JP2004077284A - Locating method of object having recursive structure - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像検索を用いて繰り返し構造を有する物体の位置を測定し、アライメント(位置決め)を行うための繰り返し構造を有する物体の位置測定方法に関する。ここで、繰り返し構造とは、同形状のボール、パッド等の端子が一定方向に配列されている構造であり、アライメントとは、ワークの位置測定(チップの位置、角度)を行うことである。
【0002】
【従来の技術】
ウェハレベルCSP(Chip Size Package)や一括モールドパッケージなどの基板に搭載されている半導体の特性を測定するためには、各々の半導体素子の端子であるボールあるいはパッドに電極を接触させなければならず、そのためには半導体の位置を正確に測定しなければならない。
【0003】
図6は複数の半導体素子で構成された回路を模式的に表した図である。例えば、図6(A)は一括モールドパッケージされたワークであり、複数のデバイス51が並んで配置されている。
【0004】
図6(B)は1個のデバイスを拡大して表示した図であり、この例では各デバイスには端子である複数のボール511が規則的に形成されている。このボールに電極を押し当てて、当該デバイスの特性を測定する。
【0005】
電極をボール511に正確に押し当てるためには、ボール511の位置、すなわちデバイスの位置が正確にわかっていなければならない。そのために、ティーチング時に1個のデバイス51、あるいはデバイス51内の特徴的なボール511の配列をリファレンス画像として登録しておく。
【0006】
リファレンス画像は基準になるデバイスを撮影した画像である。また、デバイスの基準位置を計算するために、ティーチング時にこのリファレンス画像とデバイス上の基準点とのオフセット関係も同時に登録しておく。
【0007】
次に、測定対象のワーク50を撮影し、この撮影した画像内に登録しておいたリファレンス画像がないかどうか検索する。リファレンス画像と一致する画像が見つかると、登録してあるリファレンス画像とデバイス上の基準点のオフセット関係から、デバイスの基準位置を計算する。
【0008】
この作業を測定対象のワーク50上のいくつかのデバイス、例えば4隅のデバイスで繰り返すと、ワークの位置を計算することができる。この位置測定方法は、半導体ウェハの位置測定技術を流用したものである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ウェハは、回路パターンを持つため、1チップ内に特有のパターンを持つ領域が存在する。そのため、大きなチップでも小さな領域をリファレンスとして同じパターンがある場所を探すことができる。しかし、ウェハレベルパッケージでは、アライメントする手がかりは端子面の端子配置しかない。端子配置が特有のパターンとなる領域が視野に入れば、アライメントすることはできるが、そのようなユニークな端子配置が常に存在するとは限らない。
【0010】
また、端子配置がユニークな領域が存在したとしても、その品種を処理するためには、その領域を装置に教える必要がある。この領域を教える際の正確さがそのまま実際の位置決めに影響する。そして、教えた際の誤差が位置決めの系統誤差となる。
【0011】
さらに、今までのプローバで使用されているチップの画像をリファレンス画像とする方法では、リファレンス画像が画像内にあるか、ないかしか判断できない。そのため、画像内にある場合は、位置を決められる。ない場合は、周辺を順番に探していくしかないので、効率が悪い。
【0012】
本発明は、上記の事情に鑑みなされたものであり、チップの領域などを教えるのではなく、チップの設計データから計算することにより、位置決め精度を従来手法より上げる、さらにティーチング作業を軽減する、チップの大きさに依存せずに、アライメントを実現する繰り返し構造を有する物体の位置測定方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、繰り返し構造を有する物体の位置を画像検索を用いて測定する繰り返し構造を有する物体の位置測定方法であって、繰り返し部分を画像上から探し、その繰り返し部分の配置からチップのどの繰り返し部分に対応するか判断するとともに、画像内のチップからそのチップの基準位置がある方向を判断し、チップの基準位置の座標とを求め、前記物体の水平に対する角度に基づき、物体を回転させて水平にし、物体の位置のオフセットを求めることを特徴とする。
【0014】
