JP2003335061A - Optical recording material - Google Patents

Optical recording material

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JP2003335061A
JP2003335061A JP2002144142A JP2002144142A JP2003335061A JP 2003335061 A JP2003335061 A JP 2003335061A JP 2002144142 A JP2002144142 A JP 2002144142A JP 2002144142 A JP2002144142 A JP 2002144142A JP 2003335061 A JP2003335061 A JP 2003335061A
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浩一 滋野
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光裕 岡田
Tomonori Fushimi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording material for an optical recording medium having an enough fastness to light. <P>SOLUTION: In the optical recording medium in which an optical recording layer is formed on a substrate, the optical recording material which is used for the optical recording layer, comprises a polymethine compound consisting of an anion of formula (I) (wherein Y<SP>0</SP>is a hydrogen atom, a 1-8C alkyl group or a 6-30C aryl group) and a polymethine cation. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、情報をレーザ等に
よる熱的情報パターンとして付与することにより記録す
る光学記録媒体に使用される光学記録材料に関し、詳し
くは、レーザ等により高密度の光学記録及び再生が可能
な光学記録媒体に使用される光学記録材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording material used in an optical recording medium for recording information by applying information as a thermal information pattern by a laser or the like, and more specifically, a high density optical recording by a laser or the like. And an optical recording material used for a reproducible optical recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光学記
録媒体は、一般に記録容量が大きく、記録又は再生が非
接触で行われる等、優れた特徴を有することから広く普
及している。WORM、CD−R、DVD−R等の追記
型の光ディスクでは、記録層の微少面積にレーザを集光
させ、記録層の性状を変えて記録し、未記録部分との反
射光量の違いによって再生を行っている。
2. Description of the Related Art Optical recording media are widely used because they have excellent characteristics such as generally large recording capacity and non-contact recording or reproducing. In write-once optical discs such as WORM, CD-R, and DVD-R, a laser is focused on a very small area of the recording layer, recording is performed while changing the properties of the recording layer, and reproduction is performed by the difference in the reflected light amount from the unrecorded portion. It is carried out.

【0003】光ディスクに代表される光学記録媒体の記
録層には、記録層を形成するのが容易なので、有機系の
色素化合物が使用されており、特にポリメチン化合物が
感度が高く、高速化に対応できることから検討されてい
る。
Since a recording layer is easy to form in the recording layer of an optical recording medium represented by an optical disk, an organic dye compound is used. Particularly, a polymethine compound has high sensitivity and corresponds to high speed. It is being considered because it can be done.

【0004】ポリメチン化合物は、ポリメチン構造を有
するカチオン及びその対イオンであるアニオンにより構
成されており、対イオンであるアニオンとしては、ヨウ
素、臭素、塩素等のハロゲンアニオン;過塩素酸アニオ
ン、塩素酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フッ化
リンアニオン、六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化
ホウ素アニオン等の無機系アニオン;ベンゼンスルホン
酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオ
ロメタンスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオ
ン等が使用されており、これらは、特開2001−20
9969号公報、特開2001−322354号公報、
特開2000−108510号公報、特開2000−1
68233号公報、特開平10−235999号公報、
特開平10−337959号公報等に記載されている。
The polymethine compound is composed of a cation having a polymethine structure and an anion which is a counter ion thereof, and as the anion which is a counter ion, halogen anions such as iodine, bromine and chlorine; perchlorate anion and chloric acid. Inorganic anions such as anions, thiocyanate anions, phosphorus hexafluoride anions, antimony hexafluoride anions and boron tetrafluoride anions; organic sulfonate anions such as benzenesulfonate anion, toluenesulfonate anion and trifluoromethanesulfonate anion Etc. are used, and these are disclosed in JP 2001-20
9969, JP 2001-322354 A,
JP-A-2000-108510, JP-A-2000-1
68233, JP-A-10-235999,
It is described in JP-A-10-337959.

【0005】しかし、上記のアニオンを用いたポリメチ
ン化合物は、日光や自然光に対する記録の保存安定性
(以降光堅牢性と記載することもある)が不充分である
という問題点を有している。
However, the polymethine compound using the above anion has a problem that the storage stability of the record against sunlight or natural light (hereinafter sometimes referred to as light fastness) is insufficient.

