JP2004050565A

JP2004050565A - Thin sheet substrate

Info

Publication number: JP2004050565A
Application number: JP2002210034A
Authority: JP
Inventors: Shoji Higuchi; 樋口　章二; Rumi Shinagawa; 品川　留美; Terumi Fukui; 福井　照美; Motoyuki Toki; 土岐　元幸
Original assignee: Kansai Research Institute KRI Inc
Current assignee: Kansai Research Institute KRI Inc
Priority date: 2002-07-18
Filing date: 2002-07-18
Publication date: 2004-02-19

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin sheet substrate in which a thin sheet substrate high in gas-barrier properties and excellent in flexibility and heat resistance is efficiently obtained by a mass production process. <P>SOLUTION: The thin sheet substrate, in the thin sheet substrate of a laminate having an inorganic glass layer and a resin layer, the resin layer is formed from a composition containing a metal oxide polymer containing organic groups as a main component. As the metal oxide polymer, a silicon oxide polymer etc., are used. For example, an organic-inorganic hybrid material of an organic resin and/or an organic low-molecular weight compound and the metal oxide polymer is used as the composition containing the metal oxide polymer as a main component. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フレキシブルフラットパネルディスプレイ等に特に好適に用いることのできる、ガスバリア性に優れかつ柔軟性に富み、さらには透明性、耐熱性に優れる薄膜シート状基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
折り曲げが可能なフレキシブルフラットパネルディスプレイを得ることを目的として、種々の薄膜シート状基板が提案されている。こうした薄膜シート状基板には柔軟性と基板内側のディスプレイ素子を保護するために高いガスバリア性が求められている。
【０００３】
その中で、基板の厚みが１００ｍｍ以下の極薄ガラスをベース基材として、その片面に有機樹脂フィルムを貼り付けた２層構成から成る合わせガラスがガスバリア性および柔軟性を兼ねあわせた基板として報告されている（米国　ＳＩＤ０２　ＤＩＧＥＳＴ、日経ＢＰホームページＳＩＤ速報［ｈｔｔｐ：／／ｎｅ．ｎｉｋｋｅｉｂｐ．ｃｏ．ｊｐ／ｌｃｄ／２００２／０５／１００００１２７５８．ｈｔｍｌ］）。
この方法によると、極薄ガラスを用いることで従来のガラス基板と同等のガスバリア性を達成できるとともに、５０ｍｍの極薄ガラスに５ｍｍの有機樹脂フィルムを貼り付けた合わせガラスでは、柔軟性の指標である破壊直前の限界曲率半径が１２ｍｍに達するとされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の合わせガラスでは有機樹脂フィルムを用いているために、有機樹脂フィルム由来の放出ガスや吸着ガスによって基板内側のディスプレイ素子を劣化させてしまうので、ディスプレイ素子とは反対側となる極薄ガラスの一方の面にしか有機樹脂フィルムを貼り付けることができなかった。さらに、極薄ガラス単独では非常に機械的強度が低いため、極薄ガラスの一方の面にのみ有機樹脂フィルムを貼り付ける工程は慎重に行なわなければならず、実際上量産向きの工程では製造不可能であった。
【０００５】
また、上記合わせガラスは、有機樹脂フィルムを用いているために、耐熱温度が２５０℃と制限されている。したがって、この基板上への素子作製工程は２５０℃以下に制限されていた。
