JP2003347462A - Method for manufacturing circuit board - Google Patents

Method for manufacturing circuit board

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JP2003347462A
JP2003347462A JP2002157287A JP2002157287A JP2003347462A JP 2003347462 A JP2003347462 A JP 2003347462A JP 2002157287 A JP2002157287 A JP 2002157287A JP 2002157287 A JP2002157287 A JP 2002157287A JP 2003347462 A JP2003347462 A JP 2003347462A
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firing
resistor
circuit board
wiring conductor
manufacturing
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Toru Nomura
徹 野村
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Denso Corp
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Denso Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a circuit board for reducing the man-hours of manufacturing by simultaneously firing a plurality of materials by changing the order of the firing of the respective materials. <P>SOLUTION: A pad conductor 1 for wire bonding and a resistor 3 are respectively printed on a substrate (S1, S2), and they are simultaneously fired (S3). Therefore, it is possible to reduce the man-hours of manufacturing compared with a conventional method for separately firing the pad conductor 1 and the resistor 3. Also, the pad conductor 1 and the resistor 3 are printed with a predetermined pattern so as not to be overlapped with each other on a substrate 5. Therefore, it is possible to prevent any failure that any crack is generated on an alloy layer interface by mutually diffusing those materials even at the time of simultaneously firing those materials. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は回路基板の製造方法
に関するもので、特に、基板上に導体や抵抗体を印刷
し、焼成することにより厚膜回路基板を製造する方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a circuit board, and more particularly to a method for manufacturing a thick-film circuit board by printing and firing a conductor or a resistor on the board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、図8に図示されるようなワイヤボ
ンディング用のパッド導体11と、配線導体12と、抵
抗体13と、保護ガラス14とを基板15上に設けてな
る厚膜回路基板16は、図9及び図10に示す各工程を
実施することにより製造されていた。ここで、図9は、
従来の厚膜回路基板16の製造方法における各工程の流
れを示すフローチャートであり、図10の(a)〜
(d)は、各焼成工程における基板15の状態を示す側
面図である。
2. Description of the Related Art Conventionally, a thick-film circuit board having a pad conductor 11, a wire conductor 12, a resistor 13, and a protective glass 14 provided on a substrate 15 as shown in FIG. 16 was manufactured by performing the steps shown in FIG. 9 and FIG. Here, FIG.
FIG. 11 is a flowchart showing a flow of each step in a conventional method of manufacturing the thick film circuit board 16, and is a flowchart of FIG.
(D) is a side view which shows the state of the board | substrate 15 in each baking process.

【0003】すなわち、図9に示すように、まず、アル
ミナ等の材質からなる基板15を用意し、ワイヤボンデ
ィング用パッド導体11の材料である導体ペーストを所
望のパターンで基板15上に印刷し(S51)、850
℃で焼成することにより(S52)、パッド導体11を
形成する(図10(a))。次に、配線導体12の材料
である導体ペーストを所望のパターンで基板15上に印
刷し(S53)、850℃で焼成することにより(S5
4)、配線導体12を形成する(図10(b)。続い
て、抵抗体13の材料である抵抗体ペーストを所望のパ
ターンで基板15上に印刷し、850℃で焼成すること
により抵抗体13を形成する(図10(c))。最後
に、抵抗体13を覆うように保護ガラス14の材料であ
るガラス材料を印刷し、650℃で焼成することにより
保護ガラス14を形成し(図10(d))、厚膜回路基
板16が完成する(図8)。尚、保護ガラス14の焼成
温度が、他の材料の焼成温度よりも低い650℃に設定
されているのは、既に焼成された抵抗体13をさらに焼
成することにより抵抗値変動が生じる、いわゆる焼成ド
リフトの発生を抑えるためである。
That is, as shown in FIG. 9, first, a substrate 15 made of a material such as alumina is prepared, and a conductor paste, which is a material of the pad conductor 11 for wire bonding, is printed on the substrate 15 in a desired pattern ( S51), 850
The pad conductor 11 is formed by baking at a temperature of ° C. (S52) (FIG. 10A). Next, a conductor paste, which is a material of the wiring conductor 12, is printed on the substrate 15 in a desired pattern (S53) and baked at 850 ° C. (S5).
4), forming a wiring conductor 12 (FIG. 10B), followed by printing a resistor paste, which is a material of the resistor 13, on the substrate 15 in a desired pattern and baking it at 850 ° C. (FIG. 10C) Finally, a glass material, which is a material of the protective glass 14, is printed so as to cover the resistor 13, and is fired at 650 ° C. to form the protective glass 14 (FIG. 10C). 10 (d)), the thick film circuit board 16 is completed (FIG. 8) The firing temperature of the protective glass 14 is set to 650 ° C., which is lower than the firing temperature of other materials, because the firing is already performed. This is in order to suppress the occurrence of a so-called firing drift in which the resistance value fluctuation is caused by further firing the resistor 13 that has been made.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の厚膜回路基板の製造方法では、各材料をそれぞ
れ印刷し、焼成するという工程を4回繰り返さなけらば
ならず、厚膜回路基板の製造に多くの工数を要するとい
う問題があった。特に、焼成工程の工数は、それぞれ1
時間程度であるので、製造工程全体では、焼成に4時間
程度を要していた。
However, in the above-mentioned conventional method for manufacturing a thick film circuit board, the process of printing and firing each material must be repeated four times, and the thick film circuit board is not manufactured. There is a problem that a large number of man-hours are required for manufacturing. In particular, the number of steps in the firing step is 1
Since it takes about 4 hours, it takes about 4 hours for firing in the entire manufacturing process.

