅するための増幅部１６及び当該反射パルス信号の位相又は振幅を検出するための位相又は振幅検出部１７と、基準温度における基準反射時間間隔を生成するための恒温槽１８及び当該恒温槽１８内に配設された基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路１９と、前記位相又は振幅検出部１７より得られた体温データ及びＩＤ情報を含む反射パルス信号のうち体温データにより反射時間間隔と基準温度における基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路１９の基準反射時間間隔との遅延時間を計測して演算処理することにより体温データを算出したりＩＤパターンによりＩＤ情報を取得するためのデータ処理部２０と、後段のネットワーク２４と接続して当該体温データやＩＤ情報を伝送するためのネットワーク通信部２１と、前記データ処理部２０内のＣＰＵ等を制御するためのプログラムを蓄積し又レジスタとして機能するメモリ部２２と、前記体温データをＬＣＤ等にて表示するためのモニタ部２３等により構成する。
【００１３】
図４はＩＤ設定用ヒューズの溶断によりＩＤ設定を行った状態図であり、データ検出パルス信号に対するＩＤ用リフレクタ８からの反射を有効にするためには、該当ビット端子と共通端子Ｇ間に高圧パルス発生器（図示せず）からの高圧パルスを印加するとＩＤ設定用ヒューズ９は抵抗成分により発熱して溶断し、ＩＤ用リフレクタ８が有効となる。図４では、ビット１，５及び１１のＩＤ設定用ヒューズ９が溶断した状態を示している。このようにして、ＩＤパターンのビット長を予め設定したり、設定したビット長において異なるＩＤパターン発生の設定を行うことができる。例えばビット長を２０ビットとした場合には、ＩＤパターンは２２０−１個の異なるＩＤパターンを発生することができる。そして、該ＩＤパターン内におけるＩＤ情報として、患者識別番号，性別，年齢，診療科名等の複数の情報を入力することができる。
【００１４】
ここで、耳孔式ＳＡＷ体温計１に対しデータ検出パルス信号を体温計測装置１２のアンテナ１３より送信すると、該データ検出パルス信号はアンテナ６で受信された後、ＩＤＴ５より基板４の左右両側に進行する。ここで、左側に進行したデータ検出パルス信号は体温計測用リフレクタ７で反射され、再びＩＤＴ５に戻り体温データを含んだ反射パルス信号としてアンテナ６より出力される。また、右側に進行したデータ検出パルス信号はＩＤ用リフレクタ８で反射され、再びＩＤＴ５に戻りＩＤ情報を含んだ反射パルス信号としてアンテナ６より出力される。なお、ＩＤＴ５における体温計測用リフレクタ７までの距離とＩＤ用リフレクタ８までの距離として、体温計測用リフレクタ７までの距離がＩＤ用リフレクタ８までの距離より短く、先に体温データを含んだ反射パルス信号が送信され次にＩＤ情報を含んだ反射パルス信号が送信されるため、両反射パルス信号が重畳することはない。
【００１５】
また、図５は図２の体温計測用リフレクタにおけるデータ検出パルス信号及び反射パルス信号の関係を示した図であり、耳孔式ＳＡＷ体温計１に対して体温計測装置１２のアンテナ１３よりデータ検出パルス信号Ｐを送信すると、該データ検出パルス信号Ｐはアンテナ６で受信された後、（ａ）図の▲１▼で示すようにＩＤＴ５より基板４の左側に進行し、最初の体温計測用リフレクタ７−１で反射される。ここで、該反射により発生した反射パルス信号をａとする。次に、▲２▼で示すデータ検出パルス信号Ｐは更に左側に進行し、２番目の体温計測用リフレクタ７−２で反射される。ここで、該反射により発生した反射パルス信号をｂとすると、両反射パルス信号ａ，ｂは再びＩＤＴ５に戻りアンテナ６より反射パルス信号として体温計測装置１２のアンテナ１３に対して出力される。
【００１６】
ここで、（ｂ）図で示すように実測体温がＴ１の時の反射パルス信号ａ，ｂの反射時間間隔をｔ１とし、基準温度をＴ２とした時の反射パルス信号ａ，ｂ’の基準反射時間間隔をｔ２とすると、基準温度Ｔ２と実測体温Ｔ１の差は、基準反射時間間隔ｔ２と反射時間間隔ｔ１の差すなわち遅延時間ｔ３を計測することにより求めることができる。該反射時間間隔ｔ１は、体温が高いと短くなり体温が低いと長くなる性質があり、更には体温と反射時間間隔ｔ１の関係式はＩＤＴ５と体温計測用リフレクタ７−１，７−２間の距離及びデータ検出パルス信号Ｐに含まれるキャリア周波数の位相との１次関数で表されるため、基準温度Ｔ２における基準反射時間間隔ｔ２が判れば実測体温Ｔ１が容易に算出することができる。このように、体温計測は反射パルス信号ａ，ｂの反射時間間隔ｔ１の計測のみにより算出できるため、体温計測装置１２と耳孔式ＳＡＷ体温計１との距離には無関係に計測することができる。
【００１７】
次に、ＩＤ用リフレクタ８の反射原理を説明する。図６は図２の２点鎖線部におけるデータ検出パルス信号と反射パルス信号の関係を示した図であり、（ａ）図に示すようにＩＤＴ５から出力されたデータ検出パルス信号ＰがＩＤ用リフレクタ８の１ビット目のリフレクタ８−１と３ビット目のリフレクタ８−３及び５ビット目のリフレクタ８−５により反射される状態を示している。ここで、ＩＤ用リフレクタ８がＶ字型を成すため、３ビット目のリフレクタ８−３は１ビット目のリフレクタ８−１より幅Ｗだけ基板４の内側に延び、５ビット目のリフレクタ８−５は３ビット目のリフレクタ８−３より幅Ｗだけ基板４の内側に延びているものとする。ここで、ＩＤＴ５よりデータ検出パルス信号Ｐが出力されると、１ビット目のリフレクタ８−１より反射パルス信号ｃが発生する。また、３ビット目のリフレクタ８−３の幅Ｗの部分より反射パルス信号ｄが発生すると共に他の部分において１ビット目のリフレクタ８−１を通過したデータ検出力パルス信号Ｐにより反射パルス信号ｄ’が発生する。また、５ビット目のリフレクタ８−５の幅Ｗの部分より反射パルス信号ｅが発生すると共に他の部分において１ビット目のリフレクタ８−１と３ビット目のリフレクタ８−３を通過したデータ検出パルス信号Ｐにより反射パルス信号ｅ’が発生する。ここで、（ｂ）図に示すように反射パルス信号ｄと反射パルス信号ｄ’の時間遅れを無視すると当該反射パルス信号ｄと反射パルス信号ｄ’が重なり合い、反射パルス信号ｅと反射パルス信号ｅ’の時間遅れを無視すると当該反射パルス信号ｅと反射パルス信号ｅ’が重なり合い、ＩＤＴ５よりＬ１の距離にあるリフレクタ８−１が反射する反射パルス信号ｃとＬ３の距離にあるリフレクタ８−３が反射する反射パルス信号ｄとＬ５の距離にあるリフレクタ８−５が反射する反射パルス信号ｅのレベルは減衰することなく忠実にＩＤＴ５に反射されることになる。なお、図６ではビット１，３，５の奇数番目のリフレクタについて説明したが偶数番目のリフレクタについても同様であり、ＩＤ用リフレクタ８の各ビットが交互にクシ型に配設されているため、ビット１，２，３，４，５，６‥‥と順に反射されることになる。
【００１８】
また、図７は図４のＩＤパターンにおけるＩＤ用リフレクタからの反射パルス信号の位置関係を示した図であり、図４に示すように全２４ビット中ビット１，５及び１１のＩＤ設定用ヒューズ９を高圧パルス発生器により溶断したと仮定した場合、ＩＤＴ５より出力されたデータ検出パルス信号Ｐによりビット１のリフレクタ８−１による反射パルス信号ｐ１とビット５のリフレクタ８−５による反射パルス信号ｐ５及びビット１１のリフレクタ８−１１による反射パルス信号ｐ１１のみがＩＤＴ５に反射される。そして、該ＩＤ情報を含んだ反射パルス信号を体温計測装置１２に対し出力することになる。なお、ＩＤ設定用ヒューズ９の溶断を行わなかったビットのＩＤ用リフレクタ８は当該ＩＤ設定用ヒューズ９により共通端子Ｇに接続され、更に当該共通端子Ｇをアンテナ端子Ａ側に接続することにより、どこにデータ検出パルス信号Ｐが当っても減衰して反射は発生しない。このため、ＩＤ設定用ヒューズ９を溶断又は非溶断することによりＩＤパターンのビット長を予め設定したり、設定したビット長において異なるＩＤパターン発生の設定を行うことができることになる。
【００１９】
【実施例】
本発明の実施例を図を用いて説明する。図８は本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムを病院の患者の体温管理システムに応用した一実施例図である。
【００２０】
カーテン２７で仕切られた各病室２８において、各患者２９のベッド３０の頭部側には小物入れやテーブル等が一体となった床頭台３１が設置されている。そこで、該床頭台３１に体温計測装置１２を設置すると共に、該体温計測装置１２内のネットワーク通信部２１を病院内のＬＡＮ等のネットワーク２４に接続し、更に当該ネットワーク２４を経由して上位のサーバー２５に接続する。また、該サーバー２５にはモニタ装置２６を接続する。
【００２１】
体温計測装置１２のアンテナ１３からは、患者２９の耳孔１０内に挿着された耳孔式ＳＡＷ体温計１に対してデータ検出パルス信号Ｐを一定のサンプリング周期にて送信する。次に、該データ検出パルス信号Ｐに反応した耳孔式ＳＡＷ体温計１のアンテナ６からは、当該患者２９の実時間における反射パルス信号が体温計測装置１２のアンテナ１３に対し出力される。なお、該体温計測装置１２から耳孔式ＳＡＷ体温計１へのデータ検出パルス信号Ｐの送信能力は、隣の患者２９の反射パルス信号との混信を防止するため、１ｍ程度が好適である。
【００２２】
体温計測装置１２は、該反射パルス信号中の体温データより反射時間間隔と当該体温計測装置１２内の恒温槽１８内に配設されている基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路１９の基準温度における基準反射時間間隔とを比較して演算処理することにより患者２９の体温を正確に計測することができ、更に該反射パルス信号中のＩＤ情報より患者２９のＩＤ情報を取得することができる。そして、該演算により算出された体温データ及びＩＤ情報をＬＡＮ等のネットワーク２４を経由してサーバー２５に伝送する。なお、前記恒温槽１８は小型の電気式又は電子式ヒーターが一般的であるが、基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路１９自体に定温制御回路を付加したものであっても構わない。
【００２３】
サーバー２５は、上記体温データをＩＤ情報に基づいてデータベース化することにより、患者毎の体温データを連続的に計測することができる。そして、当該患者２９の体温に異常が発生した場合等においては、ネットワーク２４を経由してナースセンター内の端末装置にアラーム出力することが可能である。このようにして、多数の患者２９の連続的な体温データをデータベース化することにより、患者毎の体温データをネットワークで一元管理することが可能となる。
【００２４】
なお、上記サーバー２５に接続したモニタ装置２６は各患者２９の体温データの数値表示やグラフ表示を行うことができ、更にアラーム出力を行うための設定値等を入力することもできる。更にはプリンタ（図示せず）への印字設定を行うことも可能である。
【００２５】
また、上述の説明は体温計測装置１２を床頭台３１に設置した例について述べたが、ベッド３０の頭部側等など任意な場所に設置しても構わない。更には体温測定の対象を病院等の患者とし、ネットワーク２４を経由して多数の患者の体温データの一元管理を行う例について述べたが、オンライン機能やＩＤ情報を利用しないでスタンドアロンで使用するようにすれば、家庭内における病人の体温測定に使用することも可能である。
【００２６】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムを病院や老人ホーム又は在宅介護等において実施すれば、耳孔式ＳＡＷ体温計を患者の耳孔内に挿着しておくだけで正確な体温データの連続計測が容易に行うことができるという効果を奏する。また、該耳孔式ＳＡＷ体温計には信号線がなく、更には電子回路やバッテリー等もなく非常に小型であるため、体の動きを制限することがないという効果も奏する。また、ネットワークを経由して多数の患者の連続的な体温データをＩＤ情報に基づきデータベース化することにより、患者毎の体温データをネットワークで一元管理することができるという効果も奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計を耳孔内に挿着した状態及び測定方法を示した図である。
【図２】本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計に内蔵するＳＡＷ体温計デバイスの構造を示した一実施例図である。
【図３】本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムにおける体温計測装置の回路ブロック図である。
【図４】ＩＤ設定用ヒューズの溶断によりＩＤ設定を行った状態図である。
【図５】図２の体温計測用リフレクタにおけるデータ検出パルス信号と反射パルス信号の関係を示した図である。
【図６】図２の２点鎖線部におけるデータ検出パルス信号と反射パルス信号の関係を示した図である。
【図７】図４のＩＤパターンにおけるＩＤ用リフレクタからの反射パルス信号の位置関係を示した図である。
【図８】本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムを病院の患者の体温管理システムに応用した一実施例図である。
【符号の説明】
１ 耳孔式ＳＡＷ体温計
２ ケーシング
３ ＳＡＷ体温計デバイス
４ 基板
５ ＩＤＴ
６ アンテナ
７ 体温計測用リフレクタ
８ ＩＤ用リフレクタ
９ ＩＤ設定用ヒューズ
１０ 耳孔
１１ 鼓膜
１２ 体温計測装置
１３ アンテナ
１４ パルス送受信部
１５ パルス発生部
１６ 増幅部
１７ 位相又は振幅検出部
１８ 恒温槽
１９ 基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路
２０ データ処理部
２１ ネットワーク通信部
２２ メモリ部
２３ モニタ部
２４ ネットワーク
２５ サーバー
２６ モニタ装置
２７ カーテン
２８ 病室
２９ 患者
３０ ベッド
３１ 床頭台
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＳＡＷ（Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｃｏｕｓｔｉｃ Ｗａｖｅ：弾性表面波）体温計デバイスを内蔵した耳孔式ＳＡＷ体温計により患者の正確な体温データの計測とＩＤ情報の取得を行うことができると共に、ネットワークを経由して多数の患者の体温データを一元管理することができる、耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、人体の体温を測る手段として水銀体温計や温度センサーによる電子体温計が使用されていた。また、近年において耳孔内の鼓膜及びその周辺部から放射される赤外線を焦電センサーにて数秒のうちに計測する耳孔式体温計が普及し始めている。
【０００３】
上記水銀体温計や電子体温計又は耳孔式体温計は定期的な検温時間における体温測定に使用するものであり、連続的な体温データが必要な病院等の患者や保育器内の乳幼児等の体温測定を行う場合には、温度センサーを患者の体温計測部位に貼付して体温データをサンプリング計測する手段があるが、該手段における温度センサーには信号線があるため体の動きが制限されてしまうといった問題点があった。該問題点を解決するため、本願出願人による特願２００２−１３１３４６「ＩＤ付きＳＡＷデバイス体温計及び該体温計による体温管理システム」においては、ＳＡＷデバイス体温計から出力される反射パルス信号を受信して演算処理することにより体温測定を行うことができる、コードレスのＩＤ付きＳＡＷデバイス体温計を提案した。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記温度センサー又はＳＡＷデバイス体温計は、患者の体表面における体温計測部位に貼付して体温データをサンプリング計測する方式ため、外気や衣服等による温度変化の影響を受け易く、正確な体温測定を行うことができないといった問題点があった。
【０００５】
本発明は、以上のような問題点を解決するために提案されたものであり、ＳＡＷ体温計デバイスを内蔵した耳孔式ＳＡＷ体温計により患者の正確な体温データの計測とＩＤ情報の取得を行うことができ、更には信号線がないことにより体の動きを制限することなく体温データを連続的に計測することができると共に、ネットワークを経由して多数の患者の体温データを一元管理することができる、耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムは、体温データを計測するための体温計測用リフレクタとＩＤ情報を取得するためのＩＤ用リフレクタとデータ検出パルス信号の受信及び反射パルス信号の送信を行うためのＩＤＴを有したＳＡＷ体温計デバイス及びアンテナをケーシングに内蔵した耳孔式ＳＡＷ体温計と、該耳孔式ＳＡＷ体温計に対しデータ検出パルス信号の送信及び当該耳孔式ＳＡＷ体温計から出力される反射パルス信号の受信を行うと共に、該反射パルス信号を演算処理することにより体温データの計測及びＩＤ情報の取得を行い、更にはネットワークを経由して前記体温データ及びＩＤ情報をサーバーに伝送することができる体温計測装置にて構成する。また、前記ＩＤ情報に対応する体温データをサーバーにて連続的に計測し、患者毎にデータベース化することにより体温データの一元管理を行う。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図を用いて説明する。図１は本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計を耳孔内に挿着した状態及び測定方法を示した図である。
【０００８】
耳孔式ＳＡＷ体温計１は、ケーシング２において体温データを計測するための体温計測用リフレクタとＩＤ情報を取得するためのＩＤ用リフレクタとデータ検出パルス信号の受信及び反射パルス信号の送信を行うためのＩＤＴを有したＳＡＷ体温計デバイス３を先端部に鼓膜１１及びその周辺部から放射される赤外線を導入するための孔２ａを穿孔したプローブ２ｂに内蔵し、前記ＩＤＴに接続したアンテナ６を本体２ｃに内蔵して構成する。使用時には、該耳孔式ＳＡＷ体温計１のプローブ２ｂをイヤホンのように耳孔１０内に挿着するだけである。
【０００９】
体温測定を行う場合、体温計測装置１２のアンテナ１３より耳孔式ＳＡＷ体温計１に対しデータ検出パルス信号を送信すると当該耳孔式ＳＡＷ体温計１から反射パルス信号が出力される。そして、該反射パルス信号をアンテナ１３で受信して演算処理することにより体温データの計測及びＩＤ情報の取得を行うことができる。該体温データはＬＣＤ等のモニタ部２３に表示したりネットワーク２４を経由して体温データ及びＩＤ情報をサーバーに伝送することができる。
【００１０】
図２は本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計に内蔵するＳＡＷ体温計デバイスの構造を示した一実施例図であり、ＳＡＷ体温計デバイス３の基板４上の略中央部にＩＤＴ５（Ｉｎｔｅｒｄｉｇｉｔａｌ Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒｓ）を配設し、左側部に２本のリフレクタで構成される体温計測用リフレクタ７をＩＤＴ５と平行に配設し、更に右側部に多数のリフレクタで構成されるＩＤ用リフレクタ８をＩＤＴ５と平行に配設してある。前記ＩＤ用リフレクタ８は、ＩＤＴ５に対し手前側が短く奥側が長いリフレクタを当該リフレクタの基板内部側の先端の包絡線がＶ字型を成すと共に各ビットが交互にクシ型を成すように配設する。また、各ＩＤ用リフレクタ８の基板端部側にＩＤ設定用ヒューズ９を配設する。また、ＩＤＴ５の両端部を接続したアンテナ端子Ａに外部のアンテナ６を接続する。
【００１１】
上記図２において、基板４の下部側のＩＤＴ５に近い方よりビット１，ビット３，ビット５‥‥ビット２３を配設し、上部側のＩＤＴ５に近い方よりビット２，ビット４，ビット６‥‥ビット２４の計２４本のＩＤ用リフレクタ８を配設してあるため、最大２４ビットのＩＤパターンを発生することができる。なお、ビット２１〜２４まではＶ字型の底部に相当する部分であり、該底部における数ビット分の配設方法はクシ型にした以外は一般的方法である。また、ＩＤ設定用ヒューズ９は、ＩＤ用リフレクタ８のパターン幅に比べ非常に細くして微小抵抗成分を持たせている。
【００１２】
また、図３は本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムにおける体温計測装置の回路ブロック図であり、該体温計測装置１２はアンテナ１３より耳孔式ＳＡＷ体温計１に対しデータ検出パルス信号を送信したり耳孔式ＳＡＷ体温計１のアンテナ６から送信される体温データ及びＩＤ情報を含む反射パルス信号を受信するためのパルス送受信部１４と、前記データ検出パルス信号の原信号を生成するためのパルス発生部１５と、前記反射パルス信号を増幅するための増幅部１６及び当該反射パルス信号の位相又は振幅を検出するための位相又は振幅検出部１７と、基準温度における基準反射時間間隔を生成するための恒温槽１８及び当該恒温槽１８内に配設された基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路１９と、前記位相又は振幅検出部１７より得られた体温データ及びＩＤ情報を含む反射パルス信号のうち体温データにより反射時間間隔と基準温度における基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路１９の基準反射時間間隔との遅延時間を計測して演算処理することにより体温データを算出したりＩＤパターンによりＩＤ情報を取得するためのデータ処理部２０と、後段のネットワーク２４と接続して当該体温データやＩＤ情報を伝送するためのネットワーク通信部２１と、前記データ処理部２０内のＣＰＵ等を制御するためのプログラムを蓄積し又レジスタとして機能するメモリ部２２と、前記体温データをＬＣＤ等にて表示するためのモニタ部２３等により構成する。
【００１３】
図４はＩＤ設定用ヒューズの溶断によりＩＤ設定を行った状態図であり、データ検出パルス信号に対するＩＤ用リフレクタ８からの反射を有効にするためには、該当ビット端子と共通端子Ｇ間に高圧パルス発生器（図示せず）からの高圧パルスを印加するとＩＤ設定用ヒューズ９は抵抗成分により発熱して溶断し、ＩＤ用リフレクタ８が有効となる。図４では、ビット１，５及び１１のＩＤ設定用ヒューズ９が溶断した状態を示している。このようにして、ＩＤパターンのビット長を予め設定したり、設定したビット長において異なるＩＤパターン発生の設定を行うことができる。例えばビット長を２０ビットとした場合には、ＩＤパターンは２２０−１個の異なるＩＤパターンを発生することができる。そして、該ＩＤパターン内におけるＩＤ情報として、患者識別番号，性別，年齢，診療科名等の複数の情報を入力することができる。
【００１４】
ここで、耳孔式ＳＡＷ体温計１に対しデータ検出パルス信号を体温計測装置１２のアンテナ１３より送信すると、該データ検出パルス信号はアンテナ６で受信された後、ＩＤＴ５より基板４の左右両側に進行する。ここで、左側に進行したデータ検出パルス信号は体温計測用リフレクタ７で反射され、再びＩＤＴ５に戻り体温データを含んだ反射パルス信号としてアンテナ６より出力される。また、右側に進行したデータ検出パルス信号はＩＤ用リフレクタ８で反射され、再びＩＤＴ５に戻りＩＤ情報を含んだ反射パルス信号としてアンテナ６より出力される。なお、ＩＤＴ５における体温計測用リフレクタ７までの距離とＩＤ用リフレクタ８までの距離として、体温計測用リフレクタ７までの距離がＩＤ用リフレクタ８までの距離より短く、先に体温データを含んだ反射パルス信号が送信され次にＩＤ情報を含んだ反射パルス信号が送信されるため、両反射パルス信号が重畳することはない。
【００１５】
また、図５は図２の体温計測用リフレクタにおけるデータ検出パルス信号及び反射パルス信号の関係を示した図であり、耳孔式ＳＡＷ体温計１に対して体温計測装置１２のアンテナ１３よりデータ検出パルス信号Ｐを送信すると、該データ検出パルス信号Ｐはアンテナ６で受信された後、（ａ）図の▲１▼で示すようにＩＤＴ５より基板４の左側に進行し、最初の体温計測用リフレクタ７−１で反射される。ここで、該反射により発生した反射パルス信号をａとする。次に、▲２▼で示すデータ検出パルス信号Ｐは更に左側に進行し、２番目の体温計測用リフレクタ７−２で反射される。ここで、該反射により発生した反射パルス信号をｂとすると、両反射パルス信号ａ，ｂは再びＩＤＴ５に戻りアンテナ６より反射パルス信号として体温計測装置１２のアンテナ１３に対して出力される。
【００１６】
ここで、（ｂ）図で示すように実測体温がＴ１の時の反射パルス信号ａ，ｂの反射時間間隔をｔ１とし、基準温度をＴ２とした時の反射パルス信号ａ，ｂ’の基準反射時間間隔をｔ２とすると、基準温度Ｔ２と実測体温Ｔ１の差は、基準反射時間間隔ｔ２と反射時間間隔ｔ１の差すなわち遅延時間ｔ３を計測することにより求めることができる。該反射時間間隔ｔ１は、体温が高いと短くなり体温が低いと長くなる性質があり、更には体温と反射時間間隔ｔ１の関係式はＩＤＴ５と体温計測用リフレクタ７−１，７−２間の距離及びデータ検出パルス信号Ｐに含まれるキャリア周波数の位相との１次関数で表されるため、基準温度Ｔ２における基準反射時間間隔ｔ２が判れば実測体温Ｔ１が容易に算出することができる。このように、体温計測は反射パルス信号ａ，ｂの反射時間間隔ｔ１の計測のみにより算出できるため、体温計測装置１２と耳孔式ＳＡＷ体温計１との距離には無関係に計測することができる。
【００１７】
次に、ＩＤ用リフレクタ８の反射原理を説明する。図６は図２の２点鎖線部におけるデータ検出パルス信号と反射パルス信号の関係を示した図であり、（ａ）図に示すようにＩＤＴ５から出力されたデータ検出パルス信号ＰがＩＤ用リフレクタ８の１ビット目のリフレクタ８−１と３ビット目のリフレクタ８−３及び５ビット目のリフレクタ８−５により反射される状態を示している。ここで、ＩＤ用リフレクタ８がＶ字型を成すため、３ビット目のリフレクタ８−３は１ビット目のリフレクタ８−１より幅Ｗだけ基板４の内側に延び、５ビット目のリフレクタ８−５は３ビット目のリフレクタ８−３より幅Ｗだけ基板４の内側に延びているものとする。ここで、ＩＤＴ５よりデータ検出パルス信号Ｐが出力されると、１ビット目のリフレクタ８−１より反射パルス信号ｃが発生する。また、３ビット目のリフレクタ８−３の幅Ｗの部分より反射パルス信号ｄが発生すると共に他の部分において１ビット目のリフレクタ８−１を通過したデータ検出力パルス信号Ｐにより反射パルス信号ｄ’が発生する。また、５ビット目のリフレクタ８−５の幅Ｗの部分より反射パルス信号ｅが発生すると共に他の部分において１ビット目のリフレクタ８−１と３ビット目のリフレクタ８−３を通過したデータ検出パルス信号Ｐにより反射パルス信号ｅ’が発生する。ここで、（ｂ）図に示すように反射パルス信号ｄと反射パルス信号ｄ’の時間遅れを無視すると当該反射パルス信号ｄと反射パルス信号ｄ’が重なり合い、反射パルス信号ｅと反射パルス信号ｅ’の時間遅れを無視すると当該反射パルス信号ｅと反射パルス信号ｅ’が重なり合い、ＩＤＴ５よりＬ１の距離にあるリフレクタ８−１が反射する反射パルス信号ｃとＬ３の距離にあるリフレクタ８−３が反射する反射パルス信号ｄとＬ５の距離にあるリフレクタ８−５が反射する反射パルス信号ｅのレベルは減衰することなく忠実にＩＤＴ５に反射されることになる。なお、図６ではビット１，３，５の奇数番目のリフレクタについて説明したが偶数番目のリフレクタについても同様であり、ＩＤ用リフレクタ８の各ビットが交互にクシ型に配設されているため、ビット１，２，３，４，５，６‥‥と順に反射されることになる。
【００１８】
また、図７は図４のＩＤパターンにおけるＩＤ用リフレクタからの反射パルス信号の位置関係を示した図であり、図４に示すように全２４ビット中ビット１，５及び１１のＩＤ設定用ヒューズ９を高圧パルス発生器により溶断したと仮定した場合、ＩＤＴ５より出力されたデータ検出パルス信号Ｐによりビット１のリフレクタ８−１による反射パルス信号ｐ１とビット５のリフレクタ８−５による反射パルス信号ｐ５及びビット１１のリフレクタ８−１１による反射パルス信号ｐ１１のみがＩＤＴ５に反射される。そして、該ＩＤ情報を含んだ反射パルス信号を体温計測装置１２に対し出力することになる。なお、ＩＤ設定用ヒューズ９の溶断を行わなかったビットのＩＤ用リフレクタ８は当該ＩＤ設定用ヒューズ９により共通端子Ｇに接続され、更に当該共通端子Ｇをアンテナ端子Ａ側に接続することにより、どこにデータ検出パルス信号Ｐが当っても減衰して反射は発生しない。このため、ＩＤ設定用ヒューズ９を溶断又は非溶断することによりＩＤパターンのビット長を予め設定したり、設定したビット長において異なるＩＤパターン発生の設定を行うことができることになる。
