JP2004099261A - 板硝子ハンドリング装置 - Google Patents

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鈴木 龍之
Kazuhiro Yoshida
吉田 和弘
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Abstract

【課題】厚さに比して大きな板硝子を、その縁部以外の面に直接接触することなく、安定的に保持することができる板硝子ハンドリング装置を提供する。
【解決手段】板硝子Gを一方の面側から非接触で支持する支持手段と、この支持手段によって支持された板硝子Gの縁部を拘束して、板硝子Gがその面に沿う方向に移動するのを防止するストッパー2とを備える。上記支持手段として、平面状に広がる吸着面11aに流体の吹出口11bを有し、この吹出口11bから吹き出した流体が吸着面11aとこの吸着面11aに対向する板硝子Gとの間の細隙13に高速で流れることにより、当該流体の静圧が負圧になることを利用して、細隙13を流れる流体の境界層を介して板硝子Gを保持するように構成された非接触吸着ディスク1を用いた。
【選択図】    図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、板硝子の主要な面に直接触れるのを防止しながら、この板硝子の保持を可能にする板硝子ハンドリング装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ガラス基盤(板硝子)等のように破損し易い物品を吸着保持する装置としては、例えば特許文献1に開示される吸着ヘッドが知られている。この吸着ヘッドにおいては、ガラス基盤等の物品を吸着する吸着部とこの吸着部を支持する固定部との間に弾性体(べローズ)を設け、この弾性体の弾性力を利用して、吸着部がガラス基盤に接触するときの衝撃を小さくするようにしている。
【0003】
【特許文献1】
特開2002−137184号公報(段落番号0016、0017)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年では、液晶に用いられるガラス基盤等のように、その一方の面および他方の面に異物が付着するのを嫌うガラス基盤が増えてきており、この種のガラス基盤に対しては、上記従来の吸着ヘッドを適用することができなかった。すなわち、この種のガラス基盤においては、他の部材との接触を許される範囲が縁部の5mm程度の範囲に限られていることから、それ以外の範囲に直接接触してガラス基盤を保持する形式の吸着ヘッドやハンドリング装置を適用することはできなかった。
【0005】
また、上記ガラス基盤は、最近の大型化の傾向によって、例えば680mm×880mm程度の大きなものも開発されてきている。その厚さとしては、例えば0.7mm程度のものであるため、縁部をチャックで保持した場合には、当該ガラス基盤が相当に湾曲した状態になるとともに、破損の危険が生じることになる。
【0006】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたもので、厚さに比して大きな板硝子を、その縁部以外の面に直接接触することなく、安定的に保持することができる板硝子ハンドリング装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の本発明に係る板硝子ハンドリング装置は、板硝子を一方の面側から非接触で支持する支持手段と、この支持手段によって支持された板硝子の縁部を拘束して、上記板硝子がその面に沿う方向に移動するのを防止するストッパーとを備えてなり、上記支持手段として、平面状に広がる吸着面に上記流体の吹出口を有し、この吹出口から吹き出した流体が上記吸着面とこの吸着面に対向する上記板硝子との間の細隙に高速で流れることにより、当該流体の静圧が負圧になることを利用して、上記細隙を流れる流体の境界層を介して上記板硝子を保持するように構成された非接触吸着ディスクを用いたことを特徴とするものである。
【0008】
ここで、上記ストッパーとしては、例えば、板硝子の面上の互いに直交する2方向から板硝子を挟み込むことにより当該板硝子がその面に沿う方向に移動するのを防止するストッパーを用いることができる。また、上記流体としては、例えば、空気、窒素等の気体や、水等の液体を用いることができる。
【0009】
請求項1に記載の本発明に係る板硝子ハンドリング装置によれば、非接触吸着ディスクを用いて板硝子を非接触で吸着するようにしたので、板硝子の縁部以外の面に異物等が付着するのを防止することができるとともに、板硝子が重力によって大きく湾曲するのを防止することができる。
