JP2003342390A - スルホンフィルム及びその製造法 - Google Patents

スルホンフィルム及びその製造法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複屈折が小さく、均一なスルホンフィルムが
得られ、また複数の層を同時に塗布することのできるフ
ィルム製造法を提供する。 【解決手段】 光学用途に適した樹脂フィルムを製造す
るための、被覆及び乾燥装置を用いたフィルム製造法で
ある。より詳細には、複数の液層を可動基板12に同時
に塗布することによりスルホンフィルム60を製造す
る。溶媒除去後、支持体として用いた可動基板12から
スルホンフィルム60を剥がす。本発明の方法で製造し
たスルホンフィルム60は、良好な寸法安定性と小さい
複屈折とを示す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は一般に、樹脂フィル
ムの製造法に関し、より詳細には、光学フィルムの改良
された製造法、更に詳細には、光フィルタ、液晶ディス
プレイ、その他の電子ディスプレイなどの光学装置の、
基板、偏光板、補償板、保護カバーとして使用されるス
ルホンフィルムの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】スルホンポリマーは、その強靱性と水分
に対する化学的安定性が注目されるフィルムの製造に用
いられる。これらの性質によって、以前からスルホンを
ベースとしたフィルムは液体及び気体の両者の精製に用
いる様々な分離膜の支持体として一般的となっている。
スルホンポリマーはまた、比較的良好な透明度と、著し
く良好な熱安定性を備える。このため、スルホンフィル
ムは最近、光学分野でも注目を集めている。詳細には、
透明スルホンフィルムは、光偏光子用保護カバー、偏光
シート、遅延板、光学ディスプレイの電極基板などの用
途が考えられている。これらに関し、スルホンフィルム
は、ガラスや安定性の悪い高分子フィルムに代わって、
水分や極端な温度にも耐える軽量で可撓性の光学ディス
プレイスクリーンを製造するものと考えられる。このよ
うなディスプレイスクリーンは、例えば、パソコン、テ
レビ、携帯電話、計器板などに見られる、液晶ディスプ
レイ、OLED(有機発光ダイオード) ディスプレイ、
その他の電子ディスプレイに使用可能である。
【0003】スルホン型のポリマーは、様々な分子量、
様々な分子構造のものが利用できる。全てのスルホン樹
脂に共通する要素はスルホン結合(SO2)であり、通
常ポリマー主鎖中には安定化させる芳香族基がある。市
販の主要なスルホン類としては、1)ポリエーテルスル
ホン(PES)、2)ポリアリールスルホン(PA
S)、3)ポリスルホン(PSU)、の主に3種類があ
る。
【0004】一般に樹脂フィルムは、溶融押出し法又は
キャスティング法のいずれかで製造する。溶融押出し法
は、樹脂を溶融体(おおよそ10万cp(センチポア
ズ)程度の粘度)となるまで加熱する工程と、次に、押
出しダイを用いて、熱い溶融体ポリマーを良く磨いた金
属バンド又はドラムに塗布する工程と、フィルムを放冷
する工程と、最後に金属支持体からフィルムを剥離する
工程とを含む。しかし様々な理由で、溶融押出しで製造
したフィルムは通常、光学用途には適さない。その最た
る理由は、溶融押出しフィルムが高度の光学複屈折を示
すことである。スルホンポリマーの場合、更にポリマー
の溶融が問題となる。スルホンフィルムは345〜38
0℃と非常に高い融点を持つ。これらの理由から、溶融
押出し法は通常、スルホンフィルムなどの多くの樹脂フ
ィルムの光学用途向けの製造には実用的ではない。この
ようなフィルムの製造には、むしろキャスティング法が
一般的に用いられる。
【0005】光学用途用の樹脂フィルムは、その殆どが
キャスティング法で製造される。キャスティング法で
は、まずポリマーを適当な溶媒に溶解して5万cp程度
の高い粘度を持つドープを生成する工程と、次に、良く
磨いた連続した金属バンド又はドラムに、粘稠なドープ
を押出しダイに通して塗布する工程と、ウェットフィル
ムを部分的に乾燥する工程と、部分的に乾燥したフィル
ムを金属支持体から剥がす工程と、部分的に乾燥したフ
ィルムをオーブンに通して更に完全にフィルムから溶媒
を除く工程とを含む。キャストフィルムの最終的な乾燥
厚さは通常、40〜200μmの範囲である。一般に、
40μm以下の薄いフィルムは、ウェットフィルムが剥
離及び乾燥工程の間に破損し易いため、キャスティング
法での製造は非常に困難である。また、200μmを越
える厚さのフィルムも、最終乾燥工程での溶媒除去に伴
う問題のため製造が難しい。キャスティング法の溶解及
び乾燥工程は複雑で高コストであるが、一般にキャスト
フィルムは溶融押出し法で製造したフィルムに比べて良
好な光学特性を持ち、高温加工に伴う問題を回避でき
る。
【0006】キャスティング法で製造される光学フィル
ムの例としては、1)光偏光子の製造に使用されるポリ
ビニルアルコールシート(ランドによる特許文献1、カ
エルによる特許文献2、また、更に最近ではハリタによ
る特許文献3、サネフジによる特許文献4に開示)、
2)光偏光子の保護カバーに使用される三酢酸セルロー
スシート(イワタによる特許文献5に開示)、3)光偏
光子又は遅延板の保護カバーに使用されるポリカーボネ
ートシート(ヨシダによる特許文献6、いずれもタケタ
ニによる特許文献7及び特許文献8に開示)、4)光偏
光子又は遅延板の保護カバーに使用されるポリスルホン
シート(コバヤシによる特許文献9、いずれもシロによ
る特許文献10及び特許文献11に開示)、が挙げられ
る。
【0007】キャスティング法によるスルホンフィルム
の製造は、ポリマーの溶解性が特異的であるため上手く
いかない。スルホン類は、ジクロロメタンなど一部のハ
ロゲン化物溶媒に易溶であるが、キャスティング法で用
いる高濃度ドープとしては不安定で、コバヤシによる特
許文献9に述べられているように、保持している間にす
ぐにポリマーが凝集又は沈殿してしまう。更に、ジクロ
ロメタンからキャスティングしたスルホンフィルムは、
最初の乾燥操作の早い時期にウェットフィルムの気−液
界面で早期の表面硬化が起きてしまうため乾燥が困難で
あることが述べられている。コバヤシによる特許文献9
では、アニソール、ジオキサン、テトラヒドロピランな
ど、他の溶媒を用いてPSUスルホンを溶解すれば、キ
ャストフィルムの乾燥の問題が小さくなることを示唆し
ている。コバヤシによる特許文献9では、ポリエステル
フィルム、ガラス板、鋼板など様々な基板への、ロール
アプリケータを用いたバッチ式キャスティング法により
製造した、PSUフィルムが例示されている。バッチ式
キャスティングは、主として物理分析用の短い供試試料
を製造するための実験室規模の方法である。
【0008】同様に、シロによる特許文献10では、ポ
リエーテルスルホンのキャスティングドープの調製に、
1,3−ジオキソランを60%以上含む別の溶媒の使用
を教示している。シロによる特許文献10の例では、主
にドクターブレードを用いたバッチ式キャスティングを
