JP2003337425A - Exposure device - Google Patents

Exposure device

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JP2003337425A
JP2003337425A JP2002145076A JP2002145076A JP2003337425A JP 2003337425 A JP2003337425 A JP 2003337425A JP 2002145076 A JP2002145076 A JP 2002145076A JP 2002145076 A JP2002145076 A JP 2002145076A JP 2003337425 A JP2003337425 A JP 2003337425A
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JP
Japan
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light source
exposure
source unit
time
exposure apparatus
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2002145076A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Fujii
武 藤井
Yoji Okazaki
洋二 岡崎
Kouji Wada
光示 和田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure device by which costs for the replacement and the maintenance of a light source unit are reduced because the cycles of the replacement and the maintenance of the light source unit are extended by eliminating the variation of the residual life of the light source unit due to the deviation of the cumulative use time or the deterioration ratio with time of the output efficiency of the light source unit. <P>SOLUTION: The cumulative use time or the deterioration ratio with time of the output efficiency of each light source unit is measured, and connection between each light source unit and each exposure unit is switched by a switching means based on a measured result. Thus, the cumulative use time or the deterioration ratio with time of the output efficiency of each light source unit are averaged, and the cycles of the replacement and the maintenance of the light source unit are extended, so that the costs are reduced. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、露光ユニットによ
り、光源ユニットから出射される光ビームを画像データ
に応じて変調し、変調された光ビームによって露光対象
物を直接露光する露光装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus in which an exposure unit modulates a light beam emitted from a light source unit according to image data, and the modulated light beam directly exposes an exposure object. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】露光ヘッドにより、光源ユニットから出
射される光ビームを画像データに応じて変調し、変調さ
れた光ビームによって露光対象物を直接露光する露光装
置において、光源ユニットおよび露光ヘッドを複数個使
用し、例えば同時に1ライン分の画像を露光可能なライ
ンヘッドが構成されている場合、露光対象物のライン方
向の幅が複数種類存在する場合には、ある特定の光源ユ
ニットおよび露光ヘッドの組合せの使用率だけが高くな
る。
2. Description of the Related Art In an exposure apparatus in which a light beam emitted from a light source unit is modulated by an exposure head according to image data, and an object to be exposed is directly exposed by the modulated light beam, a plurality of light source units and exposure heads are provided. When a line head that is used individually and is capable of exposing an image of one line at a time is configured, and when there are a plurality of widths in the line direction of the exposure target, a specific light source unit and exposure head Only the usage rate of the combination is high.

【0003】例えば、図10に示すように、ステージ1
4上に露光対象物20を載置搬送してラインヘッド78
で露光対象物20を露光する露光装置の場合、露光対象
物20のライン方向の幅が、ラインヘッド78の全幅よ
りも短く、例えば左寄せで露光が行われる頻度が高い場
合(同図(A))には、ラインヘッド78のうち、露光
対象物20の幅に相当する図中左部の光源ユニットおよ
び露光ユニットの使用率が高くなる。
For example, as shown in FIG.
The object to be exposed 20 is placed and conveyed on the line 4, and the line head 78
In the case of the exposure apparatus that exposes the exposure target object 20 with, the width of the exposure target object 20 in the line direction is shorter than the total width of the line head 78, and for example, the exposure is frequently performed with left alignment ((A) in the figure). ), The usage rate of the light source unit and the exposure unit in the left part of the drawing, which corresponds to the width of the exposure target 20, increases in the line head 78.

【0004】一方、センター寄せで露光が行われる頻度
が高い場合(同図(B))には、ラインヘッド78のう
ち、露光対象物20の幅に相当する図中中央部の光源ユ
ニットおよび露光ユニットの利用率が高くなる。
On the other hand, when exposure is frequently performed by centering ((B) in the figure), the light source unit in the central portion of the line head 78 corresponding to the width of the exposure object 20 and the exposure are shown. Higher unit utilization.

【0005】一般に、露光対象物20の幅がラインヘッ
ド78の全幅よりも短く、ラインヘッド78の全幅を使
用せずに露光する描画パターンの場合、光源ユニットの
寿命や消費電力等を考慮して、使用しない光源ユニット
を停止する処置が取られている。
Generally, in the case of a drawing pattern in which the width of the exposure object 20 is shorter than the entire width of the line head 78 and the exposure is performed without using the entire width of the line head 78, the life and power consumption of the light source unit are taken into consideration. , A measure is taken to stop the light source unit that is not used.

【0006】この場合、光源ユニット毎に、積算使用時
間または出力効率の経時劣化率に差が生じることにな
る。光源ユニットの交換もしくはメンテナンス周期は、
実装されている複数の光源ユニットのうち、最も積算使
用時間の長いまたは出力効率の経時劣化率の悪い光源ユ
ニット、言い換えると最も寿命の短い光源ユニットによ
って規定される。このため、従来の露光装置では、短周
期での交換、メンテナンスが求められ、コストを増大さ
せる原因となっていた。
In this case, there is a difference in the cumulative use time or the deterioration rate of the output efficiency over time for each light source unit. The replacement or maintenance cycle of the light source unit is
It is defined by the light source unit having the longest cumulative use time or the worst deterioration rate of output efficiency among the plurality of mounted light source units, in other words, the light source unit having the shortest life. For this reason, the conventional exposure apparatus requires replacement and maintenance in a short cycle, which causes a cost increase.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来技術に基づく問題点を解消し、各光源ユニットの積
算使用時間または出力効率の経時劣化率の偏りによる光
源ユニットの残寿命のばらつきをなくし、光源ユニット
の交換、メンテナンス周期を延長することができ、その
分のコストを削減することができる露光装置を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to solve the problems based on the above-mentioned prior art, and to disperse the remaining life of the light source units due to the deviation of the cumulative use time of each light source unit or the deterioration rate of the output efficiency over time. Therefore, it is an object of the present invention to provide an exposure apparatus that can eliminate the above problem and can extend the replacement and maintenance cycle of the light source unit and can reduce the cost accordingly.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、光ビームを出射する複数の光源ユニット
と、前記光源ユニットから出射される光ビームを画像デ
ータに応じて変調する複数の露光ユニットとを備え、露
光対象物のサイズに対応する一部または全部の前記光源
ユニットおよび前記露光ユニットを使用して、前記露光
対象物を直接露光する露光ヘッドを備える露光装置であ
って、各々の前記光源ユニットの積算使用時間または出
力効率の経時劣化率を測定する手段と、各々の前記光源
ユニットと各々の前記露光ユニットとの間の接続を任意
に切り替え可能な切り替え手段とを備えることを特徴と
する露光装置を提供するものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a plurality of light source units for emitting a light beam and a plurality of light beams for emitting the light beam according to image data. An exposure apparatus comprising an exposure unit of, and using a part or all of the light source unit and the exposure unit corresponding to the size of an exposure object, the exposure apparatus including an exposure head that directly exposes the exposure object, The light source unit includes a unit for measuring a cumulative use time or a deterioration rate of output efficiency over time, and a switching unit capable of arbitrarily switching a connection between each of the light source units and each of the exposure units. And an exposure apparatus characterized by the above.

【0009】ここで、前記露光ヘッドは、同時に1ライ
ン分の画像を露光可能なラインヘッドであるのが好まし
い。
Here, it is preferable that the exposure head is a line head capable of simultaneously exposing an image of one line.

【0010】また、前記切り替え手段は、各々の前記光
源ユニットと各々の前記露光ユニットとの間に設けられ
る光ファイバおよび光コネクタであるのが好ましい。
Further, the switching means is preferably an optical fiber and an optical connector provided between each of the light source units and each of the exposure units.

【0011】また、前記経時劣化率を測定する手段は、
各々の前記光源ユニットについて、経時前および経時後
における駆動電流値を同じ値に設定し、各々の前記光源
ユニットの経時前および経時後における光出力の差に基
づいて、各々の前記光源ユニットの出力効率の経時劣化
率を測定する、または各々の前記光源ユニットについ
て、経時前および経時後における光出力を同じ値に設定
し、各々の前記光源ユニットの経時前および経時後にお
ける駆動電流値の差に基づいて、各々の前記光源ユニッ
トの出力効率の経時劣化率を測定するのが好ましい。
The means for measuring the deterioration rate with time is
For each of the light source units, the driving current value before and after the aging is set to the same value, and the output of each of the light source units is based on the difference in the light output before and after the aging of each of the light source units. The efficiency deterioration rate with time is measured, or, for each of the light source units, the light output before and after the passage of time is set to the same value, and the difference in the drive current value between before and after the passage of each of the light source units is set. Based on this, it is preferable to measure the deterioration rate with time of the output efficiency of each of the light source units.

