JP2003505250A - 材料の組合せから建築構成要素を準備する装置および方法 - Google Patents
材料の組合せから建築構成要素を準備する装置および方法Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、構成要素を材料の組合せから製造することができる生成的な製造方法および付属する装置に関する。この装置は、下降可能なビルディング・プラットホーム(2)を備える底部表面(1)と、ビルディング・プラットホーム(2)の上方の処理平面(3)内に第1の材料(4)を平坦化するための平坦化機構(5)と、レーザ・ビーム(11)を発光させるレーザ・ビーム光源と、処理平面(3)上にレーザ・ビーム(11)を集束させるための焦点光学システム(8)を備える処理ユニット(6)、および構成要素(14)の上方の処理平面(3)に平行な平面内の任意の所望の位置に処置ユニット(6)を位置決めすることができる位置決め機構を備える。また、この装置は、処理平面(3)から材料を吸引する吸引装置(10)および第2の材料(12)をレーザ・ビーム(11)の焦点範囲に持ってくる第2の材料(12)用の導入機構(9)を備える。この装置によって、任意の所望の複雑さを有し、ある機能に適合した構成要素を製造し、個別の領域を第2のより固い材料で作って堅固さを増加させたり、耐磨耗性を改善することができる。
Description
【0001】
本発明は、材料の組合せから構成要素、特に、例えば構成要素のある領域に特
殊な頑丈さを与えるために、相異なる領域が相異なる材料から製造される構成要
素を準備するための方法および装置に関する。
殊な頑丈さを与えるために、相異なる領域が相異なる材料から製造される構成要
素を準備するための方法および装置に関する。
【0002】
本方法は、いわゆる生成的(generative)製造プロセスの部類に属
する。従来、これらの製造プロセスは主に製品開発でのラピッド・プロトタイピ
ング(rapid prototyping)の領域で、製品開発期間を短縮し
、製品品質を向上させるために利用されてきた。これが可能なのは、ラピッド・
プロトタイピング・プロセスによって、3次元CADモデルから層状に試作品を
作ることができるからである。これらのプロセスによって、フライス加工または
エローディング(eroding)プロセス用のNCプログラムの極めて時間の
かかる設計および形成工具の製造が不要になる。
する。従来、これらの製造プロセスは主に製品開発でのラピッド・プロトタイピ
ング(rapid prototyping)の領域で、製品開発期間を短縮し
、製品品質を向上させるために利用されてきた。これが可能なのは、ラピッド・
プロトタイピング・プロセスによって、3次元CADモデルから層状に試作品を
作ることができるからである。これらのプロセスによって、フライス加工または
エローディング(eroding)プロセス用のNCプログラムの極めて時間の
かかる設計および形成工具の製造が不要になる。
【0003】
構成要素を積層して製造することの別の利点は、極めて複雑な構造を生産する
ことが可能であることである。このような層状での製造プロセスによって、従来
の製造プロセスでは不可能であった複雑な内部構造も製造することができる。
ことが可能であることである。このような層状での製造プロセスによって、従来
の製造プロセスでは不可能であった複雑な内部構造も製造することができる。
【0004】
この生成的プロセスを新規にまたは改良して開発することの目的は、ほとんど
連続した材料を、またさらには同質な連続した材料を処理することである。同質
な連続した材料を使用する場合、これらのプロセスは、ラピッド・プロトタイピ
ングの分野でだけでなく、連続した製品を製造するプロセス自体としても使用す
ることができる。
連続した材料を、またさらには同質な連続した材料を処理することである。同質
な連続した材料を使用する場合、これらのプロセスは、ラピッド・プロトタイピ
ングの分野でだけでなく、連続した製品を製造するプロセス自体としても使用す
ることができる。
【0005】
従来技術で知られている生成的製造プロセス、例えば、選択的レーザ・ビーム
溶融(SLPR)またはいわゆるレーザ・ビーム生成によって、連続したまたは
同一の金属材料から構成要素を作成することが、すでにできている。両プロセス
では、粉末状の材料を積層して金属製の構成要素を作成する。このプロセスによ
って、約100%の密度で構成要素を製造して、その堅固さをそれに応じて高く
することができる。しかし、これらのプロセスは両方とも、相異なる原理に基づ
いており、したがって、製造すべき構成要素は異なる制限を有する。
溶融(SLPR)またはいわゆるレーザ・ビーム生成によって、連続したまたは
同一の金属材料から構成要素を作成することが、すでにできている。両プロセス
では、粉末状の材料を積層して金属製の構成要素を作成する。このプロセスによ
って、約100%の密度で構成要素を製造して、その堅固さをそれに応じて高く
することができる。しかし、これらのプロセスは両方とも、相異なる原理に基づ
いており、したがって、製造すべき構成要素は異なる制限を有する。
【0006】
選択的レーザ溶融は、2段階のプロセスである。まず粉末状の金属材料の平ら
な層を部品プラット・ホーム上に付着させる。次に、層の作成すべき形状または
輪郭を、レーザでスキャンし、スキャンされた領域内で一軌跡毎に粉末を溶融さ
せる。このプロセスで、一層ごとに構成要素を製造する。
な層を部品プラット・ホーム上に付着させる。次に、層の作成すべき形状または
輪郭を、レーザでスキャンし、スキャンされた領域内で一軌跡毎に粉末を溶融さ
せる。このプロセスで、一層ごとに構成要素を製造する。
【0007】
DE 196 49 865 C1は、このようなプロセスの一例を記載して
いる。このプロセスでは、結合剤もフラックス添加物も含まない粉末状の金属材
料を構成要素のプラット・ホーム上に付着させ、構成要素の形状に応じた溶融温
度まで加熱する。レーザ・ビームのエネルギーは、レーザの当ったところで粉末
状の金属材料の全ての厚さが完全に溶融するように選択される。レーザ・ビーム
は、それぞれ次の軌跡が前の軌跡と部分的に重なり合うようにして、それぞれの
粉末状の金属材料層の所定の領域を覆う多数の軌跡内に導入される。それと同時
に、レーザ・ビームが粉末状の金属材料に当る領域上の保護ガス雰囲気を維持し
て、例えば酸化によって起こり得る欠陥を防ぐ。
いる。このプロセスでは、結合剤もフラックス添加物も含まない粉末状の金属材
料を構成要素のプラット・ホーム上に付着させ、構成要素の形状に応じた溶融温
度まで加熱する。レーザ・ビームのエネルギーは、レーザの当ったところで粉末
状の金属材料の全ての厚さが完全に溶融するように選択される。レーザ・ビーム
は、それぞれ次の軌跡が前の軌跡と部分的に重なり合うようにして、それぞれの
粉末状の金属材料層の所定の領域を覆う多数の軌跡内に導入される。それと同時
に、レーザ・ビームが粉末状の金属材料に当る領域上の保護ガス雰囲気を維持し
て、例えば酸化によって起こり得る欠陥を防ぐ。
【0008】
選択的レーザ・ビーム溶融プロセスによって、所望のどんな複雑な部品も正確
かつ高精度で製造することができる。
かつ高精度で製造することができる。
【0009】
しかし、このプロセスの基本的な欠点は、このプロセスで使用することができ
る材料の範囲が限定されていることである。特に、炭化物などの硬い材料を十分
に処理することができず、これらの材料では、100%の密度の構成要素を達成
することは難しい、または全く達成することができない。このプロセスの別の欠
点は、今までの粉末状の材料は、製造プロセス中は、すなわち完全な層を処理し
た後では、層状に変えることしかできず、処理中の層内を変えることができない
、ということである。すなわち、このプロセスでは、層内に局所的に他の材料を
