JP2003339616A - Method and apparatus for polishing shoes - Google Patents

Method and apparatus for polishing shoes

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JP2003339616A
JP2003339616A JP2002151944A JP2002151944A JP2003339616A JP 2003339616 A JP2003339616 A JP 2003339616A JP 2002151944 A JP2002151944 A JP 2002151944A JP 2002151944 A JP2002151944 A JP 2002151944A JP 2003339616 A JP2003339616 A JP 2003339616A
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JP
Japan
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shoe
brush
polishing
stand
polish
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002151944A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Inokuchi
賢司 井ノ口
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NZK KK
Original Assignee
NZK KK
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Filing date
Publication date
Application filed by NZK KK filed Critical NZK KK
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  • Footwear And Its Accessory, Manufacturing Method And Apparatuses (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To safely polish shoes without being restricted by the color of the shoes. <P>SOLUTION: This apparatus is provided with a shoe placing table 4 having a fixed structure. A pair of side face brush mechanisms 12 provided with side face brushes 18 rotating around vertical shafts are provided on both sides of this shoe placing table 4. Both of the side face brush mechanisms 12 are moved reciprocatively along the shoe placing table 4 to polish the shoe. In this case, the respective side face brushes 18 are rotated in a direction reverse to a moving direction. In front of the shoe placing table 4, a polishing agent application mechanism 33 is provided to polish the shoe with polishing agent such as silicon wax. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、使用者が履いてい
る靴を自動的に磨く靴磨き方法およびその装置に係り、
特に靴の色に制限されずに磨くことができる靴磨き方法
およびその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shoe polishing method and apparatus for automatically polishing a shoe worn by a user,
In particular, the present invention relates to a shoe polishing method and apparatus capable of polishing without being limited by the color of the shoe.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、例えば特開平8−11717
9号公報に示されているように、靴の両側面部,靴の前
面部および靴の後端部を各別のブラシを用いて磨くよう
にした靴磨き装置は一般に知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, JP-A-8-11717
As shown in Japanese Patent Publication No. 9, a shoe polishing device is generally known in which both side surfaces of the shoe, the front surface of the shoe, and the rear end of the shoe are polished with separate brushes.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】前記従来の靴磨き装置
においては、靴を磨くのに靴クリームを用いているた
め、例えば黒色の靴クリームがセットされている場合に
は、黒色の靴しか磨くことができないという問題があ
る。
In the above-mentioned conventional shoe polishing apparatus, since the shoe cream is used to polish the shoe, for example, when the black shoe cream is set, only the black shoe is polished. There is a problem that you can not.

【0004】また、従来の靴磨き装置においては、靴置
き台を往復動させて靴を磨く構造になっているため、使
用者がバランスを崩して倒れるおそれがあるという問題
もある。
Further, the conventional shoe polishing apparatus has a structure in which the shoe holder is reciprocated to polish the shoe, so that there is a problem that the user may lose balance and fall.

【0005】本発明は、かかる現況に鑑みなされたもの
で、使用者の靴の色に制限されることなく靴磨きを行な
うことができ、また靴磨き中に、使用者がバランスを崩
して倒れるおそれもない靴磨き方法およびその装置を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above situation, and can polish a shoe without being limited by the color of the shoe of the user, and during the shoe polishing, the user loses balance and falls down. An object of the present invention is to provide a method of polishing a shoe and a device therefor without fear.

【0006】本発明の他の目的は、靴が汚れている場合
であっても、充分な艶出し効果を得ることができるよう
にすることにある。
Another object of the present invention is to make it possible to obtain a sufficient glossing effect even when the shoe is dirty.

【0007】本発明の他の目的は、最も人目に付き易い
靴の前面部の艶出しを、より確実に行なうことができる
ようにすることにある。
Another object of the present invention is to make it possible to more reliably polish the front surface of the shoe, which is most noticeable.

【0008】本発明の他の目的は、艶出し剤の供給機構
を、簡素化することができるようにすることにある。
Another object of the present invention is to make it possible to simplify the polishing agent supply mechanism.

【0009】本発明の他の目的は、使用者の靴の大きさ
や形状が変化しても、靴表面の全域を斑なく磨くことが
できるようにすることにある。
Another object of the present invention is to make it possible to polish the entire surface of the shoe evenly even if the size or shape of the shoe of the user changes.

【0010】本発明の他の目的は、側面ブラシ機構のみ
で、靴の後端まで確実に磨くことができるようにするこ
とにある。
Another object of the present invention is to make it possible to surely polish the rear end of the shoe only by the side brush mechanism.

【0011】本発明のさらに他の目的は、最も人目に付
き易い靴の前面部を、より完全に磨くことができるよう
にすることにある。
Yet another object of the present invention is to enable more complete polishing of the front of the most visible shoe.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明は、靴を履いた状態の使用者が足を乗せる靴置き
台と;この靴置き台の左右両側にそれぞれ配設された一
対の側面ブラシ機構と;各側面ブラシ機構を介して靴に
艶出し剤を塗布する艶出し剤塗布機構と;を設け、前記
両側面ブラシ機構を、靴置き台にそって往復動させると
ともに、各側面ブラシ機構の側面ブラシを、移動方向と
は逆方向に回転させて靴磨きを行なうようにしたことを
特徴とする。そして、靴置き台を固定,各側面ブラシ機
構を可動とすることにより、靴磨き中に使用者がバラン
スを崩して倒れるおそれがなく、また艶出し剤を用いる
ことで、使用者の靴の色に制限されることなく、靴磨き
を行なうことが可能となる。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a shoe stand on which a user wearing shoes can put his / her foot; and a pair of shoes stand arranged on both left and right sides of the shoe stand. Side brush mechanism; and a polish applying mechanism for applying a polish to the shoes via the side brush mechanisms; and the both side brush mechanisms are reciprocally moved along a shoe stand and It is characterized in that the side brush of the side brush mechanism is rotated in a direction opposite to the moving direction for shoe polishing. By fixing the shoe stand and moving each side brush mechanism, there is no risk of the user falling out of balance while polishing the shoes. It is possible to polish shoes without being limited to.

【0013】本発明はまた、両側面ブラシ機構が任意回
数往復動した後に、艶出し剤塗布機構から艶出し剤を吐
出させるようにしたことを特徴とする。そして、艶出し
剤塗布前の両側面ブラシ機構の往復動により、靴表面の
汚れが除去され、その後艶出し剤が塗布されることにな
るので、靴が汚れている場合であっても、充分な艶出し
効果を得ることが可能となる。
The present invention is also characterized in that after the brush mechanism on both sides reciprocates an arbitrary number of times, the polishing agent is discharged from the polishing agent application mechanism. The dirt on the shoe surface will be removed by the reciprocating motion of the brush mechanism on both sides before applying the polish, and the polish will be applied after that. It is possible to obtain a glossy effect.

