JP2003337237A - Optical communication component and laminated optical communication module - Google Patents

Optical communication component and laminated optical communication module

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JP2003337237A
JP2003337237A JP2003069866A JP2003069866A JP2003337237A JP 2003337237 A JP2003337237 A JP 2003337237A JP 2003069866 A JP2003069866 A JP 2003069866A JP 2003069866 A JP2003069866 A JP 2003069866A JP 2003337237 A JP2003337237 A JP 2003337237A
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waveguide
optical
optical communication
groove
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JP2003069866A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiro Umebayashi
信弘 梅林
Hideo Daimon
英夫 大門
Tetsuhiko Sanpei
哲彦 三瓶
Akito Sakamoto
章人 酒本
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Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical communication component which has high transmission efficiency of light in a waveguide and can be made small by steep bending of an optical path and to provide an optical communication module. <P>SOLUTION: In this optical communication component which has a substrate and the waveguide formed inside the substrate, wherein at least one end of the waveguide can optically coupled to an external optical path, the waveguide includes a cavity formed inside the substrate and a reflection film covering the wall surface of the cavity and transmits light inside the cavity. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信に用いられ
る光通信部品、および、光通信部品を構成するための積
層型光通信モジュールに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical communication component used for optical communication and a laminated optical communication module for forming the optical communication component.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、インターネットの普及により、音
楽や動画像、コンピュータデータなどの大量の情報を高
速に送受信する必要が生じている。光ファイバーを用い
たデータの送受信では転送速度が家庭用で100Mbp
s以上であり、一般家庭に普及している電話回線を用い
たモデムやISDNに比べ、約3桁程度高速にデータを
送受信できる。さらに、基幹系では10〜40Gbps
に達している。また、近年、光多重通信という新しい技
術が登場し、さらなる高速化と大容量化が可能となって
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of the Internet, it has become necessary to transmit and receive a large amount of information such as music, moving images and computer data at high speed. For data transmission / reception using optical fibers, the transfer rate is 100 Mbp for home use.
s or more, and data can be transmitted and received at a speed of about 3 digits faster than a modem or ISDN using a telephone line which is widely used in ordinary households. Furthermore, in the backbone system, 10-40 Gbps
Has reached. In addition, in recent years, a new technology called optical multiplex communication has appeared, and it has become possible to further increase speed and capacity.

【0003】このような光通信の発達に伴い、光通信部
品の分野においては、光ファイバなどの光導波路と、受
光素子または発光素子などの素子とを、光学的に結合さ
せる技術の発展が求められることが予想される。
With the development of such optical communication, in the field of optical communication components, the development of a technique for optically coupling an optical waveguide such as an optical fiber and an element such as a light receiving element or a light emitting element is required. Expected to be

【0004】従来、光ファイバと発光素子とを光学的に
結合する場合には、発光素子からの光をレンズによって
集光し、光ファイバに結合させる構造としていた(特許
文献1)。
Conventionally, in the case of optically coupling an optical fiber and a light emitting element, light from the light emitting element is condensed by a lens and coupled to the optical fiber (Patent Document 1).

【0005】一方、光導波路と、発光素子や受光素子を
レンズ等の光学系を用いないで結合する方法もある。半
導体レーザと光ファイバとを直接結合する方法では、光
ファイバの先端を切断し、チップボンディングを行える
ように外殻フェルールをL字型に切り欠き、その部分を
半導体レーザとを密着させて、光ファイバのコアの中心
と半導体レーザチップの発光点の中心とを一致させてい
る(特許文献2)。また、半導体レーザチップと光導波
路とを直接光結合する方法では、半導体レーザの活性層
端面と光導波路端面との間に間隙を設けて、この両者を
対向させることにより、直接光導波路に光結合している
(特許文献3)。
On the other hand, there is also a method of coupling an optical waveguide and a light emitting element or a light receiving element without using an optical system such as a lens. In the method of directly connecting the semiconductor laser and the optical fiber, the tip of the optical fiber is cut, and the outer shell ferrule is cut out into an L-shape so that chip bonding can be performed, and that portion is brought into close contact with the semiconductor laser to make the optical fiber. The center of the fiber core is aligned with the center of the light emitting point of the semiconductor laser chip (Patent Document 2). Further, in the method of directly optically coupling the semiconductor laser chip and the optical waveguide, a gap is provided between the end surface of the active layer of the semiconductor laser and the end surface of the optical waveguide, and the two are opposed to each other to directly optically couple the optical waveguide. (Patent Document 3).

【0006】このような従来の光結合方法では、いずれ
の方法においても、発光素子の発光面と光導波路との間
に光学距離が生じたり、発光素子と光導波路との間に種
々の光学系を設けたりするため、発光素子からの光を効
率良く光導波路に入射させることが難しく、部品のコン
パクト化が困難であるという問題点がある。
In any of these conventional optical coupling methods, an optical distance is generated between the light emitting surface of the light emitting element and the optical waveguide, or various optical systems are provided between the light emitting element and the optical waveguide. However, it is difficult to make the light from the light emitting element enter the optical waveguide efficiently, and it is difficult to make the components compact.

【0007】かかる観点より、多くの光処理機能を実現
でき、且つ、コンパクト化が容易な光結合構造が提案さ
れている。例えば、コンパクトな集積型光回路を実現す
る手段として、複数の基板を立体的に配置した5層導波
路構造からなる光結合装置が開示されている(特許文献
4)。しかしながら、この文献には、立体光回路装置の
例が示されてはいるが、垂直光路と水平光路との接続に
は、外界空気と基板との屈折率差を利用した方法が採用
されている。そのため、垂直光路と水平光路との間の光
パワー移行には、いわゆる完全結合長が必要となる。従
って、光路を急屈曲することができない。また、それゆ
えに、複数の水平回路基板を重ね合わせて立体光回路を
構成する場合、水平回路基板同士間に所定の間隔をあけ
る必要が生じるため、水平回路基板の積層密着ができな
い。
From this point of view, there has been proposed an optical coupling structure which can realize many optical processing functions and can be easily made compact. For example, as a means for realizing a compact integrated optical circuit, an optical coupling device having a five-layer waveguide structure in which a plurality of substrates are three-dimensionally arranged is disclosed (Patent Document 4). However, although an example of a three-dimensional optical circuit device is shown in this document, a method utilizing the difference in refractive index between the ambient air and the substrate is adopted for connecting the vertical optical path and the horizontal optical path. . Therefore, so-called perfect coupling length is required for the optical power transition between the vertical optical path and the horizontal optical path. Therefore, the optical path cannot be sharply bent. Further, therefore, when a plurality of horizontal circuit boards are stacked to form a three-dimensional optical circuit, it is necessary to provide a predetermined space between the horizontal circuit boards, so that the horizontal circuit boards cannot be laminated and adhered to each other.

【0008】一方、特許文献5には、光導波路内面に反
射層を設ける例が示されている。しかし、この反射層の
形成は、レーザ加工機用の可撓性チューブの内面に施す
ものである。すなわち、光路を急屈曲することは示され
ておらず、また立体光回路を開示したものではない。ま
た、同公報第1図には、従来のレーザ加工機の光路が空
間と反射鏡とで構成されていたことを示してはいるが、
基板内部に光路を形成したものではない。
On the other hand, Patent Document 5 discloses an example in which a reflective layer is provided on the inner surface of the optical waveguide. However, this reflective layer is formed on the inner surface of a flexible tube for a laser beam machine. That is, it is not shown that the optical path is sharply bent, and the three-dimensional optical circuit is not disclosed. Further, although FIG. 1 of the same publication shows that the optical path of the conventional laser processing machine is composed of a space and a reflecting mirror,
The optical path is not formed inside the substrate.

【0009】また、特許文献6には、金よりなる中空導
波路を形成することが開示されている。しかし、外殻と
して残る金の光管は急屈曲させるのではなく、螺旋状に
形成されている。この光管方式で急屈曲させると、管内
の光路の確保が難しくなる。
Further, Patent Document 6 discloses forming a hollow waveguide made of gold. However, the gold light tube that remains as the outer shell is formed in a spiral shape rather than being bent sharply. If this light tube system is used for sharp bending, it becomes difficult to secure an optical path inside the tube.

【0010】特許文献7には、シリコン基板表面に異方
性エッチングによるV溝を形成し、その斜面に反射膜を
形成し、このV溝中に光ファイバを埋め込むことが開示
されている。発光または受光素子と光ファイバとは、前
記反射膜を介して結合される。しかし、この方法では、
光ファイバを直線状に並べなければならず、水平面に自
由に屈曲する導波路を形成することができない。
Patent Document 7 discloses that a V groove is formed on the surface of a silicon substrate by anisotropic etching, a reflection film is formed on the slope, and an optical fiber is embedded in the V groove. The light emitting or light receiving element and the optical fiber are coupled via the reflection film. But with this method,
The optical fibers must be arranged in a straight line, and a waveguide that bends freely in a horizontal plane cannot be formed.

【0011】特許文献8には、導波路基板からの迷光を
遮蔽するために、導波路形成された基板の上面、下面お
よび側面を全てメタライズすることが開示されている。
しかし、導波路自体をメタライズし、光路を急屈曲させ
ることは開示されていない。
[0011] Patent Document 8 discloses that all of the upper surface, the lower surface and the side surface of the substrate on which the waveguide is formed are metallized in order to shield stray light from the waveguide substrate.
However, there is no disclosure of metallizing the waveguide itself and sharply bending the optical path.

【0012】特許文献9には、オプトエレクトロニクス
デバイスのアッセンブリとして、シリコン基板内に溝部
が設けられ、前記溝部の端面部上に部分的に反射器が形
成されたものが記載されている。この装置においては、
前記溝部に光ファイバーが挿着され、反射器の上方にデ
バイスが配置され、これにより、光ファイバとデバイス
とが反射器を介して結合される。しかしながら、この装
置においては、デバイスへの光の伝送を光ファイバーに
より実現するため、装置のコンパクト化に限界がある。
[0012] Patent Document 9 describes an assembly of an optoelectronic device in which a groove portion is provided in a silicon substrate and a reflector is partially formed on an end face portion of the groove portion. In this device,
An optical fiber is inserted into the groove and a device is arranged above the reflector, whereby the optical fiber and the device are coupled via the reflector. However, in this device, since optical transmission to the device is realized by an optical fiber, there is a limit to downsizing the device.

【0013】特許文献10には、基板上に塗膜であるレ
ジスト層を形成し、このレジスト内に空洞を形成し、こ
の空洞の内壁に反射膜を形成してなる導波路が記載され
ている。しかしながら、この導波路は、基板ではなく、
その上に形成されたレジスト層内に形成される。レジス
トは、外部環境(例えば、温度)や応力の影響により変
形し易いため、このようなレジスト層内に形成される導
波路では、十分な耐久性の確保が困難である。
Patent Document 10 describes a waveguide in which a resist layer which is a coating film is formed on a substrate, a cavity is formed in the resist, and a reflection film is formed on the inner wall of the cavity. . However, this waveguide is not a substrate,
It is formed in the resist layer formed thereon. Since the resist is easily deformed by the influence of the external environment (for example, temperature) or stress, it is difficult to secure sufficient durability in the waveguide formed in such a resist layer.

【0014】[0014]

【特許文献1】特開昭61−93419号公報[Patent Document 1] JP-A-61-93419

【0015】[0015]

【特許文献2】特開昭63−253315号公報[Patent Document 2] Japanese Patent Laid-Open No. 63-253315

【0016】[0016]

【特許文献3】特開平3−39913号公報[Patent Document 3] Japanese Patent Laid-Open No. 3-39913

【0017】[0017]

【特許文献4】特開昭61−148406号公報[Patent Document 4] JP-A-61-148406

【0018】[0018]

【特許文献5】特開昭54−139847号公報[Patent Document 5] Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-139847

【0019】[0019]

【特許文献6】特開平2−73311号公報[Patent Document 6] JP-A-2-73311

【0020】[0020]

【特許文献7】特開平10−170765号公報[Patent Document 7] Japanese Patent Laid-Open No. 10-170765

【0021】[0021]

【特許文献8】特開2001−133645号公報[Patent Document 8] Japanese Patent Laid-Open No. 2001-133645

【0022】[0022]

【特許文献9】特開平2−9183号公報[Patent Document 9] Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 2-9183

【0023】[0023]

【特許文献10】特開平5−264833号公報[Patent Document 10] JP-A-5-264833

【0024】[0024]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来の
問題点を解決するためになされたものであり、外部光路
からの光を導波路において効率良く伝送でき、かつ、光
路の急屈曲により部品の小型化を図ることが可能な光通
信部品および光通信モジュールを提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art. It is possible to efficiently transmit light from an external optical path through a waveguide, and to make a sharp bend in the optical path. An object of the present invention is to provide an optical communication component and an optical communication module that can reduce the size of the component.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の一側面は、基板と、前記基板の内部に形成
された導波路とを有し、前記導波路の少なくとも一端が
外部光路と光学的に結合され得る光通信部品であって、
前記導波路は、前記基板の内部に形成された空洞と、前
記空洞の壁面を被覆する反射膜とを含み、前記空洞内で
光を伝送するものである光通信部品である。
To achieve the above object, one aspect of the present invention includes a substrate and a waveguide formed inside the substrate, and at least one end of the waveguide is an external optical path. An optical communication component that can be optically coupled to
The waveguide is an optical communication component that includes a cavity formed inside the substrate and a reflective film that covers a wall surface of the cavity, and transmits light in the cavity.

【0026】また、本発明の別の側面は積層型光通信モ
ジュールである。このモジュールは、基板と、前記基板
の内部に形成され、前記基板の厚み方向に光を伝送する
垂直導波路と、前記基板の内部に形成され、前記基板の
面内方向に光を伝送する水平導波路と、前記垂直導波路
と前記水平導波路とを光学的に結合する光屈曲部とを備
え、前記基板は、表面に溝が形成され、前記溝の少なく
とも一端に反射鏡が配置された第1の基板と、前記第1
の基板の前記溝が形成された面に密着積層され、前記溝
の前記反射鏡が配置された部分と連通する位置に貫通孔
が形成された第2の基板とを含む積層体であり、前記水
平導波路は、前記溝によって形成された空洞と、前記空
洞の壁面を被覆する反射膜とを含み、前記空洞内で光を
伝送するものであり、前記垂直導波路は、前記貫通孔に
よって形成された空洞と、前記空洞の壁面を被覆する反
射膜とを含み、前記空洞内で光が伝送するものであり、
前記光屈曲部は前記反射鏡を含み、前記反射鏡表面での
反射によって、光の伝送方向を、前記基板の厚み方向か
ら面内方向へ、または、前記基板の面内方向から厚み方
向へ変化させるものである。
Another aspect of the present invention is a laminated optical communication module. The module includes a substrate, a vertical waveguide formed inside the substrate and transmitting light in a thickness direction of the substrate, and a horizontal waveguide formed inside the substrate and transmitting light in an in-plane direction of the substrate. The substrate includes a waveguide and an optical bending portion that optically couples the vertical waveguide and the horizontal waveguide. The substrate has a groove formed on a surface thereof, and a reflecting mirror is arranged at at least one end of the groove. A first substrate and the first
And a second substrate which is laminated in close contact with the surface of the substrate on which the groove is formed and which has a through hole formed at a position communicating with the portion of the groove where the reflection mirror is arranged, The horizontal waveguide includes a cavity formed by the groove and a reflection film that covers the wall surface of the cavity, and transmits light in the cavity. The vertical waveguide is formed by the through hole. And a reflective film that covers the wall surface of the cavity, wherein light is transmitted in the cavity,
The light bending portion includes the reflecting mirror, and changes the transmission direction of light from the thickness direction of the substrate to the in-plane direction or from the in-plane direction of the substrate to the thickness direction by reflection on the reflecting mirror surface. It is what makes me.

【0027】また、本発明の別の側面は、複数の光通信
モジュールが互いに光学的に結合されてなる光通信部品
であって、前記光通信モジュールの少なくとも1つが前
記本発明の積層型光通信モジュールである光通信部品で
ある。
Another aspect of the present invention is an optical communication component in which a plurality of optical communication modules are optically coupled to each other, and at least one of the optical communication modules is the stacked optical communication of the present invention. An optical communication component that is a module.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】本発明の光通信部品は、基板と、
前記基板の内部に形成された導波路とを有し、前記導波
路の少なくとも一端が外部光路と光学的に結合され得る
光通信部品であって、前記導波路は、前記基板の内部に
形成された空洞と、前記空洞の壁面を被覆する反射膜と
を含み、前記空洞内で光を伝送するものであることを特
徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An optical communication component of the present invention comprises a substrate,
A waveguide formed inside the substrate, wherein at least one end of the waveguide is optically coupled with an external optical path, the waveguide being formed inside the substrate. And a reflection film that covers the wall surface of the cavity, and transmits light in the cavity.

【0029】このような構成の光通信部品は、導波路の
内壁が反射膜で被覆されているため、光の伝送光率が高
い。
The optical communication component having such a structure has a high light transmission rate because the inner wall of the waveguide is covered with the reflective film.

【0030】また、前記光通信部品によれば、光路を急
屈曲できるため、部品の小型化を図ることができる。光
路を屈曲させる場合、前記導波路に光屈曲部を形成し、
この光屈曲部において、前記導波路の空洞壁面を光の伝
送方向に対して傾斜させればよい。この傾斜面が、反射
膜で被覆されることにより、光の伝送方向を変化させる
ための反射鏡として機能することができる。
Further, according to the optical communication component, since the optical path can be sharply bent, the component can be downsized. When bending the optical path, forming a light bent portion in the waveguide,
In this light bent portion, the cavity wall surface of the waveguide may be inclined with respect to the light transmission direction. By coating this inclined surface with a reflective film, it can function as a reflecting mirror for changing the light transmission direction.