【0005】このような問題点に鑑みて、従来、焼成工
数を低減してコストダウンを図るため、パッド導体、配
線導体、抵抗体の3つを同時焼成することの検討が行わ
れてきた。しかしながら、パッド導体、配線導体、及び
抵抗体は、ともに焼成温度が800〜900℃と高く、
同時焼成すると、重なり合った材料相互の拡散が起こる
という問題がある。特に、パッド導体−配線導体間にお
いては、焼成中に両材料が拡散して合金層が成長し、合
金層界面でクラックが発生し、断線不良となる場合があ
る。一方、配線導体−抵抗体間においては、抵抗体に配
線導体が拡散し、抵抗値不良となる不具合が発生しやす
い。そして、このような事情から、これまで各材料の同
時焼成を実現することができなかった。
[0005] In view of such problems, conventionally, to reduce the number of firing steps and to reduce costs, studies have been made on simultaneous firing of three of pad conductors, wiring conductors, and resistors. However, the pad conductor, the wiring conductor, and the resistor all have a high firing temperature of 800 to 900 ° C.,
When co-firing, there is a problem that diffusion between the overlapping materials occurs. In particular, between the pad conductor and the wiring conductor, both materials are diffused during firing, an alloy layer grows, cracks are generated at the interface of the alloy layer, and a disconnection failure may occur. On the other hand, between the wiring conductor and the resistor, a problem that the wiring conductor diffuses into the resistor and the resistance value is defective easily occurs. Under such circumstances, it has not been possible to realize simultaneous firing of each material.

【0006】本発明は、上述した問題点に鑑み、各材料
を焼成する順序を変更して複数材料を同時焼成すること
により製造工数を低減した回路基板の製造方法を提供す
ることを解決すべき課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention is to solve the problem of providing a method of manufacturing a circuit board in which the number of manufacturing steps is reduced by simultaneously firing a plurality of materials while changing the firing order of each material. Make it an issue.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、請求項1に記載の回路基板製造方法は、ワイヤボン
ディング用のパッド導体と、配線導体と、抵抗体とをそ
れぞれ基板上に印刷し、焼成することにより回路基板を
製造する方法であって、前記パッド導体と前記抵抗体と
を前記基板上にそれぞれ印刷し、これらを同時に焼成す
ることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a circuit board manufacturing method, wherein a pad conductor for wire bonding, a wiring conductor, and a resistor are printed on the substrate. A method of manufacturing a circuit board by firing and printing the pad conductor and the resistor on the substrate and firing them simultaneously.

【0008】従って、パッド導体と抵抗体とを同時焼成
することにより、焼成回数を削減して製造工数の低減を
図ることができる。また、パッド導体と抵抗体とは、基
板上で重なりをもたない所定パターンで印刷されるの
で、同時焼成を行ってもこれらの材料が相互拡散して合
金層界面にクラックが生じる等の不具合は発生しない。
Accordingly, by simultaneously firing the pad conductor and the resistor, the number of firings can be reduced and the number of manufacturing steps can be reduced. In addition, since the pad conductor and the resistor are printed on the substrate in a predetermined pattern having no overlap, even if co-firing, these materials interdiffuse and cracks occur at the interface of the alloy layer. Does not occur.

【0009】また、請求項2に記載の回路基板製造方法
は、前記パッド導体及び前記抵抗体の同時焼成後に、前
記配線導体の印刷及び焼成を行うことを特徴とする。
In a second aspect of the present invention, the wiring conductor is printed and fired after simultaneous firing of the pad conductor and the resistor.

【0010】従って、パッド導体及び抵抗体の焼成後
に、これらと重なり部分を有する配線導体の印刷及び焼
成を行うので、材料間の相互拡散の発生が防止される。
Therefore, after the pad conductor and the resistor are fired, the wiring conductor having an overlapping portion with the pad conductor and the resistor is printed and fired, so that mutual diffusion between materials is prevented.

【0011】また、請求項3に記載の回路基板製造方法
は、前記パッド導体及び前記抵抗体の同時焼成後に、さ
らに保護ガラスを前記基板上に印刷し、前記配線導体及
び前記保護ガラスを同時に焼成することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the method of manufacturing a circuit board, after simultaneously firing the pad conductor and the resistor, a protective glass is further printed on the substrate, and the wiring conductor and the protective glass are simultaneously fired. It is characterized by doing.

【0012】従って、パッド導体及び抵抗体の同時焼成
後に形成される配線導体と保護ガラスとを同時焼成する
ことにより、焼成回数をさらに削減して製造工数のさら
なる低減を図ることができる。
Accordingly, by simultaneously firing the protective glass and the wiring conductor formed after the simultaneous firing of the pad conductor and the resistor, the number of firings can be further reduced, and the number of manufacturing steps can be further reduced.

【0013】また、請求項4に記載の回路基板製造方法
は、前記パッド導体及び前記抵抗体を第一の焼成温度で
焼成し、前記配線導体及び前記保護ガラスを前記第一の
焼成温度よりも低い第二の焼成温度で焼成することを特
徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the circuit board manufacturing method, the pad conductor and the resistor are fired at a first firing temperature, and the wiring conductor and the protective glass are fired at a temperature lower than the first firing temperature. It is characterized by firing at a low second firing temperature.

【0014】従って、配線導体及び前記保護ガラスを、
パッド導体及び抵抗体の焼成温度である第一の焼成温度
よりも低い第二の焼成温度で焼成するので、前工程で焼
成された抵抗体が、後工程である配線導体及び保護ガラ
スの焼成工程においてさらに焼成されて抵抗値が変化す
るいわゆる焼成ドリフトの発生が防止される。
Therefore, the wiring conductor and the protective glass are
Since the firing is performed at a second firing temperature lower than the first firing temperature that is the firing temperature of the pad conductor and the resistor, the resistor fired in the previous process is replaced with the wiring conductor and protective glass firing process in the subsequent process. In this case, the occurrence of a so-called firing drift in which the resistance is changed by further firing is prevented.

【0015】また、請求項5に記載の回路基板製造方法
は、前記第一の焼成温度を800〜900℃とし、前記
第二の焼成温度を500〜700℃としたことを特徴と
する。
In the method of manufacturing a circuit board according to a fifth aspect, the first firing temperature is set to 800 to 900 ° C., and the second firing temperature is set to 500 to 700 ° C.