【0014】本発明はまた、靴の前面部の靴磨きを、靴
置き台の前部上方に配設された上面ブラシ機構により行
なうようにしたことを特徴とする。そしてこれにより、
最も人目に付き易い靴の前面部の艶出しを、より確実に
行なうことが可能となる。
The present invention is also characterized in that the front surface of the shoe is polished by a top brush mechanism arranged above the front of the shoe holder. And this
It becomes possible to more reliably polish the front surface of the shoe, which is the most visible.

【0015】本発明はまた、各側面ブラシ機構との接触
により、上面ブラシ機構に艶出し剤を供給するようにし
たことを特徴とする。そしてこれにより、艶出し剤の供
給機構を簡素化することが可能となる。
The present invention is also characterized in that the polishing agent is supplied to the upper surface brush mechanism by contact with each side surface brush mechanism. This makes it possible to simplify the polishing agent supply mechanism.

【0016】本発明はまた、靴を履いた状態の使用者が
足を乗せる靴置き台と;この靴置き台の左右両側にそれ
ぞれ配設された一対の側面ブラシ機構と;これら両側面
ブラシ機構を、前記靴置き台にそって往復動させるブラ
シ移動機構と;各側面ブラシ機構を介して靴に艶出し剤
を塗布する艶出し剤塗布機構と;を設け、前記各側面ブ
ラシ機構の側面ブラシを、移動方向とは逆方向に回転駆
動させるようにしたことを特徴とする。そして、各側面
ブラシ機構の側面ブラシを、移動方向とは逆方向に回転
駆動させることで、艶出し効果を向上させることが可能
となるとともに、各側面ブラシが靴の後端位置で回転方
向を変えることで、靴の後端部にブラシがなくても、両
側面ブラシで靴の後端部を充分に磨くことが可能とな
る。
The present invention also provides a shoe stand on which a user wearing shoes can place a foot; a pair of side brush mechanisms disposed on both left and right sides of the shoe stand; and both side brush mechanisms. And a brush moving mechanism that reciprocates along the shoe stand; and a polish applying mechanism that applies a polish to the shoe via each side brush mechanism; and a side brush of each side brush mechanism. Is rotationally driven in the direction opposite to the moving direction. Then, by rotating the side brush of each side brush mechanism in the direction opposite to the moving direction, it is possible to improve the glazing effect, and at the same time, each side brush changes the rotation direction at the rear end position of the shoe. By changing it, it is possible to sufficiently polish the rear end of the shoe with the brushes on both sides even if there is no brush on the rear end of the shoe.

【0017】本発明はまた、側面ブラシを、垂直軸廻り
に回転する複数の下部ブラシと複数の上部ブラシとで構
成し、かつ前記各上部ブラシを、各下部ブラシよりも大
径に寸法設定するようにしたことを特徴とする。そして
これにより、凹凸変化が大きい靴の上半部も、充分に磨
くことが可能となり、使用者の靴の大きさや形状が変化
しても、靴表面の全域を斑なく磨くことが可能となる。
The present invention also comprises a side brush comprising a plurality of lower brushes and a plurality of upper brushes that rotate about a vertical axis, and each upper brush is dimensioned to have a larger diameter than each lower brush. It is characterized by doing so. As a result, it is possible to sufficiently polish the upper half of the shoe with a large change in unevenness, and even if the size or shape of the user's shoe changes, the entire surface of the shoe can be polished without unevenness. .

【0018】本発明はまた、上部ブラシおよび下部ブラ
シを、周方向に間隔を置いてブラシ体が突出する歯車状
に形成し、かつ上下に隣位する上部ブラシまたは下部ブ
ラシの各ブラシ体の突出位置を、周方向にずらすように
したことを特徴とする。そしてこれにより、各ブラシ体
が靴の表面形状に倣って充分に撓むことになり、靴表面
の全域を、より完全に磨くことが可能となる。
According to the present invention, the upper brush and the lower brush are formed in a gear shape in which the brush bodies project at intervals in the circumferential direction, and the brush bodies of the upper brush and the lower brush adjacent to each other in the vertical direction project. It is characterized in that the position is shifted in the circumferential direction. As a result, each brush body is sufficiently bent in accordance with the surface shape of the shoe, and the entire area of the shoe surface can be polished more completely.

【0019】本発明はまた、両側面ブラシ機構を任意回
数往復動させた後に、艶出し剤を艶出し剤塗布機構から
吐出させるようにしたことを特徴とする。そしてこれに
より、艶出し剤吐出前に両側面ブラシ機構が往復動する
ことで、靴表面の汚れが除去され、艶出し剤塗布時の艶
出し効果を、大幅に向上させることが可能となる。
The present invention is also characterized in that the polishing agent is discharged from the polishing agent application mechanism after the brush mechanism on both sides is reciprocated an arbitrary number of times. As a result, the brush mechanism on both sides reciprocates before the polishing agent is discharged, whereby the dirt on the shoe surface is removed, and the polishing effect at the time of applying the polishing agent can be greatly improved.

【0020】本発明はまた、靴置き台の前部上方に配設
され、靴の主として前面部を磨く上面ブラシ機構を設け
るようにしたことを特徴とする。そしてこれにより、最
も人目に付き易い靴の前面部を、上面ブラシ機構により
充分に磨くことが可能となる。
The present invention is also characterized in that an upper surface brush mechanism for arranging the front surface of the shoe is provided above the front of the shoe stand. This makes it possible to sufficiently polish the front surface of the shoe, which is most noticeable, by the top brush mechanism.

【0021】本発明はさらに、上面ブラシ機構に、水平
軸廻りに回転する上面ブラシを設け、この上面ブラシに
は、各側面ブラシとの接触により艶出し剤が供給される
ようにしたことを特徴とする。そしてこれにより、靴の
前面部の艶出しを、より確実に行なうことが可能となる
とともに、艶出し剤の供給機構を簡素化することが可能
となる。
The present invention is further characterized in that the upper surface brush mechanism is provided with an upper surface brush which rotates about a horizontal axis, and the polishing agent is supplied to the upper surface brush by contact with each side surface brush. And As a result, the front surface of the shoe can be polished more reliably, and the mechanism for supplying the polishing agent can be simplified.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照して説
明する。図1ないし図5は、本発明の実施の一形態に係
る靴磨き装置を示すもので、この靴磨き装置1は、機械
収容部2aと操作パネル部2bとから概略逆T字状に構
成された本体ケース2を備えている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 5 show a shoe polishing device according to an embodiment of the present invention. The shoe polishing device 1 is composed of a machine housing portion 2a and an operation panel portion 2b in a substantially inverted T shape. The main body case 2 is provided.