持つ構成要素を作ることは不可能である。多くの適用例では、例えばより大きい
応力を特に受ける点では硬い材料で構成要素を強化することが望ましいことにな
る。
る材料の範囲が限定されていることである。特に、炭化物などの硬い材料を十分
に処理することができず、これらの材料では、100%の密度の構成要素を達成
することは難しい、または全く達成することができない。このプロセスの別の欠
点は、今までの粉末状の材料は、製造プロセス中は、すなわち完全な層を処理し
た後では、層状に変えることしかできず、処理中の層内を変えることができない
、ということである。すなわち、このプロセスでは、層内に局所的に他の材料を
持つ構成要素を作ることは不可能である。多くの適用例では、例えばより大きい
応力を特に受ける点では硬い材料で構成要素を強化することが望ましいことにな
る。
【0010】
レーザ・ビーム生成プロセスは、一段階プロセスである。このプロセスでは、
導入機構によって、作動材料を線材または粉末としてレーザ・ビームの焦点に連
続的に導入する。材料の導入およびエネルギーの供給は、レーザを介して同時に
行われる。材料が粉末の場合、金属粉末を、好ましくは不活性ガス流を介して粉
末ノズルに供給し、処理すべき点上にその焦点を合わせる。レーザ・ビームおよ
び導入機構は、互いに対して静止しており、各層での構成要素の製造すべき形状
または輪郭に従って移動する。この場合も、レーザ・ビームで対応する形状をス
キャンすることによって一層ごとに構成要素を製造する。
導入機構によって、作動材料を線材または粉末としてレーザ・ビームの焦点に連
続的に導入する。材料の導入およびエネルギーの供給は、レーザを介して同時に
行われる。材料が粉末の場合、金属粉末を、好ましくは不活性ガス流を介して粉
末ノズルに供給し、処理すべき点上にその焦点を合わせる。レーザ・ビームおよ
び導入機構は、互いに対して静止しており、各層での構成要素の製造すべき形状
または輪郭に従って移動する。この場合も、レーザ・ビームで対応する形状をス
キャンすることによって一層ごとに構成要素を製造する。
【0011】
このプロセスの選択的レーザ・ビーム溶融プロセスに対する利点は、主に多数
の金属材料をこのプロセスで処理することができることである。また、硬い材料
もこれによって容易に処理することができる。しかし、選択的レーザ・ビーム溶
融プロセスとは対照的に、このレーザ・ビーム発生プロセスによって生産するこ
とができる構成要素はほとんど複雑でないものにすぎない。すなわち、特に寸法
が1mm以下である精巧繊細な構成要素の場合、十分な精度を保証することはで
きない。
の金属材料をこのプロセスで処理することができることである。また、硬い材料
もこれによって容易に処理することができる。しかし、選択的レーザ・ビーム溶
融プロセスとは対照的に、このレーザ・ビーム発生プロセスによって生産するこ
とができる構成要素はほとんど複雑でないものにすぎない。すなわち、特に寸法
が1mm以下である精巧繊細な構成要素の場合、十分な精度を保証することはで
きない。
【0012】
本発明の目的は、構成要素の単一の領域を異なる材料製にすることができるよ
うにして、材料の組合せから複雑な構成要素を製造することができる装置および
プロセスを提供することである。
うにして、材料の組合せから複雑な構成要素を製造することができる装置および
プロセスを提供することである。
【0013】
この目的は、それぞれ請求項1に記載の装置または請求項11に記載の方法に
よって達成される。本装置および本方法の有利な実施形態は、従属請求項の主題
である。
よって達成される。本装置および本方法の有利な実施形態は、従属請求項の主題
である。
【0014】
選択的レーザ・ビーム溶融装置と同様に、本発明の装置は、構成要素用の下降
可能なビルディング・プラットホームを備える底部表面と、ビルディング・プラ
ットホームの上方に配置された処理平面内で第1の材料を平坦化する機構、およ
びレーザ・ビームを放射するレーザ光源を備える。また、レーザ・ビームを処理
表面上に集束させるための焦点光学システムを支承する処理ユニットが設けられ
ている。この処理ユニットは、位置決め機構を用いて、処理平面と平行な平面内
で移動する。したがって、この位置決め機構の目的は、製造すべき構成要素の形
状または輪郭に従って、レーザ・ビームを処理平面上でスキャニング移動させる
ことである。レーザ・ビーム光源は、処理ユニット上に直接配置しても、外側か
ら結合してもよい。従来技術で知られている選択的レーザ・ビーム溶融装置とは
対照的に、本発明の装置は、処理領域から材料を吸引するための吸引または吹き
飛ばしユニット、ならびに第2の材料を導入するための導入機構を備え、この導
入機構はこの第2の材料をレーザ・ビームの焦点領域内に導入する。この導入機
構は、処理中に処理平面内のレーザ・ビームの焦点領域内に導入される線状の材
料用の送り機構であってもよい。この導入機構はまた、粉末状のまたはペースト
状の第2の材料をレーザの焦点領域内に導入するノズルであってもよい。両方の
例において、好ましくは導入機構が処理ユニットに沿って動くようにして、導入
機構を処理ユニットに直接取り付ける。
可能なビルディング・プラットホームを備える底部表面と、ビルディング・プラ
ットホームの上方に配置された処理平面内で第1の材料を平坦化する機構、およ
びレーザ・ビームを放射するレーザ光源を備える。また、レーザ・ビームを処理
表面上に集束させるための焦点光学システムを支承する処理ユニットが設けられ
ている。この処理ユニットは、位置決め機構を用いて、処理平面と平行な平面内
で移動する。したがって、この位置決め機構の目的は、製造すべき構成要素の形
状または輪郭に従って、レーザ・ビームを処理平面上でスキャニング移動させる
ことである。レーザ・ビーム光源は、処理ユニット上に直接配置しても、外側か
ら結合してもよい。従来技術で知られている選択的レーザ・ビーム溶融装置とは
対照的に、本発明の装置は、処理領域から材料を吸引するための吸引または吹き
飛ばしユニット、ならびに第2の材料を導入するための導入機構を備え、この導
入機構はこの第2の材料をレーザ・ビームの焦点領域内に導入する。この導入機
構は、処理中に処理平面内のレーザ・ビームの焦点領域内に導入される線状の材
料用の送り機構であってもよい。この導入機構はまた、粉末状のまたはペースト
状の第2の材料をレーザの焦点領域内に導入するノズルであってもよい。両方の
例において、好ましくは導入機構が処理ユニットに沿って動くようにして、導入
機構を処理ユニットに直接取り付ける。
【0015】
しかし、第1の処理平面内に第1の材料を分散させるのと同じ機構または追加
の機構によって、導入機構を形成してもよい。この場合は、第1の材料用の供給
タンクに加えて第2の材料用の供給タンクを設けなければならない。
の機構によって、導入機構を形成してもよい。この場合は、第1の材料用の供給
タンクに加えて第2の材料用の供給タンクを設けなければならない。
【0016】
もちろん、第2の材料だけでなく追加の材料もまた、上述の手段によって導入
することができる。
することができる。
【0017】
本プロセスの意図は、材料を一層ごとに付着させ、かつ溶融させて、構成要素
を積層して製造することである。少なくとも1つの層を製造することは、以下の
ステップを含む。すなわち、 a)構成要素用の下降可能なビルディング・プラットホームを覆う処理平面内
に第1の材料を一様に平らに分散させる。次に、第1材料で作ろうとしている、
構成要素のその(第1の)領域の処理平面上に集束させたレーザ・ビームによっ
て構成要素の製造すべき層の形状または輪郭をスキャンして、この第1の材料を
この領域内のスキャンされた形状に従って溶融させるようにする。
を積層して製造することである。少なくとも1つの層を製造することは、以下の
