JP2003531912A - 抗菌性化合物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
式（Ｉ）の保護されたハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルである化合物。式中、Ｘ1はハロゲンであり、Ｘ2は塩素又は臭素であり、Ｘ3は水素、塩素又は臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨＯ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２であり、Ｒはエーテル結合抑制基である。
【化１】
Description
【０００１】
本発明は、有害化合物又はダイオキシン関連化合物への転化を起こしにくい抗
菌性化合物に関する。
菌性化合物に関する。
【０００２】
Ｍｏｄｅｌらの米国特許第３８０００４８号及びＭｏｄｅｌらの米国特許第３
９０４６９６号には、制菌用のハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテル類が開
示されている。そのうち、ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）ＤＰ３００、すなわちＣ
ｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社（米国ニューヨーク州アーズレー）が生産している２，４
，４′−ジクロロ−２′−ヒドロキシジフェニルエーテルは工業用として広く知
られた制菌剤である。しかし、約２００℃を超える温度では、ＩＲＧＡＳＡＮ（
登録商標）ＤＰ３００エーテルは塩素化ダイオキシン、すなわち２，８−ジクロ
ロジベンゾ−ｐ−ダイオキシン（ＤＣＤＤ）へと転化するが、これはガンを始め
とする様々な健康に悪影響をもつと疑われている組成物に構造的に類似している
。
９０４６９６号には、制菌用のハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテル類が開
示されている。そのうち、ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）ＤＰ３００、すなわちＣ
ｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社（米国ニューヨーク州アーズレー）が生産している２，４
，４′−ジクロロ−２′−ヒドロキシジフェニルエーテルは工業用として広く知
られた制菌剤である。しかし、約２００℃を超える温度では、ＩＲＧＡＳＡＮ（
登録商標）ＤＰ３００エーテルは塩素化ダイオキシン、すなわち２，８−ジクロ
ロジベンゾ−ｐ−ダイオキシン（ＤＣＤＤ）へと転化するが、これはガンを始め
とする様々な健康に悪影響をもつと疑われている組成物に構造的に類似している
。
【０００３】
【化６】
【０００４】
そのため、用途によっては、高温処理を伴うプラスチック成形加工などでのＩ
ＲＧＡＳＡＮ（登録商標）エーテルの使用を避けるのが好ましいことがある。そ
こで、ダイオキシン関連化合物への転化を起こさずに、高温成形加工に使用でき
る抗菌性化合物がかねてから必要とされていたが、いまだ解決されていなかった
。
ＲＧＡＳＡＮ（登録商標）エーテルの使用を避けるのが好ましいことがある。そ
こで、ダイオキシン関連化合物への転化を起こさずに、高温成形加工に使用でき
る抗菌性化合物がかねてから必要とされていたが、いまだ解決されていなかった
。
【０００５】
本発明によれば、官能性保護基を与える化合物とハロゲン化ヒドロキシジフェ
ニルエーテルを反応させることで、プラスチック成形加工で通例用いられる高温
でハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルがダイオキシン関連化合物に転化す
るのを防止することができる。一実施形態では、化合物は次の式（Ｉ）の保護さ
れたハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルである。
ニルエーテルを反応させることで、プラスチック成形加工で通例用いられる高温
でハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルがダイオキシン関連化合物に転化す
るのを防止することができる。一実施形態では、化合物は次の式（Ｉ）の保護さ
れたハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルである。
【０００６】
【化７】
【０００７】
式中、Ｘ1はハロゲンであり、Ｘ2は塩素又は臭素であり、Ｘ3は水素、塩素又
は臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−
ＣＮ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨ
Ｏ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２であり、Ｒはエーテル結合抑制基
である。
は臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−
ＣＮ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨ
Ｏ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２であり、Ｒはエーテル結合抑制基
である。
【０００８】
本発明は、次の式（II）のハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルを保護基
供与化合物と反応させる工程を含む、保護されたハロゲン化ヒドロキシジフェニ
ルエーテルの製造方法も提供する。
供与化合物と反応させる工程を含む、保護されたハロゲン化ヒドロキシジフェニ
ルエーテルの製造方法も提供する。
【０００９】
【化８】
【００１０】
別の実施形態では、本発明は、プラスチック材料と式（Ｉ）の保護されたハロ
ゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルとを含んでなる抗菌性組成物、並びにプラ
スチック材料に式（Ｉ）の保護されたハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテル
の有効量を配合する工程を含んでなる抗菌性プラスチック材料の製造方法を提供
する。
ゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルとを含んでなる抗菌性組成物、並びにプラ
スチック材料に式（Ｉ）の保護されたハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテル
の有効量を配合する工程を含んでなる抗菌性プラスチック材料の製造方法を提供
する。
【００１１】
好ましい態様では、抗菌性化合物は次の式（Ｉ）の保護されたハロゲン化ヒド
ロキシジフェニルエーテルからなる。
ロキシジフェニルエーテルからなる。
【００１２】
【化９】
【００１３】
式中、Ｘ1はハロゲンであり、Ｘ2は塩素又は臭素であり、Ｘ3は水素、塩素又
は臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−
ＣＮ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨ
Ｏ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２であり、Ｒはエーテル結合抑制基
、例えばトリメチルシリル、ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル、トリフルオロアセチル、ペンタフルオロプロピオニル又はヘプタフルオ
ロブチリルなどである。Ｒのその他の例としては、Ｘ3とのエーテル結合形成反
応を抑制するメトキシ、メチル、アミノ及びニトロ基がある。
は臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−
ＣＮ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨ
Ｏ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２であり、Ｒはエーテル結合抑制基
、例えばトリメチルシリル、ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル、トリフルオロアセチル、ペンタフルオロプロピオニル又はヘプタフルオ
ロブチリルなどである。Ｒのその他の例としては、Ｘ3とのエーテル結合形成反
応を抑制するメトキシ、メチル、アミノ及びニトロ基がある。
【００１４】
式（Ｉ）の化合物としては次の式（III）の２，４，４′−トリクロロ−２′
−トリメチルシリルオキシジフェニルエーテルが好ましい。
−トリメチルシリルオキシジフェニルエーテルが好ましい。
【００１５】
【化１０】
【００１６】
式（Ｉ）の化合物は、次の式（II）のハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテ
ルを保護基供与化合物と反応させることにより製造できる。
ルを保護基供与化合物と反応させることにより製造できる。
【００１７】
【化１１】
【００１８】
式（II）において、Ｘ1はハロゲンであればよく、Ｘ2は塩素又は臭素であり、
Ｘ3は水素、塩素又は臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキ
ル、−ＣＨＯ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロ
ロメチル、−ＣＨＯ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２である。
Ｘ3は水素、塩素又は臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキ
ル、−ＣＨＯ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロ
ロメチル、−ＣＨＯ、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２である。
【００１９】
保護基供与化合物は、式（II）の水酸基（−ＯＨ）と反応して、２，２′位間
でのエーテル結合を生じるＸ3との反応を起こさない官能基を与える化合物であ
ればどんなものでもよい。保護基を与える反応はシリル化、アシル化又はアルキ
ル化などの適当なあらゆる反応でよい。
でのエーテル結合を生じるＸ3との反応を起こさない官能基を与える化合物であ