【００１９】
【実施例】
本発明の実施例を図を用いて説明する。図８は本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムを病院の患者の体温管理システムに応用した一実施例図である。
【００２０】
カーテン２７で仕切られた各病室２８において、各患者２９のベッド３０の頭部側には小物入れやテーブル等が一体となった床頭台３１が設置されている。そこで、該床頭台３１に体温計測装置１２を設置すると共に、該体温計測装置１２内のネットワーク通信部２１を病院内のＬＡＮ等のネットワーク２４に接続し、更に当該ネットワーク２４を経由して上位のサーバー２５に接続する。また、該サーバー２５にはモニタ装置２６を接続する。
【００２１】
体温計測装置１２のアンテナ１３からは、患者２９の耳孔１０内に挿着された耳孔式ＳＡＷ体温計１に対してデータ検出パルス信号Ｐを一定のサンプリング周期にて送信する。次に、該データ検出パルス信号Ｐに反応した耳孔式ＳＡＷ体温計１のアンテナ６からは、当該患者２９の実時間における反射パルス信号が体温計測装置１２のアンテナ１３に対し出力される。なお、該体温計測装置１２から耳孔式ＳＡＷ体温計１へのデータ検出パルス信号Ｐの送信能力は、隣の患者２９の反射パルス信号との混信を防止するため、１ｍ程度が好適である。
【００２２】
体温計測装置１２は、該反射パルス信号中の体温データより反射時間間隔と当該体温計測装置１２内の恒温槽１８内に配設されている基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路１９の基準温度における基準反射時間間隔とを比較して演算処理することにより患者２９の体温を正確に計測することができ、更に該反射パルス信号中のＩＤ情報より患者２９のＩＤ情報を取得することができる。そして、該演算により算出された体温データ及びＩＤ情報をＬＡＮ等のネットワーク２４を経由してサーバー２５に伝送する。なお、前記恒温槽１８は小型の電気式又は電子式ヒーターが一般的であるが、基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路１９自体に定温制御回路を付加したものであっても構わない。
【００２３】
サーバー２５は、上記体温データをＩＤ情報に基づいてデータベース化することにより、患者毎の体温データを連続的に計測することができる。そして、当該患者２９の体温に異常が発生した場合等においては、ネットワーク２４を経由してナースセンター内の端末装置にアラーム出力することが可能である。このようにして、多数の患者２９の連続的な体温データをデータベース化することにより、患者毎の体温データをネットワークで一元管理することが可能となる。
【００２４】
なお、上記サーバー２５に接続したモニタ装置２６は各患者２９の体温データの数値表示やグラフ表示を行うことができ、更にアラーム出力を行うための設定値等を入力することもできる。更にはプリンタ（図示せず）への印字設定を行うことも可能である。
【００２５】
また、上述の説明は体温計測装置１２を床頭台３１に設置した例について述べたが、ベッド３０の頭部側等など任意な場所に設置しても構わない。更には体温測定の対象を病院等の患者とし、ネットワーク２４を経由して多数の患者の体温データの一元管理を行う例について述べたが、オンライン機能やＩＤ情報を利用しないでスタンドアロンで使用するようにすれば、家庭内における病人の体温測定に使用することも可能である。
【００２６】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムを病院や老人ホーム又は在宅介護等において実施すれば、耳孔式ＳＡＷ体温計を患者の耳孔内に挿着しておくだけで正確な体温データの連続計測が容易に行うことができるという効果を奏する。また、該耳孔式ＳＡＷ体温計には信号線がなく、更には電子回路やバッテリー等もなく非常に小型であるため、体の動きを制限することがないという効果も奏する。また、ネットワークを経由して多数の患者の連続的な体温データをＩＤ情報に基づきデータベース化することにより、患者毎の体温データをネットワークで一元管理することができるという効果も奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計を耳孔内に挿着した状態及び測定方法を示した図である。
【図２】本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計に内蔵するＳＡＷ体温計デバイスの構造を示した一実施例図である。
【図３】本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムにおける体温計測装置の回路ブロック図である。
【図４】ＩＤ設定用ヒューズの溶断によりＩＤ設定を行った状態図である。
【図５】図２の体温計測用リフレクタにおけるデータ検出パルス信号と反射パルス信号の関係を示した図である。
【図６】図２の２点鎖線部におけるデータ検出パルス信号と反射パルス信号の関係を示した図である。
【図７】図４のＩＤパターンにおけるＩＤ用リフレクタからの反射パルス信号の位置関係を示した図である。
【図８】本発明の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システムを病院の患者の体温管理システムに応用した一実施例図である。
【符号の説明】
１ 耳孔式ＳＡＷ体温計
２ ケーシング
３ ＳＡＷ体温計デバイス
４ 基板
５ ＩＤＴ
６ アンテナ
７ 体温計測用リフレクタ
８ ＩＤ用リフレクタ
９ ＩＤ設定用ヒューズ
１０ 耳孔
１１ 鼓膜
１２ 体温計測装置
１３ アンテナ
１４ パルス送受信部
１５ パルス発生部
１６ 増幅部
１７ 位相又は振幅検出部
１８ 恒温槽
１９ 基準ＳＡＷデバイス又は基準パルス発生回路
２０ データ処理部
２１ ネットワーク通信部
２２ メモリ部
２３ モニタ部
２４ ネットワーク
２５ サーバー
２６ モニタ装置
２７ カーテン
２８ 病室
２９ 患者
３０ ベッド
３１ 床頭台
Claims (2)
- 体温データを計測するための体温計測用リフレクタとＩＤ情報を取得するためのＩＤ用リフレクタとデータ検出パルス信号の受信及び反射パルス信号の送信を行うためのＩＤＴを有したＳＡＷ体温計デバイス及びアンテナをケーシングに内蔵し、人体の耳孔内に挿着してコードレスで体温測定が行えることを特徴とした、耳孔式ＳＡＷ体温計。
- 上記耳孔式ＳＡＷ体温計に対しデータ検出パルス信号の送信及び当該耳孔式ＳＡＷ体温計から出力される反射パルス信号の受信を行うと共に、該反射パルス信号を演算処理することにより体温データの計測及びＩＤ情報の取得を行い、更にはネットワークを経由して前記体温データ及びＩＤ情報をサーバーに伝送することができる体温計測装置において、前記ＩＤ情報に対応する体温データをサーバーにて連続的に計測し、患者毎にデータベース化することにより体温データをネットワークで一元管理することができることを特徴とした、請求項１に記載の耳孔式ＳＡＷ体温計及び該体温計による体温管理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002276908A JP4231953B2 (ja) | 2002-09-24 | 2002-09-24 | 耳孔式ｓａｗ体温計及び該体温計による体温管理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002276908A JP4231953B2 (ja) | 2002-09-24 | 2002-09-24 | 耳孔式ｓａｗ体温計及び該体温計による体温管理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004113270A true JP2004113270A (ja) | 2004-04-15 |
| JP4231953B2 JP4231953B2 (ja) | 2009-03-04 |
Family
ID=32272654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002276908A Expired - Fee Related JP4231953B2 (ja) | 2002-09-24 | 2002-09-24 | 耳孔式ｓａｗ体温計及び該体温計による体温管理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4231953B2 (ja) |
Cited By (323)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010129430A1 (en) * | 2009-05-06 | 2010-11-11 | Asm America, Inc. | Smart temperature measuring device |
| US7874726B2 (en) | 2007-05-24 | 2011-01-25 | Asm America, Inc. | Thermocouple |
| US7946762B2 (en) | 2008-06-17 | 2011-05-24 | Asm America, Inc. | Thermocouple |
| US8100583B2 (en) | 2009-05-06 | 2012-01-24 | Asm America, Inc. | Thermocouple |
| US8262287B2 (en) | 2008-12-08 | 2012-09-11 | Asm America, Inc. | Thermocouple |
| KR101203812B1 (ko) * | 2011-09-07 | 2012-11-22 | 인하대학교 산학협력단 | 어지럼증 자세 측정 장치 및 어지럼증 치료 장치 |
| US8382370B2 (en) | 2009-05-06 | 2013-02-26 | Asm America, Inc. | Thermocouple assembly with guarded thermocouple junction |
| CN102988027A (zh) * | 2011-09-09 | 2013-03-27 | 北京大学深圳研究生院 | 一种热敏电阻与无线体温检测电路的mcp封装形式 |
| USD702188S1 (en) | 2013-03-08 | 2014-04-08 | Asm Ip Holding B.V. | Thermocouple |
| CN104586348A (zh) * | 2013-10-31 | 2015-05-06 | 赖弘基 | 眼睛温度的测量与分析系统、接收分析装置及其方法 |
| CN105877714A (zh) * | 2014-11-28 | 2016-08-24 | 郭云 | 一种具有动态显示数值、曲线的智能电子体温检测装置 |
| WO2018004111A1 (ko) * | 2016-06-30 | 2018-01-04 | 주식회사 엠트리케어 | 사용자 단말, 서비스 제공장치, 스마트 체온계를 이용한 체온정보 수집 및 서비스 제공시스템, 이를 이용한 서비스 제공방법 |
| US10229833B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10249577B2 (en) | 2016-05-17 | 2019-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming metal interconnection and method of fabricating semiconductor apparatus using the method |
| US10249524B2 (en) | 2017-08-09 | 2019-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly |
| US10262859B2 (en) | 2016-03-24 | 2019-04-16 | Asm Ip Holding B.V. | Process for forming a film on a substrate using multi-port injection assemblies |
| US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
| US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
| US10283353B2 (en) | 2017-03-29 | 2019-05-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method of reforming insulating film deposited on substrate with recess pattern |
| US10290508B1 (en) | 2017-12-05 | 2019-05-14 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming vertical spacers for spacer-defined patterning |
| US10312129B2 (en) | 2015-09-29 | 2019-06-04 | Asm Ip Holding B.V. | Variable adjustment for precise matching of multiple chamber cavity housings |
| US10312055B2 (en) | 2017-07-26 | 2019-06-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing film by PEALD using negative bias |
| US10319588B2 (en) | 2017-10-10 | 2019-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition |
| US10322384B2 (en) | 2015-11-09 | 2019-06-18 | Asm Ip Holding B.V. | Counter flow mixer for process chamber |
| US10340125B2 (en) | 2013-03-08 | 2019-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Pulsed remote plasma method and system |
| US10340135B2 (en) | 2016-11-28 | 2019-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of topologically restricted plasma-enhanced cyclic deposition of silicon or metal nitride |
| US10343920B2 (en) | 2016-03-18 | 2019-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Aligned carbon nanotubes |
| US10361201B2 (en) | 2013-09-27 | 2019-07-23 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor structure and device formed using selective epitaxial process |
| US10364496B2 (en) | 2011-06-27 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Dual section module having shared and unshared mass flow controllers |
| US10366864B2 (en) | 2013-03-08 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for in-situ formation of intermediate reactive species |
| US10364493B2 (en) | 2016-08-25 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust apparatus and substrate processing apparatus having an exhaust line with a first ring having at least one hole on a lateral side thereof placed in the exhaust line |
| US10367080B2 (en) | 2016-05-02 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a germanium oxynitride film |
| US10381226B2 (en) | 2016-07-27 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing substrate |
| US10381219B1 (en) | 2018-10-25 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film |
| US10378106B2 (en) | 2008-11-14 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming insulation film by modified PEALD |
| US10388509B2 (en) | 2016-06-28 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Formation of epitaxial layers via dislocation filtering |
| US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10395919B2 (en) | 2016-07-28 | 2019-08-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
| US10410943B2 (en) | 2016-10-13 | 2019-09-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for passivating a surface of a semiconductor and related systems |
| US10438965B2 (en) | 2014-12-22 | 2019-10-08 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| US10435790B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-10-08 | Asm Ip Holding B.V. | Method of subatmospheric plasma-enhanced ALD using capacitively coupled electrodes with narrow gap |
| US10446393B2 (en) | 2017-05-08 | 2019-10-15 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming silicon-containing epitaxial layers and related semiconductor device structures |
| US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
| US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10468251B2 (en) | 2016-02-19 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming spacers using silicon nitride film for spacer-defined multiple patterning |
| US10480072B2 (en) | 2009-04-06 | 2019-11-19 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing reactor and components thereof |
| US10483099B1 (en) | 2018-07-26 | 2019-11-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming thermally stable organosilicon polymer film |
| US10504742B2 (en) | 2017-05-31 | 2019-12-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method of atomic layer etching using hydrogen plasma |
| US10501866B2 (en) | 2016-03-09 | 2019-12-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution apparatus for improved film uniformity in an epitaxial system |
| US10510536B2 (en) | 2018-03-29 | 2019-12-17 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber |
| US10529542B2 (en) | 2015-03-11 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Cross-flow reactor and method |
| US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
| US10529563B2 (en) | 2017-03-29 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10535516B2 (en) | 2018-02-01 | 2020-01-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for depositing a semiconductor structure on a surface of a substrate and related semiconductor structures |
| US10541173B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition method to form air gaps |
| US10541333B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US10559458B1 (en) | 2018-11-26 | 2020-02-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming oxynitride film |
| US10561975B2 (en) | 2014-10-07 | 2020-02-18 | Asm Ip Holdings B.V. | Variable conductance gas distribution apparatus and method |
| US10566223B2 (en) | 2012-08-28 | 2020-02-18 | Asm Ip Holdings B.V. | Systems and methods for dynamic semiconductor process scheduling |
| US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
| US10600673B2 (en) | 2015-07-07 | 2020-03-24 | Asm Ip Holding B.V. | Magnetic susceptor to baseplate seal |
| US10605530B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-31 | Asm Ip Holding B.V. | Assembly of a liner and a flange for a vertical furnace as well as the liner and the vertical furnace |
| US10607895B2 (en) | 2017-09-18 | 2020-03-31 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming a semiconductor device structure comprising a gate fill metal |
| US10604847B2 (en) | 2014-03-18 | 2020-03-31 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same |
| US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
| USD880437S1 (en) | 2018-02-01 | 2020-04-07 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus |
| US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
| US10622375B2 (en) | 2016-11-07 | 2020-04-14 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method |
| US10643904B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures |
| US10643826B2 (en) | 2016-10-26 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for thermally calibrating reaction chambers |
| US10658181B2 (en) | 2018-02-20 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication |
| US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
| US10655221B2 (en) | 2017-02-09 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD |
| US10665452B2 (en) | 2016-05-02 | 2020-05-26 | Asm Ip Holdings B.V. | Source/drain performance through conformal solid state doping |
