JP2003506534A - 重合触媒 - Google Patents

重合触媒

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Abstract

(57)【要約】 支持イオン性メタロセン触媒は、(i)適する溶剤にて(a)メタロセン錯体と(b)100個までの水素原子を有すると共に活性水素を持った部分からなる少なくとも1種の置換基を含有するカチオンおよびアニオンからなるイオン性化合物と(c)必要に応じ支持体材料とを互いに混合し、(ii)工程(i)で得られた混合物を有機金属化合物で処理し、(iii)工程(i)で添加させなければ支持体材料を添加し、(iv)溶剤を除去する工程からなる方法により作成することができる。メタロセン錯体は典型的にはエチレンビスインデニルジルコニウム(II)錯体であり、得られる触媒はメルトインデックスの調節および広範囲の分子量分布にアクセスしうる気相にて使用するのに特に適する。向上した光学も作成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、オレフィンの重合に適する触媒、特に気相法にて操作するための利
点を与える支持メタロセン触媒に関するものである。
【0002】 近年、メタロセン触媒の導入に基づきポリオレフィンホモポリマーおよびコポ
リマーの製造にて多くの進歩がなされている。メタロセン触媒は一般に従来のチ
ーグラー触媒よりも高い活性の利点を与えると共に、一般に本質的に単一部位で
ある触媒として記載されている。数種の異なる種類のメタロセン錯体が開発され
ている。近年、ビス(シクロペンタジエニル)金属錯体に基づく触媒が開発され
、その例がEP129368号もしくはEP206794号に見られる。極く最
近、単一もしくはモノシクロペンタジエニル環を有する錯体が開発された。この
種の錯体は「拘束配置」錯体と称され、これら錯体の例をEP416815号も
しくはEP420436号に見ることができる。これら錯体の両者において、金
属原子(たとえばジルコニウム)は最高酸化状態にある。
【0003】 しかしながら、金属原子を減少酸化状態にしうる他の錯体も開発された。金属
が+2の酸化状態を有するビス(シクロペンタジエニル)およびモノ(シクロペ
ンタジエニル)錯体の例がWO96/04290号およびWO95/00526
号にそれぞれ記載されている。
【0004】 上記メタロセン錯体は、助触媒もしくは活性化剤の存在下における重合に用い
られる。典型的には活性化剤はアルモキサン、特にメチルアルモキサンまたは酵
素化合物に基づく化合物である後者の例は、たとえばトリアルキル置換アンモニ
ウムテトラフェニルボレートのようなボレートである。この種のボレート活性化
剤を混入した触媒系がEP561479号、EP418044号およびEP55
1277号に記載されている。
【0005】 上記メタロセン錯体は溶液相、スラリー相もしくは気相におけるオレフィンの
重合につき使用することができる。気相にて使用する場合、メタロセン錯体およ
び/または活性化剤を支持するのが適している。典型的な支持体は無機酸化物(
たとえばシリカ)を包含し、ポリマー支持体も代案として使用することができる
【0006】 メタロセン触媒の存在下にオレフィンを重合させる好適気相法は流動床にて操
作するものである。この種の方法において、メタロセン錯体により生成されるポ
リオレフィンの分子量は連鎖増大、連鎖停止および連鎖移行の競合速度により決
定される。これら速度は次いで触媒の固有速度論および反応環境により決定され
る。興味あるポリオレフィンを工業的に生産するには、触媒が高分子量ポリマー
を作成せねばならない。さらに、工業的反応器条件にて触媒は産業上興味あるポ
リマーの分子量を超える分子量を持たねばならず、従って分子量をたとえば水素
のような連鎖移動剤で所望値に制御できねばならない。
【0007】 WO98/27119号はカチオンとアニオンとからなるイオン性化合物から
