JP2004109978A - エレクトロクロミックミラー及びその反射層 - Google Patents

Abstract

【課題】印加される電圧に応じて色が変化するエレクトロクロミックミラーが提供される。
【解決手段】このエレクトロクロミックミラーは、第１の基板と、第２の基板と、第１及び第２の電極と、エレクトロクロミック剤と、反射層とを備えている。反射層はアルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金で形成され、第１の基板から入射する光の一部を反射して第１の基板側に戻すため、第２の基板上に設けられている。また、影像からの入射光の一部を反射するためのエレクトロクロミックミラー用反射層が提供される。この反射層は、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金層と、該合金層に接着させたインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）とを含んでいる。
【選択図】　　　　図３

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エレクトロクロミックミラーに関するものであり、特に、特定の反射層を内部に備えることにより色変化を生じることができ、よって良好なエレクトロクロミズム特性を有する、エレクトロクロミックミラーに関する。また、本発明は、エレクトロクロミックミラーに所望の色変化を生じさせ、よって良好なエレクトロクロミズム特性を与える、反射層に関する。
【０００２】
【従来の技術】
車両を運転している時、人は眩しい光に煩わされがちである。この眩光の問題を解決するため、様々な試みがなされてきた。最も効果的な方法の一つは、車両のバックミラーにエレクトロクロミック装置を設けることである。このエレクトロクロミック装置は、光の程度によってミラーの色調を深め、反射率を減少させることにより、眩光による影響を最小限に抑えることができる。図１は、車両のバックミラーアセンブリに使用され、バックミラーの色を変化させることにより反射率調整が可能な、従来のエレクトロクロミック装置を示す概略図である。
【０００３】
このエレクトロクロミック装置は２つのガラス基板１１，１２を有しており、該ガラス基板は、マイクロメートルからミリメートル程度の距離を開けて互いに平行に配置される。各ガラス基板の内側面には、電気伝導用の電極として、透明なインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）コーティング１３，１４が設けられている。両ガラス基板１１，１２間の間隙１５は、エレクトロクロミック溶液が充填されるとともに、例えばエポキシのように、該エレクトロクロミック溶液に対して不活性な材料１６で封止される。さらに、ガラス基板１２のもう一方の側面上には、適切なミラー反射率を与えるための反射層１７が塗布されている。ＩＴＯのカソード及びアノード１３，１４に電圧を印加すると、それに応じてエレクトロクロミック溶液の色が変化する。光の強度が増すにつれ、エレクトロクロミック装置に印加される電圧が増加し、ミラーの色調はより深くなる。
【０００４】
一般に、エレクトロクロミック溶液は、酸化により原子価状態が変ると可逆的に色が変化する陽極化合物と、還元により原子価状態が変ると可逆的に色が変化する陰極化合物と、これら陽極及び陰極化合物を溶解させるとともにエレクトロクロミック溶液の他の構成要素に対しては化学的に不活性な溶媒、とを含んでいる。また、エレクトロクロミック溶液は、その伝導率を高めるため、電解物質を含んでいる場合もある。従来のエレクトロクロミック溶液に含有される陽極化合物、陰極化合物、溶媒、及び電解物質の例を示すため、米国特許番号４，９０２，１０８号、５，６７９，２８３号、５，６１１，９６６号、５，２３９，４０５号、５，５００，７６０号、及び６，２１１，９９４Ｂ１号を、参照目的でここに含むものとする。
【０００５】
上記の先行技術においては、反射層１７は通常、アルミニウムを材料としている。ガラスとアルミニウムとは接着性が弱いため、反射層１７がガラス基板１２から剥れ易く、よって、バックミラーアセンブリの耐用年数が短くなる。
【０００６】
図２は、色を変化させる目的で車両のバックミラーアセンブリに使用されるエレクトロクロミック装置の、別の従来例を示す概略図である。図２のエレクトロクロミック装置は、マイクロメートルからミリメートル程度の間隔を空けて互いに変更に配置された２つのガラス基板２１，２２を備えている。各ガラス基板の内側面には、導電部としての電極２３，２４が設けられている。ガラス基板２１，２２間の間隙２５には、エレクトロクロミック溶液が充填され、エポキシ等、該エレクトロクロミック溶液に対して不活性な材料２６で封止される。必要とされる電気伝導性レベルにより、電極２３はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等の透明な物質、又はＩＴＯ／金属／ＩＴＯのように透明な複合材料で形成される。