| US10685834B2 (en) | 2017-07-05 | 2020-06-16 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures |
| US10683571B2 (en) | 2014-02-25 | 2020-06-16 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same |
| US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
| US10707106B2 (en) | 2011-06-06 | 2020-07-07 | Asm Ip Holding B.V. | High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules |
| US10714335B2 (en) | 2017-04-25 | 2020-07-14 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing thin film and method of manufacturing semiconductor device |
| US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
| US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10714385B2 (en) | 2016-07-19 | 2020-07-14 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of tungsten |
| US10734497B2 (en) | 2017-07-18 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor device structure and related semiconductor device structures |
| US10731249B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus |
| US10734244B2 (en) | 2017-11-16 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by the same |
| US10741385B2 (en) | 2016-07-28 | 2020-08-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10767789B2 (en) | 2018-07-16 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components |
| US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
| US10787741B2 (en) | 2014-08-21 | 2020-09-29 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for in situ formation of gas-phase compounds |
| US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
| US10804098B2 (en) | 2009-08-14 | 2020-10-13 | Asm Ip Holding B.V. | Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species |
| US10811256B2 (en) | 2018-10-16 | 2020-10-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for etching a carbon-containing feature |
| USD900036S1 (en) | 2017-08-24 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Heater electrical connector and adapter |
| US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
| US10829852B2 (en) | 2018-08-16 | 2020-11-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution device for a wafer processing apparatus |
| US10832903B2 (en) | 2011-10-28 | 2020-11-10 | Asm Ip Holding B.V. | Process feed management for semiconductor substrate processing |
| US10847365B2 (en) | 2018-10-11 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD |
| US10844484B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
| US10847366B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US10847371B2 (en) | 2018-03-27 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an electrode on a substrate and a semiconductor device structure including an electrode |
| US10854498B2 (en) | 2011-07-15 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer-supporting device and method for producing same |
| USD903477S1 (en) | 2018-01-24 | 2020-12-01 | Asm Ip Holdings B.V. | Metal clamp |
| US10851456B2 (en) | 2016-04-21 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides |
| US10858737B2 (en) | 2014-07-28 | 2020-12-08 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead assembly and components thereof |
| US10867788B2 (en) | 2016-12-28 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
| US10865475B2 (en) | 2016-04-21 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides and silicides |
| US10867786B2 (en) | 2018-03-30 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
| US10886123B2 (en) | 2017-06-02 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming low temperature semiconductor layers and related semiconductor device structures |
| US10883175B2 (en) | 2018-08-09 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein |
| US10892156B2 (en) | 2017-05-08 | 2021-01-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US10910262B2 (en) | 2017-11-16 | 2021-02-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure |
| US10914004B2 (en) | 2018-06-29 | 2021-02-09 | Asm Ip Holding B.V. | Thin-film deposition method and manufacturing method of semiconductor device |
| US10923344B2 (en) | 2017-10-30 | 2021-02-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
| US10928731B2 (en) | 2017-09-21 | 2021-02-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of sequential infiltration synthesis treatment of infiltrateable material and structures and devices formed using same |
| US10934619B2 (en) | 2016-11-15 | 2021-03-02 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply unit and substrate processing apparatus including the gas supply unit |
| US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
| US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
| US11001925B2 (en) | 2016-12-19 | 2021-05-11 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11018002B2 (en) | 2017-07-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
| US11018047B2 (en) | 2018-01-25 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Hybrid lift pin |
| US11022879B2 (en) | 2017-11-24 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer |
| US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US11031242B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-06-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a boron doped silicon germanium film |
| USD922229S1 (en) | 2019-06-05 | 2021-06-15 | Asm Ip Holding B.V. | Device for controlling a temperature of a gas supply unit |
| US11049751B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith |
| US11053591B2 (en) | 2018-08-06 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-port gas injection system and reactor system including same |
| US11056344B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method |
| US11056567B2 (en) | 2018-05-11 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a doped metal carbide film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US11069510B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-20 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
| US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| US11088002B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate rack and a substrate processing system and method |
| US11114283B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same |
| US11114294B2 (en) | 2019-03-08 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Structure including SiOC layer and method of forming same |
| USD930782S1 (en) | 2019-08-22 | 2021-09-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor |
| US11127617B2 (en) | 2017-11-27 | 2021-09-21 | Asm Ip Holding B.V. | Storage device for storing wafer cassettes for use with a batch furnace |
| US11127589B2 (en) | 2019-02-01 | 2021-09-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method of topology-selective film formation of silicon oxide |
| USD931978S1 (en) | 2019-06-27 | 2021-09-28 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead vacuum transport |
| US11139191B2 (en) | 2017-08-09 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
| US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
| US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| US11171025B2 (en) | 2019-01-22 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device |
| USD935572S1 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Gas channel plate |
| US11205585B2 (en) | 2016-07-28 | 2021-12-21 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method of operating the same |
| US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
| USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
| US11222772B2 (en) | 2016-12-14 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11227789B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a recess formed within a substrate surface |
| US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US11233133B2 (en) | 2015-10-21 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
| US11251040B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-02-15 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclical deposition method including treatment step and apparatus for same |
| US11251068B2 (en) | 2018-10-19 | 2022-02-15 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
| US11270899B2 (en) | 2018-06-04 | 2022-03-08 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer handling chamber with moisture reduction |
| US11274369B2 (en) | 2018-09-11 | 2022-03-15 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film deposition method |
| US11282698B2 (en) | 2019-07-19 | 2022-03-22 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming topology-controlled amorphous carbon polymer film |
| US11289326B2 (en) | 2019-05-07 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Method for reforming amorphous carbon polymer film |
| US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
| US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
| USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| USD948463S1 (en) | 2018-10-24 | 2022-04-12 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus |
| USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
| US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
| US11315794B2 (en) | 2019-10-21 | 2022-04-26 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for selectively etching films |
| US11339476B2 (en) | 2019-10-08 | 2022-05-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device having connection plates, substrate processing method |
| US11342216B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-05-24 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclical deposition method and apparatus for filling a recess formed within a substrate surface |
| US11345999B2 (en) | 2019-06-06 | 2022-05-31 | Asm Ip Holding B.V. | Method of using a gas-phase reactor system including analyzing exhausted gas |
| US11355338B2 (en) | 2019-05-10 | 2022-06-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing material onto a surface and structure formed according to the method |
| US11361990B2 (en) | 2018-05-28 | 2022-06-14 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method and device manufactured by using the same |
| US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US11378337B2 (en) | 2019-03-28 | 2022-07-05 | Asm Ip Holding B.V. | Door opener and substrate processing apparatus provided therewith |
| US11390946B2 (en) | 2019-01-17 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US11390945B2 (en) | 2019-07-03 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Temperature control assembly for substrate processing apparatus and method of using same |
| US11393690B2 (en) | 2018-01-19 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition method |
| US11401605B2 (en) | 2019-11-26 | 2022-08-02 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11414760B2 (en) | 2018-10-08 | 2022-08-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate support unit, thin film deposition apparatus including the same, and substrate processing apparatus including the same |
| US11424119B2 (en) | 2019-03-08 | 2022-08-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selective deposition of silicon nitride layer and structure including selectively-deposited silicon nitride layer |
| US11430640B2 (en) | 2019-07-30 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
| US11437241B2 (en) | 2020-04-08 | 2022-09-06 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for selectively etching silicon oxide films |
| US11443926B2 (en) | 2019-07-30 | 2022-09-13 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11447864B2 (en) | 2019-04-19 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
| US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
| USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
| US11469098B2 (en) | 2018-05-08 | 2022-10-11 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing an oxide film on a substrate by a cyclical deposition process and related device structures |
| US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
| US11476109B2 (en) | 2019-06-11 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an electronic structure using reforming gas, system for performing the method, and structure formed using the method |
| US11482418B2 (en) | 2018-02-20 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method and apparatus |
| US11482533B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for plug fill deposition in 3-D NAND applications |
| US11482412B2 (en) | 2018-01-19 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition |
| US11488819B2 (en) | 2018-12-04 | 2022-11-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of cleaning substrate processing apparatus |