【0012】また、前記光源ユニットは、半導体レーザ
で構成されているのが好ましい。また、前記光源ユニッ
トは、複数の半導体レーザから出射される光ビームを合
波し、光ファイバに光結合したものであるのが好まし
い。
The light source unit is preferably composed of a semiconductor laser. Further, it is preferable that the light source unit is one that multiplexes light beams emitted from a plurality of semiconductor lasers and optically couples them to an optical fiber.

【0013】また、上記のいずれかに記載の露光装置で
あって、さらに、各々の前記光源ユニットの積算使用時
間または各々の前記光源ユニットの出力効率の経時劣化
率に基づいて、どの前記光源ユニットから出射する光ビ
ームをどの前記露光ユニットに接続するのかを指示する
手段を備えるのが好ましい。
Further, in the exposure apparatus according to any one of the above, further, which of the light source units is based on a cumulative use time of each of the light source units or a deterioration rate of output efficiency of each of the light source units with time. It is preferable to provide means for instructing to which of the exposure units the light beam emitted from is connected.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に、添付の図面に示す好適実
施例に基づいて、本発明の露光装置を詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The exposure apparatus of the present invention will be described below in detail with reference to the preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

【0015】図1は、本発明を適用する露光装置の一実
施例の構成概略図である。同図に示す露光装置10は、
高出力の光ビームによって露光対象物20を直接露光す
るものであり、基台12と、露光対象物20を載置して
搬送するフラットベッド型のステージ14と、画像デー
タ(デジタルデータ)に応じて変調された光ビームによ
り、ステージ14に載置されて搬送される露光対象物2
0を直接露光する露光ヘッド16とを備えている。
FIG. 1 is a schematic view showing the arrangement of an embodiment of an exposure apparatus to which the present invention is applied. The exposure apparatus 10 shown in FIG.
The object 20 to be exposed is directly exposed by a high-power light beam. The base 12 and the flat bed type stage 14 on which the object 20 to be exposed is placed and conveyed, and image data (digital data) are used. Object 2 placed on stage 14 and conveyed by the modulated and modulated light beam
And an exposure head 16 for directly exposing 0.

【0016】ここで、基台12には、図中矢印X方向の
中央部に、その上面を跨ぐようにコの字型の支持部材1
2aが設けられている。また、基台12上面の図中矢印
Y方向(矢印X方向と概略直交する方向)の両端部近傍
には、矢印X方向に沿って、ステージ14が載置される
2本のガイド12bが設けられている。
Here, the base 12 has a U-shaped support member 1 at the center in the direction of the arrow X in the drawing so as to straddle its upper surface.
2a is provided. Two guides 12b on which the stage 14 is mounted are provided along the arrow X direction near both ends of the upper surface of the base 12 in the arrow Y direction (direction substantially orthogonal to the arrow X direction) in the figure. Has been.

【0017】ステージ14は、上記2本のガイド12b
の上に載置されており、本実施形態の場合、図示してい
ないリニアモータ等の駆動装置により、ガイド12bに
沿って矢印X方向に移動(副走査)可能に構成されてい
る。
The stage 14 has the two guides 12b.
In the present embodiment, it is configured to be movable (sub-scanning) in the arrow X direction along the guide 12b by a drive device such as a linear motor (not shown).

【0018】露光ヘッド16は、本実施形態の場合、一
度に1ライン(図中矢印Y方向の全長)分の画像を露光
可能なラインヘッドであり、露光ヘッド16から出射さ
れる光ビームが、ステージ14(すなわち、露光対象物
20)の上面に対向するように、基台12中央部に設け
られているコの字型の支持部材12aに固定されてい
る。
In the case of the present embodiment, the exposure head 16 is a line head capable of exposing an image for one line (total length in the direction of arrow Y in the figure) at a time, and the light beam emitted from the exposure head 16 is It is fixed to a U-shaped support member 12a provided in the central portion of the base 12 so as to face the upper surface of the stage 14 (that is, the exposure target 20).

【0019】また、図中参照符号18で示すものは、露
光対象物20の配置(位置、傾斜等)を検出するCCD
(固体撮像素子)カメラ等の位置検出センサであり、露
光ヘッド16と同様、ステージ14の上面に対向するよ
うに、コの字型の支持部材12aに固定されている。
A reference numeral 18 in the drawing denotes a CCD for detecting the arrangement (position, inclination, etc.) of the exposure object 20.
(Solid-state image pickup device) A position detection sensor for a camera or the like, which is fixed to a U-shaped support member 12a so as to face the upper surface of the stage 14 like the exposure head 16.

【0020】なお、図1に示す露光装置10は、単に本
発明を適用する露光装置の一例を示すものであり、その
各部位は、同様の機能を果す従来公知の他の構成要素に
よっても容易に実現可能である。本発明は、この露光装
置10に限定されず、従来公知の各種の露光装置に適用
可能である。
The exposure apparatus 10 shown in FIG. 1 merely shows an example of the exposure apparatus to which the present invention is applied, and each part thereof can be easily formed by other conventionally known constituent elements having the same function. Is feasible. The present invention is not limited to this exposure apparatus 10 and can be applied to various conventionally known exposure apparatuses.

【0021】例えば、露光ヘッド16は、1ライン中の
一部だけを露光可能なものを用い、これを矢印Y方向に
走査(主走査)して1ラインの画像を露光した後、ステ
ージ14を矢印X方向に1ラインずつ移動(副走査)し
て画像を露光したり、あるいはステージ14または露光
ヘッド16の一方を固定して、他方の露光ヘッド16ま
たはステージ14を主走査および副走査するようにして
もよい。また、ステージもフラットベッド型のものに限
定されず、縦置き型、ドラム型のものなど従来公知の形
態のものがいずれも利用可能である。
For example, as the exposure head 16, one capable of exposing only a part of one line is used. This is scanned in the direction of arrow Y (main scanning) to expose an image of one line, and then the stage 14 is moved. The image is exposed by moving (sub-scanning) line by line in the direction of the arrow X, or one of the stage 14 and the exposure head 16 is fixed and the other exposure head 16 or the stage 14 is subjected to main scanning and sub-scanning. You may Also, the stage is not limited to the flat bed type, and any conventionally known type such as a vertical type or a drum type can be used.

【0022】続いて、露光ヘッド16について説明す
る。
Next, the exposure head 16 will be described.

【0023】露光ヘッド16は、光ビームを出射する複
数の光源ユニット40と、画像データに応じて、各々の
光源ユニット40から出射される光ビームを変調する複
数の露光ユニット22とを備えている。上記の通り、本
実施形態の場合、これら複数の光源ユニット40および
複数の露光ユニット22によりラインヘッドが構成され
る。
The exposure head 16 comprises a plurality of light source units 40 for emitting light beams and a plurality of exposure units 22 for modulating the light beams emitted from the respective light source units 40 according to image data. . As described above, in the case of the present embodiment, the plurality of light source units 40 and the plurality of exposure units 22 form a line head.

【0024】露光ユニット22は、図2に示すように、
光源ユニット40から入射される光ビームを空間変調素
子30の各反射面上に収束させるレンズ26,28と、
レンズ26,28を介して入射された光ビームを画像デ
ータに応じて各画素毎に光変調する空間変調素子30
と、空間変調素子30で変調された光ビームを露光対象
物20の表面に倍率を変えて結像させるズームレンズ3
2,34とを備えている。
The exposure unit 22, as shown in FIG.
Lenses 26 and 28 for converging the light beam incident from the light source unit 40 on each reflecting surface of the spatial light modulator 30,
A spatial modulation element 30 that optically modulates a light beam incident through the lenses 26 and 28 for each pixel according to image data.
And a zoom lens 3 for forming an image of the light beam modulated by the spatial modulation element 30 on the surface of the exposure object 20 while changing the magnification.
2, 34 and.

【0025】露光ユニット22を構成する各部材は、本
実施形態の場合、ケーシング38内の所定箇所に配置さ
れている。なお、これに限定されず、可能であれば、光
源ユニット40を含めて全ての部材をケーシング38内
に格納してもよい。
In the case of the present embodiment, each member constituting the exposure unit 22 is arranged at a predetermined position inside the casing 38. However, the present invention is not limited to this, and if possible, all members including the light source unit 40 may be housed in the casing 38.