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、その目的は、高いガスバリア性、優れた柔軟性および高温耐熱性を有する薄膜シート状基板を浸漬塗布などの量産向け工程によって効率よく得ることができる薄膜シート状基板を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、発明者らは鋭意検討した結果、極薄ガラスと各種溶剤に可溶な有機基を含む金属酸化物ポリマーを用いることでガスバリア性および柔軟性を兼ね備えた薄膜シート状基板を量産向け工程で得ることができることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、請求項１に記載の薄膜シート状基板は、無機ガラス層と樹脂層とを備えた積層体からなる薄膜シート状基板において、前記樹脂層が、金属酸化物ポリマーを主成分とした組成物からなることを特徴としている。
【０００８】
請求項２に記載の薄膜シート状基板は、請求項１に記載の薄膜シート状基板において、金属酸化物ポリマーがケイ素酸化物ポリマーであることを特徴とするものである。
【０００９】
請求項３に記載の薄膜シート状基板は、請求項１または２に記載の薄膜シート状基板において、金属酸化物ポリマーを主成分とした組成物が、有機樹脂および／または有機低分子化合物と金属酸化物ポリマーとの有機−無機ハイブリッド材料であることを特徴とするものである。
上記構成によれば、高いガスバリア性、優れた柔軟性および高温耐熱性を有する薄膜シート状基板を浸漬塗布などの量産向け工程によって効率よく得ることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明にかかる無機ガラス層（極薄ガラス層）としては、好ましくは、厚さが１ｍｍ以上３００ｍｍ以下の、各種組成からなる無機ガラスを用いることができる。
【００１１】
本発明にかかる金属酸化物ポリマーは、各種の金属アルコキシドを加水分解、縮合して得ることができる。金属アルコキシドの金属元素としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｚｎ、Ｗ、Ｐｂ等が挙げられる。またこれらの金属アルコキシドのうち２種類以上の金属アルコキシドを任意の比率で混合して用いることもできる。
【００１２】
また、金属アルコキシドは、上記金属元素を含み、加水分解、縮合して、金属酸化物ポリマーを得ることができるものであれば特に限定されないが、ケイ素酸化物ポリマー、特にシルセスキオキサンまたはポリシルセスキオキサンと呼ばれる分子形状がかご型のケイ素酸化物オリゴマーやはしご型（ラダー型）ケイ素酸化物ポリマーを得ることのできる金属アルコキシドであることが好ましい。
加水分解、縮合してケイ素酸化物ポリマーを得るための金属アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシラン；フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン；メチルトリメトキシラン、エチルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン；フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルエチルジメトキシラン、フェニルメチルジエトキシラン、フェニルエチルジエトキシシラン等のアリールアルキルジアルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシラン等のジアルキルジアルコキシシラン；ジフェニルメチルメトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、ジフェニルエチルメトキシシラン、フェニルジエチルメトキシシラン、ジフェニルメチルエトキシシラン、フェニルジメチルエトキシシラン、ジフェニルエチルエトキシシラン、フェニルジエチルエトキシシラン等のジアリールアルキルアルコキシシランまたはアリールジアルキルアルコキシシラン；トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン等のトリアリールアルコキシシラン；トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラン；等が挙げられる。
【００１３】
本発明に係る金属酸化物ポリマーの分子量は特に限定されないが、ポリスチレン換算の重量平均分子量として、５０００〜１００００００が好ましい。
本発明の金属酸化物ポリマーは４００℃付近まで熱重量減少がほとんど見られない耐熱性の高い有機−無機ハイブリッドポリマーである。
本発明の樹脂層は、上記金属酸化物ポリマーを主成分とする組成物からなる。
本発明に係る金属酸化物ポリマーを主成分とする組成物は、該金属酸化物ポリマーを溶剤に溶かした溶液等として調製することができる。溶剤としては、水および各種有機溶剤を用いることができる。金属酸化物ポリマーを主成分とする組成物には、上記調製成分以外にさらにアクリル樹脂やエポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドンなど公知の有機樹脂が含まれていてもよい。
【００１４】
これら有機樹脂は、上記金属酸化物ポリマーが主成分となる限度において上記組成物中に含有される。