用いているが、ダイアプリケータと連続金属ベルト基板
とを用いた連続式キャスティング法で製造したフィルム
の例も挙げている。シロによる特許文献10では、良好
なキャスティングを行うため、2〜10%の濃度の水及
びアルコール類を加えて、キャスティング前に環状ポリ
マーの沈殿を意図的に誘発する方法を教示している。更
に、キャスティング法の剥離操作の際、スルホンフィル
ムが連続金属ベルトからきれいに剥がれるようにするた
め、これらの添加剤が必要である。
【0009】キャスティング法は光学フィルムの製造に
幅広く使えるにもかかわらず、キャスティング技術には
いくつかの欠点がある。そのひとつは、キャストフィル
ムが大きな光学複屈折を持つことである。キャスティン
グ法で製造したフィルムの複屈折は、溶融押出し法で製
造したフィルムに比べて小さいが、それでも好ましくな
いほど大きい。例えば、イワタによる特許文献5に開示
されているように、キャスティング法で製造した三酢酸
セルロースフィルムは、可視スペクトルの光に対し7n
mの面内遅延を示す。いずれもタケタニによる特許文献
7及び特許文献8に開示されているように、キャスティ
ング法で製造したポリカーボネートフィルムは、17n
mの面内遅延を示す。ハリタによる特許文献3の請求項
では、元の延伸していないフィルムにおいて、フィルム
の横方向の位置間の遅延の差が5nm以下ならば、延伸
ポリビニルアルコールシートの色のばらつきが小さくな
ることを述べている。光学フィルムの多くの用途におい
て面内遅延値は小さいことが好ましい。詳細には、面内
遅延値が10nm以下であることが望ましい。
【0010】キャストフィルム内の複屈折は、製造操作
中にポリマーが配向することによって生じる。この分子
配向は、フィルムの面内に測定可能なほどの屈折率の差
を生じる。面内複屈折は、フィルム面内におけるこれら
の屈折率の直角方向の差である。複屈折の絶対値とフィ
ルム厚さとの積は面内遅延と定義される。このように、
面内遅延はフィルム面内における分子異方性の指標であ
る。
【0011】シロによる特許文献11では、キャスティ
ング法を用いた、光学用途用のハロゲンを含まない芳香
族ポリエーテルスルホンフィルムの製造を教示してい
る。面内遅延の正確な値は示されていないが、シロによ
る特許文献11では、溶媒キャスティングによる、面内
遅延が10nm以下の芳香族ポリエーテルスルホンフィ
ルムの例を示している。
【0012】キャスティング操作の間には、ダイ中での
ドープの剪断、塗布の際の金属支持体によるドープの剪
断、剥離工程における部分的に乾燥したフィルムの剪
断、最終乾燥工程で搬送する間の自立したフィルムの剪
断など、いくつかの原因によって分子配向が起きる。こ
れらの剪断力は、ポリマー分子を配向させ、ついには望
ましくないほど大きい複屈折又は遅延値を生じる。剪断
を小さくして複屈折のより小さいフィルムを得るには、
イワタによる特許文献5に開示されているように、通常
1〜15m/分と非常に低いライン速度でキャスティン
グ操作を行う。ライン速度が遅ければ一般により高品質
のフィルムが得られる。
【0013】キャスティング法のもう一つの欠点は、正
確に多層を塗布することができないことである。ヘイワ
ードによる特許文献12に示されているように、従来の
マルチスロットキャスティングダイでは十分に均一なフ
ィルムができない。詳細に述べるならば、先行技術では
線及び条むらが5%以上もある。ヘイワードによる特許
文献12に教示されているような、特殊な設計のダイリ
ップを用いれば良好な2層フィルムを製造できるが、こ
のダイの設計は複雑で、また同時に2層を越える塗布を
行うことができない。
【0014】キャスティング法のもう一つの欠点はドー
プの粘度の制約である。キャスティングを行う場合、ド
ープの粘度は5万cp程度である。例えば、ヘイワード
による特許文献12では、10万cpの粘度を持つドー
プを用いたキャスティングの実施例を述べている。例え
ば、イワタによる特許文献5に示されているように、一
般に、低粘度のドープを用いて製造したキャストフィル
ムは不均一なフィルムとなることが知られている。イワ
タによる特許文献5では、キャスティング試料の製造に
用いた最も粘度の低いドープは、およそ1万cpであっ
た。しかしこのように高い粘度値では、キャスティング
ドープの濾過及び脱気が難しい。繊維や大きなゴミは取
り除けても、ポリマースラグなどの柔らかい物質の、ド
ープ供給装置にみられるような高圧での濾過はより困難
である。微粒子及び泡の発生は条と同様にフィルムに含
まれる目立った欠陥となるため、歩留まりが非常に悪く
なる。
【0015】
【特許文献1】米国特許第4,895,769号明細書
【特許文献2】米国特許第5,925,289号明細書
【特許文献3】米国特許出願第2001/003931
9A1号
【特許文献4】米国特許出願第2002/001700
A1号
【特許文献5】米国特許第5,695,694号明細書
【特許文献6】米国特許第5,818,559号明細書
【特許文献7】米国特許第5,478,518号明細書
【特許文献8】米国特許第5,561,180号明細書
【特許文献9】米国特許第5,611,985号明細書
【特許文献10】米国特許第5,759,449号明細
【特許文献11】米国特許第5,958,305号明細
【特許文献12】米国特許第5,256,357号明細
【0016】
【発明が解決しようとする課題】更に、キャスティング
法は製品の変更に対してあまり融通性がない。キャステ
ィングでは高粘度のドープが必要なため、製品の組成を
変えるには、汚染の恐れを防ぐための供給装置の洗浄に
長い動作不能時間が必要となる。特に問題となるのは、
組成を変えるとポリマーと溶媒との相溶性が悪くなるこ
とである。実際、キャスティング法における組成の変更
は非常に時間とコストがかかるため、殆どの製造装置は
1種類のフィルムタイプだけを製造するようになってい
る。
【0017】最後に、キャストフィルムは、好ましくな
いしわ又は波立ちを示すことがある。より薄いフィルム
は特に傷つき易く、キャスティング処理の剥離及び乾燥
工程の際、あるいはそれに続くフィルムの取り扱いの際
に寸法的欠陥を生じる。詳細に述べるならば、樹脂フィ
ルムからの複合材光学板の製造には、接着剤、圧力、高
温を用いた積層工程が必要である。非常に薄いフィルム
は、この積層工程の際に波立たないよう取り扱うのが困
難である。更に、多くのキャストフィルムは水分の影響
を受けて時間の経過と共に歪み易い。光学フィルムとす
るには、貯蔵と、それに続く複合材光学板の製造の間、
寸法安定性が良い必要がある。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、先行技
術のキャスティング法の限界を超え、面内複屈折の非常
に小さい無定形スルホンフィルムを製造する、新たな被
覆法の提供である。
【0019】更に本発明の目的は、広い範囲の乾燥厚さ
に亘って非常に均一なスルホンフィルムを製造する新た
な方法の提供である。
【0020】本発明の別の目的は、可動基板に同時に複
