JP2004036680A - Stage device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板その他の移動対象物を目標位置に移動させるステージ装置に関し、特に高い移動精度が要求されるステージ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
発明者が先に案出した図12に例示するステージ装置の基本構成は、定盤の基準面上でX軸方向に延在する一対の平行なガイドレール100,102と、これら一対のガイドレール100,102間に微小遊びを確保した状態で介在するスライダ(ステージ)104とから成る。スライダ104は、これとガイドレール100,102との間の遊び空隙に予め定められた一定圧力のエアーを圧送する静圧エアー軸受けによって、一対のガイドレール100,102間で浮上した状態で非接触に保持される。非接触保持されたスライダ104は、リニアモータ106により、ガイドレール100,102に沿って移動される。
【0003】
なお上記の基本構成に別のスライダを付加すれば、いわゆる複合ステージを構成できる。複合ステージの構成は任意である。例えば、X軸スライダ104に対して、Y軸方向に移動自在なY軸スライダを係合すれば、XYステージを構成できる。またY軸スライダに対して旋回可能なθステージを搭載すれば、XYθステージを構成できる。このような複合ステージにおいても、前述した基本構成の部分の移動精度が重要であるのは云うまでもない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
この種のステージ装置は、軸受け手段として静圧エアー軸受けを備えることにより、接触型の軸受けを用いたステージ装置に比べると、移動対象物の位置決め精度や移動精度等を向上できると云う特徴を有するものであった。しかしながら、当業界においては更なる位置決め精度の向上が求められている。特に、近年大型化しつつある液晶表示用基板等を移動対象物とする場合には、僅かな移動精度の誤差がその基板の加工精度等に大きく影響する。従って、そのような移動対象物を如何に精度良く移動させるかが重要な課題となっている。
【0005】
発明者は、移動対象物の移動精度を向上させるべく鋭意研究したところ、この種のステージ装置においては、図14に模式的に示すように、スライダ104が微小ではあるがヨーングしながら移動する場合があることを見出した。実際にスライダ104にヨーング角測定用のミラーMを取り付け、レーザ干渉計Iを用いて該スライダ20の移動精度を測定したところ、図15に示す結果が得られた。同図では、横軸にスライダ104の移動量をとり、縦軸に該スライダ104のヨーング角度をとっている。ヨーング角度は[秒]乃至[分]のオーダであり、極めて微小ではあるが、スライダ104の移動に伴ってヨーング角が変動しているのが分かる。
【0006】
発明者によれば、ヨーイング発生のメカニズムは次の如くと考えられる。
図15は、静圧エアー軸受けによってスライダ104が非接触に保持されている様子を模式的に示す。平面視略四角形をなすスライダ104の四隅におけるガイドレール100,102との間の隙間幅をそれぞれA,B,C,Dとする。理想的な場合は、常にA=B=C=Dの状態を保ったままスライダ20が移動する。これは、静圧エアー軸受けによってエアーが圧送されることにより、スライダ104とガイドレール100,102との間の隙間全域にわたってエアー膜が構成され、該エアー膜のいわゆる平均効果によって、スライダ104の四隅に均等な隙間を確保しようとする作用が働くからである。
【0007】
ところが、ガイドレール100,102そのものの真直性には加工限界がある。そのため甚だしい場合には、熱膨張等のない状態でもガイドレール100,102が微小ではあるが湾曲していることもある。具体的には、ガイドレール100,102の真直精度に3〜5μm程度の誤差が生じる場合がある。そのような場合には、静圧エアー軸受けの平均化効果が作用する結果、A>B,D>C等となってスライダ104の四隅に不均等な隙間ができてしまう。その為、スライダ104がZ軸まわりに3〜5[秒]程度振れながら移動する。この問題は、ガイドレール100,102を長尺化する場合に特に深刻化する。
【0008】
なお、例えば特開2001−22448号公報に開示されてあるように、一対の平行なリニアモータを用いてスライダを並進駆動するに当たり、各々のリニアモータを独立に制御してスライダのヨーングを防止する技術も提案されている。しかしながら、この技術においては制御系及び駆動系の構成が複雑になってしまうと共に、並進制御によっては、ガイドレールそのものが有している微小な真直性の誤差をきめ細かく確実に補正できるとは云い難い。
【0009】
また、上記公報の技術で防止できるのは、スライダのヨーイングのみである。しかしながら、非接触に浮上保持されたスライダは、Z軸まわりの揺動であるヨーング(図16(a)参照)のみならず、Y軸まわりの揺動であるピッチング(図16(b)参照)や、X軸まわりの揺動であるローリング(図16(c)参照)等を行う可能性がある。ここで、スライダが揺動することに起因する該スライダの理想的な基準軌跡からの狂いを揺動誤差と呼ぶことにする。
【0010】
また、このような揺動運動以外にも、図16(d)に示すように、スライダ104が所定の姿勢を保ったまま、X軸を除く任意の方向に全体的に動くことも考えられる。このような場合には、スライダ104の重心軌跡が真直ぐな直線上を通らない。更に、スライダ104が揺動運動しながら全体的に動くことも考えられる。ここで、スライダが全体的に動くことに起因する該スライダの理想的な基準軌跡からの狂いを真直度誤差と呼ぶことにする。
【0011】
本発明の目的は、非接触軸受け手段を用いたステージ装置において、スライダの揺動誤差や真直度誤差などの姿勢誤差を防止する技術を提供することにある。また本発明の目的は、ステージ装置の機械精度に依存せずに、スライダを高精度に移動させる技術を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する発明の第1の態様によれば、一軸方向に延在する条部を有し、この条部にガイドレール面が形成されてなるガイドレール部材と、前記条部に嵌る嵌合部を有し、この嵌合部に前記ガイドレール面と相対面する被ガイド面が形成されてなるスライダと、を備え、前記ガイドレール面と被ガイド面とが非接触状態とされることにより、前記スライダが前記条部に沿い前記一軸方向に移動自在となるステージ装置において、前記スライダが移動するときに、該スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を、前記ガイドレール面と被ガイド面とが相対面する方向の力である対面方向力によって補正する制御を行う制御手段を備えたステージ装置が提供される。
【0013】
ガイドレール面と被ガイド面とを非接触状態とすることにより、スライダを条部に沿い一軸方向に移動自在とする非接触軸受け手段としては、静圧流体軸受けや磁気軸受け等が挙げられる。対面方向力は流体圧や電磁力によって発生できる。
【0014】
発明の第2の態様によれば、第1の態様において、前記ガイドレール面と前記被ガイド面の一方から他方に向けて流体を圧送する流体圧送手段を備え、前記制御手段は、前記流体の圧力に基づく前記対面方向力によって、前記スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する制御を行うステージ装置が提供される。
【0015】
流体圧力に基づいて対面方向力を発生させる場合は、電磁界に基づいて対面方向力を発生させる場合に比べて、磁性体の着磁ムラ起因する誤差の影響を受けず、ガイドレール面と被ガイド面とが相対面する領域に形成される流体膜の平均化効果によってスライダの高精度な姿勢制御を行える。
【0016】
発明の一態様において、前記制御手段は、前記流体圧送手段によって圧送される流体の圧力を制御することにより、前記対面方向力を調整して前記スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する流体圧力制御手段を含む。
非接触軸受け手段は、流体圧送手段と同一のものであってもよいし、別のものであってもよい。
【0017】
発明の第3の態様によれば、第1又は第2の態様において、前記ガイドレール面と前記被ガイド面との間に電磁力を作用させる電磁力生成手段を備え、前記制御手段は、前記電磁力に基づく前記対面方向力によって、前記スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する制御を行うステージ装置が提供される。
【0018】
電磁力に基づいて対面方向力を発生させる場合は、真空中においてもスライダの姿勢誤差を補償できると云う利点がある。
【0019】
発明の一態様において、前記制御手段は、前記電磁場生成手段による前記電磁力を制御することにより、前記対面方向力を調整して前記スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する電磁力制御手段を含む。電磁力生成手段は、永久磁石又はコイルで構成できる。