また、ストッパーを設けたことにより、板硝子がその面に沿う方向に移動するのを防止することもできる。なお、このストッパーは、板硝子の縁部の端面に当接するように構成したものであっても、当該端面に対して所定の隙間を持って位置するように構成したものであってもよい。
また、流体により負圧が作用する部分には、吹出口から放射状に流れる流体の境界層が常に介在した状態になるので、板硝子を吸着面に対して一定の間隔で保持することができる。
以上により、板硝子の縁部以外の面に直接接触することなく、当該板硝子を安定的に保持することができる。
【0010】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の板硝子ハンドリング装置において、上記吸着面は、上記流体が上記吹出口から放射状に広がるように移動することによる流速の低下に伴って負圧から大気圧以上の正圧に転じる負正転換位置以上の広がりを有するように形成されていることを特徴とするものである。
【0011】
請求項2に記載の発明によれば、吸着面が吹出口から負正転換位置以上の広がりを有するように形成されているので、流体が吹出口から吸着面と板硝子との細隙を高速で流れることにより生じる負圧の全てを当該板硝子の保持のために利用することができる。したがって、吸着効率をほぼ最高の状態まで高めることができるとともに、より重い板硝子を保持することができる。
また、流体が吹出口から負正転換位置以上に放射状に広がることにより、当該流体の速度が充分に低下することになるので、そのまま放射方向に流出させても、例えば、クリーンルームの気流を乱したり、塵埃を巻き上げたりするのを防止することができる。
【0012】
請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の板硝子ハンドリング装置において、上記板硝子を上記支持手段および上記ストッパーで保持した状態で、上記板硝子の面の向きを変更することが可能な回動手段を備えていることを特徴とするものである。
【0013】
請求項3に記載の発明によれば、回動手段を設けているので、板硝子について、その一方の面を例えば下面の状態から上面の状態に移動したり、水平状態にしたり垂直状態にしたり、あるいは水平方向に対して任意に傾斜した状態にしたりすることが簡単にできる。しかも、その際に、板硝子の一方の面が支持手段によって支持されているので、板硝子の全体をたわみの少ない状態で維持することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明に係る板硝子ハンドリング装置の一実施形態を示すもので、図中符号Gが板硝子である。
この板硝子ハンドリング装置は、所定方向に移動可能に構成された本体枠10を有し、この本体枠10の一方の面側に、板硝子Gを非接触で支持する非接触吸着ディスク(支持手段)1と、この非接触吸着ディスク1によって支持された板硝子Gの縁部を拘束して、板硝子Gがその面に沿う方向にずれるのを防止するストッパー2とを備えている。
【0015】
非接触吸着ディスク1は、本体枠10の一方の面側の中央部に所定間隔をおいて複数(図示例では3個)設けられている。この非接触吸着ディスク1は、平面状に広がる吸着面11aに空気(流体)の吹出口11bを有し、この吹出口11bから吹き出した空気が吸着面11aとこの吸着面11aに対向する板硝子Gとの間の細隙13に高速で流れることにより、当該空気の静圧が負圧になることを利用して、細隙13を流れる空気の境界層を介して板硝子Gを保持するように構成されている。そして、上記吸着面11aは、上記空気が吹出口11bから放射状に広がるように移動することによる流速の低下に伴って負圧から大気圧以上の正圧に転じる負正転換位置以上の広がりを有するように形成されている。
【0016】
すなわち、非接触吸着ディスク1は、一定厚さの円板状に形成されたディスク本体11と、このディスク本体11の軸心部に設けられた連結ボス部12とを備えている。上記吸着面11aは、ディスク本体11の一方の面に形成され、連結ボス部12は、ディスク本体11の他方の面から円柱状に突出するように形成されている。また、連結ボス部12は、ディスク本体11の他方の面に対して直交するように形成されている。吹出口11bは、円形状の吸着面11aの軸心部に円形状に開口したものである。この吹出口11bからは、ディスク本体11および連結ボス部12の軸心部を貫通する吹出流路(流体を吹出口11bに供給する流路)12aが形成されている。この吹出流路12aには、所定圧力に加圧された空気を当該吹出流路に供給するためのホースが接続されている。
【0017】