ステップを含む。すなわち、 a)構成要素用の下降可能なビルディング・プラットホームを覆う処理平面内
に第1の材料を一様に平らに分散させる。次に、第1材料で作ろうとしている、
構成要素のその(第1の)領域の処理平面上に集束させたレーザ・ビームによっ
て構成要素の製造すべき層の形状または輪郭をスキャンして、この第1の材料を
この領域内のスキャンされた形状に従って溶融させるようにする。
【0018】
b)次に、第2の材料でまたは第2の材料の化学コンパウンドから構成要素を
作ろうとしている、処理平面の第2の領域内から、この第1の材料を吸引、また
は吹き飛ばして、これらの領域内に第2の材料用の空き場所を作成できるように
する。
作ろうとしている、処理平面の第2の領域内から、この第1の材料を吸引、また
は吹き飛ばして、これらの領域内に第2の材料用の空き場所を作成できるように
する。
【0019】
c)これに続いて、第2の材料を処理平面の第2の領域内に付着させる。次に
、層の形状を第2の領域内の処理平面上に集束させたレーザ・ビームによってス
キャンし、第2の材料または第2の材料の化学コンパウンドを第2の領域内でス
キャンした形状に従って溶融させる。
、層の形状を第2の領域内の処理平面上に集束させたレーザ・ビームによってス
キャンし、第2の材料または第2の材料の化学コンパウンドを第2の領域内でス
キャンした形状に従って溶融させる。
【0020】
d)層を完成させた後、必要ならば、ビルディング・プラットホームを今製造
した層の厚さだけ下降させて次の層を付着させることができるようにする。
した層の厚さだけ下降させて次の層を付着させることができるようにする。
【0021】
結果として、それぞれの構成要素の層の形状または輪郭を持つ溶融冶金コンパ
ウンドの形をとる、溶融されて次に固化された第1および第2の材料の層ができ
る。第2の材料と同じやり方で、同じ層内に追加の材料を組み込むことができる
。この場合、他の材料を付着させる前に、吸引する、または吹き飛ばすことによ
って、追加の材料を付着させるつもりの領域から残った材料を取り除く。
ウンドの形をとる、溶融されて次に固化された第1および第2の材料の層ができ
る。第2の材料と同じやり方で、同じ層内に追加の材料を組み込むことができる
。この場合、他の材料を付着させる前に、吸引する、または吹き飛ばすことによ
って、追加の材料を付着させるつもりの領域から残った材料を取り除く。
【0022】
別個の導入機構を介してレーザの焦点領域内に第2の材料を集中させながら、
第2の材料で作るつもりである構成要素の層の形状または輪郭をレーザ・ビーム
でスキャンすることによって、第2の材料を付着させることができる。
第2の材料で作るつもりである構成要素の層の形状または輪郭をレーザ・ビーム
でスキャンすることによって、第2の材料を付着させることができる。
【0023】
しかし、例えばスクレーパを用いて、第1の材料と同じやり方で第2の材料を
付着させることもできる。
付着させることもできる。
【0024】
構成要素の追加の層は、ステップa)からc)またはd)をそれぞれ組合せた
ものか、それぞれステップa)またはc)によって、単一の材料のみのどちらか
で、製造することができる。
ものか、それぞれステップa)またはc)によって、単一の材料のみのどちらか
で、製造することができる。
【0025】
したがって、上記に述べたプロセスは、第1の材料のみ、または第2の材料の
みの単一の層を製造する可能性を与える。1つの層内で両方の材料を使用する場
合、まず、第1の材料をそれに対応する領域上で溶融させ、次に第2の材料を付
着させる。第2の材料をこの材料用の領域内に付着させて溶融させる前に、粉末
状の第1の材料を吸引機構または吹き飛ばし機構によって取り除く。任意選択と
して、各層を完成させた後、それに加えて、適切な研磨装置を用いて表面の平坦
化をすることができる。
みの単一の層を製造する可能性を与える。1つの層内で両方の材料を使用する場
合、まず、第1の材料をそれに対応する領域上で溶融させ、次に第2の材料を付
着させる。第2の材料をこの材料用の領域内に付着させて溶融させる前に、粉末
状の第1の材料を吸引機構または吹き飛ばし機構によって取り除く。任意選択と
して、各層を完成させた後、それに加えて、適切な研磨装置を用いて表面の平坦
化をすることができる。
【0026】
本発明のプロセスおよび付属する装置によって、所望のどんな複雑な構成要素
も製造することができ、構成要素の個々の領域を、異なる材料で作ることができ
る。すなわち、例えば特に応力を受ける点に第2の材料を使用することができる
。この第2の材料として耐応力材料を選択することが好都合である。このように
して、それぞれの機能に適合した材料を組合せて、一段階で構成要素を作ること
ができる。
も製造することができ、構成要素の個々の領域を、異なる材料で作ることができ
る。すなわち、例えば特に応力を受ける点に第2の材料を使用することができる
。この第2の材料として耐応力材料を選択することが好都合である。このように
して、それぞれの機能に適合した材料を組合せて、一段階で構成要素を作ること
ができる。
【0027】
したがって、構成要素の基本部分は、例えば、高度の精度と複雑さを達成する
ことができる選択的レーザ・ビーム溶融を使用するために第1のステップを利用
して、軽量な材料で、所望のどんな複雑さおよび高い精度ででも、作ることがで
きる。基本部分の材料が不適当であるため、その後に特別な応力を受けることに
なる構成要素の領域は、第2のステップで第2の材料で作られる。この第2のス
テップは、好ましくはレーザ・ビームの生成的技術に基づくものであり、そのた
めに特殊な硬さの材料を使用することができる。これによって、上述の方法およ
び装置、特に完成後の部品ではアクセスできない構成要素内部の領域も、第2の
材料で製造することができる。
ことができる選択的レーザ・ビーム溶融を使用するために第1のステップを利用
して、軽量な材料で、所望のどんな複雑さおよび高い精度ででも、作ることがで
きる。基本部分の材料が不適当であるため、その後に特別な応力を受けることに
なる構成要素の領域は、第2のステップで第2の材料で作られる。この第2のス
テップは、好ましくはレーザ・ビームの生成的技術に基づくものであり、そのた
めに特殊な硬さの材料を使用することができる。これによって、上述の方法およ
び装置、特に完成後の部品ではアクセスできない構成要素内部の領域も、第2の
材料で製造することができる。
【0028】
本発明の方法および装置を用いて、導入機構または追加の導入機構を介して、
第2の材料に加えて他の材料を使用して、2つ以上の異なる材料製の構成要素を
作成することも可能である。
第2の材料に加えて他の材料を使用して、2つ以上の異なる材料製の構成要素を
作成することも可能である。
【0029】
本発明は、従来技術で知られている、選択的レーザ・ビーム溶融およびレーザ
・ビーム生成の方法の利点を好ましい実施形態に組み入れる。このようにして、
構成要素の個別の領域を、ある機能に適した材料によって製造することができ、
他の領域ではより簡単な材料を使用することができる。
・ビーム生成の方法の利点を好ましい実施形態に組み入れる。このようにして、
構成要素の個別の領域を、ある機能に適した材料によって製造することができ、
他の領域ではより簡単な材料を使用することができる。
【0030】
本発明の装置の好ましい実施形態では、処理ユニットは、第2の材料用の導入
機構を備える。
機構を備える。
【0031】
好ましくは、この処理ユニットは、レーザ・ビームが、位置決め機構を移動さ
せずに、処理ユニットの下方の平面状の領域をスキャンすることができるレーザ
・ビーム偏向装置を備える。これによって、選択的レーザ・ビーム溶融技術を使
用する処理速度が増加する。偏向エレメントは、好ましくは、X−Yスキャニン
グ・ミラーによって形成する。第1の材料で層を形成するつもりである、第1の