なる支持触媒成分を記載しており、ここでアニオンは活性水素を有する部分から
なる少なくとも1個の置換基を含有する。この開示には、上記イオン性化合物を
トリアルキルアルミニウム化合物で処理した後に支持体およびメタロセンで処理
することにより触媒を作成する支持メタロセン触媒が例示されている。気相で使
用する場合この種の支持触媒は極めて活性であるが、生成ポリマーの分子量は工
業操作に要するものより低い。
【0008】 WO98/27119号は、(a)活性水素を持った部分からなる少なくとも
1個の置換基を含有するカチオンとアニオンとからなるイオン性化合物と、(b
)遷移金属化合物と、必要に応じ(c)支持体とからなる実質的に不活性な触媒
先駆体を有機金属化合物で処理することにより活性触媒を活性化させる方法をも
記載している。
【0009】 驚くことに今回、支持触媒への製造ルートおよびメタロセン触媒自身の性質を
慎重に選択することにより、或る種の架橋ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム錯体に基づく触媒および活性水素を有する部分からなる少なくとも1種の
置換基を持った硼素化合物に基づく活性化剤を気相法で使用して、ポリマーを工
業気相反応器にて所望の分子量分布で製造するよう連鎖移動速度を制御しうるこ
とを突き止めた。本発明の利点は、広範囲の分子量および分子量分布を支持触媒
およびその作成の慎重な選択により同じ気相法にて作成しうる点である。メルト
インデックス調節および向上した光学も本発明の支持触媒により一層容易となり
うる。
【0010】 本発明によれば、 (i)適する溶剤にて (a)式
【化2】 [式中、Cpはシクロペンタジエニルリガンドであり、 各R基はアルキルもしくはアリール置換基を示し、または2個のR基は互いに結
合して環を形成することができ、 Zは1〜20個の炭素原子を有するアルキリデン基からなる架橋基またはジアル
キルシリルもしくはゲルマニル基であり、 Mは+2フォーマル酸化状態におけるジルコニウムであり、 DはMと共にπ−錯体を形成する30個までの非水素原子を有する中性η結合
ジエン基であり、 nおよびmは同一もしくは異なるものであって0〜4に等しい] のメタロセンと、 (b)非水素原子を有すると共に活性水素を持った部分からなる少なくとも1個
の置換基を含有するカチオンおよびアニオンからなるイオン性化合物と、 (c)必要に応じ支持体材料と を互いに混合し、 (ii)工程(i)で得られた混合物を有機金属化合物で処理し、 (iii)工程(i)にて添加されなければ支持体材料を添加し、 (iv)溶剤を除去する 各工程からなる支持メタロセン触媒の製造方法が提供される。
【0011】 支持触媒作成に適する溶剤はトルエンである。
【0012】 好適メタロセン錯体は、ZがCHCHであると共に2個の隣接R基が互い
に結合して環を形成するものである。たとえば隣接R基はインデニルもしくはフ
ルオレニル環を形成することができる。
【0013】 Dリガンドは最も好ましくは次の基から選択される: s−trans−η,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン; s−trans−η−3−メチル−1,3−ペンタジエン; s−trans−η−1,4−ジベンジル−1,3−ブタジエン; s−trans−η−2,4−ヘキサジエン; s−trans−η−1,4−ジトリル−1,3−ブタジエン; s−trans−η−1,4−ビス(トリメチルシリル)−1,3−ブタジエ
ン; s−cis−η−1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン; s−cis−η−3−メチル−1,3−ペンタジエン; s−cis−η−2,4−ヘキサジエン; s−cis−η−2,4−ヘキサジエン; s−cis−η−1,3−ペンタジエン; s−cis−η−1,4−ジトリル−1,3−ブタジエン;および s−cis−η−1,4−ビス(トリメチルシリル)−1,3−ブタジエン (前記s−cisジエン基は金属と共にここに記載したπ−錯体を形成する)。