【0016】従って、パッド導体及び抵抗体は、800
〜900℃で良好に焼成され、配線導体及び保護ガラス
は、500〜700℃で抵抗体における焼成ドリフトの
発生を抑えつつ良好に焼成される。
Therefore, the pad conductor and the resistor are 800
The firing is preferably performed at a temperature of up to 900 ° C., and the wiring conductor and the protective glass are preferably fired at a temperature of 500 to 700 ° C. while suppressing occurrence of firing drift in the resistor.

【0017】また、請求項6に記載の回路基板製造方法
は、前記配線導体として、前記第二の焼成温度で焼成可
能な材質を用いたことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a circuit board, a material that can be fired at the second firing temperature is used as the wiring conductor.

【0018】従って、抵抗体の焼成ドリフトを防止しつ
つ、配線導体と保護ガラスとの同時焼成を良好に行うこ
とができる。
Accordingly, it is possible to satisfactorily fire the wiring conductor and the protective glass simultaneously while preventing the firing drift of the resistor.

【0019】また、請求項7に記載の回路基板製造方法
は、前記配線導体に含まれる揮発成分として、分解温度
が前記保護ガラスの焼結開始温度以下の材質を用いたこ
とを特徴とする。
In the method for manufacturing a circuit board according to a seventh aspect of the present invention, a material having a decomposition temperature equal to or lower than a sintering start temperature of the protective glass is used as a volatile component contained in the wiring conductor.

【0020】従って、配線導体と保護ガラスとを同時焼
成する際に、配線導体に含まれる揮発成分が分解した後
に保護ガラスの焼結が開始するので、配線導体の少なく
とも一部を覆うように設けられる保護ガラス中にピンホ
ールが形成されることを防止できる。
Therefore, when simultaneously sintering the wiring conductor and the protective glass, sintering of the protective glass starts after the volatile component contained in the wiring conductor is decomposed, so that it is provided so as to cover at least a part of the wiring conductor. A pinhole can be prevented from being formed in the protective glass.

【0021】また、請求項8に記載の回路基板製造方法
は、配線導体と、抵抗体と、保護ガラスとをそれぞれ基
板上に印刷及び焼成することにより回路基板を製造する
方法であって、前記配線導体と前記保護ガラスとを前記
基板上にそれぞれ印刷し、これらを同時に焼成すること
を特徴とする。
In a preferred embodiment of the present invention, the circuit board is manufactured by printing and firing a wiring conductor, a resistor, and a protective glass on the board, respectively. A wiring conductor and the protective glass are printed on the substrate, respectively, and are fired simultaneously.

【0022】従って、配線導体と保護ガラスとを同時焼
成することにより、焼成回数を削減して製造工数の低減
を図ることができる。
Therefore, by simultaneously firing the wiring conductor and the protective glass, the number of firings can be reduced, and the number of manufacturing steps can be reduced.

【0023】また、請求項9に記載の回路基板製造方法
は、前記抵抗体の印刷及び焼成後に、前記配線導体及び
前記保護ガラスの印刷及び同時焼成を行うことを特徴と
する。
According to a ninth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a circuit board, after the printing and firing of the resistor, printing and simultaneous firing of the wiring conductor and the protective glass are performed.

【0024】従って、抵抗体の印刷及び焼成後に、抵抗
体との重なりをもつ配線導体及び抵抗体を覆う保護ガラ
スの印刷及び同時焼成を行うので、抵抗体と配線導体と
の重なり部分において材料同士の相互拡散が生じること
が防止される。
Therefore, after printing and firing the resistor, printing and simultaneous firing of the wiring conductor overlapping the resistor and the protective glass covering the resistor are performed, so that the materials are not overlapped in the overlapping portion of the resistor and the wiring conductor. Is prevented from occurring.

【0025】また、請求項10に記載の回路基板製造方
法は、前記抵抗体を第一の焼成温度で焼成し、前記配線
導体及び前記保護ガラスを前記第一の焼成温度よりも低
い第二の焼成温度で焼成することを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in the circuit board manufacturing method, the resistor is fired at a first firing temperature, and the wiring conductor and the protective glass are fired at a second firing temperature lower than the first firing temperature. It is characterized by firing at a firing temperature.

【0026】従って、配線導体及び前記保護ガラスを、
抵抗体の焼成温度である第一の焼成温度よりも低い第二
の焼成温度で焼成するので、前工程で焼成された抵抗体
が、後工程である配線導体及び保護ガラスの焼成工程に
おいてさらに焼成されて抵抗値が変化するいわゆる焼成
ドリフトの発生が防止される。
Therefore, the wiring conductor and the protective glass are
Since the firing is performed at a second firing temperature lower than the first firing temperature which is the firing temperature of the resistor, the resistor fired in the previous process is further fired in the subsequent process of firing the wiring conductor and the protective glass. Thus, a so-called firing drift in which the resistance value changes is prevented.

【0027】また、請求項11に記載の回路基板製造方
法は、前記第一の焼成温度を800〜900℃とし、前
記第二の焼成温度を500〜700℃としたことを特徴
とする。
The method of manufacturing a circuit board according to claim 11 is characterized in that the first sintering temperature is 800 to 900 ° C. and the second sintering temperature is 500 to 700 ° C.

【0028】従って、抵抗体は、800〜900℃で良
好に焼成され、配線導体及び保護ガラスは、500〜7
00℃で抵抗体における焼成ドリフトの発生を抑えつつ
良好に焼成される。
Therefore, the resistor is fired well at 800 to 900 ° C., and the wiring conductor and the protective glass are 500 to 7 mm.
At 00 ° C., sintering is performed favorably while suppressing the occurrence of firing drift in the resistor.

【0029】また、請求項12に記載の回路基板製造方
法は、前記配線導体として、前記第二の焼成温度で焼成
可能な材質を用いたことを特徴とする。
A twelfth aspect of the present invention is a method of manufacturing a circuit board, wherein a material that can be fired at the second firing temperature is used as the wiring conductor.