ればどんなものでもよい。保護基を与える反応はシリル化、アシル化又はアルキ
ル化などの適当なあらゆる反応でよい。
【００２０】
適当な保護基としては、トリメチルシリル、ブチルジメチルシリル及びｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルのようなシリル基がある。シリル化反応を行うのに好
ましい試薬としては、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド（Ｂ
ＳＴＦＡ）、Ｎ−又はＯ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（ＢＳＡ）、
ヘキサメチルジシラザン（ＨＤＭＳ）、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルトリ
フルオロアセトアミド（ＭＳＴＦＡ）、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリル）トリフルオロアセトアミド（ＭＴＢＳＴＦＡ）又はＮ−トリメチ
ルシリルイミダゾールがある。
ｔ−ブチルジメチルシリルのようなシリル基がある。シリル化反応を行うのに好
ましい試薬としては、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド（Ｂ
ＳＴＦＡ）、Ｎ−又はＯ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（ＢＳＡ）、
ヘキサメチルジシラザン（ＨＤＭＳ）、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルトリ
フルオロアセトアミド（ＭＳＴＦＡ）、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリル）トリフルオロアセトアミド（ＭＴＢＳＴＦＡ）又はＮ−トリメチ
ルシリルイミダゾールがある。
【００２１】
シリル化反応は、水の非存在下、ヘキサン、ベンゼン、エーテルなどの有機溶
剤中で実施できる。反応は適当な温度（例えば約１５〜５５℃の温度）で実施で
き、好ましくは室温で実施される。一般に、反応を約５分〜２時間以内に完了す
る。反応は望ましくは約２０分以内、好ましくは約５分以内に完了する。出発材
料に対するシリル化試薬の濃度はモル基準で１．０：１．０を超えてもよく、好
ましくは３．０：１．０を超える。
剤中で実施できる。反応は適当な温度（例えば約１５〜５５℃の温度）で実施で
き、好ましくは室温で実施される。一般に、反応を約５分〜２時間以内に完了す
る。反応は望ましくは約２０分以内、好ましくは約５分以内に完了する。出発材
料に対するシリル化試薬の濃度はモル基準で１．０：１．０を超えてもよく、好
ましくは３．０：１．０を超える。
【００２２】
また、アシル化反応を用いても保護基を付与することができる。アシル化は、
カルボン酸又はカルボン酸誘導体の作用を通して、ハロゲン化ヒドロキシジフェ
ニルエーテルの２′ヒドロキシル基をエステルへと転化させることができる。好
ましくはアシル化剤には、トリフルオロアセチルイミダゾール（ＴＦＡＩ）、ペ
ンタフルオロプロピオニルイミダゾン（ＰＦＰＩ）及びヘプタフルオロブチリル
イミダゾール（ＨＦＢＩ）などのペルフルオロアシルイミダゾールがある。
カルボン酸又はカルボン酸誘導体の作用を通して、ハロゲン化ヒドロキシジフェ
ニルエーテルの２′ヒドロキシル基をエステルへと転化させることができる。好
ましくはアシル化剤には、トリフルオロアセチルイミダゾール（ＴＦＡＩ）、ペ
ンタフルオロプロピオニルイミダゾン（ＰＦＰＩ）及びヘプタフルオロブチリル
イミダゾール（ＨＦＢＩ）などのペルフルオロアシルイミダゾールがある。
【００２３】
アシル化反応はヘキサン、ベンゼンなどの有機溶剤中、例えば約１５〜５５℃
の温度、好ましくは室温で実施できる。典型的には、反応は５分以内に完了する
が、反応時間を１時間に延ばしてもよい。出発材料に対するアシル化試薬の濃度
はモル基準で１．０：１．０を超えてもよく、好ましくは３．０：１．０を超え
る。
の温度、好ましくは室温で実施できる。典型的には、反応は５分以内に完了する
が、反応時間を１時間に延ばしてもよい。出発材料に対するアシル化試薬の濃度
はモル基準で１．０：１．０を超えてもよく、好ましくは３．０：１．０を超え
る。
【００２４】
もう一つの適当な保護基供与反応はアルキル化であり、ハロゲン化ヒドロキシ
ジフェニルエーテルの２′ヒドロキシル基の水素を脂肪族又は脂肪族−芳香族基
で置換する。適当なアルキル化剤の具体例として、ペンタフルオロベンジルブロ
ミド（ＰＦＢＢｒ）がある。
ジフェニルエーテルの２′ヒドロキシル基の水素を脂肪族又は脂肪族−芳香族基
で置換する。適当なアルキル化剤の具体例として、ペンタフルオロベンジルブロ
ミド（ＰＦＢＢｒ）がある。
【００２５】
アルキル化反応は、塩化メチレンのような適当な有機溶剤中でテトラブチルア
ンモニウムを対イオンとして実施することができる。反応は、例えば約１５〜５
５℃の温度、好ましくは室温で実施できる。典型的には、反応は５分以内に完了
するが、反応時間を２４時間に延ばしてもよい。出発材料に対するアルキル化試
薬の濃度はモル基準で１．０：１．０を超えてもよく、好ましくは３．０：１．
０を超える。
ンモニウムを対イオンとして実施することができる。反応は、例えば約１５〜５
５℃の温度、好ましくは室温で実施できる。典型的には、反応は５分以内に完了