【0014】 外部置換されたジエン、特に1,4−ジフェニル置換ブタジエンが特に適して
いる。
【0015】 これら錯体の作成は、本発明に使用する代表的錯体の例をも示す上記WO96
/04290号に広範に記載されている。この開示の適する部分を参考のためこ
こに引用する。
【0016】 最も好適な錯体はエチレンビス(インデニル)ジルコニウム(II)1,4−
ジフェニルブタジエンである。
【0017】 イオン性化合物のカチオンは酸性カチオン、カルボニウムカチオン、シリリウ
ムカチオン、オキソニウムカチオン、有機金属カチオンおよびカチオン性酸化剤
よりなる群から選択することができる。
【0018】 適するカチオンはトリヒドロカルビル置換アンモニウムカチオン、たとえばト
リエチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ(n−ブチル)アンモ
ニウムなどのカチオンを包含する。さらに、たとえばN,N−ジメチルアニリニ
ウムカチオンのようなN,N−ジアルキルアニリニウムカチオンも適している。
【0019】 特に適するカチオンは三置換アンモニウム塩、特に少なくとも1個の比較的長
いアルキル基を含むもの、たとえばデシルジ(メチル)アンモニウムもしくはド
デシルジ(メチル)アンモニウムまたはメチルジ(オクタデシル)アンモニウム
などを含むものである。
【0020】 イオン性化合物のアニオンは硼素含有化合物である。
【0021】 特に好適なアニオンは三置換アリールボレートである。
【0022】 たとえばトリフェニル(ヒドロキシフェニル)ボレートもしくはトリフェニル
(2,4−ジヒドロキシフェニル)ボレートまたはトリ(ペンタフルオロフェニ
ル)(ヒドロキシフェニル)ボレートなどのアニオンが好適である。
【0023】 特に好適なイオン性化合物はビス(水素化タロウアルキル)メチルアンモニウ
ムトリス(ペンタフルオロフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)ボレートであ
る。
【0024】 適するイオン性化合物の例は、ここに引用する上記WO98/27119号に
開示されたものである。
【0025】 本発明の方法に用いられるメタロセン錯体とイオン性化合物とのモル比は1:
10000〜100:1の範囲とすることができる。好適範囲は1:5000〜
10:1、特に好ましくは1:10〜10:1である。
【0026】 有機金属化合物は典型的には周期律表第1〜14族の金属を含むものから選択
されるが、好適有機金属化合物はアルミニウムを含有するものである。特に好適
な有機金属化合物はトリアルキルアルミニウム化合物、たとえばトリメチルアル
ミニウム、トリエチルアルミニウムもしくはトリイソブチルアルミニウムである
【0027】 適する支持体は無機金属酸化物を包含し、或いは代案としてポリマー支持体も
使用することができる。
【0028】 本発明の方法により支持触媒と共に使用するのに最も好適な支持体材料はシリ
カである。適するシリカはクロスフィールドES70およびダビソン948シリ
カを包含する。
【0029】 支持体材料は、熱処理および/または化学処理を加えて支持体材料の水含有量
もしくはヒドロキシル含有量を減少させることができる。典型的には化学的脱水
剤は反応性金属水素化物、アルミニウムアルキルおよびハライドである。使用に
先立ち、支持体材料には100〜1000℃、好ましくは200〜850℃にて
不活性雰囲気中で減圧下に処理を加えることができる。
【0030】 支持体材料はさらに有機金属化合物、好ましくは有機アルミニウム化合物、特
に好ましくはトリアルキルアルミニウム化合物と希釈溶剤中で合することもでき
る。
【0031】 支持体材料は−20〜150℃、好ましくは20〜100℃の温度にて有機金
属化合物で予備処理される。
【0032】 予備処理支持体は、好ましくは本発明による支持触媒の作成に使用する前に回