【0031】前記光通信部品においては、前記基板が、
表面に溝が形成された第1の基板と、前記第1の基板の
前記溝が形成された面に密着積層された第2の基板とを
含む積層体であり、前記導波路の空洞が前記溝によって
形成されていることが好ましい。このような光通信部品
は、その作製が容易であるという利点を有しており、複
雑な形状の導波路とすることが可能である。
In the optical communication component, the substrate is
A laminated body including a first substrate having a groove formed on its surface and a second substrate closely laminated on the surface of the first substrate having the groove formed, wherein the cavity of the waveguide is It is preferably formed by a groove. Such an optical communication component has an advantage that it can be easily manufactured, and can be a waveguide having a complicated shape.

【0032】また、前記光通信部品においては、前記導
波路の一端と光学的に結合された光回路素子を含み、前
記導波路の一端が、前記光回路素子を介して、前記外部
光路と光学的に結合され得ることが好ましい。光回路素
子としては、例えば、受動型光素子を使用することがで
きる。また、その具体例としては、回折格子、光学フィ
ルター、光スイッチ、アッティネータなどが挙げられ
る。このような光回路素子を光通信部品内に設けること
により、入出射光の分波や合波などが可能となる。
Further, the optical communication component includes an optical circuit element optically coupled to one end of the waveguide, and one end of the waveguide is optically connected to the external optical path via the optical circuit element. It is preferable that they can be bound together. As the optical circuit element, for example, a passive optical element can be used. Further, specific examples thereof include a diffraction grating, an optical filter, an optical switch, an attenuator and the like. By providing such an optical circuit element in an optical communication component, it is possible to demultiplex or combine incoming and outgoing light.

【0033】また、前記光通信部品においては、前記導
波路の一端と光学的に結合された光電変換素子と、前記
基板表面に形成された電気配線とを含み、前記光電変換
素子が、前記電気配線を介して、外部電気回路に電気的
に接続され得ることが好ましい。このような光通信部品
は、光信号と電気信号との相互変換が行なえるため、そ
の応用範囲が広いという利点を有する。
Further, the optical communication component includes a photoelectric conversion element optically coupled to one end of the waveguide, and an electric wiring formed on the surface of the substrate, wherein the photoelectric conversion element is the electric circuit. Preferably, it can be electrically connected to an external electric circuit via a wiring. Such an optical communication component has an advantage that it can be applied to a wide range because it can perform mutual conversion between an optical signal and an electric signal.

【0034】また、前記光通信部品においては、前記導
波路を構成する前記空洞内に光透過性媒質が充填されて
いることが好ましい。この好ましい例によれば、導波路
の外部応力に対する安定性が向上し、結露による水や黴
の光特性に及ぼす影響を極力少なくすることができる。
この光透過性媒質としては、例えば、紫外線硬化樹脂な
どの樹脂を使用することができる。
In the optical communication component, it is preferable that the cavity forming the waveguide is filled with a light transmissive medium. According to this preferable example, the stability of the waveguide against external stress can be improved, and the influence of dew condensation on the optical characteristics of water and mold can be minimized.
As the light transmissive medium, for example, a resin such as an ultraviolet curable resin can be used.

【0035】また、前記光通信部品においては、前記反
射膜が金属膜であることが好ましい。この好ましい例に
よれば、良好な反射特性が得られるため、導波路の伝送
光率が更に向上する。更に、反射膜を金属で構成するこ
とにより、この反射膜を電気配線として利用することが
可能となるという利点がある。また、この金属膜の形成
にはメッキ法が使用されることが好ましい。均一な金属
膜の形成が可能だからである。
Further, in the optical communication component, it is preferable that the reflection film is a metal film. According to this preferable example, since good reflection characteristics are obtained, the transmission light rate of the waveguide is further improved. Further, by forming the reflective film from metal, there is an advantage that the reflective film can be used as electric wiring. Moreover, it is preferable to use a plating method for forming the metal film. This is because a uniform metal film can be formed.

【0036】また、前記光通信部品においては、光ファ
イバを実装するための溝が形成された支持体を含み、前
記支持体は、前記溝の一端と、前記導波路の一端とが互
いに対向するように配置され、前記溝に光ファイバが実
装されたときに、前記導波路が光ファイバと光学的に結
合されることが好ましい。前記支持体上に、前記溝の一
端と前記導波路の一端との間に位置するように、結合レ
ンズが実装されており、前記溝に光ファイバが実装され
たときに、前記導波路の一端が、前記結合レンズを介し
て、前記光ファイバと光学的に結合されることが好まし
い。この結合レンズは、シリコン製であることが好まし
い。高屈折率のシリコンを用いることにより、レンズの
曲率を小さくすることができるため、収差を小さくする
ことができ、スポット径も縮小することができる。
Further, the optical communication component includes a support body in which a groove for mounting an optical fiber is formed, and one end of the groove and one end of the waveguide face each other in the support body. It is preferable that the waveguide is optically coupled to the optical fiber when the optical fiber is mounted in the groove. A coupling lens is mounted on the support so as to be located between one end of the groove and one end of the waveguide, and one end of the waveguide is mounted when an optical fiber is mounted in the groove. Is preferably optically coupled to the optical fiber via the coupling lens. The coupling lens is preferably made of silicon. By using silicon having a high refractive index, the curvature of the lens can be reduced, so that the aberration can be reduced and the spot diameter can also be reduced.

【0037】また、前記支持体の光ファイバを実装する
ための前記溝の壁面に金属膜が形成されていることが好
ましい。これにより、光ファイバをハンダなどの金属接
合によって支持体に実装することができる。
Further, it is preferable that a metal film is formed on the wall surface of the groove for mounting the optical fiber of the support. Thereby, the optical fiber can be mounted on the support by metal joining such as soldering.

【0038】また、前記支持体上に結合レンズが実装さ
れる場合、前記支持体の前記結合レンズが配置される部
分に金属膜が形成され、前記結合レンズの側面に金属膜
が形成されており、この両者が金属接合されていること
が好ましい。
When a coupling lens is mounted on the support, a metal film is formed on a portion of the support where the coupling lens is arranged, and a metal film is formed on a side surface of the coupling lens. It is preferable that both are metal-bonded.

【0039】また、本発明の光通信モジュールは、基板
と、前記基板の内部に形成され、前記基板の厚み方向に
光を伝送する垂直導波路と、前記基板の内部に形成さ
れ、前記基板の面内方向に光を伝送する水平導波路と、
前記垂直導波路と前記水平導波路とを光学的に結合する
光屈曲部とを備え、前記基板は、表面に溝が形成され、
前記溝の少なくとも一端に反射鏡が配置された第1の基
板と、前記第1の基板の前記溝が形成された面に密着積
層され、前記溝の前記反射鏡が配置された部分と連通す
る位置に貫通孔が形成された第2の基板とを含む積層体
であり、前記水平導波路は、前記溝によって形成された
空洞と、前記空洞の壁面を被覆する反射膜とを含み、前
記空洞内で光を伝送するものであり、前記垂直導波路
は、前記貫通孔によって形成された空洞と、前記空洞の
壁面を被覆する反射膜とを含み、前記空洞内で光が伝送
するものであり、前記光屈曲部は前記反射鏡を含み、前
記反射鏡表面での反射によって、光の伝送方向を、前記
基板の厚み方向から面内方向へ、または、前記基板の面
内方向から厚み方向へ変化させるものであることを特徴
とする。
Further, the optical communication module of the present invention includes a substrate, a vertical waveguide formed inside the substrate and transmitting light in the thickness direction of the substrate, and formed inside the substrate. A horizontal waveguide that transmits light in the in-plane direction,
An optical bent portion that optically couples the vertical waveguide and the horizontal waveguide, and the substrate has a groove formed on its surface,
A first substrate having a reflecting mirror arranged on at least one end of the groove and a surface of the first substrate on which the groove is formed are closely laminated and communicate with a portion of the groove where the reflecting mirror is arranged. A second substrate having a through hole formed at a position, wherein the horizontal waveguide includes a cavity formed by the groove, and a reflection film covering a wall surface of the cavity. Wherein the vertical waveguide includes a cavity formed by the through hole and a reflective film covering a wall surface of the cavity, and the light is transmitted in the cavity. The light bending portion includes the reflecting mirror, and the light transmitting direction is changed from the thickness direction of the substrate to the in-plane direction by the reflection on the reflecting mirror surface, or from the in-plane direction of the substrate to the thickness direction. It is characterized by being changed.

【0040】このような構成によれば、モジュール内に
光屈曲部を設けることで立体回路を形成することが可能
となり、光通信モジュールのコンパクト化を実現でき
る。また、導波路には反射膜が形成されているため、光
の伝送光率が良好である。また、基板が密着積層されて
いるため、板の薄型化が図れる。
According to such a configuration, it is possible to form a three-dimensional circuit by providing the light bending portion in the module, and it is possible to realize a compact optical communication module. Further, since the reflective film is formed on the waveguide, the light transmission rate is good. Further, since the substrates are laminated in close contact, the plate can be made thin.

【0041】ここで、「光通信モジュール」とは、単独
で光通信部品として使用することも可能ではあるが、通
常は、複数の光通信モジュールが相互に結合されて1つ
の光通信部品を構成するものである。よって、光通信モ
ジュールは、集積光回路を構成する構成部品としての性
質をも有する。
Here, the "optical communication module" can be used alone as an optical communication component, but normally, a plurality of optical communication modules are coupled to each other to form one optical communication component. To do. Therefore, the optical communication module also has a property as a component forming an integrated optical circuit.

【0042】前記光通信モジュールにおいては、更に、
前記基板内に、前記水平導波路および前記垂直導波路の
少なくとも一方と光学的に結合された光回路素子を含む
ことが好ましい。光回路素子としては前述したものと同
様のものを使用することができる。このような光回路素
子をモジュール内に設けることにより、入出射光の分波
や合波などが可能となる。
In the above optical communication module, further,
It is preferable that an optical circuit element optically coupled to at least one of the horizontal waveguide and the vertical waveguide is included in the substrate. The same optical circuit element as described above can be used. By providing such an optical circuit element in the module, it is possible to demultiplex or combine incoming and outgoing light.

【0043】また、前記光通信モジュールにおいては、
更に、前記導波路の一端と光学的に結合された光電変換
素子と、前記基板表面に形成された電気配線とを含み、
前記光電変換素子が、前記電気配線を介して、外部電気
回路に電気的に接続され得ることが好ましい。このよう
な光通信モジュールは、光信号と電気信号との相互変換
が行なえるため、その応用範囲が広いという利点を有す
る。
In the optical communication module,
Further, including a photoelectric conversion element optically coupled to one end of the waveguide, and electrical wiring formed on the substrate surface,
It is preferable that the photoelectric conversion element can be electrically connected to an external electric circuit via the electric wiring. Such an optical communication module has an advantage that it can be applied to a wide range because it can perform mutual conversion between an optical signal and an electric signal.

【0044】また、前記光通信モジュールにおいては、
前記反射膜および前記反射鏡が金属膜であることが好ま
しい。この好ましい例によれば、良好な反射特性が得ら
れるため、導波路の伝送光率が更に向上する。更に、反
射膜を金属で構成することにより、この反射膜を電気配
線として利用することが可能となるという利点がある。
また、この金属膜の形成にはメッキ法が使用されること
が好ましい。均一な金属膜の形成が可能だからである。
In the optical communication module,
It is preferable that the reflection film and the reflection mirror are metal films. According to this preferable example, since good reflection characteristics are obtained, the transmission light rate of the waveguide is further improved. Further, by forming the reflective film from metal, there is an advantage that the reflective film can be used as electric wiring.
Moreover, it is preferable to use a plating method for forming the metal film. This is because a uniform metal film can be formed.

【0045】また、前記光通信モジュールにおいては、
前記垂直導波路および前記水平導波路を構成する空洞内
に、光透過性媒質が充填されていることが好ましい。こ
の好ましい例によれば、導波路の外部応力に対する安定
性が向上し、結露による水や黴の光特性に及ぼす影響を
極力少なくすることができる。この光透過性媒質として
は、例えば、紫外線硬化樹脂などの樹脂を使用すること
ができる。
In the optical communication module,
It is preferable that the cavity forming the vertical waveguide and the horizontal waveguide is filled with a light transmissive medium. According to this preferable example, the stability of the waveguide against external stress can be improved, and the influence of dew condensation on the optical characteristics of water and mold can be minimized. As the light transmissive medium, for example, a resin such as an ultraviolet curable resin can be used.

【0046】次に、本発明の好ましい実施形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
Next, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0047】(第1の実施形態)図1は、本発明に係る
光通信部品の一例を示す斜視図である。また、図2は、
上記光通信部品の断面図である。この光通信部品は、光
回路素子および導波路を備えた光回路部1と、この光回
路部1を外部光路(図示せず。)と光学的に結合するた
めの結合部2とを備えている。
(First Embodiment) FIG. 1 is a perspective view showing an example of an optical communication component according to the present invention. Also, in FIG.
It is sectional drawing of the said optical communication component. This optical communication component includes an optical circuit unit 1 including an optical circuit element and a waveguide, and a coupling unit 2 for optically coupling the optical circuit unit 1 with an external optical path (not shown). There is.

【0048】前記結合部2においては、支持体11上に
光結合部品14および15が実装されている。前記光回
路部1は、複数の基板21、31および41が密着積層
してなる積層体で構成されており、この積層体の内部に
導波路が形成されている。この導波路は、その一端が光
結合部品15と対向するように配置される。前記光回路
部1を構成する最上層の基板41には、光電変換素子5
1が実装されている。この光電変換素子51は、その受
光面または発光面が導波路の一端と対向するように配置
される。更に、前記光回路部1には、電気配線52およ
び電子部品53が配されている。また、最下層の基板2
1には金属層101が積層されている。
In the coupling section 2, the optical coupling components 14 and 15 are mounted on the support 11. The optical circuit unit 1 is composed of a laminated body in which a plurality of substrates 21, 31, and 41 are closely laminated, and a waveguide is formed inside the laminated body. This waveguide is arranged so that one end thereof faces the optical coupling component 15. The photoelectric conversion element 5 is provided on the uppermost substrate 41 constituting the optical circuit unit 1.
1 is implemented. The photoelectric conversion element 51 is arranged such that its light-receiving surface or light-emitting surface faces one end of the waveguide. Further, an electric wiring 52 and an electronic component 53 are arranged in the optical circuit section 1. In addition, the bottom substrate 2
1 has a metal layer 101 laminated thereon.

【0049】図2に示すように、結合部から光回路部内
に入射した伝送光は、基板内に形成された導波路を経由
して光電変換部51に到達する。また、逆に、光電変換
部51から光回路部内に入射した伝送光は、基板内に形
成された導波路を経由して、結合部から外部光路(図示
せず。)に導かれる。
As shown in FIG. 2, the transmitted light that has entered the optical circuit section from the coupling section reaches the photoelectric conversion section 51 via the waveguide formed in the substrate. On the contrary, the transmitted light that has entered the optical circuit unit from the photoelectric conversion unit 51 is guided from the coupling unit to the external optical path (not shown) via the waveguide formed in the substrate.

【0050】次に、前記光通信部品を構成する各部材に
ついて詳細に説明する。
Next, each member constituting the optical communication component will be described in detail.

【0051】(1)結合部 結合部は、導波路と外部光路とを光学的に結合する光結
合部品と、この光結合部品を支持する支持体とを備えて
いる。なお、図1においては、光結合部品として、光フ
ァイバおよび結合レンズを使用した場合を例示している
が、光結合部品はこれらに限定されるものではない。
(1) Coupling Portion The coupling portion is provided with an optical coupling component for optically coupling the waveguide and the external optical path, and a support for supporting this optical coupling component. Although FIG. 1 illustrates the case where an optical fiber and a coupling lens are used as the optical coupling component, the optical coupling component is not limited to these.

【0052】支持体11としては、例えば、シリコン基
板、プラスチック基板およびガラス基板からなる群から
選ばれる少なくとも一種以上の基板を用いることができ
る。また、支持体11としては、シリコンなどで構成さ
れた光学ベンチを用いることも可能である。
As the support 11, for example, at least one substrate selected from the group consisting of a silicon substrate, a plastic substrate and a glass substrate can be used. Further, as the support body 11, it is also possible to use an optical bench made of silicon or the like.

【0053】図3は、支持体11の一例を示す外観斜視
図である。図示のように、支持体11表面には、光ファ
イバ14および結合レンズ15を実装するための溝12
(以下、「実装用溝」という。)が形成されている。実
装用溝12は、実装される光ファイバおよび結合レンズ
の光軸に平行で、且つ、溝の底部が上部(開口部)に比
べて細くなった形状であることが好ましい。すなわち、
実装用溝の側壁面は、前記光軸に平行で、且つ、基板表
面に対して傾斜した面であることが好ましい。このよう
な実装用溝12の形状としては、例えば、V字溝、逆台
形溝などが挙げられる。
FIG. 3 is an external perspective view showing an example of the support 11. As shown, the surface of the support 11 is provided with a groove 12 for mounting the optical fiber 14 and the coupling lens 15.
(Hereinafter, referred to as “mounting groove”). The mounting groove 12 is preferably parallel to the optical axis of the optical fiber to be mounted and the optical axis of the coupling lens, and has a shape in which the bottom of the groove is narrower than the upper portion (opening). That is,
The sidewall surface of the mounting groove is preferably a surface parallel to the optical axis and inclined with respect to the substrate surface. Examples of the shape of the mounting groove 12 include a V-shaped groove and an inverted trapezoidal groove.