【0023】前記機械収容部2aの幅方向中央部には、
図4および図5に示すように、靴を履いた状態で使用者
が足を挿入するための挿入用凹部3が設けられ、この挿
入用凹部3の底部には、上面に靴形4aが描かれた靴置
き台4が固設されている。そして、前記靴形4aは、E
L発光手段等の発光手段(図示せず)により、常時発光
して明確に視認できるようになっている。
At the central portion in the width direction of the machine housing 2a,
As shown in FIGS. 4 and 5, an insertion recess 3 is provided for a user to insert his / her foot while wearing shoes, and a shoe shape 4a is drawn on the upper surface of the bottom of the insertion recess 3. The shoe stand 4 is fixed. The shoe shape 4a is E
A light emitting means (not shown) such as an L light emitting means always emits light so that it can be clearly seen.

【0024】また、前記機械収容部2aにおける挿入用
凹部3の両側位置には、図3および図5に示すように、
上端のヒンジ5を介して外側に自由に開閉する安全カバ
ー6がそれぞれ設けられており、これら各安全カバー6
により、使用者が靴置き台4上に斜めに靴を乗せてしま
ったような場合でも、靴を容易に外部に引出すことがで
きるようになっている。なお、これについては後に詳述
する。
Further, as shown in FIGS. 3 and 5, at both sides of the insertion recess 3 in the machine housing 2a, as shown in FIGS.
Safety covers 6 that can be freely opened and closed to the outside via hinges 5 at the upper end are provided, respectively.
Thus, even when the user places the shoe on the shoe stand 4 at an angle, the shoe can be easily pulled out to the outside. Note that this will be described later in detail.

【0025】また、前記操作パネル部2bの上半部に
は、図3および図5に示すように、前面および両側面が
透明で内部に蛍光燈7aを有する商品陳列ボックス7が
組込まれているとともに、その下方には、コイン投入機
8が組込まれており、また操作パネル部2bの上面部に
は、把手9,操作方法銘板10およびスタートボタン1
1が設けられている。
Further, as shown in FIGS. 3 and 5, a product display box 7 having a transparent front surface and both side surfaces and a fluorescent lamp 7a therein is incorporated in the upper half of the operation panel portion 2b. At the same time, a coin inserter 8 is incorporated below the coin inserter, and a handle 9, an operation method nameplate 10 and a start button 1 are provided on the upper surface of the operation panel 2b.
1 is provided.

【0026】一方、前記機械収容部2bの内部には、図
1および図2に示すように、前記靴置き台4を介してそ
の両側位置に、一対の側面ブラシ機構12がそれぞれ設
けられており、これら両側面ブラシ機構12は単一のス
ライド枠13に取付けられ、靴置き台4の両側位置を同
時に往復動するようになっている。
On the other hand, as shown in FIGS. 1 and 2, inside the machine accommodating portion 2b, a pair of side surface brush mechanisms 12 are provided on both sides of the shoe holder 4 via the shoe holder 4. The two side surface brush mechanisms 12 are attached to a single slide frame 13 so as to reciprocate simultaneously on both side positions of the shoe stand 4.

【0027】すなわち、前記機械収容部2a内には、図
1および図6に示すように、左右一対のスライドレール
14上をスライドするスライド枠13が配設されてお
り、このスライド枠13の上方位置には、前記靴置き台
4を支持する支持基板15が固設され、外部からはスラ
イド枠13が見えない状態となっている。
That is, as shown in FIGS. 1 and 6, a slide frame 13 that slides on a pair of left and right slide rails 14 is disposed in the machine housing portion 2a, and above the slide frame 13. A support substrate 15 that supports the shoe stand 4 is fixed at the position, and the slide frame 13 is invisible from the outside.

【0028】前記スライド枠13の左右両端位置には、
図6に示すように、前記各側面ブラシ機構12の駆動モ
ータ16が、駆動軸16aを上方に向けた状態でそれぞ
れ取付けられており、これら各駆動軸16aは、前記支
持基板15に設けられた長孔17を通して上方に突出し
ている。そして、上方に突出した各駆動軸16aには、
側面ブラシ18がそれぞれ取付けられている。
At the left and right ends of the slide frame 13,
As shown in FIG. 6, the drive motors 16 of the side surface brush mechanisms 12 are mounted with the drive shafts 16 a facing upward, and the drive shafts 16 a are provided on the support substrate 15. It projects upward through the long hole 17. Then, on each drive shaft 16a protruding upward,
Side brushes 18 are attached respectively.

【0029】また、前記スライド枠13の幅方向中央部
には、図6に示すように、ブラケット19を介して往復
動モータ20が取付けられており、この往復動モータ2
0で駆動されるピニオン21は、機械収容部2a内に固
設されたラツク22に下面側から噛合している。そし
て、往復動モータ20の正逆回転駆動により、スライド
枠13がスライドレール14にそってスライドし、両側
面ブラシ機構12の側面ブラシ18が、図2に示す実線
位置と鎖線位置との間で往復動するようになっている。
As shown in FIG. 6, a reciprocating motor 20 is attached via a bracket 19 to the center of the slide frame 13 in the width direction.
The pinion 21 driven by 0 meshes with the rack 22 fixed in the machine housing portion 2a from the lower surface side. Then, the slide frame 13 slides along the slide rail 14 by the forward and reverse rotation drive of the reciprocating motor 20, and the side surface brush 18 of the side surface brush mechanism 12 moves between the solid line position and the chain line position shown in FIG. It is designed to reciprocate.

【0030】前記各側面ブラシ機構12の側面ブラシ1
8は、図7に示すように、大径の上部ブラシ23と、小
径の下部ブラシ24とで構成されており、前記上部ブラ
シ23は、上端ブラシ23a,中間ブラシ23bおよび
下端ブラシ23cの3枚のブラシで構成され、また前記
下部ブラシ24は、上端ブラシ24aと下端ブラシ24
bとの2枚のブラシで構成されている。
Side brush 1 of each side brush mechanism 12
As shown in FIG. 7, 8 is composed of a large-diameter upper brush 23 and a small-diameter lower brush 24. The upper brush 23 is composed of an upper end brush 23a, an intermediate brush 23b and a lower end brush 23c. And the lower brush 24 includes an upper end brush 24a and a lower end brush 24.
It consists of two brushes b.

【0031】前記各ブラシ23a,23b,24a,2
4bは、図8に示すように、中央の軸装着部25と、こ
の軸装着部25から十字状に突出するブラシ体26とか
ら、全体として歯車状に形成されており、かつ上下に隣
位するブラシ体26の突出方向は、周方向に45度ずつ
ずれている。そしてこれにより、図7に示すように、各
ブラシ23a,23b,23c,24a,24bが靴2
7に接触した際に、多数の凹凸を有する靴27の表面形
状に倣って各ブラシ体26が自由に撓み、靴27の表面
を斑なく磨くことができるようになっているとともに、
図2の鎖線位置まで移動した側面ブラシ18が実線方向
に戻る際に、靴27の後端部も完全に磨くことができる
ようになっている。
Each of the brushes 23a, 23b, 24a, 2
As shown in FIG. 8, 4b is formed in a gear shape as a whole from a shaft mounting portion 25 at the center and a brush body 26 projecting in a cross shape from the shaft mounting portion 25, and adjacent to each other vertically. The protruding direction of the brush body 26 is shifted by 45 degrees in the circumferential direction. As a result, as shown in FIG. 7, each brush 23a, 23b, 23c, 24a, 24b is attached to the shoe 2
When contacted with 7, each brush body 26 freely bends in accordance with the surface shape of the shoe 27 having a large number of irregularities, and the surface of the shoe 27 can be polished evenly.
When the side brush 18 that has moved to the position indicated by the chain line in FIG. 2 returns in the direction of the solid line, the rear end of the shoe 27 can also be completely polished.