【0026】ここで、空間変調素子30は、例えば複数
の可動マイクロミラーを配列したデジタル・マイクロミ
ラー・デバイス(DMD、テキサツ・インスツルメント
社製)や、反射回折格子型のグレーティング・ライト・
バルブ素子(GLV素子、シリコン・ライトマシーン社
製)の他、従来公知の空間変調素子がいずれも利用可能
可能である。なお、GLV素子の詳細については米国特
許第5311360号に記載されている。空間変調素子
30の詳細については後述する。
Here, the spatial modulation element 30 is, for example, a digital micromirror device (DMD, manufactured by Texatsu Instruments Co., Ltd.) in which a plurality of movable micromirrors are arranged, or a reflection diffraction grating type grating light.
In addition to the valve element (GLV element, manufactured by Silicon Light Machine Co., Ltd.), any conventionally known spatial modulation element can be used. The details of the GLV element are described in US Pat. No. 5,311,360. Details of the spatial light modulator 30 will be described later.

【0027】ズームレンズ34は、駆動モータ36の駆
動により図示しないガイドに沿って光軸方向に移動可能
に支持されており、これによって露光倍率の調整が行わ
れる。ズームレンズ34から出射される光ビームは、ケ
ーシング38に設けられた図示しない開口部を通過して
露光対象物20の表面に照射される。なお、通常、ズー
ムレンズは組合せレンズで構成されるが、同図では、構
成を簡略化して1枚のレンズのみを示してある。
The zoom lens 34 is supported by a drive motor 36 so as to be movable in the optical axis direction along a guide (not shown), whereby the exposure magnification is adjusted. The light beam emitted from the zoom lens 34 passes through an opening (not shown) provided in the casing 38 and is applied to the surface of the exposure target 20. Note that the zoom lens is usually composed of a combination lens, but in the figure, only one lens is shown by simplifying the structure.

【0028】個々の露光ユニット22は、1ライン分の
画像のうちの一部をそれぞれ露光するものであり、ライ
ンヘッドを構成する全ての露光ユニット22により、1
ライン分の画像を1度に露光可能である。なお、ライン
ヘッドを構成する露光ユニット22の個数は必要に応じ
て適宜決定すればよく、何個の露光ユニット22を使用
してもよい。露光ヘッド16を複数の露光ユニット22
で構成した場合の配列方式については後述する。
Each of the exposure units 22 exposes a part of the image of one line, and all the exposure units 22 constituting the line head are set to one exposure unit.
An image of a line can be exposed at one time. The number of exposure units 22 that form the line head may be appropriately determined as necessary, and any number of exposure units 22 may be used. The exposure head 16 includes a plurality of exposure units 22.
The arrangement method in the case of the above will be described later.

【0029】一方、光源ユニット40は、本実施形態の
場合、複数の半導体レーザ(LD)チップを搭載し、そ
の全ての光出力を合波して1本の光ファイバ42に光結
合する合波モジュールを複数、図示例の場合、9個の合
波モジュールを備えている。これら9個の合波モジュー
ルの各々に光結合された9本の光ファイバ42が3×3
のアレイ状に配列されて束ねられ、これらの合波モジュ
ールおよび光ファイバ42によりレーザ光源24が構成
されている。
On the other hand, in the case of this embodiment, the light source unit 40 is equipped with a plurality of semiconductor laser (LD) chips, and all the optical outputs thereof are combined and optically combined into one optical fiber 42. A plurality of modules, in the illustrated example, nine multiplexing modules are provided. The nine optical fibers 42 optically coupled to each of these nine multiplexing modules are 3 × 3.
The laser modules 24 are arranged in an array and are bundled, and the laser light source 24 is configured by the multiplexing module and the optical fiber 42.

【0030】アレイ状に束ねられた光ファイバ42の端
部は、露光ユニット22のケーシング38の側壁に設け
られた開口部(図示せず)を通してケーシング38内に
導入されている。また、図8に示すように、上記開口部
には光コネクタ76が設けられている。光ファイバ42
は、光コネクタ76の部分で露光ユニット22に着脱可
能に接続されており、各々の光源ユニット40(すなわ
ち、その光出力)と各々の露光ユニット22との間の接
続を任意に切り替え可能に構成されている。
The ends of the optical fibers 42 bundled in an array are introduced into the casing 38 through an opening (not shown) provided in the side wall of the casing 38 of the exposure unit 22. Further, as shown in FIG. 8, an optical connector 76 is provided in the opening. Optical fiber 42
Is detachably connected to the exposure unit 22 at the optical connector 76, and the connection between each light source unit 40 (that is, its light output) and each exposure unit 22 can be arbitrarily switched. Has been done.

【0031】露光ユニット22の空間変調素子30およ
び光源ユニット40の各々は、図示しないドライバを介
して、これらを制御する図示しないコントローラに接続
されている。
Each of the spatial modulation element 30 and the light source unit 40 of the exposure unit 22 is connected to a controller (not shown) that controls them via a driver (not shown).

【0032】なお、光源ユニット40の光源はLDに限
定されず、従来公知の各種の光源を利用可能である。ま
た、光源ユニット40の構成も何ら限定されない。光源
ユニット40と露光ユニット22との間の接続の切り替
え手段は、光ファイバ42および光コネクタ76に限定
されず、同様の機能を果す構成のものであればよい。光
コネクタ76の位置も何ら限定されず、光源ユニット側
または光ファイバ42上のどの位置に配置してもよい。
また、光源ユニット40の個数は、露光ユニット22の
個数に応じて適宜決定すればよい。
The light source of the light source unit 40 is not limited to the LD, and various conventionally known light sources can be used. Further, the configuration of the light source unit 40 is not limited at all. The means for switching the connection between the light source unit 40 and the exposure unit 22 is not limited to the optical fiber 42 and the optical connector 76, and may be any one having a configuration that performs the same function. The position of the optical connector 76 is not limited at all and may be arranged at any position on the light source unit side or on the optical fiber 42.
Further, the number of light source units 40 may be appropriately determined according to the number of exposure units 22.

【0033】続いて、本実施形態で用いるレーザ光源2
4の詳細について説明する。
Next, the laser light source 2 used in this embodiment
4 will be described in detail.

【0034】図3に示すように、本実施形態で用いるレ
ーザ光源24は、多数のLDチップから出射される光ビ
ームを1本の光ファイバ42に合波する複数個、図示例
の場合、9個(一部のみ図示)の合波モジュール46
と、その一方の端部が、9個の合波モジュール46の光
出力の各々に光結合され、且つその他方の端部が、3×
3のアレイ状に配列された光ファイバ42とを備えてい
る。
As shown in FIG. 3, the laser light source 24 used in the present embodiment is a plurality of laser light sources 24 which combine light beams emitted from a large number of LD chips into one optical fiber 42. Multiple (only a part is shown) multiplexing module 46
And one end thereof is optically coupled to each of the optical outputs of the nine multiplexing modules 46, and the other end is 3 ×.
3 of the optical fibers 42 arranged in an array.

【0035】各々の合波モジュール46は、図4に詳細
を示すように、例えば銅からなるヒートシンクブロック
54上に配列固定された複数個、図示例の場合、7個の
横マルチモード窒化ガリウム系半導体レーザ(以下、窒
化ガリウム系LDという)56と、窒化ガリウム系LD
56の各々に対向して設けられたコリメータレンズ58
と、集光レンズ60とを備え、その光出力が1本の光フ
ァイバ42に光結合されている。
As shown in detail in FIG. 4, each of the multiplexing modules 46 has a plurality of, for example, seven lateral multimode gallium nitride-based materials arranged and fixed on a heat sink block 54 made of copper, for example. Semiconductor laser (hereinafter referred to as gallium nitride LD) 56 and gallium nitride LD
Collimator lens 58 provided to face each of 56
And a condenser lens 60, the optical output of which is optically coupled to one optical fiber 42.

【0036】ヒートシンクブロック54、LD56、コ
リメータレンズ58、および集光レンズ60は、上方が
開口した箱状のパッケージ62内に収容され、パッケー
ジ62の開口がパッケージ蓋64によって閉じられるこ
とにより、パッケージ62およびパッケージ蓋64が構
成する閉空間内に密閉保持される。
The heat sink block 54, the LD 56, the collimator lens 58, and the condenser lens 60 are housed in a box-shaped package 62 whose upper side is open, and the opening of the package 62 is closed by a package lid 64, so that the package 62 is closed. Further, the package lid 64 is hermetically held in a closed space formed by the package lid 64.