領域を処理するとき、位置決め機構は連続的に移動せずに、ある段階をもって移
動する。個々の段階の間の間隔は、処理ユニットのスキャニング光学部品でカバ
ーする。導入装置を介して第2の材料を導入する、第2の領域を処理するとき、
製造すべき領域の形状または輪郭に従ってレーザ・ビームを連続的にガイドする
位置決め機構のみを使用する。第1の材料と第2の材料の間で切り替えるときは
、もちろん、送り速度およびレーザの挙動をそれに従うように対応させる。
せずに、処理ユニットの下方の平面状の領域をスキャンすることができるレーザ
・ビーム偏向装置を備える。これによって、選択的レーザ・ビーム溶融技術を使
用する処理速度が増加する。偏向エレメントは、好ましくは、X−Yスキャニン
グ・ミラーによって形成する。第1の材料で層を形成するつもりである、第1の
領域を処理するとき、位置決め機構は連続的に移動せずに、ある段階をもって移
動する。個々の段階の間の間隔は、処理ユニットのスキャニング光学部品でカバ
ーする。導入装置を介して第2の材料を導入する、第2の領域を処理するとき、
製造すべき領域の形状または輪郭に従ってレーザ・ビームを連続的にガイドする
位置決め機構のみを使用する。第1の材料と第2の材料の間で切り替えるときは
、もちろん、送り速度およびレーザの挙動をそれに従うように対応させる。
【0032】
位置決め機構自体は、好ましくは、それによって処理ユニットを移動させる2
つの直交する直線軸を備える。
つの直交する直線軸を備える。
【0033】
図面を参照にして、好ましい実施形態を用いて、本発明を以下でもう一度説明
する。
する。
【0034】
図は、ビルディング・プラットホーム2をそれに向かって下降させる底部表面
1を示す。ビルディング・プラットホームはZ方向に下降させる。本実施例では
、底部表面1の平面は同時に処理平面3である。システムは、レーザ・ビーム溶
融システムと同様に設計されており、下降可能なビルディング・プラットホーム
を持つ製造領域のほかに、粉末状の第1の材料4用の粉末供給タンク、およびビ
ルディング・プラットホームの上方の処理平面内に粉末状の材料4を一様に分散
させるための機構を備える。粉末供給タンクは、図示されていないが、従来技術
で知られているレーザ・ビーム溶融システムと同様に配置、操作される。平坦化
機構はスクレーパ(5)である。
1を示す。ビルディング・プラットホームはZ方向に下降させる。本実施例では
、底部表面1の平面は同時に処理平面3である。システムは、レーザ・ビーム溶
融システムと同様に設計されており、下降可能なビルディング・プラットホーム
を持つ製造領域のほかに、粉末状の第1の材料4用の粉末供給タンク、およびビ
ルディング・プラットホームの上方の処理平面内に粉末状の材料4を一様に分散
させるための機構を備える。粉末供給タンクは、図示されていないが、従来技術
で知られているレーザ・ビーム溶融システムと同様に配置、操作される。平坦化
機構はスクレーパ(5)である。
【0035】
本装置によって実施可能な方法およびその結果としての利点は、特に処理ヘッ
ド6の設計によって達成される。本実施例では、この処理ヘッドは少なくとも1
つの回転可能な鏡の形であるX−Yスキャナ7と、レーザ光源によって発生させ
たレーザ・ビーム11を処理平面3上に集束させる焦点レンズ8と、第2の材料
用の導入機構9、および吸引装置10を含む。
ド6の設計によって達成される。本実施例では、この処理ヘッドは少なくとも1
つの回転可能な鏡の形であるX−Yスキャナ7と、レーザ光源によって発生させ
たレーザ・ビーム11を処理平面3上に集束させる焦点レンズ8と、第2の材料
用の導入機構9、および吸引装置10を含む。
【0036】
この場合では、導入機構9は、粉末ジェットの形で粉末状の第2の材料12を
レーザ・ビーム11の焦点領域に集束させることができる粉末ノズルとして設計
されている。第2の材料を固体状態、すなわち線材の形で導入する場合、処理ヘ
ッド6内で、粉末ノズルの代わりに線材用の導入機構を使用する。処理ヘッド自
体は、図中に示されていない、X−Yトラバーシング・ユニットに取り付けられ
ている。このような位置決め機構は、例えばプロッタ機構と同様に構成すること
ができる。X−Yトラバーシング・ユニットを用いて、処理ヘッド6を底部表面
1または処理平面3に平行な平面内のどんな位置へも移動させることができる。
このようにすると、レーザ・ビームは、常に処理平面上に集束しつづける。本実
施例では、吸引ユニット10は、第2の材料12で層を作るつもりである領域内
にある粉末状の第1の材料4を吸引することができる幅である、ノズル様に設計
されている。
レーザ・ビーム11の焦点領域に集束させることができる粉末ノズルとして設計
されている。第2の材料を固体状態、すなわち線材の形で導入する場合、処理ヘ
ッド6内で、粉末ノズルの代わりに線材用の導入機構を使用する。処理ヘッド自
体は、図中に示されていない、X−Yトラバーシング・ユニットに取り付けられ
ている。このような位置決め機構は、例えばプロッタ機構と同様に構成すること
ができる。X−Yトラバーシング・ユニットを用いて、処理ヘッド6を底部表面
1または処理平面3に平行な平面内のどんな位置へも移動させることができる。
このようにすると、レーザ・ビームは、常に処理平面上に集束しつづける。本実
施例では、吸引ユニット10は、第2の材料12で層を作るつもりである領域内
にある粉末状の第1の材料4を吸引することができる幅である、ノズル様に設計
されている。
【0037】
構成要素は、積層して製造される。まず、平坦化システム5によって、ビルデ
ィング・プラットホーム2上に粉末状の材料4の層を付着させる。選択的レーザ
・ビーム溶融原理を用いて、粉末状の材料4から、製造すべき基本部分に属して
いる対応する粉末の層を固化させる。所定のスキャニング領域13上で、スキャ
ニング・ミラー7によってレーザ・ビーム11を偏向させる。スキャニング・ミ
ラー7によってレーザ・ビームを移動させることができる、所定のスキャニング
領域13が、構成要素の製造されるべき領域よりも小さい場合、スキャニング範
囲内のこの領域が最初に処理される。次に、位置決め機構の線形軸によって、次
に処理すべき領域内に処理ヘッド6を移動させる。このようにして、スキャニン
グ・ミラー7を動かすことのみによってスキャニングを常に行う、小さいサブ・
フィールドまたはサブ・ディビジョンに処理すべき表面全体を細分する。位置決
め機構によって行われるのは、サブ・フィールドからサブ・フィールドへの必要
な追加移動のみである。第1の材料で層を作成する処理の間、すなわちスキャニ
ング・ミラー7によるスキャニング処理中は、導入機構9による第2の材料12
の導入は遮断される。例えば、図1に示す構成要素14の底部領域を、説明した
手順で製造する。完成した構成要素を使用したときに最も応力を受ける領域に属
する、構成要素14の領域または構成要素14の層の領域は、レーザ・ビームの
生成的技術の原理によって、第2の材料12で製造する。好ましくは、炭化物等
の硬い材料をこの材料として使用する。両方の材料を備えるつもりである層を製
造するとき、まず第1の材料の層の領域を、上記で説明した手順によって、それ
ぞれの領域内で製造する。次に、第2の材料で作るつもりの領域から粉末状の材
料4を取り除く。この粉末状の第1の材料4の除去は、吸引ユニット10によっ
て行う。
ィング・プラットホーム2上に粉末状の材料4の層を付着させる。選択的レーザ
・ビーム溶融原理を用いて、粉末状の材料4から、製造すべき基本部分に属して
いる対応する粉末の層を固化させる。所定のスキャニング領域13上で、スキャ
ニング・ミラー7によってレーザ・ビーム11を偏向させる。スキャニング・ミ
ラー7によってレーザ・ビームを移動させることができる、所定のスキャニング
領域13が、構成要素の製造されるべき領域よりも小さい場合、スキャニング範