【0006】従って、本発明の目的は、充分な光堅牢性
を有する光学記録媒体用の光学記録材料を提供すること
にある。
Therefore, an object of the present invention is to provide an optical recording material for an optical recording medium which has sufficient light fastness.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、検討を重
ねた結果、対イオンに特定の分子構造を有するアニオン
を用いたポリメチン化合物が、上記課題を解決し得るこ
とを知見し、本発明に到達した。
As a result of repeated studies, the present inventors have found that a polymethine compound using an anion having a specific molecular structure as a counterion can solve the above-mentioned problems, and The invention was reached.

【0008】即ち、本発明は、基体上に光学記録層が形
成された光学記録媒体において、該光学記録層に用いら
れ、下記一般式(I)で表されるアニオンとポリメチン
カチオンとからなるポリメチン化合物を含有してなる光
学記録材料、及び、基体上に、該光学記録材料からなる
薄膜を形成したことを特徴とする光学記録媒体を提供す
るものである。
That is, the present invention is an optical recording medium in which an optical recording layer is formed on a substrate, and is used for the optical recording layer, and polymethine comprising an anion represented by the following general formula (I) and a polymethine cation. The present invention provides an optical recording material containing a compound, and an optical recording medium comprising a substrate and a thin film made of the optical recording material formed on the substrate.

【化4】 [Chemical 4]

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
について詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below.

【0010】本発明に係るポリメチン化合物は、上記一
般式(I)で表されるアニオンを対イオンとしたもので
あれば、特に制限を受けるものではないが、該ポリメチ
ン化合物を構成するポリメチンカチオンがその両端に環
構造を有する、下記一般式(II)で表されるポリメチン
化合物が、半導体レーザを用いる光学記録材料として、
記録ピットを形成するのに適する光学特性及び熱的特性
を有するので好ましい。
The polymethine compound according to the present invention is not particularly limited as long as the anion represented by the general formula (I) is used as a counter ion, but the polymethine cation constituting the polymethine compound is A polymethine compound represented by the following general formula (II) having a ring structure at both ends thereof is used as an optical recording material using a semiconductor laser,
It is preferable because it has optical characteristics and thermal characteristics suitable for forming recording pits.

【0011】[0011]

【化5】 [Chemical 5]

【0012】上記一般式(I)及び(II)において、Y0
で表される炭素数1〜8のアルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブ
チル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、
第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシ
ルメチル、2−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソ
ヘプチル、第三ヘプチル、3−ヘプチル、n−オクチ
ル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル
が挙げられ、炭素数6〜30のアリール基としては、フ
ェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフ
ェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3
−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、
4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−第
三ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロ
ヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−
エチルヘキシル)フェニル、4−ステアリルフェニル、
2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニ
ル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェ
ニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフ
ェニル、2,4−ジ第三ブチルフェニル、2,5−ジ第
三ブチルフェニル、2,6−ジ−第三ブチルフェニル、
2,4−ジ第三ペンチルフェニル、2,5−ジ第三アミ
ルフェニル、2,5−ジ第三オクチルフェニル、2,4
−ジクミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェ
ニル、2,4,5−トリメチルフェニルが挙げられる。
In the above general formulas (I) and (II), Y 0
Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by are methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl,
Examples include tertiary amyl, hexyl, cyclohexyl, cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl, heptyl, isoheptyl, tertiary heptyl, 3-heptyl, n-octyl, isooctyl, tertiary octyl and 2-ethylhexyl, having 6 to 30 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl, naphthyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-vinylphenyl, 3
-Isopropylphenyl, 4-isopropylphenyl,
4-butylphenyl, 4-isobutylphenyl, 4-tertiary butylphenyl, 4-hexylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4- (2-
Ethylhexyl) phenyl, 4-stearylphenyl,
2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,4-di-tert-butyl Phenyl, 2,5-di-tert-butylphenyl, 2,6-di-tert-butylphenyl,
2,4-ditertiary pentylphenyl, 2,5-ditertiary amylphenyl, 2,5-ditertiary octylphenyl, 2,4
-Dicumylphenyl, cyclohexylphenyl, biphenyl, 2,4,5-trimethylphenyl.