また、上記組成物には、有機樹脂に代えて、または有機樹脂とともに、有機低分子化合物が含まれていてもよい。
【００１５】
調製した金属酸化物ポリマー溶液を極薄ガラスに塗布する方法としては、回転塗布法、浸漬引き上げ塗布法、各種印刷法などの公知の各種湿式塗布法を用いることができる。この中で、浸漬引き上げ塗布法は、極薄ガラスにかかる機械的圧力が小さい、一度に極薄ガラスの両面を塗布することができるなどの利点を有していることから好適に用いることができる。
【００１６】
浸漬引き上げ塗布法の場合、金属酸化物ポリマーを主成分とする組成物からなる樹脂層の厚さは、金属酸化物ポリマー溶液の濃度、引き上げ速度、引き上げ時の温度を適宜調整して制御することができるが、薄膜シート状基板として所望のガスバリア性、柔軟性を得るためには極薄ガラスの片側の面に塗布した樹脂層（金属酸化物ポリマー層）１層あたり０．１ｍｍ〜５００ｍｍ、望ましくは０．１ｍｍ〜２００ｍｍである。
【００１７】
金属酸化物ポリマー溶液を塗布後、オーブン中５０〜３００℃で乾燥、熱処理させて溶剤を除去すると本発明に係る薄膜シート状基板を得ることができる。
【００１８】
本発明の薄膜シート状基板は、例えば、有機ＥＬディスプレイや、液晶ディスプレイ等、フラットパネルディスプレイ用基板として利用できる。
【００１９】
このようにして得られた薄膜シート状基板は、ディスプレイ基板として好適な、通常のガラス基板と同等のガスバリア性、限界曲率半径が１０ｍｍ以下という優れた柔軟性、３００℃以上の高温工程に耐える耐熱性ならびに３００℃の高温工程後でも可視域にほとんど吸収のない高い透明性を有している。
【００２０】
【実施例】
以下において、実施例を示して本発明をさらに説明するが、本発明は、これら実施例にのみ限定されるものではない。
【００２１】
〔実施例１〕
フェニルトリメトキシシラン加水分解縮合ポリマー（ポリスチレン換算分子量；Ｍｗ＝６７８３、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．０）１重量部をトルエン９９重量部に溶解して塗布液を調製した。この塗布液に厚さが５２ｍｍの極薄硼珪酸ガラス基板を浸漬して、室温で、ゆっくりと引き上げた後、直ちに８０℃のオーブンで３時間乾燥後、３００℃で３０分熱処理して薄膜シート状基板を得た。得られた薄膜シート状基板の厚さ、限界曲率半径、６００ｎｍにおける可視光透過率を表１に示した。
【００２２】
〔実施例２〕
フェニルメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン加水分解縮合コポリマー（ポリスチレン換算分子量；Ｍｗ＝１５２２１、Ｍｗ／Ｍｎ＝８．２）を用いた以外は実施例１と同様にして薄膜シート状基板を得た。得られた薄膜シート状基板の厚さ、限界曲率半径、６００ｎｍにおける可視光透過率を表１に示した。
【００２３】
〔実施例３〕
実施例２で用いたコポリマーに代えて、トリメチルシランを用いて末端トリメチルシリル化処理して得た末端処理コポリマーを用いた以外は実施例１と同様にして薄膜シート状基板を得た。得られた薄膜シート状基板の厚さ、限界曲率半径、６００ｎｍにおける可視光透過率を表１に示した。
【００２４】
〔比較例１〕
厚さが５２ｍｍの極薄硼珪酸ガラス基板について基板の厚さ、限界曲率半径、６００ｎｍにおける可視光透過率測定し結果を表１に示した。
【００２５】
〔比較例２〕
ポリビニルピロリドン（平均分子量　３６０，０００）１重量部をジメチルフォルムアミド９９重量部に溶解させて調製した塗布液を用いた以外は実施例１と同様にして薄膜シート状基板を得た。得られた薄膜シート状基板の厚さ、限界曲率半径、６００ｎｍにおける可視光透過率を表１に示した。
【００２６】
【表１】

【００２７】
上記の結果より明らかなように、本発明の薄膜シート状基板は、従来のガラス基板と同等の厚さであるにも関わらず、３００℃以上の高温工程に耐え得る優れた耐熱性を有するとともに、優れた柔軟性を有していることがわかる。また、高温工程後でも、可視域にほとんど吸収のない高い透明性を維持することがわかる。
【００２８】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、ディスプレイ基板として好適な、限界曲率半径が１０ｍｍ以下という優れた柔軟性、３００℃以上の高温工程に耐える耐熱性ならびに３００℃の高温工程後でも可視域にほとんど吸収のない高い透明性を有している薄膜シート状基板を得ることができる。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a thin-film sheet-like substrate which can be suitably used particularly for a flexible flat panel display and the like, is excellent in gas barrier properties and rich in flexibility, and further excellent in transparency and heat resistance.