| US11488854B2 (en) | 2020-03-11 | 2022-11-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate handling device with adjustable joints |
| US11495459B2 (en) | 2019-09-04 | 2022-11-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition using a sacrificial capping layer |
| US11492703B2 (en) | 2018-06-27 | 2022-11-08 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
| US11499222B2 (en) | 2018-06-27 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
| US11501968B2 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps |
| US11499226B2 (en) | 2018-11-02 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate supporting unit and a substrate processing device including the same |
| US11515188B2 (en) | 2019-05-16 | 2022-11-29 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer boat handling device, vertical batch furnace and method |
| US11515187B2 (en) | 2020-05-01 | 2022-11-29 | Asm Ip Holding B.V. | Fast FOUP swapping with a FOUP handler |
| US11521851B2 (en) | 2020-02-03 | 2022-12-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures including a vanadium or indium layer |
| US11527403B2 (en) | 2019-12-19 | 2022-12-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
| US11527400B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-12-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon oxide film having improved quality by peald using bis(diethylamino)silane |
| US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
| US11530483B2 (en) | 2018-06-21 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing system |
| US11530876B2 (en) | 2020-04-24 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly comprising a cooling gas supply |
| US11551925B2 (en) | 2019-04-01 | 2023-01-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for manufacturing a semiconductor device |
| US11551912B2 (en) | 2020-01-20 | 2023-01-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming thin film and method of modifying surface of thin film |
| US11557474B2 (en) | 2019-07-29 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition utilizing n-type dopants and/or alternative dopants to achieve high dopant incorporation |
| USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
| US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
| US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11594450B2 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming a structure with a hole |
| USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
| US11594600B2 (en) | 2019-11-05 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Structures with doped semiconductor layers and methods and systems for forming same |
| USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
| USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
| US11605528B2 (en) | 2019-07-09 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Plasma device using coaxial waveguide, and substrate treatment method |
| US11610775B2 (en) | 2016-07-28 | 2023-03-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US11610774B2 (en) | 2019-10-02 | 2023-03-21 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a topographically selective silicon oxide film by a cyclical plasma-enhanced deposition process |
| USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
| US11615970B2 (en) | 2019-07-17 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Radical assist ignition plasma system and method |
| US11626308B2 (en) | 2020-05-13 | 2023-04-11 | Asm Ip Holding B.V. | Laser alignment fixture for a reactor system |
| US11626316B2 (en) | 2019-11-20 | 2023-04-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing carbon-containing material on a surface of a substrate, structure formed using the method, and system for forming the structure |
| US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
| US11629407B2 (en) | 2019-02-22 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method for processing substrates |
| US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
| US11637011B2 (en) | 2019-10-16 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method of topology-selective film formation of silicon oxide |
| US11639811B2 (en) | 2017-11-27 | 2023-05-02 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus including a clean mini environment |
| US11639548B2 (en) | 2019-08-21 | 2023-05-02 | Asm Ip Holding B.V. | Film-forming material mixed-gas forming device and film forming device |
| US11646205B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same |
| US11644758B2 (en) | 2020-07-17 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Structures and methods for use in photolithography |
| US11646184B2 (en) | 2019-11-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
| US11646204B2 (en) | 2020-06-24 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming a layer provided with silicon |
| US11658029B2 (en) | 2018-12-14 | 2023-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a device structure using selective deposition of gallium nitride and system for same |
| US11658035B2 (en) | 2020-06-30 | 2023-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| US11664199B2 (en) | 2018-10-19 | 2023-05-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| US11664245B2 (en) | 2019-07-16 | 2023-05-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device |
| US11664267B2 (en) | 2019-07-10 | 2023-05-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate support assembly and substrate processing device including the same |
| US11674220B2 (en) | 2020-07-20 | 2023-06-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing molybdenum layers using an underlayer |
| US11680839B2 (en) | 2019-08-05 | 2023-06-20 | Asm Ip Holding B.V. | Liquid level sensor for a chemical source vessel |
| US11688603B2 (en) | 2019-07-17 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming silicon germanium structures |
| US11685991B2 (en) | 2018-02-14 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
| USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
| US11705333B2 (en) | 2020-05-21 | 2023-07-18 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including multiple carbon layers and methods of forming and using same |
| US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
| US11725277B2 (en) | 2011-07-20 | 2023-08-15 | Asm Ip Holding B.V. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
| US11725280B2 (en) | 2020-08-26 | 2023-08-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers |
| US11735422B2 (en) | 2019-10-10 | 2023-08-22 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a photoresist underlayer and structure including same |
| US11742198B2 (en) | 2019-03-08 | 2023-08-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structure including SiOCN layer and method of forming same |
| US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
| US11767589B2 (en) | 2020-05-29 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device |
| US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
| US11781221B2 (en) | 2019-05-07 | 2023-10-10 | Asm Ip Holding B.V. | Chemical source vessel with dip tube |
| US11781243B2 (en) | 2020-02-17 | 2023-10-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon |
| US11804364B2 (en) | 2020-05-19 | 2023-10-31 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11814747B2 (en) | 2019-04-24 | 2023-11-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor system-with a reaction chamber, a solid precursor source vessel, a gas distribution system, and a flange assembly |
| US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
| US11823866B2 (en) | 2020-04-02 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film forming method |
| US11823876B2 (en) | 2019-09-05 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
| US11830738B2 (en) | 2020-04-03 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming barrier layer and method for manufacturing semiconductor device |
| US11828707B2 (en) | 2020-02-04 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for transmittance measurements of large articles |
| US11827981B2 (en) | 2020-10-14 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing material on stepped structure |
| US11840761B2 (en) | 2019-12-04 | 2023-12-12 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11873557B2 (en) | 2020-10-22 | 2024-01-16 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing vanadium metal |
| US11876356B2 (en) | 2020-03-11 | 2024-01-16 | Asm Ip Holding B.V. | Lockout tagout assembly and system and method of using same |
| US11887857B2 (en) | 2020-04-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Methods and systems for depositing a layer comprising vanadium, nitrogen, and a further element |
| US11885023B2 (en) | 2018-10-01 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate retaining apparatus, system including the apparatus, and method of using same |
| USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
| US11885020B2 (en) | 2020-12-22 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Transition metal deposition method |
| US11885013B2 (en) | 2019-12-17 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming vanadium nitride layer and structure including the vanadium nitride layer |
| US11891696B2 (en) | 2020-11-30 | 2024-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus |
| US11898243B2 (en) | 2020-04-24 | 2024-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming vanadium nitride-containing layer |
| US11901179B2 (en) | 2020-10-28 | 2024-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method and device for depositing silicon onto substrates |
| US11915929B2 (en) | 2019-11-26 | 2024-02-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively forming a target film on a substrate comprising a first dielectric surface and a second metallic surface |
| US11923181B2 (en) | 2019-11-29 | 2024-03-05 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for minimizing the effect of a filling gas during substrate processing |
| US11929251B2 (en) | 2019-12-02 | 2024-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus having electrostatic chuck and substrate processing method |
| US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
| US11961741B2 (en) | 2020-03-12 | 2024-04-16 | Asm Ip Holding B.V. | Method for fabricating layer structure having target topological profile |
| US11959168B2 (en) | 2020-04-29 | 2024-04-16 | Asm Ip Holding B.V. | Solid source precursor vessel |
| US11967488B2 (en) | 2013-02-01 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method for treatment of deposition reactor |
| US11976359B2 (en) | 2020-01-06 | 2024-05-07 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply assembly, components thereof, and reactor system including same |
| US11987881B2 (en) | 2020-05-22 | 2024-05-21 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for depositing thin films using hydrogen peroxide |
| US11986868B2 (en) | 2020-02-28 | 2024-05-21 | Asm Ip Holding B.V. | System dedicated for parts cleaning |
| US11996289B2 (en) | 2020-04-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods |
| US11996292B2 (en) | 2019-10-25 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
| US11993843B2 (en) | 2017-08-31 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11996309B2 (en) | 2019-05-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer boat handling device, vertical batch furnace and method |
| US11993847B2 (en) | 2020-01-08 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Injector |
| US12006572B2 (en) | 2019-10-08 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system including a gas distribution assembly for use with activated species and method of using same |
| US12009224B2 (en) | 2020-09-29 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and method for etching metal nitrides |
| US12009241B2 (en) | 2019-10-14 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette |
| US12020934B2 (en) | 2020-07-08 | 2024-06-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| US12025484B2 (en) | 2018-05-08 | 2024-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film forming method |
| US12027365B2 (en) | 2020-11-24 | 2024-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap and related systems and devices |
| US12033885B2 (en) | 2020-01-06 | 2024-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Channeled lift pin |
| US12040199B2 (en) | 2018-11-28 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| US12040200B2 (en) | 2017-06-20 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus |
| US12040177B2 (en) | 2020-08-18 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes |
| US12043899B2 (en) | 2017-01-10 | 2024-07-23 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
| US12051567B2 (en) | 2020-10-07 | 2024-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply unit and substrate processing apparatus including gas supply unit |
| US12057314B2 (en) | 2020-05-15 | 2024-08-06 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for silicon germanium uniformity control using multiple precursors |
| US12074022B2 (en) | 2020-08-27 | 2024-08-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for forming patterned structures using multiple patterning process |
| US12087586B2 (en) | 2020-04-15 | 2024-09-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming chromium nitride layer and structure including the chromium nitride layer |
| US12106944B2 (en) | 2020-06-02 | 2024-10-01 | Asm Ip Holding B.V. | Rotating substrate support |
| US12107005B2 (en) | 2020-10-06 | 2024-10-01 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition method and an apparatus for depositing a silicon-containing material |
| US12112940B2 (en) | 2019-07-19 | 2024-10-08 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming topology-controlled amorphous carbon polymer film |
| US12125700B2 (en) | 2021-01-13 | 2024-10-22 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming high aspect ratio features |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105266768A (zh) * | 2015-02-11 | 2016-01-27 | 深圳市滴滴测科技有限公司 | 一种红外耳温连续检测装置及其检测耳温的方法 |
| CN105078417A (zh) * | 2015-05-20 | 2015-11-25 | 上海温尔信息科技有限公司 | 电子体温计 |
| CN106384487B (zh) * | 2016-11-25 | 2019-07-05 | 重庆工程职业技术学院 | 基于物联网的学生就寝智能管理系统 |
-
2002
- 2002-09-24 JP JP2002276908A patent/JP4231953B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (417)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7874726B2 (en) | 2007-05-24 | 2011-01-25 | Asm America, Inc. | Thermocouple |
| US7946762B2 (en) | 2008-06-17 | 2011-05-24 | Asm America, Inc. | Thermocouple |
| US10378106B2 (en) | 2008-11-14 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming insulation film by modified PEALD |
| US8616765B2 (en) | 2008-12-08 | 2013-12-31 | Asm America, Inc. | Thermocouple |
| US8262287B2 (en) | 2008-12-08 | 2012-09-11 | Asm America, Inc. | Thermocouple |
| US10844486B2 (en) | 2009-04-06 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing reactor and components thereof |
| US10480072B2 (en) | 2009-04-06 | 2019-11-19 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing reactor and components thereof |
| US9297705B2 (en) | 2009-05-06 | 2016-03-29 | Asm America, Inc. | Smart temperature measuring device |
| US8100583B2 (en) | 2009-05-06 | 2012-01-24 | Asm America, Inc. | Thermocouple |
| US8382370B2 (en) | 2009-05-06 | 2013-02-26 | Asm America, Inc. | Thermocouple assembly with guarded thermocouple junction |
| US9267850B2 (en) | 2009-05-06 | 2016-02-23 | Asm America, Inc. | Thermocouple assembly with guarded thermocouple junction |
| WO2010129430A1 (en) * | 2009-05-06 | 2010-11-11 | Asm America, Inc. | Smart temperature measuring device |
| US10804098B2 (en) | 2009-08-14 | 2020-10-13 | Asm Ip Holding B.V. | Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species |
| US10707106B2 (en) | 2011-06-06 | 2020-07-07 | Asm Ip Holding B.V. | High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules |
| US10364496B2 (en) | 2011-06-27 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Dual section module having shared and unshared mass flow controllers |
| US10854498B2 (en) | 2011-07-15 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer-supporting device and method for producing same |
| US11725277B2 (en) | 2011-07-20 | 2023-08-15 | Asm Ip Holding B.V. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
| KR101203812B1 (ko) * | 2011-09-07 | 2012-11-22 | 인하대학교 산학협력단 | 어지럼증 자세 측정 장치 및 어지럼증 치료 장치 |
| CN102988027A (zh) * | 2011-09-09 | 2013-03-27 | 北京大学深圳研究生院 | 一种热敏电阻与无线体温检测电路的mcp封装形式 |
| US10832903B2 (en) | 2011-10-28 | 2020-11-10 | Asm Ip Holding B.V. | Process feed management for semiconductor substrate processing |
| US10566223B2 (en) | 2012-08-28 | 2020-02-18 | Asm Ip Holdings B.V. | Systems and methods for dynamic semiconductor process scheduling |
| US11501956B2 (en) | 2012-10-12 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
| US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
| US11967488B2 (en) | 2013-02-01 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method for treatment of deposition reactor |
| USD702188S1 (en) | 2013-03-08 | 2014-04-08 | Asm Ip Holding B.V. | Thermocouple |
| US10340125B2 (en) | 2013-03-08 | 2019-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Pulsed remote plasma method and system |
| US10366864B2 (en) | 2013-03-08 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for in-situ formation of intermediate reactive species |
| US10361201B2 (en) | 2013-09-27 | 2019-07-23 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor structure and device formed using selective epitaxial process |
| CN104586348A (zh) * | 2013-10-31 | 2015-05-06 | 赖弘基 | 眼睛温度的测量与分析系统、接收分析装置及其方法 |
| US10683571B2 (en) | 2014-02-25 | 2020-06-16 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same |
| US10604847B2 (en) | 2014-03-18 | 2020-03-31 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same |
| US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
| US10858737B2 (en) | 2014-07-28 | 2020-12-08 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead assembly and components thereof |
| US10787741B2 (en) | 2014-08-21 | 2020-09-29 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for in situ formation of gas-phase compounds |
| US10561975B2 (en) | 2014-10-07 | 2020-02-18 | Asm Ip Holdings B.V. | Variable conductance gas distribution apparatus and method |
| US11795545B2 (en) | 2014-10-07 | 2023-10-24 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
| US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
| CN105877714A (zh) * | 2014-11-28 | 2016-08-24 | 郭云 | 一种具有动态显示数值、曲线的智能电子体温检测装置 |
| US10438965B2 (en) | 2014-12-22 | 2019-10-08 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| US10529542B2 (en) | 2015-03-11 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Cross-flow reactor and method |
| US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
| US11742189B2 (en) | 2015-03-12 | 2023-08-29 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
| US11242598B2 (en) | 2015-06-26 | 2022-02-08 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
| US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
| US10600673B2 (en) | 2015-07-07 | 2020-03-24 | Asm Ip Holding B.V. | Magnetic susceptor to baseplate seal |
| US10312129B2 (en) | 2015-09-29 | 2019-06-04 | Asm Ip Holding B.V. | Variable adjustment for precise matching of multiple chamber cavity housings |
| US11233133B2 (en) | 2015-10-21 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
| US10322384B2 (en) | 2015-11-09 | 2019-06-18 | Asm Ip Holding B.V. | Counter flow mixer for process chamber |
| US11956977B2 (en) | 2015-12-29 | 2024-04-09 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
| US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
| US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
| US11676812B2 (en) | 2016-02-19 | 2023-06-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on top/bottom portions |
| US10720322B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-07-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on top surface |
| US10468251B2 (en) | 2016-02-19 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming spacers using silicon nitride film for spacer-defined multiple patterning |
| US10501866B2 (en) | 2016-03-09 | 2019-12-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution apparatus for improved film uniformity in an epitaxial system |
| US10343920B2 (en) | 2016-03-18 | 2019-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Aligned carbon nanotubes |
| US10262859B2 (en) | 2016-03-24 | 2019-04-16 | Asm Ip Holding B.V. | Process for forming a film on a substrate using multi-port injection assemblies |
| US10851456B2 (en) | 2016-04-21 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides |
| US10865475B2 (en) | 2016-04-21 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides and silicides |
| US10665452B2 (en) | 2016-05-02 | 2020-05-26 | Asm Ip Holdings B.V. | Source/drain performance through conformal solid state doping |
| US10367080B2 (en) | 2016-05-02 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a germanium oxynitride film |
| US11101370B2 (en) | 2016-05-02 | 2021-08-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a germanium oxynitride film |
| US10249577B2 (en) | 2016-05-17 | 2019-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming metal interconnection and method of fabricating semiconductor apparatus using the method |
| US10388509B2 (en) | 2016-06-28 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Formation of epitaxial layers via dislocation filtering |
| WO2018004111A1 (ko) * | 2016-06-30 | 2018-01-04 | 주식회사 엠트리케어 | 사용자 단말, 서비스 제공장치, 스마트 체온계를 이용한 체온정보 수집 및 서비스 제공시스템, 이를 이용한 서비스 제공방법 |
| US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
| US10541173B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition method to form air gaps |
| US11094582B2 (en) | 2016-07-08 | 2021-08-17 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition method to form air gaps |
| US11749562B2 (en) | 2016-07-08 | 2023-09-05 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition method to form air gaps |
| US11649546B2 (en) | 2016-07-08 | 2023-05-16 | Asm Ip Holding B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
| US10714385B2 (en) | 2016-07-19 | 2020-07-14 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of tungsten |
| US10381226B2 (en) | 2016-07-27 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing substrate |
| US11107676B2 (en) | 2016-07-28 | 2021-08-31 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US11694892B2 (en) | 2016-07-28 | 2023-07-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US11610775B2 (en) | 2016-07-28 | 2023-03-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US10395919B2 (en) | 2016-07-28 | 2019-08-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US11205585B2 (en) | 2016-07-28 | 2021-12-21 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method of operating the same |
| US10741385B2 (en) | 2016-07-28 | 2020-08-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US10364493B2 (en) | 2016-08-25 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust apparatus and substrate processing apparatus having an exhaust line with a first ring having at least one hole on a lateral side thereof placed in the exhaust line |
| US10410943B2 (en) | 2016-10-13 | 2019-09-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for passivating a surface of a semiconductor and related systems |
| US10643826B2 (en) | 2016-10-26 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for thermally calibrating reaction chambers |
| US10943771B2 (en) | 2016-10-26 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for thermally calibrating reaction chambers |
| US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
| US10435790B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-10-08 | Asm Ip Holding B.V. | Method of subatmospheric plasma-enhanced ALD using capacitively coupled electrodes with narrow gap |
| US11810788B2 (en) | 2016-11-01 | 2023-11-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10720331B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-21 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10643904B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures |
| US10229833B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10622375B2 (en) | 2016-11-07 | 2020-04-14 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method |
| US10644025B2 (en) | 2016-11-07 | 2020-05-05 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method |
| US10934619B2 (en) | 2016-11-15 | 2021-03-02 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply unit and substrate processing apparatus including the gas supply unit |
| US11396702B2 (en) | 2016-11-15 | 2022-07-26 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply unit and substrate processing apparatus including the gas supply unit |
| US10340135B2 (en) | 2016-11-28 | 2019-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of topologically restricted plasma-enhanced cyclic deposition of silicon or metal nitride |
| US11222772B2 (en) | 2016-12-14 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