収される。
【0033】 有機金属化合物で予備処理された支持体材料は、本発明のメタロセン/イオン
性化合物を活性化させるべく好適に使用することができる。この代案手順におい
ては、予備処理支持体を上記手順にて工程(i)から生ずる混合物と接触させる
【0034】 本発明の代案支持体は非孔質ポリスチレン、たとえばジビニルベンゼン架橋ポ
リスチレンである。
【0035】 本発明の支持触媒を製造するための好適方法においては、支持体材料を有機金
属化合物の添加後に添加する。
【0036】 すなわち、本発明の好適実施形態によれば、 (i)適する溶剤にて (a)前記式のメタロセンと、 (b)100個までの非水素原子を有すると共に活性水素を持った成分からなる
少なくとも1個の置換基を含有するカチオンおよびアニオンからなるイオン性化
合物と を互いに混合し、 (ii)工程(i)にて得られた混合物を有機金属化合物で処理し、 (iii)工程(ii)からの混合物を支持体材料と接触させ、 (iv)溶剤を除去する ことを特徴とする支持メタロセン触媒の製造方法が提供される。
【0037】 最も好適な支持体材料は有機金属化合物で予備処理されたシリカ、特に好まし
くはアルミニウムトリアルキル化合物で予備処理されたシリカである。
【0038】 さらに、特に好適なアルミニウムトリアルキルはトリイソブチルアルミニウム
であることも判明した。
【0039】 本発明の支持メタロセン触媒の好適作成においては、支持体材料を室温にて工
程(ii)からの混合物と接触させる。特に好適な作成においては、接触を高め
られた温度、たとえば55〜75℃の範囲にて行う。好適温度は60〜70℃の
範囲である。
【0040】 高められた温度にて工程(iii)を行うことにより、スケールアップを一層
容易に行うことができる。
【0041】 本発明の支持メタロセン触媒は気相で操作するのに最も適する。オレフィンを
重合させるための、特にエチレンの単独重合およびエチレンとα−オレフィン(
たとえば1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン)との共重合の
ための気相法は当業界にて周知されている。特に好適な気相法は流動床で操作す
るものである。この種の方法の例はEP89691号およびEP699213号
に記載されており、後者が本発明の支持触媒と共に使用するのに特に好適な方法
である。
【0042】 特に好適な重合方法はエチレンの重合またはエチレンと3〜10個の炭素原子
を有するα−オレフィンとの共重合からなるものである。好適α−オレフィンは
ブテンおよびヘキセンである。
【0043】 従って本発明の他面によれば、エチレンの重合またはエチレンと3〜10個の
炭素原子を有するα−オレフィンとの共重合のための気相法が提供され、この方
法は前記エチレンおよび前記α−オレフィンを上記したように作成された支持メ
タロセン触媒の存在下に重合させることからなっている。
【0044】 好適気相法は流動床にて行われる。
【0045】 本発明の支持触媒の使用により、ポリマーの分子量の調節を他の製造ルートか
らの支持メタロセン触媒を用いる方法と比較して達成することができる。
【0046】 たとえば上記WO98/27119号は、イオン性化合物を最初に有機金属化
合物で処理した後にメタロセン錯体と接触させる支持メタロセン触媒を例示して
いる。気相におけるこの種のメタロセン触媒の使用は、本発明の支持メタロセン
触媒の使用により得られるものよりも低い分子量を有するポリマーをもたらす。
【0047】 従って広範囲の分子量および分子量分布を、支持触媒およびその作成の慎重な
選択により同じ気相法にて達成することができる。
【0048】 以下、本発明を実施例を参照してさらに説明する。
【0049】実験の詳細 特記しない限り、全ての操作は不活性雰囲気下に窒素充填グローブボックスに
て或いは窒素下にシュレンク技術を用いて行った。