【0054】前記実装用溝12の形成方法としては、支
持体11としてシリコン基板を用いる場合、例えば、シ
リコン基板表面に、溝を形成する位置に開口を有するマ
スクパターンを形成した後、前記基板表面をエッチング
する方法が挙げられる。エッチングとしては、異方性エ
ッチングを採用することが好ましい。異方性エッチング
としては、例えば、ウエットエッチングを採用すること
ができ、この場合、エッチング剤としては、水酸化カリ
ウム(KOH)、水酸化ナトリウム(NaOH)、テト
ラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMA
H)、ヒドラジン(EPW)、HgCl2、K2Fe(C
N)6などを使用することができる。例えば、これらの
エッチング剤を用いてシリコンの(100)面をエッチ
ングすると、その異方性により、表面((100)面)
から約54.7°傾斜した(111)面で形成されるV
字溝(頂角約70°)を形成することができる。また、
マスクの開口幅を大きくすると、V字溝に(100)面
の底面ができるため、逆台形の溝を形成することができ
る。また、ガラス基板およびプラスチック基板を用いる
場合は、例えば、成形により所望の形状の溝を形成する
方法が挙げられる。
As a method of forming the mounting groove 12, when a silicon substrate is used as the support 11, for example, after forming a mask pattern having an opening at a position where the groove is formed on the surface of the silicon substrate, the substrate surface is formed. The method of etching is mentioned. As the etching, it is preferable to adopt anisotropic etching. As the anisotropic etching, for example, wet etching can be adopted. In this case, potassium hydroxide (KOH), sodium hydroxide (NaOH), tetramethylammonium hydroxide (TMA) is used as the etching agent.
H), hydrazine (EPW), HgCl 2 , K 2 Fe (C
N) 6 or the like can be used. For example, when the (100) plane of silicon is etched using these etching agents, the surface ((100) plane) is
V formed by the (111) plane inclined about 54.7 ° from
A groove (vertical angle of about 70 °) can be formed. Also,
When the opening width of the mask is increased, the V-shaped groove has a bottom surface of the (100) plane, so that an inverted trapezoidal groove can be formed. When using a glass substrate and a plastic substrate, for example, a method of forming a groove having a desired shape by molding can be mentioned.

【0055】更に、支持体11表面には、実装用溝12
と交差するように複数の溝13(以下、「接着用溝」と
いう。)が形成されている。本実施形態では、この接着
用溝13に接着剤を充填することにより、光ファイバお
よび結合レンズが実装用溝12に固定される。光学ベン
チの実装用溝に光ファイバなどを実装する場合、実装用
溝内に直接接着剤を充填し、その接着剤上に光ファイバ
などを配置すると、光ファイバなどが実装用溝から浮い
て固定されるおそれがある。しかし、本実施形態では、
実装用溝12に交差した接着用溝13に接着剤を充填す
ることによって、光ファイバなどを実装用溝12に固定
するため、上記問題がなく、光ファイバなどをその機能
を妨害することなく固定することができる。なお、接着
用溝13の幅および深さについては特に限定するもので
はないが、毛管作用により接着剤を充填できるよう、1
0〜500μmとすることが好ましく、更には50〜2
00μmとすることが好ましい。また、接着用溝13の
数は、特に限定するものではなく、実装される光ファイ
バまたは結合レンズの寸法などに応じて適宜設定するこ
とができ、例えば1〜20本、好ましくは5〜10本で
ある。また、接着用溝13同士の間隔についても特に限
定するものではないが、接着強度を高める観点から、
0.5〜3mm、更には1〜2mmとすることが好まし
い。
Further, the mounting groove 12 is formed on the surface of the support 11.
A plurality of grooves 13 (hereinafter, referred to as “bonding grooves”) are formed so as to intersect with. In this embodiment, the optical fiber and the coupling lens are fixed to the mounting groove 12 by filling the adhesive groove 13 with an adhesive. When mounting an optical fiber, etc. in the mounting groove of the optical bench, directly fill the mounting groove with an adhesive and place the optical fiber etc. on the adhesive so that the optical fiber floats from the mounting groove and is fixed. May be However, in this embodiment,
Since the optical fiber or the like is fixed to the mounting groove 12 by filling the adhesive groove 13 crossing the mounting groove 12 with the adhesive, the above-mentioned problem does not occur, and the optical fiber or the like is fixed without disturbing its function. can do. The width and the depth of the adhesive groove 13 are not particularly limited, but the adhesive groove 13 may be filled with the adhesive by a capillary action.
The thickness is preferably 0 to 500 μm, more preferably 50 to 2
It is preferably set to 00 μm. Further, the number of the bonding grooves 13 is not particularly limited, and can be appropriately set according to the dimensions of the optical fiber or the coupling lens to be mounted, and for example, 1 to 20, preferably 5 to 10. Is. Further, the interval between the bonding grooves 13 is not particularly limited, but from the viewpoint of increasing the bonding strength,
It is preferably 0.5 to 3 mm, more preferably 1 to 2 mm.

【0056】接着用溝13の形成方法としては、例え
ば、ダイシングを用いた機械加工により形成する方法が
挙げられる。また、エッチングによって形成することも
可能である。この場合、例えば、実装用溝に平坦化レジ
ストを塗布し、乾燥後、更にその上に無機物の膜をスピ
ンコートなどで形成し(SOG:Spin On Glass)、更
にその上にレジストを塗布して、これに接着用溝に相当
する開口を形成してマスクパターンを形成し、その後、
SOG、平坦化レジスト、基板をエッチングして接着用
溝を形成し、その後、レジストおよびSOGなどを除去
する方法を採用できる。
As a method of forming the bonding groove 13, for example, a method of forming by mechanical processing using dicing can be mentioned. It can also be formed by etching. In this case, for example, a flattening resist is applied to the mounting groove, dried, and then an inorganic film is formed thereon by spin coating (SOG: Spin On Glass), and then a resist is applied thereon. , An opening corresponding to the bonding groove is formed in this to form a mask pattern, and thereafter,
It is possible to employ a method in which the SOG, the planarizing resist, and the substrate are etched to form a bonding groove, and then the resist and SOG are removed.

【0057】この実装用溝12および接着用溝13を有
する支持体11上に、光ファイバ14および結合レンズ
15が実装される。この実装は、前述したように接着剤
を用いて実施することができ、この接着剤としては、例
えば、紫外線硬化型樹脂などを使用することができる。
The optical fiber 14 and the coupling lens 15 are mounted on the support 11 having the mounting groove 12 and the bonding groove 13. This mounting can be performed using an adhesive as described above, and as the adhesive, for example, an ultraviolet curable resin or the like can be used.

【0058】光ファイバ14としては、光を伝送するも
のであれば従来公知のものを全て用いることができる。
光ファイバ14としては、ガラスファイバ、プラスチッ
クファイバの何れでもよいが、光の損失等が少ないとい
う観点からは、石英ガラスファイバが望ましい。また、
結合レンズ15としては、光ファイバ14を伝送した光
を効率よく導波路に導き、または、導波路内を伝送して
きた光を効率よく光ファイバ14に導くことができるも
のであればよく、例えば、GRINレンズ、ボールレン
ズ、モールドレンズ等を用いることができる。また、そ
の材質は特に限定するものではないが、例えば、ガラ
ス、シリコンなどを使用することができる。
As the optical fiber 14, any conventionally known one can be used as long as it transmits light.
The optical fiber 14 may be either a glass fiber or a plastic fiber, but a silica glass fiber is preferable from the viewpoint of light loss and the like. Also,
The coupling lens 15 may be any one that can efficiently guide the light transmitted through the optical fiber 14 to the waveguide, or can efficiently guide the light transmitted inside the waveguide to the optical fiber 14, for example, A GRIN lens, a ball lens, a molded lens or the like can be used. The material is not particularly limited, but glass, silicon, or the like can be used, for example.

【0059】(2)光回路部 光回路部は、複数の基板が密着積層された構成を有して
おり、その積層体の内部に導波路が形成されている。ま
た、光回路部は、導波路として、基板の厚み方向に光を
伝送する垂直導波路と、基板の面方向に光を伝送する水
平導波路とを備え、この垂直導波路と水平導波路とが光
学的に結合されていることが好ましい。これにより、導
波路が三次元的につながった立体光路を構成することが
できる。また、前記積層体の内部または表面には光回路
素子が配置されていることが好ましい。この場合、この
素子が導波路と結合されることにより、光回路が構成さ
れる。
(2) Optical Circuit Section The optical circuit section has a structure in which a plurality of substrates are laminated in close contact, and a waveguide is formed inside the laminated body. Further, the optical circuit unit includes, as a waveguide, a vertical waveguide that transmits light in the thickness direction of the substrate and a horizontal waveguide that transmits light in the plane direction of the substrate. The vertical waveguide and the horizontal waveguide Are preferably optically coupled. This makes it possible to construct a three-dimensional optical path in which the waveguides are three-dimensionally connected. Further, it is preferable that an optical circuit element is arranged inside or on the surface of the laminate. In this case, an optical circuit is constructed by coupling this element with the waveguide.

【0060】以下、光回路部の具体的な一例について、
図面を用いて説明する。
A specific example of the optical circuit section will be described below.
This will be described with reference to the drawings.

【0061】図1および図2に示すように、この光回路
部1は、第1段目の基板21、第2段目の基板31、お
よび第3段目の基板41が、この順序で直接密着積層し
てなる積層体で構成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, in the optical circuit unit 1, the first stage substrate 21, the second stage substrate 31, and the third stage substrate 41 are directly arranged in this order. It is composed of a laminated body formed by closely laminating.

【0062】各基板としては、シリコン基板、プラスチ
ック基板およびガラス基板からなる群から選ばれる少な
くとも一種以上の基板を用いることができるが、安定性
の点から、シリコン基板またはガラス基板が好ましい。
これらの基板は、異種の基板を組合せて用いてもよい
が、熱サイクルに対する安定性、基板同士の密着性の観
点からすれば、同種の基板を用いること、特にシリコン
基板同士を用いることが望ましい。
As each substrate, at least one substrate selected from the group consisting of a silicon substrate, a plastic substrate and a glass substrate can be used, but a silicon substrate or a glass substrate is preferable from the viewpoint of stability.
These substrates may be used in combination with different types of substrates, but from the viewpoint of stability against heat cycle and adhesion between the substrates, it is preferable to use the same type of substrate, particularly to use silicon substrates together. .

【0063】第1段目の基板21には、第1の水平導波
路と、前記第1の水平導波路の一方の端部に結合された
光回路素子とが形成されている。ここで、光回路素子と
しては、回折格子が用いられている。第2段目の基板3
1には、第2の水平導波路が形成されており、第3段目
の基板41には、垂直導波路が形成されている。なお、
前記第1の水平導波路と前記第2の水平導波路との間、
および、前記第2の水平導波路と垂直導波路との間は、
反射鏡を備えた光屈曲部によって光学的に結合されてい
る。これにより、前記第1の水平導波路、前記第2の水
平導波路および垂直導波路が連結し、三次元的に伸びた
立体光路が構成されている。また、第3段目の基板41
の表面には、光電変換素子が所定の位置に配置されてお
り、垂直導波路と光学的に結合されている。更に、第3
段目の基板41の表面には、電子部品が所定の位置に配
置されており、電気配線52を介して、光電変換素子と
電気的に接続されている。また、第1段目の基板の裏面
には金属層が積層されている。
A first horizontal waveguide and an optical circuit element coupled to one end of the first horizontal waveguide are formed on the first-stage substrate 21. Here, a diffraction grating is used as the optical circuit element. Second stage substrate 3
A first horizontal waveguide is formed on the first substrate 1, and a vertical waveguide is formed on the third substrate 41. In addition,
Between the first horizontal waveguide and the second horizontal waveguide,
And between the second horizontal waveguide and the vertical waveguide,
Optically coupled by a light bend with a reflector. As a result, the first horizontal waveguide, the second horizontal waveguide, and the vertical waveguide are connected to form a three-dimensionally extended three-dimensional optical path. In addition, the third-stage substrate 41
A photoelectric conversion element is arranged at a predetermined position on the surface of and is optically coupled to the vertical waveguide. Furthermore, the third
Electronic components are arranged at predetermined positions on the surface of the substrate 41 of the tier, and are electrically connected to the photoelectric conversion elements via electric wirings 52. Further, a metal layer is laminated on the back surface of the first stage substrate.

【0064】次に、上記の各基板について詳説する。Next, each of the above substrates will be described in detail.

【0065】第1段目の基板 図4は、第1段目の基板21の一例を示す外観斜視図で
ある。図5は、この第1段目の基板の前記導波路および
光回路素子が形成された部分を示す部分拡大図である。
First Stage Substrate FIG. 4 is an external perspective view showing an example of the first stage substrate 21. FIG. 5 is a partially enlarged view showing a portion of the first stage substrate on which the waveguide and the optical circuit element are formed.

【0066】図5に示すように、第1段目の基板21表
面には、第1の水平導波路26となる溝が形成されてい
る。この溝は、第2段目の基板が積層された際に空洞を
形成し、この空洞が光の伝送路として機能するものであ
る。この第1の水平導波路26の一端は、第2段目の基
板に形成される導波路と光学的に結合される。なお、こ
の溝の断面形状については特に限定するものではない。
As shown in FIG. 5, a groove serving as the first horizontal waveguide 26 is formed on the surface of the first-stage substrate 21. The groove forms a cavity when the second-stage substrates are laminated, and the cavity functions as a light transmission path. One end of the first horizontal waveguide 26 is optically coupled to the waveguide formed on the second stage substrate. The cross-sectional shape of this groove is not particularly limited.

【0067】また、第1段目の基板21表面には、光回
路素子28である回折格子28が形成されている。回折
格子28は、図5に示すように、基板21表面に凹部が
形成され、この凹部の壁面に周期構造を形成することに
よって形成されている。前記第1の水平導波路と前記回
折格子28とは光学的に結合されている。その結合方法
については、特に限定するものではないが、光の伝送効
率を高める観点より、図示のように、第1の水平導波路
26を形成する溝と、回折格子28が形成される凹部と
を連通させ、一体化させることが好ましい。また、回折
格子28への入射口は、結合部を介して、外部光路(図
示せず。)に結合されている。
A diffraction grating 28, which is an optical circuit element 28, is formed on the surface of the first-stage substrate 21. As shown in FIG. 5, the diffraction grating 28 is formed by forming a concave portion on the surface of the substrate 21 and forming a periodic structure on the wall surface of the concave portion. The first horizontal waveguide and the diffraction grating 28 are optically coupled. The coupling method is not particularly limited, but from the viewpoint of enhancing the light transmission efficiency, as shown in the figure, a groove forming the first horizontal waveguide 26 and a recess forming the diffraction grating 28 are formed. It is preferable that they are communicated with and integrated with each other. Further, the entrance to the diffraction grating 28 is coupled to the external optical path (not shown) via the coupling section.

【0068】図6〜図8は、第1の水平導波路26の一
例を示す図である。図6および図7は、図5のA−A’
断面図およびB−B’断面である。また、図8は、第1
の水平導波路の屈曲部分を示す部分拡大図である。
6 to 8 are views showing an example of the first horizontal waveguide 26. As shown in FIG. 6 and 7 show AA ′ of FIG.
It is a sectional view and a BB 'section. In addition, FIG.
FIG. 3 is a partially enlarged view showing a bent portion of the horizontal waveguide of FIG.

【0069】図6に示すように、第1の水平導波路26
となる溝の壁面には反射膜27が形成されている。この
ような反射膜27を形成することにより、導波路内で光
を全反射させ、光を効率よく伝送することができる。反
射膜27としては、各種金属膜を使用することができ、
好ましくは、Au、Ag、NiおよびCuなどの金属膜
を使用することができる。また、金属膜の膜厚について
は、特に制限されないが、例えば0.05〜5μmであ
り、好ましくは0.10〜2μmである。
As shown in FIG. 6, the first horizontal waveguide 26
A reflective film 27 is formed on the wall surface of the groove. By forming such a reflection film 27, light can be totally reflected in the waveguide and the light can be efficiently transmitted. Various metal films can be used as the reflective film 27,
Preferably, a metal film such as Au, Ag, Ni and Cu can be used. The thickness of the metal film is not particularly limited, but is, for example, 0.05 to 5 μm, preferably 0.10 to 2 μm.

【0070】第1の水平導波路を伝送した光を、第2段
目の基板に形成された導波路に導くためには、この導波
路間の結合部分において光の伝送方向を、基板の面内方
向から厚み方向へと変化させる必要がある。本実施形態
においては、図7に示すように、第1の水平導波路26
の、第2段目の基板に形成された導波路と結合される部
分に光屈曲部29を設けることにより、この光の伝送方
向の変化を実現している。光屈曲部29は、導波路の終
端に反射鏡を配置することにより構成される。
In order to guide the light transmitted through the first horizontal waveguide to the waveguide formed on the second-stage substrate, the light transmission direction at the coupling portion between the waveguides is set to the plane of the substrate. It is necessary to change from the inward direction to the thickness direction. In the present embodiment, as shown in FIG. 7, the first horizontal waveguide 26
The change in the light transmission direction is realized by providing the light bending portion 29 in the portion of the second stage substrate that is coupled to the waveguide. The light bending portion 29 is configured by disposing a reflecting mirror at the end of the waveguide.

【0071】また、第1の水平導波路26は、その一端
が回折格子28と光学的に結合され、他端部が第2段目
の基板に形成された導波路と結合されるため、この両者
との結合に適した形状とされる。そのため、図8に示す
ように、第1の水平導波路を屈曲させる場合がある。こ
のように導波路を屈曲させることにより、第1段目の基
板の平面面積を減少させることができ、よりコンパクト
な光通信部品を実現することができる。この場合、導波
路の屈曲部分においては、光の伝送方向を、基板面に平
行な同一面内において、変化させる必要がある。本実施
形態においては、図8に示すように、第1の水平導波路
26の屈曲部分に光屈曲部29を設けることにより、こ
の光の伝送方向の変化を実現している。光屈曲部29
は、導波路の屈曲部分に反射鏡を配置することにより構
成される。
Since one end of the first horizontal waveguide 26 is optically coupled to the diffraction grating 28 and the other end thereof is coupled to the waveguide formed on the second-stage substrate, The shape is suitable for coupling with both. Therefore, as shown in FIG. 8, the first horizontal waveguide may be bent. By bending the waveguide in this way, the planar area of the first-stage substrate can be reduced, and a more compact optical communication component can be realized. In this case, in the bent portion of the waveguide, it is necessary to change the light transmission direction within the same plane parallel to the substrate surface. In the present embodiment, as shown in FIG. 8, the change in the light transmission direction is realized by providing the light bent portion 29 in the bent portion of the first horizontal waveguide 26. Light bending part 29
Is constructed by disposing a reflecting mirror in the bent portion of the waveguide.