| US11851755B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-12-26 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
| US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
| US12000042B2 (en) | 2016-12-15 | 2024-06-04 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
| US11970766B2 (en) | 2016-12-15 | 2024-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
| US11001925B2 (en) | 2016-12-19 | 2021-05-11 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11251035B2 (en) | 2016-12-22 | 2022-02-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
| US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
| US10784102B2 (en) | 2016-12-22 | 2020-09-22 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
| US10867788B2 (en) | 2016-12-28 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
| US12043899B2 (en) | 2017-01-10 | 2024-07-23 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
| US10655221B2 (en) | 2017-02-09 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD |
| US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US12106965B2 (en) | 2017-02-15 | 2024-10-01 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10468262B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by a cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US11410851B2 (en) | 2017-02-15 | 2022-08-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10529563B2 (en) | 2017-03-29 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10283353B2 (en) | 2017-03-29 | 2019-05-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method of reforming insulating film deposited on substrate with recess pattern |
| US11658030B2 (en) | 2017-03-29 | 2023-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10950432B2 (en) | 2017-04-25 | 2021-03-16 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing thin film and method of manufacturing semiconductor device |
| US10714335B2 (en) | 2017-04-25 | 2020-07-14 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing thin film and method of manufacturing semiconductor device |
| US11848200B2 (en) | 2017-05-08 | 2023-12-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US10892156B2 (en) | 2017-05-08 | 2021-01-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US10446393B2 (en) | 2017-05-08 | 2019-10-15 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming silicon-containing epitaxial layers and related semiconductor device structures |
| US10504742B2 (en) | 2017-05-31 | 2019-12-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method of atomic layer etching using hydrogen plasma |
| US10886123B2 (en) | 2017-06-02 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming low temperature semiconductor layers and related semiconductor device structures |
| US12040200B2 (en) | 2017-06-20 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus |
| US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
| US11976361B2 (en) | 2017-06-28 | 2024-05-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
| US10685834B2 (en) | 2017-07-05 | 2020-06-16 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures |
| US11164955B2 (en) | 2017-07-18 | 2021-11-02 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor device structure and related semiconductor device structures |
| US10734497B2 (en) | 2017-07-18 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor device structure and related semiconductor device structures |
| US11695054B2 (en) | 2017-07-18 | 2023-07-04 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor device structure and related semiconductor device structures |
| US11018002B2 (en) | 2017-07-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US10541333B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US11004977B2 (en) | 2017-07-19 | 2021-05-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US10312055B2 (en) | 2017-07-26 | 2019-06-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing film by PEALD using negative bias |
| US11802338B2 (en) | 2017-07-26 | 2023-10-31 | Asm Ip Holding B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
| US10605530B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-31 | Asm Ip Holding B.V. | Assembly of a liner and a flange for a vertical furnace as well as the liner and the vertical furnace |
| US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
| US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
| US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
| US11417545B2 (en) | 2017-08-08 | 2022-08-16 | Asm Ip Holding B.V. | Radiation shield |
| US11587821B2 (en) | 2017-08-08 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
| US10249524B2 (en) | 2017-08-09 | 2019-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly |
| US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
| US11139191B2 (en) | 2017-08-09 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
| US10672636B2 (en) | 2017-08-09 | 2020-06-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly |
| USD900036S1 (en) | 2017-08-24 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Heater electrical connector and adapter |
| US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
| US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| US11056344B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method |
| US11581220B2 (en) | 2017-08-30 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| US11069510B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-20 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11993843B2 (en) | 2017-08-31 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US10607895B2 (en) | 2017-09-18 | 2020-03-31 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming a semiconductor device structure comprising a gate fill metal |
| US10928731B2 (en) | 2017-09-21 | 2021-02-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of sequential infiltration synthesis treatment of infiltrateable material and structures and devices formed using same |
| US10844484B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
| US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
| US11387120B2 (en) | 2017-09-28 | 2022-07-12 | Asm Ip Holding B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
| US11094546B2 (en) | 2017-10-05 | 2021-08-17 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
| US12033861B2 (en) | 2017-10-05 | 2024-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
| US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
| US10319588B2 (en) | 2017-10-10 | 2019-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition |
| US10734223B2 (en) | 2017-10-10 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition |
| US10923344B2 (en) | 2017-10-30 | 2021-02-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
| US12040184B2 (en) | 2017-10-30 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
| US10910262B2 (en) | 2017-11-16 | 2021-02-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure |
| US10734244B2 (en) | 2017-11-16 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by the same |
| US11022879B2 (en) | 2017-11-24 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer |
| US11639811B2 (en) | 2017-11-27 | 2023-05-02 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus including a clean mini environment |
| US11127617B2 (en) | 2017-11-27 | 2021-09-21 | Asm Ip Holding B.V. | Storage device for storing wafer cassettes for use with a batch furnace |
| US11682572B2 (en) | 2017-11-27 | 2023-06-20 | Asm Ip Holdings B.V. | Storage device for storing wafer cassettes for use with a batch furnace |
| US10290508B1 (en) | 2017-12-05 | 2019-05-14 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming vertical spacers for spacer-defined patterning |
| US11501973B2 (en) | 2018-01-16 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
| US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
| US11393690B2 (en) | 2018-01-19 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition method |
| US11482412B2 (en) | 2018-01-19 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition |
| US12119228B2 (en) | 2018-01-19 | 2024-10-15 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition method |
| US11972944B2 (en) | 2018-01-19 | 2024-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition |
| USD903477S1 (en) | 2018-01-24 | 2020-12-01 | Asm Ip Holdings B.V. | Metal clamp |
| US11018047B2 (en) | 2018-01-25 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Hybrid lift pin |
| USD880437S1 (en) | 2018-02-01 | 2020-04-07 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus |
| US10535516B2 (en) | 2018-02-01 | 2020-01-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for depositing a semiconductor structure on a surface of a substrate and related semiconductor structures |
| USD913980S1 (en) | 2018-02-01 | 2021-03-23 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus |
| US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
| US11735414B2 (en) | 2018-02-06 | 2023-08-22 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
| US11387106B2 (en) | 2018-02-14 | 2022-07-12 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US11685991B2 (en) | 2018-02-14 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US10731249B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus |
| US11482418B2 (en) | 2018-02-20 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method and apparatus |
| US10658181B2 (en) | 2018-02-20 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication |
| US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
| US11939673B2 (en) | 2018-02-23 | 2024-03-26 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
| US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
| US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
| US11114283B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same |
| US11398382B2 (en) | 2018-03-27 | 2022-07-26 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an electrode on a substrate and a semiconductor device structure including an electrode |
| US10847371B2 (en) | 2018-03-27 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an electrode on a substrate and a semiconductor device structure including an electrode |
| US12020938B2 (en) | 2018-03-27 | 2024-06-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an electrode on a substrate and a semiconductor device structure including an electrode |
| US10510536B2 (en) | 2018-03-29 | 2019-12-17 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber |
| US11088002B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate rack and a substrate processing system and method |
| US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US10867786B2 (en) | 2018-03-30 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| US11469098B2 (en) | 2018-05-08 | 2022-10-11 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing an oxide film on a substrate by a cyclical deposition process and related device structures |
| US12025484B2 (en) | 2018-05-08 | 2024-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film forming method |
| US11056567B2 (en) | 2018-05-11 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a doped metal carbide film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US11361990B2 (en) | 2018-05-28 | 2022-06-14 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method and device manufactured by using the same |
| US11908733B2 (en) | 2018-05-28 | 2024-02-20 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method and device manufactured by using the same |
| US11837483B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-12-05 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer handling chamber with moisture reduction |
| US11270899B2 (en) | 2018-06-04 | 2022-03-08 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer handling chamber with moisture reduction |
| US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
| US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
| US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
| US11530483B2 (en) | 2018-06-21 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing system |
| US11296189B2 (en) | 2018-06-21 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
| US11814715B2 (en) | 2018-06-27 | 2023-11-14 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
| US11952658B2 (en) | 2018-06-27 | 2024-04-09 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
| US11492703B2 (en) | 2018-06-27 | 2022-11-08 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
| US11499222B2 (en) | 2018-06-27 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
| US11168395B2 (en) | 2018-06-29 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