【0030】従って、抵抗体の焼成ドリフトを防止しつ
つ、配線導体と保護ガラスとの同時焼成を良好に行うこ
とができる。
Therefore, it is possible to satisfactorily fire the wiring conductor and the protective glass simultaneously while preventing the firing drift of the resistor.

【0031】また、請求項13に記載の回路基板製造方
法は、前記配線導体に含まれる揮発成分として、分解温
度が前記保護ガラスの焼結開始温度以下の材質を用いた
ことを特徴とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a circuit board, a material having a decomposition temperature equal to or lower than a sintering start temperature of the protective glass is used as a volatile component contained in the wiring conductor.

【0032】従って、配線導体と保護ガラスとを同時焼
成する際に、配線導体に含まれる揮発成分が分解した後
に保護ガラスの焼結が開始するので、配線導体の少なく
とも一部を覆うように設けられる保護ガラス中にピンホ
ールが形成されることを防止できる。
Therefore, when simultaneously sintering the wiring conductor and the protective glass, sintering of the protective glass starts after the volatile component contained in the wiring conductor is decomposed, so that it is provided so as to cover at least a part of the wiring conductor. A pinhole can be prevented from being formed in the protective glass.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、本発明の厚膜回路基板の製
造方法を具体化した各実施形態について、図面を参照し
つつ説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a method for manufacturing a thick film circuit board according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0034】まず、本発明の第一の実施形態である厚膜
回路基板の製造方法について、図1乃至図3を参照しつ
つ説明する。
First, a method of manufacturing a thick-film circuit board according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0035】図1は、本実施形態における厚膜回路基板
の製造工程の全体の流れを示すフローチャートである。
図2の(a)〜(d)は、各焼成工程における基板5の
状態を示す側面図である。図3は、本実施形態の製造方
法において製造された厚膜回路基板を示す側面図であ
る。
FIG. 1 is a flowchart showing the overall flow of the manufacturing process of the thick film circuit board in the present embodiment.
FIGS. 2A to 2D are side views showing the state of the substrate 5 in each firing step. FIG. 3 is a side view showing a thick film circuit board manufactured by the manufacturing method of the present embodiment.

【0036】まず、導体厚膜等を形成するためのアルミ
ナ等の材質からなる基板5を用意する(図1フローチャ
ート参照、以下の各工程も同様)。
First, a substrate 5 made of a material such as alumina for forming a conductor thick film or the like is prepared (see the flowchart of FIG. 1, and the following steps are the same).

【0037】最初に、ワイヤボンディング用のパッド導
体1の材料であるAg、Ag−Pd、Au等の導体ペー
ストを所望のパターンで基板5上に印刷し(S1)、さ
らに、抵抗体3の材料であるRuO2等の抵抗体ペース
トを所望のパターンで基板5上に印刷する(S2)。こ
こで、パッド導体1と抵抗体3とは、基板5上で重なり
をもたない所定パターンで印刷される。パッド導体1及
び抵抗体3の印刷は、スクリーン印刷等の公知の印刷方
法により実施される(後述する他の印刷工程も同様)。
また、S1、S2はいずれの工程を先に実施しても構わ
ない。
First, a conductor paste such as Ag, Ag-Pd, Au or the like, which is the material of the pad conductor 1 for wire bonding, is printed on the substrate 5 in a desired pattern (S1). printed on the substrate 5 a resistor paste of RuO 2 or the like is in a desired pattern (S2). Here, the pad conductor 1 and the resistor 3 are printed on the substrate 5 in a predetermined pattern having no overlap. The printing of the pad conductor 1 and the resistor 3 is performed by a known printing method such as screen printing (the same applies to other printing processes described later).
In addition, any of S1 and S2 may be performed first.

【0038】続いて、パッド導体1と抵抗体3とを80
0〜900℃(第一の焼成温度)で同時焼成する(S
3)。焼成時間は、基板の大きさ等の条件により適宜設
定されるが、例えば、1時間程度である(他の焼成工程
も同様)。このとき、パッド導体1と抵抗体3とは重な
り部分を有しないので、同時焼成を行っても両材料が相
互拡散することがなく、従って合金層の成長により層界
面部分にクラックが生じる等の不具合が生じることがな
い。
Subsequently, the pad conductor 1 and the resistor 3 are
Simultaneous firing at 0 to 900 ° C (first firing temperature) (S
3). The baking time is appropriately set depending on conditions such as the size of the substrate, and is, for example, about one hour (the same applies to other baking steps). At this time, since the pad conductor 1 and the resistor 3 do not have an overlapping portion, the two materials do not mutually diffuse even if co-firing is performed. Therefore, cracks occur at the layer interface due to the growth of the alloy layer. No failures occur.

【0039】次に、配線導体2の材料であるCu、Ag
等の導体ペーストを所望のパターンで基板5上に印刷し
(S4)、続いて800〜900℃で焼成することによ
り(S5)、配線導体2を形成する(図2(b))。こ
こで、配線導体2は、パッド導体1や抵抗体3を電気的
に接続するために設けられるので、これらとの重なりを
もつ所定パターンで印刷される。
Next, Cu, Ag which are the materials of the wiring conductor 2 are used.
Is printed on the substrate 5 in a desired pattern (S4), and then baked at 800 to 900 ° C. (S5) to form the wiring conductor 2 (FIG. 2B). Here, since the wiring conductor 2 is provided for electrically connecting the pad conductor 1 and the resistor 3, the wiring conductor 2 is printed in a predetermined pattern overlapping with these.