電極２４は、反射性及び電気伝導性に優れた金属材料を利用することにより、反射層として機能させることも可能である。要するに、エレクトロクロミック装置の製造過程において、図１に示されるような反射層１７を形成する過程を省くこともできる。通常、電極２４に使用される金属材料は、銀（Ａｇ）、又は銀−金（Ａｇ／Ａｕ）合金、銀−プラチナ（Ａｇ／Ｐｔ）合金、銀−パラジウム（Ａｇ／Ｐｄ）合金等の銀合金である。しかし、電極２４は、ガラス基板２２とエレクトロクロミック溶液２５との間で、シール２６に接するように配置されるため、電極２４の製造においては、腐食したり、電気特性の変質が生じることのないよう、十分な留意を必要とする。例えば、電極２４をガラス基板２２に付着させるため、電極２４とガラス基板２２との間に基底層２７を設ける必要がある。さらに、エレクトロクロミック溶液２５によって電極２４が腐食されるのを防ぐため、電極２４とエレクトロクロミック溶液２５との間に保護層２８を設ける必要があるが、このとき、電極２４の電気特性が損なわれないようにしなければならない。電極２４は反射率及び電気伝導性の両方において優れているものの、図２のようなエレクトロクロミック装置の製造には複雑な工程が伴い、製造コストが増大する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ミラーに適応の反射率を与えるとともに、エレクトロクロミックミラーアセンブリのガラス基板に対する接着性に優れた、反射層を提供することを目的とする。
【０００８】
また、本発明は、従来装置に比べて、製造が容易で、眩光に応じて色が変化する、エレクトロクロミックミラーを提供することを別の目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の一側面によると、印加される電圧に応じて色が変化するエレクトロクロミックミラーが提供される。該エレクトロクロミックミラーは、第１の基板と、第２の基板と、第１及び第２の電極と、エレクトロクロミック剤と、反射層とを備える。第１の基板は透光性を有する。第２の基板は、第１の基板に対して略平行に配置され、該第１の基板から所定の間隔を空けて並置されることによって両者の間に空隙を形成している。第１及び第２の電極は、電圧を供給するため、第１及び第２の基板の空隙側の対向面に夫々設けられ、第１の電極は透光性を有している。エレクトロクロミック剤は、第１及び第２の基板間の空隙に配置され、電圧に応じて色変化を生じる。反射層は、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金で形成されており、第２の基板上に配置され、第１の基板から入射する光の一部を反射して第１の基板側に戻す。
【００１０】
一実施形態では、第１及び第２の基板はガラスで形成される。
【００１１】
一実施形態では、第１及び第２の電極はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で形成される。
【００１２】
一実施形態では、反射層は、第２の基板における第２の電極と反対側の面上に配置される。さらに、エレクトロクロミックミラーは、反射層と働き合うことにより、反射層のみから得られる色とは異なる色を生じさせる中間層を、第２の基板と反射層との間に備える。
【００１３】
一実施形態では、中間層はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で形成される。
【００１４】
一実施形態では、反射層は第２の基板と第２の電極との間に設置される。
【００１５】
本発明の別の側面によると、印加される電圧に応じて色が変化するエレクトロクロミックミラーが提供され、該エレクトロクロミックミラーは、第１の基板と、第２の基板と、第１及び第２の電極と、エレクトロクロミック剤と、複合反射層とを備えている。第１の基板は透光性を有している。第２の基板は、第１の基板に対して略平行に配置され、該第１の基板から所定の間隔を空けて並置されることにより両者の間に空隙を形成している。第１及び第２の電極は、電圧を供給するため、第１及び第２の基板の空隙側の対向面に夫々設けられており、第１の電極は透光性を有している。エレクトロクロミック剤は、第１及び第２の基板間の空隙に配置され、電圧に応じて色変化を生じる。複合反射層は、第２の基板上に配置され、第１の基板から入射する光の一部を反射して該第１の基板側に戻す。複合反射層はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層及び高度反射層から構成されるのが望ましい。
【００１６】
一実施形態では、第１及び第２の基板はガラスで形成される。
【００１７】
一実施形態では、第１及び第２の電極はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で形成される。
【００１８】
一実施形態では、高度反射層は、クロム、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金及び銀（Ａｇ）から成るグループから選択された材料で形成される。