繰り返し構造を有する物体の位置を画像検索を用いて測定する繰り返し構造を有する物体の位置測定方法であって、設計データから前記繰り返し構造を有する物体の繰り返し部分の画像を生成する工程と、該画像をリファレンス画像として前記繰り返し構造を有する物体の繰り返し部分の画像を検索する工程と、検索された前記画像の前記繰り返し部分の配置から前記繰り返し構造を有する物体のチップのどの繰り返し部分に対応をするか判断する工程と、前画像内の前記チップの数に基づき前記チップの基準位置がある方向を判断し、前記画像を移動する工程と、前記チップの基準位置の座標を求める工程と、前記繰り返し構造を有する物体の水平に対する角度を求め、前記繰り返し構造を有する物体を回転させ、前記繰り返し構造を有する物体を水平にする工程と、前記繰り返し構造を有する物体を回転させた角度に基づき前記設計データから前記繰り返し構造を有する物体のオフセットを演算する工程と、を備えることを特徴とする。
【0015】
従って、請求項1及び2に記載の発明によれば、画像内で探す対象を繰り返し部分である接触子(ボール)とし、接触子を画像上から探し、その配置からチップのどの接触子に対応するか判断するとともに、画像内のチップ数からそのチップの基準位置がある方向を判断、移動し、チップの基準位置の座標を求め、繰り返し構造を有する物体の水平に対する角度を求め、その角度分回転させ水平にし、その回転に基づき設計値から繰り返し構造を有する物体の位置のオフセットを求めることが可能になる。
【0016】
また、請求項3に記載の発明は、請求項1及び2に記載の構成に加え、前記チップの基準位置は前記チップの4隅のいずれかの前記繰り返し部分であることを特徴とする。
【0017】
従って、請求項3に記載の発明によれば、チップの基準位置はチップの4隅のいずれかの繰り返し部分(ボール)であるため、繰り返し部分の間隔(ボール間隔)を手がかりにオフセットの計算を容易にすることが可能になる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【0019】
図1には、本発明である繰り返し構造を有する物体の位置測定方法を実施するための装置概要が示されている。駆動部2上にワーク1が載置されており、ワークの画像を撮像できるようにワーク1の上方にカメラ3が設けられている。
【0020】
カメラ3は、カメラ3からの画像を取り込む画像取り込み部4に接続されている。その画像取り込み部4はその画像取り込み部4に取り込んだ画像を処理する演算制御部5に接続されている。そして、演算制御部5は、演算制御部5の指令に基づいてワークの位置を移動させるモータ制御部6に接続されており、さらにモータ制御部6は、モータ制御部6からの信号を受け付け、対象となるワーク1の位置決めを行う駆動部2に接続されている。
【0021】
駆動部2は、XY方向の移動、Z方向の高さ移動、ワーク1を回転させるθの4軸を駆動できる。XY軸はワーク1を水平方向に移動させる。Z軸は、ワーク1をカメラレンズの焦点面高さに合わせる。θ軸は、ワーク1をXY軸と平行になるように回転させる。
【0022】
本発明である繰り返し構造を有する物体の位置測定方法では、まず、中心付近のチップの左上隅位置を求める。そこから、数チップ分水平に移動し、チップ位置を求める。2点間の角度からワーク1の傾きを補正する。略水平が出たので、最外周付近のチップに移動し、再度角度補正を行う。この結果から、ワーク1が所定の位置にあった場合との位置オフセットが計算できる。図2に全体の概略フローを、図3に位置を求めるチップの位置関係を示す。概略フローの段階では、従来のプローバのアライメントと同様である。
【0023】
図2から図5を用いて本発明である繰り返し構造を有する物体の位置測定方法を詳細に説明する。
【0024】
はじめに1点目の処理は以下のように行われる。1点目は、ワーク1中央のチップ左上隅の位置の計算に基づいて(図2中のステップS1)、ワークの中央のチップが選ばれる。チップサイズが小さい場合は、視野に複数のチップが写る。そのままでは、混乱するので、チップサイズ+αの領域を作業対象領域とする。チップが大きい場合は画像全体が作業領域となる。以下の説明は、この作業領域内での処理である。
【0025】
その画像を取り込み、幾何学的に定義した接触部分の形状をリファレンス画像として、画像内にある接触部分(ボール)を正規化相関法などの検索手法を用いて探す。ボール間隔を手がかりにチップごとに分類する。
【0026】