【0032】これら各側面ブラシ18は、往動時および
復動時とも、移動方向とは逆方向に回転駆動されるよう
になっており、これにより艶出し効果がより充分に得ら
れるようになっている。なお、これについては後に詳述
する。
Each of the side surface brushes 18 is rotationally driven in the direction opposite to the moving direction in both forward and backward movements, whereby a sufficient polishing effect can be obtained. ing. Note that this will be described later in detail.

【0033】前記各側面ブラシ18を駆動する駆動モー
タ16の駆動軸16aは、前述のように支持基板15の
長孔17を貫通しているが、この長孔17は、図19に
示すように、4個の閉止装置28により下面側から閉止
されるようになっている。
The drive shaft 16a of the drive motor 16 for driving each of the side brushes 18 penetrates the elongated hole 17 of the support substrate 15 as described above, and the elongated hole 17 is as shown in FIG. It is configured to be closed from the lower surface side by four closing devices 28.

【0034】すなわち、各閉止装置28は、図9に示す
ように、帯状の閉止帯28aと、この閉止帯28aの一
端側を巻取って巻取り側に常時付勢する本体28bとで
構成されており、前記本体28bは、機械収容部2a内
に固定されているとともに、前記閉止帯28aの他端側
(自由端側)は、スライド枠13に固定されている。そ
して、スライド枠13のスライドに伴ない、各本体28
bで閉止帯28aの巻取り,巻戻しがなされ、長孔17
が下面側から常時閉止されるようになっている。
That is, as shown in FIG. 9, each closing device 28 is composed of a band-shaped closing band 28a and a main body 28b which winds one end side of the closing band 28a and constantly urges it toward the winding side. The main body 28b is fixed in the machine housing portion 2a, and the other end side (free end side) of the closing band 28a is fixed to the slide frame 13. As the slide frame 13 slides, each main body 28
The closing band 28a is wound and unwound at b, and
Is always closed from the bottom side.

【0035】前記機械収容部2a内にはまた、図1に示
すように、両側ブラシ機構12の原点位置,後進端位
置,および原点位置よりも稍前方の前進端位置に、原点
センサ29,後進端センサ30,および前進端センサ3
1がそれぞれ配設されており、一方前記スライド枠13
には、図1および図6に示すように、前記各センサ2
9,30,31に接近した際に各センサ29,30,3
1を作動させるための作動板32が取付けられている。
In the machine accommodating portion 2a, as shown in FIG. 1, the origin sensor 29 and the reverse drive mechanism are provided at the origin position of the two-sided brush mechanism 12, the backward travel end position, and the forward end position slightly forward of the original position. End sensor 30 and forward end sensor 3
1 are arranged respectively, while the slide frame 13 is provided.
As shown in FIG. 1 and FIG.
Each sensor 29, 30, 3 when approaching 9, 30, 31
An operating plate 32 for operating 1 is attached.

【0036】一方、前記スライド枠13の前方位置に
は、図1に示すように、艶出し剤塗布機構33が配設さ
れており、この艶出し剤塗布機構33は、スライド枠1
3が前進端まで移動した際に作動し、シリコンワックス
等の艶出し剤を、前記両側面ブラシ18に向けて吐出す
るようになっている。
On the other hand, at the front position of the slide frame 13, as shown in FIG. 1, a polishing agent applying mechanism 33 is arranged, and the polishing agent applying mechanism 33 is provided in the slide frame 1.
3 operates when it has moved to the forward end, and a polishing agent such as silicon wax is discharged toward the both side surface brushes 18.

【0037】すなわち、前記艶出し剤塗布機構33は、
図1に示すように、噴射ノズル35および噴射レバー3
6を有する艶出し剤収容ボトル34と、ブラケット37
にスライド可能に取付られたスライド軸38と、スライ
ド軸38の端部から立上がる作動板39とを備えてお
り、前記スライド軸38には、作動板39を噴射レバー
36から離れる方向に付勢するスプリング40が装着さ
れている。そして、前記作動板39は、スライド枠13
が前進端位置まで移動してきた際に、スライド枠13に
取付けられた駆動金具41に接触して噴射レバー36を
作動させるようになっており、これにより噴射ノズル3
5から両側ブラシ18に向けて、艶出し剤が噴射される
ようになっている。
That is, the polish applying mechanism 33 is
As shown in FIG. 1, the injection nozzle 35 and the injection lever 3
Polishing agent containing bottle 34 having 6 and bracket 37
A slide shaft 38 slidably attached to the slide shaft 38 and an operating plate 39 rising from the end of the slide shaft 38. The slide shaft 38 urges the operating plate 39 in a direction away from the injection lever 36. A spring 40 is attached. The operating plate 39 is attached to the slide frame 13.
Is moved to the forward end position, the driving lever 41 attached to the slide frame 13 is brought into contact with the ejection lever 36 to operate.
The polishing agent is sprayed from 5 toward the brushes 18 on both sides.

【0038】前記靴置き台4の前部上方位置には、図1
および図2に示すように、上面ブラシ機構42が配設さ
れており、この上面ブラシ機構42は、靴の主として前
面部を磨くようになっている。
The upper part of the front of the shoe stand 4 is shown in FIG.
As shown in FIG. 2 and FIG. 2, an upper surface brush mechanism 42 is provided, and the upper surface brush mechanism 42 is designed to polish the front surface of the shoe.

【0039】前記上面ブラシ機構42は、図1に示すよ
うに、機械収容部2aの天面部に固設された駆動モータ
43と、この駆動モータ43により水平軸廻りに回転駆
動される上面ブラシ44とを備えており、上面ブラシ4
4は、前記側面ブラシ18の各ブラシ23a,23b,
24a,24bと同一構造の6個のブラシを側面ブラシ
18と同様に組合わせて構成されている。そしてこれに
より、靴の前面部上面に生じ易い凹部内も確実に磨くこ
とができるようになっている。
As shown in FIG. 1, the upper surface brush mechanism 42 has a drive motor 43 fixedly mounted on the top surface of the machine housing 2a, and an upper surface brush 44 rotatably driven by the drive motor 43 about a horizontal axis. And a top brush 4
4 is each brush 23a, 23b of the side brush 18,
Six brushes having the same structure as 24a and 24b are combined in the same manner as the side brush 18. As a result, it is possible to surely polish the inside of the recess that is likely to occur on the upper surface of the front surface of the shoe.