一方、ストッパー2は、板硝子Gの縁部を挟持する略コ字状のガイド部21と、このガイド部21を板硝子Gの縁部と近接・離間する方向に進退させるシリンダ装置22と、このシリンダ装置22を本体枠10に対して固定するための取付金具23とを備えている。このストッパー2は、板硝子Gの面上の互いに直交する2方向(板硝子Gの長手方向と短手方向)から板硝子Gを挟み込むことができるように、板硝子Gの周縁部に沿って複数配置されている。このストッパー2においては、シリンダ装置22により、板硝子Gの縁部に近接する方向に各ガイド部21を移動させて、当該ガイド部21により板硝子Gの縁部を挟持することによって、板硝子Gがその面に沿う方向に移動するのを防止するようになっている。なお、ガイド部21は、板硝子Gの外周から内方に5mm以内の縁部を挟持するようになっている。
【0018】
また、この実施形態においては、上記板硝子ハンドリング装置を用いて、上貼式の研磨装置における上定盤Aに、液晶のガラス基盤としての板硝子Gを取り付けまたは取り外す例を示している。
上貼式の研磨装置は、下方に配置した研磨布によって、上方に設置された板硝子Gを研磨するものであり、下貼式の研磨装置に比べて、回転する研磨布の径を大きくすることができることから、平坦性にすぐれた研磨が可能である。
【0019】
上定盤Aには、硝子吸着面を構成するテンプレートBが設けられている。このテンプレートBは、各種サイズに対応可能でかつ脱着が容易にできるように上定盤Aに設けられた複数の真空吸着孔A1によって、上定盤Aに固定されるようになっている。各真空吸着孔A1は、テンプレート固定用真空ラインL1に接続されている。
また、テンプレートBには、複数の真空吸着孔B1が設けられており、各真空吸着孔B1は、上定盤Aに設けられた連絡孔A2を介して、硝子保持真空ラインL2に接続されている。すなわち、テンプレートBは、複数の真空吸着孔B1によって、板硝子Gを保持するようになっている。また、テンプレートBには、板硝子GがテンプレートBに当接した状態において、板硝子Gを保持した状態のストッパー2との当たりを避けるための凹部B2が形成されている。
【0020】
上記のように構成された板硝子ハンドリング装置によって、板硝子Gを上定盤Aに供給するには、先ず、シリンダ装置22により各ガイド部21を板硝子Gと近接する方向に移動させて、当該ガイド部21により板硝子Gの縁部を挟持させる。これにより、板硝子Gは、その面に沿う横方向への移動が拘束されるとともに、面に対して垂直な縦方向への移動も拘束された状態になる。
次いで、加圧された空気を非接触吸着ディスク1に供給して、各吹出口11bから板硝子Gの一方の面(図1では下面)に向けて空気を噴出させる。その結果、板硝子Gと吸着面11aとの間の細隙13に局部負圧が生じて板硝子Gが大気圧に押され、板硝子Gの面全体が複数の非接触吸着ディスク1により非接触で支持された状態となる。
次いで、非接触吸着ディスク1およびストッパー2で保持された板硝子Gを上定盤Aの位置に搬送し、板硝子Gの他方の面(図1では上面)をテンプレートBに密着させる。
【0021】
そして、硝子保持真空ラインL2を介して真空吸着孔B1に、所定の真空度の負圧を作用させることにより、テンプレートBに板硝子Gを固定した後、シリンダ装置22のピストンロッドを引き込んで板硝子Gの縁部から各ガイド部21を離脱させ、非接触吸着ディスク1への空気の供給を止める。その後、本体枠10を上定盤Aから後退させた後、研磨装置において、板硝子Gの一方の面(図1では下面)の研磨を行う。
【0022】
また、上定盤Aから板硝子Gを取り出すには、本体枠10を上定盤Aに向けて移動させた後、シリンダ装置22により各ガイド部21を板硝子Gと近接する方向に移動させて、当該ガイド部21により板硝子Gの縁部を挟持させる。そして、加圧された空気を非接触吸着ディスク1に供給して、各吹出口11bから板硝子Gの一方の面(図1では下面)に向けて空気を噴出させる。
その後、硝子保持真空ラインL2の真空を解除して、真空吸着孔B1内の圧力を大気圧まで上昇させた後、上記硝子保持真空ラインL2に水または空気を供給して、板硝子GをテンプレートBから離れるのを容易にする。そして、本体枠10を後退させることによって、板硝子GをテンプレートBから取り出すようにする。
【0023】
以上のように、本実施形態の板硝子ハンドリング装置によれば、非接触吸着ディスク1を用いて板硝子Gを非接触で吸着するようにしたので、板硝子Gの縁部(外周部5mm程度)以外の面に異物等が付着するのを防止することができる。そして、大きな板硝子Gに対しては、非接触吸着ディスク1を複数設けることにより、板硝子Gが重力によって湾曲するのを極力防止することができる。
また、ストッパー2にガイド部21を設けるようにしたので、板硝子Gがその面に沿う方向に移動するのを防止することができる。また、板硝子GをテンプレートBから離脱させるのも容易となる。
以上により、板硝子Gにおける縁部の幅5mmの範囲以外の面に直接接触することなく、すなわち板硝子Gの表面に汚れや微細な傷を何等生じさせることなく、当該板硝子Gを安定的に保持することができる。