【００１９】
一実施形態では、複合反射層は、第２の基板における第２の電極と反対側の面上に配置される。
【００２０】
一実施形態では、複合反射層のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層は、第２の基板と高度反射層との間に配置される。
【００２１】
本発明の別の側面によると、印加される電圧に応じて色が変化するエレクトロクロミックミラーが提供され、該エレクトロクロミックミラーは、第１の基板と、第２の基板と、透光性を有する電極と、複合電極と、エレクトロクロミック剤とを備えている。第１の基板は透光性を有している。第２の基板は、第１の基板に対して略平行に配置され、該第１の基板から所定の間隔を空けて並置されることにより、両者の間に空隙を形成している。透光性を有する電極は、第１の基板における空隙側の面上に配置される。複合電極は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層及び高度反射層から構成され、第２の基板における空隙側の面上に配置されて、透光性を有する電極とともに電圧を供給する。エレクトロクロミック剤は、透光性を有する電極と複合電極との間の空隙に配置され、電圧に応じて色変化を生じる。
【００２２】
一実施形態では、高度反射層はクロム（Ｃｒ）、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金及び銀（Ａｇ）から成るグループから選択された材料で形成される。
【００２３】
一実施形態では、高度反射層は、第２の基板と複合反射層のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層との間に配置される。
【００２４】
本発明の別の側面によると、影像からの入射光の一部を反射するためのエレクトロクロミックミラー用反射層が提供される。該反射層は、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金層を備えている。一実施形態では、反射層はアルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金層に接着させたインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）をさらに備える。
【００２５】
本発明のさらに別の側面によると、影像からの入射光の一部を反射するためのエレクトロクロミックミラー用反射層が提供され、該反射層は、直に近接したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層及び高度反射層を備えている。一実施形態では、高度反射層は、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金及び銀（Ａｇ）から成るグループから選択された材料で形成される。
【００２６】
本発明の上記目的および利点は、下記の詳細説明及び付随図面を検討すれば、当業者にはより明白となるであろう。
【００２７】
【発明の実施の形態】
本発明の第１の実施形態によるエレクトロクロミックミラーは、マイクロメートルからミリメートル程度の間隔を空けて互いに平行に配置された２つの支持基板を備えている。各基板の内側面には、電気伝導のための電極が設けられる。該ガラス基板間の空隙には、エレクトロクロミック溶液が充填され、該エレクトロクロミック溶液に対して不活性な材料で封止される。さらに、後側の基板の後方には、ミラーに適切な反射率を与えるための反射層が設けられる。電極に電圧を印加すると、それに従ってエレクトロクロミック溶液の色が変化する。光の強度が強いほど、エレクトロクロミック装置に印加される電圧は増加し、ミラーの色はより暗くなる。各支持基板は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）−浸漬層又は二酸化ケイ素−水素（ＳｉＯ_２−Ｈ）層を有するソーダ石灰ガラスであって、厚さは約０．９〜２．３ｍｍである。各電極は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）電極であって、厚さは約１０００〜３０００Å、電気抵抗は３〜３５Ωである。シールはエポキシからなり、厚さは約８０〜１５０ｍｍである。反射層はアルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金で形成され、厚さは約１００〜２５０ｎｍである。空隙に充填されるエレクトロクロミック溶液は、炭酸プロピレン（７０％　ｖ／ｖ）と、炭酸エチルメチル（３０％　ｖ／ｖ）と、０．０２Ｍ　１，１’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，４’−ビスジピリジニウム（テトラフルオロホウ酸塩）と、０．０２Ｍフェロセンメチルケトン−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾンと、２％（ｗ／ｖ）メタクリル酸ポリメチル（ＰＭＭＡ）とで構成される。以下に一実施例を挙げる。