【0037】パッケージ62の底面にはベース板66が
固定され、このベース板66の上面に前記ヒートシンク
ブロック54が取り付けられ、そしてこのヒートシンク
ブロック54にコリメータレンズ58を保持するコリメ
ータレンズホルダ68が固定されている。さらに、ベー
ス板66の上面には、集光レンズ60を保持する集光レ
ンズホルダ70と、光ファイバ42の入射端部を保持す
るファイバホルダ72が固定されている。また窒化ガリ
ウム系LD56に駆動電流を供給する配線74は、パッ
ケージ62の横壁面に形成された図示しない気密封止材
料で封止される開口部を通してパッケージ62外に引き
出されている。
A base plate 66 is fixed to the bottom surface of the package 62, the heat sink block 54 is attached to the upper surface of the base plate 66, and a collimator lens holder 68 holding a collimator lens 58 is fixed to the heat sink block 54. ing. Further, a condenser lens holder 70 holding the condenser lens 60 and a fiber holder 72 holding the incident end portion of the optical fiber 42 are fixed to the upper surface of the base plate 66. Further, the wiring 74 for supplying a drive current to the gallium nitride LD 56 is drawn out of the package 62 through an opening formed in the lateral wall surface of the package 62 and sealed with an airtight sealing material (not shown).

【0038】コリメータレンズ58は、窒化ガリウム系
LD56の発光点の並び方向の開口径が該方向に垂直な
方向(図4(B)の上下方向)の開口径よりも小さく
(すなわち、細長い形状で)形成されて、上記発光点の
並び方向に密接配置されている。窒化ガリウム系LD5
6としては、例えば、発光幅が2μmで、活性層と平行
な方向、垂直な方向の拡がり角がそれぞれ10°、30
°の状態で各々光ビームを発するものが用いられる。こ
れらの窒化ガリウム系LD56は、活性層と平行な方向
に発光点が1列に並ぶように配設されている。
In the collimator lens 58, the aperture diameter in the direction in which the light emitting points of the gallium nitride LD 56 are arranged is smaller than the aperture diameter in the direction perpendicular to the direction (vertical direction in FIG. 4B) (that is, in the elongated shape). ) Are formed and are closely arranged in the arrangement direction of the light emitting points. Gallium Nitride LD5
6 is, for example, the emission width is 2 μm and the divergence angles in the direction parallel to the active layer and the direction perpendicular to the active layer are 10 ° and 30, respectively.
One that emits a light beam in the state of ° is used. These gallium nitride LDs 56 are arranged such that the light emitting points are arranged in a line in a direction parallel to the active layer.

【0039】したがって、各発光点から発せられた光ビ
ームは、上述のように細長い形状とされた各コリメータ
レンズ58に対して、拡がり角最大の方向が開口径大の
方向と一致し、拡がり角最小の方向が開口径小の方向と
一致する状態で入射することになる。つまり、細長い形
状とされた各コリメータレンズ58は、入射する光ビー
ムの楕円形の断面形状に対応して、非有効成分を極力少
なくして使用されることになる。
Therefore, the light beam emitted from each light emitting point is directed to each collimator lens 58 having an elongated shape as described above so that the direction of the maximum divergence coincides with the direction of the large aperture diameter, and the divergence angle. The light is incident in a state in which the minimum direction coincides with the direction in which the aperture diameter is small. That is, each collimator lens 58 having an elongated shape is used with the ineffective component reduced as much as possible in accordance with the elliptical cross-sectional shape of the incident light beam.

【0040】例えば、本実施形態では、コリメータレン
ズ58の水平方向および垂直方向の開口径1.1mm、
4.6mm、焦点距離3mm、NA0.6、コリメータ
レンズ58に入射する光ビームの水平方向および垂直方
向のビーム径0.9mm、2.6mmが使用できる。ま
た、コリメータレンズ58はピッチ1.25mmで配置
される。
For example, in the present embodiment, the horizontal and vertical aperture diameters of the collimator lens 58 are 1.1 mm,
4.6 mm, focal length 3 mm, NA 0.6, horizontal and vertical beam diameters of the light beam incident on the collimator lens 58 of 0.9 mm and 2.6 mm can be used. The collimator lenses 58 are arranged with a pitch of 1.25 mm.

【0041】集光レンズ60は、非球面円形レンズの光
軸を含む領域を細長く切り取って、コリメータレンズ5
8の並び方向すなわち水平方向に長く、それと直角な方
向に短い形状とされている。集光レンズ60は、例え
ば、焦点距離12.5mm、NA0.3であるものが使
用できる。上記コリメータレンズ58および集光レンズ
60は、例えば樹脂あるいは光学ガラスをモールド成形
することによって形成される。
The condenser lens 60 is formed by cutting an area including the optical axis of the aspherical circular lens into a long and thin shape, and collimating lens 5
The shape is long in the direction of arrangement of eight, that is, in the horizontal direction, and short in the direction perpendicular thereto. As the condenser lens 60, for example, one having a focal length of 12.5 mm and NA of 0.3 can be used. The collimator lens 58 and the condenser lens 60 are formed by molding resin or optical glass, for example.

【0042】他方、光ファイバ42は、例えば三菱電線
製のグレーデッドインデックス型を基本としたコア中心
部がグレーデッドインデックス型で外周部がステップイ
ンデックス型であるコア径25μm、NA0.3、端面
コートの透過率99.5%以上のファイバが使用でき
る。すなわちコア径×NAの値は7.5μmとなる。
On the other hand, the optical fiber 42 is based on, for example, a graded index type manufactured by Mitsubishi Electric, and has a core with a graded index type and a perimeter with a step index type. A fiber having a transmittance of 99.5% or more can be used. That is, the value of core diameter × NA is 7.5 μm.

【0043】光ビームの光ファイバ42への結合効率が
0.9、窒化ガリウム系LD56の出力100mW、窒
化ガリウム系LD56の個数7の場合、出力630mW
(=100mW×0.9×7)の合波光ビームが得られ
ることになる。
When the coupling efficiency of the light beam to the optical fiber 42 is 0.9, the output of the gallium nitride LD 56 is 100 mW, and the number of the gallium nitride LD 56 is 7, the output is 630 mW.
A combined light beam of (= 100 mW × 0.9 × 7) is obtained.

【0044】窒化ガリウム系LD56は、発振波長は4
05±10nmであり、最大出力は100mWである。
これらの窒化ガリウム系LD56から発散光状態で出射
した光ビームは、各々対向するコリメータレンズ58に
よって平行光化される。平行光とされた光ビームは、集
光レンズ60によって集光され、光ファイバ42のコア
の入射端面上で収束する。
The gallium nitride LD 56 has an oscillation wavelength of 4
05 ± 10 nm, and the maximum output is 100 mW.
The light beams emitted from these gallium nitride LDs 56 in a divergent light state are collimated by the collimator lenses 58 facing each other. The collimated light beam is condensed by the condenser lens 60 and converges on the incident end face of the core of the optical fiber 42.

【0045】コリメータレンズ58および集光レンズ6
0によって集光光学系が構成され、それと光ファイバ4
2とによって合波光学系が構成されている。すなわち、
集光レンズ60によって上述のように集光された光ビー
ムがこの光ファイバ42のコアに入射してそこを伝搬
し、1本の光ビームに合波されて光ファイバ42から出
射する。なお、光ファイバ42としては、例えば、ステ
ップインデックス型のものや微小コアで高いNAのもの
を使用する場合は、グレードインデックス型のもの及び
その複合型のファイバが適用可能である。
Collimator lens 58 and condenser lens 6
0 forms a condensing optical system, and the optical fiber 4
A multiplexing optical system is constituted by 2 and. That is,
The light beam condensed as described above by the condenser lens 60 enters the core of the optical fiber 42, propagates there, is combined into one light beam, and is emitted from the optical fiber 42. As the optical fiber 42, for example, when a step index type fiber or a fiber having a small core and a high NA is used, a grade index type fiber or a composite type fiber thereof can be applied.

【0046】なお、各々の窒化ガリウム系LD56に対
応する個別のコリメータレンズ58の代替として、窒化
ガリウム系LD56の個数に対応する個数のレンズ要素
を有するコリメータレンズアレイが使用されてもよい。
個別のコリメータレンズを使用する場合もそれらを互い
に密接配置して、窒化ガリウム系LD56の配置ピッチ
を小さくし、空間利用効率を高めることができるが、コ
リメータレンズアレイを用いることにより、その効果を
より一層高めることが可能である。また、そのようにし
て空間利用効率が高められると、合波本数を増やすこと
ができ、更に窒化ガリウム系LD56、集光光学系およ
び光ファイバ42の組立位置精度に比較的余裕を持たせ
ることができるという効果も得られる。
As an alternative to the individual collimator lens 58 corresponding to each gallium nitride LD 56, a collimator lens array having a number of lens elements corresponding to the number of gallium nitride LDs 56 may be used.
Even when individual collimator lenses are used, they can be arranged closely to each other to reduce the arrangement pitch of the gallium nitride LDs 56 and improve space utilization efficiency. However, by using a collimator lens array, the effect can be further improved. It is possible to raise it further. Further, if the space utilization efficiency is improved in this way, the number of multiplexed waves can be increased, and further, the gallium nitride LD 56, the condensing optical system, and the optical fiber 42 can be provided with a relatively large margin in assembly position accuracy. The effect that it can be obtained is also obtained.