するが、反応時間を２４時間に延ばしてもよい。出発材料に対するアルキル化試
薬の濃度はモル基準で１．０：１．０を超えてもよく、好ましくは３．０：１．
０を超える。
【００２６】
本発明のジフェニルエーテルは他の抗菌性物質と併用することもできる。例え
ば、本発明の化合物は、ハロゲン化サリチル酸アルキルアミド及びアニリド、ハ
ロゲン化ジフェニルウレア、ハロゲン化ベンズオキサゾール又はベンズオキサゾ
ロン、ポリクロロヒドロキシジフェニルメタン、ハロゲンジヒドロキシジフェニ
ルスルフィド、殺菌性２−イミノ−イミダゾリジン又はテトラヒドロピリミジン
、テトラメチルチウラムジスルフィドのような殺生性第四化合物又はある種のジ
チオカルバミン酸誘導体と共に使用できる。その他各種の抗菌性物質を単独又は
混合物として本発明のジフェニルエーテルと併用して、抗菌作用の幅を広げたり
、相乗効果を得たりすることができる。
ば、本発明の化合物は、ハロゲン化サリチル酸アルキルアミド及びアニリド、ハ
ロゲン化ジフェニルウレア、ハロゲン化ベンズオキサゾール又はベンズオキサゾ
ロン、ポリクロロヒドロキシジフェニルメタン、ハロゲンジヒドロキシジフェニ
ルスルフィド、殺菌性２−イミノ−イミダゾリジン又はテトラヒドロピリミジン
、テトラメチルチウラムジスルフィドのような殺生性第四化合物又はある種のジ
チオカルバミン酸誘導体と共に使用できる。その他各種の抗菌性物質を単独又は
混合物として本発明のジフェニルエーテルと併用して、抗菌作用の幅を広げたり
、相乗効果を得たりすることができる。
【００２７】
式（Ｉ）のジフェニルエーテルは、ペレット形成前のポリマーへの添加、又は
成形プロセスの溶融段階の直前又は途中に粉末形態のジフェニルエーテルの添加
によって、プラスチック組成物に配合することができる。ジフェニルエーテルは
、粉末形態でも、ペレットとしても、或いはジフェニルエーテル含有ペレットと
ジフェニルエーテルを含まないペレットとのブレンドとしても提供できる。
成形プロセスの溶融段階の直前又は途中に粉末形態のジフェニルエーテルの添加
によって、プラスチック組成物に配合することができる。ジフェニルエーテルは
、粉末形態でも、ペレットとしても、或いはジフェニルエーテル含有ペレットと
ジフェニルエーテルを含まないペレットとのブレンドとしても提供できる。
【００２８】
抗菌性化合物は、広範なプラスチック材料、例えば溶融押出可能な熱可塑性ポ
リマーに配合することができ、これらは溶融加工して不織布その他の賦形品に形
成することができる。「プラスチック材料」という用語は、熱硬化性材料及び熱
可塑性材料を包含する。特に有用な熱可塑性材料は、溶融押出での成形品の製造
に用いられるあらゆる熱可塑性ポリオレフィンを始めとする熱可塑性ポリオレフ
ィンである。具体例には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（１−ブテン）
、ポリ（２−ブテン）、ポリ（１−ペンテン）、ポリ（２−ペンテン）、ポリ（
３−メチル−１−ペンテン）、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）、１，２−ポ
リ−１，３−ブタジエン、１，４−ポリ−１，３−ブタジエン、ポリイソプレン
、ポリクロロプレン、ポリアクリロニトリル、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（塩化
ビニリデン）、ポリスチレンなどがある。２種以上のポリオレフィン及び共重合
体のブレンドも有用である。
リマーに配合することができ、これらは溶融加工して不織布その他の賦形品に形
成することができる。「プラスチック材料」という用語は、熱硬化性材料及び熱
可塑性材料を包含する。特に有用な熱可塑性材料は、溶融押出での成形品の製造
に用いられるあらゆる熱可塑性ポリオレフィンを始めとする熱可塑性ポリオレフ
ィンである。具体例には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（１−ブテン）
、ポリ（２−ブテン）、ポリ（１−ペンテン）、ポリ（２−ペンテン）、ポリ（
３−メチル−１−ペンテン）、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）、１，２−ポ
リ−１，３−ブタジエン、１，４−ポリ−１，３−ブタジエン、ポリイソプレン
、ポリクロロプレン、ポリアクリロニトリル、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（塩化
ビニリデン）、ポリスチレンなどがある。２種以上のポリオレフィン及び共重合
体のブレンドも有用である。
【００２９】
かかる抗菌性組成物は、他の適当な市販のプラスチック材料、例えばポリアミ
ド樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）熱可塑性樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリカーボネート−ＡＢＳブレンド、ＰＢＴ樹脂、アクリ
ル−スチレン−アクリロニトリル（ＡＳＡ）、ポリエーテルイミド、ＰＰＯと発
泡性ポリスチレン（ＥＰＳ）のインターポリマー、ポリフェニレンエーテル＋ポ
リスチレン（ＰＰＥ−ＰＰＳブレンド）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）