【0050】重合手順 2.5リットルの撹拌乾燥反応器(ADPR)を使用して、オレフィン重合活
性につき試験した。約10重量%のヘキセンを混入したエチレンコポリマを全て
の評価にて作成した。典型的実験においては、乾燥塩化ナトリウム(300〜4
00g)をN流動下にadprに添加して300rpmで撹拌した。エチレン
とヘキセンと水素とを流入させて、所要の気相組成物(典型的にはT=70℃、
pC=7バール、pC6/pC2として所要に応じポリマー中に10重量%コ
モノマーを得る)を確立する。水素(所要に応じ)を出発時点で1度に添加する
か、或いは一定比率としてエチレンに添加することができる。正確に秤量した触
媒量(0.04〜0.12g)を反応器中へ注入する。試験に際し、掃去剤の存
在が塩の床に必要とされることもあり、かつ/または触媒と共に注入することも
できる(アルキルアルミニウム処理シリカもしくはKHが適する掃去剤であり、
反応器および供給ガスの純度に応じて約1gまでのレベルにて必要とされる)。
気相組成を初期レベルに維持する(圧力を維持するのに要求されるエチレンを添
加すると共に、ヘキセンを添加してマススペクトロメトリーにより監視される気
相におけるC6/C2の比を維持する)。エチレン吸収を経時的に監視し、同じ
く他の検量(たとえば温度およびヘキセン吸収)をも監視する。活性は、90分
間にわたり測定されるg(ポリマー)g(触媒)−1hr−1bar−1として
示される。ポリマーを反応器から回収すると共に水またはエタノール/水で洗浄
し、次いで減圧オーブンにて乾燥させる。メルトフロー測定(MI)は、方法A
STM1238により決定した。
【0051】例1 含浸ポリスチレン支持触媒の作成: 2%ジビニルベンゼン架橋ポリスチレン(200〜400メッシュ、濃密ビー
ズ、ポリサイエンス・インコーポレイテッド社、20g)を2x50mlのトル
エンで洗浄した。溶剤を濾過により除去し、固体をシュレンク管に入れ、揮発物
を減圧下に除去した。ポンピングを14時間にわたり続けた。ビス(水素化タロ
ウアルキル)メチルアンモニウムトリス(ペンタフルオロフェニル)(4−ヒド
ロキシフェニル)ボレート(以下、イオン性化合物Aと称する)(0.8372
g)の50μモル/gトルエン溶液(41.9μモル)を、racエチレン架橋
インデニルジルコニウム(II)(1,4−ジフェニルブタジエン)(1.30
11g)の30μモル/gトルエン溶液(39.0μモル)に添加した。室温に
て30分間にわたり静置した後、得られた黄色溶液を洗浄(上記)2%DVB架
橋ポリスチレンビーズ(1.965%)に添加した。溶剤を減圧下で除去すると
共に、目に見えるガス放出が停止した後に3時間にわたりポンピングを続けた。
得られた黄色固体をADPRにて重合活性につき試験し、エチレン吸収は観察さ
れなかった(試験1)。
【0052】 上記黄色固体の全てにトルエンにおけるAlEt(50μl、366μモル
)(0.5g)を添加し、混合物を室温に30分間放置した。黄色固体は暗色と
なった。揮発物を減圧下に除去すると共に、ポンピングを14時間にわたり続け
た。得られた赤色/褐色固体をADPRにて試験した(試験2)。残留固体にト
ルエン(0.627g)におけるAlEt(0.1421g、1246μモル
)を添加した。混合物を室温にて20分間にわたり放置したが、明らかな色変化
はなかった。揮発物を減圧除去すると共に、得られた固体をADPRにて試験し
た(試験3)。
【0053】 例1(試験1〜3)につき試験したADPRの結果を下表1に示す。
【0054】
【表1】
【0055】例2 TEA処理された焼成シリカの作成 典型的作成において、クロスフィールドES70シリカ(15kg)をN
で500℃にて5時間にわたり焼成した。シリカにスタジス−425静電気防止
添加物(2g/ヘキサン1リットル)を添加して、シリカにおける150ppm
のスタジスを達成した。ステジス処理シリカにヘキサン(110リットル)を添
加した。シリカ/ヘキサンスラリーをヘキサン中でTEAにより処理し(ヘキサ