[0002]
[Prior art]
Various thin-film sheet-like substrates have been proposed for the purpose of obtaining a flexible flat panel display that can be bent. Such a thin film sheet-like substrate is required to have flexibility and high gas barrier properties in order to protect a display element inside the substrate.
[0003]
Among them, a laminated glass consisting of a two-layer structure in which an ultra-thin glass having a thickness of 100 mm or less is used as a base material and an organic resin film is adhered to one side thereof is reported as a substrate having both gas barrier properties and flexibility. (SID02 DIGEST, USA, Nikkei BP website SID bulletin [http://ne.nikkeibp.co.jp/lcd/2002/05/1000012758.html]).
According to this method, a gas barrier property equivalent to that of a conventional glass substrate can be achieved by using an ultra-thin glass, and a laminated glass in which a 5 mm organic resin film is adhered to a 50 mm ultra-thin glass has an index of flexibility. It is said that the critical radius of curvature immediately before a certain fracture reaches 12 mm.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the above-mentioned laminated glass uses an organic resin film, the emitted gas or the adsorbed gas derived from the organic resin film deteriorates the display element inside the substrate. The organic resin film could be stuck on only one side of the glass. Furthermore, since the ultra-thin glass alone has extremely low mechanical strength, the step of attaching an organic resin film to only one surface of the ultra-thin glass must be carefully performed. It was possible.
[0005]
In addition, since the laminated glass uses an organic resin film, the heat resistance temperature is limited to 250 ° C. Therefore, the step of fabricating the element on the substrate is limited to 250 ° C. or less.
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and its object is to efficiently perform a thin-film sheet-like substrate having high gas barrier properties, excellent flexibility and high-temperature heat resistance by a process for mass production such as dip coating. An object of the present invention is to provide a thin film sheet-like substrate that can be obtained.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have conducted intensive studies and found that a thin film sheet having both gas barrier properties and flexibility by using ultra-thin glass and a metal oxide polymer containing an organic group soluble in various solvents. The inventors have found that a substrate can be obtained in a process for mass production, and have completed the present invention.
[0007]
That is, the thin-film sheet-like substrate according to claim 1 is a thin-film sheet-like substrate composed of a laminate including an inorganic glass layer and a resin layer, wherein the resin layer has a composition mainly composed of a metal oxide polymer. It is characterized by consisting of.
[0008]
The thin film sheet substrate according to a second aspect is the thin film sheet substrate according to the first aspect, wherein the metal oxide polymer is a silicon oxide polymer.
[0009]
The thin-film sheet substrate according to claim 3 is the thin-film sheet substrate according to claim 1 or 2, wherein the composition containing a metal oxide polymer as a main component comprises an organic resin and / or an organic low-molecular compound and a metal. It is an organic-inorganic hybrid material with an oxide polymer.
According to the above configuration, a thin film sheet-like substrate having high gas barrier properties, excellent flexibility, and high-temperature heat resistance can be efficiently obtained by a process for mass production such as dip coating.
[0010]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
As the inorganic glass layer (ultra-thin glass layer) according to the present invention, preferably, inorganic glass having a thickness of 1 mm or more and 300 mm or less and having various compositions can be used.