【0040】この上面ブラシ機構42は、図1および図
2に示すように、上面ブラシ44が両側面ブラシ機構1
2の各側面ブラシ18とそれぞれ接触するように寸法設
定されており、前記艶出し剤塗布機構33から吐出され
る艶出し剤は、各側面ブラシ18を介して上面ブラシ4
4に供給されるようになっている。なお、図1におい
て、符号45は、外部から艶出し剤の残量を確認するた
めの覗き窓である。
In this upper surface brush mechanism 42, as shown in FIGS. 1 and 2, the upper surface brush 44 is a double-sided surface brush mechanism 1.
2 is sized so as to come into contact with each of the side brushes 18 of FIG.
4 are supplied. In FIG. 1, reference numeral 45 is a viewing window for confirming the remaining amount of the polishing agent from the outside.

【0041】図10は、本実施の形態に係る靴磨き装置
1における靴磨き動作を示す説明図であり、以下この図
10を参照して、本実施の形態の作用を説明する。
FIG. 10 is an explanatory view showing a shoe polishing operation in the shoe polishing device 1 according to the present embodiment, and the operation of the present embodiment will be described below with reference to FIG.

【0042】初期状態においては、両側面ブラシ機構1
2のスライド枠13は、図10に示すように原点センサ
29の位置で停止している。図1および図2に実線で示
す側面ブラシ18の位置が、この原点センサ29の位置
である。
In the initial state, both side brush mechanism 1
The second slide frame 13 is stopped at the position of the origin sensor 29 as shown in FIG. The position of the side brush 18 shown by the solid line in FIGS. 1 and 2 is the position of the origin sensor 29.

【0043】この状態で、使用者が靴置き台4上に足を
乗せるとともに、コイン投入機8に所定のコインを投入
し、その後スタートボタン11をONする。すると、上
面ブラシ機構42の上面ブラシ44が、図1において反
時計廻りに回転するとともに、両側面ブラシ機構12の
各側面ブラシ18は、図10に矢印で示す方向に回転
し、原点センサ29の位置に停止していたスライド枠1
3が、後進端センサ30に向かって移動し始めることに
なる。
In this state, the user puts his / her foot on the shoe stand 4, inserts a predetermined coin into the coin inserter 8, and thereafter turns on the start button 11. Then, the upper surface brush 44 of the upper surface brush mechanism 42 rotates counterclockwise in FIG. 1, and each side surface brush 18 of the both side surface brush mechanism 12 rotates in the direction indicated by the arrow in FIG. Slide frame 1 stopped at the position
3 starts moving toward the reverse end sensor 30.

【0044】ところで、大部分の使用者は、靴置き台4
に描かれている靴形4aに合わせて、靴置き台4上に足
を乗せるため、両側面ブラシ18が靴27の両側を通過
することになるが、靴置き台4上に足を斜めに乗せた場
合には、靴27の前端部がいずれかの側面ブラシ18に
接触して後端側に押され、靴27が側面ブラシ18と機
械収容部2aの後端壁との間に挾まれて、靴27を外部
に引出すことができくなくなるおそれがある。
By the way, most users use the shoe stand 4
In order to put the foot on the shoe stand 4 in accordance with the shoe shape 4a depicted in FIG. 2, the brushes 18 on both sides pass through both sides of the shoe 27, but the foot is slanted on the shoe stand 4. When the shoe 27 is placed, the front end of the shoe 27 comes into contact with one of the side brushes 18 and is pushed toward the rear end side, and the shoe 27 is sandwiched between the side brush 18 and the rear end wall of the machine housing portion 2a. As a result, the shoes 27 may not be able to be pulled out to the outside.

【0045】ところが、本実施の形態においては、機械
収容部2aにおける挿入用凹部3の両側位置に、外側に
自由に開閉する安全カバー6がそれぞれ設けられている
ので、このような場合であっても、靴27を外部に容易
に引出すことができ安全である。
However, in the present embodiment, the safety covers 6 that can be freely opened and closed to the outside are provided at both sides of the insertion recess 3 in the machine housing 2a. Also, the shoes 27 can be easily pulled out to the outside, which is safe.

【0046】また、各側面ブラシ18は、図10に示す
ように、スライド枠13の移動方向とは逆の方向に回転
駆動されている。このため、靴27との接触が、より充
分となって靴27の表面を斑なく磨くことができる。
As shown in FIG. 10, each side brush 18 is rotationally driven in the direction opposite to the moving direction of the slide frame 13. Therefore, the contact with the shoe 27 becomes more sufficient, and the surface of the shoe 27 can be polished without unevenness.

【0047】スライド枠13が、後進端センサ30の位
置まで移動してくると、スライド枠13は、原点センサ
29の方向に向きを変えて移動し始めることになるが、
その際両側面ブラシ18は、図10に矢印で示すよう
に、その回転方向が逆になるとともに、スライド枠13
は、往動後直ちに復動し始めるのではなく、後進端セン
サ30の位置で、例えば5秒間程度停止することにな
る。
When the slide frame 13 moves to the position of the reverse end sensor 30, the slide frame 13 changes its direction to the origin sensor 29 and starts moving.
At that time, the brushes 18 on both sides are rotated in the opposite directions as shown by arrows in FIG.
Does not start returning immediately after the forward movement, but stops at the position of the reverse end sensor 30, for example, for about 5 seconds.

【0048】この後進端センサ30の位置は、図2に鎖
線で示すように、両側面ブラシ18の各ブラシ体26
(図8参照)が靴27の後端部に充分に接触する位置で
あるので、両側面ブラシ18のみによつて、靴27の後
端部まで確実に磨くことができる。
The position of the rearward movement end sensor 30 is, as shown by a chain line in FIG.
Since the position (see FIG. 8) is in sufficient contact with the rear end portion of the shoe 27, the rear end portion of the shoe 27 can be surely polished by only the side surface brushes 18.

【0049】後進端センサ30の位置から原点センサ2
9方向に向かって復動し始めたスライド枠13は、やが
て原点センサ29の位置に達するが、最初の往復動の際
には、スライド枠13は原点センサ29の位置で停止せ
ず、前進端センサ31の位置まで移動する。
From the position of the reverse end sensor 30 to the origin sensor 2
The slide frame 13 that has started to move back in the 9 direction eventually reaches the position of the origin sensor 29, but at the time of the first reciprocating movement, the slide frame 13 does not stop at the position of the origin sensor 29 and the forward end. Move to the position of the sensor 31.

【0050】スライド枠13が、この前進端センサ31
の位置まで移動すると、図1に示す駆動金具41が、作
動板39に接触してこれを押圧するとともに、作動板3
9が噴射レバー36を押圧する。これにより、噴射ノズ
ル35から艶出し剤が両側ブラシ18に向かって噴射さ
れる。
The slide frame 13 has the forward end sensor 31.
1 moves to the position, the drive fitting 41 shown in FIG.
9 pushes the injection lever 36. As a result, the polish agent is sprayed from the spray nozzle 35 toward the brushes 18 on both sides.