作業領域内には、チップが1個、2個、4個写っている場合に分類できる。1個の場合(図4−▲1▼)、左上にチップ内のボール間隔以上の空間が存在するのでチップの左上隅の位置を特定できる。図4−▲2▼の場合、チップ内のボール間隔でボールが存在するので、左上が存在する左上の方向が写るように移動する(図2中のステップS2)。図4−▲3▼の場合、上下に2つのチップが写っているので、図4−▲2▼の状態になるよう上が写るように移動する(図2中のステップS2)。図4−▲4▼の場合、左右に2つのチップが写っているので、図4−▲2▼の状態になるよう左が写るように移動する(図2中のステップS2)。図4−▲5▼の場合、4チップ写っているので図4−▲2▼の状態になるよう左上が写るように移動する(図2中のステップS2)。
【0027】
移動を繰り返し、図4−▲1▼のように写るようにする。そして、カメラ3から図4−▲1▼のように写った画像を取り込み(図2中のステップS3)、その画像を処理し隅を検索する(図2中のステップS4)。検索の結果、図4−▲1▼のように写る画像が見つかるか否か判別し(図2中のステップS5)、見つからなければワーク1を移動し、左上隅を検索することになる(図2中のステップS6)。再度、図4−▲1▼のように写る画像が見つかるか否か判別し(図2中のステップS7)、見つからなければエラーとして処理する(図2中のステップS8)。
【0028】
図4−▲1▼になれば(図4−▲1▼が見つかれば)、左上隅のボールの位置を出すことができる。ここでは左上隅をターゲットにしたが、複数チップが写っている場合、チップ内のボールの数を考慮して、他の隅をターゲットとして移動させることもできる。
【0029】
つぎの2点目の処理は以下のように行われる。はじめに、ラフにワーク1の水平を出すために、少し離れたチップを探す。チップサイズと同一行のチップが必ず画像内に入るように次に検索するチップを計算する(図2中のステップS9)。2点目の位置は、図5のような移載によるばらつきが画像(視野)内に収まる距離となる。この範囲内であれば、別の行のチップの位置を求めてしまう可能性はない。2点目のチップの検索は1点目の図4と同様に行う。
【0030】
具体的には、カメラから2点目のチップの図4−▲1▼のように写った画像を取り込み(図2中のステップS10)、画像を処理し同一の隅を検索する(図2中のステップS11)。取り込めない場合は一点目と同様の処理でワークを移動して検索する。そして、検索の結果、同一の隅が見つかるか否か判別し(図2中のステップS12)、見つからなければエラーとして処理する(図2中のステップS13)。求めた角度分補正してワークを水平にする。つまり、1点目と2点面の角度を計算し、ワーク1が水平になるようにθ分だけ回転させる(図2中のステップS14)。
【0031】
最後の最外周付近の処理は以下のように行われる。角度の精度を上げるには、なるべく離れた点間の角度を測定することである。具体的には、水平に移動し、最外周のチップの同一の隅がカメラ視野に入るように移動する(図2中のステップS15)。ワーク1の最外周付近のチップ位置を求め、チップ位置を求める。この際、1点目と同様の検索法を用いてもよい。また、ある程度水平が出ているので、最初の位置で隅が見つかるはずである。
【0032】
隅を見つけるためには、1点目及び2点目の検索と同様に、カメラから画像を取り込み(図2中のステップS16)、画像を処理し同一の隅を検索する(図2中のステップS17)。検索の結果、同一の隅が見つかるか否か判別し(図2中のステップS18)、見つからなければエラーとして処理する(図2中のステップS19)。見つかった場合には、ワークが水平になるようにθ分回転させる(図2中のステップS20)。そして、チップ位置の計算値と実測値とのオフセットを求める(図2中のステップS21)。
【0033】
本発明の他の実施の形態として、ウェハと同様に、実際のチップの特徴ある部分画像をリファレンス画像として使用することもできる。その場合、現在見ている視野に関する情報が少ないので、最初の視野の周囲を順次リファレンス画像と同一の部分画像がないか検索していく。そのため、処理効率は低下する。
【0034】
また、ここでは、カメラを1台で構成したが、高倍率のレンズを有するカメラを付加することにより、位置決め精度を向上できる。その場合、図2のフローの後に、高倍カメラで再度チップ位置を測定し、角度、オフセットを計算する処理を追加する。
【0035】
ウェハレベルのCSPだけではなく、外形が四角形であるストリップ(一括モールド)などにも応用することができる。
【0036】
【発明の効果】
本発明によれば、画像内のチップ情報も使えるので、効率的にチップ位置を探すことができる。特に、従来のようにチップの画像をリファレンス画像とする方法ではないため、リファレンス画像が画像内にない場合にも周辺を順番に探していく必要がなくなり作業効率の向上を図ることができる。
【0037】