ン中0.985MのTEA22.8リットル、1.5ミリモルのTEA/gシリ
カ)、次いで混合物を撹拌しながら30℃に2時間維持した。ヘキサンをデカン
トし、シリカをヘキサンで洗浄し(ヘキサン洗浄液1リットル当たりAlレベル
<0.5ミリモルになるまで)、さらに60℃にて減圧下に残留溶剤<0.5重
量%まで乾燥させた。アルミニウム充填量を原子吸収分析により測定し、典型的
には約1mmモル/gである。
【0056】例3 トルエンにおける1.6mlの0.026M(EBI)Zr(dpbd)に、
トルエンにおける0.5mlの0.081Mイオン性化合物Aを添加した。混合
物を0.5時間にわたり静置させた。上記混合物を100mlのシュレンクフラ
スコにおける2.0gのEtAl処理ES−70シリカに添加し、粉末が均一
かつ自由流動性になるまで振とうした。粉末混合物を1時間放置し、次いで室温
にて減圧下に噴出が停止する点まで乾燥させた。2.25mlのヘキサンに、ヘ
キサン(アルドリッチ社)における125μlの1M EtAlを添加した。
EtAlのこのヘキサン溶液をシリカ混合物に定量的に添加すると共に、合し
た混合物を粉末が均一、乾燥かつ自由流動性となるまで撹拌した。混合物を約1
時間にわたり放置し、次いで溶剤を室温にて減圧下に粉末が噴出しなくなるまで
除去した。触媒をADPRにおける標準的反応条件下にオレフィン重合活性につ
き試験した。
【0057】例4(比較) イオン性化合物Aの0.081Mトルエン溶液0.8mlにトルエンにおける
40μlの1.76M EtAlを添加した。この混合物を100mlシュレ
ンクフラスコにおける2.0gのEtAl処理ES−70シリカに添加し、得
られた混合物を粉末が均一かつ自由流動性になるまで撹拌した。溶剤を室温にて
減圧下に、粉末が噴出しなくなる点まで除去した。この直後に、トルエンにおけ
る2.1mlの0.026M(EBI)Zr(dpbd)を添加すると共に、粉
末を再びこれが均一かつ自由流動性になるまで撹拌した。溶剤を室温にて減圧下
に粉末が噴出しなくなる点まで除去した。触媒をADPRにおける標準的反応条
件下にオレフィン重合活性につき試験した。
【0058】 例3および4に関する重合結果を表2に示す。
【0059】
【表2】
【0060】例5 racエチレン架橋インデニルジルコニウム(II)(1,4−ジフェニルブ
タジエン)(79μモル)の3.0mlの1.67%w/wトルエン溶液に、イ
オン性化合物A(119μモル)の1.61mlの9.7%w/wトルエン溶液
を添加した。溶液を室温にて30分間にわたり放置し、その間に色は赤色から黄
色/橙色まで変化した。この溶液に、トルエンにおける0.525mlのTMA
(131μモル)を添加した。混合物を室温にて15分間にわたり放置し、その
間に色は暗褐色まで変化した。これを3gのTEA処理クロスフィールドES7
0シリカに滴下した。溶液添加に際しシリカを絶えず撹拌し、これを目に見える
塊が残留しなくなるまで続けた。室温にて1時間混合した後、揮発物を室温にて
減圧下に除去した。ポンピングを目に見えるシリカのガス放出が停止した後に3
0分間にわたり続けた。灰色固体が得られた。
【0061】例6 racエチレン架橋インデニルジルコニウム(II)(ジフェニルブタジエン
)の3.0mlの1.67%w/wトルエン溶液(79μモル)に、イオン性化
合物A(119μモル)の1.61mlの9.7%w/wトルエン溶液を添加し
た。この溶液を室温にて30分間にわたり放置し、その間に色は赤色から黄色/
橙色まで変化した。この溶液に、トルエンにおける0.525mlの0.25M
TEA(131μモル)を添加した。混合物を室温にて15分間にわたり放置
し、その間に色は暗緑色まで変化した。これを3gのTEA処理クロスフィール
ドES70シリカに滴下した。溶液添加に際しシリカを絶えず撹拌し、これを目
に見える塊が残留しなくなるまで続けた。室温にて1時間にわたり静置した後、
揮発物を減圧除去した。ポンピングを目に見えるシリカのガス放出が停止した後