数の層の塗布を行う、スルホンフィルムの製造法の提供
である。
【0021】もう一つの本発明の目的は、少なくともス
ルホンフィルムが殆ど乾くまで支持キャリヤ基板にスル
ホンフィルムを一時的に付着させ、その後スルホンフィ
ルムからキャリヤ基板を外すことによる、優れた寸法安
定性と取り扱い性とを備えたスルホンフィルムの新たな
製造法の提供である。
【0022】更に本発明の目的は、先行技術のキャステ
ィング法の限界を超え、溶液調製及び脱膜操作の際に加
工助剤としての助溶剤を必要としない、樹脂フィルムを
製造するための新たな被覆法の定義である。
【0023】端的に言うなら、本発明の前述の及びその
他多くの特徴、目的、及び長所は、本明細書に記載の詳
細な説明、請求項、及び図を再検討すれば容易に明らか
となろう。これらの特徴、目的、及び長所は、スルホン
樹脂を含む低粘度の液体を被覆法によって可動キャリヤ
基板上に塗布することにより達成される。このスルホン
フィルムは、被覆したフィルムが殆ど乾燥(残留溶媒が
10重量%以下)するまでキャリヤ基板から外さない。
実際には、スルホンフィルムとキャリヤ基板との複合構
造物をロールに巻き取り、必要になるまで貯蔵する。こ
のように、キャリヤ基板はスルホンフィルムを保護しな
がら支え、乾燥工程で搬送される際の剪断力から守る。
更に、最終的にキャリヤ基板から剥離する時点では、ス
ルホンフィルムは乾燥し、固体であるため、剥離工程に
起因するフィルム中のポリマーの剪断又は配向がない。
この結果、本発明によって製造したスルホン樹脂フィル
ムは著しく無定形で非常に小さい面内複屈折を示す。
【0024】本発明の方法を用いて、約1〜500μm
の厚さを持つスルホンフィルムを作ることができる。先
行技術の方法では不可能であったライン速度で、40μ
m以下の非常に薄いスルホンフィルムを容易に製造可能
である。キャリヤ基板によって、乾燥工程の間ウェット
フィルムが支えられ、また先行技術に述べたキャスティ
ング法では必要であった最終乾燥工程前の金属バンド又
はドラムからのフィルムの剥離が不要になることから、
非常に薄いフィルムの製造が容易となる。むしろこのス
ルホンフィルムは、キャリヤ基板から外す前に、完全に
ではないにせよ殆ど乾いている。全ての場合において、
乾燥スルホンフィルムの残留溶媒含量は10重量%以下
である。本発明の望ましい実施の形態では、残留溶媒含
量は5%以下、最も望ましくは1%以下である。このよ
うに本発明では、先行技術のキャスティング法では不可
能であった非常に繊細な薄いフィルムを容易に製造でき
る。更に、40μmより厚いフィルムも本発明の方法で
製造できる。より厚いフィルムを製造するには、タンデ
ム操作、又は光学的品質を必要としないならばオフライ
ン加工のいずれかで、フィルム−基板複合物上に更に被
覆を塗布する。このような本発明の方法は、次のウェッ
トフィルムを塗布する前に最初に塗布したフィルムが乾
いているため、より厚いフィルムを製造する場合の溶媒
除去の問題が生じない。このように、本発明は、最終フ
ィルム厚さの範囲を、キャスティング法を用いて可能で
あったものより広くすることができる。
【0025】本発明の方法では、被覆ホッパのスライド
面に、単一層、又は、望ましくは多層複合物を形成する
ことによってスルホンフィルムを製造する。多層複合物
は、粘度の低いボトム層と、1つ以上の中間層と、必要
に応じてトップ層とを含み、トップ層は界面活性剤を含
んでいる。この多層複合物はスライド面を流れ下って被
覆ホッパのコーティングリップを越え、可動基板に塗布
される。より詳細には、本発明の方法を用いて、特有の
組成を持つ多数の液体層の塗布ができることが示されて
いる。特定の層に被覆助剤や添加剤を加えてフィルム性
能を向上し、あるいは製造を行い易くしても良い。多層
塗布により、例えば界面活性剤を、ウェットフィルム全
体ではなく、それを必要とする、最も上に塗布した層に
含ませることができる。もうひとつの例では、最下層中
のスルホンの濃度を調整して低い粘度とし、キャリヤ基
板への多層複合物の塗布速度を上げることができる。こ
のように本発明は、ある種の光学要素やその他同様の要
素に必要とされるような多層複合フィルムの優れた製造
法を提供するものである。
【0026】キャリヤ基板を最終段階まで使用する本発
明の方法を用いれば、しわ及び波打ちの不具合が少なく
なる。キャリヤ基板はスルホンフィルムに対して固い裏
当てとなって、スルホン樹脂フィルムの寸法の歪みを防
ぐ。これは特に、約40μm以下の非常に薄いフィルム
の取扱い及び加工においては有益である。更に、キャリ
ヤ基板が抑制となることによって、湿度の変化により時
間の経過と共に生じるスルホンフィルムの歪みや波打ち
を防ぐ。このように、本発明の方法は、製造及び貯蔵の
間や、光学素子の製造に必要な最終的な加工段階におい
て、スルホンフィルムの寸法を安定に保つ。
【0027】本発明の方法では更に、キャスティング操
作において加工助剤として必要であった助溶剤が不要で
ある。被覆液の粘度はキャスティングドープの粘度より
かなり低いため、ポリマーの濃度も低い。この結果、溶
液調製工程と溶液保存期間におけるポリマーの凝集又は
沈殿の問題が少ない。更に、キャスティング法できれい
に剥がすための剥離助剤として必要であった助溶剤は、
本発明の方法では不要である。
【0028】本発明の方法の実施において、基板は、ポ
リエチレンテレフタレート(PET)などの不連続なシ
ートであることが望ましい。PETキャリヤ基板は下塗
り層又は放電装置で前処理し、スルホンフィルムとPE
T基板との付着性を調整しても良い。詳細には、下塗り
層又は放電処理により、後にフィルムを基板から剥ぐこ
とができる程度にフィルムと基板との付着性を向上す
る。
【0029】本明細書では、特にスライドビード被覆操
作を参照として本発明を述べているが、当業者であれば
他の被覆操作を用いても本発明は有益に実行可能なこと
が理解されよう。例えば、単層又は多層スロットダイ被
覆操作や、単層又は多層カーテン被覆操作を用いて、面
内遅延の小さい自立したフィルムが得られるに違いな
い。更に、当業者であれば他のキャリヤ基板を用いても
本発明は有益に実行可能なことに気づくだろう。例え
ば、他の樹脂支持体(例えば、ポリエチレンナフタレー
ト(PEN)、酢酸セルロース、ポリカーボネート、P
ET)、紙支持体、樹脂積層紙支持体、金属支持体(例
えば、アルミニウム)を用いても、面内複屈折の小さい
剥離フィルムが得られるに違いない。本発明の実用的用
途としては、例えば、光学フィルム(例えば、偏光板、
補償板、保護カバー、電極基板)、積層フィルム、剥離
フィルム、写真フィルム、包装フィルムに用いられるス
ルホンシートの製造が挙げられる。より詳細には、本発
明の方法で製造したスルホンシートは、液晶ディスプレ
イなどの電子ディスプレイの製造において光学フィルム
として使用される。例えば、液晶ディスプレイは、偏光
板、補償板、電極基板などの多数のフィルム素子を含
む。偏光板は、両面に保護カバーを接着したダイクロイ
ックフィルム(通常、ヨウ素で処理した延伸ポリビニル
アルコール)を含む典型的な多層複合物構造体である。