【0013】上記一般式(II)において、R1及びR1
で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられ、炭素数6〜30のアリール基及
び炭素数1〜8のアルキル基としては、上記Y0として
例示したものが挙げられ、炭素数1〜8のアルコキシ基
としては、メチルオキシ、エチルオキシ、イソプロピル
オキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキ
シ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオ
キシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシが挙
げられる。R2及びR2’で表されるハロゲン原子、炭素
数6〜30のアリール基及び炭素数1〜8のアルキル基
としては、上記R1として例示したものが挙げられる。
また、R3〜R9及びR3’〜R9’で表されるハロゲン原
子及び炭素数1〜8で表されるアルキル基としては、上
記R1として例示したものが挙げられ、隣の置換基と縮
合環を形成する基としては、ベンゼン、ナフタレン、ク
ロロベンゼン、ブロモベンゼン、メチルベンゼン、エチ
ルベンゼン、メトキシベンゼン、エトキシベンゼン等の
芳香族環;フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、チ
オフエン環、ピリジン環、キノリン環、チアゾール環等
の複素環;シクロプロパン、シクロブタン、シクロペン
タン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタ
ン等の脂肪族環が挙げられる。
In the above general formula (II), R 1 and R 1 '
Examples of the halogen atom represented by are fluorine, chlorine, bromine and iodine, and examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms and the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include those exemplified as Y 0 above. Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms include methyloxy, ethyloxy, isopropyloxy, propyloxy, butyloxy, pentyloxy, isopentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy and 2-ethylhexyloxy. Examples of the halogen atom, the aryl group having 6 to 30 carbon atoms and the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 2 and R 2 ′ include those exemplified as the above R 1 .
Further, examples of the halogen atom represented by R 3 to R 9 and R 3 ′ to R 9 ′ and the alkyl group represented by C 1 to 8 include those exemplified as the above R 1 , and the adjacent substituent Examples of the group forming a condensed ring with the group include aromatic rings such as benzene, naphthalene, chlorobenzene, bromobenzene, methylbenzene, ethylbenzene, methoxybenzene, and ethoxybenzene; furan ring, benzofuran ring, pyrrole ring, thiophene ring, pyridine ring. And heterocycles such as quinoline ring and thiazole ring; and aliphatic rings such as cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and cyclooctane.

【0014】X及びX’で表される炭素数3〜6のシク
ロアルカン−1,1−ジイルとしては、シクロプロパン
−1,1−ジイル、シクロブタン−1,1−ジイル、
2,4−ジメチルシクロブタン−1,1−ジイル、3−
ジメチルシクロブタン−1,1−ジイル、シクロペンタ
ン−1,1−ジイル、シクロヘキサン−1,1−ジイル
が挙げられる。
Cycloalkane-1,1-diyl having 3 to 6 carbon atoms represented by X and X'include cyclopropane-1,1-diyl, cyclobutane-1,1-diyl,
2,4-dimethylcyclobutane-1,1-diyl, 3-
Examples thereof include dimethylcyclobutane-1,1-diyl, cyclopentane-1,1-diyl and cyclohexane-1,1-diyl.