【００２８】
（実施例１）
本発明の一実施例によるエレクトロクロミックミラーの構造を図１を参照して説明する。各ガラス基板１１，１２の厚さは２．０ｍｍであり、各ＩＴＯ電極１３，１４の厚さは１５００Åで電気抵抗は６Ωである。エポキシシール１６の厚さは１００ｍｍである。反射層１７は重量でアルミニウム７０％，チタン３０％で構成され、厚さは約１５０ｎｍである。反射層１７の背面には、シリコン、チタン又はインジウム酸化物で形成され、２００Åの厚みを有する保護層（図示せず）を設けてもよい。電圧を印加していない時のエレクトロクロミックミラーの反射率はおよそ７０％である。１．５Ｖの電圧を印加すると、１秒以内に、ミラー表面が深い青色に変化し、エレクトロクロミックミラーの反射率はおよそ９％まで低減される。これにより、眩光による影響を最小限に抑えることができる。このエレクトロクロミックミラーは２０万回以上反復作用させることができる。
【００２９】
本発明の第２の実施形態によるエレクトロクロミックミラーは、マイクロメートルからミリメートル程度の間隔を空けて互いに平行に配置された２つの支持基板を備えている。各基板の内側面には、電気伝導用の電極が設けられる。該ガラス基板間の空隙にはエレクトロクロミック溶液が充填され、該エレクトロクロミック溶液に対して不活性な材料で封止される。さらに、後側の電極と後側の基板との間には、ミラーに適切な反射率を与えるための反射層が設けられる。電極に電圧を印加すると、それに従って、エレクトロクロミック溶液の色が変化する。光の強度が強いほど、エレクトロクロミック装置に印加される電圧は高くなり、ミラーの色はより暗くなる。各ガラス基板は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）−浸漬層又は二酸化ケイ素−水素（ＳｉＯ_２−Ｈ）層を有するソーダ石灰ガラスであって、約０．９〜２．３ｍｍの厚みを有する。第１の電極はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で形成され、厚さは約１０００〜３０００Å、電気抵抗は３〜３５Ωとなっている。第２の電極はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層及び高度反射層を備えた複合電極であり、ガラス基板の空隙側の側面上に配置され、透光性を有する電極とともに電圧を供給する。インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層の厚さは約１０００〜３０００Åであり、電気抵抗は３〜３５Ωである。高度反射層はクロム（Ｃｒ）、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金、銀（Ａｇ）、又はそれらの化合物、等の金属材料で形成され、厚さは約１００〜２５０ｎｍ、電気抵抗は１〜８Ωとなっている。シールはエポキシからなり、約８０〜１５０ｍｍの厚みを有する。空隙に充填されるエレクトロクロミック溶液は、炭酸プロピレン（７０％　ｖ／ｖ）と、炭酸エチルメチル（３０％　ｖ／ｖ）と、０．０２Ｍ　１，１’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，４’−ビスジピリジニウム（テトラフルオロホウ酸塩）と、０．０２Ｍフェロセンメチルケトン−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾンと、２％（ｗ／ｖ）メタクリル酸ポリメチル（ＰＭＭＡ）とで構成される。以下に実施例を挙げる。
【００３０】
（実施例２）
本発明によるエレクトロクロミックミラーの一例の構造を図３を参照して説明する。各ガラス基板３１，３２の厚さは１．３ｍｍであり、ＩＴＯ電極３３の厚さは１５００Å、電気抵抗は６Ωである。複合電極のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層３４の厚さは１５００Å、電気抵抗は６Ωである。高度反射層３７は、重量でアルミニウム７０％、チタン３０％で構成され、厚さは約１５０ｎｍである。エポキシシール３６は約１５０ｍｍの厚みを有する。空隙３５内にエレクトロクロミック溶液が充填される。電圧を印加されていない時のエレクトロクロミックミラーの反射率はおよそ７９％であり、淡い金色に見える。電極３３及び３４に１．５Ｖの電圧を印加すると、エレクトロクロミックミラー表面の色が１秒以内に深い青色へと変化し、その反射率はおよそ１２％まで低減され、よって眩光による影響を最小限に抑える。このエレクトロクロミックミラーは、２０００回以上反復作用させることができる。
【００３１】
（実施例３）