本発明の方法で製造したスルホンフィルムは偏光板の保
護カバーに適する。また本発明の方法で製造したスルホ
ンフィルムは、補償板や電極基板の製造にも適してい
る。
【0030】本発明の方法を用いて製造したスルホンフ
ィルムは光学フィルムである。本発明の方法で作成した
スルホンフィルムは、約85%以上、望ましくは約90
%以上、最も望ましくは約95%以上の光透過率を持
つ。更に、このスルホンフィルムは1.0%以下のヘー
ズ値(haze value)を持つであろう。また、このスルホン
フィルムは滑らかで、表面粗さは平均100nm以下、
最も望ましくは50nm以下である。
【0031】
【発明の実施の形態】図1に、本発明の方法の実施に適
した、公知の被覆及び乾燥装置10の例の略図を示す。
通常この被覆及び乾燥装置10を用いて、非常に薄いフ
ィルムを可動基板12に塗布し、続いて乾燥機14中で
溶媒を除去する。単一の被覆装置16は、装置10がた
だ一つの被覆塗布ポイントとただ一つの乾燥機14とを
持っているように示されているが、薄い複合フィルムの
製造においては、2個又は3個(更には6個もの)の追
加の被覆塗布ポイントとそれに対応する乾燥部とを持つ
ものが知られる。連続して塗布及び乾燥を行う方法は、
当該技術ではタンデム被覆操作として知られる。
【0032】被覆及び乾燥装置10には巻出し部18が
あり、巻出された可動基板12は支持ローラ20を回
り、ここで被覆装置16により被覆が塗布される。被覆
されたウェブ22は次に乾燥機14の中を進む。本発明
の方法の実施においては、基板12上にスルホン樹脂フ
ィルムを載せた最終乾燥フィルム24は巻上げ部26で
ロールに巻かれる。
【0033】図のように、例えば4層の被覆を可動ウェ
ブ12に塗布する。各層の被覆液は、それぞれの被覆液
供給容器28,30,32,34中に保持されている。
被覆液はそれぞれ、ポンプ36,38,40,42によ
って被覆液供給容器から管路44,46,48,50を
経て被覆装置16へ供給される。更に被覆及び乾燥装置
10は、コロナ又はグロー放電装置52などの放電装
置、又は極電荷補助装置54も備え、被覆を塗布する前
に基板12を調整する。
【0034】図2に、別の巻取り操作を行う、図1と同
じ被覆及び乾燥装置10の例の略図を示す。従って、図
の符号は巻取り操作まで同じである。本発明の方法の実
施では、基板(樹脂フィルム、紙、樹脂コート紙、又は
金属など)と、その上に塗布したスルホン被覆とから成
る乾燥フィルム24を、対向ローラ56、58の間に挟
む。スルホンフィルム60を基板12から剥がし、スル
ホンフィルムを巻取り部62に、基板12を巻取り部6
4に巻取る。本発明の望ましい実施の形態では、基板1
2としてポリエチレンフタレート(PET)を用いる。
基板12に予め下塗り層を塗り、被覆したフィルム60
と基板12との付着性を良くしても良い。
【0035】被覆液を可動基板12に供給するために用
いる被覆装置16は、例えば、ラッセルによる米国特許
第2,761,791号に教示のスライドビードホッ
パ、又は、ヒュースによる米国特許第3,508,94
7号に教示のスライドカーテンホッパなどの多層アプリ
ケータでも良い。あるいは被覆装置16は、スロットダ
イホッパ又はジェットホッパなどの単層アプリケータで
あっても良い。本発明の望ましい実施の形態では、塗布
装置16は多層スライドビードホッパである。
【0036】前述のように、被覆及び乾燥装置10は、
被覆したフィルムから溶媒を除去するための、通常は乾
燥オーブンである乾燥機14を備えている。本発明の方
法の実施に用いる乾燥機14の例では、第1乾燥部66
と、それに更に続く8個の乾燥部68〜82があり、こ
れらは独立して温度及び空気流量の制御が可能である。
乾燥機14は9個の独立した乾燥部を持つものとして示
されているが、よりコンパートメントの少ない乾燥オー
ブンも知られ、本発明の方法の実施にも使用できる。本
発明の望ましい実施の形態では、乾燥機14は少なくと
も2個の独立した乾燥ゾーン又は乾燥部を有する。
【0037】望ましくは、乾燥部68〜82のそれぞれ
は、独立して温度及び空気流量の制御ができるものであ
る。各部の温度は5〜150℃に調節する。未乾燥のス
ルホンフィルムの表面硬化又は皮張りなどの乾燥欠陥を
防ぐため、乾燥機14の乾燥部の早い段階で適切な乾燥
速度とすることが必要である。早い段階の乾燥ゾーンで
の温度が不適切であると多くの不具合が生じる。例え
ば、ゾーン66,68,70の温度を25℃に設定する
と、スルホンフィルムにかぶり(fogging or blush)が
見られる。このかぶり欠陥は、被覆液に蒸気圧の高い溶
媒(ジクロロメタン及びアセトン)を用いると特に著し
い。極端に高い温度も、スルホンフィルムに表面硬化、
ちりめんじわパターン、微小空隙などの不具合を生じ
る。本発明の望ましい実施の形態では、最初の乾燥部6
6を約25℃以上、95℃以下の温度とし、被覆ウェブ
22の未乾燥の被覆に直接空気が当たらないようにす
る。本発明の方法の別の望ましい実施の形態では、乾燥
部68,70も約25℃以上、95℃以下の温度とす
る。最初の乾燥部66,68の温度を約30〜約60℃
とすることが望ましい。最も望ましくは、最初の乾燥部
66,68の温度を約30〜約50℃とする。乾燥部6
6,68の実際の乾燥温度は、当業者によって経験的に
この範囲内で最適なものとする。
【0038】図3に、典型的な被覆装置16の詳細な図
を示す。これは、前面部92、第2部94、第3部9
6、第4部98、バックプレート100を含む被覆装置
16の側断面図である。第2部94には注入口102が
あり、ポンプ106を経て第1調量スロット104へ被
覆液を供給し、最下層108を形成する。第3部96に
は注入口110があり、ポンプ114を経て第2調量ス
ロット112へ被覆液を供給し、層116を形成する。
第4部98には注入口118があり、ポンプ122を経
て調量スロット120へ被覆液を供給し、層124を形
成する。バックプレート100には注入口126があ
り、ポンプ130を経て調量スロット128へ被覆液を
供給し、層132を形成する。各スロット104,11
2,120,128には、横方向に広がった分配用の穴
が開いている。前面部92には、傾斜スライド面134
とコーティングリップ136があり、第2部94の先端
には第2傾斜スライド面138があり、第3部96の先
端には第3傾斜スライド面140があり、第4部98の
先端には第4傾斜スライド面142がある。バックプレ
ート100は傾斜スライド面142の上に伸び、後背面
144を形成する。被覆装置又はホッパ16に隣接して
被覆支持ローラ20があり、その周囲をウェブ12が搬
送される。被覆層108,116,124,132は多
層複合物となり、リップ136と基板12との間で被覆
ビード146を形成する。通常、被覆ホッパ16は被覆
支持ローラ20に向かって、被覆を行わない位置から被
覆位置まで移動することができる。被覆装置16は4個
の調量スロットを持つものとして示されているが、更に
多くの調量スロット(9個又はそれ以上)を持つコーテ