【0015】Y、Y’及びY2で表される炭素数1〜3
0の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチ
ル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シク
ロヘキシル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシ
ルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n
−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチル
ヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、ト
リデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシ
ル、ペプタデシル、オクタデシル等のアルキル基、ビニ
ル、1−メチルエテニル、2−メチルエテニル、プロペ
ニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニ
ル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニ
ル、1−フェニルプロペン−3−イル等のアルケニル
基、フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メ
チルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニ
ル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェ
ニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、
4−第三ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−
シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−
(2−エチルヘキシル)フェニル、4−ステアリルフェ
ニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフ
ェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチル
フェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチ
ルフェニル、2,4−ジ第三ブチルフェニル、シクロヘ
キシルフェニル等のアルキルアリール基、ベンジル、フ
ェネチル、2−フェニルプロパン−2−イル、ジフェニ
ルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル
等のアリールアルキル基等、これらがエーテル結合、チ
オエーテル結合で中断されたもの、例えば、2−メトキ
シエチル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチ
ル、2−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メ
トキシエトキシエトキシエチル、3−メトキシブチル、
2−フェノキシエチル、3−フェノキシプロピル、2−
メチルチオエチル、2−フェニルチオエチルが挙げら
れ、更にこれらの基は、アルコキシ基、アルケニル基、
ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等で置換されていて
もよい。
1 to 3 carbon atoms represented by Y, Y'and Y 2.
Examples of the organic group of 0 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, tert-amyl, hexyl, cyclohexyl, cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl, heptyl and isoheptyl. , Third heptyl, n
-Alkyl groups such as octyl, isooctyl, tertiary octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, isononyl, decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, peptadecyl, octadecyl, vinyl, 1-methylethenyl, 2-methylethenyl, propenyl, butenyl. , Alkenyl groups such as isobutenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, decenyl, pentadecenyl, 1-phenylpropen-3-yl, phenyl, naphthyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4- Vinylphenyl, 3-isopropylphenyl, 4-isopropylphenyl, 4-butylphenyl, 4-isobutylphenyl,
4-tert-butylphenyl, 4-hexylphenyl, 4-
Cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4-
(2-Ethylhexyl) phenyl, 4-stearylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5 -Alkylaryl groups such as dimethylphenyl, 2,4-di-tert-butylphenyl and cyclohexylphenyl, arylalkyl groups such as benzyl, phenethyl, 2-phenylpropan-2-yl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, styryl and cinnamyl. Etc., those interrupted by an ether bond or a thioether bond, for example, 2-methoxyethyl, 3-methoxypropyl, 4-methoxybutyl, 2-butoxyethyl, methoxyethoxyethyl, methoxyethoxyethoxyethyl, 3-methoxybutyl. ,
2-phenoxyethyl, 3-phenoxypropyl, 2-
Examples thereof include methylthioethyl and 2-phenylthioethyl, and these groups include an alkoxy group, an alkenyl group,
It may be substituted with a nitro group, a cyano group, a halogen atom or the like.

【0016】本発明に係るポリメチン化合物としては、
上記一般式(II)において、環Aが(a)又は(d)で
表され、環A’が(a’)又は(d’)で表されるもの
が、感度がよいので好ましく、環Aが(a)で表され、
環A’が(a’)で表されるものがより好ましく、
(a)中のX及び(a’)中のX’が、各々独立に、プ
ロパン−2,2−ジイル、ブタン−2,2−ジイル、3
−フェニルプロパン−1,1−ジイル又はシクロヘキサ
ン−1,1−ジイルであるものが更に好ましい。
The polymethine compound according to the present invention includes
In the above general formula (II), the ring A is represented by (a) or (d), and the ring A ′ is represented by (a ′) or (d ′) because of its high sensitivity, and ring A is preferable. Is represented by (a),
More preferred is ring A ′ represented by (a ′),
X in (a) and X'in (a ') are each independently propane-2,2-diyl, butane-2,2-diyl, 3
More preferred is -phenylpropane-1,1-diyl or cyclohexane-1,1-diyl.

【0017】また、本発明に係るポリメチン化合物にお
いて、上記一般式(II)中の連結基Qは、使用する半導
体レーザの波長に合わせて適宜選択されるものである。
例えば、CD−Rに代表される750〜830nmのレ
ーザを用いる場合は、ヘプタメチン鎖又はペンタメチン
鎖を構成するものが選択され、DVD−Rに代表される
630〜670nmのレーザを用いる場合は、ペンタメ
チン鎖又はトリメチン鎖を構成するものが選択され、こ
れらは、ポリメチン鎖中に環構造を含んでいてもよい。
In the polymethine compound according to the present invention, the linking group Q in the above general formula (II) is appropriately selected according to the wavelength of the semiconductor laser used.
For example, when a laser of 750 to 830 nm typified by CD-R is used, a heptamethine chain or a pentamethine chain is selected, and when a laser of 630 to 670 nm typified by DVD-R is used, pentamethine is used. Those constituting a chain or trimethine chain are selected, and these may include a ring structure in the polymethine chain.

【0018】上記連結基Qとしては、下記群IIIの
(1)〜(6)のいずれかで表される基が好ましい。
The linking group Q is preferably a group represented by any of the following groups III (1) to (6).