系ポリマー、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）系ポリマー、ＰＢＴとポリ
カーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン及びポリエチレンとのアロイブレンドと
共に使用できる。
ド樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）熱可塑性樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリカーボネート−ＡＢＳブレンド、ＰＢＴ樹脂、アクリ
ル−スチレン−アクリロニトリル（ＡＳＡ）、ポリエーテルイミド、ＰＰＯと発
泡性ポリスチレン（ＥＰＳ）のインターポリマー、ポリフェニレンエーテル＋ポ
リスチレン（ＰＰＥ−ＰＰＳブレンド）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）
系ポリマー、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）系ポリマー、ＰＢＴとポリ
カーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン及びポリエチレンとのアロイブレンドと
共に使用できる。
【００３０】
この実施形態では、抗菌性組成物は有効量の抗菌性化合物を含有する。ここで
いう「有効量」という用語は、使用時に望ましい抗菌活性を示す量である。様々
な実施形態で、抗菌性組成物は約０．００１〜５重量％、好ましくは約０．００
５〜３重量％、さらに好ましくは約０．０１〜１重量％の抗菌性化合物を含有し
得る。
いう「有効量」という用語は、使用時に望ましい抗菌活性を示す量である。様々
な実施形態で、抗菌性組成物は約０．００１〜５重量％、好ましくは約０．００
５〜３重量％、さらに好ましくは約０．０１〜１重量％の抗菌性化合物を含有し
得る。
【００３１】
当業者が本発明を理解し実施できるように、以下に実施例を示す。実施例は例
示のためのものであり、特許請求の範囲に規定される本発明を限定するものでは
ない。
示のためのものであり、特許請求の範囲に規定される本発明を限定するものでは
ない。
【００３２】
ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）制菌剤の修飾試料と非修飾試料とでダイオキシン
発生を比較した。ガスクロマトグラフィ−質量分析（ＧＣ−ＭＳ）法による非修
飾ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）制菌剤の分析中、たぶん２７０℃（５１８°Ｆ）
での材料の射出時に、２，８−ＤＣＤＤが生成したことが認められた。ＩＲＧＡ
ＳＡＮ（登録商標）の１０００ｐｐｍ溶液を射出したところ、約４６ｐｐｍのＤ
ＣＤＤが発生した。
発生を比較した。ガスクロマトグラフィ−質量分析（ＧＣ−ＭＳ）法による非修
飾ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）制菌剤の分析中、たぶん２７０℃（５１８°Ｆ）
での材料の射出時に、２，８−ＤＣＤＤが生成したことが認められた。ＩＲＧＡ
ＳＡＮ（登録商標）の１０００ｐｐｍ溶液を射出したところ、約４６ｐｐｍのＤ
ＣＤＤが発生した。
【００３３】
ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）制菌剤の分子構造を、ＢＳＴＦＡでの誘導体化に
より修飾した。１０００ｐｐｍのＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）溶液１．０ｍｌに
０．１ｍｌ容量のＢＳＴＦＡ（Ｓｕｐｅｌｃｏ社）を加えた。この修飾ＩＲＧＡ
ＳＡＮ（登録商標）溶液のＧＣ−ＭＳ分析ではダイオキシンレベルは検出されな
かった。
より修飾した。１０００ｐｐｍのＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）溶液１．０ｍｌに
０．１ｍｌ容量のＢＳＴＦＡ（Ｓｕｐｅｌｃｏ社）を加えた。この修飾ＩＲＧＡ
ＳＡＮ（登録商標）溶液のＧＣ−ＭＳ分析ではダイオキシンレベルは検出されな
かった。
【００３４】
修飾ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）制菌剤の抗菌活性を、Ｋｉｒｂｙ−Ｂａｕｅ
ｒ型アッセイにより非修飾材料の抗菌活性と比較した。ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商
標）制菌剤の溶液３種類と修飾ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）制菌剤の溶液３種類
（３ｐｐｍ、３０ｐｐｍ及び３０００ｐｐｍ）を調製し、約６ｍｍ径の円形Ｗｈ
ａｔｍａｎ濾紙に浸透させ、乾燥させた。濾紙を、菌数１×１０6の大腸菌（Ｅ
．ｃｏｌｉ）又は緑膿菌（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）を
接種した栄養寒天培地の表面に置いた。２４時間培養後に円形濾紙周囲の阻害領
域の直径を測定することによって、これらの化合物の細菌成長阻害力を求めた。
結果（表１）は、修飾ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）制菌化合物と非修飾ＩＲＧＡ