ィングダイも知られており、本発明の方法の実施にも使
用できる。
【0039】本発明の方法では、被覆液(被覆流体)は
主として有機溶媒に溶解したスルホン樹脂を含む。スル
ホン型のポリマーは、様々な分子量、様々な分子構造の
ものが利用できる。全てのスルホン樹脂に共通する要素
はスルホン結合(SO2)の存在であり、通常ポリマー
主鎖中には安定化させる芳香族基がある。市販の主要な
スルホン類としては、1)ポリエーテルスルホン(PE
S)、2)ポリスルホン(PSU)、3)ポリアリール
スルホン(PAS)の、主に3種類がある。PESスル
ホンは、ガラス転移温度(Tg)およそ225℃、連続
使用温度200℃と、熱可塑性ポリマーとして非常に熱
に安定である。PESの化学構造は、ポリ(ジフェニル
エーテルスルホン)である。PSUスルホンはその良好
な透明性が注目されるが、Tgが185℃、連続使用温
度が175℃と著しく低い。構造的には、PSUはビス
フェノールAと4,4’−ジクロロジフェニルスルホン
との反応により生成する。PASスルホンは、実際には
コポリ(ジフェニルスルホン/ジフェニレンオキシドス
ルホン)共重合体の仲間であって、Tg及び使用温度は
PESとPSUとの中間である。スルホン類は、例え
ば、アモコ(Amoco)及びBASFから市販されてい
る。
【0040】スルホン類用の有機溶媒に関して述べるな
ら、適当な溶媒としては、例えば、塩化物溶媒(ジクロ
ロメタン、1,2−ジクロロエタン)、アルコール類
(メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプ
ロパノール、n−ブタノール,イソブタノール、ジアセ
トンアルコール、フェノール、シクロヘキサノール)、
ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル類(酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロ
ピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチル)、芳香族類
(トルエン、キシレン類)、エーテル類(アニソール、
テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,2−
ジオキソラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサ
ン)が挙げられる。用途によっては、少量の水を用いて
も良い。通常、前述の溶媒の混合物を用いてスルホン溶
液を調製する。望ましい主溶媒としては、ジクロロメタ
ン、アニソール、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキ
ソランが挙げられる。望ましい助溶剤としては、酢酸エ
チル、メチルエチルケトン、イソプロパノールが挙げら
れる。
【0041】被覆液には可塑剤を加えても良い。スルホ
ンフィルムに適した可塑剤としては、フタル酸エステル
類(フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジデシル、フタ
ル酸ブチルオクチル)、アジピン酸エステル類(アジピ
ン酸ジオクチル)、リン酸エステル類(リン酸トリクレ
シル、リン酸トリフェニル)が挙げられる。可塑剤は通
常、最終的なフィルムの物理的及び機械的性質の向上に
用いられる。詳細には、可塑剤は可撓性を向上すること
が知られている。しかしここでは、可塑剤を加工操作で
の被覆助剤として使用し、コーティングホッパでのフィ
ルムの早い固化を防ぎ、またウェットフィルムの乾燥特
性を向上させる。本発明の方法においては、可塑剤は、
乾燥操作の際のスルホンフィルムの膨れ、カール、層間
剥離を防ぐために用いる。本発明の望ましい実施の形態
では、最終的なスルホンフィルム中の欠陥を少なくする
ため、ポリマーの濃度に対し全濃度として25重量%ま
での可塑剤を被覆液に加える。
【0042】被覆液はまた、被覆後の流れに関わる不具
合を制御するため、被覆助剤として界面活性剤を含んで
も良い。被覆後の流れ現象により生じる不具合として
は、まだら、はじき、みかん肌(バーナード・セル(Be
rnard cells))、端の後退が挙げられる。被覆後の流
れの不具合の制御に用いる界面活性剤としては、シロキ
サン及びフルオロケミカル化合物が挙げられる。市販の
シロキサン型の界面活性剤の例としては、1)ポリジメ
チルシロキサン類(例えば、ダウ・コーニング(Dow Co
rning)製、DC200液など)、2)ポリ(ジメチ
ル、メチルフェニル)シロキサン類(例えば、ダウ・コ
ーニング製、DC510液など)、3)ポリアルキル置
換ポリジメチルシロキサン類(例えば、ダウ・コーニン
グ製、DC190、DC1248、ユニオン・カーバイ
ド(Union Carbide)製、L7000シルウェット(Sil
wet)シリーズ(L7000、L7001、L700
4、L7230)など)、4)ポリアルキル置換ポリ
(ジメチル、メチルフェニル)シロキサン類(例えば、
ゼネラル・エレクトリック(General Electric)製、S
F1023など)が挙げられる。市販のフルオロケミカ
ル界面活性剤の例としては、1)フッ素化アルキルエス
テル類(例えば、3Mコーポレーション製、フルオラッ
ド(Fluorad)シリーズ(FC430、FC431)な
ど)、2)フッ素化ポリオキシエチレンエーテル類(例
えば、デュポン(Du Pont)製、ゾニル(Zonyl)シリー
ズ(FSN、FSN100、FSO、FSO100)な
ど)、3)アクリル酸エステル:ポリパーフルオロアル
キル=エチルアクリラート類(例えば、NOFコーポレ
ーション製、Fシリーズ(F270、F600)な
ど)、4)パーフルオロアルキル誘導体類(例えば、旭
硝子(株)製、サーフロン(Surflon)シリーズ(S3
83、S393、S8405)など)が挙げられる。本
発明の方法では、界面活性剤は一般に非イオン性であ
る。本発明の望ましい実施の形態では、シロキサン又は
フッ素化物型のいずれかの非イオン性化合物を最上層に
加える。
【0043】界面活性剤の分布に関して述べるならば、
界面活性剤は多層被覆の最上層中に存在する場合に最も
効果がある。最上層中の界面活性剤濃度は、望ましくは
0.001〜1.000重量%、最も望ましくは0.0
10〜0.500重量%である。更に、上から2番目の
層に最上層より少ない量の界面活性剤を用いて、最下層
への界面活性剤の拡散を防ぐ。上から2層目での界面活
性剤濃度は、望ましくは0.000〜0.200重量
%、最も望ましくは0.000〜0.100重量%であ
る。界面活性剤は最上層のみに必要であるため、最終乾
燥フィルム中に残る界面活性剤の総量は少ない。
【0044】本発明の方法の実施に界面活性剤は必要な
いが、界面活性剤は被覆フィルムの均一性を高める。詳
細には、界面活性剤を使用すると、斑(まだら、むら)
が少なくなる。透明なスルホンフィルムでは、斑は通常
の検査では容易に目に見えない。斑の発生を明らかにす
るには、有機染料を最上層に加えて被覆フィルムを着色