【0019】[0019]

【化6】 [Chemical 6]

【0020】上記群IIIの(1)〜(6)において、R
10及びR11で表される炭素数6〜30のアリール基及び
炭素数1〜8のアルキル基としては、上記R1で例示し
たものが挙げられ、Zで表される炭素数6〜30のアリ
ール基及び炭素数1〜8のアルキル基も同様である。
In the above-mentioned group III (1) to (6), R
Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms and the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by 10 and R 11 include those exemplified above for R 1 and having 6 to 30 carbon atoms represented by Z. The same applies to the aryl group and the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

【0021】上記連結基Qとしては、上記群IIIの中で
も、(1)又は(2)で表される基が、吸光係数が大き
いので特に好ましい。
Of the above-mentioned group III, the group represented by (1) or (2) is particularly preferable as the above-mentioned linking group Q because of its large extinction coefficient.

【0022】上記一般式(II)におけるポリメチンカチ
オン部分の具体例としては、下記化合物No.1〜61
が挙げられる。
Specific examples of the polymethine cation moiety in the above general formula (II) include the following compound No. 1-61
Is mentioned.

【0023】[0023]

【化7】 [Chemical 7]

【0024】[0024]

【化8】 [Chemical 8]

【0025】[0025]

【化9】 [Chemical 9]

【0026】[0026]

【化10】 [Chemical 10]

【0027】[0027]

【化11】 [Chemical 11]

【0028】本発明に係るポリメチン化合物は、その製
造方法によって制限を受けるものではない。また、上記
一般式(II)で表される本発明に係るポリメチン化合物
も、その製造方法によって制限を受けるものではなく、
従来周知の方法に準じて製造することができる。例え
ば、環構造を有する環状化合物と連結基鎖を導入するた
めのブリッジ剤化合物とを反応剤により反応させた後、
アニオン交換を行うことで合成することができる。より
具体的には、本発明の好ましい形態である、環A及び環
A’が各々(a)及び(a’)であり、連結基Qが
(1)又は(2)の場合は、下記のルートで合成さ
れ、環A及び環A’が各々(d)及び(d’)であり、
連結基Qが(1)又は(2)の場合は、下記のルート
で合成することができる。
The polymethine compound according to the present invention is not limited by its production method. Further, the polymethine compound according to the present invention represented by the general formula (II) is not limited by the production method,
It can be manufactured according to a conventionally known method. For example, after reacting a cyclic compound having a ring structure and a bridging agent compound for introducing a linking group chain with a reaction agent,
It can be synthesized by anion exchange. More specifically, in the case where the ring A and the ring A ′ are (a) and (a ′), respectively, and the linking group Q is (1) or (2), which is a preferred embodiment of the present invention, Synthesized by the route, ring A and ring A'are (d) and (d ') respectively,
When the linking group Q is (1) or (2), it can be synthesized by the following route.

【0029】[0029]

【化12】 [Chemical 12]

【0030】上記ポリメチン化合物を含有してなる本発
明の光学記録材料は、光学記録媒体の光学記録層として
適用されるが、該光学記録層の形成方法は特に制限を受
けない。一般には、メタノール、エタノール等の低級ア
ルコール類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、ブチルジグリコール等のエーテルアル
コール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコー
ル等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキ
シエチル等のエステル類;アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル等のアクリル酸エステル類、2,2,3,3−
テトラフルオロプロパノール等のフッ化アルコール類;
ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類;メチレ
ンジクロライド、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩
素化炭化水素類等の有機溶媒に本発明に係るポリメチン
化合物を溶解した溶液を、基体上にスピンコート、スプ
レー、ディッピング等で塗布する湿式塗布法が用いられ
る。その他の方法としては、蒸着法、スパッタリング法
等が挙げられる。
The optical recording material of the present invention containing the above polymethine compound is applied as an optical recording layer of an optical recording medium, but the method for forming the optical recording layer is not particularly limited. Generally, lower alcohols such as methanol and ethanol; ether alcohols such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, and butyldiglycol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethyl acetate, Esters such as butyl acetate and methoxyethyl acetate; acrylic acid esters such as ethyl acrylate and butyl acrylate, 2,2,3,3-
Fluorinated alcohols such as tetrafluoropropanol;
Hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; a solution of the polymethine compound according to the present invention dissolved in an organic solvent such as chlorinated hydrocarbons such as methylene dichloride, dichloroethane, chloroform, etc. on a substrate by spin coating, spraying, dipping A wet coating method is used in which coating is performed by using the above method. Other methods include vapor deposition and sputtering.