【0072】図7および図8に示すように、光屈曲部2
9において反射鏡は、光の屈曲前後の伝送方向に対して
傾斜するように設けられる。この反射鏡は、第1の水平
導波路26を構成する溝の終端または屈曲部分にテーパ
ーを形成し、このテーパーを反射膜27で被覆すること
によって形成することができる。また、第1の基板の製
造上も溝の壁面の反射膜27と反射鏡を一体として形成
することが好ましい。なお、この反射膜27としては、
前述と同様の金属膜を使用することができる。テーパー
の傾斜角は、光の屈曲前後の伝送方向に対して傾斜する
ように選択される。そのため、第1の水平導波路の、第
2段目の基板の導波路との結合部の形状や、屈曲部分の
形状などに応じて適宜選択することができる。例えば、
図7および図8に示すように、光の伝送方向を略垂直に
変化させる場合、テーパーの傾斜角は約45°とするこ
とが好ましい。
As shown in FIGS. 7 and 8, the light bending portion 2
In 9, the reflecting mirror is provided so as to be inclined with respect to the transmission direction before and after the bending of light. This reflecting mirror can be formed by forming a taper at the terminal end or the bent portion of the groove forming the first horizontal waveguide 26 and covering the taper with the reflecting film 27. Further, also in manufacturing the first substrate, it is preferable to integrally form the reflecting film 27 on the wall surface of the groove and the reflecting mirror. As the reflective film 27,
A metal film similar to that described above can be used. The inclination angle of the taper is selected so as to be inclined with respect to the transmission direction before and after the bending of light. Therefore, it can be appropriately selected according to the shape of the coupling portion of the first horizontal waveguide with the waveguide of the second stage substrate, the shape of the bent portion, and the like. For example,
As shown in FIGS. 7 and 8, when the light transmission direction is changed substantially vertically, the taper inclination angle is preferably about 45 °.

【0073】前述したように、第1の水平導波路26を
構成する溝は、第2段目の基板が積層された際に空洞を
形成し、この空洞が光の伝送路として機能する。この空
洞は、中空のままでもよいが、光通信部品内に侵入する
大気中の水分などの影響で光の伝送効率が低下するのを
抑制するため、光透過性媒質で充填されること好まし
い。この光透過性媒質としては、例えば、アクリル樹
脂、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化エポキシ樹脂な
どの光透過性樹脂などを挙げることができる。また、光
透過性ジェルのような流動体であってもよい。
As described above, the groove forming the first horizontal waveguide 26 forms a cavity when the second-stage substrates are stacked, and this cavity functions as a light transmission path. The cavity may remain hollow, but it is preferably filled with a light transmissive medium in order to prevent the light transmission efficiency from being lowered due to the influence of moisture in the air that enters the optical communication component. Examples of the light transmissive medium include light transmissive resins such as acrylic resin, fluorinated polyimide resin, and fluorinated epoxy resin. It may also be a fluid such as a light transmissive gel.

【0074】第2段目の基板 図9は、第2段目の基板31の一例を示す外観斜視図で
ある。
Second Stage Substrate FIG. 9 is an external perspective view showing an example of the second stage substrate 31.

【0075】図示のように、第2段目の基板31表面に
は、第2の水平導波路32となる溝が形成されている。
この溝は、第3段目の基板が積層された際に空洞を形成
し、この空洞が光の伝送路として機能するものである。
この第2の水平導波路32は、第2段目の基板内で光回
路を配線する光配線として機能する。なお、図9では、
4本の導波路が形成された例を示しているが、導波路の
本数は特に限定されるものではなく、目的に応じて適宜
決定される。通常、導波路は、第1段目の基板に形成さ
れた導波路と基本的に同一の本数が形成される。
As shown in the figure, a groove serving as the second horizontal waveguide 32 is formed on the surface of the second-stage substrate 31.
The groove forms a cavity when the third-stage substrates are stacked, and the cavity functions as a light transmission path.
The second horizontal waveguide 32 functions as an optical wiring for wiring an optical circuit in the second stage substrate. In addition, in FIG.
Although an example in which four waveguides are formed is shown, the number of waveguides is not particularly limited and is appropriately determined according to the purpose. Usually, the same number of waveguides as the number of waveguides formed on the first stage substrate is formed.

【0076】図10〜図12は、第2の水平導波路の一
例を示す図であり、それぞれ、図9のA−A’断面図、
B−B’断面およびC−C’断面図である。
FIGS. 10 to 12 are views showing an example of the second horizontal waveguide, and are cross-sectional views taken along the line AA 'of FIG. 9, respectively.
It is a BB 'cross section and a CC' cross section.

【0077】図11に示すように、第2の水平導波路3
2となる溝の壁面には、第1の水平導波路と同様に、反
射膜33が形成されている。なお、反射膜33の材料お
よび膜厚については、第1の水平導波路と同様である。
また、第2の水平導波路32を構成する空洞は、第1の
水平導波路と同様に、中空のままでもよいが、光透過性
媒質で充填されることが好ましい。この光透過性媒質の
材料は、前述した通りである。
As shown in FIG. 11, the second horizontal waveguide 3
A reflective film 33 is formed on the wall surface of the groove to be 2, similarly to the first horizontal waveguide. The material and film thickness of the reflective film 33 are similar to those of the first horizontal waveguide.
The cavity forming the second horizontal waveguide 32 may remain hollow as in the case of the first horizontal waveguide, but is preferably filled with a light transmissive medium. The material of the light transmissive medium is as described above.

【0078】この第2の水平導波路32の一端は、前述
した第1の水平導波路26の一端と光学的に結合され
る。図10に示すように、第1の水平導波路26と第2
の水平導波路32との結合部においては、第2段目の基
板31に、前記両導波路を連結するための開口が形成さ
れている。第1の水平導波路26から第2段目の基板3
1へ入射する際には、光は基板の厚み方向へ伝送され、
前記開口を通過する。この開口を通過した入射光を第2
の水平導波路32に導くためには、光の伝送方向を、基
板の厚み方向から面内方向へと変化させる必要がある。
本実施形態においては、図10に示すように、第2の水
平導波路32の、第1の水平導波路26の光屈曲部29
と対向する部分に、光屈曲部34を設けることにより、
この光の伝送方向の変化を実現している。
One end of this second horizontal waveguide 32 is optically coupled to one end of the above-mentioned first horizontal waveguide 26. As shown in FIG. 10, the first horizontal waveguide 26 and the second horizontal waveguide 26
In the coupling portion with the horizontal waveguide 32, an opening for connecting both the waveguides is formed in the second-stage substrate 31. Substrate 3 from the first horizontal waveguide 26 to the second stage
When incident on 1, the light is transmitted in the thickness direction of the substrate,
Pass through the opening. The incident light passing through this opening is
In order to guide the light to the horizontal waveguide 32, it is necessary to change the light transmission direction from the thickness direction of the substrate to the in-plane direction.
In the present embodiment, as shown in FIG. 10, the light bent portion 29 of the first horizontal waveguide 26 of the second horizontal waveguide 32.
By providing the light bending portion 34 in a portion facing
This change in the light transmission direction is realized.

【0079】更に、第2の水平導波路32の他端は、第
3段目の基板に形成される導波路の一端と光学的に結合
される。図12は、第2の水平導波路32の、第3段目
の基板に形成される導波路との結合部を示す。第2の水
平導波路32を伝送した光を、第3段目の基板に形成さ
れた導波路に導くためには、この導波路間の結合部分に
おいて光の伝送方向を、基板の面内方向から厚み方向へ
と変化させる必要がある。本実施形態においては、図1
2に示すように、第2の水平導波路32の、第3段目の
基板に形成された導波路と結合される部分に、光屈曲部
34を設けることにより、この光の伝送方向の変化を実
現している。
Further, the other end of the second horizontal waveguide 32 is optically coupled to one end of the waveguide formed on the third stage substrate. FIG. 12 shows a coupling portion of the second horizontal waveguide 32 with a waveguide formed on the third stage substrate. In order to guide the light transmitted through the second horizontal waveguide 32 to the waveguide formed on the substrate of the third stage, the light transmission direction at the coupling portion between the waveguides should be the in-plane direction of the substrate. To the thickness direction. In this embodiment, FIG.
As shown in FIG. 2, by providing the light bending portion 34 in the portion of the second horizontal waveguide 32 that is coupled to the waveguide formed on the third stage substrate, the change in the light transmission direction is caused. Has been realized.

【0080】前記光屈曲部34は、図12に示すよう
に、導波路の端部に反射鏡を配置することにより構成さ
れる。この反射鏡は、第1段目の基板と同様に、導波路
を構成する溝にテーパーを設け、これを反射膜33で被
覆することにより形成することができる。
As shown in FIG. 12, the light bending portion 34 is constructed by disposing a reflecting mirror at the end of the waveguide. This reflecting mirror can be formed by providing a groove in the waveguide with a taper and covering the groove with a reflecting film 33, as in the case of the first stage substrate.

【0081】また、第1段目の基板と同様に、第2段目
の基板においても水平導波路を基板面内において屈曲さ
せてもよい。この場合、第1段目の基板と同様に、水平
導波路の屈曲部分に、反射鏡からなる光屈曲部を設ける
ことができる。
Further, as in the case of the first stage substrate, the horizontal waveguide may be bent in the plane of the substrate also in the second stage substrate. In this case, as in the case of the first-stage substrate, the bent portion of the horizontal waveguide can be provided with a light bending portion formed of a reflecting mirror.

【0082】第3段目の基板 図1に示すように、第3段目の基板41の表面には、光
電変換素子51が実装されている。光電変換素子51と
しては、例えば、フォトダイオード(PD)などの受光
素子、発光ダイオード(LED)およびレーザダイオー
ド(LD)などの発光素子などが用いられる。また、第
3段目の基板41の表面には、LSIなどの電子部品5
3が実装されている。また、基板41表面には、電気配
線52が形成されており、この配線52によって、光電
変換素子51と電子部品53とが電気的に接続されてい
る。
Third Stage Substrate As shown in FIG. 1, a photoelectric conversion element 51 is mounted on the surface of the third stage substrate 41. As the photoelectric conversion element 51, for example, a light receiving element such as a photodiode (PD), a light emitting element such as a light emitting diode (LED) and a laser diode (LD), or the like is used. Further, on the surface of the substrate 41 of the third stage, electronic components 5 such as LSI are
3 has been implemented. Further, an electric wiring 52 is formed on the surface of the substrate 41, and the wiring 52 electrically connects the photoelectric conversion element 51 and the electronic component 53.

【0083】図2に示すように、第3段目の基板41に
は、光電変換素子51が実装された部分に、光電変換素
子51の受光面または発光面に対向するように、垂直導
波路42を構成するための貫通孔が形成されている。こ
の貫通孔は、通常、基板41に対して略垂直に形成さ
れ、その空洞が光の伝送路として機能するものである。
また、垂直導波路42の一端は、前述した第2の水平導
波路32の一端と光学的に結合されている。これによ
り、第2段目の基板の第2の水平導波路32の終端に配
置された光屈曲部34で垂直に立ち上げられた光を、垂
直導波路42を介して、光電変換素子51に導くことが
できる。
As shown in FIG. 2, on the third-stage substrate 41, a vertical waveguide is provided at a portion where the photoelectric conversion element 51 is mounted so as to face the light receiving surface or the light emitting surface of the photoelectric conversion element 51. Through holes for forming 42 are formed. This through hole is usually formed substantially perpendicular to the substrate 41, and its cavity functions as a light transmission path.
Moreover, one end of the vertical waveguide 42 is optically coupled to one end of the second horizontal waveguide 32 described above. As a result, the light vertically raised by the light bending portion 34 arranged at the end of the second horizontal waveguide 32 of the second-stage substrate is transmitted to the photoelectric conversion element 51 via the vertical waveguide 42. I can guide you.

【0084】また、図2に示すように、垂直導波路42
となる貫通孔の壁面には、第1の水平導波路と同様に、
反射膜43が形成されている。なお、反射膜43の材料
および膜厚については、第1の水平導波路と同様であ
る。また、垂直導波路42を構成する空洞は、第1の水
平導波路と同様に、中空のままでもよいが、光透過性媒
質で充填されることが好ましい。この光透過性媒質の材
料は、前述した通りである。
Further, as shown in FIG. 2, the vertical waveguide 42
On the wall surface of the through hole that becomes, like the first horizontal waveguide,
The reflective film 43 is formed. The material and film thickness of the reflective film 43 are the same as those of the first horizontal waveguide. The cavity forming the vertical waveguide 42 may remain hollow as in the first horizontal waveguide, but is preferably filled with a light transmissive medium. The material of the light transmissive medium is as described above.

【0085】上記第1段目、第2段目、第3段目の基板
21、31、41が接合されて、光回路部1が構成され
る。各段の基板には、前述したように、それぞれ光回路
(光回路素子、導波路など)が形成されており、これら
が接合されることにより、各基板の光回路が連結され、
3次元的な立体光路が構成される。
The optical circuit section 1 is constructed by joining the first-stage, second-stage, and third-stage substrates 21, 31, 41. As described above, optical circuits (optical circuit elements, waveguides, etc.) are formed on the substrate of each stage, and by joining these, the optical circuits of the respective substrates are connected,
A three-dimensional three-dimensional optical path is constructed.

【0086】この立体光路における光の伝送動作につい
て、光電変換素子がフォトダイオードなどの受光素子で
ある場合を例にあげて説明する。この場合、この光回路
部は分波器として機能させることができる。まず、外部
光路から、結合部2の光ファイバ14および結合レンズ
15を介して、光信号が第1段目の基板21に入射し、
回折格子28に導かれる。光信号は、図5に示すよう
に、この回折格子28において各波長成分(λ
λ、λ、λ、)に分波され、第1の水平導波路2
6に導かれ、第1段目の基板21面内において導波され
る。そして、図10に示すように、第1の水平導波路2
6を伝送した光は、光屈曲部29の反射鏡で反射して略
垂直に立ち上げられ、第2段目の基板31に形成された
開口を通過して、第2段目の基板31に入射する。そし
て、第2段目の基板31に設けられた光屈曲部34の反
射鏡で第2の水平導波路32に導かれ、第2段目の基板
31面内において導波される。そして、図2に示すよう
に、第2の水平導波路32を伝送した光は、第2の水平
導波路32の終端に設けられた光屈曲部34の反射鏡で
反射し、第3段目の基板41に入射する。そして、第3
段目の基板41に設けられた垂直導波路42を経由し
て、光電変換素子51に到達する。
The light transmission operation in this three-dimensional optical path will be described by taking as an example the case where the photoelectric conversion element is a light receiving element such as a photodiode. In this case, this optical circuit section can function as a demultiplexer. First, an optical signal enters the first-stage substrate 21 from the external optical path through the optical fiber 14 and the coupling lens 15 of the coupling section 2,
It is guided to the diffraction grating 28. As shown in FIG. 5, the optical signal has wavelength components (λ 1 ,
λ 2 , λ 3 , λ 4 , and the first horizontal waveguide 2
6 and guided in the plane of the first-stage substrate 21. Then, as shown in FIG. 10, the first horizontal waveguide 2
The light transmitted through 6 is reflected by the reflecting mirror of the light bending portion 29 and rises substantially vertically, passes through the opening formed in the second-stage substrate 31, and then reaches the second-stage substrate 31. Incident. Then, it is guided to the second horizontal waveguide 32 by the reflecting mirror of the light bending portion 34 provided on the second-stage substrate 31, and guided in the plane of the second-stage substrate 31. Then, as shown in FIG. 2, the light transmitted through the second horizontal waveguide 32 is reflected by the reflecting mirror of the light bending portion 34 provided at the end of the second horizontal waveguide 32, and the third stage Incident on the substrate 41. And the third
The photoelectric conversion element 51 is reached via the vertical waveguide 42 provided on the substrate 41 of the step.

【0087】なお、光電変換素子が、発光ダイオード
(LED)やレーザダイオード(LD)等の発光素子で
ある場合は、上記光回路部は合波器として機能させるこ
とができる。この場合、光電変換素子から発せられた光
が、上記と逆の方向に伝送され、回折格子において合波
されて、結合部を介して外部光路に導かれる。
When the photoelectric conversion element is a light emitting element such as a light emitting diode (LED) or a laser diode (LD), the optical circuit section can function as a multiplexer. In this case, the light emitted from the photoelectric conversion element is transmitted in the opposite direction to the above, is combined in the diffraction grating, and is guided to the external optical path via the coupling section.

【0088】次に、上記光回路部の形成方法について説
明する。
Next, a method of forming the optical circuit section will be described.

【0089】まず、第1段目の基板を作製する。基板表
面に、第1の水平導波路となる溝と、回折格子となる凹
部とを形成する。基板としてシリコンを使用する場合、
形成方法としては、例えば、リソグラフィーおよびエッ
チングによる方法を採用することができる。具体的に
は、まず、基板上にレジストを塗布し、これに所望の回
折格子パターンおよび導波路パターンをリソグラィーに
より転写した後、レジストを現像する。これにより、レ
ジストを、所望の回折格子パターンおよび導波路パター
ンの開口を有する形状にパターニングする。そして、こ
のレジストをマスクとして基板をエッチングすることに
より、所定の形状の溝および凹部を形成することができ
る。エッチングとしては、特に限定するものではない
が、ドライエッチングを採用することが好ましい。な
お、エッチング条件は、所望の溝深さなどに応じて適宜
選択することができる。
First, a first stage substrate is manufactured. A groove that serves as a first horizontal waveguide and a recess that serves as a diffraction grating are formed on the surface of the substrate. When using silicon as the substrate,
As a forming method, for example, a method using lithography and etching can be adopted. Specifically, first, a resist is applied on a substrate, a desired diffraction grating pattern and a waveguide pattern are transferred onto the resist by lithography, and then the resist is developed. As a result, the resist is patterned into a shape having a desired diffraction grating pattern and waveguide pattern opening. Then, by etching the substrate using this resist as a mask, it is possible to form a groove and a recess having a predetermined shape. The etching is not particularly limited, but dry etching is preferably adopted. The etching conditions can be appropriately selected according to the desired groove depth and the like.