【0040】最後に、保護ガラス4の材料であるPbO
系等のガラス材料を、基板5上の抵抗体3及び配線導体
2の少なくとも一部を覆うように印刷し(S6)、50
0〜700℃(第二の焼成温度)で焼成することにより
(S7)、保護ガラス4を形成する(図2(c))。こ
こで、保護ガラス4は、抵抗体3を外部からの湿気や雰
囲気から遮蔽し保護するために設けられるものである。
また、保護ガラス4の焼成温度が、他の材料の焼成温度
よりも低い500〜700℃に設定されているのは、前
工程で焼成された抵抗体3を、後工程でさらに焼成する
ことにより抵抗値変動が生じる、いわゆる焼成ドリフト
の発生を抑制するためである。
Finally, PbO which is a material of the protective glass 4 is used.
A glass material such as a system is printed so as to cover at least a part of the resistor 3 and the wiring conductor 2 on the substrate 5 (S6), 50
By baking at 0 to 700 ° C. (second baking temperature) (S7), the protective glass 4 is formed (FIG. 2C). Here, the protective glass 4 is provided to shield and protect the resistor 3 from external moisture and atmosphere.
The firing temperature of the protective glass 4 is set at 500 to 700 ° C., which is lower than the firing temperature of other materials, because the resistor 3 fired in the previous step is fired further in the subsequent step. This is to suppress the occurrence of the so-called firing drift in which the resistance value fluctuates.

【0041】以上のS1〜S7の各工程を経て、図3に
示す厚膜回路基板6が完成する。
Through the above steps S1 to S7, the thick film circuit board 6 shown in FIG. 3 is completed.

【0042】上述したことから明らかなように、本実施
形態によれば、パッド導体1及び抵抗体3を同時焼成す
ることにより、焼成工程の回数を従来方法の4回から3
回に削減し、厚膜回路基板の製造工数の低減を図ること
ができる。
As is clear from the above, according to the present embodiment, the pad conductor 1 and the resistor 3 are simultaneously fired, so that the number of firing steps is reduced from four in the conventional method to three.
And the number of manufacturing steps for the thick film circuit board can be reduced.

【0043】次に、本発明の第二の実施形態である厚膜
回路基板の製造方法について、図4及び図5を参照しつ
つ説明する。第二の実施形態は、配線導体と保護ガラス
とを同時焼成することにより製造工数の低減を図るもの
である。
Next, a method of manufacturing a thick film circuit board according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the second embodiment, the number of manufacturing steps is reduced by simultaneously firing the wiring conductor and the protective glass.

【0044】図4は、本実施形態における厚膜回路基板
の製造工程の全体の流れを示すフローチャートである。
図5の(a)〜(c)は、各焼成工程における基板5の
状態を示す側面図である。
FIG. 4 is a flowchart showing the overall flow of the manufacturing process of the thick film circuit board in this embodiment.
FIGS. 5A to 5C are side views showing the state of the substrate 5 in each firing step.

【0045】まず、導体厚膜等を形成するためのアルミ
ナ等の材質からなる基板5を用意する(図4フローチャ
ート参照、以下の各工程も同様)。
First, a substrate 5 made of a material such as alumina for forming a conductor thick film or the like is prepared (see the flowchart of FIG. 4, the same applies to the following steps).

【0046】最初に、ワイヤボンディング用のパッド導
体1の材料であるAg、Ag−Pd、Au等の導体ペー
ストを所望のパターンで基板5上に印刷し(S11)、
続いて、800〜900℃(第一の焼成温度)で焼成す
ることにより(S12)、パッド導体1を形成する(図
5(a))。焼成時間は、基板の大きさ等の条件により
適宜設定されるが、例えば、1時間程度である(他の焼
成工程も同様)。
First, a conductor paste such as Ag, Ag-Pd, or Au, which is a material of the pad conductor 1 for wire bonding, is printed on the substrate 5 in a desired pattern (S11).
Subsequently, the pad conductor 1 is formed by firing at 800 to 900 ° C. (first firing temperature) (S12) (FIG. 5A). The baking time is appropriately set depending on conditions such as the size of the substrate, and is, for example, about one hour (the same applies to other baking steps).

【0047】次に、抵抗体3の材料であるRuO2等の
抵抗体ペーストを所望のパターンで基板5上に印刷し
(S13)、続いて、800〜900℃で焼成すること
により(S14)、抵抗体3を形成する(図5
(b))。
Next, a resistor paste such as RuO 2, which is a material of the resistor 3, is printed on the substrate 5 in a desired pattern (S 13), followed by baking at 800 to 900 ° C. (S 14). And the resistor 3 (FIG. 5)
(B)).

【0048】次に、配線導体2の材料であるCu、Ag
等の導体ペーストを所望のパターンで基板5上に印刷し
(S15)、さらに、抵抗体3及び配線導体2の少なく
とも一部を覆うように保護ガラス4の材料であるPbO
系等のガラス材料を印刷する(S16)。ここで、本実
施形態で配線導体2の材料として用いるCu、Ag等
は、500〜700℃程度の低温で焼成可能な性質を有
している。
Next, Cu and Ag which are the materials of the wiring conductor 2 are used.
Is printed in a desired pattern on the substrate 5 (S15), and PbO, which is a material of the protective glass 4, is covered so as to cover at least a part of the resistor 3 and the wiring conductor 2.
A glass material such as a system is printed (S16). Here, Cu, Ag, or the like used as the material of the wiring conductor 2 in the present embodiment has a property that it can be fired at a low temperature of about 500 to 700 ° C.

【0049】最後に、配線導体2と保護ガラス4とを、
500〜700℃(第二の焼成温度)で同時焼成するこ
とにより(S17)、配線導体2及び保護ガラス4を形
成する(図5(c))。
Finally, the wiring conductor 2 and the protective glass 4 are
Simultaneous firing at 500 to 700 ° C. (second firing temperature) (S17) forms the wiring conductor 2 and the protective glass 4 (FIG. 5C).

【0050】以上のS11〜S17の各工程を経て、図
3に示す厚膜回路基板6が完成する。
Through the above steps S11 to S17, the thick film circuit board 6 shown in FIG. 3 is completed.