【0031】上記光学記録層の厚さは、通常、0.00
1〜10μmであり、好ましくは0.01〜5μmであ
る。
The thickness of the above optical recording layer is usually 0.00
It is 1 to 10 μm, preferably 0.01 to 5 μm.

【0032】また、光学記録媒体の光学記録層中におけ
る本発明の光学記録材料の使用量は、好ましくは50〜
100質量%である。
The amount of the optical recording material of the present invention used in the optical recording layer of the optical recording medium is preferably 50 to 50.
It is 100% by mass.

【0033】また、上記光学記録層は、本発明の光学記
録材料の他に、必要に応じて、シアニン系化合物、アゾ
系化合物、フタロシアニン系化合物等の、光学記録層に
用いられる本発明に係るポリメチン化合物以外の化合
物;ポリエチレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ
カーボネート等の樹脂類;界面活性剤;帯電防止剤;滑
剤;難燃剤;ヒンダードアミン等のラジカル捕捉剤;フ
ェロセン誘導体等のピット形成促進剤;分散剤;酸化防
止剤;架橋剤;耐光性付与剤等を含有してもよい。
The above-mentioned optical recording layer may be a cyanine compound, an azo compound, a phthalocyanine compound, etc., if necessary, in addition to the optical recording material of the present invention. Compounds other than polymethine compounds; resins such as polyethylene, polyester, polystyrene, polycarbonate; surfactants; antistatic agents; lubricants; flame retardants; radical scavengers such as hindered amines; pit formation accelerators such as ferrocene derivatives; dispersants; An antioxidant, a cross-linking agent, a light resistance imparting agent and the like may be contained.

【0034】さらに、上記光学記録層は、一重項酸素等
のクエンチャーとして芳香族ニトロソ化合物、アミニウ
ム化合物、イミニウム化合物、ビスイミニウム化合物、
遷移金属キレート化合物等を含有してもよく、クエンチ
ャーアニオンを含有してもよい。これらは、上記光学記
録層中において好ましくは0〜50質量%の範囲で使用
される。
Further, the optical recording layer has an aromatic nitroso compound, an aminium compound, an iminium compound, a bisiminium compound, as a quencher for singlet oxygen and the like.
It may contain a transition metal chelate compound or the like, and may contain a quencher anion. These are preferably used in the range of 0 to 50% by mass in the optical recording layer.

【0035】上記のクエンチャーは、特開平5−104
861号公報、特開平5−294070号公報、特開平
6−199045号公報、特開平11−277904号
公報、特開2000−177248号公報等に記載され
ており、例えば、下記一般式(A)で表されるものが挙
げられる。
The quencher described above is disclosed in JP-A-5-104.
861 gazette, JP-A-5-294070, JP-A-6-199045, JP-A-11-277904, JP-A-2000-177248 and the like, and for example, the following general formula (A) What is represented by.

【0036】[0036]

【化13】 [Chemical 13]

【0037】上記一般式(A)において、Ann-で表さ
れるアニオンとしては、例えば、一価のものとして、塩
素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、フッ素ア
ニオン等のハロゲンアニオン;過塩素酸アニオン、塩素
酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニ
オン、六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素ア
ニオン等の無機系アニオン;ベンゼンスルホン酸アニオ
ン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタン
スルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン;オク
チルリン酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オクタ
デシルリン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノニ
ルフェニルリン酸アニオン、2,2’−メチレンビス
(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスホン酸アニオン
等の有機リン酸系アニオン等が挙げられ、二価のものと
して、ベンゼンジスルホン酸アニオン、ナフタレンジス
ルホン酸アニオン等が挙げられる。
In the above general formula (A), the anion represented by An n- is, for example, a monovalent halogen anion such as chlorine anion, bromine anion, iodine anion and fluorine anion; perchlorate anion. Inorganic anions such as chlorate anion, thiocyanate anion, phosphorus hexafluoride anion, antimony hexafluoride anion and boron tetrafluoride anion; benzenesulfonate anion, toluenesulfonate anion, trifluoromethanesulfonate anion, etc. Sulfonate anion; Octylphosphate anion, Dodecylphosphate anion, Octadecylphosphate anion, Phenylphosphate anion, Nonylphenylphosphate anion, 2,2'-Methylenebis (4,6-ditertiarybutylphenyl) phosphonate anion, etc. Organic phosphoric acid-based ani Examples thereof include ON and the like, and divalent ones include benzenedisulfonic acid anion and naphthalenedisulfonic acid anion.