また、本発明によれば、チップの設計情報から幾何学的にボールのリファレンス画像を生成するので画像をティーチングする必要がなくなる。特に、従来の方法で必要とされた、実際の画像をシステムに教える際にチップのどのような部分を教えれば間違えずにチップを検出できるかといった経験が不要になる。
【0038】
また、ティーチングの目的の一つにティーチングしたリファレンス画像とチップの位置を関係づけることがある。ユーザがチップの隅を指定し、その隅からリファレンス画像の原点のオフセットを計算する。ユーザが教えたチップの隅の位置がずれているとそのままワークの位置ずれに直結する。本発明では、ボールの中心位置とチップの位置の関係は設計値としてわかっているので、ここからは誤差が発生することがなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明である繰り返し構造を有する物体の位置測定方法を実施するための装置の概要図である。
【図2】本発明である繰り返し構造を有する物体の位置測定方法の処理の流れを示すフローチャートである。
【図3】アライメントで位置を求めるチップの位置関係を示す説明図である。
【図4】画像として写っているチップと移動方向との関係を示す説明図である。
【図5】2点目の位置の決め方を示す説明図である。
【図6】従来の位置測定方法を説明するための説明図である。
【符号の説明】
1 ワーク
2 駆動部
3 カメラ
4 画像取り込み部
5 演算制御部
6 モータ制御部[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for measuring the position of an object having a repetitive structure using image search and performing alignment (positioning) on the position of an object having a repetitive structure. Here, the repetitive structure is a structure in which terminals such as balls and pads of the same shape are arranged in a fixed direction, and the alignment means performing position measurement (chip position, angle) of a work.
[0002]
[Prior art]
In order to measure the characteristics of a semiconductor mounted on a substrate such as a wafer level CSP (Chip Size Package) or a package package, an electrode must be brought into contact with a ball or a pad which is a terminal of each semiconductor element. Therefore, the position of the semiconductor must be accurately measured.
[0003]
FIG. 6 is a diagram schematically showing a circuit composed of a plurality of semiconductor elements. For example, FIG. 6A shows a work packaged in a collective mold, in which a plurality of
[0004]
FIG. 6B is an enlarged view of one device. In this example, a plurality of
[0005]
In order to accurately press the electrode against the
[0006]
The reference image is an image obtained by photographing a reference device. In addition, in order to calculate the reference position of the device, the offset relationship between the reference image and the reference point on the device is also registered at the time of teaching.