【0051】尚、配線導体2と保護ガラス4とを同時焼
成した場合、導体材料中に含まれる揮発成分(例えば、
樹脂材料又は溶剤)によって、保護ガラス4にピンホー
ルが形成されて、耐湿性の低下を招くおそれがある。こ
のため、配線導体2中の揮発成分として、分解温度が保
護ガラス4の焼結開始温度よりも低い材質を用いること
が望ましい。例えば、保護ガラス4の焼結開始温度が4
50℃である場合、分解温度が400℃である樹脂又は
溶剤等を揮発成分として好適に用いることができる。
When the wiring conductor 2 and the protective glass 4 are co-fired, volatile components (for example,
A pinhole is formed in the protective glass 4 by the resin material or the solvent), which may cause a decrease in moisture resistance. Therefore, it is desirable to use a material having a decomposition temperature lower than the sintering start temperature of the protective glass 4 as a volatile component in the wiring conductor 2. For example, the sintering start temperature of the protective glass 4 is 4
When the temperature is 50 ° C., a resin or a solvent having a decomposition temperature of 400 ° C. can be suitably used as a volatile component.

【0052】以上説明したことから明らかなように、本
実施形態によれば、配線導体と保護ガラスとを同時焼成
するので、焼成工程の回数を従来方法における4回から
3回に削減し、厚膜回路基板の製造工数の低減を図るこ
とができる。
As is apparent from the above description, according to this embodiment, since the wiring conductor and the protective glass are simultaneously fired, the number of firing steps is reduced from four in the conventional method to three, and the thickness is reduced. The number of manufacturing steps for the membrane circuit board can be reduced.

【0053】次に、本発明の第三の実施形態である厚膜
回路基板の製造方法について、図6及び図7を参照しつ
つ説明する。第三の実施形態は、パッド導体と抵抗体と
の同時焼成、及び配線導体と保護ガラスとの同時焼成を
行うことにより製造工数のさらなる低減を図ったもので
ある。
Next, a method for manufacturing a thick film circuit board according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the third embodiment, the number of manufacturing steps is further reduced by performing simultaneous firing of the pad conductor and the resistor and simultaneous firing of the wiring conductor and the protective glass.

【0054】図6は、本実施形態における厚膜回路基板
の製造工程の全体の流れを示すフローチャートである。
図7の(a)〜(b)は、各焼成工程における基板5の
状態を示す側面図である。
FIG. 6 is a flowchart showing the entire flow of the manufacturing process of the thick film circuit board in this embodiment.
FIGS. 7A and 7B are side views showing the state of the substrate 5 in each firing step.

【0055】まず、導体厚膜等を形成するためのアルミ
ナ等の材質からなる基板5を用意する(図6フローチャ
ート参照、以下の各工程も同様)。
First, a substrate 5 made of a material such as alumina for forming a conductor thick film or the like is prepared (see the flowchart of FIG. 6, the same applies to the following steps).

【0056】最初に、ワイヤボンディング用のパッド導
体1の材料であるAg、Ag−Pd、Au等の導体ペー
ストを所望のパターンで基板5上に印刷し(S21)、
さらに、抵抗体3の材料であるRuO2等の抵抗体ペー
ストを所望のパターンで基板5上に印刷する(S2
2)。ここで、パッド導体1と抵抗体3とは、基板5上
で重なりをもたなり所定パターンで印刷される。パッド
導体1及び抵抗体3の印刷は、スクリーン印刷等の公知
の印刷方法により実施される(他の印刷工程も同様)。
また、S21、S22はいずれの工程を先に実施しても
構わない。
First, a conductor paste such as Ag, Ag-Pd, Au or the like, which is a material of the pad conductor 1 for wire bonding, is printed on the substrate 5 in a desired pattern (S21).
Further, a resistor paste such as RuO 2 as a material of the resistor 3 is printed on the substrate 5 in a desired pattern (S2).
2). Here, the pad conductor 1 and the resistor 3 are overlapped on the substrate 5 and are printed in a predetermined pattern. The printing of the pad conductor 1 and the resistor 3 is performed by a known printing method such as screen printing (the same applies to other printing processes).
In addition, any of steps S21 and S22 may be performed first.

【0057】続いて、パッド導体1と抵抗体3とを80
0〜900℃(第一の焼成温度)で同時焼成し(S2
3)、パッド導体1及び抵抗体3を形成する(図7
(a))。焼成時間は、基板の大きさ等の条件により適
宜設定されるが、例えば、1時間程度である(他の焼成
工程も同様)。このとき、パッド導体1と抵抗体3とは
重なり部分を有しないので、同時焼成を行っても両材料
が相互拡散することがなく、従って合金層の成長により
層界面部分にクラックが生じる等の不具合が生じること
がない。
Subsequently, the pad conductor 1 and the resistor 3 are
Simultaneous firing at 0 to 900 ° C (first firing temperature) (S2
3), forming the pad conductor 1 and the resistor 3 (FIG. 7)
(A)). The baking time is appropriately set depending on conditions such as the size of the substrate, and is, for example, about one hour (the same applies to other baking steps). At this time, since the pad conductor 1 and the resistor 3 do not have an overlapping portion, the two materials do not mutually diffuse even if co-firing is performed. Therefore, cracks occur at the layer interface due to the growth of the alloy layer. No failures occur.

【0058】次に、配線導体2の材料であるCu、Ag
等の導体ペーストを所望のパターンで基板5上に印刷し
(S24)、さらに、抵抗体3及び配線導体2の少なく
とも一部を覆うように保護ガラス4の材料であるPbO
系等のガラス材料を印刷する(S25)。尚、第二の実
施形態と同様に、本実施形態においても、配線導体2の
材料として低温(500〜700℃)で焼成可能な材料
(Cu、Ag等)を用いている。また、保護ガラス4中
にピンホールが形成されることを防止するために、配線
導体2中の揮発成分として、分解温度が保護ガラス4の
焼結開始温度よりも低い材質(樹脂又は溶剤等)を用い
ることが望ましいことも第二の実施形態と同様である。
Next, Cu and Ag which are the materials of the wiring conductor 2 are used.
Is printed on the substrate 5 in a desired pattern (S24), and PbO, which is a material of the protective glass 4, is covered so as to cover at least a part of the resistor 3 and the wiring conductor 2.
A glass material such as a system is printed (S25). Note that, similarly to the second embodiment, also in this embodiment, a material (Cu, Ag, etc.) that can be fired at a low temperature (500 to 700 ° C.) is used as the material of the wiring conductor 2. In order to prevent pinholes from being formed in the protective glass 4, as a volatile component in the wiring conductor 2, a material (such as a resin or a solvent) whose decomposition temperature is lower than the sintering start temperature of the protective glass 4. It is desirable to use the same as in the second embodiment.