[0011]
The metal oxide polymer according to the present invention can be obtained by hydrolyzing and condensing various metal alkoxides. Examples of the metal element of the metal alkoxide include Si, Ti, Ge, Zr, Al, In, Sn, Ta, Zn, W, and Pb. In addition, two or more metal alkoxides among these metal alkoxides can be mixed and used at an arbitrary ratio.
[0012]
The metal alkoxide is not particularly limited as long as the metal alkoxide contains the above metal element and can be hydrolyzed and condensed to obtain a metal oxide polymer, but is preferably a silicon oxide polymer, particularly silsesquioxane or polysilyl. It is preferable to use a metal alkoxide called sesquioxane that can obtain a cage-shaped silicon oxide oligomer or a ladder-type (ladder-type) silicon oxide polymer.
Examples of the metal alkoxide for obtaining a silicon oxide polymer by hydrolysis and condensation include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane; aryltrialkoxysilanes such as phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane; Alkyltrialkoxysilanes such as methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane and ethyltriethoxysilane; phenylmethyldimethoxysilane, phenylethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, Arylalkyl dialkoxysilanes such as phenylethyldiethoxysilane; dimethyldimethoxysilane, diethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyl Dialkyldialkoxysilanes such as ethoxysilane; diphenylmethylmethoxysilane, phenyldimethylmethoxysilane, diphenylethylmethoxysilane, phenyldiethylmethoxysilane, diphenylmethylethoxysilane, phenyldimethylethoxysilane, diphenylethylethoxysilane, phenyldiethylethoxysilane, etc. Diarylalkylalkoxysilanes or aryldialkylalkoxysilanes; triarylalkoxysilanes such as triphenylmethoxysilane and triphenylethoxysilane; trialkylalkoxysilanes such as trimethylmethoxysilane, triethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane and triethylethoxysilane; No.
[0013]
Although the molecular weight of the metal oxide polymer according to the present invention is not particularly limited, the weight average molecular weight in terms of polystyrene is preferably 5,000 to 1,000,000.
The metal oxide polymer of the present invention is an organic-inorganic hybrid polymer having high heat resistance and almost no decrease in thermogravity up to around 400 ° C.
The resin layer of the present invention comprises a composition containing the above-mentioned metal oxide polymer as a main component.
The composition containing the metal oxide polymer according to the present invention as a main component can be prepared as a solution in which the metal oxide polymer is dissolved in a solvent. Water and various organic solvents can be used as the solvent. The composition containing a metal oxide polymer as a main component further contains a known organic resin such as an acrylic resin or an epoxy resin, a urethane resin, a melamine resin, a polyimide, a polycarbonate, a polyacetal, a polyvinyl butyral, or a polyvinylpyrrolidone, in addition to the above-described components. It may be.
[0014]
These organic resins are contained in the composition to the extent that the metal oxide polymer is the main component.
Further, the composition may contain an organic low molecular compound instead of or together with the organic resin.
[0015]
As a method for applying the prepared metal oxide polymer solution to the ultrathin glass, various known wet coating methods such as a spin coating method, a dipping and pulling coating method, and various printing methods can be used. Among them, the immersion pull-up coating method can be preferably used because it has advantages such as low mechanical pressure applied to the ultra-thin glass and the ability to apply both surfaces of the ultra-thin glass at a time. .
[0016]
In the case of the immersion pull-up coating method, the thickness of the resin layer composed of the composition mainly composed of the metal oxide polymer is controlled by appropriately adjusting the concentration of the metal oxide polymer solution, the pulling speed, and the temperature at the time of pulling. However, in order to obtain desired gas barrier properties and flexibility as a thin film sheet-like substrate, 0.1 mm to 500 mm is preferable for each resin layer (metal oxide polymer layer) applied to one surface of ultra-thin glass. Is 0.1 mm to 200 mm.