ＳＡＮ（登録商標）制菌化合物との間で活性に差がないことを示している。
ｒ型アッセイにより非修飾材料の抗菌活性と比較した。ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商
標）制菌剤の溶液３種類と修飾ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）制菌剤の溶液３種類
（３ｐｐｍ、３０ｐｐｍ及び３０００ｐｐｍ）を調製し、約６ｍｍ径の円形Ｗｈ
ａｔｍａｎ濾紙に浸透させ、乾燥させた。濾紙を、菌数１×１０6の大腸菌（Ｅ
．ｃｏｌｉ）又は緑膿菌（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）を
接種した栄養寒天培地の表面に置いた。２４時間培養後に円形濾紙周囲の阻害領
域の直径を測定することによって、これらの化合物の細菌成長阻害力を求めた。
結果（表１）は、修飾ＩＲＧＡＳＡＮ（登録商標）制菌化合物と非修飾ＩＲＧＡ
ＳＡＮ（登録商標）制菌化合物との間で活性に差がないことを示している。
【００３５】
【表１】
【００３６】
上述の構成要素の各々又はその２以上が、本明細書中で記載したものとは異な
る用途にも有用性をもつことが理解されよう。本発明を抗菌性化合物としての実
施形態について例示し説明してきたが、本発明の要旨から逸脱せずに様々な変更
や置換が可能であるので、本発明は本明細書に記載した詳細に限定されるもので
はない。例えば、必要に応じて本発明の化合物又は方法に関して追加の抗菌性物
質又は微生物抑制法を用いることができる。本明細書中では各種の化学薬剤、材
料及び反応成分の具体例を多数示したが、可能な事項が抜けていたとしても本発
明での使用を排除するものではない。本明細書中に開示した発明のその他の変形
や均等を想到することは通常の実験により当業者が容易になし得る事項であり、
かかる変更や均等はすべて本発明の技術的範囲に包含される。
る用途にも有用性をもつことが理解されよう。本発明を抗菌性化合物としての実
施形態について例示し説明してきたが、本発明の要旨から逸脱せずに様々な変更
や置換が可能であるので、本発明は本明細書に記載した詳細に限定されるもので
はない。例えば、必要に応じて本発明の化合物又は方法に関して追加の抗菌性物
質又は微生物抑制法を用いることができる。本明細書中では各種の化学薬剤、材
料及び反応成分の具体例を多数示したが、可能な事項が抜けていたとしても本発
明での使用を排除するものではない。本明細書中に開示した発明のその他の変形
や均等を想到することは通常の実験により当業者が容易になし得る事項であり、
かかる変更や均等はすべて本発明の技術的範囲に包含される。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０７Ｃ 69/63 Ｃ０７Ｃ 69/63
Ｃ０７Ｆ 7/18 Ｃ０７Ｆ 7/18 Ａ
Ｇ
Ｃ０８Ｋ 5/06 Ｃ０８Ｋ 5/06
Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ
，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，
ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ
Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ
，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，
ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，
ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ
Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ
，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，
ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，Ｊ
Ｐ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ
，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，
ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ
Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ
，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，
ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
(72)発明者 メイ，ラルフ・ジョセフ
アメリカ合衆国、12309、ニューヨーク州、
ニスカユナ、アルトン・ストリート、2303
番
Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB03 AB48 AC43
AC48 AC80 BJ50 BM30 BP10
BP60 GP03 GP06 GP22
4H011 AA02 BA01 BB03 BB06 BB16
BC19 DA02 DC05 DD07 DH02