【0090】また、第1の水平導波路となる溝の一端
に、光屈曲部を形成するためのテーパーを形成する。こ
のテーパーの形成も同様に、リソグラフィーおよびエッ
チングによって実施することができる。また、リソグラ
フィーの際の露光マスクとしてグレイスケールマスクを
用いれば、レジスト自体をテーパーを有する形状にパタ
ーニングすることが可能であるため、このレジストパタ
ーンに沿ってエッチングを行えば、導波路のための溝お
よびテーパーを同時に形成することも可能である。
Further, a taper for forming a light bent portion is formed at one end of the groove which becomes the first horizontal waveguide. The formation of this taper can be similarly performed by lithography and etching. Further, if a gray scale mask is used as an exposure mask during lithography, the resist itself can be patterned into a tapered shape. Therefore, if etching is performed along this resist pattern, the groove for the waveguide can be formed. It is also possible to form the taper and the taper at the same time.

【0091】エッチングの後、前記溝の壁面に反射膜を
形成するが、この工程に先立って、基板表面(溝の壁面
を含む。)に酸化膜を形成することが好ましい。シリコ
ン基板を使用する場合、この酸化膜の形成方法として
は、例えば、化学気相成長(CVD)法、熱酸化法など
を採用することができる。また、ガラス基板、プラスチ
ック基板を使用する場合は、例えば、化学気相成長(C
VD)法により実施することができる。
After the etching, a reflective film is formed on the wall surface of the groove, but it is preferable to form an oxide film on the surface of the substrate (including the wall surface of the groove) prior to this step. When a silicon substrate is used, as a method of forming this oxide film, for example, a chemical vapor deposition (CVD) method, a thermal oxidation method, or the like can be adopted. When a glass substrate or a plastic substrate is used, for example, chemical vapor deposition (C
VD) method.

【0092】酸化膜形成後、前記溝の壁面に反射膜とな
る金属膜を形成する。このとき、前記テーパーにも金属
膜を形成し、これによって光屈曲部の反射鏡を形成す
る。金属膜を形成する方法としては、例えば、蒸着法、
スパッタリング法、メッキ法などを挙げることができる
が、細部まで均一に成膜できることから、メッキ法、特
に無電解メッキ法を採用することが好ましい。
After forming the oxide film, a metal film serving as a reflection film is formed on the wall surface of the groove. At this time, a metal film is also formed on the taper, thereby forming a reflecting mirror of the light bending portion. As a method of forming a metal film, for example, a vapor deposition method,
Although a sputtering method, a plating method, etc. can be mentioned, it is preferable to adopt a plating method, particularly an electroless plating method, because a film can be formed uniformly in the details.

【0093】無電解メッキ法による金属膜形成の一例に
ついて説明する。まず、メッキを実施する前に、基板の
溝および凹部に前処理を施す。前処理としては、例え
ば、無電解メッキ反応を生じさせるための触媒核を基板
の溝および凹部に付着させる処理が挙げられる。例え
ば、無電解メッキによってNiを含む層を形成する場
合、前処理として、Pd触媒核を含む溶液を基板の溝お
よび凹部に接触させ、その表面にPd触媒核を付着させ
る処理が実施される。続いて、基板の溝および凹部に無
電解ニッケル(Ni)メッキ液を接触させ、NiP層を
形成する。そして、これを置換型無電解金(Au)メッ
キ浴で処理する。これにより、NiP層のNiの一部が
Auで置換され、NiP層表面にAu層が形成される。
この操作により、NiP/Auからなる金属膜を形成す
ることができる。
An example of metal film formation by electroless plating will be described. First, before performing the plating, the groove and the recess of the substrate are pretreated. Examples of the pretreatment include a treatment in which catalyst nuclei for causing an electroless plating reaction are attached to the grooves and recesses of the substrate. For example, when forming a layer containing Ni by electroless plating, as a pretreatment, a treatment containing a solution containing Pd catalyst nuclei is brought into contact with the grooves and recesses of the substrate and the Pd catalyst nuclei are attached to the surface thereof. Then, an electroless nickel (Ni) plating solution is brought into contact with the groove and the recess of the substrate to form a NiP layer. Then, this is treated with a substitution type electroless gold (Au) plating bath. As a result, part of Ni in the NiP layer is replaced with Au, and the Au layer is formed on the surface of the NiP layer.
By this operation, a metal film made of NiP / Au can be formed.

【0094】上記と実質的に同様の方法により、第2段
目の基板および第3段目の基板を作製する。
A second-stage substrate and a third-stage substrate are manufactured by a method substantially similar to the above.

【0095】なお、ガラス基板を用いて導波路および回
折格子などを形成する場合も、同様に、リソグラフィー
およびエッチングを採用することができる。また、従来
から行われているような、ガラス成形を採用してもよ
い。また、プラスチック基板を使用する場合は、シリコ
ン、ガラスなどにより、個々の基板毎に、所望の導波路
および回折格子などの形状をかたどった型を作製し、こ
の型を用いた樹脂成形により実施できる。
When forming a waveguide, a diffraction grating, etc. using a glass substrate, lithography and etching can be similarly adopted. Alternatively, glass molding, which is conventionally performed, may be adopted. When a plastic substrate is used, a mold having a desired waveguide and diffraction grating shape is manufactured for each substrate by using silicon, glass, or the like, and the mold can be formed by resin molding. .

【0096】次に、上記各基板を積層し、互いに接合す
る。基板を接合することにより、各基板に形成された導
波路および光回路素子が互いに連通し、立体光路が構成
される。
Next, the above-mentioned substrates are laminated and bonded to each other. By joining the substrates, the waveguide and the optical circuit element formed on each substrate communicate with each other to form a three-dimensional optical path.

【0097】シリコン基板を使用する場合、基板の接合
は、例えば、拡散接合法によって実施することができ
る。拡散接合法は、各シリコン基板を重ね合わせた状態
で熱処理を施すことにより、シリコン基板表面のSiを
各基板界面で化学的に結合する方法である。熱処理温度
は、例えば900〜1100℃、好ましくは1000℃
であり、処理時間は、例えば1〜5時間である。また、
熱処理は、不活性雰囲気下で実施することが好ましく、
特に窒素雰囲気下で実施することが好ましい。
When a silicon substrate is used, the substrates can be joined by, for example, a diffusion joining method. The diffusion bonding method is a method of chemically bonding Si on the surface of a silicon substrate at the interface of each substrate by performing heat treatment in a state where the silicon substrates are superposed on each other. The heat treatment temperature is, for example, 900 to 1100 ° C., preferably 1000 ° C.
And the processing time is, for example, 1 to 5 hours. Also,
The heat treatment is preferably carried out in an inert atmosphere,
It is particularly preferable to carry out under a nitrogen atmosphere.

【0098】また、プラスチック基板を使用する場合
は、例えば、超音波溶着法によって実施することができ
る。また、紫外線硬化型樹脂などの接着剤を用いて接合
してもよい。また、ガラス基板を使用する場合は、紫外
線硬化型樹脂などの接着剤を用いて接合することができ
る。
When a plastic substrate is used, it can be carried out, for example, by ultrasonic welding. Alternatively, they may be joined using an adhesive such as an ultraviolet curable resin. When glass substrates are used, they can be bonded using an adhesive such as an ultraviolet curable resin.

【0099】また、ガラスとプラスチック、ガラスとシ
リコンなど、異種の基板を接合することも可能である。
この場合、ガラスとプラスチックの接合は紫外線硬化性
(UV)樹脂などの接着剤による接着が採用でき、ガラ
スとシリコンとの接合には、陽極接合を採用することが
できる。
It is also possible to bond different types of substrates such as glass and plastic and glass and silicon.
In this case, the glass and the plastic can be bonded by using an adhesive such as an ultraviolet curable (UV) resin, and the glass and the silicon can be bonded by anodic bonding.

【0100】また、上記説明においては、導波路の壁面
を被覆する反射膜の形成を、基板の接合前に、各基板毎
に実施している。しかしながら、基板を接合して、各基
板に形成された空洞(溝、貫通孔など)を連通させた
後、この連通した空洞の壁面に一括して反射膜を形成す
ることが好ましい。このように、光回路を構成する空洞
を一体化し、各基板の空洞に対して一括して反射膜を形
成すれば、光回路からの光漏れを極力抑えることができ
る。
Further, in the above description, the formation of the reflection film for covering the wall surface of the waveguide is carried out for each substrate before joining the substrates. However, it is preferable to bond the substrates to communicate the cavities (grooves, through holes, etc.) formed in each substrate and then collectively form the reflection film on the wall surfaces of the communicated cavities. In this way, by integrating the cavities that form the optical circuit and forming the reflective film collectively in the cavities of the respective substrates, light leakage from the optical circuit can be suppressed as much as possible.

【0101】また、この場合、反射膜の形成に先立って
実施される酸化膜の形成についても、特に熱酸化法を採
用する場合は、基板接合後に一括して実施することも可
能である。但し、化学気相成長法を採用する場合は、各
基板ごとに実施することが好ましい。
Further, in this case, the formation of the oxide film, which is performed prior to the formation of the reflection film, can be collectively performed after the substrate bonding, particularly when the thermal oxidation method is adopted. However, when the chemical vapor deposition method is adopted, it is preferable to perform it for each substrate.

【0102】この場合、反射膜の形成は、例えば、各基
板を接合した後、得られた積層体を無電解メッキを行う
ための各種液体中に浸漬するか、または、積層体に形成
された空洞に前記各種液体を強制注入することによっ
て、実施することができる。浸漬は、特に、真空中もし
くは減圧雰囲気中において実施することが効果的であ
る。また、強制注入は、例えば、注射器などのようなマ
イクロシリンジ、マイクロポンプなどを用いて実施する
ことができる。
In this case, the reflection film is formed, for example, by joining the substrates and then immersing the obtained laminated body in various liquids for performing electroless plating, or formed on the laminated body. It can be carried out by forcibly injecting the various liquids into the cavity. It is particularly effective to carry out the immersion in a vacuum or a reduced pressure atmosphere. The forced injection can be carried out using, for example, a microsyringe such as a syringe, a micropump, or the like.

【0103】上記方法によって、壁面が反射膜で被覆さ
れた中空の導波路を形成することができるが、更に、こ
の導波路内に、各波長に対して光透過性媒質を充填する
ことが好ましい。この工程は、例えば、媒質が液体であ
る場合は、これを空洞内に注入することにより実施する
ことができる。また、媒質として樹脂を使用する場合
は、例えば、未硬化で流動性を有する状態の光硬化樹脂
を、例えばマイクロシリンジなどによる強制注入によっ
て、空洞内に注入した後、紫外光などの光を導波路入口
から照射して、導波路内の樹脂を硬化させる方法を使用
することができる。このとき、導波路内に反射膜が形成
されているため、光を導波路内に効率良く伝搬させるこ
とができ、基板内部の導波路内の樹脂をも効率良く硬化
させることができる。
By the above method, a hollow waveguide whose wall surface is coated with a reflection film can be formed. Further, it is preferable that the waveguide is filled with a light transmitting medium for each wavelength. . This step can be performed, for example, by injecting the medium into a cavity when the medium is a liquid. When a resin is used as the medium, for example, an uncured and fluid photocurable resin is injected into the cavity by forced injection, such as with a microsyringe, and then light such as ultraviolet light is guided. A method of irradiating from the waveguide entrance to cure the resin in the waveguide can be used. At this time, since the reflective film is formed in the waveguide, light can be efficiently propagated in the waveguide, and the resin in the waveguide inside the substrate can also be efficiently cured.

【0104】なお、導波路の反射膜を基板接合後に一括
して実施する場合は、この光透過媒質の充填に先立っ
て、導波路の空洞内からメッキ液に含まれる水分を追い
出す工程を実施することが好ましい。この工程は、例え
ば、窒素ガスなどの不活性ガスを空洞内に注入すること
によって、実施できる。
When the reflection film of the waveguide is collectively carried out after the substrate is bonded, a step of expelling the water contained in the plating solution from the inside of the cavity of the waveguide is carried out before the filling of the light transmitting medium. It is preferable. This step can be performed, for example, by injecting an inert gas such as nitrogen gas into the cavity.

【0105】以上の処理を行った後、第3段目の基板表
面に、電気配線を形成する。電気配線の形成は、従来か
ら知られている方法、例えば、スパッタリング法および
蒸着法などにより金属膜を成膜した後、リソグラフィー
およびエッチングによりこの金属膜をパターニングする
方法により実施することができる。また、リフトオフ法
を採用することも可能である。更に、電気配線のための
成膜方法としては、メッキ法を採用することも可能であ
る。更に、第3段目の基板表面に、光電変換素子および
電子部品を実装する。実装は、例えば、半田、接着剤な
どを用いて実施することができる。
After the above processing, electric wiring is formed on the surface of the third stage substrate. The electric wiring can be formed by a conventionally known method, for example, a method of forming a metal film by a sputtering method, an evaporation method or the like, and then patterning the metal film by lithography and etching. It is also possible to adopt the lift-off method. Further, a plating method can be adopted as a film forming method for electric wiring. Further, the photoelectric conversion element and the electronic component are mounted on the surface of the third stage substrate. The mounting can be performed using, for example, solder, an adhesive, or the like.

【0106】更に、図1に示すように、光回路部1にお
いては、最下層の基板(第1段目の基板)21裏面に金
属層101が積層されている。光回路部に実装される光
電変換素子および電子部品の種類によっては、その動作
時に熱を発する場合がある。例えば、光電変換素子とし
てレーザダイオードを使用した場合、発光を生じる際に
熱を発生する。本実施形態では、最下層の基板21裏面
に金属層101を積層することにより、このような発熱
が生じた場合であっても、基板に蓄積された熱を金属層
を介して効率良く放熱することができる。
Further, as shown in FIG. 1, in the optical circuit section 1, the metal layer 101 is laminated on the back surface of the substrate 21 (first stage substrate) of the lowermost layer. Depending on the types of the photoelectric conversion element and the electronic component mounted in the optical circuit section, heat may be generated during the operation. For example, when a laser diode is used as the photoelectric conversion element, heat is generated when light is emitted. In the present embodiment, by stacking the metal layer 101 on the back surface of the substrate 21 which is the lowermost layer, even if such heat is generated, the heat accumulated in the substrate is efficiently radiated through the metal layer. be able to.

【0107】また、金属層101を積層することによっ
て、基板に靭性が付与されるため割れ難くなる。例え
ば、基板の厚みが100μm以下であっても、金属層を
積層することによって、実用に損傷のない靭性を付与す
ることができる。
By laminating the metal layer 101, toughness is imparted to the substrate, which makes it difficult to crack. For example, even if the thickness of the substrate is 100 μm or less, by stacking a metal layer, it is possible to impart toughness without practical damage.

【0108】金属層101を形成する金属としては、例
えば、Cu、Ni、Crなど、熱伝導性のよいものが望
ましい。また、前記金属層101の厚みは、例えば10
〜1000μmであり、好ましくは100〜500μm
である。
As the metal forming the metal layer 101, for example, those having good thermal conductivity such as Cu, Ni, Cr are desirable. The thickness of the metal layer 101 is, for example, 10
To 1000 μm, preferably 100 to 500 μm
Is.

【0109】基板21に金属層101を接合する場合、
基板21の金属層101との接合面には微小突起または
窪みが形成されていることが好ましい。この微小突起ま
たは窪みは、通常、基板と同材料で構成されるものであ
る。また、微小突起または窪みの高さまたは深さは、特
に限定するものではないが、例えば10nm以上100
μm以下である。また、微小突起または窪みのピッチに
ついても、特に限定するものではないが、例えば10n
m以上100μm以下である。
When the metal layer 101 is bonded to the substrate 21,
It is preferable that minute protrusions or dents are formed on the bonding surface of the substrate 21 with the metal layer 101. The minute protrusions or depressions are usually made of the same material as the substrate. The height or depth of the minute protrusions or depressions is not particularly limited, but is, for example, 10 nm or more and 100 nm or more.
μm or less. The pitch of the minute protrusions or depressions is also not particularly limited, but is, for example, 10n.
m or more and 100 μm or less.

【0110】前記微小突起または窪みは、例えば、基板
としてシリコンを使用する場合、次のような方法で形成
することができる。まず、シリコン基板上にポリフッ化
エチレン系樹脂などの有機化合物層を形成し、その有機
化合物の上からシリコン基板をドライエッチングする。
一定時間ドライエッチング後、再度有機化合物層を形成
し、更に一定時間ドライエッチングを行う。この操作の
繰り返しで、シリコン基板の表面には無数の針状のシリ
コン突起が形成される。針状突起の高さは、ドライエッ
チング時間、操作回数で制御できる。例えば、エッチン
グ時間3分、操作回数10回で、平均突起高さ1.2μ
mの針状突起を形成することができる。有機化合物層の
厚みは適宜でよいが、例えば50nm程度とすることで
きる。
The minute protrusions or depressions can be formed by the following method when, for example, silicon is used as the substrate. First, an organic compound layer such as a polyfluoroethylene resin is formed on a silicon substrate, and the silicon substrate is dry-etched on the organic compound layer.
After dry etching for a certain period of time, the organic compound layer is formed again, and dry etching is further performed for a certain period of time. By repeating this operation, innumerable needle-shaped silicon protrusions are formed on the surface of the silicon substrate. The height of the needle-shaped protrusions can be controlled by the dry etching time and the number of operations. For example, when the etching time is 3 minutes and the number of operations is 10, the average protrusion height is 1.2 μm.
m needle-like protrusions can be formed. The thickness of the organic compound layer may be appropriate, but may be about 50 nm, for example.

【0111】ここで、ドライエッチングとしては、反応
性イオンエッチング(RIE)を採用することが好まし
い。この場合、エッチングガスとしては、例えば、フッ
素系ガス、またはフッ素系ガスにO2などを混合した混
合ガスなどを膜質に応じて適宜選択することができる。
フッ素系ガスとしては、例えば、CHF3、CH22
CH3F、CF4、C26、C24、C38、C48など
が挙げられる。
Here, as the dry etching, it is preferable to adopt reactive ion etching (RIE). In this case, as the etching gas, for example, a fluorine-based gas, a mixed gas of a fluorine-based gas mixed with O 2 or the like can be appropriately selected depending on the film quality.
Examples of the fluorine-based gas include CHF 3 , CH 2 F 2 ,
CH 3 F, CF 4, C 2 F 6, C 2 F 4, C 3 F 8, C 4 , etc. F 8 and the like.