すると良い。こうした着色フィルムでは斑を容易に発見
し定量できる。このようにフィルムの均一性が最も良く
なるよう、効果的な界面活性剤の種類と濃度を選ぶ。
【0045】図4〜図7は、本発明の方法で製造した様
々なフィルムの構造を示す断面図である。図4には、キ
ャリヤ基板152から部分的に剥いだ単層スルホンフィ
ルム150を示す。スルホンフィルム150は、一つの
液層をキャリヤ基板152に塗布するか、殆ど同じ組成
を持つ層から成る多層複合物を塗布することによって生
成する。これとは異なり図5では、キャリヤ基板154
を下塗り層156で前処理し、単層スルホンフィルム1
58と基板154との間の接着力を調整する。図6に
は、キャリヤ支持体170に最も近い最下層162と、
2つの中間層164,166と、最上層168とを含
む、4つの組成の異なる層から成る多層フィルム160
を示す。図6はまた、キャリヤ基板170から多層複合
物160全体を剥いだところを示している。図7は、キ
ャリヤ基板182に最も近い最下層174と、2つの中
間層l76,178と、最上層180とから成る多層複
合物フィルム172を、キャリヤ基板182から剥いだ
ところを示している。このキャリヤ基板182は下塗り
層184で処理し、複合フィルム172と基板182と
の接着性を調整したものである。下塗り層156及び1
84は、ポリビニルブチラール類、セルロース誘導体、
ポリアクリル酸エステル類、ポリカーボネート類、ゼラ
チン、コポリ(アクリロニトリル/塩化ビニリデン/ア
クリル酸)などのいくつかの高分子材料から成る。下塗
り層に使用する材料は、当業者によって経験的に最適な
ものを選ぶ。
【0046】本発明の方法はまた、予め製造したスルホ
ンフィルムとキャリヤ基板との複合物に被覆を行う工程
を含んでも良い。例えば、図1及び図2に示す被覆及び
乾燥装置10を用いて、既存のスルホンフィルム/基板
複合物に第2の多層フィルムを塗布することができる。
次の被覆を塗布する前のフィルム/基板複合物がロール
に巻かれている場合、この工程をマルチパス被覆操作と
呼ぶ。被覆及び乾燥操作を複数の被覆部と乾燥オーブン
とを備えた装置で連続的に行う場合、この工程をタンデ
ム被覆操作と呼ぶ。このようにすると、非常に厚いウェ
ットフィルムからの大量の溶媒除去に伴う問題を起こす
ことなく、速いライン速度で厚いフィルムを製造でき
る。更に、マルチパス又はタンデム被覆を行うと、縞の
発生、まだらの発生、フィルム全体のむらなどの不具合
が少なくなるという利点がある。
【0047】タンデム被覆又はマルチパス被覆を行うに
は、第1パスのフィルムとキャリヤ基板との間にある程
度最小限の接着が必要である。フィルム/基板複合物の
接着性が悪いと、場合によりマルチパス操作の第2又は
第3の被覆液の塗布後に膨れが見られる。膨れ欠陥を防
ぐには、第1パスのスルホンフィルムとキャリヤ基板と
の接着力が0.3N/m以上なければならない。この程
度の接着力は、様々な下塗り層や様々な放電処理など、
種々のウェブ処理により達成できる。しかし、塗布した
フィルムと基板との接着が良すぎるのも、後の剥離操作
でフィルムが壊れてしまうた1め好ましくない。詳細に
述べると、接着力が250N/mを超えるフィルム/基
板複合物では、剥離が上手くいかないことが分かった。
このように接着力が強すぎる複合物から剥離したフィル
ムには、フィルムの切れ、及び/又は、フィルム中の凝
集破壊による欠陥が見られる。本発明の望ましい実施の
形態では、スルホンフィルムとキャリヤ基板との間の接
着力は250N/m以下である。最も望ましくは、ポリ
カーボネートフィルムとキャリヤ基板との間の接着力は
0.5〜25N/mである。
【0048】本発明の方法は、ポリエチレンテレフタレ
ート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PE
N)、ポリカーボネート、ポリスチレン、その他の高分
子フィルムなど、様々な基板へのスルホン樹脂被覆の塗
布に適している。その他の基板としては、紙、紙と高分
子フィルムとの積層物、ガラス、布、アルミニウム及び
その他の金属支持体が挙げられる。場合により、基板に
下塗り層又は放電装置を用いて前処理を行う。基板はま
た、様々なバインダや追加物を含む機能層で前処理して
も良い。
【0049】樹脂フィルムの先行技術でのキャスティン
グ法を図8に図示する。図8に示すように、粘稠な高分
子のドープを、ポンプ206によって加圧タンク204
から供給ライン200を通って押出しホッパ202へ供
給する。ドープを、乾燥オーブン212の第1乾燥部2
10中に置いた、良く磨いた金属ドラム208の上に塗
布する。キャストフィルム214を可動ドラム208上
で部分的に乾燥させた後、ドラム208から剥がす。次
にキャストフィルム214を、最終乾燥部216へ運
び、残っている溶媒を除去する。最終乾燥フィルム21
8を、次に巻上げ部220でロールに巻き上げる。先行
技術のキャストフィルムの厚さは通常40〜200μm
の範囲である。
【0050】それぞれの技法に必要とされる処理工程に
よって、被覆法とキャスティング法とは区別される。こ
れらの処理工程は、それぞれの方法に特有の流体粘度、
加工助剤、基板、ハードウェアなど多くの要素にも影響
する。一般に被覆法では、希薄な低粘度の液体を薄い可
撓性基板へ塗布する工程と、乾燥オーブン中で溶媒を蒸
発する工程と、乾燥したフィルム/基板複合物をロール
に巻き上げる工程とを含む。これに対しキャスティング
法では、濃い粘稠なドープを良く磨いた金属ドラム又は
バンドに塗布する工程と、金属基板上のウェットフィル
ムを部分的に乾燥する工程と、部分的に乾燥したフィル
ムを基板から剥ぐ工程と、乾燥オーブン中で部分的に乾
燥したフィルムから更に溶媒を除去する工程と、乾燥し
たフィルムをロールに巻き上げる工程とを含む。粘度に
関して述べるなら、被覆法では5,000cp以下の非
常に粘度の低い液体が必要である。本発明の方法を実施
する場合、被覆液の粘度は通常2000cp以下、殆ど
が1500cp以下である。更に、本発明の方法におい
て高速被覆塗布を行うには、最下層の粘度を望ましくは
200cp以下、最も望ましくは100cp以下とす
る。これに対しキャスティング法では、実際的な操作速
度とするには、1万〜10万cp程度の粘度を持つ高濃
度のドープが必要である。加工助剤に関して述べるな
ら、被覆法では一般に、まだら、はじき、みかん肌、端
での後退などの被覆後の流れの不具合を制御するため、
加工助剤として界面活性剤を用いる。これに対しキャス
ティング法では界面活性剤は必要ない。代わりにキャス
ティング法では、剥離操作を促すためだけに加工助剤を
用いる。例えば、スルホンフィルムのキャスティングで
は、金属ドラムからスルホンフィルムを剥がし易くする
ため、しばしば加工助剤としてn−ブタノールと水を用
いる。基板に関して述べるなら、被覆法では通常、薄い
(10〜250μm)可撓性支持体を用いる。これに対
しキャスティング法では、厚く(1〜100mm)、連
続した、良く磨いた金属ドラム又は固いバンドを用い