【0051】スライド枠13は、前進端センサ31の位
置まで移動すると、この位置では停止せずに、直ちに後
進端センサ30に向かって移動し始めるとともに、両側
面ブラシ18は、図10に矢印で示すように、往動時と
は逆の方向に回転することになる。そしてこれにより、
両側面ブラシ18および上面ブラシ44によって、靴2
7に艶出し剤が塗布されて靴磨きが行なわれることにな
る。
When the slide frame 13 moves to the position of the forward end sensor 31, it does not stop at this position but immediately starts moving toward the reverse end sensor 30, and the side surface brushes 18 are indicated by arrows in FIG. As shown, it will rotate in the opposite direction to the forward movement. And this
By the side brushes 18 and the top brush 44, the shoe 2
7 is coated with a polish and the shoe is polished.

【0052】スライド枠13が、後進端センサ30の位
置まで移動してくると、第1回目の場合と同様、両側面
ブラシ18は直ちに逆方向に回転することになるが、ス
ライド枠13は直ちに復動せずに、後進端センサ30の
位置で例えば5秒間程度停止し、その後原点センサ29
に向かって移動し始めることになる。
When the slide frame 13 moves to the position of the reverse end sensor 30, the brushes 18 on both side surfaces immediately rotate in the opposite direction as in the case of the first time, but the slide frame 13 immediately. Without returning, it stops at the position of the reverse end sensor 30 for, for example, about 5 seconds, and then returns to the origin sensor 29.
Will begin to move towards.

【0053】スライド枠13が、原点センサ29の位置
まで移動してくると、第1回目の場合とは異なり、スラ
イド枠13は原点センサ29の位置を通過せずに、原点
センサ29の位置で停止する。そして、両側面ブラシ1
8は直ちに逆方向に回転するとともに、スライド枠13
は直ちに往動せずに、原点センサ29の位置で例えば5
秒間程度停止し、その後後進端センサ30に向かって移
動し始めることになる。
When the slide frame 13 moves to the position of the origin sensor 29, unlike the case of the first time, the slide frame 13 does not pass the position of the origin sensor 29, but at the position of the origin sensor 29. Stop. And brush on both sides 1
8 immediately rotates in the opposite direction, and slide frame 13
Does not immediately move forward, but is set to 5 at the position of the origin sensor 29.
After being stopped for about a second, it will start moving toward the reverse end sensor 30.

【0054】スライド枠13が、後進端センサ30の位
置まで移動してくると、第1回目および第2回目の場合
と同様、両側面ブラシ18は直ちに逆方向に回転するこ
とになるが、スライド枠13は直ちに復動せずに、後進
端センサ30の位置で例えば5秒間程度停止し、その後
原点センサ29に向かって移動し始めることになる。そ
して、スライド枠13が原点センサ29の位置まで移動
してくると、スライド枠13が原点センサ29の位置で
停止するとともに、他のすべての動作も停止し、靴磨き
動作が終了となる。
When the slide frame 13 moves to the position of the reverse end sensor 30, the brushes 18 on both side surfaces immediately rotate in the opposite direction as in the first and second times, but the slide frame 13 slides. The frame 13 does not immediately return, but stops at the position of the reverse end sensor 30 for, for example, about 5 seconds, and then starts moving toward the origin sensor 29. Then, when the slide frame 13 moves to the position of the origin sensor 29, the slide frame 13 stops at the position of the origin sensor 29, all other operations also stop, and the shoe polishing operation ends.

【0055】しかして、第1回目の両側面ブラシ18の
往復動の際には、靴27に艶出し剤が塗布されないの
で、靴27の表面が汚れている場合であっても、靴27
の表面の汚れを落とした状態で、艶出し剤が塗布される
ことになる。このため、充分な艶出し効果を得ることが
できる。
However, since the polish agent is not applied to the shoe 27 during the first reciprocating movement of the both-side brushes 18, even if the surface of the shoe 27 is dirty, the shoe 27 is not cleaned.
The polish will be applied with the dirt on the surface removed. Therefore, a sufficient glossing effect can be obtained.

【0056】なお、前記実施の一形態においては、両側
面ブラシ18に加えて、上面ブラシ44も用いる場合に
ついて説明したが、両側面ブラシ18のみであっても、
靴27の前面部もほぼ完全に磨くことができる。このた
め、上面ブラシ44は、必要に応じて省略するようにし
てもよい。
In the above embodiment, the case where the upper surface brush 44 is used in addition to the both side surface brushes 18 has been described, but even if only the both side surface brushes 18 are used,
The front part of the shoe 27 can also be almost completely polished. Therefore, the upper surface brush 44 may be omitted if necessary.

【0057】また、前記実施の一形態においては、片足
ずつ靴磨きを行なう場合について説明したが、両足を同
時に磨くことができるようにしてもよい。
Further, in the above embodiment, the case where the shoes are polished one by one has been described, but it is also possible to polish both the shoes at the same time.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、靴を履い
た状態の使用者が足を乗せる靴置き台と;この靴置き台
の左右両側にそれぞれ配設された一対の側面ブラシ機構
と;各側面ブラシ機構を介して靴に艶出し剤を塗布する
艶出し剤塗布機構と;を設け、前記両側面ブラシ機構
を、靴置き台にそって往復動させるとともに、各側面ブ
ラシ機構の側面ブラシを、移動方向とは逆方向に回転さ
せて靴磨きを行なうようにしているので、靴置き台を固
定,各側面ブラシ機構を可動とすることで、靴磨き中に
使用者がバランスを崩して倒れるおそれがなく、また艶
出し剤を用いることで、使用者の靴の色に制限されるこ
となく、靴磨きを行なうことができる。
As described above, according to the present invention, a shoe stand on which a user wearing shoes can put his / her foot; and a pair of side brush mechanisms arranged on both left and right sides of the shoe stand, respectively. A glazing agent applying mechanism for applying a glazing agent to each shoe through each side brush mechanism, and the both side surface brush mechanisms are reciprocally moved along a shoe stand and the side surface of each side brush mechanism is provided. Since the brush is rotated in the direction opposite to the moving direction for shoe polishing, the shoe stand is fixed and each side brush mechanism is movable, so that the user loses balance during shoe polishing. There is no risk of falling over, and by using a polish, shoe polishing can be performed without being limited by the color of the user's shoes.

【0059】本発明はまた、両側面ブラシ機構が任意回
数往復動した後に、艶出し剤塗布機構から艶出し剤を吐
出させるようにしているので、艶出し剤塗布前の両側面
ブラシ機構の往復動により、靴表面の汚れが除去され、
その後艶出し剤が塗布されることになることで、靴が汚
れている場合であっても、充分な艶出し効果を得ること
ができる。
Further, according to the present invention, since the polishing agent is ejected from the polishing agent application mechanism after the both sides brush mechanism has reciprocated the desired number of times, the reciprocation of the polishing agent agent before and after the polishing agent application is completed. The movement removes dirt from the shoe surface,
Since the polish is applied thereafter, a sufficient polish effect can be obtained even when the shoe is dirty.