【0112】また、ガラス基板を使用する場合は、ドラ
イエッチングにおけるガスをSF6、BCl3、Cl2
のガスに変更すれば、同様な微細な針状の凹凸を得るこ
とができる。
When a glass substrate is used, the same fine needle-like irregularities can be obtained by changing the gas used in dry etching to a gas such as SF 6 , BCl 3 or Cl 2 .

【0113】一方、ガラス基板を使用する場合は、ドラ
イエッチングにおけるエッチングガスをSF6、BC
3、Cl2等のガスに、ウエットエッチングにおけるエ
ッチング液をフッ酸(HF)、バッファードフッ酸(B
HF)などに変更すれば、上記シリコン基板と同様の方
法によって、微小突起または窪みを形成することができ
る。
On the other hand, when a glass substrate is used, the etching gas for dry etching is SF 6 , BC.
l 3, the gas 2 such as Cl, hydrofluoric acid etching solution in wet etching (HF), buffered hydrofluoric acid (B
If it is changed to HF) or the like, it is possible to form the minute protrusions or the depressions by the same method as that for the silicon substrate.

【0114】上記のようにして微小突起または窪みが形
成された基板21表面に、金属層101が形成される
が、この金属層101の形成方法としては、例えば、メ
ッキ法を採用することができる。メッキ法としては、前
述したような、導波路の反射膜形成と同様の無電解メッ
キ法を採用することができる。すなわち、熱酸化などの
方法により基板表面に酸化膜を形成し、表面処理を行っ
た後、無電解メッキにより金属層を形成することができ
る。また、無電解メッキにより下地層を形成した後、更
に電解メッキによってこの下地層を被覆する用に金属膜
を成長させてもよい。この場合、例えば、下地層として
NiP膜を形成し、電解メッキによってNi、Cuなど
を形成する方法を採用できる。
The metal layer 101 is formed on the surface of the substrate 21 on which the fine protrusions or depressions are formed as described above. As a method of forming this metal layer 101, for example, a plating method can be adopted. . As the plating method, the above-mentioned electroless plating method similar to the formation of the reflection film of the waveguide can be adopted. That is, it is possible to form an oxide film on the substrate surface by a method such as thermal oxidation, perform surface treatment, and then form a metal layer by electroless plating. Alternatively, after forming the underlayer by electroless plating, a metal film may be grown to cover the underlayer by electrolytic plating. In this case, for example, a method of forming a NiP film as a base layer and forming Ni, Cu or the like by electrolytic plating can be adopted.

【0115】このように、無電解メッキを採用すること
により、微細な凹凸が形成された基板表面に対して、非
常に均一な金属層を形成することができる。これは、無
電解メッキにより形成される膜は基板表面と化学的に接
合されるためである。この化学的な接合と、基板の微細
凹凸との間でのアンカー効果による物理的な接合との組
み合わせにより、強固に基板と金属層とを接合すること
ができる。
As described above, by adopting the electroless plating, it is possible to form a very uniform metal layer on the surface of the substrate on which fine irregularities are formed. This is because the film formed by electroless plating is chemically bonded to the substrate surface. The combination of this chemical bonding and the physical bonding by the anchor effect between the fine irregularities of the substrate can firmly bond the substrate and the metal layer.

【0116】なお、金属層の形成に電解メッキ法を用い
てもよい。この場合、基板と金属層との間の接合は、ア
ンカー効果による接合のみであるが、基板の微小突起の
高さまたは窪みの深さ、ピッチ、形状等を適宜選択する
ことにより、強固な接合が得られる。
Note that an electrolytic plating method may be used for forming the metal layer. In this case, the bonding between the substrate and the metal layer is only the bonding by the anchor effect, but by appropriately selecting the height, the depth, the pitch, the shape, etc. of the minute protrusions of the substrate, the strong bonding Is obtained.

【0117】図1に示すように、上記結合部2と上記光
回路部1とが組み合わされて光通信部品が構成される。
このとき、光回路部1に形成された導波路の一端が、結
合部2の光結合部品と対向するように配置される。図1
に示す例においては、光回路部1と結合部2は、第1段
目の基板21に形成された光回路素子28(回折格子)
への入射口が結合レンズ15と対向するように配置され
ている(図4参照)。これにより、光回路部1を、結合
レンズ15を介して光ファイバー14と光学的に結合さ
せ、更に、この光ファイバーを介して外部光路と光学的
に結合させることができる。
As shown in FIG. 1, an optical communication component is constructed by combining the coupling section 2 and the optical circuit section 1.
At this time, one end of the waveguide formed in the optical circuit unit 1 is arranged so as to face the optical coupling component of the coupling unit 2. Figure 1
In the example shown in, the optical circuit unit 1 and the coupling unit 2 are the optical circuit element 28 (diffraction grating) formed on the first-stage substrate 21.
It is arranged so that the entrance port to the coupling lens 15 faces the coupling lens 15 (see FIG. 4). Accordingly, the optical circuit unit 1 can be optically coupled to the optical fiber 14 via the coupling lens 15, and further optically coupled to the external optical path via the optical fiber.

【0118】なお、図1においては、第1段目の基板2
1上に、別体のものとして作製された結合部11を搭載
した形態を示したが、本発明は、これに限定されるもの
ではない。例えば、第1段目の基板表面に実装用溝など
を形成し、この第1段目の基板上に直接光ファイバなど
の光結合部品を実装してもよい。
In FIG. 1, the first-stage substrate 2
Although the configuration in which the coupling portion 11 which is manufactured as a separate body is mounted on the above-mentioned 1 is shown, the present invention is not limited to this. For example, a mounting groove or the like may be formed on the surface of the first stage substrate, and an optical coupling component such as an optical fiber may be directly mounted on the first stage substrate.

【0119】上記説明においては、光回路部が3層の基
板で構成された形態を例示したが、本発明は、これに限
定されるものではない。光回路部が1層の基板のみで構
成されていても、4層以上の基板で構成されていてもよ
い。
In the above description, the form in which the optical circuit section is composed of the three-layer substrate has been illustrated, but the present invention is not limited to this. The optical circuit section may be composed of only a single-layer substrate or may be composed of four or more layers of substrates.

【0120】また、上記説明においては、光回路部を構
成する基板表面に電気配線を形成し、この電気配線によ
って、光電変換素子および電子部品を配線しているが、
本発明はこのような形態に限定されるものではない。例
えば、導波路内に形成された反射膜が金属膜などの導電
性材料で構成される場合、この反射膜を電気配線として
使用することも可能である。
Further, in the above description, the electric wiring is formed on the surface of the substrate forming the optical circuit section, and the photoelectric conversion element and the electronic component are wired by the electric wiring.
The present invention is not limited to such a form. For example, when the reflective film formed in the waveguide is made of a conductive material such as a metal film, this reflective film can be used as an electric wiring.

【0121】また、上記説明においては、光回路部に、
光電変換素子および電子部品を実装した場合を例示した
が、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、
第3段目の基板上に、光電変換素子および電子部品に代
えて、光学部品を実装することも可能である。図16
に、このような形態の光通信部品の一例を示す。図16
に示す例では、光学部品として、光ファイバ14と、透
明版102の両面にレンズ凸面103が形成されてなる
マイクロレンズアレイを実装している。このような形態
とすることにより、本光通信部品を光−光結合素子とし
て使用することができる。第3段目の基板に光学部品を
実装する方法としては、前述したような、結合部におけ
る光結合部品の実装方法と同様にして実施することがで
きる。また、第2〜第4の実施形態として後述するよう
な方法を採用することも可能である。
In the above description, the optical circuit section is
Although the case where the photoelectric conversion element and the electronic component are mounted is illustrated, the present invention is not limited to this. For example,
It is also possible to mount an optical component on the third stage substrate instead of the photoelectric conversion element and the electronic component. FIG.
Shows an example of the optical communication component of such a form. FIG.
In the example shown in (1), an optical fiber 14 and a microlens array having lens convex surfaces 103 formed on both surfaces of the transparent plate 102 are mounted as optical components. With this configuration, the optical communication component can be used as an optical-optical coupling element. The method of mounting the optical component on the third-stage substrate can be performed in the same manner as the method of mounting the optical coupling component in the coupling portion as described above. It is also possible to adopt the methods described below as the second to fourth embodiments.

【0122】(第2の実施形態)第1の実施形態では、
結合部において、光結合部品を接着剤によって支持体に
固定した場合を例示した。しかしながら、より強固に固
定できることから、ハンダなどの金属接合により固定す
ることが好ましい。以下、このような形態について説明
する。
(Second Embodiment) In the first embodiment,
The case where the optical coupling component is fixed to the support by the adhesive at the coupling portion is illustrated. However, since it can be more firmly fixed, it is preferable to fix it by metal bonding such as solder. Hereinafter, such a form will be described.

【0123】本実施形態においても、第1の実施形態と
同様に、結合部を構成する支持体に実装用溝および接着
用溝を形成する。なお、本実施形態においては、支持体
として、シリコンを使用することが好ましいが、プラス
チック、ガラスなども適用可能である。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the mounting groove and the bonding groove are formed in the support member that constitutes the coupling portion. In this embodiment, silicon is preferably used as the support, but plastic, glass, etc. are also applicable.

【0124】更に、実装用溝の少なくとも光結合部品と
接する部分に金属膜を形成する。この金属膜は、実装用
溝だけでなく、接着用溝の壁面にも形成されていること
が好ましい。金属としては、例えばAu、Ag、Niお
よびCuなどが挙げられるが、特に、耐食性に優れるこ
とからAuが好ましい。なお、金属膜の形成方法として
はメッキを採用することができ、特に、溝の隅々にまで
均一に成膜できることから、無電解メッキを採用するこ
とが好ましい。
Further, a metal film is formed on at least a portion of the mounting groove which is in contact with the optical coupling component. This metal film is preferably formed not only on the mounting groove but also on the wall surface of the bonding groove. Examples of the metal include Au, Ag, Ni and Cu, and Au is particularly preferable because it has excellent corrosion resistance. As a method for forming the metal film, plating can be adopted, and in particular, electroless plating is preferably used because the film can be uniformly formed even in every corner of the groove.

【0125】無電解メッキ法による金属膜の形成方法の
一例について説明する。まず、メッキを実施する前に、
支持体に前処理を施す。前処理としては、例えば、無電
解メッキによってNiを含む層を形成する場合、Pd触
媒核を含む溶液に支持体を浸漬し、その表面にPd触媒
核を付着させる処理が実施される。続いて、前記支持体
を無電解メッキ浴に浸漬する。この工程の一例を挙げる
と、先ず、無電解ニッケル(Ni)メッキ浴で処理し、
NiP層を形成する。そして、これを置換型無電解金
(Au)メッキ浴で処理する。これにより、NiP層の
Niの一部がAuで置換され、NiP層表面にAu層が
形成される。この操作により、NiP/Auからなる金
属膜を形成することができる。
An example of a method of forming a metal film by electroless plating will be described. First, before performing plating,
The substrate is pretreated. As the pretreatment, for example, when a layer containing Ni is formed by electroless plating, the support is immersed in a solution containing Pd catalyst nuclei and the Pd catalyst nuclei are attached to the surface thereof. Then, the support is immersed in an electroless plating bath. To give an example of this step, first, treatment with an electroless nickel (Ni) plating bath,
A NiP layer is formed. Then, this is treated with a substitution type electroless gold (Au) plating bath. As a result, part of Ni in the NiP layer is replaced with Au, and the Au layer is formed on the surface of the NiP layer. By this operation, a metal film made of NiP / Au can be formed.

【0126】また、光結合部品の前記支持体との接着面
(すなわち、側面)にも、金属膜を形成する。金属とし
ては、上記同様の金属を使用することができる。また、
金属膜の形成方法としては、公知の種々の方法を採用す
ることができるが、メッキを採用することが好ましく、
特に無電解メッキを採用することが好ましい。また、こ
の光結合部品への金属膜の形成は、支持体の実装溝に配
置される前に実施することが好ましい。
Further, a metal film is also formed on the surface (that is, the side surface) of the optical coupling component that is bonded to the support. As the metal, the same metal as described above can be used. Also,
As a method for forming the metal film, various known methods can be adopted, but it is preferable to use plating.
It is particularly preferable to use electroless plating. Further, it is preferable that the formation of the metal film on the optical coupling component is performed before the metal film is arranged in the mounting groove of the support.

【0127】光学結合部品の側面に対する金属膜の形成
は、上記支持体への金属膜と同様の方法によって実施す
ることが可能である。但し、光結合部品は、その入射面
から出射面にかけて光を透過させる必要があるため、金
属膜の形成は、入射面および出射面を除く表面、すなわ
ち側面のみに施す必要がある。このように、光結合部品
の側面のみに金属膜を形成する方法としては、次のよう
な方法を採用することができる。
The formation of the metal film on the side surface of the optical coupling component can be carried out by the same method as the metal film on the support. However, since the optical coupling component needs to transmit light from the incident surface to the emission surface, the metal film needs to be formed only on the surface except the incident surface and the emission surface, that is, the side surface. As described above, as a method of forming the metal film only on the side surface of the optical coupling component, the following method can be adopted.

【0128】まず、光結合部品の入射面および出射面
を、カーボンまたはフッ素化カーボンで被覆し、この入
射面および出射面の表面エネルギーを低下させる。カー
ボンによる被覆は、例えば、カーボンをスパッタリング
することにより行うことができる。また、フッ素化カー
ボンによる被覆は、例えば、CF4、C26などのフッ
素含有ガスによるプラズマ処理によって実施することが
できる。
First, the incident surface and the emission surface of the optical coupling component are coated with carbon or fluorinated carbon to reduce the surface energy of the incident surface and the emission surface. The coating with carbon can be performed, for example, by sputtering carbon. The coating with fluorinated carbon can be carried out by plasma treatment with a fluorine-containing gas such as CF 4 or C 2 F 6 .

【0129】次いで、この光結合部品を無電解メッキ処
理する。この工程について、無電解ニッケル(Ni)メ
ッキおよび無電解金(Au)メッキにより、NiP/A
u層を形成する場合を例に挙げて説明する。無電解Ni
メッキ反応を起こさせるためには、Pd触媒核を光結合
部品表面に付着させる必要がある。光結合部品の入射面
および出射面は、上述したように、カーボンまたはフッ
素化カーボンで被覆され、表面エネルギーが低下してい
る。このため、Pd触媒核の溶液に光結合部品を浸漬す
る工程において、光結合部品の入射面および出射面には
Pd触媒核が付着せず、その側面のみにPd触媒核が付
着する。この工程の後、無電解Niめっき浴に光結合部
品を浸漬すると、光結合部品の側面のみにNiP層が形
成される。次いで、置換型無電解Auメッキ浴に光結合
部品を浸漬する。この置換型無電解Auメッキでは、N
iP層のNiがAuに置換されることにより、Au層が
形成される。よって、NiP層が形成された側面のみに
Auがメッキされる。この一連の操作により、光結合部
品の側面のみにNiP/Au層を形成することができ
る。
Next, this optical coupling part is subjected to electroless plating. About this process, electroless nickel (Ni) plating and electroless gold (Au) plating are applied to form NiP / A.
The case of forming the u layer will be described as an example. Electroless Ni
In order to cause the plating reaction, it is necessary to attach Pd catalyst nuclei to the surface of the optical coupling component. As described above, the entrance surface and the exit surface of the optical coupling component are coated with carbon or fluorinated carbon, and the surface energy is reduced. Therefore, in the step of immersing the optical coupling component in the solution of the Pd catalytic nucleus, the Pd catalytic nucleus does not adhere to the incident surface and the emitting surface of the optical coupling component, but the Pd catalytic nucleus adheres only to the side surface. After this step, when the optical coupling component is immersed in the electroless Ni plating bath, the NiP layer is formed only on the side surface of the optical coupling component. Then, the optical coupling part is immersed in the substitution type electroless Au plating bath. In this substitution type electroless Au plating, N
The Au layer is formed by substituting Au for Ni in the iP layer. Therefore, Au is plated only on the side surface on which the NiP layer is formed. By this series of operations, the NiP / Au layer can be formed only on the side surface of the optical coupling component.

【0130】前述したように、本実施形態においては、
光結合部品の支持体への実装は、ハンダ付けによって実
施される。上記光結合部品および支持体は、それぞれの
接触面に金属膜が形成されているため、ハンダによる接
続が可能となるのである。ハンダによる接着は、樹脂な
どによる接着に比べて高い接着強度が得られるため、よ
り強固に光結合部品を支持体上に固定することができ
る。
As described above, in this embodiment,
The mounting of the optical coupling component on the support is performed by soldering. Since the metal film is formed on each of the contact surfaces of the optical coupling component and the support, connection by soldering is possible. Bonding with solder provides higher bonding strength than bonding with resin or the like, so that the optical coupling component can be more firmly fixed onto the support.

【0131】なお、上記説明においては、ハンダによる
接着について説明したが、例えば、金属溶着など、その
他の金属接合によっても同様に、光結合部品を支持体上
に強固に固定することが可能である。
In the above description, the bonding by solder has been described, but similarly, the optical coupling component can be firmly fixed on the support body by other metal joining such as metal welding. .

【0132】また、上記説明においては、第1の実施形
態と同様に、支持体に接着剤用溝を設けたが、本実施形
態においては、特に接着剤用溝を設ける必要はない。
Further, in the above description, as in the first embodiment, the groove for the adhesive is provided in the support, but in this embodiment, the groove for the adhesive is not particularly required to be provided.

【0133】(第3の実施形態)第2の実施形態では、
結合部において、強固な接着を実現するために、光結合
部品を金属接合によって支持体に固定した場合を例示し
た。しかしながら、光結合部品および支持体の少なくと
も一方にシランカップリング剤による処理を施すことに
より、接着剤によっても強固な接着を実現することがで
きる。このような形態によれば、光結合部品および支持
体に金属膜を形成することなく、両者を強固に接着固定
することが可能となる。以下、このような形態について
説明する。
(Third Embodiment) In the second embodiment,
The case where the optical coupling component is fixed to the support by metal bonding in order to realize strong adhesion at the coupling portion is illustrated. However, by applying a treatment with a silane coupling agent to at least one of the optical coupling component and the support, firm adhesion can be realized with an adhesive. According to such a form, it becomes possible to firmly bond and fix the optical coupling component and the support without forming a metal film. Hereinafter, such a form will be described.