【0047】上述の通り、窒化ガリウム系LD56から
出射された光ビームは、各々対応するコリメータレンズ
58でコリメートされた後、集光レンズ60を介して光
ファイバ42に入射される。各合波モジュール46に7
個の窒化ガリウム系LD56が備えられている場合、7
本のコリメートされた光ビームが、非球面ガラスモール
ドレンズ(集光レンズ)60により、光ファイバ42へ
光結合される。このコア径25μm、NA=0.3、出
力0.5Wの光ファイバ42を100本設ければ、アレ
イ状に配置された光ファイバ42からは、50W(=
0.5W×100本)のアレイ状の超高出力光ビームが
出射される。
As described above, the light beams emitted from the gallium nitride LD 56 are collimated by the corresponding collimator lenses 58, and then enter the optical fiber 42 through the condenser lens 60. 7 for each multiplexing module 46
7 if each gallium nitride LD 56 is provided
The collimated light beam of the book is optically coupled to the optical fiber 42 by the aspherical glass mold lens (condensing lens) 60. If 100 optical fibers 42 having a core diameter of 25 μm, NA = 0.3, and an output of 0.5 W are provided, the optical fibers 42 arranged in an array form 50 W (=
An array-shaped ultra-high output light beam of 0.5 W × 100) is emitted.

【0048】なお、本実施形態のレーザ光源24の一例
として具体的な数値を挙げて説明したが、本発明が適用
される露光装置10のレーザ光源24はこの具体例に何
ら限定されるものではない。
Although an example of the laser light source 24 of the present embodiment has been described with specific numerical values, the laser light source 24 of the exposure apparatus 10 to which the present invention is applied is not limited to this specific example. Absent.

【0049】続いて、空間変調素子30について説明す
る。
Next, the spatial modulator 30 will be described.

【0050】空間変調素子30としては、図5に示すよ
うに、光ビームを光変調するための反射面が一列に配置
された一次元の空間変調素子(同図(A))、およびア
レイ状に配置された二次元の空間変調素子(同図
(B))のどちらも利用可能である。空間変調素子30
の反射面の数は何ら限定されない。また、二次元空間変
調素子は、反射面数の縦横比も1対1に限らず、任意の
比率のものが利用可能である。
As the spatial modulation element 30, as shown in FIG. 5, a one-dimensional spatial modulation element in which reflecting surfaces for optically modulating a light beam are arranged in a line (FIG. 5A), and an array shape. Both of the two-dimensional spatial light modulators (FIG. 2B) arranged in the position can be used. Spatial modulator 30
The number of reflective surfaces of is not limited at all. Further, the two-dimensional spatial modulation element is not limited to the aspect ratio of the number of reflecting surfaces being 1: 1, and an arbitrary ratio can be used.

【0051】本実施形態の露光装置10では、図5に示
すように、実際に露光をするに際しては、変調後の光ビ
ームの解像点数を上げるために、空間変調素子30が所
定角度傾斜して使用される。
In the exposure apparatus 10 of the present embodiment, as shown in FIG. 5, in actual exposure, the spatial modulation element 30 is tilted by a predetermined angle in order to increase the number of resolution points of the modulated light beam. Used.

【0052】例えば、一次元空間変調素子の場合、図5
(A)に示すように、6個の反射面が20μmのピッチ
(走査線ピッチ)で一列に配置され、傾斜させていない
場合のトータルの走査幅(ライン方向)が100μmで
あるとすると、これを所定角度傾斜させて、例えば走査
線ピッチを5μm、トータルの走査幅を25μmとして
露光することができる。
For example, in the case of a one-dimensional spatial light modulator, FIG.
As shown in (A), assuming that six reflecting surfaces are arranged in a line at a pitch (scanning line pitch) of 20 μm, and the total scanning width (line direction) when not tilted is 100 μm, Can be exposed at a predetermined scanning angle of, for example, a scanning line pitch of 5 μm and a total scanning width of 25 μm.

【0053】また、二次元空間変調素子の場合は、同図
(B)に示すように、6×4個の反射面が20μmのピ
ッチ(走査線ピッチ)でアレイ状に配置され、傾斜させ
ていない場合のトータルの走査幅が100μmであると
すると、これを所定角度傾斜させて、例えば走査線ピッ
チを5μm、トータルの走査幅を115μmとして露光
することができる。
In the case of the two-dimensional spatial light modulator, as shown in FIG. 7B, 6 × 4 reflecting surfaces are arranged in an array at a pitch (scanning line pitch) of 20 μm and are inclined. If the total scan width is 100 μm when there is no such pattern, it can be exposed by inclining it by a predetermined angle, for example, with a scan line pitch of 5 μm and a total scan width of 115 μm.

【0054】二次元空間変調素子は、解像点数を上げる
ために傾斜させてもトータルの走査幅が狭くならず、ラ
インヘッドを構成する場合の空間変調素子30の部品点
数も、一次元空間変調素子よりも少数でよいという利点
があり好ましい。
The total scanning width of the two-dimensional spatial modulation element is not narrowed even if the two-dimensional spatial modulation element is tilted to increase the number of resolution points, and the number of parts of the spatial modulation element 30 when forming a line head is one-dimensional spatial modulation. This is preferable because it has the advantage of requiring a smaller number of devices.

【0055】なお、空間変調素子30を傾斜させて使用
した場合に、反射される光ビーム同士がオーバーラップ
して干渉する場合、図6に一例を示すように、ズームレ
ンズ32,34の構成部材の1つとしてマイクロレンズ
アレイ76およびアパーチャアレイ78を設け、マイク
ロレンズアレイ76により、空間変調素子30の個々の
反射面により反射される個々の光ビームのビーム径を絞
り、さらにアパーチャアレイ78を介して出力するのが
好ましい。
When the spatial light modulator 30 is tilted and used, when reflected light beams overlap and interfere with each other, as shown in an example in FIG. 6, components of the zoom lenses 32 and 34. As one of the above, a microlens array 76 and an aperture array 78 are provided. The microlens array 76 narrows the beam diameter of each light beam reflected by each reflection surface of the spatial modulation element 30, and further through the aperture array 78. It is preferable to output it.

【0056】前述の通り、本実施形態の露光ヘッド16
は、ラインヘッドを構成する複数の露光ユニット22を
備えている。それぞれの露光ユニット22は、可能な場
合には一列に配置してもよいが、現実的には、物理的な
サイズの問題から一列に配置するのは困難である。した
がって、図7に示すように、二列以上の複数列にわたっ
て配置するのが好ましい。この場合、それぞれの露光ユ
ニット22は、1ライン中の異なる箇所を露光可能なよ
うに互いにずらして配置される。
As described above, the exposure head 16 of the present embodiment.
Is provided with a plurality of exposure units 22 that form a line head. The respective exposure units 22 may be arranged in a line if possible, but in reality, it is difficult to arrange them in a line due to a physical size problem. Therefore, as shown in FIG. 7, it is preferable to arrange them in two or more rows. In this case, the respective exposure units 22 are arranged so as to be displaced from each other so that different portions in one line can be exposed.

【0057】図7(A)に示すように、空間変調素子3
0として、例えばDMDのような二次元空間変調素子を
使用した場合、前述のように、1つの露光ユニット22
当りの解像点数が大きく、露光ユニット22の部品点数
が少なくて済むので、容易にラインヘッドを構成可能で
ある。この場合、図1に示す露光装置10のように、露
光ヘッド16を固定し、ステージ14を搬送(副走査)
することにより、1回の定低速副走査で露光対象物20
の全面を露光可能である。
As shown in FIG. 7A, the spatial modulator 3
When a two-dimensional spatial modulation element such as DMD is used as 0, as described above, one exposure unit 22
Since the number of resolution points per hit is large and the number of parts of the exposure unit 22 is small, the line head can be easily constructed. In this case, like the exposure apparatus 10 shown in FIG. 1, the exposure head 16 is fixed and the stage 14 is transported (sub-scanning).
By doing so, the exposure target 20
The entire surface of can be exposed.

【0058】一方、図7(B)に示すように、空間変調
素子30として、例えばGLV素子のような一次元空間
変調素子を使用した場合、1つの露光ユニット22当り
の解像点数が小さく、露光ユニット22の部品点数が多
くなるので、1ライン中の一部だけを露光するように構
成する方が好ましい。この場合、例えばステージ14を
複数回高速搬送(主走査)し、さらに露光ヘッド16を
複数回高速搬送(副走査)することにより、露光対象物
20の全面を露光可能である。
On the other hand, as shown in FIG. 7B, when a one-dimensional spatial modulation element such as a GLV element is used as the spatial modulation element 30, the number of resolution points per exposure unit 22 is small, Since the number of components of the exposure unit 22 increases, it is preferable to expose only a part of one line. In this case, the entire surface of the exposure target 20 can be exposed by, for example, carrying the stage 14 a plurality of times at high speed (main scanning) and further exposing the exposure head 16 a plurality of times at high speed (sub scanning).

【0059】次に、本実施の形態の露光装置10の動作
を説明する。
Next, the operation of the exposure apparatus 10 of this embodiment will be described.

【0060】露光ヘッド16のレーザ光源24から出射
された光ビームは、レンズ26,28を介して空間変調
素子30に照射され、空間変調素子30によって同時に
変調される。駆動モータ36の駆動に伴い、ズームレン
ズ34が光軸に沿って移動され、ズームレンズ34によ
る露光倍率が調整される。空間変調素子30により変調
された光ビームは、ズームレンズ32,34を介して露
光対象物20の表面に所定の倍率で結像される。
The light beam emitted from the laser light source 24 of the exposure head 16 is applied to the spatial modulation element 30 via the lenses 26 and 28, and is simultaneously modulated by the spatial modulation element 30. With the driving of the drive motor 36, the zoom lens 34 is moved along the optical axis, and the exposure magnification by the zoom lens 34 is adjusted. The light beam modulated by the spatial modulator 30 is imaged at a predetermined magnification on the surface of the exposure target 20 via the zoom lenses 32 and 34.

【0061】露光開始時には、ステージ14が露光開始
位置(図1中矢印X方向の手前側)に移動される。ステ
ージ14上には露光対象物20が載置されており、その
配置は位置検出センサ18により検出される。
At the start of exposure, the stage 14 is moved to the exposure start position (front side in the direction of arrow X in FIG. 1). An exposure object 20 is placed on the stage 14, and its position is detected by the position detection sensor 18.

【0062】続いて、図示していないフレームメモリか
ら画像データが1ライン分読み出され、読み出された1
ライン分の画像データに応じて、空間変調素子46の反
射面のオンオフが制御される。これにより、露光ヘッド
16から出射される光ビームが、1ライン分の画像デー
タに応じて同時に変調されて各々オンオフされ、この光
ビームにより、露光対象物20に1ライン(図1中矢印
Y方向)分の画像が露光される。
Subsequently, one line of image data is read from a frame memory (not shown), and the read 1
ON / OFF of the reflection surface of the spatial modulation element 46 is controlled according to the image data of the line. As a result, the light beam emitted from the exposure head 16 is simultaneously modulated according to the image data for one line and turned on and off respectively, and this light beam causes one line to be exposed on the exposure target 20 (direction Y in FIG. 1). ) Minutes image is exposed.

【0063】そして、図示していないリニアモータ等の
駆動装置により、ステージ14が矢印X方向の奥手側に
1ライン分移動される(副走査)。以後、上記各工程を
繰り返し、最終的に、露光対象物10の全面に画像デー
タに対応した画像が露光される。
Then, the stage 14 is moved by one line to the depth side in the arrow X direction by a driving device such as a linear motor (not shown) (sub scanning). After that, the above steps are repeated, and finally the entire surface of the exposure object 10 is exposed with an image corresponding to the image data.

【0064】本実施形態の露光装置10では、高出力の
レーザ光源24を用いているので、紫外を含む所定波長
領域に感度を有する露光対象物を、デジタルデータに基
づいて直接走査露光することができる。これにより、プ
ロキシミティ方式の露光装置等のマスク露光による露光
装置と比べると、下記(1)〜(6)に示す利点があ
る。
Since the exposure apparatus 10 of this embodiment uses the high-power laser light source 24, an exposure object having sensitivity in a predetermined wavelength region including ultraviolet can be directly scanned and exposed based on digital data. it can. As a result, there are advantages shown in (1) to (6) below, as compared with an exposure apparatus that uses mask exposure such as a proximity exposure apparatus.

【0065】(1)マスクが不要でコストが削減できる
と共に製造時間を短縮することができる。これにより生
産性が向上する他、少量多品種の生産にも好適である。 (2)デジタルデータに基づいて直接走査露光するので
適宜データを補正することができ、高精度な保持機構、
アライメント機構、及び温度安定化機構が不要になり、
装置のコストダウンを図ることができると共に、高速化
及び高精細化が図られる。 (3)レーザ光源は超高圧水銀ランプに比べ安価で耐久
性に優れており、ランニングコストを低減することがで
きる。 (4)更に、レーザ光源は駆動電圧が低く消費電力を低
減できる。 (5)紫外領域に感度を有する材料だけでなくヒートモ
ード材料への記録も可能となる。 (6)特に、GaN系LDを用いた場合には、短パルス
露光により材料が熱の影響を受ける前に所定の反応を終
了させることができ、より高精細な描画(いわゆるキレ
のよい画像描画)が可能となる。
(1) Since a mask is not required, the cost can be reduced and the manufacturing time can be shortened. This improves the productivity and is also suitable for the production of a large number of small-lot products. (2) Since direct scanning exposure is performed based on digital data, the data can be appropriately corrected, and a highly accurate holding mechanism,
Alignment mechanism and temperature stabilization mechanism are unnecessary,
The cost of the device can be reduced, and high speed and high definition can be achieved. (3) The laser light source is cheaper and more durable than the ultra-high pressure mercury lamp, and the running cost can be reduced. (4) Further, the laser light source has a low driving voltage and can reduce power consumption. (5) It is possible to record not only on a material having sensitivity in the ultraviolet region but also on a heat mode material. (6) In particular, when a GaN-based LD is used, a predetermined reaction can be completed before the material is affected by heat by the short pulse exposure, and higher definition drawing (so-called sharp image drawing) can be performed. ) Is possible.

【0066】また、本発明の露光装置10の使用時に
は、各々の光源ユニット40の積算使用時間、または各
々の光源ユニット40の出力効率(例えば、LDの場合
には、その光出力÷駆動電流)の経時劣化率が測定され
る。
When the exposure apparatus 10 of the present invention is used, the cumulative use time of each light source unit 40 or the output efficiency of each light source unit 40 (for example, in the case of LD, its light output / driving current). The deterioration rate with time is measured.

【0067】ここで、光源ユニット40の積算使用時間
は、各光源ユニット40がオンしている時間を積算する
ことにより算出される。オン時間の積算方法は、例えば
制御CPU(中央演算装置)やコントローラ等の制御手
段により、光源ユニット40がオンしている時間をソフ
トウェアでカウントして算出してもよいし、あるいは各
光源ユニット40に、光源ユニット40がオンしている
時間をハードウェアでカウントするタイマー等を設ける
ようにしてもよい。
Here, the cumulative use time of the light source units 40 is calculated by integrating the time when each light source unit 40 is on. The method for accumulating the on-time may be calculated by counting the time during which the light source unit 40 is on with software by a control means such as a control CPU (central processing unit) or a controller, or each light source unit 40. In addition, a timer or the like for counting the time when the light source unit 40 is on by hardware may be provided.

【0068】また、光源ユニット40の出力効率の経時
劣化率は、例えばACC(Auto Current Contorol )回
路を用いることにより、各々の光源ユニット40におい
て、光源の駆動電流を常に一定とし、すなわち経時前お
よび経時後における駆動電流値を同じ値に設定し、各々
の光源ユニット40の経時前および経時後における光出
力の差に基づいて、各々の光源ユニット40の出力効率
の経時劣化率を測定することが可能である。
The deterioration rate of the output efficiency of the light source unit 40 with time is such that, for example, by using an ACC (Auto Current Control) circuit, the drive current of the light source is always constant in each light source unit 40, that is, before the aging and It is possible to set the drive current value after aging to the same value and measure the deterioration rate of the output efficiency of each light source unit 40 over time based on the difference in light output of each light source unit 40 before and after aging. It is possible.

【0069】あるいは、光源ユニット40の出力効率の
経時劣化率は、例えばAPC(AutoPower Contorol )
回路を用い、各々の光源ユニット40において、光源の
光出力を常に一定とし、すなわち経時前および経時後に
おける光出力を同じ値に設定し、各々の光源ユニット4
0の経時前および経時後における駆動電流値の差に基づ
いて、各々の光源ユニット40の出力効率の経時劣化率
を測定することが可能である。
Alternatively, the deterioration rate of the output efficiency of the light source unit 40 over time is determined by, for example, APC (AutoPower Controller).
The light output of the light source is always constant in each light source unit 40 by using a circuit, that is, the light output before and after the elapse of time is set to the same value.
It is possible to measure the deterioration rate of the output efficiency of each light source unit 40 with time, based on the difference between the driving current values before and after 0.