本発明によるエレクトロクロミックミラーの一例の構造を図３を参照して説明する。各ガラス基板３１，３２は厚さが１．３ｍｍであり、ＩＴＯ電極３３は厚さが１５００Å，電気抵抗が６Ωである。複合電極のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層３４は厚さ１５００Å、電気抵抗６Ωであり、高度反射層３７は銀で形成され、約１５０ｎｍの厚みを有する。エポキシシール３６の厚さは約１５０ｍｍである。電圧を印加されていない時のエレクトロクロミックミラーの反射率はおよそ８２％であり、明るい銀色に見える。電極３３及び３４に１．５Ｖの電圧を印加すると、１秒以内に、エレクトロクロミックミラーの表面は深い青色に変化し、ミラーの反射率はおよそ１２％まで低減される。これにより、眩光による影響を最小限にすることができる。このエレクトロクロミックミラーは２０００回以上反復作用させることができる。
【００３２】
（実施例４）
本発明によるエレクトロクロミックミラーの一例の構造を図３を参照して説明する。各ガラス基板３１，３２の厚さは１．３ｍｍであり、ＩＴＯ電極３３の厚さは１５００Å，電気抵抗は６Ωである。複合電極のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層３４は厚さ１５００Å、電気抵抗６Ωである。高度反射層３７はクロムで形成され、約１５０ｎｍの厚みを有する。エポキシシール３６の厚さは約１５０ｍｍである。電圧を印加されていない時のエレクトロクロミックミラーの反射率は約４５％であり、淡い銀青色に見える。電極３３及び３４に１．５Ｖの電圧が印加されると、１秒以内に、エレクトロクロミックミラーの表面が深い青色に変化し、ミラーの反射率は約９％まで低減される。これにより、眩光による影響を最小限にすることができる。このエレクトロクロミックミラーは、１０万回以上反復作用させることができる。
【００３３】
（実施例５）
本発明によるエレクトロクロミックミラーの一例の構造を図３を参照して説明する。各ガラス基板３１，３２は厚さ１．３ｍｍであり、ＩＴＯ電極３３は厚さ１５００Å、電気抵抗６Ωである。複合電極のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層３４は厚さ１５００Å、電気抵抗１５Ωである。高度反射層３７はクロムで形成され、厚さは約１５０ｎｍである。エポキシシール３６の厚さは約１５０ｍｍである。電圧を印加されていない時のエレクトロクロミックミラーの反射率は約４１％であって、淡青色に見える。電極３３及び３４に１．５Ｖの電圧が印加されると、２秒以内に、エレクトロクロミックミラーの表面が深い青色に変化し、その反射率は約６％まで低減される。これにより、眩光による影響を最小限に抑える。このエレクトロクロミックミラーは２万回以上反復作用させることができる。
【００３４】
本発明の第３の実施形態によるエレクトロクロミックミラーは、マイクロメートルからミリメートル程度の間隔を空けて互いに平行に配置された２つの支持基板を備えている。各基板の内側面には、電気伝導のための電極が設けられている。該ガラス基板間の空隙には、エレクトロクロミック溶液が充填され、該エレクトロクロミック溶液に対して不活性な材料で封止される。さらに、後側の基板の背後には、ミラーに適度の反射率を与えるための反射層が設けられる。電極に電圧が印加されると、それに従い、エレクトロクロミック溶液の色が変化する。光の強度が強いほど、エレクトロクロミック装置に印加される電圧は高くなり、ミラーの色はより暗くなる。各ガラス基板は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）−浸漬層、又は二酸化ケイ素−水素（ＳｉＯ_２−Ｈ）層を有するソーダ石灰ガラスであって、約０．９〜２．３ｍｍの厚みを有する。各インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）電極は、厚さ約１０００〜３０００Å、電気抵抗３〜３５Ωである。反射層は、高度反射層と中間層とを含む複合反射層であって、後側のガラス基板上に配設され、前側の基板から入射する光の一部を反射して前側の基板へと戻す。高度反射層は、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金、銀（Ａｇ）、又はそれらの化合物、等の金属材料で形成され、厚さは約１００〜２５０ｎｍ，電気抵抗は１〜８Ωである。中間層は、厚さ約１０００〜３０００Å、電気抵抗３〜３５Ωのインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層である。この中間ＩＴＯ層を設けることにより、高度反射層のみから得られる色とは異なる色を生じさせることができる。シールはエポキシで形成され、約８０〜１５０ｍｍの厚みを有する。空隙に充填されるエレクトロクロミック溶液は、炭酸プロピレン（７０％　ｖ／ｖ）と、炭酸エチルメチル（３０％　ｖ／ｖ）と、０．０２Ｍ　１，１’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，４’−ビスジピリジニウム（テトラフルオロホウ酸塩）と、０．０２Ｍフェロセンメチルケトン−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾンと、２％（ｗ／ｖ）メタクリル酸ポリメチル（ＰＭＭＡ）とで構成される。以下に一例を挙げる。
【００３５】
（実施例６）