4H049 VN01 VP01 VQ19 VR23 VR41
VS02 VU01 VU02 VU08 VU16
VW01
4J002 AC031 AC061 AC091 BB021
BB111 BB171 BC021 BD101
BF021 BG091 BN151 CF051
CG001 CH071 CL001 CM041
CN021 ED076 EX036 FD186
Claims (36)
- 【請求項１】 次の式（Ｉ）の保護されたハロゲン化ヒドロキシジフェニル
エーテルからなる化合物。 【化１】 式中、Ｘ1はハロゲンであり、Ｘ2は塩素又は臭素であり、Ｘ3は水素、塩素又は
臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−Ｃ
Ｎ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨＯ
、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２であり、Ｒはエーテル結合抑制基で
ある。 - 【請求項２】 Ｒがトリメチルシリル、ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル、トリフルオロアセチル、ペンタフルオロプロピオニル又
はヘプタフルオロブチリルである、請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】 Ｒが、Ｘ3とのエーテル結合の形成を抑制するメトキシ、メ
チル、アミノ又はニトロ基である、請求項１記載の化合物。 - 【請求項４】 Ｒが、Ｘ3とのエーテル結合の形成を抑制する脂肪族又は脂
肪族−芳香族基である、請求項１記載の化合物。 - 【請求項５】 Ｒが、Ｘ3とのエーテル結合の形成を抑制するアシル基であ
る、請求項１記載の化合物。 - 【請求項６】 Ｒがペンタフルオロベンジルである、請求項１記載の化合物
。 - 【請求項７】 ２，４，４′−トリクロロ−２′−トリメチルシリルオキシ
ジフェニルエーテルからなる、請求項１記載の化合物。 - 【請求項８】 次の式（II）のハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルを
保護基供与化合物と反応させる工程を含んでなる、保護されたハロゲン化ヒドロ
キシジフェニルエーテルの製造方法。 【化２】 式中、Ｘ1はハロゲンであり、Ｘ2は塩素又は臭素であり、Ｘ3は水素、塩素又は
臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−Ｃ
Ｎ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨＯ
、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２である。 - 【請求項９】 前記保護基供与化合物が化合物（II）の−ＯＨと反応してエ
ーテル結合抑制基を供与する、請求項８記載の方法。 - 【請求項１０】 前記保護基供与化合物が化合物（II）の−ＯＨと反応して
、次の式（Ｉ）の保護されたハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテルを形成す
る、請求項８記載の方法。 【化３】 式中、Ｘ1はハロゲンであり、Ｘ2は塩素又は臭素であり、Ｘ3は水素、塩素又は
臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−Ｃ
Ｎ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨＯ
、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２であり、Ｒはエーテル結合抑制基で
ある。 - 【請求項１１】 前記保護基供与化合物がシリル基を供与する、請求項８記
載の方法。 - 【請求項１２】 前記保護基供与化合物がトリメチルシリル、ブチルジメチ
ルシリル又はｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を供与する、請求項１１記載の
方法。 - 【請求項１３】 前記保護基供与化合物がビス（トリメチルシリル）トリフ
ルオロアセトアミド（ＢＳＴＦＡ）、Ｎ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミ
ド、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（ＢＳＡ）、ヘキサメチルジシ
ラザン（ＨＤＭＳ）、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルトリフルオロアセトア
ミド（ＭＳＴＦＡ）、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）ト
リフルオロアセトアミド（ＭＴＢＳＴＦＡ）又はＮ−トリメチルシリルイミダゾ
ールである、請求項８記載の方法。 - 【請求項１４】 前記保護基供与化合物がアシル化剤である、請求項８記載
の方法。 - 【請求項１５】 前記保護基供与化合物がペルフルオロアシルイミダゾール
である、請求項１４記載の方法。 - 【請求項１６】 前記保護基供与化合物がトリフルオロアセチルイミダゾー
ル（ＴＦＡＩ）、ペンタフルオロプロピオニルイミダゾン（ＰＦＰＩ）又はヘプ