【0060】本発明はまた、靴の前面部の靴磨きを、靴
置き台の前部上方に配設された上面ブラシ機構により行
なうようにしているので、最も人目に付き易い靴の前面
部の艶出しを、より確実に行なうことができる。
Further, according to the present invention, since the front surface of the shoe is polished by the upper surface brush mechanism disposed above the front portion of the shoe stand, the front surface of the shoe, which is most noticeable, is cleaned. Polishing can be performed more reliably.

【0061】本発明はまた、各側面ブラシ機構との接触
により、上面ブラシ機構に艶出し剤を供給するようにし
ているので、艶出し剤の供給機構を簡素化することがで
きる。
Further, according to the present invention, since the polishing agent is supplied to the upper surface brush mechanism by contact with each side surface brush mechanism, the polishing agent supply mechanism can be simplified.

【0062】本発明はまた、靴を履いた状態の使用者が
足を乗せる靴置き台と;この靴置き台の左右両側にそれ
ぞれ配設された一対の側面ブラシ機構と;これら両側面
ブラシ機構を、前記靴置き台にそって往復動させるブラ
シ移動機構と;各側面ブラシ機構を介して靴に艶出し剤
を塗布する艶出し剤塗布機構と;を設け、前記各側面ブ
ラシ機構の側面ブラシを、移動方向とは逆方向に回転駆
動させるようにしているので、各側面ブラシ機構の側面
ブラシを、移動方向とは逆方向に回転駆動させること
で、艶出し効果を向上させることができるとともに、各
側面ブラシが靴の後端位置で回転方向を変えることで、
靴の後端部にブラシがなくても、両側ブラシで靴の後端
部を充分に磨くことができる。
The present invention also provides a shoe stand on which a user can put his / her shoes on; a pair of side brush mechanisms disposed on both left and right sides of the shoe stand; and both side brush mechanisms. And a brush moving mechanism that reciprocates along the shoe stand; and a polish applying mechanism that applies a polish to the shoe via each side brush mechanism; and a side brush of each side brush mechanism. Is rotationally driven in the direction opposite to the moving direction. Therefore, by rotating the side brush of each side brush mechanism in the direction opposite to the moving direction, the polishing effect can be improved. By changing the rotation direction of each side brush at the rear end position of the shoe,
Even if there is no brush on the rear end of the shoe, the two-sided brush can sufficiently polish the rear end of the shoe.

【0063】本発明はまた、側面ブラシを、垂直軸廻り
に回転する複数の下部ブラシと複数の上部ブラシとで構
成し、かつ前記各上部ブラシを、各下部ブラシよりも大
径に寸法設定するようにしているので、凹凸変化が大き
い靴の上半部も、充分に磨くことができ、使用者の靴の
大きさや形状が変化しても、靴表面の全域を斑なく磨く
ことができる。
According to the present invention, the side brush is composed of a plurality of lower brushes and a plurality of upper brushes which rotate about a vertical axis, and the upper brushes are dimensioned to have a larger diameter than the lower brushes. As a result, the upper half of the shoe having a large change in unevenness can be sufficiently polished, and even if the size or shape of the shoe of the user changes, the entire surface of the shoe can be polished without unevenness.

【0064】本発明はまた、上部ブラシおよび下部ブラ
シを、周方向に間隔を置いてブラシ体が突出する歯車状
に形成し、かつ上下に隣位する上部ブラシまたは下部ブ
ラシの各ブラシ体の突出位置を、周方向にずらすように
しているので、各ブラシ体が靴の表面形状に倣って充分
に撓むことになり、靴表面の全域を、より完全に磨くこ
とができる。
According to the present invention, the upper brush and the lower brush are formed in the shape of a gear in which the brush bodies project at intervals in the circumferential direction, and the brush bodies of the upper brush and the lower brush adjacent to each other in the vertical direction project. Since the position is shifted in the circumferential direction, each brush body is sufficiently bent according to the surface shape of the shoe, and the entire area of the shoe surface can be polished more completely.

【0065】本発明はまた、両側面ブラシ機構を任意回
数往復動させた後に、艶出し剤を艶出し剤塗布機構から
吐出させるようにしているので、艶出し剤吐出前に両側
面ブラシ機構が往復動することで、靴表面の汚れが除去
され、艶出し剤塗布時の艶出し効果を、大幅に向上させ
ることができる。
Further, according to the present invention, since the polishing agent is discharged from the polishing agent application mechanism after the brushing mechanism on both sides is reciprocated any number of times, the brush mechanism on both sides can be removed before discharging the polishing agent. By reciprocating, dirt on the shoe surface is removed, and the glazing effect at the time of applying the glazing agent can be greatly improved.

【0066】本発明はまた、靴置き台の前部上方に配設
され、靴の主として前面部を磨く上面ブラシ機構を設け
るようにしているので、最も人目に付き易い靴の前面部
を、上面ブラシ機構により充分に磨くことができる。
Further, according to the present invention, since the upper surface brush mechanism which is disposed above the front portion of the shoe stand and mainly polishes the front surface portion of the shoe is provided, the front surface portion of the shoe most noticeable is It can be sufficiently polished by the brush mechanism.

【0067】本発明はさらに、上面ブラシ機構に、水平
軸廻りに回転する上面ブラシを設け、この上面ブラシに
は、各側面ブラシとの接触により艶出し剤が供給される
ようにしているので、靴の前面部の艶出しを、より確実
に行なうことができるとともに、艶出し剤の供給機構を
簡素化することができる。
Further, in the present invention, the upper surface brush mechanism is provided with an upper surface brush rotating about a horizontal axis, and the polishing agent is supplied to the upper surface brush by contact with each side surface brush. The front surface of the shoe can be polished more reliably, and the polishing agent supply mechanism can be simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の一形態に係る靴磨き装置を示す
要部構成図である。
FIG. 1 is a main part configuration diagram showing a shoe polishing device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の平面図である。FIG. 2 is a plan view of FIG.

【図3】図1の靴磨き装置を側方から見た外観構成図で
ある。
3 is an external configuration diagram of the shoe polishing device of FIG. 1 as viewed from the side.

【図4】図3の平面図である。FIG. 4 is a plan view of FIG.

【図5】図3を左方から見た構成図である。5 is a configuration diagram of FIG. 3 viewed from the left side.

【図6】スライド枠の構造を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a structure of a slide frame.

【図7】側面ブラシと靴との関係を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing a relationship between a side brush and shoes.

【図8】側面ブラシの5個のブラシを分解して示す構成
図である。
FIG. 8 is an exploded view showing five side brushes.

【図9】支持基板に設けられている長孔の閉止装置の構
造を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory view showing the structure of a device for closing an elongated hole provided on a support substrate.