に30分間にわたり続けた。
【0062】例7 racエチレン架橋インデニルジルコニウム(II)(1,4−ジフェニルブ
タジエン)(79μモル)の3.0mlの1.67%w/wトルエン溶液に、イ
オン性化合物A(119μモル)の1.61mlの9.7%w/wトルエン溶液
を添加した。溶液を室温にて30分間放置し、その間に色は赤色から黄色/橙色
まで変化した。この溶液に、トルエンにおける0.525mlの0.25M T
iBAl(131μモル)を添加した。混合物を室温にて15分間にわたり放置
し、その間に色は暗黄色/緑色まで変化した。これを3gのTEA処理クロスフ
ィールドES70シリカに滴下した。溶液添加に際しシリカを絶えず撹拌し、こ
れを目に見える塊が残留しなくなるまで続けた。室温にて1時間にわたり混合し
た後、揮発物を室温にて減圧除去した。ポンピングを目に見えるシリカのガス放
出が停止した後に30分間持続した。灰色固体が得られた。
【0063】例8 10gのクロスフィールドES70シリカを窒素下で500℃にて5時間にわ
たり焼成した。これを50mlのヘキサンでスラリー化させ、次いでヘキサンに
おける15mlの0.99M TiBAl(1.5ミリモルTiBAl/gシリ
カ)で処理した。これを室温にて30分間にわたり混合し、濾過し、ヘキサン(
3x30ml)で洗浄し、室温にて減圧乾燥させた。AA分析によるAl測定は
0.89ミリモルAl/gを示した。
【0064】 racエチレン架橋インデニルジルコニウム(II)(1,4−ジフェニルブ
タジエン)(79μモル)の3.0mlの1.67%w/wトルエン溶液に、イ
オン性化合物A(119μモル)の1.61mlの9.7%w/wトルエン溶液
を添加した。溶液を室温にて30分間にわたり放置し、その間に色は赤色から黄
色/橙色まで変化した。この溶液に、0.495mlのトルエンにおける0.2
65M TiBAl(131μモル)を添加した。混合物を室温にて15分間に
わたり放置し、その間に色は暗緑色まで変化した。これを3gのTiBAl処理
クロスフィールドES70シリカ(上記に記載)に滴下した。溶液添加に際しシ
リカを絶えず撹拌し、これを目に見える塊が残留しなくなるまで続けた。室温に
て1時間にわたり混合した後、揮発物を室温にて減圧下に除去した。ポンピング
を目に見えるシリカのガス放出が停止した後に1時間にわたり持続した。灰色/
桃色固体が得られた。
【0065】例9 racエチレン架橋インデニルジルコニウム(II)(1,4−ジフェニルブ
タジエン)(1.325ミリモル)の49.9mlの1.67%w/wトルエン
溶液に、イオン性化合物A(1.987ミリモル)の26.82mlの9.7%
w/wトルエン溶液を添加した。溶液を室温にて30分間にわたり放置し、その
間に色は赤色から黄色/橙色まで変化した。この溶液に、トルエンにおける8.
75mlの0.25M TiBAl溶液(2.18ミリモル)を添加した。混合
物を室温にて15分間放置し、その間に色は暗緑色まで変化した。これを50g
のTEA処理クロスフィールドES70シリカに滴下した。溶液添加に際しシリ
カを絶えず撹拌し、これを目に見える塊が残留しなくなるまで続けた。60℃に
て室温で1時間にわたり混合した後、揮発物を60℃にて減圧下に除去した。ポ
ンピングを目に見えるシリカのガス放出が停止した後に30分間にわたり続けた
。灰色固体が得られた。
【0066】例10 racエチレン架橋インデニルジルコニウム(II)[1,4−ジフェニルブ
タジエン)[トルエンにおける10リットルの1.67%w/w溶液]に、トル
エンにおけるイオン性化合物A[4.8リットルの10.7%w/w溶液)を添
加した。溶液を30分間にわたり30℃で撹拌し、その間に色は赤色から黄色/
橙色まで変化した。この溶液に、Al(i−Bu)[トルエンにおける1.6
5リットルの0.27M溶液]を添加し、混合物を30℃にて1時間撹拌した。
この溶液をTEA処理シリカ(上記参照)(10kg)に定量的に添加し、1.