【0059】最後に、配線導体2と保護ガラス4とを、
500〜700℃(第二の焼成温度)で同時焼成するこ
とにより(S26)、配線導体2及び保護ガラス4を形
成する(図7(b))。
Finally, the wiring conductor 2 and the protective glass 4 are
Simultaneous firing at 500 to 700 ° C. (second firing temperature) (S26) forms the wiring conductor 2 and the protective glass 4 (FIG. 7B).

【0060】以上のS21〜S26の各工程を経て、図
3に示す厚膜回路基板6が完成する。
Through the above steps S21 to S26, the thick film circuit board 6 shown in FIG. 3 is completed.

【0061】以上説明したことから明らかなように、本
実施形態によれば、パッド導体及び抵抗体、配線導体及
び保護ガラスを、それぞれ同時焼成することにより、焼
成工程の回数を従来方法における4回から2回に削減
し、厚膜回路基板の製造工数のさらなる低減を図ること
ができる。
As is apparent from the above description, according to this embodiment, the pad conductor and the resistor, the wiring conductor and the protective glass are simultaneously fired, respectively, so that the number of firing steps is four times that in the conventional method. , And the number of manufacturing steps for the thick film circuit board can be further reduced.

【0062】尚、本発明は上述した各実施形態に限定さ
れるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種
々の変更を施すことが可能である。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes can be made without departing from the gist of the present invention.

【0063】例えば、前記各実施形態における焼成温度
や焼成時間は一例であって、種々の条件に応じて最適な
温度や時間等が設定されるべきである。
For example, the firing temperature and the firing time in each of the above embodiments are merely examples, and the optimum temperature and time should be set according to various conditions.

【0064】また、前記各実施形態では、基板上にワイ
ヤボンディング用のパッド導体、配線導体、抵抗体、保
護ガラスを設けた厚膜回路基板に本発明を適用したが、
パッド導体又は保護ガラスを設けない回路基板に本発明
を適用することも可能である。
Further, in each of the above embodiments, the present invention is applied to a thick film circuit board provided with a pad conductor, a wiring conductor, a resistor, and a protective glass for wire bonding on the board.
The present invention can be applied to a circuit board without a pad conductor or a protective glass.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上述べたように本発明の請求項1乃至
7のいずれかに記載の回路基板の製造方法によれば、基
板上で重なりをもたない所定パターンで印刷されるパッ
ド導体と抵抗体とを同時焼成することにより、材料同士
の相互拡散を生じることなく、焼成回数を削減して製造
工数の低減を図ることができる。
As described above, according to the method for manufacturing a circuit board according to any one of claims 1 to 7 of the present invention, the pad conductor printed in a predetermined pattern having no overlap on the board is provided. By simultaneously firing the resistor and the resistor, the number of firings can be reduced and the number of manufacturing steps can be reduced without causing mutual diffusion of the materials.

【0066】また、請求項8乃至13のいずれかに記載
の回路基板製造方法によれば、配線導体と保護ガラスと
を同時焼成することにより、焼成回数を削減して製造工
数の低減を図ることができる。
According to the circuit board manufacturing method of the present invention, the wiring conductor and the protective glass are simultaneously fired, so that the number of firings is reduced and the number of manufacturing steps is reduced. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第一の実施形態における厚膜回路基
板の製造方法の各工程の流れを示すフローチャートであ
る。
FIG. 1 is a flowchart showing a flow of each step of a method for manufacturing a thick film circuit board according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 第一の実施形態の各焼成工程における基板の
側面図である。
FIG. 2 is a side view of the substrate in each firing step of the first embodiment.

【図3】 第一の実施形態の製造方法により製造された
厚膜回路基板を示す側面図である。
FIG. 3 is a side view showing the thick-film circuit board manufactured by the manufacturing method of the first embodiment.

【図4】 第二の実施形態における厚膜回路基板の製造
方法の各工程の流れを示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing a flow of each step of a method for manufacturing a thick film circuit board according to a second embodiment.

【図5】 第二の実施形態の各焼成工程における基板の
側面図である。
FIG. 5 is a side view of the substrate in each firing step of the second embodiment.

【図6】 第三の実施形態における厚膜回路基板の製造
方法の各工程の流れを示すフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart showing a flow of each step of a method of manufacturing a thick film circuit board according to a third embodiment.

【図7】 第三の実施形態の各焼成工程における基板の
側面図である。
FIG. 7 is a side view of the substrate in each firing step of the third embodiment.

【図8】 従来例における厚膜回路基板を示す側面図で
ある。
FIG. 8 is a side view showing a conventional thick film circuit board.

【図9】 従来例における厚膜回路基板の製造方法の各
工程の流れを示すフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing a flow of each step of a method for manufacturing a thick film circuit board in a conventional example.

【図10】 従来例の各焼成工程における基板の側面図
である。
FIG. 10 is a side view of the substrate in each firing step of the conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…パッド導体、2…配線導体、3…抵抗体、4…保護
ガラス、5…基板、6…厚膜回路基板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Pad conductor, 2 ... Wiring conductor, 3 ... Resistor, 4 ... Protective glass, 5 ... Substrate, 6 ... Thick film circuit board.