[0007]
Next, the
[0008]
When this operation is repeated with some devices on the
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, since a wafer has a circuit pattern, there is a region having a unique pattern in one chip. Therefore, even in a large chip, it is possible to search for a place where the same pattern exists, using a small area as a reference. However, in the wafer level package, the only clue for alignment is the terminal arrangement on the terminal surface. If a region where the terminal arrangement has a unique pattern comes into view, alignment can be performed, but such a unique terminal arrangement does not always exist.
[0010]
Even if there is a region having a unique terminal arrangement, it is necessary to inform the device of the region in order to process the type. The accuracy in teaching this area directly affects the actual positioning. And the error at the time of teaching becomes the systematic error of positioning.
[0011]
Further, in the conventional method of using the image of the chip used in the prober as the reference image, it is possible to determine whether or not the reference image exists in the image. Therefore, if it is in the image, the position can be determined. If not, it is inefficient because you have to search the surroundings in order.
[0012]
The present invention has been made in view of the above circumstances, instead of teaching the chip area and the like, by calculating from the design data of the chip, to increase the positioning accuracy than the conventional method, further reduce the teaching work, An object of the present invention is to provide a method for measuring the position of an object having a repetitive structure that realizes alignment without depending on the size of a chip.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, an invention according to
[0014]
A method for measuring the position of an object having a repeating structure, wherein the position of the object having the repeating structure is measured using an image search, wherein an image of a repeating portion of the object having the repeating structure is generated from design data; Searching for an image of a repetitive portion of the object having the repetitive structure as a reference image, and determining which repetitive portion of the chip of the object having the repetitive structure corresponds to the arrangement of the repetitive portion of the searched image. Determining; determining a direction in which a reference position of the chip is located based on the number of the chips in a previous image; moving the image; and obtaining coordinates of the reference position of the chip; Find the angle of the object with the horizontal with respect to the horizontal, rotate the object having the repeating structure, and have the repeating structure A step to level the object, characterized in that it comprises the the steps of calculating an offset of an object having the repeating structure from the design data based on the angle of rotating the object having the repeating structure.
[0015]
Therefore, according to the first and second aspects of the present invention, the object to be searched in the image is a contact (ball) which is a repetitive portion, the contact is searched from the image, and the arrangement corresponds to any contact of the chip. And determine the direction in which the reference position of the chip is located based on the number of chips in the image, move the coordinates of the reference position of the chip, determine the angle of the object having the repetitive structure with respect to the horizontal, and determine the angle by the angle. Rotation is made horizontal, and based on the rotation, an offset of the position of the object having the repetitive structure can be obtained from the design value.
[0016]
According to a third aspect of the present invention, in addition to the first and second aspects, the reference position of the chip is any one of the four corners of the chip.
[0017]
Therefore, according to the third aspect of the present invention, since the reference position of the chip is any of the repeated portions (balls) at the four corners of the chip, the offset calculation is performed based on the interval between the repeated portions (ball interval). It can be easier.
[0018]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0019]
FIG. 1 shows an outline of an apparatus for implementing the method for measuring the position of an object having a repeating structure according to the present invention. The
[0020]
The
[0021]
The drive unit 2 can drive four axes of movement in the XY directions, height movement in the Z direction, and θ for rotating the
[0022]
In the method for measuring the position of an object having a repeating structure according to the present invention, first, the position of the upper left corner of the chip near the center is determined. From there, it moves horizontally by several chips to find the chip position. The inclination of the
[0023]
The method for measuring the position of an object having a repeating structure according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
[0024]
First, the processing of the first point is performed as follows. The first point is that the chip at the center of the work is selected based on the calculation of the position of the upper left corner of the chip at the center of the work 1 (step S1 in FIG. 2). If the chip size is small, multiple chips appear in the field of view. If it is left as it is, it will be confused, so the area of the chip size + α is set as the work target area. If the chip is large, the entire image becomes the work area. The following description is of processing in this work area.