| US10914004B2 (en) | 2018-06-29 | 2021-02-09 | Asm Ip Holding B.V. | Thin-film deposition method and manufacturing method of semiconductor device |
| US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
| US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US11923190B2 (en) | 2018-07-03 | 2024-03-05 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US11646197B2 (en) | 2018-07-03 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10755923B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10767789B2 (en) | 2018-07-16 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components |
| US10483099B1 (en) | 2018-07-26 | 2019-11-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming thermally stable organosilicon polymer film |
| US11053591B2 (en) | 2018-08-06 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-port gas injection system and reactor system including same |
| US10883175B2 (en) | 2018-08-09 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein |
| US10829852B2 (en) | 2018-08-16 | 2020-11-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution device for a wafer processing apparatus |
| US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
| US11804388B2 (en) | 2018-09-11 | 2023-10-31 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US11274369B2 (en) | 2018-09-11 | 2022-03-15 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film deposition method |
| US11049751B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith |
| US11885023B2 (en) | 2018-10-01 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate retaining apparatus, system including the apparatus, and method of using same |
| US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US11414760B2 (en) | 2018-10-08 | 2022-08-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate support unit, thin film deposition apparatus including the same, and substrate processing apparatus including the same |
| US10847365B2 (en) | 2018-10-11 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD |
| US10811256B2 (en) | 2018-10-16 | 2020-10-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for etching a carbon-containing feature |
| US11664199B2 (en) | 2018-10-19 | 2023-05-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| US11251068B2 (en) | 2018-10-19 | 2022-02-15 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| USD948463S1 (en) | 2018-10-24 | 2022-04-12 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus |
| US10381219B1 (en) | 2018-10-25 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film |
| US11735445B2 (en) | 2018-10-31 | 2023-08-22 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| US11499226B2 (en) | 2018-11-02 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate supporting unit and a substrate processing device including the same |
| US11866823B2 (en) | 2018-11-02 | 2024-01-09 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate supporting unit and a substrate processing device including the same |
| US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
| US11031242B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-06-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a boron doped silicon germanium film |
| US11798999B2 (en) | 2018-11-16 | 2023-10-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
| US11411088B2 (en) | 2018-11-16 | 2022-08-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
| US11244825B2 (en) | 2018-11-16 | 2022-02-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
| US10847366B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US10559458B1 (en) | 2018-11-26 | 2020-02-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming oxynitride film |
| US12040199B2 (en) | 2018-11-28 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
| US11488819B2 (en) | 2018-12-04 | 2022-11-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of cleaning substrate processing apparatus |
| US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| US11769670B2 (en) | 2018-12-13 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| US11658029B2 (en) | 2018-12-14 | 2023-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a device structure using selective deposition of gallium nitride and system for same |
| US11390946B2 (en) | 2019-01-17 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US11959171B2 (en) | 2019-01-17 | 2024-04-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US11171025B2 (en) | 2019-01-22 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device |
| US11127589B2 (en) | 2019-02-01 | 2021-09-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method of topology-selective film formation of silicon oxide |
| US11251040B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-02-15 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclical deposition method including treatment step and apparatus for same |
| US11798834B2 (en) | 2019-02-20 | 2023-10-24 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclical deposition method and apparatus for filling a recess formed within a substrate surface |
| US11615980B2 (en) | 2019-02-20 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a recess formed within a substrate surface |
| US11342216B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-05-24 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclical deposition method and apparatus for filling a recess formed within a substrate surface |
| US11482533B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for plug fill deposition in 3-D NAND applications |
| US11227789B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a recess formed within a substrate surface |
| US11629407B2 (en) | 2019-02-22 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method for processing substrates |
| US11114294B2 (en) | 2019-03-08 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Structure including SiOC layer and method of forming same |
| US11901175B2 (en) | 2019-03-08 | 2024-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selective deposition of silicon nitride layer and structure including selectively-deposited silicon nitride layer |
| US11424119B2 (en) | 2019-03-08 | 2022-08-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selective deposition of silicon nitride layer and structure including selectively-deposited silicon nitride layer |
| US11742198B2 (en) | 2019-03-08 | 2023-08-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structure including SiOCN layer and method of forming same |
| US11378337B2 (en) | 2019-03-28 | 2022-07-05 | Asm Ip Holding B.V. | Door opener and substrate processing apparatus provided therewith |
| US11551925B2 (en) | 2019-04-01 | 2023-01-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for manufacturing a semiconductor device |
| US11447864B2 (en) | 2019-04-19 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
| US11814747B2 (en) | 2019-04-24 | 2023-11-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor system-with a reaction chamber, a solid precursor source vessel, a gas distribution system, and a flange assembly |
| US11289326B2 (en) | 2019-05-07 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Method for reforming amorphous carbon polymer film |
| US11781221B2 (en) | 2019-05-07 | 2023-10-10 | Asm Ip Holding B.V. | Chemical source vessel with dip tube |
| US11355338B2 (en) | 2019-05-10 | 2022-06-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing material onto a surface and structure formed according to the method |
| US11996309B2 (en) | 2019-05-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer boat handling device, vertical batch furnace and method |
| US11515188B2 (en) | 2019-05-16 | 2022-11-29 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer boat handling device, vertical batch furnace and method |
| USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| USD935572S1 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Gas channel plate |
| USD922229S1 (en) | 2019-06-05 | 2021-06-15 | Asm Ip Holding B.V. | Device for controlling a temperature of a gas supply unit |
| US11345999B2 (en) | 2019-06-06 | 2022-05-31 | Asm Ip Holding B.V. | Method of using a gas-phase reactor system including analyzing exhausted gas |
| US11476109B2 (en) | 2019-06-11 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an electronic structure using reforming gas, system for performing the method, and structure formed using the method |
| US11908684B2 (en) | 2019-06-11 | 2024-02-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an electronic structure using reforming gas, system for performing the method, and structure formed using the method |
| USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
| USD931978S1 (en) | 2019-06-27 | 2021-09-28 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead vacuum transport |
| US11390945B2 (en) | 2019-07-03 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Temperature control assembly for substrate processing apparatus and method of using same |
| US11746414B2 (en) | 2019-07-03 | 2023-09-05 | Asm Ip Holding B.V. | Temperature control assembly for substrate processing apparatus and method of using same |
| US11605528B2 (en) | 2019-07-09 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Plasma device using coaxial waveguide, and substrate treatment method |
| US12107000B2 (en) | 2019-07-10 | 2024-10-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate support assembly and substrate processing device including the same |
| US11664267B2 (en) | 2019-07-10 | 2023-05-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate support assembly and substrate processing device including the same |
| US11996304B2 (en) | 2019-07-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device |
| US11664245B2 (en) | 2019-07-16 | 2023-05-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device |
| US11615970B2 (en) | 2019-07-17 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Radical assist ignition plasma system and method |
| US11688603B2 (en) | 2019-07-17 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming silicon germanium structures |
| US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
| US11282698B2 (en) | 2019-07-19 | 2022-03-22 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming topology-controlled amorphous carbon polymer film |
| US12112940B2 (en) | 2019-07-19 | 2024-10-08 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming topology-controlled amorphous carbon polymer film |
| US11557474B2 (en) | 2019-07-29 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition utilizing n-type dopants and/or alternative dopants to achieve high dopant incorporation |
| US11430640B2 (en) | 2019-07-30 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11443926B2 (en) | 2019-07-30 | 2022-09-13 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11876008B2 (en) | 2019-07-31 | 2024-01-16 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11680839B2 (en) | 2019-08-05 | 2023-06-20 | Asm Ip Holding B.V. | Liquid level sensor for a chemical source vessel |
| USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
| USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| US11639548B2 (en) | 2019-08-21 | 2023-05-02 | Asm Ip Holding B.V. | Film-forming material mixed-gas forming device and film forming device |
| US11594450B2 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming a structure with a hole |
| USD930782S1 (en) | 2019-08-22 | 2021-09-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor |
| USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
| USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
| US12040229B2 (en) | 2019-08-22 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming a structure with a hole |
| USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
| US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
| US12033849B2 (en) | 2019-08-23 | 2024-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon oxide film having improved quality by PEALD using bis(diethylamino)silane |
| US11827978B2 (en) | 2019-08-23 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
| US11898242B2 (en) | 2019-08-23 | 2024-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a polycrystalline molybdenum film over a surface of a substrate and related structures including a polycrystalline molybdenum film |
| US11527400B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-12-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon oxide film having improved quality by peald using bis(diethylamino)silane |
| US11495459B2 (en) | 2019-09-04 | 2022-11-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition using a sacrificial capping layer |