囲内のこの領域が最初に処理される。次に、位置決め機構の線形軸によって、次
に処理すべき領域内に処理ヘッド6を移動させる。このようにして、スキャニン
グ・ミラー7を動かすことのみによってスキャニングを常に行う、小さいサブ・
フィールドまたはサブ・ディビジョンに処理すべき表面全体を細分する。位置決
め機構によって行われるのは、サブ・フィールドからサブ・フィールドへの必要
な追加移動のみである。第1の材料で層を作成する処理の間、すなわちスキャニ
ング・ミラー7によるスキャニング処理中は、導入機構9による第2の材料12
の導入は遮断される。例えば、図1に示す構成要素14の底部領域を、説明した
手順で製造する。完成した構成要素を使用したときに最も応力を受ける領域に属
する、構成要素14の領域または構成要素14の層の領域は、レーザ・ビームの
生成的技術の原理によって、第2の材料12で製造する。好ましくは、炭化物等
の硬い材料をこの材料として使用する。両方の材料を備えるつもりである層を製
造するとき、まず第1の材料の層の領域を、上記で説明した手順によって、それ
ぞれの領域内で製造する。次に、第2の材料で作るつもりの領域から粉末状の材
料4を取り除く。この粉末状の第1の材料4の除去は、吸引ユニット10によっ
て行う。
【0038】
第2の材料12で作成すべき層領域でレーザ・ビームを発生させる間、スキャ
ニング・ミラー7は固定位置内にありつづける。処理すべき領域上の位置決め機
構の線形軸を用いて処理ヘッド6を動かすことによって、レーザ・ビーム11を
単独で移動させる。この移動と同時に、第2の材料12を粉末ノズル9を通って
レーザ・ビーム11の焦点内に導入し、そこで溶融させる。層を処理した後、ビ
ルディング・プラットホームを1層の厚さだけ下降させて、次の層を処理する。
ニング・ミラー7は固定位置内にありつづける。処理すべき領域上の位置決め機
構の線形軸を用いて処理ヘッド6を動かすことによって、レーザ・ビーム11を
単独で移動させる。この移動と同時に、第2の材料12を粉末ノズル9を通って
レーザ・ビーム11の焦点内に導入し、そこで溶融させる。層を処理した後、ビ
ルディング・プラットホームを1層の厚さだけ下降させて、次の層を処理する。
【0039】
完全な構成要素を製造するまで、このプロセスを層ごとに繰り返す。
【0040】
図面は、異なる材料で作られた構成要素の処理領域を示す。図中でちょうど処
理中である、構成要素14の最上部の層では、4つの小さな領域(黒い)内で、
強化するために層を第2の材料12で作っているのを見ることができる。
理中である、構成要素14の最上部の層では、4つの小さな領域(黒い)内で、
強化するために層を第2の材料12で作っているのを見ることができる。
【0041】
本方法および付属の装置で使用した金属を溶融させて層を製造する方法の基本
的プロセスの原理は、当業者に知られている。本明細書に記載の本発明の好まし
い実施形態および実施例では、粉末状の材料を第1の材料として使用しているが
、もちろん、この材料は、液相で使用することもでき、液相の第2の材料を使用
することも、本発明の装置または本発明のプロセスの本質的な特徴を変える必要
なく実現可能である。本発明の装置およびプロセスによって、2つの材料だけで
なく、3つまたはそれ以上の材料製の構成要素を製造することができる。この場
合、他の材料用に設けなければならないのは、導入機構9を通る材料の導入だけ
である。これは、ある層の処理中に簡単な方法で行うことができる。このように
、本プロセスおよび装置によって、例えば、複雑な構成要素を必要な点だけ硬い
材料で強化することができるように、異なる材料製の構成要素を製造することが
できる。連続した製品を製造するためのラピッド製造プロセスの適用範囲は、し
たがって、本質的に拡大する。
的プロセスの原理は、当業者に知られている。本明細書に記載の本発明の好まし
い実施形態および実施例では、粉末状の材料を第1の材料として使用しているが
、もちろん、この材料は、液相で使用することもでき、液相の第2の材料を使用
することも、本発明の装置または本発明のプロセスの本質的な特徴を変える必要
なく実現可能である。本発明の装置およびプロセスによって、2つの材料だけで
なく、3つまたはそれ以上の材料製の構成要素を製造することができる。この場
合、他の材料用に設けなければならないのは、導入機構9を通る材料の導入だけ
である。これは、ある層の処理中に簡単な方法で行うことができる。このように
、本プロセスおよび装置によって、例えば、複雑な構成要素を必要な点だけ硬い
材料で強化することができるように、異なる材料製の構成要素を製造することが
できる。連続した製品を製造するためのラピッド製造プロセスの適用範囲は、し
たがって、本質的に拡大する。
【図1】
材料の組合せから構成要素を製造する装置の実施例の略図である。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成13年6月20日(2001.6.20)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】 材料の組合せから構成要素を製造する装置であって、前記装置
が、 構成要素(14)用の下降可能なビルディング・プラットホーム(2)を有す
る底部表面(1)と、 前記ビルディング・プラットホーム(2)の上方の処理平面(3)内に粉末材
料(4)を平坦化するための機構(5)をもつ第1の導入機構と、 レーザ・ビーム(11)を発光するためのレーザ光源と、 前記レーザ・ビームを前記処理平面(3)上に集束させる焦点光学システム(
8)を有する処理ユニット(6)および、 前記構成要素(14)の上方の前記処理平面(3)に平行な平面内の任意の所
望の位置に前記処理ユニット(6)を位置決めすることができる位置決め機構を
備え、 前記処理平面(3)から材料を吸引するための吸引または吹き飛ばしユニット
(10)、および別の材料(12)のための第2の導入機構(9)が設けられて
いることを特徴とする装置。
が、 構成要素(14)用の下降可能なビルディング・プラットホーム(2)を有す
る底部表面(1)と、 前記ビルディング・プラットホーム(2)の上方の処理平面(3)内に粉末材
料(4)を平坦化するための機構(5)をもつ第1の導入機構と、 レーザ・ビーム(11)を発光するためのレーザ光源と、 前記レーザ・ビームを前記処理平面(3)上に集束させる焦点光学システム(
8)を有する処理ユニット(6)および、 前記構成要素(14)の上方の前記処理平面(3)に平行な平面内の任意の所
望の位置に前記処理ユニット(6)を位置決めすることができる位置決め機構を
備え、 前記処理平面(3)から材料を吸引するための吸引または吹き飛ばしユニット
(10)、および別の材料(12)のための第2の導入機構(9)が設けられて
いることを特徴とする装置。
【請求項5】 前記第2の導入機構(9)が、前記処理ユニット(6)に取付
けられ、かつ前記別の材料を前記レーザ・ビーム(11)の焦点範囲内に集中す
るようにして移動させるように設計されていることを特徴とする請求項1乃至4
のいずれか1項に記載の装置。
けられ、かつ前記別の材料を前記レーザ・ビーム(11)の焦点範囲内に集中す
るようにして移動させるように設計されていることを特徴とする請求項1乃至4
のいずれか1項に記載の装置。
【請求項6】 前記第2の導入機構(9)が、前記レーザ・ビームの前記焦点
範囲上に向けられている粉末状の材料用のノズルであることを特徴とする請求項
5に記載の装置。
範囲上に向けられている粉末状の材料用のノズルであることを特徴とする請求項
5に記載の装置。
【請求項7】 前記第2の導入機構(9)が、線状の材料用の送り機構である
ことを特徴とする請求項5に記載の装置。
ことを特徴とする請求項5に記載の装置。
【請求項8】 前記第2の導入機構(9)が、前記別の材料(12)用の供給