7mlトルエン/gシリカの最終組成を得た。含浸シリカの温度を60℃まで上
昇させ、これをその温度に1時間にわたり保持しながら、シリカを撹拌した。溶
剤を60℃にて減圧下に15〜20ミリバール(残留溶剤1〜2重量%)の最終
圧力に達するまで除去した。この触媒をADPR評価およびパイロットプラント
試験にかけた。
【0067】
【表3】
【0068】 例5〜10に関する重合結果を表3に示す。各触媒につき表に示した条件下で
多数の試験を行った。
【0069】
【表4】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT, AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,C H,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM,DZ ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM, HR,HU,ID,IN,IS,JP,KE,KG,K P,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU ,LV,MA,MD,MG,MK,MN,MW,MX, NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,S G,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ ,UA,UG,UZ,VN,YU,ZA,ZW (72)発明者 メアラレ,クリステル,マリー−クロード フランス国、エフ−13620 カリ ル ル ウェ、アレ デ ジュネ ドォール 3 (72)発明者 マンロー,アイアン,マッケンジー アメリカ合衆国、テキサス 77566、レイ ク ジャクスン、460 ハイウェイ 332 ウェスト 163 Fターム(参考) 4J028 AA01A AB00A AC28A BA00A BA02B BB00A BB01B BC12B BC15B EB02 EB03 EB09 FA04

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (i)適する溶剤にて (a)式 【化1】 [式中、Cpはシクロペンタジエニルリガンドであり、 各R基はアルキルもしくはアリール置換基を示し、または2個のR基は互いに結
    合して環を形成することもでき、 Zは1〜20個の炭素原子を有するアルキリデン基からなる架橋基またはジアル
    キルシリルもしくはゲルマニル基であり、 Mは+2フォーマル酸化状態におけるジルコニウムであり、 DはMと共にπ−錯体を形成する30個までの非水素原子を有する中性η結合
    ジエン基であり、 nおよびmは同一もしくは異なるものであって0〜4に等しい] のメタロセンと、 (b)非水素原子を有すると共に活性水素を持った部分からなる少なくとも1個
    の置換基を含有するアニオンからなるイオン性化合物と、 (c)必要に応じ支持体材料と を互いに混合し、 (ii)工程(i)で得られた混合物を有機金属化合物で処理し、 (iii)工程(i)にて添加されなければ支持体材料を添加し、 (iv)溶剤を除去する ことを特徴とする支持メタロセン触媒の製造方法。
  2. 【請求項2】 ZがCHCHであると共に2個の隣接R基が互いに結合
    して環を形成する請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 メタロセンがエチレンビス(インデニル)ジルコニウム(I
    I)1,4−ジフェニルブタジエンである請求項1または2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 イオン性化合物のカチオンが三置換アンモニウム塩であると
    共に、アニオンが三置換アリールボレートからなる請求項1〜3のいずれか一項
    に記載の方法。
  5. 【請求項5】 イオン性化合物がビス(水素化タロウアルキル)メチルアン
    モニウムトリス(ペンタフルオロフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)ボレー
    トである請求項4に記載の方法。
  6. 【請求項6】 有機金属化合物が周期律表第1−14族の金属からなる請求
    項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 【請求項7】 有機金属化合物がトリアルキルアルミニウム化合物である請
    求項6に記載の方法。
  8. 【請求項8】 支持体材料がシリカである請求項1〜7のいずれか一項に記
    載の方法。
  9. 【請求項9】 シリカを有機金属化合物で予備処理する請求項8に記載の方
    法。
  10. 【請求項10】 有機金属化合物がトリアルキルアルミニウム化合物である
    請求項9に記載の方法。
  11. 【請求項11】 (i)適する溶剤にて (a)請求項1に記載のメタロセン錯体と、 (b)100個までの非水素原子を有すると共に活性水素を持った部分からなる
    少なくとも1個の置換基を含有するカチオンおよびアニオンからなるイオン性化
    合物と を互いに混合し、 (ii)工程(i)にて得られた混合物を有機金属化合物で処理し、 (iii)工程(ii)からの混合物を支持体材料と接触させ、 (iv)溶剤を除去する ことを特徴とする支持メタロセン触媒の製造方法。
  12. 【請求項12】 有機金属化合物がトリイソブチルアルミニウムである請求
    項11に記載の方法。
  13. 【請求項13】 工程(iii)を高められた温度にて行う請求項11に記
    載の方法。
  14. 【請求項14】 温度が55〜75℃の範囲である請求項13に記載の方法
  15. 【請求項15】 エチレンの重合またはエチレンと3〜10個の炭素原子を
    有するα−オレフィンとの共重合のための気相法において、前記エチレンおよび
    前記α−オレフィンを請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法により作成さ
    れた支持メタロセン触媒の存在下に重合させることを特徴とする気相法。
  16. 【請求項16】 流動床にて行う請求項15に記載の気相法。
  17. 【請求項17】 α−オレフィンがブテンもしくはヘキセンである請求項1
    5または16に記載の気相法。
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