【図10】図1の靴磨き装置における靴磨き動作を示す
説明図である。
FIG. 10 is an explanatory view showing a shoe polishing operation in the shoe polishing device of FIG. 1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 靴磨き装置 2 本体ケース 2a 機械収容部 2b 操作パネル部 3 挿入用凹部 4 靴置き台 6 安全カバー 12 側面ブラシ機構 13 スライド枠 16,43 駆動モータ 18 側面ブラシ 20 往復動モータ 21 ピニオン 22 ラック 23 上部ブラシ 23a,24a 上端ブラシ 23b 中間ブラシ 23c,24b 下端ブラシ 26 ブラシ体 27 靴 29 原点センサ 30 後進端センサ 31 前進端センサ 32 作動板 33 艶出し剤塗布機構 34 艶出し剤収容ボトル 35 噴射ノズル 36 噴射レバー 39 作動板 41 駆動金具 42 上面ブラシ機構 44 上面ブラシ 1 shoe polisher 2 body case 2a Machine compartment 2b Operation panel section 3 Insertion recess 4 shoe rest 6 Safety cover 12 Side brush mechanism 13 Slide frame 16,43 Drive motor 18 side brush 20 reciprocating motor 21 pinion 22 racks 23 Upper brush 23a, 24a Top brush 23b Intermediate brush 23c, 24b Bottom brush 26 brush body 27 shoes 29 Origin sensor 30 Reverse end sensor 31 Forward end sensor 32 operating plate 33 Polishing agent application mechanism 34 Polishing Agent Storage Bottle 35 injection nozzle 36 Injection lever 39 Working plate 41 Drive bracket 42 Top brush mechanism 44 Top brush

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 靴を履いた状態の使用者が足を乗せる靴
置き台と;この靴置き台の左右両側にそれぞれ配設され
た一対の側面ブラシ機構と;各側面ブラシ機構を介して
靴に艶出し剤を塗布する艶出し剤塗布機構と;を備え、
前記両側面ブラシ機構を、靴置き台にそって往復動させ
るとともに、各側面ブラシ機構の側面ブラシを、移動方
向とは逆方向に回転させて靴磨きを行なうことを特徴と
する靴磨き方法。
1. A shoe stand on which a user wearing shoes can put a foot; a pair of side brush mechanisms respectively arranged on both left and right sides of the shoe stand; shoes through each side brush mechanism And a polish applying mechanism for applying a polish to the
A shoe polishing method wherein the both side surface brush mechanisms are reciprocated along a shoe stand and the side surface brushes of the respective side surface brush mechanisms are rotated in a direction opposite to the moving direction to perform shoe polishing.
【請求項2】 艶出し剤塗布機構は、両側面ブラシ機構
が任意回数往復動した後に、艶出し剤を吐出することを
特徴とする請求項1記載の靴磨き方法。
2. The shoe polishing method according to claim 1, wherein the polishing agent applying mechanism discharges the polishing agent after the both-sides brush mechanism reciprocates an arbitrary number of times.
【請求項3】 靴の前面部は、靴置き台の前部上方に配
設された上面ブラシ機構により靴磨きを行なうことを特
徴とする請求項1または2記載の靴磨き方法。
3. The shoe polishing method according to claim 1, wherein the front surface of the shoe is polished by an upper surface brush mechanism arranged above the front of the shoe holder.
【請求項4】 上面ブラシ機構には、各側面ブラシ機構
との接触により、艶出し剤が供給されることを特徴とす
る請求項3記載の靴磨き方法。
4. The shoe polishing method according to claim 3, wherein the polishing agent is supplied to the upper surface brush mechanism by contact with each side surface brush mechanism.
【請求項5】靴を履いた状態の使用者が足を乗せる靴置
き台と;この靴置き台の左右両側にそれぞれ配設された
一対の側面ブラシ機構と;これら両側面ブラシ機構を、
前記靴置き台にそって往復動させるブラシ移動機構と;
各側面ブラシ機構を介して靴に艶出し剤を塗布する艶出
し剤塗布機構と;を備え、前記各側面ブラシ機構は、そ
の側面ブラシを移動方向とは逆方向に回転駆動すること
を特徴とする靴磨き装置。
5. A shoe stand on which a user wearing shoes can put his / her foot; a pair of side brush mechanisms respectively arranged on both left and right sides of the shoe stand;
A brush moving mechanism that reciprocates along the shoe stand;
A glazing agent applying mechanism for applying a glazing agent to shoes through each side brush mechanism, wherein each side brush mechanism rotationally drives the side brush in a direction opposite to a moving direction. Shoe polishing equipment.
【請求項6】 側面ブラシは、垂直軸廻りに回転する複
数の下部ブラシと複数の上部ブラシとを備え、前記各上
部ブラシは、各下部ブラシよりも大径に寸法設定されて
いることを特徴とする請求項5記載の靴磨き装置。
6. The side brush comprises a plurality of lower brushes rotating about a vertical axis and a plurality of upper brushes, and each upper brush is dimensioned to have a larger diameter than each lower brush. The shoe polishing device according to claim 5.
【請求項7】 上部ブラシおよび下部ブラシは、周方向
に間隔を置いてブラシ体が突出する歯車状に形成され、
かつ上下に隣位する上部ブラシまたは下部ブラシは、そ
のブラシ体の突出位置が周方向にずれていることを特徴
とする請求項6記載の靴磨き装置。
7. The upper brush and the lower brush are formed in a gear shape in which brush bodies project at intervals in the circumferential direction,
7. The shoe polishing device according to claim 6, wherein the upper brush and the lower brush that are adjacent to each other in the vertical direction are such that the protruding positions of the brush bodies are displaced in the circumferential direction.
【請求項8】 艶出し剤塗布機構は、両側面ブラシ機構
が任意回数往復動した後に、艶出し剤を吐出することを
特徴とする請求項5,6または7記載の靴磨き装置。
8. The shoe polishing device according to claim 5, 6 or 7, wherein the polishing agent applying mechanism discharges the polishing agent after the both-sides brush mechanism reciprocates an arbitrary number of times.
【請求項9】 靴置き台の前部上方に配設され、靴の主
として前面部を磨く上面ブラシ機構を備えていることを
特徴とする請求項5,6,7または8記載の靴磨き装
置。
9. The shoe polishing apparatus according to claim 5, 6, 7 or 8, wherein the shoe polishing apparatus is provided above the front of the shoe stand and has an upper surface brush mechanism for polishing the front surface of the shoe. .
【請求項10】 上面ブラシ機構は、水平軸廻りに回転
する上面ブラシを備え、上面ブラシには、各側面ブラシ
との接触により艶出し剤が供給されることを特徴とする
請求項9記載の靴磨き装置。
10. The upper surface brush mechanism includes an upper surface brush that rotates about a horizontal axis, and the polishing agent is supplied to the upper surface brush by contact with each side surface brush. Shoe polisher.
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