タンク、および前記ビルディング・プラットホーム(2)の上方の前記処理平面
(3)内に前記別の材料(12)を分散させるスクレーパを備えることを特徴と
する請求項1乃至4のいずれか1項に記載の装置。
タンク、および前記ビルディング・プラットホーム(2)の上方の前記処理平面
(3)内に前記別の材料(12)を分散させるスクレーパを備えることを特徴と
する請求項1乃至4のいずれか1項に記載の装置。
【請求項11】 少なくとも第1の材料(4)および第2の材料(12)の材
料の組合せから構成要素(14)を製造する方法であって、前記構成要素(14
)が、前記材料を1層ごとに層状に付着させ、溶融させることによって製造され
、前記各層のうちの少なくとも1層のために、 前記第1の材料(4)を前記構成要素(14)用の下降可能なビルディング・
プラットホーム(2)の上方の処理平面(3)内の平坦化機構(5)で分散させ
るステップと、および 前記処理平面(3)の第1の範囲内の前記処理平面(3)上に集束させたレー
ザ・ビーム(11)を用いて、前記第1の材料(4)を前記第1の領域の前記ス
キャンした形状に従って溶融させるステップと、 前記構成要素を前記第2の材料(12)または前記第2の材料を用いた化学コ
ンパウンドで作ろうとしている、前記処理平面(3)の第2の領域内の前記第1
の材料(4)を吸引または吹き飛ばすステップと、 前記処理平面(3)の前記第2の領域内に前記第2の材料(12)を付着させ
、前記処理平面(3)上に集束させたレーザ・ビーム(11)を用いて前記構成
要素(14)の層の形状をスキャンして、前記第2の材料(12)または前記第
2の材料の前記化学コンパウンドを、前記第2の領域内の前記スキャンした形状
に従って溶融させるステップと、および 別の層を付着させようとする場合、前記ビルディング・プラットホーム(2)
を前記溶融させた層の厚さだけ下降させるステップと、を有することを特徴とす
る方法。
料の組合せから構成要素(14)を製造する方法であって、前記構成要素(14
)が、前記材料を1層ごとに層状に付着させ、溶融させることによって製造され
、前記各層のうちの少なくとも1層のために、 前記第1の材料(4)を前記構成要素(14)用の下降可能なビルディング・
プラットホーム(2)の上方の処理平面(3)内の平坦化機構(5)で分散させ
るステップと、および 前記処理平面(3)の第1の範囲内の前記処理平面(3)上に集束させたレー
ザ・ビーム(11)を用いて、前記第1の材料(4)を前記第1の領域の前記ス
キャンした形状に従って溶融させるステップと、 前記構成要素を前記第2の材料(12)または前記第2の材料を用いた化学コ
ンパウンドで作ろうとしている、前記処理平面(3)の第2の領域内の前記第1
の材料(4)を吸引または吹き飛ばすステップと、 前記処理平面(3)の前記第2の領域内に前記第2の材料(12)を付着させ
、前記処理平面(3)上に集束させたレーザ・ビーム(11)を用いて前記構成
要素(14)の層の形状をスキャンして、前記第2の材料(12)または前記第
2の材料の前記化学コンパウンドを、前記第2の領域内の前記スキャンした形状
に従って溶融させるステップと、および 別の層を付着させようとする場合、前記ビルディング・プラットホーム(2)
を前記溶融させた層の厚さだけ下降させるステップと、を有することを特徴とす
る方法。
【請求項14】 前記処理平面(3)内の前記構成要素(14)の各層の形状
の前記スキャニングが、前記レーザ・ビーム(11)を集束させる焦点光学シス
テム(8)を支持し、前記構成要素(14)の上方の前記処理平面(3)に平行
な平面内の任意の所望の経路上で前記焦点光学システム(8)を移動させること
ができる位置決め機構によって行われることを特徴とする請求項11乃至13の
いずれか1項に記載の方法。
の前記スキャニングが、前記レーザ・ビーム(11)を集束させる焦点光学シス
テム(8)を支持し、前記構成要素(14)の上方の前記処理平面(3)に平行
な平面内の任意の所望の経路上で前記焦点光学システム(8)を移動させること
ができる位置決め機構によって行われることを特徴とする請求項11乃至13の
いずれか1項に記載の方法。
【請求項15】 前記第1の領域の前記スキャニングが、回転可能なようにし
て支持されており、前記位置決め機構によって前記レーザ・ビームとともに導か
れるスキャニング・エレメント(7)によって前記レーザ・ビーム(11)がそ
の上方に導かれるサブ領域を次々にスキャニングすることによって行われる一方
、前記第2の領域のスキャニングが、静止しているスキャニング・エレメント(
7)によって行われることを特徴とする請求項14に記載の方法。
て支持されており、前記位置決め機構によって前記レーザ・ビームとともに導か
れるスキャニング・エレメント(7)によって前記レーザ・ビーム(11)がそ
の上方に導かれるサブ領域を次々にスキャニングすることによって行われる一方
、前記第2の領域のスキャニングが、静止しているスキャニング・エレメント(
7)によって行われることを特徴とする請求項14に記載の方法。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0007】
DE 196 49 865 C1は、本請求項1の属部分に記載の装置を使
用した、このようなプロセスの一例を記載している。このプロセスでは、結合剤
もフラックス添加物も含まない粉末状の金属材料を構成要素のプラット・ホーム
上に付着させ、構成要素の形状に応じた溶融温度まで加熱する。レーザ・ビーム
のエネルギーは、レーザの当ったところで粉末状の金属材料の全ての厚さが完全
に溶融するように選択される。レーザ・ビームは、それぞれ次の軌跡が前の軌跡
と部分的に重なり合うようにして、それぞれの粉末状の金属材料層の所定の領域
を覆う多数の軌跡内に導入される。それと同時に、レーザ・ビームが粉末状の金
属材料に当る領域上の保護ガス雰囲気を維持して、例えば酸化によって起こり得
る欠陥を防ぐ。
用した、このようなプロセスの一例を記載している。このプロセスでは、結合剤
もフラックス添加物も含まない粉末状の金属材料を構成要素のプラット・ホーム
上に付着させ、構成要素の形状に応じた溶融温度まで加熱する。レーザ・ビーム
のエネルギーは、レーザの当ったところで粉末状の金属材料の全ての厚さが完全
に溶融するように選択される。レーザ・ビームは、それぞれ次の軌跡が前の軌跡
と部分的に重なり合うようにして、それぞれの粉末状の金属材料層の所定の領域
を覆う多数の軌跡内に導入される。それと同時に、レーザ・ビームが粉末状の金
属材料に当る領域上の保護ガス雰囲気を維持して、例えば酸化によって起こり得
る欠陥を防ぐ。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0010】
レーザ・ビーム生成プロセスは、一段階プロセスである。このプロセスでは、
導入機構によって、作動材料を線材または粉末としてレーザ・ビームの焦点に連
続的に導入する。材料の導入およびエネルギーの供給は、レーザを介して同時に
行われる。材料が粉末の場合、金属粉末を、好ましくは不活性ガス流を介して粉
末ノズルに供給し、処理すべき点上にその焦点を合わせる。レーザ・ビームおよ
び導入機構は、互いに対して静止しており、各層での構成要素の製造すべき形状
または輪郭に従って移動する。この場合も、レーザ・ビームで対応する形状をス
キャンすることによって一層ごとに構成要素を製造する。 DE 195 33 960 A1は、金属加工物の製造のためのこのような
プロセスおよび付属の装置の一例を記載している。この例の中で、粉末ノズルに
よって、レーザ・ビームに対して同軸のトラック状に粉末状の材料を加工物上に
付着させ溶融させる。この公報は、加工物の表面から溶融されていない粉末状の
材料を吸引または吹き飛ばすことを含む、異なる材料製の層を付着させることも
記載している。この公報の方法または装置では、見かけ上、第2の材料を第1の