【0070】各光源ユニット40の積算使用時間、また
は各光源ユニット40の出力効率の経時劣化率の測定結
果は、自動ないし手動制御により、例えばディスプレイ
等の表示手段に表示したり、プリンタ等の出力手段に出
力可能である。
The accumulated use time of each light source unit 40 or the measurement result of the deterioration rate of the output efficiency of each light source unit 40 with time is displayed on a display means such as a display or output from a printer by automatic or manual control. It is possible to output to the means.

【0071】例えば、各々の光源ユニット40および各
々の露光ユニット22に通し番号を付けておき、どの光
源ユニット40がどの露光ユニット22に接続され、ど
の光源ユニット40の積算使用時間が長いのか短いの
か、またはどの光源ユニット40の出力効率の経時劣化
率がよいのか悪いのか等の情報が、例えば積算使用時間
の長い光源ユニット40から順に、または出力効率の経
時劣化率の悪い順に表示または出力される。
For example, serial numbers are assigned to each light source unit 40 and each exposure unit 22, which light source unit 40 is connected to which exposure unit 22, and which light source unit 40 has a long or short cumulative use time. Alternatively, information such as which of the light source units 40 has the good or bad output efficiency deterioration with time is displayed or output, for example, in order from the light source unit 40 having the longest cumulative use time or in the order of poor output efficiency deterioration with time.

【0072】これにより、本露光装置10の使用者ない
し管理者は、各光源ユニット40の積算使用時間または
各光源ユニット40の出力効率の経時劣化率と、現在の
各光源ユニット40と各露光ユニット22との接続状況
を容易に知ることができる。
As a result, the user or administrator of the exposure apparatus 10 can determine the cumulative use time of each light source unit 40 or the deterioration rate of the output efficiency of each light source unit 40 over time, and the current light source unit 40 and each exposure unit. The connection status with 22 can be easily known.

【0073】この場合、露光装置10の使用者ないし管
理者は、各光源ユニット40の積算使用時間または各光
源ユニット40の出力効率の経時劣化率の測定結果を見
て、全ての光源ユニット40の積算使用時間を平均化す
るように、光コネクタ76の部分で光ファイバ42を外
し、積算使用時間の長い光源ユニット40と短い光源ユ
ニット40とを各自の判断で接続し直す。あるいは、出
力効率の劣化率の悪い光源ユニット40と良い光源ユニ
ット40とを接続し直す。
In this case, the user or the administrator of the exposure apparatus 10 looks at the cumulative use time of each light source unit 40 or the measurement result of the deterioration rate of the output efficiency of each light source unit 40 over time, and checks all the light source units 40. In order to average the accumulated use time, the optical fiber 42 is removed at the optical connector 76, and the light source unit 40 having a long accumulated use time and the light source unit 40 having a short accumulated use time are reconnected at their own discretion. Alternatively, the light source unit 40 having a poor output efficiency deterioration rate and the good light source unit 40 are reconnected.

【0074】なお、制御手段は、各光源ユニット40の
積算使用時間または出力効率の経時劣化率に基づいて、
どの光源ユニット40から出射する光ビームをどの露光
ユニット22に接続するのかを指示する情報を表示手段
に表示、または出力手段に出力するようにさせることも
可能である。
The control means is based on the cumulative use time of each light source unit 40 or the deterioration rate of the output efficiency over time.
It is also possible to display information indicating which light source unit 40 the light beam emitted from which light source unit 40 is connected to which exposure unit 22 on the display unit or output the information to the output unit.

【0075】例えば、図9に示すように、各々の光源ユ
ニット40および各々の露光ユニット22に通し番号を
付けておき、各光源ユニット40の積算使用時間または
出力効率の経時劣化率の統計結果に基づいて、積算使用
時間の長い順、または出力効率の経時劣化率の悪い順に
全ての光源ユニット40の番号を表示装置上に表示す
る。また、これに併せて、どの露光ユニット22がどの
光源ユニット40に接続されているのかという情報も表
示する。
For example, as shown in FIG. 9, each light source unit 40 and each exposure unit 22 are serially numbered, and based on the statistical results of the cumulative use time or output efficiency deterioration rate of each light source unit 40. Then, the numbers of all the light source units 40 are displayed on the display device in the order of the longest cumulative usage time or in the order of the deterioration rate of the output efficiency with time. In addition to this, information on which exposure unit 22 is connected to which light source unit 40 is also displayed.

【0076】そして、例えば接続順を逆転させて積算使
用時間の短い順、または経時劣化率の良い順に各光源ユ
ニット40と各露光ユニット22とを接続を変更するよ
うに指示する。
Then, for example, the connection order is reversed to instruct to change the connection between each light source unit 40 and each exposure unit 22 in the order of shorter cumulative usage time or in order of better deterioration rate over time.

【0077】図9は、1〜7の7個の光源ユニット40
および露光ユニット22がある場合の例であり、図中左
欄には、積算使用時間の長い順または出力効率の経時劣
化率の悪い順に光源ユニット40番号1,2,3,4,
5,6,7が表示されている。また、同中央欄には、現
在の接続先の露光ユニット22番号6,4,1,3,
2,5,7が表示され、同右欄には、その接続順を逆転
させた変更後の接続先の露光ユニット22番号7,5,
2,3,1,4,6が表示されている。
FIG. 9 shows seven light source units 40 of 1-7.
And the exposure unit 22 are provided. In the left column in the figure, the light source units 40 are numbered 1, 2, 3, 4, in the order of long cumulative use time or in the order of poor output efficiency deterioration over time.
5, 6, and 7 are displayed. Further, in the center column, the exposure unit 22 number 6, 4, 1, 3, which is the current connection destination is shown.
2, 5, and 7 are displayed. In the same right column, the exposure unit 22 number 7, 5, which is the connection destination after changing the connection order is changed.
2, 3, 1, 4, 6 are displayed.

【0078】これにより、本露光装置10の使用者ない
し管理者は、制御手段により指示された情報通りに各光
源ユニット40と各露光ユニット22との間を接続し直
すだけで、各光源ユニット40の積算使用時間または出
力効率の経時劣化率を平均化することでき、光源ユニッ
ト40の残寿命を延長することができる。その結果、光
源ユニット40の交換やメンテナンスの周期を長周期化
することができ、その分コストを削減することができ
る。
As a result, the user or the administrator of the exposure apparatus 10 simply reconnects the light source units 40 and the exposure units 22 according to the information instructed by the control means, and the light source units 40. It is possible to average the cumulative use time or the deterioration rate of the output efficiency over time, and it is possible to extend the remaining life of the light source unit 40. As a result, the replacement or maintenance cycle of the light source unit 40 can be lengthened, and the cost can be reduced accordingly.

【0079】なお、各々の光源ユニット40の積算使用
時間および各々の光源ユニット40の出力効率の経時劣
化率の測定方法は何ら限定されず、上記以外の他の方法
によって測定してもよい。また、各光源ユニット40の
積算使用時間および出力効率の経時劣化率を平均化する
ための、各光源ユニット40と各露光ユニット22との
接続の変更方法も上記一例に何ら限定されず、必要に応
じて各種の接続変更方法が利用可能である。
The method of measuring the cumulative use time of each light source unit 40 and the deterioration rate of the output efficiency of each light source unit 40 over time is not limited in any way, and it may be measured by a method other than the above. Further, the method of changing the connection between each light source unit 40 and each exposure unit 22 for averaging the cumulative use time of each light source unit 40 and the deterioration rate of the output efficiency over time is not limited to the above example, and may be changed as necessary. Various connection changing methods can be used accordingly.

【0080】また、本発明は、各種形態の露光装置、例
えばPWB(プリント基板)露光装置、FPD(フラッ
トパネルディスプレイ)露光装置、光造形装置、粉末焼
結造形装置等の空間変調素子用の照明用光源として好適
に利用可能である。
The present invention is also applicable to various types of exposure apparatuses, for example, PWB (printed circuit board) exposure apparatus, FPD (flat panel display) exposure apparatus, stereolithography apparatus, powder sintering modeling apparatus, and other illumination for spatial modulation elements. It can be suitably used as a light source for use.

【0081】本発明の露光装置は、基本的に以上のよう
なものである。以上、本発明の露光装置について詳細に
説明したが、本発明は上記実施例に限定されず、本発明
の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更を
してもよいのはもちろんである。
The exposure apparatus of the present invention is basically as described above. Although the exposure apparatus of the present invention has been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and it goes without saying that various improvements and modifications may be made without departing from the spirit of the present invention. .