る。処理工程がこのように異なるため、図1と図8のそ
れぞれの略図を比べると分かるように、被覆に用いるハ
ードウェアは、キャスティングに用いるものとは著しく
異なっている。
【0051】本発明の長所は、以下に述べる実施例によ
り明らかとなる。これらの例では、スルホンポリマー
は、重量平均分子量32,000ダルトンのポリエーテ
ルスルホン(PES)型のものである。
【0052】
【実施例】実施例1.この例では、非常に薄いスルホン
フィルムのシングルパス形成を述べる。図1に示す被覆
装置16を用いて、未処理のポリエチレンテレフタレー
ト(PET)である可動基板12及び170に4つの液
層を塗布し、図6の左側に示すような多層フィルムを形
成した。基板の速度は25cm/秒であった。全ての被
覆液は、1,3−ジオキソランに溶解したPESを含む
ものであった。最下層162は20cpの粘度を持ち、
可動基板170上での未乾燥厚さは11μmであった。
第2層164及び第3層166の粘度はそれぞれ195
cpであり、可動基板170上での両者を併せた最終的
な未乾燥厚さは34μmであった。更に、第3層166
は、0.01%濃度のフッ素化物界面活性剤(サーフロ
ンS8405)も含んでいた。最上層168の粘度は8
0cpであり、可動基板170上での未乾燥厚さは22
μmであった。最上層168も、フッ素化物界面活性剤
(サーフロンS8405)を0.20重量%含むもので
あった。被覆の塗布温度は24℃であった。コーティン
グリップ136と可動基板12との隙間(図3参照)は
200μmであった。均一な被覆となるよう、被覆ビー
ド146にかかる圧力差を0〜10cm水柱に調整し
た。乾燥部66,68の温度は40℃であった。乾燥部
70の温度は50℃であった。乾燥部72,74,7
6,78,80の温度は95℃であった。乾燥部82の
温度は25℃であった。PESフィルムとPET基板と
の複合物はロールに巻いた。未処理PET基板から剥が
した際の最終乾燥フィルムの厚さは10μmであった。
剥離したPESフィルムは良好な外観を持ち、滑らか
で、しわや波立ちの不具合が無く、面内遅延は2.0n
m以下であった。このスルホンフィルムの性質を表1に
まとめた。
【0053】実施例2.この例では、薄いPESフィル
ムのシングルパス形成を述べる。第2層164と第3層
166とを合わせた未乾燥厚さを94μmに大きくする
以外は、実施例1の記述と同一の条件とした。PESフ
ィルムとPET基板との複合物はロールに巻いた。下塗
りしたPET基板から剥がした際の最終乾燥フィルムの
厚さは20μmであった。剥離したPESフィルムは良
好な外観を持ち、滑らかで、しわや波立ちの不具合が無
く、面内遅延は2.0nm以下であった。このPESフ
ィルムの性質を表1にまとめた。
【0054】実施例3.この例では、薄いPESフィル
ムのシングルパス形成を述べる。第2層164と第3層
166とを合わせた未乾燥厚さを153μmに大きくす
る以外は、実施例1の記述と同一の条件とした。PES
フィルムとPET基板との複合物はロールに巻いた。下
塗りしたPET基板から剥がした際の最終乾燥フィルム
の厚さは30μmであった。PESフィルムは良好な外
観を持ち、滑らかで、しわや波立ちの不具合が無く、面
内遅延は2.0nm以下であった。このPESフィルム
の性質を表1にまとめた。
【0055】実施例4.この例では、PESフィルムの
シングルパス形成を述べる。第2層164と第3層16
6とを合わせた未乾燥厚さを211μmに大きくする以
外は、実施例3の記述と同一の条件とした。PESフィ
ルムとPET基板との複合物はロールに巻いた。下塗り
したPET基板から剥がした際の最終乾燥フィルムの厚
さは40μmであった。剥離したPESフィルムは良好
な外観を持ち、滑らかで、しわや波立ちの不具合が無
く、面内遅延は3.0nm以下であった。このPESフ
ィルムの性質を表1にまとめた。
【0056】実施例5.この例では、塗布を3回行う被
覆操作を用いたPESフィルムの形成を述べる。実施例
2で巻いておいたPESフィルムとPET基板との複合
物を、更に続いて2回塗布及び乾燥装置に通してオーバ
ーコートを行う以外は、実施例2の記述と同一の条件と
した。実施例4に述べたように、第2層と第3層とを合
わせた未乾燥厚さが211μmとなるようそれぞれ追加
の被覆及び乾燥操作を行った。PESフィルムとPET
基板との最終複合物はロールに巻いた。最終乾燥フィル
ムの厚さは100μmであった。剥離したPESフィル
ムは滑らかで、しわや波立ちの不具合が無く、面内遅延
は2.0nm以下であった。このPESフィルムの性質
を表1にまとめた。
【0057】比較例1.この例では、剥離性の悪いPE
S:PET複合物の生成を述べる。この例では、PET
支持体は、コポリ(アクリロニトリル/塩化ビニリデン
/アクリル酸)の下塗り層を有する。比較例1のその他
の条件は、実施例2の記述と同一とした。最終乾燥フィ
ルムの厚さは10μmであった。乾燥すると、このPE
Sフィルムは下塗りしたPET基板から剥ぐことができ
なかった。PESフィルムと下塗りしたPET基板との
接着力を測定したところ、250N/mを超えることが
分かった。
【0058】比較例2.この例では、シングルパス操作
の際の乾燥条件が悪い場合に生じる欠陥について述べ
る。比較例2の条件は、乾燥条件として、最初の3つの
乾燥ゾーン66,68,70の温度を95℃に上げる以
外は、実施例2の記述と同一とした。下塗りしたPET
基板から剥がした際の最終乾燥フィルムの厚さは10μ
mであった。剥離したPESフィルムは、フィルム中に
ちりめんじわパターンや膨れの不具合があるため、満足
できる品質ではなかった。
【表1】 次の試験を行って、表1に示すフィルムの性質を求め
た。
【0059】厚さ:最終的に剥離したフィルムの厚さ
は、小野測器(株)製、EG−225型ゲージを用い、
μmの単位で求めた。
【0060】面内遅延:剥離フィルムの面内遅延
(Re)は、370〜1000nmの波長で、ウーラム
(Woollam)M−2000V分光エリプソメータ(Spect
roscopic Ellipsometer)を用い、nmの単位で求め
た。表1の面内遅延値は、590nmでの測定値から算
出した。面内遅延は次の式で定義される。
【数1】 式中、Reは590nmでの面内遅延であり、nxは剥離
フィルムの遅い軸方向の屈折率であり、nyは剥離フィ
ルムの速い軸方向の屈折率であり、dは剥離フィルムの
厚さ(nm)である。このように、Reは、剥離フィル
ムの面内における遅い軸方向と速い軸方向との複屈折の
差の絶対値に、フィルムの厚さを乗じたものである。
【0061】透過率及びヘーズ:全透過率及びヘーズ
は、BYKガードナー(BYK-Gardner)製、ヘーズガー
ドプラス(Haze-Gard Plus)(HB−4725型)を用
いて求めた。全透過率は、積分球に吸収された、フィル
ムを通過した全光エネルギーである。透過したヘーズ
は、積分球に吸収された、2.5度以上散乱された全光
エネルギーである。
【0062】表面粗さ:表面粗さは、タッピングモード
(Tapping Mode)(登録商標)原子間力顕微鏡(デジタ