本発明によるエレクトロクロミックミラーの一例の構造を図４を参照して説明する。各ガラス基板４１，４２の厚さは、２．０ｍｍである。各ＩＴＯ電極４３，４４は、厚さ１３００Å、電気抵抗６Ωである。複合反射層のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層４８は厚さ１３００Å、電気抵抗６Ωである。高度反射層４７は、重量でアルミニウム７０％、チタン３０％で構成されるアルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金であって、厚さは約１５０ｎｍである。さらに、高度反射層４７の背面に、シリコン、チタン、又はインジウム酸化物からなる、厚さ２００Åの保護層（図示せず）を設けてもよい。エポキシシール４６の厚さは約１５０ｍｍである。空隙４５内にエレクトロクロミック溶液が充填される。電圧を印加されていない時のエレクトロクロミックミラーの反射率はおよそ６８％であり、淡い金色に見える。電極４３及び４４に１．５Ｖの電圧を印加すると、１秒以内に、エレクトロクロミックミラーの表面は深い青色へと変化し、その反射率はおよそ９％まで低減される。よって、眩光の影響を最小限にする。このエレクトロクロミックミラーは２０万回以上反復して作用させることができる。
【００３６】
上述した実施例から分かるように、本発明の反射層は、従来のものに比較して、エレクトロクロミックミラーに適応な反射率を与え、眩光による影響を最小限にするとともに、エレクトロクロミックミラーアセンブリのガラス基板に対して優れた接着性を有している。また、本発明の反射層は、エレクトロクロミックミラーに所望の色変化を生じさせることができ、よって良好なエレクトロクロミズム特性を与えることができる。さらに重要なことには、本発明のエレクトロクロミックミラーは、図２に示されるような基底層２７及び／又は保護層２８を形成する手順が不要であるため、製造が容易である。
【００３７】
以上、現在において最も実用的で好ましいと考えられる実施形態に基づいて本発明を説明してきたが、本発明は、開示された実施形態に限定されるものではなく、付随する請求項の最広義な解釈による趣旨及び範囲内における種々の変更及び同様の配置をも含むものであり、そのような変更及び同様の構造全てを包含する。
【図面の簡単な説明】
【図１】バックミラーアセンブリに使用される従来及び本発明のエレクトロクロミック装置を示す概略図である。
【図２】バックミラーアセンブリに使用される従来のエレクトロクロミック装置の別例を示す概略図である。
【図３】本発明の一実施形態による、バックミラーアセンブリ用エレクトロクロミック装置を示す概略図である。
【図４】本発明の別の実施形態による、バックミラーアセンブリ用エレクトロクロミック装置を示す概略図である。
【符号の説明】
３１　ガラス基板
３２　ガラス基板
３３　電極
３４　電極
３５　空隙（エレクトロクロミック剤が充填されている）
３６　エポキシシール
３７　高度反射層

Claims (20)

1. 印加される電圧に応じて色が変化するエレクトロクロミックミラーであって、
   透光性を有する第１の基板と、
   前記第１の基板に対して略平行に配置され、該第１の基板との間に空隙を形成するため該第１の基板から所定の間隔を空けて並置された第２の基板と、
   電圧を供給するために前記第１及び第２の基板の前記空隙側の対向面に夫々設けられた、透光性を有する第１の電極、及び第２の電極と、
   前記第１及び第２の基板間の前記空隙に配置され、電圧に応じて色変化を成すエレクトロクロミック剤と、
   アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金で形成され、前記第１の基板から入射する光の一部を反射して前記第１の基板側に戻すために前記第２の基板上に設けられた反射層、とを備えたことを特徴とするエレクトロクロミックミラー。
2. 前記第１及び第２の基板はガラスで形成されることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックミラー。
3. 前記第１及び第２の電極はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で形成されることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックミラー。
4. 前記反射層は、前記第２の基板における前記第２の電極と反対側の面上に配置されることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックミラー。
5. 前記第２の基板と前記反射層との間に、前記反射層と働き合うことによって前記反射層のみから得られる色とは異なる色を生じさせる中間層をさらに備えたことを特徴とする請求項４に記載のエレクトロクロミックミラー。
6. 前記中間層はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で形成されることを特徴とする請求項５に記載のエレクトロクロミックミラー。