【0134】本実施形態においては、まず、支持体の実
装溝の少なくとも光結合部品と接する部分にシランカッ
プリング剤を付着させる。また、光結合部品の前記支持
体との接着面(すなわち、側面)にも、シランカップリ
ング剤を付着させる。その後、両者を紫外線硬化型樹脂
などの接着剤で固定接着する。
In the present embodiment, first, a silane coupling agent is attached to at least a portion of the mounting groove of the support which is in contact with the optical coupling component. Further, the silane coupling agent is also attached to the adhesive surface (that is, the side surface) of the optical coupling component with the support. After that, the both are fixed and bonded with an adhesive such as an ultraviolet curable resin.

【0135】この際、使用するシランカップリング剤を
一旦加水分解させ、この加水分解させたシランカップリ
ング剤を、光結合部品の少なくとも側面および支持体の
実装用溝に付着させた後、両者を紫外線硬化型樹脂など
の接着剤で固定接着することが好ましい。更に好ましく
は、前記加水分解させたシランカップリング剤を付着さ
せた後、前記光結合部品および前記支持体に熱処理を施
し、その後両者を紫外線硬化型樹脂で固定接着すること
が好ましい。熱処理温度は、例えば120℃以上であ
り、好ましくは120〜200℃、更に好ましくは12
0〜150℃である。
At this time, the silane coupling agent to be used is once hydrolyzed, and the hydrolyzed silane coupling agent is adhered to at least the side surface of the optical coupling component and the mounting groove of the support, and then both of them are attached. It is preferable to fix and adhere with an adhesive such as an ultraviolet curable resin. More preferably, it is preferable that after the hydrolyzed silane coupling agent is attached, the optical coupling component and the support are subjected to heat treatment, and then both are fixedly adhered with an ultraviolet curable resin. The heat treatment temperature is, for example, 120 ° C. or higher, preferably 120 to 200 ° C., more preferably 12
It is 0 to 150 ° C.

【0136】なお、上記説明においては、シランカップ
リング剤による処理が、支持体および光結合部品の両方
に施される場合を例示したが、この処理は、支持体およ
び光結合部品のいずれか一方のみに施されていてもよ
い。
In the above description, the case where the treatment with the silane coupling agent is applied to both the support and the optical coupling component has been exemplified. However, this treatment is applied to either the support or the optical coupling component. It may be applied only to.

【0137】また、本実施形態においては、第1の実施
形態と同様に、支持体に接着剤用溝を設けてもよいが、
特に接着剤用溝を設ける必要はない。
In this embodiment, as in the first embodiment, the support may be provided with an adhesive groove.
In particular, it is not necessary to provide an adhesive groove.

【0138】(第4の実施形態)本実施形態では、結合
部の結合レンズとして、マイクロレンズまたはマイクロ
レンズアレイを使用した形態について説明する。
(Fourth Embodiment) In this embodiment, a mode in which a microlens or a microlens array is used as the coupling lens of the coupling section will be described.

【0139】マイクロレンズは、透明板の両面に一対の
レンズ凸面が設けられた構造を有している。また、マイ
クロレンズアレイは、前記レンズ凸面が複数対設けられ
た構造を有している。なお、透明板とレンズ凸面とは同
一材料により構成され、更には一体成形されていること
が好ましい。
The microlens has a structure in which a pair of lens convex surfaces is provided on both surfaces of a transparent plate. The microlens array has a structure in which a plurality of pairs of the lens convex surfaces are provided. The transparent plate and the convex surface of the lens are preferably made of the same material, and are preferably integrally molded.

【0140】このようなマイクロレンズ(アレイ)は、
透明版の両面に一対のレンズ面を形成することにより、
光軸合せが容易となるという利点を有している。また、
前記マイクロレンズ(アレイ)として、支持体と同素材
のものを使用すると、レンズとベンチの膨張率を同じに
することができるため、光軸合せの精度が一段と向上す
る。
Such a microlens (array) is
By forming a pair of lens surfaces on both sides of the transparent plate,
It has an advantage that optical axis alignment becomes easy. Also,
If the same material as the support is used as the microlens (array), the expansion coefficient of the lens and the bench can be made the same, so that the accuracy of optical axis alignment is further improved.

【0141】前記マイクロレンズ(アレイ)としては、
シリコンが好適に使用される。シリコンは高屈折率であ
るため、レンズの曲率を小さくすることができ、収差を
小さくして、焦点スポット径を小さくすることができ
る。よって、コンパクト化が可能であるという利点を有
している。しかも、平面アレイ化が容易であり、複数の
レンズ凸面をドライエッチングなどの手法により一括成
形できる。更に、各レンズ凸面に対して反射防止膜など
形成する場合にも、この成膜処理を透明板全面に対して
実施することにより、複数のレンズ凸面に対して一括し
て成膜できる。
As the microlens (array),
Silicon is preferably used. Since silicon has a high refractive index, the curvature of the lens can be reduced, the aberration can be reduced, and the focal spot diameter can be reduced. Therefore, it has an advantage that it can be made compact. Moreover, it is easy to form a planar array, and a plurality of lens convex surfaces can be collectively molded by a method such as dry etching. Further, even when an antireflection film or the like is formed on each lens convex surface, by performing this film forming process on the entire transparent plate, it is possible to collectively form a film on a plurality of lens convex surfaces.

【0142】シリコンマイクロレンズ(アレイ)を支持
体上に配置する場合、接着剤などを用いることなく、支
持体に直接固定することができる。
When the silicon microlens (array) is arranged on the support, it can be directly fixed to the support without using an adhesive or the like.

【0143】図13および図14は、このような固定方
法を説明するための平面図である。先ず、図13に示す
ように、支持体11に異方性エッチングを施し、台形溝
16を形成する。そして、ダイシングにより、支持体表
面に対して垂直な溝(固定用溝)17を形成する。な
お、図中12は、光ファイバを実装するための実装用溝
であり、14は実装用溝に固定された光ファイバであ
る。その後、図14に示すように、固定用溝17に、透
明板102の両面にレンズ凸面103が一体形成されて
なるマイクロレンズアレイを挿入し、固定する。図15
は、マイクロレンズアレイが支持体に固定された状態を
示す断面図である。これにより、マイクロレンズアレイ
を支持体に簡単に固定することができる。
13 and 14 are plan views for explaining such a fixing method. First, as shown in FIG. 13, the support 11 is anisotropically etched to form a trapezoidal groove 16. Then, a groove (fixing groove) 17 perpendicular to the surface of the support is formed by dicing. In the figure, 12 is a mounting groove for mounting an optical fiber, and 14 is an optical fiber fixed in the mounting groove. After that, as shown in FIG. 14, a microlens array having lens convex surfaces 103 integrally formed on both surfaces of the transparent plate 102 is inserted into the fixing groove 17 and fixed. Figure 15
[FIG. 3] is a cross-sectional view showing a state in which the microlens array is fixed to a support. This allows the microlens array to be easily fixed to the support.

【0144】なお、支持体へのマイクロレンズ(アレ
イ)の実装は、上記方法に限定されず、ハンダなどの金
属接合や、接着剤を用いた接合により実装することも可
能である。
The mounting of the microlens (array) on the support is not limited to the above method, and it is also possible to mount it by metal bonding such as solder or bonding using an adhesive.

【0145】ハンダなどの金属接合を採用する場合、マ
イクロレンズ(アレイ)の支持体との接着部分(レンズ
凸面以外の部分である。)に金属膜を形成し、且つ、支
持体の固定用溝の壁面に金属膜を形成し、この両者をハ
ンダなどによって接合すればよい。なお、マイクロレン
ズ(アレイ)への金属膜の形成方法は、第2の実施形態
で説明した方法と同様にして実施できる。
When metal bonding such as soldering is adopted, a metal film is formed on a portion of the microlens (array) which is bonded to the support (the portion other than the convex surface of the lens), and the fixing groove of the support is formed. A metal film may be formed on the wall surface of and the both may be joined by soldering or the like. The method of forming the metal film on the microlens (array) can be carried out in the same manner as the method described in the second embodiment.

【0146】また、接着剤を採用する場合、マイクロレ
ンズ(アレイ)の支持体との接着部分(レンズ凸面以外
の部分である。)、および、支持体の固定用溝の壁面
の、少なくとも一方にシランカップリング剤を付着させ
た後、両者を接着することが好ましい。なお、シランカ
ップリング剤による処理は、第3の実施形態で説明した
方法と同様にして実施できる。
When an adhesive is used, at least one of the adhesion portion of the microlens (array) to the support (the portion other than the convex surface of the lens) and the wall surface of the fixing groove of the support are used. After attaching the silane coupling agent, it is preferable to adhere the both. The treatment with the silane coupling agent can be performed in the same manner as the method described in the third embodiment.

【0147】(第5の実施形態)次に、本発明の光通信
モジュールの好ましい形態について説明する。この光通
信モジュールは、複数の基板が直接密着積層してなる積
層体で構成され、各基板には、水平導波路および垂直導
波路の少なくとも一方が形成されている。この各基板に
形成された導波路同士間は、反射鏡を備えた光屈曲部に
よって光学的に結合されている。これにより、各基板に
形成された導波路が互いに連結し、三次元的に伸びた立
体光路が構成されている。
(Fifth Embodiment) Next, a preferred mode of the optical communication module of the present invention will be described. This optical communication module is composed of a laminate in which a plurality of substrates are directly adhered and laminated, and at least one of a horizontal waveguide and a vertical waveguide is formed on each substrate. The waveguides formed on the respective substrates are optically coupled by a light bending portion provided with a reflecting mirror. As a result, the waveguides formed on each substrate are connected to each other to form a three-dimensionally extended three-dimensional optical path.

【0148】更に詳しくは、この光通信モジュールは、
少なくとも第1の基板と第2の基板とが直接に密着積層
された構成を有している。前記第1の基板は、内部に水
平導波路と、前記水平導波路の端部に位置し光路をほぼ
垂直に曲げる反射鏡を配した光屈曲部と、前記光屈曲部
に続き、かつ厚み方向表面に続く第1の垂直導波部とが
空洞により形成されている。前記第2の基板は、前記第
1の基板上に積層されるとともに、前記第1の垂直導波
部の基板表面への露出部分に対向する位置に、前記表面
から厚み方向内部に続く第2の垂直導波部が空洞により
形成されている。前記第1の基板と前記第2の基板で構
成された積層体の内部には、前記第1の基板内から前記
第2の基板内に厚み方向に貫通した空洞により垂直光路
が形成されている。
More specifically, this optical communication module is
At least the first substrate and the second substrate are in direct contact and laminated. The first substrate has a horizontal waveguide therein, a light bending portion provided at an end portion of the horizontal waveguide and having a reflecting mirror for bending the light path substantially vertically, and a portion extending in the thickness direction following the light bending portion. A first vertical waveguide portion continuing to the surface is formed by the cavity. The second substrate is laminated on the first substrate, and at a position facing the exposed portion of the first vertical waveguide portion on the substrate surface, the second substrate continues inward in the thickness direction from the surface. The vertical waveguide portion of is formed by a cavity. A vertical optical path is formed inside the stacked body composed of the first substrate and the second substrate by a cavity penetrating in the thickness direction from the inside of the first substrate to the inside of the second substrate. .

【0149】なお、前記光通信モジュールは、第1の基
板と第2の基板とから構成されていてもよいが、少なく
とも1枚の他の基板を、前記第1の基板あるいは第2の
基板の外側に有するものであってもよい。すなわち、光
通信モジュールが三枚以上の基板の積層体からなる場合
は、そのうちの一か所の隣接基板同士が上記要件を満足
していればよい。
Although the optical communication module may be composed of a first substrate and a second substrate, at least one other substrate may be replaced with the first substrate or the second substrate. It may be provided on the outside. That is, when the optical communication module is composed of a laminated body of three or more substrates, one of the adjacent substrates may satisfy the above requirement.

【0150】この光通信モジュールの一例としては、前
述した第1の実施形態における光回路部と実質的に同様
の構造を有するものが挙げられる。なお、その詳細な説
明については、第1の実施形態における光回路部と同様
であるため、省略する。
An example of this optical communication module is one having a structure substantially similar to that of the optical circuit section in the first embodiment described above. The detailed description thereof is the same as that of the optical circuit unit according to the first embodiment, and will be omitted.

【0151】このような光通信モジュールは複数個互い
に光学的に結合されて、光通信部品を構成する。この光
通信モジュール同士の結合については、特に限定するも
のではないが、モジュール同士を積層する方法が挙げら
れる。この場合、モジュールの積層としては、第1の実
施形態において光回路部の基板の接合方法として例示し
た方法と同様にして実施することができる。また、同一
の積層基板内に複数のモジュールを形成し、これを前記
積層基板内に形成された導波路などで結合してもよい。
また、モジュール同士を光ファイバーなどの光結合部品
を介して結合することも可能である。
A plurality of such optical communication modules are optically coupled to each other to form an optical communication component. The coupling between the optical communication modules is not particularly limited, but a method of laminating the modules may be used. In this case, the stacking of the modules can be performed in the same manner as the method exemplified as the method of joining the substrates of the optical circuit section in the first embodiment. Further, a plurality of modules may be formed in the same laminated substrate and they may be coupled by a waveguide or the like formed in the laminated substrate.
It is also possible to couple the modules together via an optical coupling component such as an optical fiber.

【0152】(第6の実施形態)次に、本発明の光通信
部品または光通信モジュールを構成する部品、または、
本発明の光通信部品または光通信モジュールと組合せて
使用される部品について、例示する。なお、当然のこと
ながら、これらの部品は、本発明の光通信部品または光
通信モジュールと関係なく、単独で使用することも可能
である。
(Sixth Embodiment) Next, the components constituting the optical communication component or the optical communication module of the present invention, or
Components used in combination with the optical communication component or the optical communication module of the present invention will be exemplified. Incidentally, it goes without saying that these components can also be used alone independently of the optical communication component or the optical communication module of the present invention.

【0153】(1)基板の少なくとも片面に金属層を接
合した光通信部品であって、前記基板と前記金属層との
接合面界面に、前記基板材料の微小突起または窪みが形
成されていることを特徴とする光通信部品。この光通信
部品によれば、基板に蓄積された熱を効率的に放熱する
ことができるとともに、基板の割れや歪み等を防止する
ことができる。
(1) An optical communication component in which a metal layer is bonded to at least one surface of a substrate, and minute projections or depressions of the substrate material are formed at the interface between the bonding surface of the substrate and the metal layer. Optical communication parts characterized by. According to this optical communication component, it is possible to efficiently dissipate the heat accumulated in the substrate and prevent the substrate from being cracked or distorted.

【0154】(2)光導波端面がカーボンまたはフッ素
化カーボンで被覆されている光通信部品前駆体。この前
駆体を、無電解ニッケル(Ni)メッキ浴および無電解
金(Au)メッキ浴で処理することにより、前記光通信
部品の入射面および出射面のみにNiP/Auメッキを
施した光通信部品。また、この光通信部品を、金属膜が
形成された光学ベンチに接着固定した光通信部品。
(2) An optical communication component precursor whose optical waveguide end face is covered with carbon or fluorinated carbon. This precursor is treated with an electroless nickel (Ni) plating bath and an electroless gold (Au) plating bath to provide an optical communication component in which only the incident surface and the emitting surface of the optical communication component are plated with NiP / Au. . Also, an optical communication component in which this optical communication component is adhered and fixed to an optical bench on which a metal film is formed.

【0155】[0155]

【実施例】以下、第2の実施形態で説明したような、結
合部において、支持体(光学ベンチ)と光結合部品とを
金属接合で固着する方法について、実験例を挙げて説明
する。但し、これらの実験例は単なる例示であって、本
発明を限定するものではない。
EXAMPLES Hereinafter, a method of fixing the support (optical bench) and the optical coupling component to each other by metal bonding at the coupling portion as described in the second embodiment will be described with reference to experimental examples. However, these experimental examples are merely examples and do not limit the present invention.

【0156】(実験例1)外径1mm、長さ2mmのガ
ラス製光学レンズの端面上に、カーボン膜をスパッタ法
により10nm成膜した。その後、無電解Niメッキ浴
にガラス製光学レンズを浸漬した。この操作により、ガ
ラス製光学レンズの側面のみにNiPがメッキされた。
引き続いて、ガラス製光学レンズを置換型無電解Auメ
ッキ浴に浸漬し、NiP上にAuをメッキした。厚さ
1.5mmで(100)面のSiウェハに異方性エッチ
ングを適用し、幅1000μm、深さ500μm、長さ
5mmの台形溝を形成した。その後、無電解Niメッキ
浴にシリコン光学ベンチ(以下、「SiOB」とい
う。)を浸漬した。この操作により、SiOB表面にN
iPがメッキされた。引き続いて、SiOBを置換型無
電解Auメッキ浴に浸漬し、NiP上にAuメッキし
た。この後、SiOB上にNiP/Auでメタライズさ
れたガラス製光学レンズを載せ、ハンダにより両者を接
着固定した。
(Experimental Example 1) A carbon film was formed to a thickness of 10 nm on the end face of a glass optical lens having an outer diameter of 1 mm and a length of 2 mm by a sputtering method. Then, the glass optical lens was immersed in the electroless Ni plating bath. By this operation, NiP was plated only on the side surface of the glass optical lens.
Subsequently, the glass optical lens was immersed in a substitution type electroless Au plating bath to plate Au on NiP. Anisotropic etching was applied to a (100) -plane Si wafer having a thickness of 1.5 mm to form a trapezoidal groove having a width of 1000 μm, a depth of 500 μm and a length of 5 mm. Then, a silicon optical bench (hereinafter referred to as "SiOB") was immersed in an electroless Ni plating bath. By this operation, N
iP was plated. Subsequently, SiOB was immersed in a substitution-type electroless Au plating bath to perform Au plating on NiP. Then, a glass optical lens metallized with NiP / Au was placed on the SiOB, and both were adhesively fixed with solder.