【0024】
また、吸着面11aが吹出口11bから負正転換位置以上の広がりを有するように形成されているので、空気が吹出口11bから吸着面11aと板硝子Gとの細隙13を高速で流れることにより生じる負圧の全てを当該板硝子Gの保持のために利用することができる。したがって、吸着効率をほぼ最高の状態まで高めることができるとともに、より重い板硝子Gを保持することができる。
また、空気により負圧が作用する部分には、吹出口11bから放射状に流れる空気の境界層が常に介在した状態になるので、板硝子Gを吸着面11aに対して一定の間隔で保持することができる。したがって、板硝子Gを非接触の状態で安定的に保持することができる。
さらに、空気が吹出口11bから負正転換位置以上に放射状に広がることにより、当該空気の速度が充分に低下することになるので、そのまま放射方向に流出させても、例えば、クリーンルームの気流を乱したり、塵埃を巻き上げたりするのを防止することができる。
【0025】
なお、本実施形態では、流体として空気を用いた例を示したが、この流体としては空気以外の窒素等の他の気体や、水等の液体であってもよい。
また、本体枠10としては、例えば、図2に示すように、板硝子Gの面の向きを変更することが可能な本体枠を採用することも可能である。この図2の例では、保持している板硝子Gの一方の面が上方を向く第1状態と、板硝子Gが垂直に起立して一方の面が側方を向く第2状態と、板硝子Gの一方の面が下方を向く第3状態とに本体枠10が可逆的に回動変換可能となっている。すなわち、この場合には、本体枠10と、この本体枠10を回動自在に支持する支軸10aとにより、本発明に係る回動手段が構成されている。このように板硝子Gを反転させるような場合においても、板硝子Gの一方の面が非接触吸着ディスク1によって支持されているので、板硝子Gの全体をたわみの少ない状態で維持することができる。
【0026】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1に記載の本発明に係る板硝子ハンドリング装置によれば、板硝子の縁部以外の面に直接接触することなく、当該板硝子を安定的に保持することができる。
請求項2に記載の発明によれば、板硝子を吸着面に対して一定の間隔で保持することができ、板硝子を非接触の状態で安定的に保持することができる。また、吸着効率をほぼ最高の状態まで高めることができるとともに、より重い板硝子を保持することができる。
【0027】
請求項3に記載の発明によれば、板硝子について、その一方の面を例えば下面の状態から上面の状態に移動したり、水平状態にしたり垂直状態にしたり、あるいは水平方向に対して任意に傾斜した状態にしたりすることが簡単にできる。しかも、その際に、板硝子の一方の面が支持手段によって支持されているので、板硝子の全体をたわみの少ない状態で維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る板硝子ハンドリング装置の一実施形態を示す要部構成図である。
【図2】本体枠の動作の一例を説明するための模式図である。
【符号の説明】
1   非接触吸着ディスク(支持手段)
2   ストッパー
10  本体枠
11a 吸着面
11b 吹出口
21  ガイド部

Claims (3)

  1. 板硝子を一方の面側から非接触で支持する支持手段と、この支持手段によって支持された板硝子の縁部を拘束して、上記板硝子がその面に沿う方向に移動するのを防止するストッパーとを備えてなり、
    上記支持手段として、平面状に広がる吸着面に上記流体の吹出口を有し、この吹出口から吹き出した流体が上記吸着面とこの吸着面に対向する上記板硝子との間の細隙に高速で流れることにより、当該流体の静圧が負圧になることを利用して、上記細隙を流れる流体の境界層を介して上記板硝子を保持するように構成された非接触吸着ディスクを用いたことを特徴とする板硝子ハンドリング装置。
  2. 上記吸着面は、上記流体が上記吹出口から放射状に広がるように移動することによる流速の低下に伴って負圧から大気圧以上の正圧に転じる負正転換位置以上の広がりを有するように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の板硝子ハンドリング装置。
  3. 上記板硝子を上記支持手段および上記ストッパーで保持した状態で、上記板硝子の面の向きを変更することが可能な回動手段を備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の板硝子ハンドリング装置。
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