JP2003503171A5

JP2003503171A5 -

Info

Publication number: JP2003503171A5
Application number: JP2001505645A
Authority: JP
Filing date: 2000-06-15
Publication date: 2007-08-09
Anticipated expiration: 2020-06-15

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】あらゆるタイプの廃棄物を処理及び利用する方法であって、固体及び／又は液体形状のあらゆる種類の有害な物質を含有する、分別されない、未処理の産業、家庭、及び／又は特殊な廃棄物ならびに産業スクラップは段階的な温度に曝され、熱分離され、又は熱物質変換され、そして生じた固体残留物は次いで高温溶融体に転化され、ここで、前記除去される廃棄物はバッチ状で押圧されて圧縮されたパッケージに形成され、そして増大する温度方向に複数の熱処理相を通過し、この複数の熱処理相は少なくとも１つの低温相と、少なくとも１つの高温相とを有し、前記低温相において、圧力の印加と反応容器の側壁に対するポジティブで強制的な接触が維持され、また前記高温相において、除去されるべき廃棄物はガス透過性バルクを形成し、そして合成ガスが生成し、この生成した合成ガスは前記高温相から取り出される、前記方法において、
前記生成した合成ガス中の水素の濃度が一定と見なされる値に調節され、及び／又は前記合成ガスの体積流量は処理される１Ｍｇの廃棄物の処理量に対して１０００〜１６００Ｎｍ³の値に調節されるという条件で、前記生成した合成ガス中の水素の濃度及び／又は前記生成した合成ガスの体積流量が制御されることを特徴とする、前記方法。
【請求項２】生成した合成ガス中の水素の濃度は３５容量％に調節されることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】生成した合成ガス中の水素含量に依存して、酸素が高温相に更に導入されることを特徴とする、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】前記酸素は酸素ランスを用いて高温相に導入されることを特徴とする、請求項３記載の方法。
【請求項５】前記酸素はパルス的に導入されることを特徴とする、請求項３又は４記載の方法。
【請求項６】燃料が前記体積流量に依存して高温相に更に導入されることを特徴とする、請求項１〜５いずれかに記載の方法。
【請求項７】前記廃棄物は圧力の印加と反応容器の側壁に対するポジティブで強制的な接触を維持されながら、酸素を供給されずに、前記少なくとも１つの低温相を通過することを特徴とする、請求項１〜６いずれかに記載の方法。
【請求項８】前記低温相は１００℃〜６００℃の温度範囲を含むことを特徴とする、請求項１〜７いずれかに記載の方法。
【請求項９】前記高温相において酸素が添加されることを特徴とする、請求項１〜８いずれかに記載の方法。
【請求項１０】前記バルク中の炭素成分は計量された酸素を添加されて、二酸化炭素と一酸化炭素を生成し、この二酸化炭素は前記炭素含有バルク中を通過する間に一酸化炭素に還元され、そして水素及び一酸化炭素が前記炭素成分及び過熱水蒸気から生じることを特徴とする、請求項９記載の方法。
【請求項１１】前記高温相は１０００℃を超える温度を含むことを特徴とする、請求項１〜１０いずれかに記載の方法。
【請求項１２】前記生成した合成ガスは、前記高温反応器を出ると直ちに、１００℃未満に冷却され、そしてプロセス中において塵がなくなるまで、急激に水を付与されることを特徴とする、請求項１〜１１いずれかに記載の方法。
【請求項１３】前記水素の含量及び／又は前記生成した合成ガスの体積流量は急激な冷却の後に測定され、また前記水素の含量及び／又は前記生成した合成ガスの体積流量は対応して制御されることを特徴とする、請求項１〜１２いずれかに記載の方法。
【請求項１４】あらゆるタイプの廃棄物を加工し、変換し、そして後処理する装置であって、複数の熱処理相を有し、前記熱処理相は酸素が供給されない少なくとも１つの低温相と１０００℃を超える温度で酸素が供給される少なくとも１つの高温相とを含み、また前記高温相で生じる合成ガス混合物の出口を有し、ここで、前記熱処理相の全ての反応室は鎖錠されることなく相互に確実に連結され、そして酸素を供給する装置及び燃料を供給する装置が前記高温相に設けられる、前記装置において、
前記合成ガス混合物の出口に、水素含量及び／又は前記合成ガス混合物の体積流量を測定するセンサーが設けられ、前記センサーは酸素及び／又は供給燃料の量を制御する装置に接続することを特徴とする、前記装置。
【請求項１５】前記高温相のガス出口側は急速ガス冷却システムに接続し、このガス冷却システムは冷水を前記合成ガス混合物の熱流中に噴射する装置を有することを特徴とする、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】前記合成ガス混合物の出口は、スロットル装置を有することを特徴とする、請求項１４又は１５記載の装置。
【請求項１７】ガス清浄装置が前記合成ガス混合物の出口の前又は後に配置されることを特徴とする、請求項１４〜１６いずれかに記載の装置。
【請求項１８】ガスを利用する装置が合成ガス混合物の出口の後に配置されることを特徴とする、請求項１４〜１７いずれかに記載の装置。
【請求項１９】低温相の反応室は水平に配置されて外側から加熱される長方形断面の炉であって、その炉の高さに対する炉の幅の比は２より大きく、その炉の長さはＬ_furnace≧１５√Ｆ_furnaceの関係式によって与えられ、ここでＦ_furnaceは炉の横断面積であることを特徴とする、請求項１４〜１８いずれかに記載の装置。
【請求項２０】高温相の反応室は立て軸炉として形成され、この炉の基部の上方においてこの炉に前記低温相の反応室が中断することなく連結することを特徴とする、請求項１４〜１９いずれかに記載の装置。
【請求項２１】合成ガスを分離又は調節した後に、水素が水素モーター又は燃料電池に使用され、及び／又は合成ガスが物質として使用されることを特徴とする、請求項１４〜２０いずれかに記載の装置の使用。