タフルオロブチリルイミダゾール（ＨＦＢＩ）である、請求項１５記載の方法。 - 【請求項１７】 前記保護基供与化合物が脂肪族又は脂肪族−芳香族供与化
合物である、請求項８記載の方法。 - 【請求項１８】 前記保護基供与化合物がペンタフルオロベンジルブロミド
（ＰＦＢＢｒ）である、請求項１７記載の方法。 - 【請求項１９】 プラスチック材料と次の式（Ｉ）の保護されたハロゲン化
ヒドロキシジフェニルエーテルとを含んでなる抗菌性組成物。 【化４】 式中、Ｘ1はハロゲンであり、Ｘ2は塩素又は臭素であり、Ｘ3は水素、塩素又は
臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−Ｃ
Ｎ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨＯ
、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２であり、Ｒはエーテル結合抑制基で
ある。 - 【請求項２０】 前記抗菌性化合物を約０．００１〜５重量％含有する、請
求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項２１】 前記抗菌性化合物を約０．００５〜３重量％含有する、請
求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項２２】 前記抗菌性化合物を約０．０１〜１重量％含有する、請求
項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項２３】 前記プラスチック材料が溶融押出可能な熱可塑性ポリマー
である、請求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項２４】 前記プラスチック材料が熱硬化性ポリマー又は熱可塑性ポ
リマーである、請求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項２５】 前記プラスチック材料がポリオレフィンである、請求項１
９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項２６】 前記プラスチック材料がポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリ（１−ブテン）、ポリ（２−ブテン）、ポリ（１−ペンテン）、ポリ（２−
ペンテン）、ポリ（３−メチル−１−ペンテン）、ポリ（４−メチル−１−ペン
テン）、１，２−ポリ−１，３−ブタジエン、１，４−ポリ−１，３−ブタジエ
ン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ポリアクリロニトリル、ポリ（酢酸ビ
ニル）、ポリ（塩化ビニリデン）又はポリスチレンである、請求項１９記載の抗
菌性組成物。 - 【請求項２７】 前記プラスチック材料が複数のポリオレフィン又は共重合
体のブレンドである、請求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項２８】 前記プラスチック材料がポリカーボネートである、請求項
１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項２９】 ペレット又は粉末の形態にある請求項１９記載の抗菌性組
成物。 - 【請求項３０】 Ｒがトリメチルシリル、ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリル、トリフルオロアセチル、ペンタフルオロプロピオニル
又はヘプタフルオロブチリルである、請求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項３１】 Ｒが、Ｘ3とのエーテル結合の形成を抑制するメトキシ、
メチル、アミノ又はニトロ基である、請求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項３２】 Ｒが、Ｘ3とのエーテル結合の形成を抑制する脂肪族又は
脂肪族−芳香族基である、請求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項３３】 Ｒが、Ｘ3とのエーテル結合の形成を抑制するアシル基で
ある、請求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項３４】 Ｒがペンタフルオロベンジルである、請求項１９記載の抗
菌性組成物。 - 【請求項３５】 前記保護されたハロゲン化ヒドロキシジフェニルエーテル
が２，４，４′−トリクロロ−２′−トリメチルシリルオキシジフェニルエーテ
ルである、請求項１９記載の抗菌性組成物。 - 【請求項３６】 プラスチック材料に次の式（Ｉ）の保護されたハロゲン化
ヒドロキシジフェニルエーテルの有効量を配合する工程を含んでなる、抗菌性プ
ラスチック材料の製造方法。 【化５】 式中、Ｘ1はハロゲンであり、Ｘ2は塩素又は臭素であり、Ｘ3は水素、塩素又は
臭素であり、Ｘ4は塩素、臭素、炭素原子数１〜３のアルキル、−ＣＨＯ、−Ｃ
Ｎ又は−ＮＨ2であり、Ｘ5は塩素、臭素、メチル、トリクロロメチル、−ＣＨＯ
、−ＣＮ又は−ＮＨ2であり、ｎは１又は２であり、Ｒはエーテル結合抑制基で
ある。
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