非接触軸受け手段は、電磁力生成手段と同一のものであってもよいし、別のものであってもよい。
【0020】
発明の第4の態様によれば、第1乃至第3の態様において、前記スライダは、前記嵌合部に設けられ、前記ガイドレール面との間に、該ガイドレール面との距離に依存する前記対面方向力を作用させる距離依存力生成部と、この距離依存力生成部と前記ガイドレール面との距離を調節する為の距離調節手段と、を有し、前記制御手段は、前記距離調節手段を制御して前記距離依存力生成部と前記ガイドレール面との距離を調節することにより、前記対面方向力を調整して前記スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する距離制御手段を含むステージ装置が提供される。
【0021】
発明の一形態において、前記距離依存力生成部は、前記ガイドレール面に向けて一定圧力の流体を噴出する噴出口である。この場合、スライダ自身が受ける反作用力は、噴出口とガイドレール面との距離に依存する。
【0022】
発明の別形態において、前記距離依存力生成部は、前記ガイドレール面との間に一定強さの引力又は斥力を発生する磁力発生部である。磁力発生部には、永久磁石を用いることができる。この場合も、スライダ自身が受ける反作用力は、磁力発生部とガイドレール面との距離に依存する。
【0023】
発明の第5の態様によれば、第1乃至第4の態様において、前記スライダの前記一軸方向の位置を検出する位置検出手段を備え、前記制御手段は、前記スライダの前記一軸方向の位置を表す位置情報と、該位置におけるスライダに対して、予め定められた前記対面方向力を加える制御を行う為の制御情報と、を対応付けて記憶する記憶手段と、前記スライダが移動するときに、前記位置検出手段の検出結果に対応する制御情報を前記記憶手段から取得し、該取得した制御情報に基づいて前記予め定められた対面方向力を加える制御を行うことにより、該スライダの揺動誤差及び/又は進直度誤差を補正する開ループ制御手段と、を含むステージ装置が提供される。
【0024】
発明の第6の態様によれば、第1乃至第4の態様において、前記スライダの姿勢情報を検出する姿勢情報検出手段を備え、前記制御手段は、前記スライダが移動するときに、前記姿勢検出手段によって検出された姿勢情報に基づいて、前記対面方向力を制御して、該スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する閉ループ制御手段を含むステージ装置が提供される。
【0025】
【発明の実施の形態】
〔第1の実施の形態〕
図1(a),(b)は、実施の形態によるステージ装置の基本構成を示す。
本ステージ装置の基本構成は、X軸方向に延在するガイドレール部材2に沿ってスライダ4が移動するリニアステージとなっている。ガイドレール部材2とスライダ4とはそれぞれ、互いに相対面するガイドレール面6、被ガイド面8を有する。これらの面6,8どうしは、エアー軸受け10によって非接触状態とされる。これにより、スライダ4がガイドレール面6に沿いX軸方向に移動自在となる。そして、本ステージ装置は、スライダ4を移動させるときに、該スライダ4のヨーイングを、ガイドレール面6と被ガイド面8とが相対面する方向のエア圧力によって補正する制御を行うコントロールユニット12を備えたことを最大の特徴としている。
【0026】
ガイドレール部材2は、定盤Bの基準面上でX軸方向に延在する一対の平行なレール14,16によって構成されている。これらレール14,16はそれぞれ、X軸方向に延在する断面コ字状の凹条部18,20を有している。各凹条部18,20にはそれぞれ案内面22,24が形成されている。これら一対の案内面22,24によってスライダ4を案内するガイドレール面6が構成されている。
【0027】
スライダ4は、図2に示すように、平面視矩形の板状をなしており、その両端部にそれぞれ凹条部18,20に嵌る嵌合部26,28を有している。各嵌合部26,28にはそれぞれ案内面30,32が形成されている。これら一対の案内面30,32によって被ガイド面8が構成されている。スライダ4の嵌合部26,28を、それぞれガイドレール部材2の凹条部18,20に嵌め込んだとき、被ガイド面8とガイドレール面6とはY軸方向及びZ軸方向に相対面する。
【0028】
なお、ガイドレール部材2は、X軸方向に延在する一本のレール部材によっても構成できる。また、ガイドレール部材2には、凹条部に代えて凸条部を設け、スライダ4には、該凸条部に嵌合する嵌合部として凹部を設けてもよい。この場合は、凸条部にガイドレール面を形成し、凹部に被ガイド面を形成する。また、被ガイド面8とガイドレール面6とは、互いに少なくともY軸方向及びZ軸方向に相対面していればよく、条部及び嵌合部の形状は任意である。
【0029】
図2に示すように、スライダ4には、Z軸及びY軸のそれぞれプラス方向及びマイナス方向にエアーが噴出する噴出口が形成されている。即ち、スライダ4上面の四隅には、Z軸のプラス方向にエアーが噴出する噴出口A,B,C,Dが形成されている。スライダ4裏面の四隅には、Z軸のマイナス方向にエアーが噴出する噴出口E,F,G,Hが形成されている。スライダ4右側面のX軸方向両隅には、Y軸のプラス方向にエアーが噴出する噴出口I,Jが形成されている。スライダ4左側面のX軸方向両隅には、Y軸のマイナス方向にエアーが噴出する噴出口K,Lが形成されている。なお、噴出口の個数および配置位置は適宜に設計変更できる。
【0030】
エアー軸受け10は、各噴出口A〜Lからエアーを噴出させる。これにより、スライダ4がレール14,16間で浮上し、ガイドレール面6と被ガイド面8とが非接触状態となる。すると、ガイドレール部材2とスライダ4との間の摩擦が略ゼロとなり、スライダ4がガイドレール面6に沿いX軸方向に移動自在となる。
【0031】
本実施の形態においては、エアー軸受け10によって、噴出口Iを除く全ての噴出口からは、予め設定された一定圧力のエアーが噴出されるようにしている。そして、噴出口Iから噴出されるエアーの圧力がコントロールユニット12によって可変に制御されるようにしている。なお、スライダ4のヨーイングであれば、Y軸方向にエアーを噴出する噴出口I,J,K,Lの少なくとも何れか一箇所におけるエアー圧力を制御することにより防止できる。
【0032】
図3は、ステージ装置の駆動系及び制御系の構成を説明する為に模式的に示した図である。図示のように、本ステージ装置は、単一のリニアモータ34と、リニアスケール36とを備える。リニアモータ34は、レール14,16の間に配置され、X軸方向に延在する固定子34aと、スライダ4の裏面側に設けられ、固定子34aに非接触な可動子34bとからなる。
【0033】
リニアスケール36は、X軸方向に延在するガラススケール36aと、このガラススケールにレーザを照射することに基づいてスライダ4のX軸方向の位置を検出するスケールセンサ36bとからなる。これらガラススケール36aとスケールセンサ36bとは、スライダ4の移動に伴ってX軸方向に相対的に変位する。
【0034】
前述したエアー軸受け10は、噴出口Iを除く全ての噴出口から一定圧力のエアーを噴出させる為の定圧エアー噴出用ライン38と、噴出口Iから圧力制御されたエアーを噴出させる為の可変圧エアー噴出用ライン40とから構成されている。図3中、二点鎖線がエアーのラインを示している。なお、エアーの供給源は図示省略している。また、エアー軸受け10が圧送するのはエアーに限られず、本ステージ装置が配置されている雰囲気の気体を圧送することができる。例えば、本ステージ装置が窒素雰囲気中にある場合には、エアー軸受け10は窒素ガスを圧送できる。
【0035】
定圧エアー噴出用ライン38は、スライダ4上面の各噴出口A,B,C,Dから所定圧力のエアーを噴出させる為のレギュレータ38aと、スライダ4側面の噴出口Iを除く噴出口J,K,Lから同じく所定圧力のエアーを噴出させる為のレギュレータ38bと、スライダ4下面の噴出口E,F,G,Hから同じく所定圧力のエアーを噴出させる為のレギュレータ38cとを備える。
【0036】
可変圧エアー供給ライン40は、エア圧力を複数段階に設定可能なエア圧設定手段と、このエア圧設定手段において設定された複数段のエア圧の何れか一つを選択する選択手段とを備える。エア圧設定手段において設定するエア圧は所望の値に変更できる。具体的には、可変圧エアー供給ライン40は、4つのレギュレータ40a,40b,40c,40dと、当該各レギュレータ毎に設けられた電磁弁40e,40f,40g,40hとを備える。各レギュレータにおいては、互いに異なるエア圧が予め設定されており、これら4つのレギュレータを用いてエア圧を4段階に設定できる。レギュレータにおいて設定するエア圧は所望の値に変更できる。なお、レギュレータと電磁弁との対は複数あればよく、特に4つに限定されない。
【0037】
コントロールユニット12は、サーボアンプ42とコントローラ44とから構成されている。サーボアンプ42は、スケールセンサ36bが出力したスライダ4の位置信号に基づいてエンコーダ信号を出力する。コントローラ44は、カウンタ(アップ/ダウンカウンタ)46、メモリ48、及び制御部50を備える。カウンタ46は、サーボアンプ42が出力したエンコーダ信号をカウントアップ又はカウントダウンする。該カウンタ値は、スライダ4の位置情報と等価である。
【0038】
メモリ48には、予め制御テーブルが格納されている。制御テーブルでは、カウンタ値と、電磁弁選択情報とが対応付けられている。電磁弁選択情報とは、電磁弁40e〜40hの何れの電磁弁を開にするかを決定付ける制御情報である。制御部50は、メモリ48を参照して、カウンタ46のカウンタ値に対応する電磁弁選択情報を特定し、特定した電磁弁を開にする為の指令信号を該電磁弁に出力する。なお、図4中、一点鎖線は信号の流れを示す。
【0039】
上記の如く構成されたステージ装置の作用は次の通りある。
前提として、予めスライダ4のX軸方向の位置(カウンタ値)に対応するヨーング誤差をレーザ干渉計等で測定し、該誤差を補正できるような圧力をレギュレータ40a〜40dで4段階に設定し、どの位置でどのレギュレータを開とするかを表す制御テーブルをメモリ48に格納しておくものとする。
【0040】
このような制御テーブルは、各々のステージ装置に固有の機械誤差をキャンセルする為のものである。但し、レギュレータ40a〜40dにおいて設定するエア圧は所望の値に変更できるから、異なるステージ装置に対して、同一の制御テーブルを用いることもできると云う利便性がある。
【0041】
エアー軸受け10を稼動することにより、全ての噴出口A〜Hから圧縮エアーが噴出する。これにより、被ガイド面8とガイドレール面6との間にエアー膜が形成され、スライダ4がレール14,16間で浮上する。これにより、被ガイド面8とガイドレール面6との間の摩擦が略ゼロとなり、スライダ4がガイドレール部材2に沿って移動自在となる。
【0042】
次いで、リニアモータ34を稼動することにより、固定子34aと可動子34bとによってスライダ4がレール14,16間で遊動可能に拘束されながら、X軸方向に移動する。遊動可能とは、スライダ4が揺動でき、且つX軸を除く方向に全体的に動ける状態を云う。
【0043】
スライダ4がX軸方向に移動する過程で、該スライダ4の位置信号が、スケールセンサ36bからサーボアンプ42に出力される。サーボアンプ42は、スケールセンサ36bが出力したスライダ4の位置信号に基づいてエンコーダ信号をカウンタ46に出力する。制御部50は、メモリ48を参照して、カウンタ46のカウンタ値に対応する電磁弁選択情報を特定する。そして制御部50は、特定した電磁弁選択情報に基づいて、スライダ4のヨーングを防止できるエア圧に設定されたレギュレータに対応する電磁弁を開にする為の指令信号を該電磁弁側に出力する。
【0044】
制御部50からの指令信号が電磁弁側に出力されると、該制御部50によって特定された電磁弁のみが開となり、それ以外の電磁弁が閉となる。これにより、その特定された電磁弁に対応するレギュレータに設定された圧力のエアーが噴出口Iから噴出する。これにより、スライダ4のヨーングが防止される。
【0045】
例えば、スライダ4に対して、図3の紙面に垂直な方向を向くZ軸まわりに右ネジ方向のヨーングをもたらす外乱モーメントが加わるようなX軸方向の位置においては、噴出口Iにおけるエア圧を、噴出口J,K,Lにおけるエア圧(一定)よりも大きくする。このことは、当該大きなエア圧に設定されたレギュレータに対応する電磁弁を開とすることにより行う。これにより、スライダ4には、当該外乱モーメントを相殺し又は減殺する補償モーメントが加わり、該スライダ4のヨーングが防止される。
【0046】
同様に、スライダ4に対して、Z軸まわりに左ネジ方向のヨーングをもたらす外乱モーメントが加わるような位置においては、噴出口Iにおけるエア圧を、噴出口J,K,Lにおけるエア圧(一定)よりも小さくする。このことは、当該小さなエアー圧に設定されたレギュレータに対応する電磁弁を開とすることにより行う。これにより、スライダ4には、当該外乱モーメントを相殺し又は減殺する補償モーメントが加わり、該スライダ4のヨーングが防止される。
【0047】
〔第2の実施の形態〕
図4は、第2の実施の形態を説明する為の模式図である。同様の構成要素に対しては同じ符号を付している。本ステージ装置は、図3における電磁弁とレギュレータとの複数の対に代えて、単一のエア圧可変手段を設けて構成したものである。エア圧可変手段としては、電空レギュレータ52を用いている。電空レギュレータ52は、圧力設定信号(指令信号)に基づいて弁の開度が連続的に調整できるように構成されてなる。
【0048】
コントローラ44のメモリ54には、カウンタ値と、圧力設定情報とが予め対応付けられて格納されている。圧力設定情報とは、電空レギュレータ52に設定するエア圧を決定付ける制御情報である。
【0049】
このステージ装置によれば、スライダ4がX軸方向に移動する過程で、制御部50は、メモリ48を参照して、カウンタ46のカウンタ値に対応する圧力設定情報を特定する。そして、制御部56は、特定した圧力設定情報に基づいて、圧力設定信号を電空レギュレータ52に出力する。これにより、電空レギュレータ52においては該圧力設定信号に対応したエア圧力が設定される。そして、設定された圧力のエアーが噴出口Iから噴出する。これにより、スライダ4のヨーングが補償される。
【0050】
本ステージ装置では、図3に示したステージ装置に比べると、噴出口Iから供給されるエアーの圧力を無段階に連続的に制御できる。即ち、噴出口Iにおけるエア圧値を4段階ではなく自由な値に制御できる。従って、スライダ4の姿勢補償を一層きめ細かく行えると云う利点がある。
【0051】
〔第3の実施の形態〕
図5は、第3の実施の形態を説明する為の模式図である。同様の構成要素に対しては同じ符号を付している。本ステージ装置は、図3に示したステージ装置のサーボアンプ42及びカウンタ46に代えて、複数のフォトセンサ58a〜58cを設けて構成したものである。これらフォトセンサは、ガイドレール部材2の片側に、該ガイドレール部材に沿って所定間隔を隔てて配されている。便宜上、フォトセンサは3つ設けてあるが、特に個数は限定されない。各フォトセンサは、発光子及び受光子を備え、当該フォトセンサの配置位置をスライダ4が通過すると発光子からの光が遮光されることに基づいて固有のセンサ信号を出力する。
【0052】
コントローラ60のメモリ62には、センサ情報と、電磁弁選択情報とが予め対応付けられて格納されている。センサ情報は、フォトセンサの各々と1対1に対応する情報であり、スライダ4の位置情報と等価である。
【0053】
本ステージ装置によれば、スライダ4がX軸方向に移動する過程で、各フォトセンサから順次センサ信号が出力される。制御部64は、該センサ信号を出力したフォトセンサに対応する電磁弁選択情報を、メモリ62を参照して特定する。そして制御部64は、特定した電磁弁選択情報が表す電磁弁を開にする為の指令信号を電磁弁側に出力する。制御部50からの指令信号が電磁弁側に出力されると、該制御部50によって特定された電磁弁のみが開となり、それ以外の電磁弁が閉となる。これにより、その特定された電磁弁に対応するレギュレータに設定された圧力のエアーが噴出口Iから噴出して、スライダ4のヨーイングが防止される。
【0054】
本ステージ装置では、図3又は図4に示したステージ装置に比べると、コントローラ60にカウンタを備える必要がない。従って、コントローラ60は専用機として設計しなくとも、汎用性のあるパーソナルコンピュータやFAで用いられるシーケンサ等を用いて実現できると云う利点がある。
【0055】
〔第4の実施の形態〕
図6は、第4の実施の形態を説明する為の模式図である。同様の構成要素に対しては同じ符号を付している。本ステージ装置は、図5における電磁弁とレギュレータとの複数の対に代えて、単一の電空レギュレータ52を用いて構成したものである。コントローラ66のメモリ68には、センサ情報と、圧力設定情報とが予め対応付けられて格納されている。
【0056】
本ステージ装置によれば、スライダ4がX軸方向に移動する過程で、各フォトセンサから順次センサ信号が出力される。制御部70は、メモリ68を参照して、該センサ信号を出力したフォトセンサに対応する圧力設定情報を特定し、特定した圧力設定信号に基づいてヨーングを防止できるようなエア圧を電空レギュレータ52に設定する。そして、設定された圧力のエアーが噴出口Iから噴出することにより、スライダ4のヨーイングが防止される。
【0057】
以上説明した第1〜4の実施の形態によるステージ装置は、スライダ4のX軸方向の位置を検出する位置検出手段としてリニアスケール36又はフォトセンサ58a,58b,58cを備える。記憶手段としてのメモリ48,54,62,68には要するに、スライダ4のX軸方向の位置を表す位置情報と、該位置におけるスライダ4に対して、ヨーングを相殺し又は減殺できるような予め求められた対面方向力を加える制御を行う為の制御情報と、が対応付けられて格納されている。対面方向力は、噴出口Iにおけるエア圧によって発生する。対面方向力がスライダ4に加わると、ヨーングモーメントをキャンセルするような補償モーメントが発生する。
【0058】
制御部50,56,64,70は、位置検出手段の検出結果に対応する制御情報をメモリから取得し、該取得した制御情報に基づいて噴出口Iにおけるエア圧に強弱をつけることにより、スライダ4のヨーング誤差を補正する。即ち、噴出口J,K,Lにおけるエア圧は一定であるから、噴出口Iにおけるエア圧に強弱をつけることで、スライダ4に加わるY軸方向の力にアンバランスが生じる。その結果、スライダ4には重心を通るZ軸まわりの補償モーメントが加わり、該スライダ4のヨーングが防止される。制御部50,56,64,70が行うこのような制御は、いわゆる開ループ制御である。
【0059】
〔第5の実施の形態〕
図7は、第5の実施の形態を説明する為の模式図である。同様の構成要素に対しては同じ符号を付している。本ステージ装置は、スライダ4の姿勢情報を検出する為に、被ガイド面6とガイドレール面8との距離を検出する非接触型の距離センサ72a〜72dを備えている。距離センサ72a〜72dの配設位置は、スライダ4のY軸方向の両側面である。各側面のX軸方向両隅にそれぞれ距離センサ72a,72b;72c,72dが設けられてあり、スライダ4は合計4つの距離センサ72a〜72dを搭載している。
【0060】
なお、要はスライダ4の姿勢情報が検出できればよく、距離センサの配設位置や個数は任意である。距離センサは、ガイドレール部材2側に設けてもよい。非接触型の距離センサとしては、静電容量型のセンサや、三角法を用いたレーザセンサ等を用いることができる。
【0061】
本ステージ装置によれば、スライダ4がX軸方向に移動する過程で、全ての距離センサ72a〜72dからのセンサ信号がコントローラ74に出力される。これら距離センサ72a,72b,72c,72dのセンサ信号は、それぞれ図14に示した距離A,B,C,Dを表す。従って、これらのセンサ信号に基づいて、スライダ4の平面視における姿勢を知ることができる。
【0062】
コントローラ74は、全てのセンサ信号に基づいてスライダ4の姿勢を演算により求め、該演算結果から該スライダ4のヨーングを防止できるようなエア圧に設定されたレギュレータを特定する。そして、コントローラ74は、該特定したレギュレータに対応する電磁弁を開とし、その他の電磁弁を閉とする指令信号を送る。これにより、噴出口Iからスライダ4のヨーングを防止できるようなエア圧でエアーが噴出する。
【0063】
〔第6の実施の形態〕
図8は、第6の実施の形態を説明する為の模式図である。同様の構成要素に対しては同一の符号を付している。本ステージ装置は、図7に示したステージ装置における電磁弁とレギュレータとの複数の対に代えて、電空レギュレータ52を備えたものである。
【0064】
本ステージ装置によれば、スライダ4がX軸方向に移動する過程で、コントローラ74は、距離センサ72a〜72dからのセンサ信号に基づいてスライダ4の姿勢を演算し、演算結果基づいてスライダ4のヨーングを防止できるようなエア圧を電空レギュレータ52に設定する。これにより、噴出口Iからスライダ4のヨーング運動を防止できるようなエア圧でエアーが噴出する。
【0065】
〔第7の実施の形態〕
図9は、第7の実施の形態を説明する為の模式図である。同様の構成要素に対しては同一の符号を付している。本ステージ装置では、噴出口I,J,K,Lの全てから一定圧力のエアーが噴出する。従って、エアー軸受け10は、可変圧エアー供給ライン40を備えていない。なお、図9において定圧エアー噴出用ライン38は図示省略している。
【0066】
但し、スライダ4には、噴出口I,J,K,Lとガイドレール面6との距離をそれぞれ調節する為のピエゾ素子78a,78b,78c,78dが設けられている。即ち、Y軸方向にエアーを噴出する各噴出口とピエゾ素子とが一対になっている。ピエゾ素子は、これに流された電流値に応じて伸縮する。ピエゾ素子が伸びたときは、これと対をなす噴出口とガイドレール面6との距離が小さくなる。逆に、ピエゾ素子が縮んだときは、これと対をなす噴出口とガイドレール面6との距離が大きくなる。
【0067】
本ステージ装置によれば、スライダ4がX軸方向に移動する過程で、コントローラ80は、距離センサ72a〜72dからのセンサ信号に基づいてスライダ4の姿勢を演算し、演算結果基づいて、該スライダ4のヨーングを防止できるような指令信号(電流信号)をピエゾ素子78a,78b,78c,78dの少なくとも何れか一つに出力する。このようにしてコントローラ80は、何れかのピエゾ素子を制御して該ピエゾ素子と対をなす噴出口とガイドレール面6との距離を調節することにより、スライダ4のヨーングを補正する。
【0068】
具体的には、X軸方向の或る位置において、スライダ4に対して、その重心を通り図9の紙面に垂直な方向を向くZ軸まわりに右ネジ方向の外乱モーメントが加わるとする。すると、A>B、D>Cとなる(図15参照)。この場合は、(イ)噴出口Iと対をなすピエゾ素子78aを伸ばすこと、(ロ)噴出口Kと対をなすピエゾ素子78cを伸ばすこと、(ハ)噴出口Jと対をなすピエゾ素子78bを縮めること、(ニ)噴出口Lと対をなすピエゾ素子を縮めること、の少なくとも何れかによって外乱モーメントをキャンセルできる。
【0069】
例えば、(イ)噴出口Iと対をなすピエゾ素子78aを伸ばすことにより、噴出口Iとガイドレール面6との距離が小さくなる。噴出口Iから噴出するエアーの圧力は一定であるから、該噴出口Iとガイドレール面6との距離が小さくなると、その分スライダ4は大きな反力を受ける。つまり、噴出口におけるエアー圧を一定にする場合、スライダ4が受ける反力の大きさは、噴出口とガイドレール面との距離に依存する。そして、その反力によってスライダ4には補償モーメントが加わり、該補償モーメントが外乱モーメントをキャンセルすることにより、スライダ4のヨーングが補正される。なお、上記(イ)〜(ニ)の全てを行うと、スライダ4の応答スピードが増し、該スライダ4のヨーイングを迅速に補償できる。
【0070】
以上のように、本ステージ装置において、スライダ4は、嵌合部26,28に設けられ、ガイドレール面6との間に、該ガイドレール面6との距離に依存する対面方向力を作用させる距離依存力生成部たる噴出口I,J,K,Lと、各噴出口I,J,K,Lとガイドレール面6との距離を調節する為の距離調節手段たるピエゾ素子78a,78b,78c,78dとを有する。コントローラ80は、ピエゾ素子78a,78b,78c,78dの少なくとも何れかを制御して噴出口とガイドレール面6との距離を調節することにより、対面方向力を調整してスライダのヨーイングを補正する距離制御手段として機能する。
【0071】
なお、距離依存力としては距離の2乗に反比例する磁力も挙げられる。磁性体の磁束密度を制御する必要がないから、必ずしもコイルを用いなくてよい。即ち、距離依存力生成部に永久磁石を設け、ガイドレール面6側にも永久磁石を設けて、スライダの姿勢誤差を補償できる。永久磁石の磁束密度は略一定であるが、ピエゾ素子を用いて、スライダ4側の永久磁石をガイドレール面側の永久磁石に近づけることにより、スライダ4には大きな対面方向力(反力)が加わり、逆にスライダ4側の永久磁石をガイドレール面側の永久磁石から遠ざけることにより、スライダ4には小さな対面方向力(反力)が加わる。このようにして対面方向力を調整できる。
【0072】
以上説明した、第5〜7の実施の形態によるステージ装置は、スライダ4の姿勢情報を検出する姿勢情報検出手段として、非接触距離センサ72a〜72bを備える。コントローラ74,76,80は、センサ72a〜72bからの姿勢情報(センサ信号)に基づいて、噴出口Iにおけるエア圧に強弱をつけるか、ピエゾ素子を制御する。何れによっても、相対面方向力が調整され、これによってスライダ4のヨーングが補正される。そしてまた、そのスライダ4の姿勢が検出され、検出結果が姿勢にリアルタイムにフィードバックされてゆく。コントローラ74,76,80が行うこのような制御は、いわゆる閉ループ制御である。
【0073】
閉ループ制御を行う第5〜第7の実施の形態によれば、専らステージ装置の機械誤差等を補正する為の制御テーブルを記憶したメモリを用意する必要がない。また、ステージの機械誤差によらない外乱に対しても対応できるという利点がある。即ち、例えば、スライダ4にθステージ等の別のスライダを係合させて複合ステージを構成するときに、該別のステージの移動に伴って、基本構成のX軸スライダ4を揺動させようとする外乱モーメントが発生した場合であっても、該外乱モーメントをリアルタイムに補正できる。
【0074】
〔第8の実施の形態〕
図10は、第8の実施の形態を説明する為の模式図である。同様の構成要素に対しては、同じ符号を付している。本ステージ装置は、図3に示したステージ装置において、噴出口I,J,K,Lの全てにおけるエア圧を可変としたものである。従って、本ステージ装置は、噴出口Iにおけるエア圧を調整する為の可変圧エアー噴出用ライン40に加え、噴出口Jにおけるエア圧を調整する為の可変圧エアー噴出用ライン82、噴出口Kにおけるエア圧を調整する為の可変圧エアー噴出用ライン84、噴出口Lにおけるエア圧を調整する為の可変圧エアー噴出用ライン86を更に備える。
【0075】
コントローラ88のメモリには、図11に示すような制御テーブルが予め記憶されている。制御テーブルでは、スライダ4のX軸方向の位置情報であるカウンタ値と、電磁弁選択情報1〜4とが対応付けられている。電磁弁選択情報1;2;3;4はそれぞれ、電磁弁40e〜40h;82e〜82h;84e〜84h;86e〜86hの何れを開とするかを決定付ける制御情報である。
【0076】
本ステージ装置によれば、スライダ4がX軸方向に移動する過程で、制御部は、メモリを参照して、カウンタのカウンタ値に対応する電磁弁選択情報1〜4を特定し、特定した電磁弁選択情報1〜4に基づいて電磁弁側に指令信号を出力する。制御部50からの指令信号が電磁弁側に出力されると、スライダ4のヨーイングを防止できるようなエア圧に設定されたレギュレータに対応する電磁弁のみが開となり、それ以外の電磁弁が閉となる。これにより、その特定された電磁弁に対応するレギュレータに設定された圧力のエアーが噴出口Iから噴出する。
【0077】
例えば、スライダ4に対して、図10の紙面に垂直な方向を向くZ軸まわりに右ネジ方向のヨーングをもたらす揺動モーメントが加わるようなX軸方向の位置においては、噴出口I及び噴出口Kにおけるエア圧を大きくする一方、噴出口J及び噴出口Lにおけるエア圧を小さくする。同様に、スライダ4に対して、Z軸まわりに左ネジ方向のヨーングをもたらす揺動モーメントが加わるようなX軸方向の位置においては、噴出口I及び噴出口Kにおけるエア圧を小さくする一方、噴出口J及び噴出口Lにおけるエア圧を大きくする。
これにより、スライダ4には、当該揺動モーメントを相殺し又は減殺する補償モーメントが加わり、該スライダ4のヨーングが防止される。
【0078】
本ステージ装置においては、噴出口I〜Lの全てにおけるエア圧を制御することとしたから、噴出口Iのみのエア圧を制御する場合に比べて、スライダ4の応答スピードが増し、該スライダ4のヨーイングを迅速に補正できると云う利点がある。
【0079】
以上、スライダ4のヨーイングを補正する場合について説明した。ガイドレール面6と被ガイド面8とはZ軸方向にも相対面しているから、上記と同様な方法でスライダ4のピッチング及びローリングを補正できる。
【0080】
スライダ4のY軸まわりの揺動運動であるピッチング(図16(b)参照)であれば、Z軸方向のエア圧のバランスによってキャンセルできる。即ち、図2において、噴出口A,B,C,D,E,F,G,Hにおけるエア圧のバランスでピッチングを補正できる。具体的には、図2の右方向を向くY軸まわりに右ネジ方向のピッチングモーメントがスライダ4に加わっているとする。この場合は、(イ)噴出口E,Fにおけるエア圧を大きくすること、(ロ)噴出口C,Dにおけるエア圧を強くすること、(ハ)噴出口A,Bにおけるエア圧を小さくすること、(ニ)噴出口H,Gにおけるエア圧を小さくすること、の少なくとも何れかにより、該ピッチングモーメントをキャンセルできる。即ち、Y軸方向に隣合う噴出口のエア圧は同じとし、Y軸方向に隣合う噴出口の少なくとも一対におけるエア圧に強弱をつけることにより、ピッチングを補償できる。
【0081】
スライダ4のX軸まわりの揺動運動であるローリング(図16(c)参照)であれば、Z軸方向のエア圧のバランスによってキャンセルできる。即ち、図2において、噴出口A,B,C,D,E,F,G,Hにおけるエア圧のバランスでピッチングを補正できる。具体的には、図2の奥方向を向くX軸まわりに右ネジ方向のローリングモーメントがスライダ4に加わっているとする。この場合は、(イ)噴出口F,Gにおけるエア圧を大きくすること、(ロ)噴出口A,Dにおけるエア圧を強くすること、(ハ)噴出口B,Cにおけるエア圧を小さくすること、(ニ)噴出口E,Hにおけるエア圧を小さくすること、の少なくとも何れかにより、該ローリングモーメントをキャンセルできる。即ち、X軸方向に隣合う噴出口のエア圧は同じとし、X軸方向に隣合う噴出口の少なくとも一対におけるエア圧に強弱をつけることにより、ローリングを補償できる。
【0082】
また、ガイドレール面6と被ガイド面8とはY軸方向及びZ軸方向に相対面しているから、図16(d)に示すように、スライダが所定の姿勢を保ったまま、X軸を除く任意の方向に全体的に動くことも補正できる。例えば、スライダ4に対して、Z軸のマイナス方向(下方向)に全体的に移動しようとする外乱力が加わっている場合は、噴出口E,F,G,Hにおけるエア圧を強くすること、及び/又は噴出口A,B,C,Dにおけるエア圧を小さくすることにより該外乱力をキャンセルできる。同一のXY平面内にある噴出口のエア圧は同じとする。
【0083】
更に、スライダ4が揺動運動しながら全体的に動こうとする外乱力が該スライダ4に加わっている場合でも、各噴出口におけるエア圧を調整し、全体としてのエア圧のバランスを、該外乱力をキャンセルできるように制御すればよい。これにより、スライダ4の真直度誤差を補正できる。
【0084】
以上のような制御を閉ループ制御(フィードバック制御)で実現する場合には、スライダ4の三次元的な姿勢を検出する為に、スライダ4における被ガイド面8のY軸方向両側面のみならず、被ガイド面8のZ軸方向表裏面にも、ガイドレール面6との距離を検出する非接触型の距離センサを設けるのは云うまでもない。
【0085】
なお、ガイドレール面と被ガイド面とが相対面する方向の力である対面方向力は、エア圧のみならず、ガス圧、油圧その他の流体圧によっても発生させることができる。また、対面方向力は、電磁場によっても発生させることができる。
【0086】
以上、実施の形態によるステージ装置の基本構成について説明した。基本構成は、X軸方向のリニアステージであるが、該基本構成を用いて複合ステージを構成できる。例えば、スライダ4にY軸方向に移動可能にY軸スライダを係合させれば、XYステージを構成できる。この場合、本発明をY軸スライダ側にも適用すれば、該Y軸スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差も補正できるのは云うまでもない。更にθステージを用いて、Xθステージ装置、XYθステージ装置等様々な複合ステージを構成できる。
【0087】
【発明の効果】
本発明によれば、非接触軸受け手段を用いたステージ装置において、スライダの揺動誤差や真直度誤差などの姿勢誤差を防止できる。また本発明によれば、ステージ装置の機械精度に依存せずに、スライダを高精度に移動できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態によるステージ装置の基本構成を示す模式図。(a)は斜視概略図。
【図2】スライダの一形態を示す図。
【図3】実施の形態によるステージ装置における制御系を説明する為の模式図。
【図4】別の実施の形態によるステージ装置における制御系を説明する為の模式図。
【図5】更に別の実施の形態によるステージ装置における制御系を説明する為の模式図。
【図6】更に別の実施の形態によるステージ装置における制御系を説明する為の模式図。
【図7】更に別の実施の形態によるステージ装置における制御系を説明する為の模式図。
【図8】更に別の実施の形態によるステージ装置における制御系を説明する為の模式図。
【図9】更に別の実施の形態によるステージ装置における制御系を説明する為の模式図。
【図10】更に別の実施の形態によるステージ装置における制御系を説明する為の模式図。
【図11】メモリに格納されている制御テーブルの一例を説明する為の図。
【図12】従来のステージ装置を示す模式図。
【図13】スライダがヨーングする様子を説明する為の図。
【図14】従来のステージ装置におけるヨーイング誤差の測定結果を示す図。
【図15】エアー軸受けにてスライダが浮上保持された状態を平面方向からみた模式図。
【図16】スライダの運動形態を説明する為の模式図。
【符号の説明】
2…ガイドレール部材、4…スライダ、6…ガイドレール面、8…被ガイド面、10…エアー軸受け(流体圧送手段)、12…コントロールユニット(制御手段)、36b…リニアセンサ(位置検出手段)、50,56,64,70…制御部(開ループ制御手段)、48,54,62,68…メモリ(記憶手段)、58a,58b,58c…フォトセンサ(位置検出手段)、74,76,80…コントローラ(閉ループ制御手段)、72a,72b,72c,72d…距離センサ(姿勢検出手段)、78a,78b,78c,78d…ピエゾ素子(距離調節手段)、80…コントローラ(距離制御手段)、A,B,C,D,E,F,G,H…噴出口、I,J,K,L…噴出口(距離依存力生成部)。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a stage device that moves a substrate or other moving object to a target position, and particularly to a stage device that requires high movement accuracy.
[0002]
[Prior art]
The basic configuration of the stage device illustrated in FIG. 12 previously devised by the inventor includes a pair of
[0003]
