JP2004029136A5 - - Google Patents
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Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002181588A JP4116340B2 (ja) | 2002-06-21 | 2002-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
| TW092115358A TWI284779B (en) | 2002-06-07 | 2003-06-06 | Photosensitive resin composition |
| US10/455,459 US7214467B2 (en) | 2002-06-07 | 2003-06-06 | Photosensitive resin composition |
| EP03012226A EP1376232A1 (en) | 2002-06-07 | 2003-06-06 | Photosensitive resin composition |
| EP04019923A EP1480079A3 (en) | 2002-06-07 | 2003-06-06 | Photosensitive resin composition |
| KR1020030036576A KR100945003B1 (ko) | 2002-06-07 | 2003-06-07 | 감광성 수지 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002181588A JP4116340B2 (ja) | 2002-06-21 | 2002-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004029136A JP2004029136A (ja) | 2004-01-29 |
| JP2004029136A5 true JP2004029136A5 (US07297724-20071120-C00005.png) | 2005-09-29 |
| JP4116340B2 JP4116340B2 (ja) | 2008-07-09 |
Family
ID=31178384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002181588A Expired - Fee Related JP4116340B2 (ja) | 2002-06-07 | 2002-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4116340B2 (US07297724-20071120-C00005.png) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2009011364A1 (ja) * | 2007-07-18 | 2010-09-24 | 旭硝子株式会社 | 電子線、ｘ線またはｅｕｖ光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物 |
| JP5678864B2 (ja) | 2011-10-26 | 2015-03-04 | 信越化学工業株式会社 | ＡｒＦ液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP5846889B2 (ja) * | 2011-12-14 | 2016-01-20 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物 |
| JP5699943B2 (ja) | 2012-01-13 | 2015-04-15 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法及びレジスト材料 |
| JP6010564B2 (ja) | 2014-01-10 | 2016-10-19 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅型ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| JP6046646B2 (ja) | 2014-01-10 | 2016-12-21 | 信越化学工業株式会社 | オニウム塩、化学増幅型ポジ型レジスト組成物、及びパターン形成方法 |
| JP6142847B2 (ja) | 2014-06-09 | 2017-06-07 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| JP6531684B2 (ja) | 2015-04-13 | 2019-06-19 | 信越化学工業株式会社 | 新規オニウム塩化合物を用いた化学増幅型ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP6663677B2 (ja) * | 2015-10-06 | 2020-03-13 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸拡散制御剤 |
| JP6561937B2 (ja) | 2016-08-05 | 2019-08-21 | 信越化学工業株式会社 | ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP7009980B2 (ja) | 2016-12-28 | 2022-01-26 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP6922849B2 (ja) | 2018-05-25 | 2021-08-18 | 信越化学工業株式会社 | 単量体、ポリマー、ネガ型レジスト組成物、フォトマスクブランク、及びレジストパターン形成方法 |
| JP7365110B2 (ja) | 2018-09-11 | 2023-10-19 | 信越化学工業株式会社 | ヨードニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法 |
| JP7099250B2 (ja) | 2018-10-25 | 2022-07-12 | 信越化学工業株式会社 | オニウム塩、ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP7415972B2 (ja) | 2021-02-12 | 2024-01-17 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP2023177048A (ja) | 2022-06-01 | 2023-12-13 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP2023177272A (ja) | 2022-06-01 | 2023-12-13 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
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