【0082】[0082]

【発明の効果】以上詳細に説明した様に、本発明の露光
装置は、各々の光源ユニットの積算使用時間または出力
効率の経時劣化率を測定し、この測定結果に基づいて、
切り替え手段により各光源ユニットと各露光ユニットと
の間の接続を切り替えるようにしたものである。これに
より、本発明の露光装置によれば、各光源ユニットの積
算使用時間または出力効率の経時劣化率を平均化するこ
とができ、光源ユニットの交換、メンテナンス周期を延
長して、その分のコストを削減することができる。
As described in detail above, the exposure apparatus of the present invention measures the cumulative use time of each light source unit or the deterioration rate of output efficiency over time, and based on the measurement results,
The switching means switches the connection between each light source unit and each exposure unit. As a result, according to the exposure apparatus of the present invention, it is possible to average the cumulative use time of each light source unit or the deterioration rate of the output efficiency over time, extend the light source unit replacement and maintenance cycles, and reduce the cost. Can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明を適用する露光装置の一実施例の構成
概略図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of an exposure apparatus to which the present invention is applied.

【図2】 露光ユニットの一実施例の構成概略図であ
る。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an embodiment of an exposure unit.

【図3】 レーザ光源の一実施例の構成概略図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an embodiment of a laser light source.

【図4】 (A)および(B)は、合波モジュールの構
成を表す一実施例の上面図および断面図である。
FIG. 4A and FIG. 4B are a top view and a cross-sectional view of an example showing a configuration of a multiplexing module.

【図5】 (A)および(B)は、それぞれ一次元空間
変調素子および二次元空間変調素子の使用方法を表す一
実施例の構成概略図である。
5A and 5B are schematic configuration diagrams of one embodiment showing a method of using a one-dimensional spatial modulation element and a two-dimensional spatial modulation element, respectively.

【図6】 ズームレンズの一実施例の構成概略図であ
る。
FIG. 6 is a schematic diagram of a configuration of an example of a zoom lens.

【図7】 (A)および(B)は、それぞれ二次元光変
調素子および一次元光変調素子を用いた露光ヘッドの配
置および露光方法を表す一実施例の構成概略図である。
FIG. 7A and FIG. 7B are schematic configuration diagrams of an example showing an arrangement of an exposure head and an exposure method using a two-dimensional light modulation element and a one-dimensional light modulation element, respectively.

【図8】 露光ヘッドの一実施例の構成概略図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram of an example of an exposure head.

【図9】 光源ユニットと露光ユニットとの間の接続を
変更する方法を表す一例の概略図である。
FIG. 9 is a schematic view showing an example of a method for changing the connection between the light source unit and the exposure unit.

【図10】 (A)および(B)は、それぞれ左寄せお
よびセンター寄せで露光を行う場合の一例の概略図であ
る。
FIG. 10A and FIG. 10B are schematic diagrams of an example in which exposure is performed by left alignment and center alignment, respectively.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 露光装置 12 基台 12a 支持部材 12b ガイド 14 ステージ 16 露光ヘッド 18 位置検出センサ 20 露光対象物 22 露光ユニット 24 レーザ光源 26,28 レンズ 30 空間変調素子 32,34 ズームレンズ 38 ケーシング 40 光源ユニット 42 光ファイバ 44 半導体レーザ 46 合波モジュール 48 半導体レーザチップ 50,54 ヒートシンクブロック 52 発光点 56 窒化ガリウム系半導体レーザ 58 コリメータレンズ 60 集光レンズ 62 パッケージ 64 パッケージ蓋 68 コリメータレンズホルダ 70 集光レンズホルダ 72 ファイバホルダ 74 配線 76 光コネクタ 78 ラインヘッド 10 Exposure equipment 12 bases 12a support member 12b guide 14 stages 16 exposure head 18 Position detection sensor 20 Object to be exposed 22 Exposure unit 24 laser light source 26,28 lens 30 spatial modulator 32, 34 zoom lens 38 casing 40 light source unit 42 optical fiber 44 Semiconductor laser 46 Multiplexing module 48 Semiconductor laser chip 50,54 Heat sink block 52 Light emission point 56 Gallium Nitride Semiconductor Laser 58 Collimator lens 60 condenser lens 62 packages 64 package lid 68 Collimator lens holder 70 Condenser lens holder 72 Fiber holder 74 wiring 76 Optical connector 78 line head

フロントページの続き (72)発明者 和田 光示 神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地 富 士写真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H097 AA03 CA17 LA09 LA10 Continued front page    (72) Inventor Kouji Wada             798 Miyadai, Kaisei-cho, Ashigarakami-gun, Kanagawa Prefecture             Shishi Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H097 AA03 CA17 LA09 LA10

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光ビームを出射する複数の光源ユニット
と、前記光源ユニットから出射される光ビームを画像デ
ータに応じて変調する複数の露光ユニットとを備え、露
光対象物のサイズに対応する一部または全部の前記光源
ユニットおよび前記露光ユニットを使用して、前記露光
対象物を直接露光する露光ヘッドを備える露光装置であ
って、 各々の前記光源ユニットの積算使用時間または出力効率
の経時劣化率を測定する手段と、各々の前記光源ユニッ
トと各々の前記露光ユニットとの間の接続を任意に切り
替え可能な切り替え手段とを備えることを特徴とする露
光装置。
1. A light source unit which emits a light beam, and a plurality of exposure units which modulate the light beam emitted from the light source unit according to image data, the light source unit corresponding to a size of an object to be exposed. An exposure apparatus comprising an exposure head that directly exposes the exposure target using all or all of the light source units and the exposure unit, wherein the cumulative use time of each of the light source units or the deterioration rate of output efficiency over time. An exposure apparatus comprising: a means for measuring the light source; and a switching means capable of arbitrarily switching a connection between each of the light source units and each of the exposure units.
【請求項2】前記露光ヘッドは、同時に1ライン分の画
像を露光可能なラインヘッドであることを特徴とする請
求項1に記載の露光装置。
2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the exposure head is a line head capable of simultaneously exposing an image of one line.
【請求項3】前記切り替え手段は、各々の前記光源ユニ
ットと各々の前記露光ユニットとの間に設けられる光フ
ァイバおよび光コネクタであることを特徴とする請求項
1または2に記載の露光装置。
3. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the switching means is an optical fiber and an optical connector provided between each of the light source units and each of the exposure units.
【請求項4】前記経時劣化率を測定する手段は、各々の
前記光源ユニットについて、経時前および経時後におけ
る駆動電流値を同じ値に設定し、各々の前記光源ユニッ
トの経時前および経時後における光出力の差に基づい
て、各々の前記光源ユニットの出力効率の経時劣化率を
測定することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記
載の露光装置。
4. The means for measuring the deterioration rate with time sets, for each of the light source units, a drive current value before and after the passage of time to the same value, and The exposure apparatus according to claim 1, wherein the deterioration rate of the output efficiency of each of the light source units with time is measured based on the difference in light output.
【請求項5】前記経時劣化率を測定する手段は、各々の
前記光源ユニットについて、経時前および経時後におけ
る光出力を同じ値に設定し、各々の前記光源ユニットの
経時前および経時後における駆動電流値の差に基づい
て、各々の前記光源ユニットの出力効率の経時劣化率を
測定することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記
載の露光装置。
5. The means for measuring the deterioration rate with time sets, for each of the light source units, the same light output before and after the aging, and drives each of the light source units before and after the aging. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the deterioration rate of the output efficiency of each of the light source units with time is measured based on the difference in current value.
【請求項6】前記光源ユニットは、半導体レーザで構成
されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに
記載の露光装置。
6. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the light source unit is composed of a semiconductor laser.
【請求項7】前記光源ユニットは、複数の半導体レーザ
から出射される光ビームを合波し、光ファイバに光結合
したものであることを特徴とする請求項6に記載の露光
装置。
7. The exposure apparatus according to claim 6, wherein the light source unit is one that multiplexes light beams emitted from a plurality of semiconductor lasers and optically couples them to an optical fiber.
【請求項8】請求項1〜7のいずれかに記載の露光装置
であって、 さらに、各々の前記光源ユニットの積算使用時間または
各々の前記光源ユニットの出力効率の経時劣化率に基づ
いて、どの前記光源ユニットから出射する光ビームをど
の前記露光ユニットに接続するのかを指示する手段を備
えることを特徴とする露光装置。
8. The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 7, further comprising: a cumulative deterioration time of each light source unit or a deterioration rate of output efficiency of each light source unit with time, An exposure apparatus comprising means for instructing which exposure unit a light beam emitted from which light source unit is connected.
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