| US11823876B2 (en) | 2019-09-05 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| US11610774B2 (en) | 2019-10-02 | 2023-03-21 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a topographically selective silicon oxide film by a cyclical plasma-enhanced deposition process |
| US11339476B2 (en) | 2019-10-08 | 2022-05-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device having connection plates, substrate processing method |
| US12006572B2 (en) | 2019-10-08 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system including a gas distribution assembly for use with activated species and method of using same |
| US11735422B2 (en) | 2019-10-10 | 2023-08-22 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a photoresist underlayer and structure including same |
| US12009241B2 (en) | 2019-10-14 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette |
| US11637011B2 (en) | 2019-10-16 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method of topology-selective film formation of silicon oxide |
| US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
| US11315794B2 (en) | 2019-10-21 | 2022-04-26 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for selectively etching films |
| US11996292B2 (en) | 2019-10-25 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
| US11646205B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same |
| US11594600B2 (en) | 2019-11-05 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Structures with doped semiconductor layers and methods and systems for forming same |
| US11501968B2 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps |
| US11626316B2 (en) | 2019-11-20 | 2023-04-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing carbon-containing material on a surface of a substrate, structure formed using the method, and system for forming the structure |
| US11401605B2 (en) | 2019-11-26 | 2022-08-02 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11915929B2 (en) | 2019-11-26 | 2024-02-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively forming a target film on a substrate comprising a first dielectric surface and a second metallic surface |
| US11923181B2 (en) | 2019-11-29 | 2024-03-05 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for minimizing the effect of a filling gas during substrate processing |
| US11646184B2 (en) | 2019-11-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11929251B2 (en) | 2019-12-02 | 2024-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus having electrostatic chuck and substrate processing method |
| US11840761B2 (en) | 2019-12-04 | 2023-12-12 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11885013B2 (en) | 2019-12-17 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming vanadium nitride layer and structure including the vanadium nitride layer |
| US12119220B2 (en) | 2019-12-19 | 2024-10-15 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
| US11527403B2 (en) | 2019-12-19 | 2022-12-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
| US11976359B2 (en) | 2020-01-06 | 2024-05-07 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply assembly, components thereof, and reactor system including same |
| US12033885B2 (en) | 2020-01-06 | 2024-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Channeled lift pin |
| US11993847B2 (en) | 2020-01-08 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Injector |
| US11551912B2 (en) | 2020-01-20 | 2023-01-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming thin film and method of modifying surface of thin film |
| US11521851B2 (en) | 2020-02-03 | 2022-12-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures including a vanadium or indium layer |
| US11828707B2 (en) | 2020-02-04 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for transmittance measurements of large articles |
| US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
| US11781243B2 (en) | 2020-02-17 | 2023-10-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon |
| US11986868B2 (en) | 2020-02-28 | 2024-05-21 | Asm Ip Holding B.V. | System dedicated for parts cleaning |
| US11876356B2 (en) | 2020-03-11 | 2024-01-16 | Asm Ip Holding B.V. | Lockout tagout assembly and system and method of using same |
| US11488854B2 (en) | 2020-03-11 | 2022-11-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate handling device with adjustable joints |
| US11837494B2 (en) | 2020-03-11 | 2023-12-05 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate handling device with adjustable joints |
| US11961741B2 (en) | 2020-03-12 | 2024-04-16 | Asm Ip Holding B.V. | Method for fabricating layer structure having target topological profile |
| US11823866B2 (en) | 2020-04-02 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film forming method |
| US11830738B2 (en) | 2020-04-03 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming barrier layer and method for manufacturing semiconductor device |
| US11437241B2 (en) | 2020-04-08 | 2022-09-06 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for selectively etching silicon oxide films |
| US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
| US12087586B2 (en) | 2020-04-15 | 2024-09-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming chromium nitride layer and structure including the chromium nitride layer |
| US11996289B2 (en) | 2020-04-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods |
| US11887857B2 (en) | 2020-04-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Methods and systems for depositing a layer comprising vanadium, nitrogen, and a further element |
| US11530876B2 (en) | 2020-04-24 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly comprising a cooling gas supply |
| US11898243B2 (en) | 2020-04-24 | 2024-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming vanadium nitride-containing layer |
| US11959168B2 (en) | 2020-04-29 | 2024-04-16 | Asm Ip Holding B.V. | Solid source precursor vessel |
| US11798830B2 (en) | 2020-05-01 | 2023-10-24 | Asm Ip Holding B.V. | Fast FOUP swapping with a FOUP handler |
| US11515187B2 (en) | 2020-05-01 | 2022-11-29 | Asm Ip Holding B.V. | Fast FOUP swapping with a FOUP handler |
| US11626308B2 (en) | 2020-05-13 | 2023-04-11 | Asm Ip Holding B.V. | Laser alignment fixture for a reactor system |
| US12057314B2 (en) | 2020-05-15 | 2024-08-06 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for silicon germanium uniformity control using multiple precursors |
| US11804364B2 (en) | 2020-05-19 | 2023-10-31 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus |
| US11705333B2 (en) | 2020-05-21 | 2023-07-18 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including multiple carbon layers and methods of forming and using same |
| US11987881B2 (en) | 2020-05-22 | 2024-05-21 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for depositing thin films using hydrogen peroxide |
| US11767589B2 (en) | 2020-05-29 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing device |
| US12106944B2 (en) | 2020-06-02 | 2024-10-01 | Asm Ip Holding B.V. | Rotating substrate support |
| US11646204B2 (en) | 2020-06-24 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming a layer provided with silicon |
| US11658035B2 (en) | 2020-06-30 | 2023-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| US12020934B2 (en) | 2020-07-08 | 2024-06-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| US12055863B2 (en) | 2020-07-17 | 2024-08-06 | Asm Ip Holding B.V. | Structures and methods for use in photolithography |
| US11644758B2 (en) | 2020-07-17 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Structures and methods for use in photolithography |
| US11674220B2 (en) | 2020-07-20 | 2023-06-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing molybdenum layers using an underlayer |
| US12040177B2 (en) | 2020-08-18 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes |
| US11725280B2 (en) | 2020-08-26 | 2023-08-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers |
| US12074022B2 (en) | 2020-08-27 | 2024-08-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for forming patterned structures using multiple patterning process |
| USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
| USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
| US12009224B2 (en) | 2020-09-29 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and method for etching metal nitrides |
| US12107005B2 (en) | 2020-10-06 | 2024-10-01 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition method and an apparatus for depositing a silicon-containing material |
| US12051567B2 (en) | 2020-10-07 | 2024-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply unit and substrate processing apparatus including gas supply unit |
| US11827981B2 (en) | 2020-10-14 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing material on stepped structure |
| US11873557B2 (en) | 2020-10-22 | 2024-01-16 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing vanadium metal |
| US11901179B2 (en) | 2020-10-28 | 2024-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method and device for depositing silicon onto substrates |
| US12027365B2 (en) | 2020-11-24 | 2024-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap and related systems and devices |
| US11891696B2 (en) | 2020-11-30 | 2024-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus |
| US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
| US11885020B2 (en) | 2020-12-22 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Transition metal deposition method |
| US12125700B2 (en) | 2021-01-13 | 2024-10-22 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming high aspect ratio features |
| USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
| USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
| USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
| USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
| US12131885B2 (en) | 2021-12-17 | 2024-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Plasma treatment device having matching box |
| US12129545B2 (en) | 2021-12-17 | 2024-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Precursor capsule, a vessel and a method |
| US12130084B2 (en) | 2022-11-14 | 2024-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly comprising a cooling gas supply |
| US12129548B2 (en) | 2023-04-05 | 2024-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4231953B2 (ja) | 2009-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4231953B2 (ja) | 耳孔式ｓａｗ体温計及び該体温計による体温管理システム | |
| US6482158B2 (en) | System and method of ultrasonic mammography | |
| JP6452896B2 (ja) | 深部体温測定のためのシステム及び方法 | |
| US8165682B2 (en) | Surface acoustic wave probe implant for predicting epileptic seizures | |
| US7004910B2 (en) | System and method for monitoring body temperature | |
| ES2320942T3 (es) | Dispositivo de examen de oido con sensor de temperatura. | |
| JPH03501820A (ja) | 赤外線体温計 | |
| KR20040094816A (ko) | 온도 측정 장치 및 온도 측정 방법 | |
| KR20050040671A (ko) | 유아 건강상태 모니터링 시스템 | |
| US20060161074A1 (en) | Temperature sensing device | |
| KR20100070564A (ko) | 전기전도성 섬유를 이용한 건강지표 모니터링 장치 및 방법 | |
| WO2005032338A2 (en) | Non-contact patient temperature measurement | |
| US4904997A (en) | Belted electronic display clinical thermometer with alarm | |
| Varney et al. | A comparison of oral, tympanic, and rectal temperature measurement in the elderly | |
| JP2002528158A (ja) | 耳内における耳温度と音響反射と化学成分の感知 | |
| KR102563533B1 (ko) | 웨어러블 진단 장치 | |
| Janik et al. | Respiratory monitoring system using bluetooth low energy | |
| Chin et al. | Remote temperature monitoring device using a multiple patients-coordinator set design approach | |
| CN107495931B (zh) | 基于光学原理的人体温度场测量装置 | |
| JP2003319911A (ja) | Ｉｄ付きｓａｗデバイス体温計及び該体温計による体温管理システム | |
| Margolis et al. | Acoustic method for calibration of audiometric bone vibrators | |
| Mahmood et al. | Wireless body area network development for remote patient health observing | |
| US11005575B2 (en) | Wireless sensors in medical environments | |
| Singh et al. | Infant monitoring system using wearable sensors based on blood oxygen saturation: A review | |
| Ogidan et al. | Automated Temperature Scanner Sensor In Comparison With Mercury-In-Glass Thermometer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050826 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070910 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081002 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081118 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081121 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |