JP2003340210A - Cleaning method for filter apparatus - Google Patents
Cleaning method for filter apparatusInfo
- Publication number
- JP2003340210A JP2003340210A JP2002154484A JP2002154484A JP2003340210A JP 2003340210 A JP2003340210 A JP 2003340210A JP 2002154484 A JP2002154484 A JP 2002154484A JP 2002154484 A JP2002154484 A JP 2002154484A JP 2003340210 A JP2003340210 A JP 2003340210A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wastewater treatment
- calcium
- wastewater
- filtration device
- filtration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、排水処理装置の後
段にろ過装置を備えた排水処理設備における、ろ過装置
の洗浄方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for cleaning a filtration device in a wastewater treatment facility equipped with a filtration device downstream of a wastewater treatment device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】工場などからの排水の水質については厳
しい制限がなされているが、その規制は年々厳しくなる
傾向にあり、例えば、フッ素の排水基準値（暫定基準
値）は８ｍｇ／Ｌ以下、またリンの排水基準値は１６ｍ
ｇ／Ｌ以下と規定されている。電子産業（特に半導体関
連）、発電所、アルミニウム工業などから排出される排
水中には、厳しい排水基準が設けられている、フッ素、
リンをはじめとする元素が含まれている場合が多い。例
えば、半導体製造工程では、シリコンウエハーにフォト
レジストを塗布し、マスクパターンを転写し、露光後に
エッチングを行って、半導体の回路パターンを形成して
いるが、この一連の工程においてリン酸、硫酸、フッ酸
などの種々の薬品を使用し、特にエッチング時にフッ酸
を使用することが多く、この製造工程から生じる排水に
は、リンやフッ素をはじめとする種々の元素が、リン
酸、フッ酸など種々の形態で含まれる。このため、これ
らを排水から効率良く除去することが求められており、
フッ素、リンを除去する従来技術として、カルシウムが
フッ素および／またはリンと反応して難溶性化合物を形
成することを利用した、凝集沈殿法、晶析法、炭酸カル
シウム充填塔に通水する方法（特許第３２２７７６０
号）などが知られている。2. Description of the Related Art Although there are strict restrictions on the quality of wastewater discharged from factories, the regulations tend to become stricter year by year. For example, the wastewater standard value (provisional standard value) of fluorine is 8 mg / L or less, The drainage standard value of phosphorus is 16m.
It is defined as g / L or less. The effluent discharged from the electronics industry (especially semiconductor related), power plants, aluminum industry, etc. has a strict effluent standard, fluorine,
Often contains elements such as phosphorus. For example, in a semiconductor manufacturing process, a silicon wafer is coated with a photoresist, a mask pattern is transferred, and etching is performed after exposure to form a semiconductor circuit pattern. In this series of steps, phosphoric acid, sulfuric acid, Various chemicals such as hydrofluoric acid are used, especially hydrofluoric acid is often used at the time of etching, and various elements such as phosphorus and fluorine are contained in phosphoric acid, hydrofluoric acid, etc. Included in various forms. Therefore, it is required to efficiently remove these from the wastewater,
As a conventional technique for removing fluorine and phosphorus, a flocculation-precipitation method, a crystallization method, a method of passing water through a calcium carbonate packed tower, which utilizes the fact that calcium reacts with fluorine and / or phosphorus to form a sparingly soluble compound ( Patent No. 3227760
No.) is known.
【０００３】カルシウムによるフッ素の除去法として
は、フッ素を含む排水に、水酸化カルシウム（Ｃａ（Ｏ
Ｈ）２）、塩化カルシウム（ＣａＣｌ２）、炭酸カルシ
ウム（ＣａＣＯ３）をはじめとするカルシウム化合物を
添加し、式（Ｉ）に示されるように、難溶性のフッ化カ
ルシウムを生じさせることを基本とする。
Ｃａ２＋＋２Ｆ−→ ＣａＦ２↓ （Ｉ）
また、カルシウムによるリンの除去法としては、リンを
含む排水に、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）、塩
化カルシウム（ＣａＣｌ２）をはじめとするカルシウム
化合物を添加し、式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）に示され
るように、難溶性のリン酸カルシウムおよびリン酸ヒド
ロキシアパタイト（以下、リン酸カルシウム等という）
を生じさせることを基本とする。
３Ｃａ２＋＋２ＰＯ４ ３−→ Ｃａ３（ＰＯ４）２↓ （ＩＩ）
５Ｃａ２＋＋ＯＨ−＋３ＰＯ４ ３−→ Ｃａ５ＯＨ（ＰＯ４）３↓（ＩＩＩ）
また、フッ素およびリンが排水中に共存する場合には、
カルシウムの添加により、式（ＩＶ）に示されるよう
に、難溶性のフルオロアパタイトが生じる場合もある。
５Ｃａ２＋＋３ＰＯ４ ３−＋Ｆ−→ Ｃａ５（ＰＯ４）３Ｆ↓ （ＩＶ）As a method of removing fluorine by calcium, calcium hydroxide (Ca (O
H) 2 ), calcium chloride (CaCl 2 ), calcium carbonate (CaCO 3 ) and other calcium compounds are added to form a sparingly soluble calcium fluoride as shown in formula (I). And Ca 2+ + 2F − → CaF 2 ↓ (I) As a method for removing phosphorus by calcium, calcium including calcium hydroxide (Ca (OH) 2 ) and calcium chloride (CaCl 2 ) can be used for phosphorus-containing wastewater. A compound is added, and as shown in formulas (II) and (III), sparingly soluble calcium phosphate and hydroxyapatite phosphate (hereinafter referred to as calcium phosphate)
Is basically generated. 3Ca 2+ + 2PO 4 3 → → Ca 3 (PO 4 ) 2 ↓ (II) 5Ca 2+ + OH − + 3PO 4 3 → → Ca 5 OH (PO 4 ) 3 ↓ (III) Also, fluorine and phosphorus coexist in the wastewater. in case of,
Addition of calcium may result in poorly soluble fluoroapatite, as shown in formula (IV). 5Ca 2+ + 3PO 4 3 − + F − → Ca 5 (PO 4 ) 3 F ↓ (IV)
【０００４】カルシウムを利用する凝集沈殿法において
は、排水にカルシウムを添加して上述の難溶性化合物を
生じさせ、次いで、アルミニウム塩、鉄塩等の無機凝集
剤を添加することによりフロックを形成させる。次い
で、沈殿分離等の固液分離処理を行うことにより、フッ
素および／またはリンの難溶性化合物をフロックと共に
汚泥として分離し、フッ素および／またはリンが低減さ
れた処理水を得る。晶析法においては、種晶を充填した
反応槽に、フッ素および／またはリンを含む排水をカル
シウム剤と共に導入して、種晶上にフッ化カルシウム、
リン酸カルシウム等の難溶性化合物を析出させることに
より、フッ素および／またはリンが低減された処理水を
得る。また、炭酸カルシウム充填塔に通水する方法にお
いては、粒状炭酸カルシウムを充填した反応槽に、フッ
素および／またはリンを含む排水を導入して、置換反応
を利用して、フッ素および／またはリンが低減された処
理水を得る。一方、凝集沈殿をはじめとする上記処理の
際に、ｐＨ調整剤として硫酸を使用する場合があり、ま
た、排水中に多量の硫酸イオンが含まれる場合があり、
上述のカルシウムを使用する処理方法においては、硫酸
カルシウムが生成する場合がある。In the coagulation-sedimentation method using calcium, calcium is added to waste water to produce the above-mentioned sparingly soluble compound, and then inorganic flocculants such as aluminum salt and iron salt are added to form flocs. . Then, solid-liquid separation treatment such as precipitation separation is performed to separate the poorly soluble compound of fluorine and / or phosphorus as sludge together with flocs to obtain treated water with reduced fluorine and / or phosphorus. In the crystallization method, a waste water containing fluorine and / or phosphorus is introduced together with a calcium agent into a reaction tank filled with seed crystals, and calcium fluoride is added onto the seed crystals.
By precipitating a sparingly soluble compound such as calcium phosphate, treated water with reduced fluorine and / or phosphorus is obtained. Further, in the method of passing water through a calcium carbonate packed tower, a wastewater containing fluorine and / or phosphorus is introduced into a reaction tank filled with granular calcium carbonate, and fluorine and / or phosphorus is removed by utilizing a substitution reaction. Obtain reduced treated water. On the other hand, in the above treatment including coagulation and precipitation, sulfuric acid may be used as a pH adjuster, and a large amount of sulfate ion may be contained in the waste water,
In the treatment method using calcium described above, calcium sulfate may be produced.
【０００５】凝集沈殿法、晶析法、炭酸カルシウム充填
塔に通水する方法等の従来法を用いて、またはこれらを
組み合わせて排水処理を行う場合には、得られる処理水
のリン酸濃度は１ｍｇＰ／Ｌ以下であるが、フッ素濃度
は１０〜２０ｍｇ／Ｌ程度である。このため、処理水の
さらなる処理、特にフッ素除去処理が求められる場合が
あり、例えば、排水処理設備において凝集沈殿処理装
置、晶析処理装置等の排水処理装置の後段に、フッ素吸
着剤が充填されたフッ素吸着塔を設け、フッ素濃度のさ
らなる低減を行う場合がある。フッ素吸着剤を用いる処
理方法では、前段の排水処理装置から生じる処理水のｐ
Ｈを３〜５に調整し、これをフッ素吸着塔に通水する
が、このとき、フッ素吸着塔への懸濁物質の導入を防止
するため、排水処理装置とフッ素吸着塔の間にろ過装置
が設置される。当該ろ過装置は、排水処理設備の運転に
伴って懸濁物質を捕捉するので、必要に応じて洗浄され
る。このような排水処理設備におけるろ過装置の従来の
洗浄方法としては、例えば、砂ろ過装置の場合には、空
気逆洗によるろ材の撹拌を行った後、水による逆洗を行
うことにより、捕捉された懸濁物質を系外に排出して、
ろ材の性能を回復させることが行われており、また、膜
ろ過装置の場合にも、空気逆洗および／または水による
逆洗等を行うことにより、ろ過膜の性能を回復させるこ
とが行われていた。When the waste water treatment is carried out by using the conventional methods such as the coagulating sedimentation method, the crystallization method, the method of passing water through a calcium carbonate packed tower, or a combination thereof, the phosphoric acid concentration of the obtained treated water is Although it is 1 mgP / L or less, the fluorine concentration is about 10 to 20 mg / L. Therefore, further treatment of the treated water, particularly fluorine removal treatment, may be required.For example, in a wastewater treatment facility, a fluorine adsorbent is filled in the latter stage of the wastewater treatment device such as a coagulation sedimentation treatment device and a crystallization treatment device. A fluorine adsorption tower may be provided to further reduce the fluorine concentration. In the treatment method using a fluorine adsorbent, p of treated water generated from the wastewater treatment equipment in the preceding stage
H is adjusted to 3 to 5 and this is passed through a fluorine adsorption tower. At this time, in order to prevent the introduction of suspended matter into the fluorine adsorption tower, a filtration device is provided between the wastewater treatment device and the fluorine adsorption tower. Is installed. Since the filtration device captures suspended matter as the wastewater treatment facility operates, it is washed as necessary. As a conventional cleaning method of a filter device in such wastewater treatment equipment, for example, in the case of a sand filter device, after the filter medium is agitated by air backwashing, it is backwashed with water to be captured. Discharged suspended substances out of the system,
The performance of the filter medium is being recovered, and even in the case of a membrane filtration device, the performance of the filtration membrane is also recovered by backwashing with air and / or water. Was there.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、本発明者ら
が、上記態様の排水処理設備を運転し、ろ過装置の洗浄
を行ったところ、排水によっては、通常の空気および水
による逆洗では、ろ材またはろ過膜の性能を充分に回復
できないという不都合が生じ得ることが明らかとなっ
た。例えば、ろ過処理に伴ってろ材またはろ過膜上に堆
積、析出した析出物が水による逆洗では除去できず、そ
の結果、ろ材粒径の増大による処理水の水質悪化、ろ材
同士の結合またはろ過膜上での堆積、析出によるろ過面
の閉塞等の問題が生じる場合があった。この現象は、従
来の排水の処理においては、特に問題とはなっていなか
ったが、近年、工場等から排出される排水においてこの
ような問題が生じたことは、全く予想外のことであっ
た。However, when the inventors of the present invention operated the wastewater treatment facility of the above aspect and washed the filtration device, depending on the wastewater, in normal backwashing with air and water, It has become clear that the inconvenience that the performance of the filter medium or the filtration membrane cannot be sufficiently restored may occur. For example, deposits deposited and deposited on the filter media or filter membranes during the filtration process cannot be removed by backwashing with water, and as a result, the water quality of the treated water deteriorates due to an increase in the filter media particle size, binding between filter media or filtration. In some cases, problems such as clogging of the filtration surface due to deposition and deposition on the film occurred. This phenomenon has not been a particular problem in the conventional treatment of wastewater, but it has been completely unexpected that such a problem has occurred in the wastewater discharged from factories in recent years. .
【０００７】本発明者らは、上記問題が、主としてカル
シウム化合物の堆積、析出によるものであり、このカル
シウム化合物の析出が、ろ過装置の前段に設置される排
水処理装置において、排水に添加されるカルシウムの量
の増加に関連していることを見出し、これに基づいて本
願発明を完成するに至った。理論に拘束されるものでは
ないが、本発明者らは、排水処理において必要とされる
カルシウム量の増加は、排水中に存在する分散剤等の量
の増加に起因するものと推定するに至った。すなわち、
例えば半導体製造工場では、洗浄などのために大量の水
が必要となる。しかし、近年、環境保全のために取水量
が制限されたり、また工場内における環境への配慮か
ら、一度使用した水を再度回収し、再利用する方法によ
って、必要な水を確保するケースが多くなっている。こ
の再利用の際、例えば、膜処理によって水を回収する場
合、膜面へのスケーリング防止のために分散剤などの薬
品が多量に使用されるケースが多い。このため、添加さ
れた多量の分散剤が排水中に含まれることとなる。そし
て、この多量の分散剤が、フッ素、リンおよび／または
硫酸をはじめとする対象成分と、カルシウムとの反応に
よる難溶性化合物の形成、および／または形成された難
溶性化合物の除去を妨げているものと推察された。The inventors of the present invention have mainly caused the above-mentioned problems by depositing and depositing a calcium compound, and the deposit of this calcium compound is added to the wastewater in the wastewater treatment equipment installed before the filtration equipment. It was found that this is related to an increase in the amount of calcium, and based on this, the present invention was completed. Without being bound by theory, the present inventors have presumed that the increase in the amount of calcium required in the wastewater treatment is due to the increase in the amount of the dispersant and the like present in the wastewater. It was That is,
For example, in a semiconductor manufacturing plant, a large amount of water is required for cleaning. However, in recent years, in many cases, the amount of water taken is limited to protect the environment, and due to environmental considerations in factories, necessary water is often secured by a method of reusing and reusing once used water. Has become. During this reuse, for example, when water is recovered by a membrane treatment, a large amount of a chemical such as a dispersant is often used to prevent scaling on the membrane surface. Therefore, a large amount of the added dispersant is contained in the waste water. The large amount of the dispersant hinders the formation of a sparingly soluble compound and / or the removal of the sparingly soluble compound formed by the reaction between the target components such as fluorine, phosphorus and / or sulfuric acid and calcium. It was supposed to be.
【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、カルシウムを使用する排水処理装置、
およびその後段にろ過装置を有する排水処理設備におい
て、当該ろ過装置のろ過性能を維持、回復させることが
できる、ろ過装置の洗浄方法、特に、排水処理設備の運
転の際に、高濃度のカルシウムを含む処理水がろ過装置
に供給された場合であっても、ろ過性能を維持、回復さ
せることができる、ろ過装置の洗浄方法を提供すること
を目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a wastewater treatment apparatus using calcium,
And in a wastewater treatment facility having a filtration device in the subsequent stage, it is possible to maintain and restore the filtration performance of the filtration device, a method for cleaning the filtration device, in particular, when operating the wastewater treatment facility, a high concentration of calcium An object of the present invention is to provide a method for cleaning a filtering device, which can maintain and restore the filtering performance even when the treated water containing the same is supplied to the filtering device.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明は請求項１とし
て、カルシウムを用いて排水中の対象成分を低減させる
排水処理装置と、該排水処理装置の後段に接続されたろ
過装置とを有する排水処理設備における、該ろ過装置の
洗浄方法であって、前記排水処理設備の運転後に、該ろ
過装置を塩酸浸漬処理することを特徴とする、該ろ過装
置の洗浄方法を提供する。本発明は請求項２として、排
水処理設備の運転の際に、カルシウム濃度が３００ｍｇ
／Ｌ以上の処理水が排水処理装置からろ過装置に供給さ
れる、請求項１記載のろ過装置の洗浄方法を提供する。
本発明は請求項３として、対象成分の少なくとも１種が
フッ素、リンまたは硫酸である、請求項１または２記載
のろ過装置の洗浄方法を提供する。According to a first aspect of the present invention, there is provided a wastewater having a wastewater treatment device for reducing target components in wastewater by using calcium, and a filtration device connected to the latter stage of the wastewater treatment device. There is provided a method for cleaning the filtration device in a treatment facility, which comprises subjecting the filtration device to a hydrochloric acid immersion treatment after the operation of the wastewater treatment facility. According to the present invention, claim 2 has a calcium concentration of 300 mg during the operation of the wastewater treatment facility.
The method for cleaning a filtration device according to claim 1, wherein the treated water of not less than / L is supplied from the wastewater treatment device to the filtration device.
The present invention provides, as claim 3, a method for cleaning a filtration device according to claim 1 or 2, wherein at least one of the target components is fluorine, phosphorus or sulfuric acid.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】本発明においては、排水処理設備
は、排水処理装置およびその後段にろ過装置を有する。
すなわち、排水処理設備は、該排水処理設備が運転され
る場合に、排水処理装置から生じる処理水がろ過装置に
移送され、該処理水がろ過装置においてろ過処理される
様に構成される。本発明においては、排水処理装置の後
段にろ過装置が接続されているのであれば、排水処理装
置とろ過装置との接続の態様は特に限定されるものでは
なく、配管による接続等、任意の、公知の態様が可能で
ある。また、本発明の洗浄方法が適用される排水処理設
備においては、ろ過装置の後段にフッ素吸着剤を充填し
たフッ素吸着装置を接続することが可能であり、この態
様により、フッ素濃度が顕著に低減された処理水を得る
ことが可能となる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, the wastewater treatment facility has a wastewater treatment device and a filtration device at the subsequent stage.
That is, the wastewater treatment facility is configured such that, when the wastewater treatment facility is operated, the treated water generated from the wastewater treatment device is transferred to the filtration device, and the treated water is filtered by the filtration device. In the present invention, as long as the filtration device is connected to the latter stage of the wastewater treatment device, the mode of connection between the wastewater treatment device and the filtration device is not particularly limited, such as connection by piping, any, Known aspects are possible. Further, in the wastewater treatment facility to which the cleaning method of the present invention is applied, it is possible to connect a fluorine adsorbing device filled with a fluorine adsorbent in the latter stage of the filtering device, and by this aspect, the fluorine concentration is significantly reduced. It becomes possible to obtain treated water.
【００１１】ろ過装置としては、排水処理装置から生じ
る処理水をろ過処理できるものであれば、任意の、公知
のろ過装置を使用することができる。例えば、砂ろ過装
置をはじめとする充填材が塔内に充填された充填塔式ろ
過装置、膜ろ過装置が挙げられるがこれらに限定される
ものではない。好ましくは、ろ過装置は砂ろ過装置であ
る。また、ろ過装置の運転条件としては、本発明の目的
に反しない限りは、任意の態様で運転することが可能で
ある。充填塔式ろ過装置に使用されるろ材としては、ろ
過砂、アンスラサイト、活性炭、イオン交換樹脂、樹脂
繊維等が挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。また、ろ材の粒径、充填量、ろ過面積、ろ過能力等
は、特に限定されるものではなく、任意の、公知の態様
のろ過装置を使用可能である。膜ろ過装置に使用される
ろ過膜としては、精密ろ過膜、限外ろ過膜などが挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。また、膜ろ
過装置におけるろ過膜の材質、ろ過面積、ろ過能力等
は、特に限定されるものではなく、任意の、公知の態様
の膜ろ過装置を使用可能である。As the filter device, any known filter device can be used as long as it can filter the treated water generated from the waste water treatment device. Examples thereof include, but are not limited to, a packed tower type filtration device in which a packing material such as a sand filtration device is filled in the tower, and a membrane filtration device. Preferably, the filtration device is a sand filtration device. Further, the operating condition of the filtration device can be any mode as long as it does not violate the object of the present invention. Examples of the filter medium used in the packed tower type filtration device include, but are not limited to, filter sand, anthracite, activated carbon, ion exchange resin, and resin fiber. Further, the particle size, the filling amount, the filtration area, the filtration capacity, etc. of the filter medium are not particularly limited, and any known filtration device of a mode can be used. Examples of the filtration membrane used in the membrane filtration device include, but are not limited to, microfiltration membranes and ultrafiltration membranes. The material, filtration area, filtration capacity, etc. of the filtration membrane in the membrane filtration device are not particularly limited, and any known membrane filtration device of an aspect can be used.
【００１２】本発明においては、ろ過装置の洗浄は、排
水処理設備を運転した後に、ろ過装置を塩酸浸漬処理す
ることにより行われる。本発明における塩酸浸漬処理と
は、ろ過装置における、ろ材またはろ過膜を塩酸含有溶
液に浸漬し、ろ材またはろ過膜上に堆積および／または
析出した難溶性化合物を溶解除去することにより、ろ材
またはろ過膜を再生する処理をいう。ろ材またはろ過膜
を塩酸含有溶液に浸漬する態様は特に限定されるもので
はなく、ろ材またはろ過膜を該溶液に浸漬したまま静置
する態様であっても良いし、ろ材またはろ過膜を浸漬し
た状態で該溶液に空気を通気して撹拌する態様、または
該溶液をポンプなどを用いて流動させる態様なども可能
である。難溶性化合物の溶解除去を促進するとの観点か
ら、溶液を空気撹拌、または流動させる態様が好まし
い。塩酸浸漬処理は、排水処理設備を運転した後であれ
ば任意のタイミングで行うことができ、例えば、一定時
間、当該排水処理設備を運転した後に行っても良いし、
ろ過装置の差圧など所定のパラメータに基づいて行って
も良く、特に限定されるものではない。また、運転−洗
浄のサイクルを複数回繰り返す場合には、ろ過装置の洗
浄操作の全てが塩酸浸漬処理であっても良いし、全てが
塩酸浸漬処理ではなく、通常の水および空気による逆洗
と塩酸浸漬処理とを組み合わせて行うものであっても良
い。例えば、運転−洗浄のサイクルにおいて、通常は水
および空気による逆洗であって、所定のサイクル数ごと
に塩酸浸漬処理が行われる態様であっても良いし、差圧
の増大、水質の悪化など必要に応じて塩酸浸漬処理が行
われる態様であっても良い。In the present invention, the cleaning of the filtering device is carried out by operating the wastewater treatment equipment and then immersing the filtering device in hydrochloric acid. The hydrochloric acid immersion treatment in the present invention means that the filter medium or the filtration membrane in the filtration device is immersed in a hydrochloric acid-containing solution, and the sparingly soluble compound deposited and / or deposited on the filter medium or the filtration membrane is dissolved and removed to obtain the filter medium or the filtration. The process of regenerating a membrane. The mode of immersing the filter medium or the filtration membrane in the hydrochloric acid-containing solution is not particularly limited, and may be a mode in which the filter medium or the filtration membrane is allowed to stand while being immersed in the solution, or the filter medium or the filtration membrane is immersed. In the state, a mode of aerating the solution by aerating air, a mode of flowing the solution using a pump or the like is also possible. From the viewpoint of facilitating dissolution and removal of the sparingly soluble compound, an embodiment in which the solution is agitated with air or fluidized is preferable. Hydrochloric acid immersion treatment can be performed at any timing after operating the wastewater treatment equipment, for example, may be performed after operating the wastewater treatment equipment for a certain period of time,
It may be performed based on a predetermined parameter such as a differential pressure of the filtration device, and is not particularly limited. When the operation-cleaning cycle is repeated a plurality of times, all the cleaning operations of the filtration device may be hydrochloric acid immersion treatment, or all of them may not be hydrochloric acid immersion treatment and may be backwashed with normal water and air. It may be performed in combination with a hydrochloric acid immersion treatment. For example, in the operation-cleaning cycle, backwashing with water and air may be carried out, and the hydrochloric acid dipping treatment may be carried out every predetermined number of cycles, or the differential pressure may increase, the water quality may deteriorate, etc. A mode in which a hydrochloric acid immersion treatment is performed as necessary may be adopted.
【００１３】塩酸浸漬処理において使用される塩酸含有
溶液としては、ろ過装置に悪影響を及ぼさず、難溶性化
合物を溶解除去できる範囲で塩酸を含有していれば良
く、好ましくは、０．２〜４重量％である。また、塩酸
含有溶液は、あらかじめ調製された溶液がろ過装置に供
給されても良いし、ろ過装置内に水が充填された状態
で、該装置内に塩酸を供給し所定の濃度に調節すること
により調製することも可能である。塩酸浸漬処理におい
て、ろ材またはろ過膜が塩酸含有液に浸漬される時間
は、ろ過装置に悪影響を及ぼさず、難溶性化合物を溶解
除去できる範囲であれば良く、使用されるろ過装置の種
類、大きさ、溶解除去すべき難溶性化合物の量に応じて
適宜設定される。好ましくは、塩酸浸漬処理時間は、３
〜２４時間である。塩酸浸漬処理により生じる洗浄廃液
は、上流の、凝集沈殿処理装置、晶析装置をはじめとす
る排水処理装置に利用することが可能である。The hydrochloric acid-containing solution used in the hydrochloric acid dipping treatment should contain hydrochloric acid within a range that does not adversely affect the filtration apparatus and can dissolve and remove the hardly soluble compound, and preferably 0.2 to 4 % By weight. As for the hydrochloric acid-containing solution, a solution prepared in advance may be supplied to the filtration device, or while the filtration device is filled with water, hydrochloric acid may be supplied to the device to adjust the concentration to a predetermined value. It is also possible to prepare by. In the hydrochloric acid immersion treatment, the time for which the filter medium or the filtration membrane is immersed in the hydrochloric acid-containing liquid does not have an adverse effect on the filtration device and may be a range capable of dissolving and removing the hardly soluble compound, and the type and size of the filtration device used. Now, it is appropriately set according to the amount of the sparingly soluble compound to be dissolved and removed. Preferably, the hydrochloric acid immersion treatment time is 3
~ 24 hours. The cleaning waste liquid generated by the hydrochloric acid immersion treatment can be used in the upstream waste water treatment equipment such as a coagulation sedimentation treatment equipment and a crystallization equipment.
【００１４】本発明における排水処理装置としては、カ
ルシウムを用いて、対象成分を含む排水から、該対象成
分が低減された処理水を生じさせるものであれば、任意
の、公知の排水処理装置が可能である。例えば、凝集沈
殿処理装置、晶析処理装置、炭酸カルシウム充填塔を具
備する装置等が挙げられるがこれらに限定されるもので
はない。また、排水処理設備が有する排水処理装置は複
数であっても良く、複数の排水処理装置を有する場合に
は、該装置は同一であっても、異なっていても良い。対
象成分がフッ素、リンおよび／または硫酸の場合には、
排水処理装置としては、晶析処理装置または凝集沈殿処
理装置が好ましい。As the wastewater treatment equipment in the present invention, any known wastewater treatment equipment can be used as long as it produces treated water in which the target constituents are reduced from the wastewater containing the target constituents by using calcium. It is possible. For example, a flocculation-precipitation treatment device, a crystallization treatment device, a device equipped with a calcium carbonate packed column, and the like can be cited, but the device is not limited to these. Further, a plurality of wastewater treatment devices may be included in the wastewater treatment facility. When a plurality of wastewater treatment devices are included, the devices may be the same or different. When the target component is fluorine, phosphorus and / or sulfuric acid,
As the wastewater treatment device, a crystallization treatment device or a coagulation sedimentation treatment device is preferable.
【００１５】排水処理装置の１態様である凝集沈殿処理
装置としては、排水から対象成分を凝集沈殿させること
により低減できる装置であれば、本発明の目的に反しな
い限り、任意の、公知の装置を用いることが可能であ
り、特に限定されるものではない。例えば、凝集沈殿処
理装置においては、対象成分を含む排水にカルシウムを
添加し、カルシウムを含む難溶性化合物を形成させ、こ
れが凝集沈殿により除去される。凝集沈殿処理の際に
は、カルシウムの添加前、添加後または添加と同時に凝
集剤を添加するのが好ましく、これにより、難溶性化合
物が凝集剤から形成されるフロックと共沈して、凝集沈
殿が促進され分離効率が向上する。凝集剤の例として
は、ポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）、硫酸バンド、塩
化第２鉄、硫酸第１鉄、硫酸第２鉄をはじめとする無機
凝集剤、およびカチオン系高分子凝集剤、アニオン系高
分子凝集剤、ノニオン系高分子凝集剤をはじめとする有
機高分子凝集剤が挙げられるがこれらに限定されるもの
ではない。As the coagulation-sedimentation treatment apparatus which is one aspect of the wastewater treatment apparatus, any known apparatus can be used as long as it is an apparatus capable of reducing the coagulation-precipitation of the target components from the wastewater as long as the object of the present invention is not impaired. Can be used and is not particularly limited. For example, in a coagulation-sedimentation treatment apparatus, calcium is added to wastewater containing a target component to form a sparingly soluble compound containing calcium, which is removed by coagulation-sedimentation. During the coagulation-sedimentation treatment, it is preferable to add a coagulant before, after or at the same time as the addition of calcium, whereby the sparingly soluble compound co-precipitates with the flocs formed from the coagulant, and the coagulation-precipitation Is promoted and the separation efficiency is improved. Examples of the aggregating agent include polyaluminum chloride (PAC), sulfuric acid band, ferric chloride, ferrous sulfate, ferric sulfate, and other inorganic aggregating agents, and cationic polymer aggregating agents, anionic high-aggregating agents. Examples thereof include organic polymer aggregating agents such as molecular aggregating agents and nonionic polymer aggregating agents, but are not limited thereto.
【００１６】排水処理装置の他の態様である晶析処理装
置としては、排水から対象成分を晶析させることにより
低減できる装置であれば、本発明の目的に反しない限
り、任意の、公知の装置を用いることが可能であり、特
に限定されるものではない。例えば、晶析処理装置にお
いては、種晶が充填された晶析反応槽に、対象成分を含
む排水とカルシウム含有液とを供給し、該種晶上に対象
成分とカルシウムとを含む難溶性化合物を晶析させ、対
象成分が低減された処理水を生じさせる。また、他の態
様である炭酸カルシウム充填塔を具備する装置において
は、粒状炭酸カルシウムを充填した充填塔に、対象成分
を含む排水を導入して、置換反応を利用して対象成分と
カルシウムとの難溶性化合物を形成させ、対象成分が低
減された処理水を生じさせる。As a crystallization treatment device which is another aspect of the wastewater treatment device, any known crystallization treatment device can be used as long as it does not violate the object of the present invention, as long as it is a device that can reduce the components by crystallization from the wastewater. The device can be used and is not particularly limited. For example, in a crystallization treatment apparatus, a crystallization reaction tank filled with a seed crystal is supplied with a wastewater containing a target component and a calcium-containing liquid, and a sparingly soluble compound containing the target component and calcium on the seed crystal. Is crystallized to produce treated water in which the target component is reduced. Further, in an apparatus including a calcium carbonate packed tower which is another embodiment, a waste water containing a target component is introduced into a packed tower filled with granular calcium carbonate, and a substitution reaction is used to combine the target component with calcium. It forms a sparingly soluble compound and produces treated water with reduced target components.
【００１７】排水処理装置で使用されるカルシウムとし
ては、排水から対象成分を除去できる態様でカルシウム
元素を含んでいるのであれば、使用される排水処理装置
の種類に応じて、任意のカルシウム化合物を選択するこ
とができ、該カルシウム化合物は溶液、スラリー、乾燥
固体をはじめとする任意の態様で使用され得る。カルシ
ウムの供給源となるカルシウム化合物としては、水酸化
カルシウム、塩化カルシウム、炭酸カルシウム等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。As the calcium used in the wastewater treatment equipment, any calcium compound may be selected depending on the type of the wastewater treatment equipment to be used, as long as it contains calcium element in such a manner that the target component can be removed from the wastewater. It can be chosen and the calcium compound can be used in any manner, including solutions, slurries, dry solids. Examples of the calcium compound serving as a calcium source include, but are not limited to, calcium hydroxide, calcium chloride, calcium carbonate and the like.
【００１８】本発明者らは、カルシウムを使用する排水
処理装置とその後段にろ過装置を有する排水処理設備に
おいて、近年の半導体工場からの排水をはじめとする、
特定の排水を処理する場合に、水を用いた洗浄では該ろ
過装置のろ材、ろ過膜を充分に再生できないという問題
が生じることを見出した。また、当該問題が、ろ材、ろ
過膜上での難溶性のカルシウム化合物の析出、堆積に起
因していること、そして、該問題は、洗浄において塩酸
含有溶液を用いる塩酸浸漬処理により解決できることを
見出した。理論に拘束されるものではないが、排水処理
装置において、対象成分を低減させるために必要とされ
るカルシウム量は、排水中に存在する分散剤等の量に応
じて増加するものと考えられる。すなわち、多量の分散
剤等が、フッ素および／またはリンをはじめとする対象
成分と、カルシウムとの反応による難溶性化合物の形
成、および／または形成された難溶性化合物の除去を妨
げているものと考えられる。このことは、一度使用した
水の再利用などのために、膜処理によって水を回収する
等、膜面へのスケーリング防止のために分散剤などの薬
品が多量に使用される場合のような、排水中の分散剤等
の量が増大する場合に、必要とされるカルシウム量が増
大することと一致している。このような分散剤として
は、例えば、アクリル酸系分散剤が挙げられるが、これ
に限定されるものではない。よって、本発明のろ過装置
の洗浄方法は、排水処理装置において多量のカルシウム
が使用され、該排水処理装置からろ過装置に供給される
処理水中に高濃度のカルシウムが含まれる場合に特に有
用である。本発明のろ過装置の洗浄方法は、排水処理装
置からろ過装置に供給される処理水中のカルシウム濃度
が３００ｍｇ／Ｌ以上の場合に適用されるのが好まし
く、より好ましくは、４００ｍｇ／Ｌ以上、さらにより
好ましくは、６００ｍｇ／Ｌ以上である。また、排水中
の硫酸濃度が高い場合には、排水処理装置からろ過装置
に供給される処理水中に比較的高濃度の硫酸が残留し、
難溶性化合物である硫酸カルシウムが析出しやすくな
る。よって、本発明のろ過装置の洗浄方法は、排水処理
装置からろ過装置に供給される処理水中の硫酸イオン濃
度が２０００ｍｇ／Ｌ以上の場合に適用されるのが好ま
しい。The inventors of the present invention, including wastewater from a semiconductor factory in recent years, in wastewater treatment equipment having a wastewater treatment equipment using calcium and a filtration device at the subsequent stage,
It has been found that when treating a specific waste water, washing with water causes a problem that the filter medium and the filtration membrane of the filtration device cannot be sufficiently regenerated. It was also found that the problem is caused by precipitation and deposition of a sparingly soluble calcium compound on a filter medium and a filtration membrane, and that the problem can be solved by a hydrochloric acid immersion treatment using a hydrochloric acid-containing solution in cleaning. It was Without being bound by theory, it is considered that the amount of calcium required for reducing the target components in the wastewater treatment device increases according to the amount of the dispersant and the like present in the wastewater. That is, a large amount of a dispersant or the like prevents the formation of a sparingly soluble compound by the reaction between the target components such as fluorine and / or phosphorus and calcium, and / or the removal of the sparingly soluble compound formed. Conceivable. This means that when a large amount of chemicals such as a dispersant is used to prevent scaling on the membrane surface, such as collecting water by membrane treatment for reuse of water that has been used once. This is consistent with the increase in the required amount of calcium when the amount of dispersant in the wastewater increases. Examples of such a dispersant include, but are not limited to, an acrylic acid-based dispersant. Therefore, the method for cleaning a filtration device of the present invention is particularly useful when a large amount of calcium is used in the wastewater treatment device and the treated water supplied from the wastewater treatment device to the filtration device contains a high concentration of calcium. . The method for cleaning a filtration device of the present invention is preferably applied when the calcium concentration in the treated water supplied from the wastewater treatment device to the filtration device is 300 mg / L or more, more preferably 400 mg / L or more, More preferably, it is 600 mg / L or more. Further, when the sulfuric acid concentration in the wastewater is high, a relatively high concentration of sulfuric acid remains in the treated water supplied from the wastewater treatment device to the filtration device,
Calcium sulfate, which is a sparingly soluble compound, is easily deposited. Therefore, the method for cleaning a filtration device of the present invention is preferably applied when the concentration of sulfate ion in the treated water supplied from the wastewater treatment device to the filtration device is 2000 mg / L or more.
【００１９】本発明における排水処理設備で処理される
排水は、特に限定されるものではなく、排水中から除去
が望まれる対象成分を含むものであれば、如何なる由来
の排水であっても良く、例えば、半導体関連産業をはじ
めとする電子産業、発電所、アルミニウム工業などから
排出される排水が挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。対象成分とは、排水中に含有されている成
分であり、例えば、フッ素、リン、硫酸、並びに、Ｖ、
Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ａ
ｇ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｓｎ、ＰｂおよびＴｅをはじめとする
重金属元素が挙げられるが、これらに限定されるもので
はない。対象成分は１種類の元素に限定されるものでは
なく、複数種類の元素であっても良い。好ましくは、本
発明のろ過装置の洗浄方法が適用される場合の、対象成
分の少なくとも１種はフッ素、リンまたは硫酸である。The wastewater treated in the wastewater treatment facility in the present invention is not particularly limited, and may be wastewater of any origin as long as it contains the target component to be removed from the wastewater, Examples include, but are not limited to, wastewater discharged from the electronics industry including the semiconductor-related industry, power plants, and the aluminum industry. The target component is a component contained in the wastewater, for example, fluorine, phosphorus, sulfuric acid, V,
Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Mo, A
Examples thereof include heavy metal elements such as g, Cd, Hg, Sn, Pb and Te, but are not limited thereto. The target component is not limited to one kind of element, and may be a plurality of kinds of elements. Preferably, when the method for cleaning a filtration device of the present invention is applied, at least one of the target components is fluorine, phosphorus or sulfuric acid.
【００２０】また、対象成分は排水処理装置での処理で
低減されるのであれば、任意の状態で排水中に存在する
ことが可能である。排水中に溶解しているという観点か
ら、イオン化した状態であるのが好ましい。ここでイオ
ン化した状態とは、例えば、フッ素イオン（Ｆ−）をは
じめとする元素がそのままイオン化したもの、また、メ
タリン酸、ピロリン酸、オルトリン酸（単にリン酸とも
いう、Ｈ３ＰＯ４）、三リン酸、四リン酸、亜リン酸
等、硫酸をはじめとする対象成分を含む化合物がイオン
化したものが挙げられるが、これらに限定されるもので
はない。排水中に含まれるフッ素については、フッ素イ
オンの形態で存在するのが好ましい。リンについては、
リンを含有する酸がイオン化した形態で存在するものが
好ましく、より好ましくは、リン酸イオンの形態で存在
するものである。硫酸としては、硫酸イオンの形態で存
在するものである。The target component can be present in the wastewater in any state as long as it is reduced by the treatment in the wastewater treatment equipment. From the viewpoint of being dissolved in the waste water, it is preferably in an ionized state. Here, the ionized state means, for example, an ionized element such as a fluorine ion (F − ) as it is, metaphosphoric acid, pyrophosphoric acid, orthophosphoric acid (also simply referred to as phosphoric acid, H 3 PO 4 ), Examples include ionized compounds containing target components such as sulfuric acid such as triphosphoric acid, tetraphosphoric acid, and phosphorous acid, but are not limited thereto. The fluorine contained in the waste water is preferably present in the form of fluorine ions. For phosphorus,
It is preferable that the phosphorus-containing acid is present in the ionized form, and more preferably, it is present in the form of phosphate ion. Sulfuric acid exists in the form of sulfate ions.
【００２１】図１に、本発明の洗浄方法が適用される排
水処理設備の１態様を示し、これに基づいて本発明を詳
述する。図１の態様においては、排水処理装置として凝
集沈殿処理装置１が使用され、その後段に、ろ過装置と
して砂ろ過塔２が接続されている。該排水処理装置の運
転の際には、凝集沈殿処理装置１の反応槽３に、対象成
分を含む排水およびカルシウムが供給され、カルシウム
と対象成分を含む難溶性化合物を形成させる。次いで、
凝集剤を添加した後、沈殿槽４で難溶性化合物を凝集沈
殿させ、汚泥として回収する。対象成分が低減された処
理水は砂ろ過塔２に移送され、砂ろ過塔２のろ過砂５を
通過することによりろ過処理が行われ、最終処理水が得
られる。ろ過装置を洗浄する場合には、塩酸供給手段６
から塩酸含有溶液がろ過砂５を浸漬する様に砂ろ過塔２
内に供給され、塩酸浸漬処理が行われる。砂ろ過塔２に
は、逆洗空気供給ライン７および逆洗水供給ライン８が
設けられており、塩酸浸漬処理と同時に、処理前または
処理後に水および／または空気で逆洗を行うこともでき
る。塩酸浸漬処理後に、ろ過砂５は水で洗浄され、再び
排水処理装置の運転におけるろ過処理に供される。以
下、実施例で本発明をより具体的に説明するが、本発明
は実施例に限定されるものではない。FIG. 1 shows one embodiment of wastewater treatment equipment to which the cleaning method of the present invention is applied, and the present invention will be described in detail based on this. In the embodiment of FIG. 1, a coagulation sedimentation treatment device 1 is used as a wastewater treatment device, and a sand filtration tower 2 as a filtration device is connected to the subsequent stage. During the operation of the wastewater treatment equipment, the wastewater containing the target component and calcium are supplied to the reaction tank 3 of the coagulation sedimentation treatment device 1 to form a sparingly soluble compound containing calcium and the target component. Then
After adding the coagulant, the sparingly soluble compound is coagulated and precipitated in the settling tank 4 and collected as sludge. The treated water in which the target components have been reduced is transferred to the sand filtration tower 2, and the filtration treatment is performed by passing through the sand filter 5 of the sand filtration tower 2 to obtain the final treated water. When cleaning the filtration device, hydrochloric acid supply means 6
Sand filtration tower 2 so that the hydrochloric acid-containing solution dips the filtration sand 5 from
It is supplied to the inside and subjected to hydrochloric acid immersion treatment. The sand filtration tower 2 is provided with a backwash air supply line 7 and a backwash water supply line 8, and it is also possible to perform backwash with water and / or air before or after the hydrochloric acid dipping treatment at the same time. . After the hydrochloric acid immersion treatment, the filter sand 5 is washed with water and is again subjected to the filter treatment in the operation of the wastewater treatment device. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples.
【００２２】[0022]
【実施例】本実施例においては、排水処理装置から生じ
た処理水として、半導体製造工場からの排水を凝集沈殿
処理して得た処理水を使用した。すなわち、半導体工場
からのｐＨ２．５の排水を、Ｃａ（ＯＨ）２をｐＨ１０
となるように添加した後、１５０ｒｐｍで１５分間撹拌
し、次いで、ＦｅＣｌ３を２００ｍｇ／Ｌ添加してｐＨ
６に調整した後、１５０ｒｐｍで１５分間撹拌し、さら
に高分子凝集剤オルフロックＡＸ−５００Ｓを２ｍｇ／
Ｌ添加した後、４０ｒｐｍで１５分間撹拌し、これを１
時間静置してその上澄水を処理水とした。処理水中の成
分は以下の通りである。
ｐＨ＝７．０
ＳＳ（懸濁物質）：１０ｍｇ／Ｌ
Ｆ：２０ｍｇ／Ｌ
ＰＯ４：２ｍｇ（リン重量）／Ｌ
Ｃａ：６７０ｍｇ／Ｌ
ＳＯ４：３２００ｍｇ／Ｌ
ろ過装置としては、内径６５ｍｍであって、アンスラサ
イト、平均粒径０．６ｍｍのろ過砂（株式会社トーケミ
製）、砂利から成る、高さ１ｍのろ材充填層を有する砂
ろ過装置を使用した。該砂ろ過装置に、上記処理水を１
０ｍ３／ｍ２／時間となるように通水した。EXAMPLE In this example, as the treated water generated from the wastewater treatment equipment, treated water obtained by coagulating sedimentation of wastewater from a semiconductor manufacturing plant was used. That is, drainage of pH 2.5 from the semiconductor factory is replaced with Ca (OH) 2 of pH 10
And then stirred at 150 rpm for 15 minutes, and then FeCl 3 was added at 200 mg / L to adjust the pH.
After adjusting to 6, the mixture was stirred at 150 rpm for 15 minutes, and further polymer flocculant Orfloc AX-500S was added at 2 mg /
After adding L, stir at 40 rpm for 15 minutes, and add 1
The mixture was allowed to stand for a period of time and the supernatant water was used as treated water. The components in the treated water are as follows. pH = 7.0 SS (suspended substance): 10 mg / L F: 20 mg / L PO 4 : 2 mg (phosphorus weight) / L Ca: 670 mg / L SO 4 : 3200 mg / L As a filtration device, the inner diameter was 65 mm. Then, a sand filter having a 1 m-high filter media packing layer made of anthracite, filter sand having an average particle size of 0.6 mm (manufactured by Tokemi Co., Ltd.), and gravel was used. 1 to the sand filter
Water was passed so that the flow rate would be 0 m 3 / m 2 / hour.
【００２３】比較例１および２
塩酸浸漬処理を行わない比較例１においては、砂ろ過装
置に２４時間通水した後、洗浄操作として、（洗浄工程
１）ＬＶ５０で１０分間、空気で逆洗を行い、（洗浄工
程２）ＬＶ４０で１０分間、水で逆洗を行うという操作
を行った。比較例１においては、この２４時間通水−洗
浄工程１−洗浄工程２という操作を繰り返し、６か月後
に、砂ろ過装置から得られる最終処理水中の懸濁物質の
量、ろ材の粒径分布、およびろ材の固着の有無を測定し
た。また、比較例２は、２４時間通水後に上記パラメー
タを測定した結果である。Comparative Examples 1 and 2 In Comparative Example 1 not subjected to the hydrochloric acid immersion treatment, after water was passed through the sand filter for 24 hours, as a washing operation, (washing step 1), LV50 was used for 10 minutes, and backwashing was performed with air. (Washing step 2) Backwashing with water was performed for 10 minutes at LV40. In Comparative Example 1, this operation of 24-hour water passing-washing step 1-washing step 2 was repeated, and after 6 months, the amount of suspended substances in the final treated water obtained from the sand filter, and the particle size distribution of the filter medium. , And the presence or absence of sticking of the filter medium were measured. Further, Comparative Example 2 is the result of measuring the above parameters after passing water for 24 hours.
【００２４】実施例１
塩酸浸漬処理を行う実施例１においては、比較例１の場
合と同様に、砂ろ過装置に２４時間通水した後、洗浄操
作として、（洗浄工程１）ＬＶ５０で１０分間、空気で
逆洗を行い、（洗浄工程２）ＬＶ４０で１０分間水で逆
洗を行うという操作を行った。この、２４時間通水−洗
浄工程１−洗浄工程２という運転条件を９サイクル繰り
返した後、１０サイクル目の洗浄操作においては、２４
時間の通水後、（洗浄工程１）ＬＶ５０で１０分間、空
気で逆洗を行い、（洗浄工程２）ＬＶ４０で１０分間、
水で逆洗を行い、（洗浄工程３）ろ材を、ろ材充填量の
２倍の容積量の０．４％塩酸水溶液に１２時間浸漬し、
（洗浄工程４）洗浄工程３において、６時間ごとにＬＶ
５０で１０分間空気で逆洗を行い、（洗浄工程５）ＬＶ
４０で１０分間、水で逆洗を行うという、塩酸浸漬処理
を行った。すなわち、洗浄操作１０サイクルのうち最初
の９サイクルは通常の水による逆洗であり、１０サイク
ル目に上記塩酸浸漬処理を行うという操作パターンで運
転を行った。上記運転条件で砂ろ過装置を６か月間運転
し、砂ろ過装置から得られる最終処理水中の懸濁物質の
量、ろ材の粒径分布、およびろ材の固着の有無を測定し
た。実施例１および比較例１、２の結果を表１に示す。Example 1 In Example 1 in which a hydrochloric acid immersion treatment is performed, water is passed through the sand filter for 24 hours as in the case of Comparative Example 1, and then, as a cleaning operation, (cleaning step 1) LV50 is applied for 10 minutes. Then, backwashing was performed with air, and (washing step 2) backwashing was performed with water for 10 minutes at LV40. After repeating the operation conditions of 24-hour water passing-washing step 1-washing step 2 for 9 cycles, in the washing operation of the 10th cycle,
After passing water for a period of time, (washing step 1) is backwashed with LV50 for 10 minutes and air, and (washing step 2) is LV40 for 10 minutes,
Back washing with water (washing step 3), the filter medium is immersed for 12 hours in a 0.4% hydrochloric acid aqueous solution having a volume volume twice the filter medium filling amount,
(Washing step 4) In the washing step 3, the LV is taken every 6 hours.
Backwash with air for 10 minutes at 50 (washing step 5) LV
A hydrochloric acid dipping treatment was performed in which backwashing was performed with water at 40 for 10 minutes. That is, the first 9 cycles of the 10 cleaning operations were backwashing with normal water, and the operation was performed in the operation pattern of performing the hydrochloric acid immersion treatment in the 10th cycle. The sand filter was operated for 6 months under the above operating conditions, and the amount of suspended substances in the final treated water obtained from the sand filter, the particle size distribution of the filter medium, and the presence / absence of sticking of the filter medium were measured. The results of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 are shown in Table 1.
【００２５】[0025]
【表１】 [Table 1]
【００２６】表１に示されるように、塩酸浸漬処理を行
わない比較例１においては、６か月の運転後に、ろ材の
固着およびろ材の粒径の増大が認められた。また、これ
らに起因すると考えられる、砂ろ過装置からの最終処理
水中の懸濁物質量の増大という水質の悪化が認められ
た。これに対して、塩酸浸漬処理を行った実施例１の洗
浄方法においては、６か月の運転後であっても、ろ材の
固着およびろ材の粒径の増大は認められず、砂ろ過装置
からの最終処理水中の懸濁物質も低く維持されていた。
以上のことから、本発明の洗浄方法は、高濃度のカルシ
ウムが含まれる処理水がろ過処理される場合であって
も、長期間にわたってろ過性能を維持、回復できる洗浄
方法であることが明らかとなった。As shown in Table 1, in Comparative Example 1 in which the hydrochloric acid immersion treatment was not carried out, after the operation for 6 months, the fixation of the filter medium and the increase of the particle size of the filter medium were observed. In addition, deterioration of water quality due to an increase in the amount of suspended solids in the final treated water from the sand filter, which is considered to be due to these, was observed. On the other hand, in the cleaning method of Example 1 in which the hydrochloric acid immersion treatment was performed, no sticking of the filter medium and an increase in the particle size of the filter medium were observed even after the operation for 6 months. The suspended solids in the final treated water were also kept low.
From the above, it is clear that the cleaning method of the present invention is a cleaning method capable of maintaining and recovering the filtering performance for a long period of time even when the treated water containing a high concentration of calcium is filtered. became.
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上、説明したように、本発明は、カル
シウムを使用する排水処理装置、およびその後段にろ過
装置を有する排水処理設備において、当該設備を長期に
運転した場合であっても、ろ過装置のろ過性能を維持、
回復させることができるという有利な効果を有する。特
に、本発明は、前記排水処理設備の運転の際に、高濃度
のカルシウムを含む処理水がろ過装置に供給される場合
であっても、長期間にわたって、ろ過性能を維持、回復
させることができるという有利な効果を有する。As described above, according to the present invention, in a wastewater treatment equipment using calcium and a wastewater treatment equipment having a filtration device in the subsequent stage, even when the equipment is operated for a long period of time, Maintains the filtration performance of the filtration device,
It has the advantageous effect that it can be restored. In particular, the present invention is capable of maintaining and recovering the filtration performance for a long period of time even when the treated water containing high concentration of calcium is supplied to the filtration device during the operation of the wastewater treatment facility. It has an advantageous effect that it can.
【図１】 図１は、本発明のろ過装置の洗浄方法が適用
される排水処理設備の１態様を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing one embodiment of wastewater treatment equipment to which the method for cleaning a filtration device of the present invention is applied.
１ 凝集沈殿処理装置 ２ 砂ろ過塔 ３ 反応槽 ４ 沈殿槽 ５ ろ過砂 ６ 塩酸供給手段 ７ 逆洗空気供給ライン ８ 逆洗水供給ライン 1 Coagulation sedimentation processing equipment 2 sand filtration tower 3 reaction tanks 4 settling tank 5 Filtered sand 6 Hydrochloric acid supply means 7 Backwash air supply line 8 Backwash water supply line
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D038 AA08 AB13 AB41 AB45 BA04 BB17 4D041 BA01 BB02 BB06 BB14 BC01 CB04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 4D038 AA08 AB13 AB41 AB45 BA04 BB17 4D041 BA01 BB02 BB06 BB14 BC01 CB04
Claims (3)
低減させる排水処理装置と、該排水処理装置の後段に接
続されたろ過装置とを有する排水処理設備における、該
ろ過装置の洗浄方法であって、前記排水処理設備の運転
後に、該ろ過装置を塩酸浸漬処理することを特徴とす
る、該ろ過装置の洗浄方法。1. A method of cleaning a filtration device in a wastewater treatment facility comprising a wastewater treatment device for reducing target components in wastewater by using calcium and a filtration device connected to a subsequent stage of the wastewater treatment device. Then, after the operation of the wastewater treatment equipment, the filtration device is subjected to a hydrochloric acid immersion treatment, and a cleaning method for the filtration device.
濃度が３００ｍｇ／Ｌ以上の処理水が排水処理装置から
ろ過装置に供給される、請求項１記載のろ過装置の洗浄
方法。2. The method for cleaning a filtration device according to claim 1, wherein the treated water having a calcium concentration of 300 mg / L or more is supplied from the wastewater treatment device to the filtration device during operation of the wastewater treatment facility.
ンまたは硫酸である、請求項１または２記載のろ過装置
の洗浄方法。3. The method for cleaning a filtration device according to claim 1, wherein at least one of the target components is fluorine, phosphorus or sulfuric acid.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002154484A JP2003340210A (en) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | Cleaning method for filter apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002154484A JP2003340210A (en) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | Cleaning method for filter apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003340210A true JP2003340210A (en) | 2003-12-02 |
Family
ID=29771281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002154484A Pending JP2003340210A (en) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | Cleaning method for filter apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003340210A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016187779A (en) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 住友重機械エンバイロメント株式会社 | Wastewater treatment equipment and wastewater treatment method |
| JP2019122961A (en) * | 2019-04-26 | 2019-07-25 | 住友重機械エンバイロメント株式会社 | Wastewater treatment equipment and wastewater treatment method |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57107205A (en) * | 1980-12-25 | 1982-07-03 | Kurita Water Ind Ltd | Method for cleaning filter media |
| JPH0747371A (en) * | 1993-08-04 | 1995-02-21 | Kurita Water Ind Ltd | Treatment of fluoride-containing water |
| JPH08323163A (en) * | 1995-06-02 | 1996-12-10 | Kurita Water Ind Ltd | Method for operating membrane separator |
| JP2000015269A (en) * | 1998-04-27 | 2000-01-18 | Fujitsu Ltd | Treating method for fluorine-containing water |
| JP2002035765A (en) * | 2000-07-21 | 2002-02-05 | Japan Organo Co Ltd | Method for removing target component from water to be treated and crystallization apparatus |
-
2002
- 2002-05-28 JP JP2002154484A patent/JP2003340210A/en active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57107205A (en) * | 1980-12-25 | 1982-07-03 | Kurita Water Ind Ltd | Method for cleaning filter media |
| JPH0747371A (en) * | 1993-08-04 | 1995-02-21 | Kurita Water Ind Ltd | Treatment of fluoride-containing water |
| JPH08323163A (en) * | 1995-06-02 | 1996-12-10 | Kurita Water Ind Ltd | Method for operating membrane separator |
| JP2000015269A (en) * | 1998-04-27 | 2000-01-18 | Fujitsu Ltd | Treating method for fluorine-containing water |
| JP2002035765A (en) * | 2000-07-21 | 2002-02-05 | Japan Organo Co Ltd | Method for removing target component from water to be treated and crystallization apparatus |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016187779A (en) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 住友重機械エンバイロメント株式会社 | Wastewater treatment equipment and wastewater treatment method |
| JP2019122961A (en) * | 2019-04-26 | 2019-07-25 | 住友重機械エンバイロメント株式会社 | Wastewater treatment equipment and wastewater treatment method |
| JP7202250B2 (en) | 2019-04-26 | 2023-01-11 | 住友重機械エンバイロメント株式会社 | Wastewater treatment equipment and wastewater treatment method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5319730B2 (en) | Fluorine recovery device and fluorine recovery method | |
| JP5303501B2 (en) | Water treatment method and water treatment apparatus | |
| WO2013031689A1 (en) | Method and apparatus for purifying water containing radioactive substance and/or heavy metal | |
| JP2010082546A (en) | Water treatment apparatus and method | |
| WO2013099304A1 (en) | Wastewater treatment device | |
| JP3646900B2 (en) | Apparatus and method for treating boron-containing water | |
| JP3735883B2 (en) | Membrane separation apparatus and membrane module cleaning method | |
| JP3788145B2 (en) | Water treatment method and water treatment apparatus | |
| JP2001096281A (en) | Method of recovering desalted water from fluorine- containing waste water | |
| JPH02157090A (en) | Treatment of heavy metal-containing waste water | |
| JP2003340210A (en) | Cleaning method for filter apparatus | |
| JP4899565B2 (en) | Water treatment apparatus and water treatment method | |
| JP2003305458A (en) | Method for treating fluorine-containing waste water | |
| JP2010017631A (en) | Method and apparatus for treating phosphoric acid-containing water | |
| JP4139600B2 (en) | Treatment method of wastewater containing fluorine | |
| JP4669625B2 (en) | Crystallization reactor equipped with crystallization reaction component recovery means | |
| JP2007098270A (en) | Method and apparatus for producing pure water | |
| JP2006263553A (en) | Method for treating anionic organic material-containing waste water | |
| JP5051004B2 (en) | Method and apparatus for treating alkaline waste liquid containing water-soluble resin component | |
| JP2003340450A (en) | Method and system for treating heavy metal-containing waste water | |
| JP7168324B2 (en) | Silica-containing water treatment apparatus and treatment method | |
| KR20030009891A (en) | A method of a sand filter using a limestore and a device of sand filter there of | |
| JP3888534B2 (en) | Treatment method for fluorine-containing wastewater | |
| JP2002292201A (en) | Crystallization reaction apparatus provided with means for vaporizing/concentrating treated water | |
| JP2005224761A (en) | Production method of pure water or ultrapure water |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041227 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070215 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070219 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070420 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070420 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070703 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071105 |