【0157】(実験例2)外径1mm、長さ2mmのガ
ラス製光学レンズの端面上を、CF4のガスプラズマで
処理した以外は、実施例1と同様にして、ガラス製光学
レンズの側面のみをメッキした。実施例1と同様にし
て、SiOB表面にNiP/Auメッキした後、SiO
B上にNiP/Auでメタライズされたガラス製光学レ
ンズを載せ、ハンダにより両者を接着固定した。
(Experimental Example 2) The side surface of the glass optical lens was the same as in Example 1 except that the end surface of the glass optical lens having an outer diameter of 1 mm and a length of 2 mm was treated with CF 4 gas plasma. Only plated. In the same manner as in Example 1, after plating the SiOB surface with NiP / Au,
An optical lens made of glass, which was metallized with NiP / Au, was placed on B, and both were adhesively fixed by soldering.

【0158】(比較実験例1)厚さ1.5mmで(10
0)面のSiウエハにKOHによる異方性エッチングを
適用し、幅1000μm、深さ500μm、長さ5mm
の台形溝を形成した。このSiOB上に外径1mm、長
さ2mmのガラス製光学レンズを載せ、波長365nm
の紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂で両者を接着し
た。
(Comparative Experimental Example 1) With a thickness of 1.5 mm (10
Anisotropic etching with KOH is applied to the 0) surface Si wafer, and the width is 1000 μm, the depth is 500 μm, and the length is 5 mm.
Trapezoidal grooves were formed. A glass optical lens with an outer diameter of 1 mm and a length of 2 mm is placed on this SiOB, and the wavelength is 365 nm.
UV rays were radiated, and both were adhered with an ultraviolet curable resin.

【0159】実験例1〜2および比較実験例1で得られ
たSiOBの台形溝にガラス製光学レンズを接着固定さ
せた試料を、85℃、90%RHの環境に1週間保存し
た。実験例1〜2ではガラス製光学レンズの脱離は発生
しなかったが、比較実験例1の試料では、ガラス製光学
レンズがSiOBの台形溝から脱離していた。
The samples obtained by adhering and fixing the glass optical lens to the trapezoidal groove of SiOB obtained in Experimental Examples 1 and 2 and Comparative Experimental Example 1 were stored in an environment of 85 ° C. and 90% RH for 1 week. In Experimental Examples 1 and 2, the glass optical lens was not detached, but in the sample of Comparative Experimental Example 1, the glass optical lens was detached from the trapezoidal groove of SiOB.

【0160】実験例1〜2および比較実験例1で得られ
たSiOBの台形溝にガラス製光学レンズを接着固定さ
せた試料に、85℃(2時間)/−40℃(2時間)の
ヒートサイクル試験を10回行った。実験例1〜2では
ガラス製光学レンズの脱離は発生しなかったが、比較実
験例1の試料では、ガラス製光学レンズがSiOBの台
形溝から脱離していた。
The samples in which glass optical lenses were bonded and fixed to the trapezoidal grooves of SiOB obtained in Experimental Examples 1 and 2 and Comparative Experimental Example 1 were heated at 85 ° C. (2 hours) /-40 ° C. (2 hours). The cycle test was performed 10 times. In Experimental Examples 1 and 2, the glass optical lens was not detached, but in the sample of Comparative Experimental Example 1, the glass optical lens was detached from the trapezoidal groove of SiOB.

【0161】[0161]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光通信部
品によれば、基板と、前記基板の内部に形成された導波
路とを有し、前記導波路の少なくとも一端が外部光路と
光学的に結合され得る光通信部品において、前記導波路
は、前記基板の内部に形成された空洞と、前記空洞の壁
面を被覆する反射膜とを含み、前記空洞内で光を伝送す
るものであるため、導波路における光の伝送光率が高
い。また、前記光通信部品によれば、光路を急屈曲でき
るため、部品の小型化を図ることができる。
As described above, according to the optical communication component of the present invention, it has a substrate and a waveguide formed inside the substrate, and at least one end of the waveguide is optically connected to the external optical path. In the optical communication component that can be electrically coupled, the waveguide includes a cavity formed inside the substrate and a reflective film that covers a wall surface of the cavity, and transmits light in the cavity. Therefore, the light transmission rate of light in the waveguide is high. Further, according to the optical communication component, the optical path can be sharply bent, so that the component can be downsized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 図1は、本発明の第1の実施形態に係る光通
信部品の一例を示す外観斜視図である。
FIG. 1 is an external perspective view showing an example of an optical communication component according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1のA−A’断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG.

【図3】 上記光通信部品の結合部における実装用溝お
よび接着用溝の一例を示す外観斜視図である。
FIG. 3 is an external perspective view showing an example of a mounting groove and an adhesive groove in the coupling portion of the optical communication component.

【図4】 上記光通信部品の光回路部を構成する第1段
目の基板の外観斜視図である。
FIG. 4 is an external perspective view of a first-stage substrate that constitutes an optical circuit unit of the optical communication component.

【図5】 上記第1段目の基板の導波路および回折格子
が形成された部分を示す部分拡大図である。
FIG. 5 is a partially enlarged view showing a portion of the first stage substrate on which a waveguide and a diffraction grating are formed.

【図6】 図4のA−A’断面図である。6 is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG.

【図7】 図4のB−B’断面図である。7 is a cross-sectional view taken along the line B-B ′ of FIG.

【図8】 上記第1段目の基板に形成された導波路の光
屈曲部を示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing an optical bending portion of a waveguide formed on the first-stage substrate.

【図9】 上記光通信部品の光回路部を構成する第2段
目の基板の外観斜視図である。
FIG. 9 is an external perspective view of a second stage substrate that constitutes an optical circuit unit of the optical communication component.

【図10】 図9のA−A’断面図である。10 is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG.

【図11】 図9のB−B’断面図である。11 is a sectional view taken along the line B-B ′ of FIG. 9.

【図12】 図9のC−C’断面図である。12 is a cross-sectional view taken along the line C-C ′ of FIG.

【図13】 上記光通信部品の結合部を構成する支持体
の別の一例を示す平面図である。
FIG. 13 is a plan view showing another example of a support body that constitutes a coupling portion of the optical communication component.

【図14】 上記光通信部品の結合部の別の一例を示す
平面図であり、上記支持体に光ファイバおよびマイクロ
レンズアレイが固定された状態を示す。
FIG. 14 is a plan view showing another example of the coupling portion of the optical communication component, showing a state where an optical fiber and a microlens array are fixed to the support.

【図15】 図14のA−A’断面図である。15 is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG.

【図16】 本発明の光通信部品の別の一例を示す外観
斜視図である。
FIG. 16 is an external perspective view showing another example of the optical communication component of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光回路部 2 結合部 11 支持体 12 実装用溝 13 接着用溝 14 光ファイバ 15 結合レンズ 16 台形溝 17 固定用溝 21 第1段目の基板 26 水平導波路 27 金属膜 28 回折格子 29 光屈曲部 31 第2段目の基板 32 水平導波路 33 金属膜 34 光屈曲部 41 第3段目の基板 42 垂直導波路 43 金属膜 51 フォトダイオード(PD) 52 配線パターン 53 LSI 101 金属板 1 Optical circuit section 2 connection 11 Support 12 mounting groove 13 Adhesive groove 14 optical fiber 15 coupling lens 16 trapezoidal groove 17 Fixing groove 21 First Stage Substrate 26 Horizontal Waveguide 27 Metal film 28 diffraction grating 29 Light bend 31 Second stage substrate 32 horizontal waveguide 33 Metal film 34 Light bend 41 Third Stage Substrate 42 Vertical Waveguide 43 Metal film 51 Photodiode (PD) 52 wiring pattern 53 LSI 101 metal plate

フロントページの続き (72)発明者 三瓶 哲彦 大阪府茨木市丑寅1丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 酒本 章人 大阪府茨木市丑寅1丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 Fターム(参考) 2H037 AA01 BA23 CA34 CA37 DA04 DA12 2H047 KA03 KA12 LA09 LA19 MA05 MA07 PA01 PA21 PA24 QA04 TA01 TA36 5F088 AA01 BA15 BB01 JA03 JA12 JA14 Continued front page    (72) Inventor Tetsuhiko Sanbe             Hitachi Ma, 1-88, Torora, Ibaraki City, Osaka Prefecture             Within Kucsel Co., Ltd. (72) Inventor Akihito Sakamoto             Hitachi Ma, 1-88, Torora, Ibaraki City, Osaka Prefecture             Within Kucsel Co., Ltd. F-term (reference) 2H037 AA01 BA23 CA34 CA37 DA04                       DA12                 2H047 KA03 KA12 LA09 LA19 MA05                       MA07 PA01 PA21 PA24 QA04                       TA01 TA36                 5F088 AA01 BA15 BB01 JA03 JA12                       JA14

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、前記基板の内部に形成された導
波路とを有し、前記導波路の少なくとも一端が外部光路
と光学的に結合され得る光通信部品であって、 前記導波路は、前記基板の内部に形成された空洞と、前
記空洞の壁面を被覆する反射膜とを含み、前記空洞内で
光を伝送するものであることを特徴とする光通信部品。
1. An optical communication component comprising a substrate and a waveguide formed inside the substrate, wherein at least one end of the waveguide is optically coupled to an external optical path, wherein the waveguide is An optical communication component comprising: a cavity formed inside the substrate; and a reflective film covering a wall surface of the cavity, for transmitting light in the cavity.
【請求項2】 前記基板が、表面に溝が形成された第1
の基板と、前記第1の基板の前記溝が形成された面に密
着積層された第2の基板とを含む積層体であり、 前記導波路の空洞が、前記溝によって形成されている請
求項1記載の光通信部品。
2. A first substrate having grooves formed on the surface of the substrate.
And a second substrate that is closely laminated on the surface of the first substrate on which the groove is formed, wherein the cavity of the waveguide is formed by the groove. 1. The optical communication component according to 1.
【請求項3】 前記導波路が、光の伝送方向を変化させ
る光屈曲部を有し、この光屈曲部において、前記導波路
の空洞壁面が光の伝送方向に対して傾斜している請求項
1記載の光通信部品。
3. The waveguide has a light bending portion for changing a light transmission direction, and in the light bending portion, a cavity wall surface of the waveguide is inclined with respect to the light transmission direction. 1. The optical communication component according to 1.
【請求項4】 更に、前記導波路の一端と光学的に結合
された光回路素子を含み、前記導波路の一端が、前記光
回路素子を介して、前記外部光路と光学的に結合され得
る請求項1記載の光通信部品。
4. An optical circuit element optically coupled to one end of the waveguide, wherein one end of the waveguide can be optically coupled to the external optical path via the optical circuit element. The optical communication component according to claim 1.
【請求項5】 更に、前記導波路の一端と光学的に結合
された光電変換素子と、前記基板表面に形成された電気
配線とを含み、 前記光電変換素子が、前記電気配線を介して、外部電気
回路に電気的に接続され得る請求項1記載の光通信部
品。
5. The photoelectric conversion element further includes a photoelectric conversion element optically coupled to one end of the waveguide, and an electric wiring formed on the surface of the substrate, wherein the photoelectric conversion element includes the electric wiring via the electric wiring. The optical communication component according to claim 1, which can be electrically connected to an external electric circuit.
【請求項6】 前記空洞内に、光透過性媒質が充填され
ている請求項1記載の光通信部品。
6. The optical communication component according to claim 1, wherein the cavity is filled with a light transmissive medium.
【請求項7】 前記光透過性媒質が、光硬化樹脂である
請求項6記載の光通信部品。
7. The optical communication component according to claim 6, wherein the light transmissive medium is a photocurable resin.
【請求項8】 前記反射膜が、金属膜からなる請求項1
記載の光通信部品。
8. The reflection film is made of a metal film.
Optical communication parts described.
【請求項9】 更に、光ファイバを実装するための溝が
形成された支持体を含み、前記支持体は、前記溝の一端
と、前記導波路の一端とが互いに対向するように配置さ
れ、前記溝に光ファイバが実装されたときに、前記導波
路が光ファイバと光学的に結合される請求項1記載の光
通信部品。
9. A support body having a groove formed therein for mounting an optical fiber is provided, and the support body is arranged such that one end of the groove and one end of the waveguide face each other, The optical communication component according to claim 1, wherein the waveguide is optically coupled to the optical fiber when the optical fiber is mounted in the groove.
【請求項10】 前記支持体の光ファイバを実装するた
めの前記溝の壁面に、金属膜が形成されている請求項9
記載の光通信部品。
10. A metal film is formed on a wall surface of the groove for mounting the optical fiber of the support.
Optical communication parts described.
【請求項11】 更に、前記支持体上に、前記溝の一端
と前記導波路の一端との間に位置するように、結合レン
ズが実装されており、前記溝に光ファイバが実装された
ときに、前記導波路の一端が、前記結合レンズを介し
て、前記光ファイバと光学的に結合される請求項9記載
の光通信部品。
11. A coupling lens is mounted on the support so as to be located between one end of the groove and one end of the waveguide, and when an optical fiber is mounted in the groove. 10. The optical communication component according to claim 9, wherein one end of the waveguide is optically coupled to the optical fiber via the coupling lens.
【請求項12】 前記支持体の前記結合レンズが配置さ
れる部分に金属膜が形成され、前記結合レンズの側面に
金属膜が形成されており、この両者が金属接合されてい
る請求項11記載の光通信部品。
12. A metal film is formed on a portion of the support where the coupling lens is arranged, a metal film is formed on a side surface of the coupling lens, and the both are metal-bonded to each other. Optical communication parts.
【請求項13】 基板と、前記基板の内部に形成され、
前記基板の厚み方向に光を伝送する垂直導波路と、前記
基板の内部に形成され、前記基板の面内方向に光を伝送
する水平導波路と、前記垂直導波路と前記水平導波路と
を光学的に結合する光屈曲部とを備え、 前記基板は、表面に溝が形成され、前記溝の少なくとも
一端に反射鏡が配置された第1の基板と、前記第1の基
板の前記溝が形成された面に密着積層され、前記溝の前
記反射鏡が配置された部分と連通する貫通孔が形成され
た第2の基板とを含む積層体であり、 前記水平導波路は、前記溝によって形成された空洞と、
前記空洞の壁面を被覆する反射膜とを含み、前記空洞内
で光を伝送するものであり、 前記垂直導波路は、前記貫通孔によって形成された空洞
と、前記空洞の壁面を被覆する反射膜とを含み、前記空
洞内で光が伝送するものであり、 前記光屈曲部は前記反射鏡を含み、前記反射鏡表面での
反射によって、光の伝送方向を、前記基板の厚み方向か
ら面内方向へ、または、前記基板の面内方向から厚み方
向へ変化させるものである積層型光通信モジュール。
13. A substrate, formed inside the substrate,
A vertical waveguide that transmits light in the thickness direction of the substrate; a horizontal waveguide that is formed inside the substrate and that transmits light in the in-plane direction of the substrate; and the vertical waveguide and the horizontal waveguide. An optically bent portion that is optically coupled to each other, wherein the substrate has a groove formed on a surface thereof, and a first substrate having a reflecting mirror arranged at at least one end of the groove, and the groove of the first substrate. And a second substrate that is laminated in close contact with the formed surface and that has a through hole that communicates with a portion of the groove in which the reflecting mirror is arranged, the horizontal waveguide being formed by the groove. The formed cavity,
A reflection film covering the wall surface of the cavity, transmitting light in the cavity, wherein the vertical waveguide forms a cavity formed by the through hole, and a reflection film covering the wall surface of the cavity. And transmitting light in the cavity, wherein the light bending portion includes the reflecting mirror, and the light is transmitted in the in-plane direction from the thickness direction of the substrate by reflection on the reflecting mirror surface. Direction, or from the in-plane direction of the substrate to the thickness direction, a laminated optical communication module.
【請求項14】 更に、前記基板内に、前記水平導波路
および前記垂直導波路の少なくとも一方と光学的に結合
された光回路素子を含む請求項13記載の積層型光通信
モジュール。
14. The stacked optical communication module according to claim 13, further comprising an optical circuit element optically coupled to at least one of the horizontal waveguide and the vertical waveguide in the substrate.
【請求項15】 更に、前記導波路の一端と光学的に結
合された光電変換素子と、前記基板表面に形成された電
気配線とを含み、 前記光電変換素子が、前記電気配線を介して、外部電気
回路に電気的に接続され得る請求項13記載の積層型光
通信モジュール。
15. A photoelectric conversion element optically coupled to one end of the waveguide, and an electric wiring formed on the surface of the substrate, wherein the photoelectric conversion element includes the electric wiring via the electric wiring. The stacked optical communication module according to claim 13, which can be electrically connected to an external electric circuit.
【請求項16】 前記反射膜および前記反射鏡が金属膜
からなる請求項13記載の積層型光通信モジュール。
16. The stacked optical communication module according to claim 13, wherein the reflecting film and the reflecting mirror are made of a metal film.
【請求項17】 前記垂直導波路および前記水平導波路
を構成する空洞内に、光透過性媒質が充填されている請
求項13記載の積層型光通信モジュール。
17. The stacked optical communication module according to claim 13, wherein a cavity forming the vertical waveguide and the horizontal waveguide is filled with a light transmissive medium.
【請求項18】 複数の光通信モジュールが互いに光学
的に結合されてなる光通信部品であって、前記光通信モ
ジュールの少なくとも1つが請求項13に記載の積層型
光通信モジュールである光通信部品。
18. An optical communication component comprising a plurality of optical communication modules optically coupled to each other, wherein at least one of the optical communication modules is a stacked optical communication module according to claim 13. .
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007328177A (en) * 2006-06-08 2007-12-20 Fujitsu Ltd Method for mounting microlens of wavelength selection switch, and microlens mounting device
JP2011511523A (en) * 2008-01-28 2011-04-07 キネテイツク・リミテツド Optical transmitter and receiver for quantum key distribution
WO2013046501A1 (en) * 2011-09-27 2013-04-04 日本電気株式会社 Optical module and optical transmission device

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