材料と同じ粉末ノズルを通って加工物の表面上に付着させる。 DE 44 15 783は、金属粉末を付着させ、層状に溶融させることに
よって加工物を自由な形状で製造するプロセスを開示している。また金属粉末を
粉末ノズルによってトラック状に付着させ、レーザ・ビームを用いて溶融させる
。 US 5 578 227は、線状の材料をレーザ・ビームを用いて下の各層
上に層状に付着させ、溶融させることによって3次元モデルを製造するためのプ
ロセスおよび装置を表している。
導入機構によって、作動材料を線材または粉末としてレーザ・ビームの焦点に連
続的に導入する。材料の導入およびエネルギーの供給は、レーザを介して同時に
行われる。材料が粉末の場合、金属粉末を、好ましくは不活性ガス流を介して粉
末ノズルに供給し、処理すべき点上にその焦点を合わせる。レーザ・ビームおよ
び導入機構は、互いに対して静止しており、各層での構成要素の製造すべき形状
または輪郭に従って移動する。この場合も、レーザ・ビームで対応する形状をス
キャンすることによって一層ごとに構成要素を製造する。 DE 195 33 960 A1は、金属加工物の製造のためのこのような
プロセスおよび付属の装置の一例を記載している。この例の中で、粉末ノズルに
よって、レーザ・ビームに対して同軸のトラック状に粉末状の材料を加工物上に
付着させ溶融させる。この公報は、加工物の表面から溶融されていない粉末状の
材料を吸引または吹き飛ばすことを含む、異なる材料製の層を付着させることも
記載している。この公報の方法または装置では、見かけ上、第2の材料を第1の
材料と同じ粉末ノズルを通って加工物の表面上に付着させる。 DE 44 15 783は、金属粉末を付着させ、層状に溶融させることに
よって加工物を自由な形状で製造するプロセスを開示している。また金属粉末を
粉末ノズルによってトラック状に付着させ、レーザ・ビームを用いて溶融させる
。 US 5 578 227は、線状の材料をレーザ・ビームを用いて下の各層
上に層状に付着させ、溶融させることによって3次元モデルを製造するためのプ
ロセスおよび装置を表している。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0011
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0011】
レーザ・ビーム生成プロセスの選択的レーザ・ビーム溶融プロセスに対する利
点は、主に多数の金属材料をこのプロセスで処理することができることである。
また、硬い材料もこれによって容易に処理することができる。しかし、選択的レ
ーザ・ビーム溶融プロセスとは対照的に、このレーザ・ビーム発生プロセスによ
って生産することができる構成要素はほとんど複雑でないものにすぎない。すな
わち、特に寸法が1mm以下である精巧繊細な構成要素の場合、十分な精度を保
証することはできない。
点は、主に多数の金属材料をこのプロセスで処理することができることである。
また、硬い材料もこれによって容易に処理することができる。しかし、選択的レ
ーザ・ビーム溶融プロセスとは対照的に、このレーザ・ビーム発生プロセスによ
って生産することができる構成要素はほとんど複雑でないものにすぎない。すな
わち、特に寸法が1mm以下である精巧繊細な構成要素の場合、十分な精度を保
証することはできない。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0012
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0012】
構成要素を製造する別の方法として、EP 0 431 924は、ラピッド
・プロトタイピングのための3次元印刷方法を表している。この方法では、加工
物の層状に製造した個々の層は、インク・ジェット技術を用いることによって、
接合材を加えて、局所的に固化される。 EP 0 322 257は、硬化可能な流体から加工物を層状に製造するた
めのプロセスおよび装置を記載している。硬化は再びレーザ・ビームによってス
キャンすることによって行われる。次に、硬化されていない領域を、吸引ユニッ
トによって吸引し、製造終了時に取り除くことができる支持材料を充填する。吸
引ユニットは、固化されていない領域を吸引するために使用する。 本発明の目的は、構成要素の単一の領域を異なる材料製にすることができるよ
うにして、材料の組合せから複雑な構成要素を製造することができる装置および
プロセスを提供することである。
・プロトタイピングのための3次元印刷方法を表している。この方法では、加工
物の層状に製造した個々の層は、インク・ジェット技術を用いることによって、
接合材を加えて、局所的に固化される。 EP 0 322 257は、硬化可能な流体から加工物を層状に製造するた
めのプロセスおよび装置を記載している。硬化は再びレーザ・ビームによってス
キャンすることによって行われる。次に、硬化されていない領域を、吸引ユニッ
トによって吸引し、製造終了時に取り除くことができる支持材料を充填する。吸
引ユニットは、固化されていない領域を吸引するために使用する。 本発明の目的は、構成要素の単一の領域を異なる材料製にすることができるよ
うにして、材料の組合せから複雑な構成要素を製造することができる装置および
プロセスを提供することである。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0014
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0014】
選択的レーザ・ビーム溶融装置と同様に、本発明の装置は、構成要素用の下降
可能なビルディング・プラットホームを備える底部表面と、ビルディング・プラ
ットホームの上方に配置された処理平面内で第1の材料を平坦化する機構をもつ
導入機構、およびレーザ・ビームを放射するレーザ光源を備える。また、レーザ
・ビームを処理表面上に集束させるための焦点光学システムを支承する処理ユニ
ットが設けられている。この処理ユニットは、位置決め機構を用いて、処理平面
と平行な平面内で移動する。したがって、この位置決め機構の目的は、製造すべ
き構成要素の形状または輪郭に従って、レーザ・ビームを処理平面上でスキャニ
ング移動させることである。レーザ・ビーム光源は、処理ユニット上に直接配置
しても、外側から結合してもよい。従来技術で知られている選択的レーザ・ビー
ム溶融装置とは対照的に、本発明の装置は、処理領域から材料を吸引するための
吸引または吹き飛ばしユニット、ならびに第2の材料を導入するための導入機構
を備え、この導入機構はこの第2の材料をレーザ・ビームの焦点領域内に導入す
る。この導入機構は、処理中に処理平面内のレーザ・ビームの焦点領域内に導入
される線状の材料用の送り機構であってもよい。この導入機構はまた、粉末状の
またはペースト状の第2の材料をレーザの焦点領域内に導入するノズルであって
もよい。両方の例において、好ましくは導入機構が処理ユニットに沿って動くよ
うにして、導入機構を処理ユニットに直接取り付ける。
可能なビルディング・プラットホームを備える底部表面と、ビルディング・プラ
ットホームの上方に配置された処理平面内で第1の材料を平坦化する機構をもつ
導入機構、およびレーザ・ビームを放射するレーザ光源を備える。また、レーザ
・ビームを処理表面上に集束させるための焦点光学システムを支承する処理ユニ
ットが設けられている。この処理ユニットは、位置決め機構を用いて、処理平面
と平行な平面内で移動する。したがって、この位置決め機構の目的は、製造すべ
き構成要素の形状または輪郭に従って、レーザ・ビームを処理平面上でスキャニ
ング移動させることである。レーザ・ビーム光源は、処理ユニット上に直接配置
しても、外側から結合してもよい。従来技術で知られている選択的レーザ・ビー