If another slider is added to the above basic configuration, a so-called composite stage can be configured. The configuration of the composite stage is optional. For example, an XY stage can be configured by engaging a Y-axis slider movable in the Y-axis direction with the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
This type of stage device has a feature that by providing a static pressure air bearing as a bearing means, it is possible to improve the positioning accuracy and the movement accuracy of a moving object as compared with a stage device using a contact type bearing. Was something. However, there is a need in the art for further improvement in positioning accuracy. In particular, when a liquid crystal display substrate or the like, which has been increasing in size in recent years, is used as a moving target, a slight error in the movement accuracy greatly affects the processing accuracy of the substrate. Therefore, it is an important issue how to accurately move such a moving object.
[0005]
The inventor has conducted intensive studies to improve the movement accuracy of a moving object. In this type of stage device, as shown schematically in FIG. I found that there is. When the mirror M for measuring the yaw angle was actually attached to the
[0006]
According to the inventor, the mechanism of yaw generation is considered as follows.
FIG. 15 schematically shows a state where the
[0007]
However, the straightness of the
[0008]
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-22448, for example, when a slider is translated using a pair of parallel linear motors, each linear motor is independently controlled to prevent yaw of the slider. Technology has also been proposed. However, in this technique, the configurations of the control system and the drive system become complicated, and it is difficult to say that a small straightness error of the guide rail itself can be finely and reliably corrected by the translation control. .
[0009]
Further, only the yawing of the slider can be prevented by the technique disclosed in the above publication. However, the slider held floating in a non-contact manner is not only a yawing (see FIG. 16A) that swings around the Z axis, but also a pitching that swings around the Y axis (see FIG. 16B). In addition, there is a possibility that rolling (see FIG. 16C) which is swinging about the X axis is performed. Here, the deviation of the slider from the ideal reference trajectory due to the slider oscillating will be referred to as an oscillating error.
[0010]
In addition to such a swinging motion, as shown in FIG. 16D, it is conceivable that the
[0011]
An object of the present invention is to provide a technique for preventing a posture error such as a swing error and a straightness error of a slider in a stage device using a non-contact bearing means. It is another object of the present invention to provide a technique for moving a slider with high accuracy without depending on the mechanical accuracy of a stage device.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
According to a first aspect of the invention to achieve the above object, a guide rail member having a strip extending in one axial direction, a guide rail surface formed on the strip, and a fitting fitted to the strip. A slider having a mating portion and a guided surface facing the guide rail surface formed at the fitting portion, wherein the guide rail surface and the guided surface are brought into a non-contact state. Thus, in the stage device in which the slider is movable in the uniaxial direction along the strip, when the slider moves, a swing error and / or a straightness error of the slider is covered with the guide rail surface. There is provided a stage device provided with a control unit that performs control for correcting with a facing direction force that is a force in a direction facing a guide surface.
[0013]
Non-contact bearing means that allow the slider to move in one axial direction along the strip by making the guide rail surface and the guided surface in a non-contact state include a hydrostatic bearing and a magnetic bearing. The facing force can be generated by fluid pressure or electromagnetic force.