[0025]
The image is fetched, and the contact portion (ball) in the image is searched for using a search method such as a normalized correlation method, using the shape of the contact portion defined geometrically as a reference image. Classify by chip based on ball spacing.
[0026]
The work area can be classified into one, two, and four chips. In the case of one chip (FIG. 4- (1)), since there is a space at the upper left that is equal to or greater than the ball interval in the chip, the position of the upper left corner of the chip can be specified. In the case of FIG. 4- (2), since there are balls at the ball interval in the chip, the ball moves so as to show the upper left direction where the upper left exists (step S2 in FIG. 2). In the case of FIG. 4- (3), since two chips are shown at the top and bottom, it moves so that the top is shown so as to be in the state of FIG. 4- (2) (step S2 in FIG. 2). In the case of FIG. 4- (4), since two chips are shown on the left and right, the camera is moved so that the left is shown so as to be in the state of FIG. 4- (2) (step S2 in FIG. 2). In the case of FIG. 4- (5), since four chips are photographed, the image is moved so that the upper left is photographed so as to be in the state of FIG. 4- (2) (step S2 in FIG. 2).
[0027]
The movement is repeated to make the image appear as shown in FIG. Then, an image captured as shown in FIG. 4- (1) is captured from the camera 3 (step S3 in FIG. 2), and the image is processed to search for a corner (step S4 in FIG. 2). As a result of the search, it is determined whether an image shown in FIG. 4- (1) is found (step S5 in FIG. 2), and if not found, the
[0028]
When FIG. 4- (1) is reached (FIG. 4- (1) is found), the position of the ball at the upper left corner can be determined. Here, the upper left corner is set as a target, but when a plurality of chips are photographed, other corners can be moved as targets in consideration of the number of balls in the chips.
[0029]
The processing of the next second point is performed as follows. First, in order to make the
[0030]
Specifically, an image of the second chip taken from the camera as shown in FIG. 4- (1) is captured (step S10 in FIG. 2), and the image is processed to search for the same corner (FIG. 2). Step S11). If the data cannot be captured, the workpiece is moved and searched by the same processing as the first point. Then, as a result of the search, it is determined whether or not the same corner is found (step S12 in FIG. 2), and if not found, it is processed as an error (step S13 in FIG. 2). Correct the obtained angle and level the work. That is, the angle between the first point and the two-point plane is calculated, and the
[0031]
The processing near the last outermost periphery is performed as follows. To improve the accuracy of the angle, it is necessary to measure the angle between points as far apart as possible. Specifically, it moves horizontally and moves so that the same corner of the outermost chip is in the camera view (step S15 in FIG. 2). The chip position near the outermost periphery of the
[0032]
In order to find a corner, similarly to the search for the first and second points, an image is fetched from the camera (step S16 in FIG. 2), and the image is processed to search for the same corner (step in FIG. 2). S17). As a result of the search, it is determined whether or not the same corner is found (step S18 in FIG. 2), and if not found, it is processed as an error (step S19 in FIG. 2). If found, the work is rotated by θ so as to be horizontal (step S20 in FIG. 2). Then, an offset between the calculated value of the chip position and the actually measured value is obtained (step S21 in FIG. 2).
[0033]
As another embodiment of the present invention, similarly to a wafer, a characteristic partial image of an actual chip can be used as a reference image. In this case, since there is little information on the field of view currently being viewed, the surroundings of the first field of view are searched sequentially for partial images identical to the reference image. Therefore, the processing efficiency decreases.
[0034]
In addition, here, the camera is constituted by one unit, but the positioning accuracy can be improved by adding a camera having a high-magnification lens. In this case, after the flow of FIG. 2, a process of measuring the chip position again with the high-magnification camera and calculating the angle and the offset is added.
[0035]
The present invention can be applied not only to a CSP at a wafer level but also to a strip (batch molding) having a rectangular outer shape.