[0017]
After applying the metal oxide polymer solution, drying in an oven at 50 to 300 ° C. and heat treatment to remove the solvent can provide the thin film sheet substrate according to the present invention.
[0018]
The thin film sheet-like substrate of the present invention can be used as a flat panel display substrate such as an organic EL display and a liquid crystal display.
[0019]
The thin-film sheet substrate thus obtained is suitable for a display substrate, and has gas barrier properties equivalent to those of a normal glass substrate, excellent flexibility with a critical radius of curvature of 10 mm or less, and heat resistance to a high temperature process of 300 ° C. or more. It has high transparency and almost no absorption in the visible region even after a high-temperature process at 300 ° C.
[0020]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be further described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[0021]
[Example 1]
A coating solution was prepared by dissolving 1 part by weight of a phenyltrimethoxysilane hydrolyzed condensation polymer (molecular weight in terms of polystyrene; Mw = 6783, Mw / Mn = 4.0) in 99 parts by weight of toluene. An ultra-thin borosilicate glass substrate having a thickness of 52 mm is immersed in this coating solution, slowly pulled up at room temperature, immediately dried in an oven at 80 ° C. for 3 hours, and then heat-treated at 300 ° C. for 30 minutes to obtain a thin film sheet. A substrate was obtained. Table 1 shows the thickness, critical radius of curvature, and visible light transmittance at 600 nm of the obtained thin film sheet-like substrate.
[0022]
[Example 2]
A thin-film sheet-like substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that phenylmethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane hydrolysis-condensation copolymer (polystyrene equivalent molecular weight; Mw = 15221, Mw / Mn = 8.2) were used. Was. Table 1 shows the thickness, critical radius of curvature, and visible light transmittance at 600 nm of the obtained thin film sheet-like substrate.
[0023]
[Example 3]
A thin-film sheet-like substrate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the copolymer used in Example 2 was replaced with a terminal-treated copolymer obtained by performing a terminal trimethylsilylation treatment using trimethylsilane. Table 1 shows the thickness, critical radius of curvature, and visible light transmittance at 600 nm of the obtained thin film sheet-like substrate.
[0024]
[Comparative Example 1]
Table 1 shows the results of measurement of the thickness of the ultra-thin borosilicate glass substrate having a thickness of 52 mm, the critical radius of curvature, and the visible light transmittance at 600 nm.
[0025]
[Comparative Example 2]
A thin-film sheet-like substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a coating solution prepared by dissolving 1 part by weight of polyvinylpyrrolidone (average molecular weight: 360,000) in 99 parts by weight of dimethylformamide was used. Table 1 shows the thickness, critical radius of curvature, and visible light transmittance at 600 nm of the obtained thin film sheet-like substrate.
[0026]
[Table 1]

[0027]
As is clear from the above results, the thin film sheet-shaped substrate of the present invention has excellent heat resistance that can withstand a high-temperature process of 300 ° C. or higher, despite having a thickness equivalent to that of a conventional glass substrate. It has excellent flexibility. Further, it can be seen that even after the high-temperature step, high transparency with little absorption in the visible region is maintained.
[0028]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is suitable as a display substrate, excellent flexibility with a critical radius of curvature of 10 mm or less, heat resistance to withstand a high temperature process of 300 ° C. or more, and a visible region even after a high temperature process of 300 ° C. Thus, it is possible to obtain a thin-film sheet-like substrate having high transparency with little absorption.

Claims

A thin-film sheet-like substrate comprising a laminate including an inorganic glass layer and a resin layer, wherein the resin layer is made of a composition containing a metal oxide polymer as a main component.

The thin film sheet-like substrate according to claim 1, wherein the metal oxide polymer is a silicon oxide polymer.

The thin film according to claim 1, wherein the composition containing a metal oxide polymer as a main component is an organic-inorganic hybrid material of an organic resin and / or a low-molecular organic compound and a metal oxide polymer. 4. Sheet substrate.