[0014]
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, there is provided a fluid pumping means for pumping a fluid from one of the guide rail surface and the guided surface toward the other, and the control means includes a controller for controlling the flow of the fluid. A stage device is provided which performs control for correcting a swing error and / or a straightness error of the slider by the facing force based on pressure.
[0015]
In the case where the facing force is generated based on the fluid pressure, compared with the case where the facing force is generated based on the electromagnetic field, there is no influence of the error due to the non-uniform magnetization of the magnetic material, and the guide rail surface is covered. Highly accurate attitude control of the slider can be performed by the averaging effect of the fluid film formed in the area facing the guide surface.
[0016]
In one aspect of the invention, the control means controls the pressure of the fluid pumped by the fluid pumping means to adjust the facing force to correct the swing error and / or straightness error of the slider. Fluid pressure control means.
The non-contact bearing means may be the same as the fluid pumping means, or may be different.
[0017]
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, further comprising an electromagnetic force generating means for applying an electromagnetic force between the guide rail surface and the guided surface, wherein the control means comprises A stage device is provided which performs control for correcting a swing error and / or a straightness error of the slider by the facing force based on an electromagnetic force.
[0018]
When the facing force is generated based on the electromagnetic force, there is an advantage that the attitude error of the slider can be compensated even in a vacuum.
[0019]
In one aspect of the invention, the control means controls the electromagnetic force by the electromagnetic field generating means to adjust the facing direction force to correct a swing error and / or a straightness error of the slider. Including control means. The electromagnetic force generating means can be constituted by a permanent magnet or a coil.
The non-contact bearing means may be the same as or different from the electromagnetic force generating means.
[0020]
According to a fourth aspect of the present invention, in the first to third aspects, the slider is provided in the fitting portion and depends on a distance between the guide rail surface and the guide rail surface. A distance-dependent force generator that applies the facing direction force; and a distance adjuster that adjusts a distance between the distance-dependent force generator and the guide rail surface. A distance control for adjusting a facing direction force to correct a swing error and / or a straightness error of the slider by controlling a unit to adjust a distance between the distance dependent force generating unit and the guide rail surface. A stage device is provided that includes the means.
[0021]
In one embodiment of the present invention, the distance-dependent force generation unit is an ejection port that ejects a fluid having a constant pressure toward the guide rail surface. In this case, the reaction force received by the slider itself depends on the distance between the ejection port and the guide rail surface.
[0022]
In another aspect of the invention, the distance-dependent force generating unit is a magnetic force generating unit that generates a constant attractive force or a repulsive force with the guide rail surface. A permanent magnet can be used for the magnetic force generating unit. Also in this case, the reaction force received by the slider itself depends on the distance between the magnetic force generating portion and the guide rail surface.
[0023]
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, there is provided position detecting means for detecting the position of the slider in the one axial direction, and the control means detects the position of the slider in the one axial direction. Storage means for storing the position information to be represented and control information for performing the control for applying the predetermined facing force to the slider at the position in association with each other, and when the slider moves, By obtaining control information corresponding to the detection result of the position detection means from the storage means, and performing control for applying the predetermined facing force based on the obtained control information, the swing error of the slider is obtained. And / or open loop control means for correcting the straightness error.
[0024]
According to a sixth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the apparatus further comprises attitude information detecting means for detecting attitude information of the slider, wherein the control means detects the attitude when the slider moves. A stage apparatus is provided that includes closed-loop control means for controlling the facing force in accordance with the attitude information detected by the means to correct a swing error and / or a straightness error of the slider.
[0025]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[First Embodiment]
1A and 1B show a basic configuration of a stage device according to an embodiment.
The basic configuration of this stage device is a linear stage in which a
[0026]
The
[0027]
As shown in FIG. 2, the
[0028]
Note that the
[0029]
As shown in FIG. 2, the
[0030]
The
[0031]
In the present embodiment, the
[0032]
FIG. 3 is a diagram schematically illustrating a configuration of a drive system and a control system of the stage device. As shown, the stage device includes a single
[0033]
The
[0034]
The above-described
[0035]
The constant-pressure
[0036]
The variable pressure
[0037]
The
[0038]
The control table is stored in the
[0039]
The operation of the stage device configured as described above is as follows.
As a premise, a yaw error corresponding to the position (counter value) of the
[0040]
Such a control table is for canceling a mechanical error unique to each stage device. However, since the air pressure set in the
[0041]
By operating the
[0042]
Next, by operating the
[0043]
While the
[0044]
When the command signal from the
[0045]
For example, at a position in the X-axis direction where a disturbance moment causing yaw in the right-hand screw direction is applied to the
[0046]
Similarly, at a position where a disturbance moment that causes yaw in the left-hand thread direction about the Z axis is applied to the
[0047]
[Second embodiment]
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the second embodiment. The same components are denoted by the same reference numerals. The present stage device is configured by providing a single air pressure variable unit instead of a plurality of pairs of the solenoid valve and the regulator in FIG. An
[0048]
The counter value and the pressure setting information are stored in the
[0049]
According to this stage device, while the
[0050]
In the present stage apparatus, the pressure of the air supplied from the ejection port I can be continuously and continuously controlled as compared with the stage apparatus shown in FIG. That is, the air pressure value at the injection port I can be controlled to an arbitrary value instead of four steps. Therefore, there is an advantage that the attitude compensation of the
[0051]
[Third Embodiment]
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the third embodiment. The same components are denoted by the same reference numerals. This stage device is configured by providing a plurality of
[0052]
The sensor information and the solenoid valve selection information are stored in the
[0053]
According to the present stage device, sensor signals are sequentially output from each photosensor in the process of moving the
[0054]
In the present stage device, it is not necessary to provide a counter in the
[0055]
[Fourth Embodiment]
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining the fourth embodiment. The same components are denoted by the same reference numerals. This stage device is configured by using a
[0056]
According to the present stage device, sensor signals are sequentially output from each photosensor in the process of moving the
[0057]
The stage devices according to the first to fourth embodiments described above include the
[0058]
The
[0059]
[Fifth Embodiment]
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining the fifth embodiment. The same components are denoted by the same reference numerals. The stage device includes non-contact
[0060]
The point is that it is only necessary to detect the attitude information of the
[0061]
According to the present stage device, sensor signals from all the
[0062]
The
[0063]
[Sixth Embodiment]
FIG. 8 is a schematic diagram for explaining the sixth embodiment. The same components are denoted by the same reference numerals. This stage device is provided with an
[0064]
According to this stage device, in the process of moving the
[0065]
[Seventh Embodiment]
FIG. 9 is a schematic diagram for explaining the seventh embodiment. The same components are denoted by the same reference numerals. In this stage device, air at a constant pressure is jetted from all of the jets I, J, K and L. Therefore, the
[0066]
However, the
[0067]
According to this stage device, in the process of moving the
[0068]
Specifically, at a certain position in the X-axis direction, it is assumed that a disturbance moment in the right-hand screw direction is applied to the
[0069]
For example, (a) the distance between the ejection port I and the
[0070]
As described above, in the present stage device, the
[0071]
The distance-dependent force includes a magnetic force that is inversely proportional to the square of the distance. Since it is not necessary to control the magnetic flux density of the magnetic body, it is not always necessary to use a coil. That is, a permanent magnet is provided in the distance-dependent force generating unit, and a permanent magnet is also provided on the
[0072]
The stage devices according to the fifth to seventh embodiments described above include the
[0073]
According to the fifth to seventh embodiments for performing the closed loop control, it is not necessary to prepare a memory exclusively storing a control table for correcting a mechanical error or the like of the stage device. Further, there is an advantage that it is possible to cope with a disturbance that is not caused by a mechanical error of the stage. That is, for example, when another slider such as a θ stage is engaged with the
[0074]
[Eighth Embodiment]
FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the eighth embodiment. The same components are denoted by the same reference numerals. This stage device is the same as the stage device shown in FIG. 3 except that the air pressure at all of the ejection ports I, J, K, and L is variable. Therefore, the present stage apparatus includes a variable pressure
[0075]
A control table as shown in FIG. 11 is stored in the memory of the
[0076]
According to the present stage device, in the process of moving the
[0077]
For example, at the position in the X-axis direction where a swinging moment causing yaw in the right-hand direction is applied to the
As a result, a compensation moment for canceling or reducing the swing moment is applied to the
[0078]
In this stage device, the air pressure in all of the ejection ports I to L is controlled, so that the response speed of the
[0079]
The case where yawing of the
[0080]
In the case of pitching (see FIG. 16B), which is a swinging motion of the
[0081]
In the case of rolling (see FIG. 16C), which is a swinging motion of the
[0082]
Also, since the
[0083]
Further, even when a disturbance force which tends to move the
[0084]
When the above-described control is realized by closed-loop control (feedback control), in order to detect the three-dimensional attitude of the
[0085]
The facing force, which is the force in the direction in which the guide rail surface and the guided surface face each other, can be generated not only by air pressure but also by gas pressure, hydraulic pressure, or other fluid pressure. The facing force can also be generated by an electromagnetic field.