ム溶融装置とは対照的に、本発明の装置は、処理領域から材料を吸引するための
吸引または吹き飛ばしユニット、ならびに第2の材料を導入するための導入機構
を備え、この導入機構はこの第2の材料をレーザ・ビームの焦点領域内に導入す
る。この導入機構は、処理中に処理平面内のレーザ・ビームの焦点領域内に導入
される線状の材料用の送り機構であってもよい。この導入機構はまた、粉末状の
またはペースト状の第2の材料をレーザの焦点領域内に導入するノズルであって
もよい。両方の例において、好ましくは導入機構が処理ユニットに沿って動くよ
うにして、導入機構を処理ユニットに直接取り付ける。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0015】
しかし、第1の処理平面内に第1の材料を分散させる機構のような追加の機構
によって、導入機構を形成してもよい。この場合は、第1の材料用の供給タンク
に加えて第2の材料用の供給タンクを設けなければならない。
によって、導入機構を形成してもよい。この場合は、第1の材料用の供給タンク
に加えて第2の材料用の供給タンクを設けなければならない。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(71)出願人 Leonrodstrasse 54, D
−80636 Munchen Deuchl
and
(72)発明者 マイネルズ, ヴィルヘルム
ドイツ国 ア−ヘン デー−52072, フ
ェルスターシュトラーセ 25
(72)発明者 ガッセル, アンドレス
ドイツ国 アーヘン デー−52066, ア
ム パーペルヴァイヤー 32
(72)発明者 ヴィッセンバッハ, コンラッド
ドイツ国 ヘルツォーゲンラート デー−
52134, ルンペナー シュトラーセ 95
Fターム(参考) 4E093 FA12 FC10
【要約の続き】
ができる。
Claims (15)
- 【請求項1】 材料の組合せから構成要素を製造する装置であって、前記装
置が、 構成要素(14)用の下降可能なビルディング・プラットホーム(2)を有す
る底部表面(1)と、 前記ビルディング・プラットホーム(2)の上方の処理平面(3)内に材料(
4)を導入して平坦化するための機構(5)と、 レーザ・ビーム(11)を発光するためのレーザ光源と、 前記レーザ・ビームを前記処理平面(3)上に集束させる焦点光学システム(
8)を有する処理ユニット(6)および、 前記構成要素(14)の上方の前記処理平面(3)に平行な平面内の任意の所
望の位置に前記処理ユニット(6)を位置決めすることができる位置決め機構を
備え、 前記処理平面(3)から材料を吸引するための吸引または吹き飛ばしユニット
(10)、および別の材料(12)のための導入機構(9)が設けられているこ
とを特徴とする装置。 - 【請求項2】 前記吸引または吹き飛ばしユニット(10)が、前記処理ユ
ニット(6)に取付けられていることを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 前記処理ユニット(6)が、前記レーザ・ビーム(11)用
の偏向エレメント(7)を備え、それによって前記レーザ・ビームを、前記位置
決め機構のそれぞれの位置に応じた前記処理平面の領域内の任意の所望の点上に
偏向させることができることを特徴とする請求項1または2に記載の装置。 - 【請求項4】 前記偏向エレメント(7)が、X−Yスキャニング・ミラー
・システムであることを特徴とする請求項3に記載の装置。 - 【請求項5】 前記導入機構(9)が、前記処理ユニット(6)に取付けら
れ、かつ前記別の材料を前記レーザ・ビーム(11)の焦点範囲内に集中するよ
うにして移動させるように設計されていることを特徴とする請求項1乃至4のい
ずれか1項に記載の装置。 - 【請求項6】 前記導入機構(9)が、前記レーザ・ビームの前記焦点範囲
上に向けられている粉末状の材料用のノズルであることを特徴とする請求項5に
記載の装置。 - 【請求項7】 前記導入機構(9)が、線状の材料用の送り機構であること
を特徴とする請求項5に記載の装置。 - 【請求項8】 前記導入機構(9)が、前記別の材料(12)用の供給タン
ク、および前記ビルディング・プラットホーム(2)の上方の前記処理平面(3
)内に前記別の材料(12)を分散させるスクレーパを備えることを特徴とする
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の装置。 - 【請求項9】 前記位置決め機構が、2つの線形軸を備える、X−Y移動ユ
ニットであることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の装置。 - 【請求項10】 前記平坦化用の機構(5)が、スクレーパの形状を有する
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の装置。 - 【請求項11】 少なくとも第1の材料(4)および第2の材料(12)の
材料の組合せから構成要素(14)を製造する方法であって、前記構成要素(1
4)が、前記材料を1層ごとに層状に付着させ、溶融させることによって製造さ
れ、前記各層のうちの少なくとも1層のために、 前記第1の材料(4)を前記構成要素用の下降可能なビルディング・プラットホ
ームの上方の処理平面(3)内に分散させるステップと、および 前記処理平面の第1の範囲内の前記処理平面上に集束させたレーザ・ビーム(1
1)を用いて前記構成要素の層の形状をスキャンして、前記第1の材料(4)を
前記第1の領域の前記スキャンした形状に従って溶融させるステップと、 前記構成要素を前記第2の材料(12)または前記第2の材料を用いた化学コ
ンパウンドで作ろうとしている、前記処理平面(3)の第2の領域内の前記第1
の材料を吸引または吹き飛ばすステップと、 前記処理平面の前記第2の領域内に前記第2の材料(12)を付着させ、前記
処理平面上に集束させたレーザ・ビーム(11)を用いて前記構成要素の層の形
状をスキャンして、前記第2の材料または前記第2の材料を用いた前記化学コン
パウンドを、前記第2の領域内の前記スキャンした形状に従って溶融させるステ
ップと、および 別の層を付着させようとする場合、前記ビルディング・プラットホームを前記
溶融させた層の厚さだけ下降させるステップと、有することを特徴とする方法。 - 【請求項12】 前記第2の材料(12)を、個別の導入機構(9)を介し
て前記レーザ・ビームの前記焦点範囲内に集中するようにして移動させることを
特徴とする請求項11に記載の方法。 - 【請求項13】 前記第2の材料(12)を、前記処理平面の前記第2の領
域内に前記第1の材料(4)と同じように付着させることを特徴とする請求項1
1に記載の方法。 - 【請求項14】 前記処理平面内の前記構成要素の各層の形状の前記スキャ
ニングが、前記レーザ・ビームを集束させる焦点光学システムを支持し、前記構
成要素の上方の前記処理平面に平行な平面内の任意の所望の経路内で前記焦点光
学システムを移動させることができる位置決め機構によって行われることを特徴
とする請求項11乃至13のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項15】 前記第1の領域の前記スキャニングが、回転可能なように
して支持されており、前記位置決め機構によって前記レーザ・ビームとともに導
かれるスキャニング・エレメントによって前記レーザ・ビームがその上方に導か
れるサブ領域を次々にスキャニングすることによって行われる一方、前記第2の
領域のスキャニングが、静止しているスキャニング・エレメントによって行われ
ることを特徴とする請求項14に記載の方法。
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