[0036]
【The invention's effect】
According to the present invention, since chip information in an image can be used, a chip position can be efficiently searched. In particular, since the method does not use the image of the chip as the reference image as in the related art, even when the reference image does not exist in the image, it is not necessary to search the periphery in order, and the work efficiency can be improved.
[0037]
Further, according to the present invention, the reference image of the ball is geometrically generated from the design information of the chip, so that it is not necessary to teach the image. In particular, there is no need for the experience of what part of the chip to teach the actual image to the system when it is taught by the conventional method.
[0038]
Further, there is a case where the reference image and the position of the chip are associated with one of the teaching purposes. The user specifies a corner of the chip, and calculates the offset of the origin of the reference image from the corner. If the position of the corner of the chip taught by the user is displaced, it is directly connected to the position displacement of the work. In the present invention, since the relationship between the center position of the ball and the position of the chip is known as a design value, no error occurs from here.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram of an apparatus for performing a position measuring method of an object having a repeating structure according to the present invention.
FIG. 2 is a flowchart showing a processing flow of a method for measuring the position of an object having a repeating structure according to the present invention.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a positional relationship of chips whose position is determined by alignment.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a relationship between a chip shown as an image and a moving direction.
FIG. 5 is an explanatory diagram showing how to determine the position of a second point.
FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining a conventional position measuring method.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (3)
繰り返し部分を画像上から探し、その繰り返し部分の配置からチップのどの繰り返し部分に対応するか判断するとともに、画像内のチップからそのチップの基準位置がある方向を判断し、チップの基準位置の座標とを求め、前記物体の水平に対する角度に基づき、物体を回転させて水平にし、物体の位置のオフセットを求める繰り返し構造を有する物体の位置測定方法。A method for measuring the position of an object having a repeating structure that measures the position of the object having a repeating structure using image search,
The repetition part is searched from the image, and from the arrangement of the repetition part, it is determined which repetition part of the chip corresponds to, the direction of the reference position of the chip from the chip in the image is determined, and the coordinates of the reference position of the chip are determined. And a method for measuring the position of the object having a repetitive structure in which the object is rotated to be horizontal based on the angle of the object with respect to the horizontal, and an offset of the position of the object is obtained.
設計データから前記繰り返し構造を有する物体の繰り返し部分の画像を生成する工程と、
該画像をリファレンス画像として前記繰り返し構造を有する物体の繰り返し部分の画像を検索する工程と、
検索された前記画像の前記繰り返し部分の配置から前記繰り返し構造を有する物体のチップのどの繰り返し部分に対応をするか判断する工程と、
前画像内の前記チップの数に基づき前記チップの基準位置がある方向を判断し、前記画像を移動する工程と、
前記チップの基準位置の座標を求める工程と、
前記繰り返し構造を有する物体の水平に対する角度を求め、前記繰り返し構造を有する物体を回転させ、前記繰り返し構造を有する物体を水平にする工程と、前記繰り返し構造を有する物体を回転させた角度に基づき前記設計データから前記繰り返し構造を有する物体のオフセットを演算する工程と、を備えることを特徴とする繰り返し構造を有する物体の位置測定方法。A method for measuring the position of an object having a repeating structure that measures the position of the object having a repeating structure using image search,
Generating an image of a repeating portion of the object having the repeating structure from the design data,
Searching for an image of a repeated portion of the object having the repeating structure using the image as a reference image,
A step of determining which repetitive part of the chip of the object having the repetitive structure corresponds to the arrangement of the repetitive part of the searched image,
Determining the direction in which the reference position of the chip is based on the number of the chips in the previous image, and moving the image;
Obtaining the coordinates of the reference position of the chip;
Determine the angle to the horizontal of the object having the repeating structure, rotate the object having the repeating structure, the step of making the object having the repeating structure horizontal, and based on the angle at which the object having the repeating structure is rotated, Calculating the offset of the object having the repeating structure from design data. A method for measuring the position of an object having a repeating structure.
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