[0086]
The basic configuration of the stage device according to the embodiment has been described above. Although the basic configuration is a linear stage in the X-axis direction, a composite stage can be configured using the basic configuration. For example, if the Y-axis slider is engaged with the
[0087]
【The invention's effect】
According to the present invention, in a stage device using non-contact bearing means, it is possible to prevent a posture error such as a slider swing error and a straightness error. Further, according to the present invention, the slider can be moved with high accuracy without depending on the mechanical accuracy of the stage device.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a basic configuration of a stage device according to an embodiment. (A) is a schematic perspective view.
FIG. 2 is a diagram showing one embodiment of a slider.
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a control system in the stage device according to the embodiment.
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a control system in a stage device according to another embodiment.
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a control system in a stage device according to still another embodiment.
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a control system in a stage device according to still another embodiment.
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a control system in a stage device according to still another embodiment.
FIG. 8 is a schematic diagram for explaining a control system in a stage device according to still another embodiment.
FIG. 9 is a schematic diagram for explaining a control system in a stage device according to still another embodiment.
FIG. 10 is a schematic diagram for explaining a control system in a stage device according to still another embodiment.
FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a control table stored in a memory.
FIG. 12 is a schematic view showing a conventional stage device.
FIG. 13 is a view for explaining how the slider yaws.
FIG. 14 is a diagram showing a measurement result of a yawing error in a conventional stage device.
FIG. 15 is a schematic view of a state in which the slider is levitated and held by an air bearing, as viewed in a plane direction.
FIG. 16 is a schematic diagram for explaining a movement mode of a slider.
[Explanation of symbols]
2 Guide rail member, 4 Slider, 6 Guide rail surface, 8 Guided surface, 10 Air bearing (fluid feeding means), 12 Control unit (control means), 36b Linear sensor (Position detecting means) .., 50, 56, 64, 70... Control unit (open loop control means), 48, 54, 62, 68... Memory (storage means), 58a, 58b, 58c. 80: controller (closed loop control means), 72a, 72b, 72c, 72d: distance sensors (posture detection means), 78a, 78b, 78c, 78d: piezo elements (distance adjustment means), 80: controller (distance control means) A, B, C, D, E, F, G, H ... outlets, I, J, K, L ... outlets (distance-dependent force generation unit).
Claims (6)
前記条部に嵌る嵌合部を有し、この嵌合部に前記ガイドレール面と相対面する被ガイド面が形成されてなるスライダと、を備え、
前記ガイドレール面と被ガイド面とが非接触状態とされることにより、前記スライダが前記条部に沿い前記一軸方向に移動自在となるステージ装置において、前記スライダが移動するときに、該スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を、前記ガイドレール面と被ガイド面とが相対面する方向の力である対面方向力によって補正する制御を行う制御手段を備えたことを特徴とするステージ装置。A guide rail member having a strip extending in a uniaxial direction, and a guide rail surface formed on the strip;
A slider having a fitting portion fitted to the ridge portion, and a guided surface formed on the fitting portion facing the guide rail surface;
In a stage device in which the guide rail surface and the guided surface are brought into a non-contact state so that the slider can move in the uniaxial direction along the strip, when the slider moves, A stage device comprising control means for performing control for correcting a swing error and / or a straightness error by a facing force which is a force in a direction in which the guide rail surface and the guided surface face each other. .
前記制御手段は、前記流体の圧力に基づく前記対面方向力によって、前記スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する制御を行うことを特徴とする請求項1記載のステージ装置。Fluid pumping means for pumping fluid from one of the guide rail surface and the guided surface toward the other,
2. The stage apparatus according to claim 1, wherein the control means performs control for correcting a swing error and / or a straightness error of the slider by the facing force based on a pressure of the fluid.
前記制御手段は、前記電磁力に基づく前記対面方向力によって、前記スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する制御を行うことを特徴とする請求項1又は2記載のステージ装置。Electromagnetic force generating means for applying an electromagnetic force between the guide rail surface and the guided surface,
3. The stage apparatus according to claim 1, wherein the control unit performs control for correcting a swing error and / or a straightness error of the slider by the facing force based on the electromagnetic force.
前記嵌合部に設けられ、前記ガイドレール面との間に、該ガイドレール面との距離に依存する前記対面方向力を作用させる距離依存力生成部と、
この距離依存力生成部と前記ガイドレール面との距離を調節する為の距離調節手段と、を有し、
前記制御手段は、前記距離調節手段を制御して前記距離依存力生成部と前記ガイドレール面との距離を調節することにより、前記スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する距離制御手段を含むことを特徴とする請求項1乃至3の何れか記載のステージ装置。The slider is
A distance-dependent force generating unit that is provided in the fitting unit and that applies the facing direction force that depends on a distance from the guide rail surface to the guide rail surface;
Distance adjusting means for adjusting the distance between the distance-dependent force generating unit and the guide rail surface,
The control means controls the distance adjustment means to adjust a distance between the distance-dependent force generation unit and the guide rail surface, thereby correcting a swing error and / or a straightness error of the slider. The stage device according to claim 1, further comprising a unit.
前記制御手段は、
前記スライダの前記一軸方向の位置を表す位置情報と、該位置におけるスライダに対して、予め定められた前記対面方向力を加える制御を行う為の制御情報と、を対応付けて記憶する記憶手段と、
前記スライダが移動するときに、前記位置検出手段の検出結果に対応する制御情報を前記記憶手段から取得し、該取得した制御情報に基づいて前記予め定められた対面方向力を加える制御を行うことにより、該スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する開ループ制御手段と、を含むことを特徴とする請求項1乃至4の何れか記載のステージ装置。A position detecting means for detecting the position of the slider in the uniaxial direction,
The control means includes:
Storage means for storing the position information indicating the position of the slider in the uniaxial direction and control information for performing control for applying the predetermined facing force to the slider at the position in association with each other; ,
When the slider moves, control information corresponding to a detection result of the position detection means is obtained from the storage means, and control for applying the predetermined facing force based on the obtained control information is performed. 5. The stage apparatus according to claim 1, further comprising: an open loop control unit that corrects a swing error and / or a straightness error of the slider.
前記制御手段は、前記スライダが移動するときに、前記姿勢検出手段によって検出された姿勢情報に基づいて、前記対面方向力を制御して、該スライダの揺動誤差及び/又は真直度誤差を補正する閉ループ制御手段を含むことを特徴とする請求項1乃至4の何れか記載のステージ装置。Posture information detecting means for detecting posture information of the slider,
The control unit controls the facing direction force based on the posture information detected by the posture detection unit when the slider moves, thereby correcting a swing error and / or a straightness error of the slider. 5. The stage device according to claim 1, further comprising a closed loop control unit that performs the control.
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