7. 前記反射層は、前記第２の基板と前記第２の電極との間に配置されることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックミラー。
8. 印加される電圧に応じて色が変化するエレクトロクロミックミラーであって、
   透光性を有する第１の基板と、
   前記第１の基板に対して略平行に配置され、該第１の基板との間に空隙を形成するため該第１の基板から所定の間隔を空けて並置された第２の基板と、
   電圧を供給するために前記第１及び第２の基板の前記空隙側の対向面に夫々設けられた、透光性を有する第１の電極、及び第２の電極と、
   前記第１及び第２の基板間の前記空隙に配置され、電圧に応じて色変化を成すエレクトロクロミック剤と、
   前記第２の基板上に設けられ、前記第１の基板から入射する光の一部を反射して前記第１の基板側に戻すための複合反射層とを備え、
   前記複合反射層はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層及び高度反射層から構成されることを特徴とするエレクトロクロミックミラー。
9. 前記第１及び第２の基板はガラスで形成されることを特徴とする請求項８に記載のエレクトロクロミックミラー。
10. 前記第１及び第２の電極はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で形成されることを特徴とする請求項８に記載のエレクトロクロミックミラー。
11. 前記高度反射層は、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金及び銀（Ａｇ）から成るグループから選択された材料で形成されることを特徴とする請求項８に記載のエレクトロクロミックミラー。
12. 前記複合反射層は、前記第２の基板における前記第２の電極と反対側の面上に配置されることを特徴とする請求項８に記載のエレクトロクロミックミラー。
13. 前記複合反射層の前記インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層は、前記第２の基板と前記高度反射層との間に配置されることを特徴とする請求項１２に記載のエレクトロクロミックミラー。
14. 印加される電圧に応じて色が変化するエレクトロクロミックミラーであって、
    透光性を有する第１の基板と、
    前記第１の基板に対して略平行に配置され、該第１の基板との間に空隙を形成するため該第１の基板から所定の間隔を空けて並置された第２の基板と、
    前記第１の基板における前記空隙側の面上に配置された透光性を有する電極と、
    インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層及び高度反射層から構成され、前記第２の基板における前記空隙側の面上に配置されて、前記透光性を有する電極とともに電圧を供給する複合電極と、
    前記透光性を有する電極と前記複合電極との間の前記空隙に配置され、電圧に応じて色変化を成すエレクトロクロミック剤、とを備えたことを特徴とするエレクトロクロミックミラー。
15. 前記高度反射層は、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金及び銀（Ａｇ）から成るグループから選択された材料で形成されることを特徴とする請求項１４に記載のエレクトロクロミックミラー。
16. 前記高度反射層は、前記第２の基板と前記複合電極の前記インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層との間に配置されることを特徴とする請求項１４に記載のエレクトロクロミックミラー。
17. 影像からの入射光の一部を反射するためのエレクトロクロミックミラー用反射層であって、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金層を備えたことを特徴とする反射層。
18. 前記アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金層に接着させたインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）をさらに備えたことを特徴とする請求項１７に記載の反射層。
19. 影像からの入射光の一部を反射するためのエレクトロクロミックミラー用反射層であって、直に近接したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層及び高度反射層を備えたことを特徴とする反射層。
20. 前記高度反射層は、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム−チタン（Ａｌ／Ｔｉ）合金及び銀（Ａｇ）から成るグループから選択された材料で形成されることを特徴とする請求項１９に記載の反射層。

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