ル・インスツルメンツ(Digital Instruments)製、D
300型)を用いた走査プローブ顕微鏡法により、nm
の単位で求めた。
【0063】接着性:被覆試料の接着強さは、500g
ロードセルを取り付けたインストロン(Instron)11
22引張り試験機を用いた、改良式180度剥離試験に
より、ニュートン/メートル(N/m)の単位で求め
た。まず、幅0.0254m(1インチ)の被覆試料の
帯状試験片を調製した。一片の3Mマジックテープ(登
録商標)を用いて、一端から被覆を剥ぎ始めた。更にも
う一片のテープを、被覆の剥がした部分に貼り付け、試
験のためのつかみ部とした。インストロンのつかみが試
験に影響しないよう、支持体より十分長くなるまでテー
プを引き延ばした。次に、インストロン1122引張り
試験機の上側のつかみ具に基板を、底側のつかみ具に被
覆/テープ組立品を挟んで試料をセットした。角度18
0度、2インチ/分(50.8mm/分)の速度で基板
から被覆を引き剥がすのに要した力の平均を、ニュート
ンの単位で記録した。この力の値より、次の式を用いて
接着強さをN/mの単位で算出した。
【数2】 式中、SAは接着強さであり、Fpは剥離力であり、θは
剥離の角度(180度)であり、wは試料の幅(0.0
254m)である。
【0064】残留溶媒:まず、キャリヤ基板からフィル
ムを剥離し、剥離フィルムを秤量し、このフィルムを1
00℃のオーブン中で16時間温置し、最後に温置した
フィルムを秤量して、乾燥フィルム中に残る残留溶媒の
定量的評価を行った。残留溶媒は、重量の差を温置後の
重量で割った百分率で示した。
【0065】前述の結果より、本発明は、先に述べた全
ての目的及び目標、並びに、明らかな、また装置に特有
の他の長所の達成に非常に有効であることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の方法の実施において使用可能な、被
覆及び乾燥装置の例を示す略図である。
【図2】 基板から外したスルホンウェブをそれぞれ巻
き取る装置を備えた、図1の被覆及び乾燥装置の例を示
す略図である。
【図3】 本発明の方法の実施において使用可能な、複
数スロット被覆装置の例を示す略図である。
【図4】 本発明の方法で生成した単層スルホンフィル
ムを、キャリヤ基板から部分的に剥いだところを示す断
面図である。
【図5】 キャリヤ基板がその上に形成した下塗り層を
持つ、本発明の方法で生成した単層スルホンフィルム
を、キャリヤ基板から部分的に剥いだところを示す断面
図である。
【図6】 本発明の方法で生成した多層スルホンフィル
ムを、キャリヤ基板から部分的に剥いだところを示す断
面図である。
【図7】 キャリヤ基板がその上に形成した下塗り層を
持つ、本発明の方法で生成した多層スルホンフィルム
を、キャリヤ基板から部分的に剥いだところを示す断面
図である。
【図8】 先行技術においてスルホンフィルムのキャス
ティングに用いられるキャスティング装置を示す略図で
ある。
【符号の説明】
10 被覆及び乾燥装置、12 可動基板/ウェブ、1
4 乾燥機、16 被覆装置、18 巻出し部、20
支持ローラ、22 被覆ウェブ、24 乾燥フィルム、
26 巻上げ部、28,30,32,33 被覆液供給
容器、36,38,40,42 ポンプ、44,46,
48,50 管路、52 放電装置、54 極電荷補助
装置、56,58 対向ロール、60 スルホンフィル
ム、62,64 巻取り部、66,68,70,72,
74,76,78,80,82乾燥部、92 前面部、
94 第2部、96 第3部、98 第4部、100バ
ックプレート、102 注入口、104 調量スロッ
ト、106 ポンプ、108 最下層、110 注入
口、112 第2調量スロット、114 ポンプ、11
6 層、 118 注入口、120 調量スロット、1
22 ポンプ、124 生成層、126 注入口、12
8 調量スロット、130 ポンプ、132層、134
傾斜スライド面、136 コーティングリップ、13
8 第2傾斜スライド面、140 第3傾斜スライド
面、142 第4傾斜スライド面、144 後背面、1
46 被覆ビード、150 スルホンフィルム、15
2,154 キャリヤ基板、156 下塗り層、158
スルホンフィルム、160 複層フィルム、162
最下層、164,166 中間層、168 最上層、1
70 キャリヤ支持体、172 複合物フィルム、17
4 最下層層、176,178 中間層、180 最上
層、182 キャリヤ基板、184 下塗り層、200
供給ライン、202 押出しホッパ、204 加圧タ
ンク、206 ポンプ、208 金属ドラム、210
乾燥部、212 乾燥オーブン、214 キャストフィ
ルム、216 最終乾燥部、 218 最終乾燥フィル
ム、220巻上げ部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B29L 7:00 B29L 7:00 Fターム(参考) 2H049 BA02 BA06 BB29 BB44 BC09 4F071 AA64 AE19 AF30 AH19 BA02 BB02 BC01 4F100 AK55 AK55A AK55B BA02 BA04 CA18 EH46 EJ86 GB41 JK15 JN01 JN18 4F205 AA34 AG01 GA07 GB02 GF24 GN22 GN29

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 スルホンフィルムの製造法であって、 (a)液状のスルホン/溶媒混合物を、移動する不連続
    のキャリヤ基板上に塗布する工程と、 (b)前記液状スルホン/溶媒混合物を乾燥して大部分
    の溶媒を除き、前記不連続キャリヤ基板に付着したスル
    ホンフィルムである複合物を得る工程と、を含み、 前記スルホンフィルムは、剥ぐことが可能な程度に前記
    不連続キャリヤ基板に付着しているため、前記不連続キ
    ャリヤ基板から前記スルホンフィルムを剥ぐことができ
    ることを特徴とするスルホンフィルムの製造方法。
  2. 【請求項2】 約10nmより小さい面内遅延を有する
    スルホンである被覆層を含むことを特徴とするスルホン
    フィルム。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載のスルホンフィルムであ
    って、 前記スルホン被覆層は、約85%以上の光透過率と、約
    1.0%より小さいヘーズ値とを有することを特徴とす
    るスルホンフィルム。
JP2003142028A 2002-05-20 2003-05-20 スルホンフィルム及びその製造法 Pending JP2003342390A (ja)

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US10/190,390 2002-07-03

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