フロントページの続き Fターム(参考) 4E351 AA07 BB01 BB05 BB31 CC11 CC22 CC31 DD04 DD05 DD06 DD20 DD22 GG20 5E314 AA06 BB06 CC07 DD06 FF02 FF13 FF14 FF24 GG24 5E343 AA23 BB23 BB24 BB25 BB49 DD03 DD64 ER33 ER39 ER42 FF11 GG08 GG11 GG20 Continuation of front page    F term (reference) 4E351 AA07 BB01 BB05 BB31 CC11                       CC22 CC31 DD04 DD05 DD06                       DD20 DD22 GG20                 5E314 AA06 BB06 CC07 DD06 FF02                       FF13 FF14 FF24 GG24                 5E343 AA23 BB23 BB24 BB25 BB49                       DD03 DD64 ER33 ER39 ER42                       FF11 GG08 GG11 GG20

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワイヤボンディング用のパッド導体と、
配線導体と、抵抗体とをそれぞれ基板上に印刷し、焼成
することにより回路基板を製造する方法であって、 前記パッド導体と前記抵抗体とを前記基板上にそれぞれ
印刷し、これらを同時に焼成することを特徴とする回路
基板製造方法。
1. A pad conductor for wire bonding,
A method of manufacturing a circuit board by printing a wiring conductor and a resistor on a substrate, respectively, and firing the printed circuit board, wherein the pad conductor and the resistor are respectively printed on the substrate, and fired simultaneously. A method for manufacturing a circuit board.
【請求項2】 前記パッド導体及び前記抵抗体の同時焼
成後に、前記配線導体の印刷及び焼成を行うことを特徴
とする請求項1に記載の回路基板製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein printing and firing of the wiring conductor are performed after simultaneous firing of the pad conductor and the resistor.
【請求項3】 前記パッド導体及び前記抵抗体の同時焼
成後に、さらに保護ガラスを前記基板上に印刷し、前記
配線導体及び前記保護ガラスを同時に焼成することを特
徴とする請求項2に記載の回路基板製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein after the simultaneous firing of the pad conductor and the resistor, a protective glass is further printed on the substrate, and the wiring conductor and the protective glass are simultaneously fired. Circuit board manufacturing method.
【請求項4】 前記パッド導体及び前記抵抗体を第一の
焼成温度で焼成し、前記配線導体及び前記保護ガラスを
前記第一の焼成温度よりも低い第二の焼成温度で焼成す
ることを特徴とする請求項3に記載の回路基板製造方
法。
4. The method according to claim 1, wherein the pad conductor and the resistor are fired at a first firing temperature, and the wiring conductor and the protective glass are fired at a second firing temperature lower than the first firing temperature. The method for manufacturing a circuit board according to claim 3, wherein
【請求項5】 前記第一の焼成温度を800〜900℃
とし、前記第二の焼成温度を500〜700℃としたこ
とを特徴とする請求項4に記載の回路基板製造方法。
5. The first sintering temperature is 800 to 900 ° C.
The method according to claim 4, wherein the second firing temperature is set to 500 to 700C.
【請求項6】 前記配線導体として、前記第二の焼成温
度で焼成可能な材質を用いたことを特徴とする請求項4
又は5に記載の回路基板製造方法。
6. A material that can be fired at the second firing temperature as the wiring conductor.
Or the circuit board manufacturing method according to 5.
【請求項7】 前記配線導体に含まれる揮発成分とし
て、分解温度が前記保護ガラスの焼結開始温度以下の材
質を用いたことを特徴とする請求項3乃至6のいずれか
に記載の回路基板製造方法。
7. The circuit board according to claim 3, wherein a material having a decomposition temperature equal to or lower than a sintering start temperature of the protective glass is used as a volatile component contained in the wiring conductor. Production method.
【請求項8】 配線導体と、抵抗体と、保護ガラスとを
それぞれ基板上に印刷及び焼成することにより回路基板
を製造する方法であって、 前記配線導体と前記保護ガラスとを前記基板上にそれぞ
れ印刷し、これらを同時に焼成することを特徴とする回
路基板製造方法。
8. A method of manufacturing a circuit board by printing and firing a wiring conductor, a resistor, and a protective glass on a substrate, respectively, wherein the wiring conductor and the protective glass are provided on the substrate. A method for manufacturing a circuit board, comprising printing each of them and firing them simultaneously.
【請求項9】 前記抵抗体の印刷及び焼成後に、前記配
線導体及び前記保護ガラスの印刷及び同時焼成を行うこ
とを特徴とする請求項8に記載の回路基板製造方法。
9. The method according to claim 8, wherein printing and simultaneous firing of the wiring conductor and the protective glass are performed after printing and firing of the resistor.
【請求項10】 前記抵抗体を第一の焼成温度で焼成
し、前記配線導体及び前記保護ガラスを前記第一の焼成
温度よりも低い第二の焼成温度で焼成することを特徴と
する請求項8又は9に記載の回路基板製造方法。
10. The method according to claim 1, wherein the resistor is fired at a first firing temperature, and the wiring conductor and the protective glass are fired at a second firing temperature lower than the first firing temperature. 10. The method for manufacturing a circuit board according to 8 or 9.
【請求項11】 前記第一の焼成温度を800〜900
℃とし、前記第二の焼成温度を500〜700℃とした
ことを特徴とする請求項10に記載の回路基板製造方
法。
11. The first firing temperature is set to 800 to 900.
The method according to claim 10, wherein the second firing temperature is set to 500 to 700 ° C.
【請求項12】 前記配線導体として、前記第二の焼成
温度で焼成可能な材質を用いたことを特徴とする請求項
10又は11に記載の回路基板製造方法。
12. The method according to claim 10, wherein the wiring conductor is made of a material that can be fired at the second firing temperature.
【請求項13】 前記配線導体に含まれる揮発成分とし
て、分解温度が前記保護ガラスの焼結開始温度以下の材
質を用いたことを特徴とする請求項8乃至12のいずれ
かに記載の回路基板製造方法。
13. The circuit board according to claim 8, wherein a material having a decomposition temperature equal to or lower than a sintering start temperature of the protective glass is used as a volatile component contained in the wiring conductor. Production method.
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