【0038】上記のクエンチャーの具体例としては、下
記のクエンチャーNo.1〜3が挙げられる。なお、下
記のクエンチャ−No.1〜3は、アニオンを省いたカ
チオンで表した。
Specific examples of the above quencher include the following quencher No. 1-3. In addition, the following quencher-No. 1 to 3 are represented by cations without anions.

【0039】[0039]

【化14】 [Chemical 14]

【0040】また、クエンチャーアニオンは、特開昭6
0−234892号公報、特開平5−579号公報、特
開平5−43814号公報、特開平6−239028号
公報、特開平9−309886号公報、特開平10−4
5767号、特開平11−227331号公報等に記載
されており、例えば、下記一般式(B)又は(C)で表
されるものが挙げられる。
Further, the quencher anion is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No.
0-234892, JP-A-5-579, JP-A-5-43814, JP-A-6-239028, JP-A-9-309886, and JP-A-10-4.
5767, JP-A No. 11-227331 and the like, and examples thereof include those represented by the following general formula (B) or (C).

【0041】[0041]

【化15】 [Chemical 15]

【0042】上記のクエンチャーアニオンの具体例とし
ては、下記のアニオンNo.1〜24が挙げられる。
Specific examples of the quencher anion include the following anion No. 1-24 are mentioned.

【0043】[0043]

【化16】 [Chemical 16]

【0044】[0044]

【化17】 [Chemical 17]

【0045】[0045]

【化18】 [Chemical 18]

【0046】本発明に係る光学記録層を設層する上記基
体の材質は、書き込み(記録)光及び読み出し(再生)
光に対して実質的に透明なものであれば特に制限はな
く、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネート等の樹脂、ガラス等
が用いられる。また、その形状は、用途に応じ、テー
プ、ドラム、ベルト、ディスク等の任意の形状のものが
使用できる。
The materials of the above-mentioned substrate on which the optical recording layer according to the present invention is provided are write (recording) light and read (reproduction).
There is no particular limitation as long as it is substantially transparent to light, and for example, resins such as polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, and polycarbonate, glass, and the like are used. Further, the shape thereof may be an arbitrary shape such as a tape, a drum, a belt or a disk, depending on the application.

【0047】また、上記光学記録層上に、金、銀、アル
ミニウム、銅等を用いて蒸着法あるいはスパッタリング
法により反射膜を形成することもできるし、アクリル樹
脂、紫外線硬化性樹脂等による保護層を形成することも
できる。
A reflection film can be formed on the above optical recording layer by vapor deposition or sputtering using gold, silver, aluminum, copper or the like, or a protective layer made of acrylic resin, ultraviolet curable resin or the like. Can also be formed.

【0048】本発明の光学記録材料は、記録、再生に半
導体レーザを用いる光学記録媒体の光学記録層に好適で
あり、特にCD−R、DVD−R等の光ディスクの光学
記録層に好適である。
The optical recording material of the present invention is suitable for an optical recording layer of an optical recording medium which uses a semiconductor laser for recording and reproduction, and is particularly suitable for an optical recording layer of an optical disk such as CD-R and DVD-R. .

【0049】[0049]

【実施例】以下、製造例、実施例、比較例及び評価例を
もって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本
発明は以下の実施例等によって何ら制限を受けるもので
はない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to production examples, examples, comparative examples and evaluation examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

【0050】[製造例1]化合物No.6のジフェニル
アミン−4−スルホン酸塩の製造 窒素置換した反応フラスコにN−メチルニトロインドレ
ニントルエンスルホン酸塩7.81g、ジフェニルホル
ムアミジン1.96g、ピリジン15.8g、無水酢酸
3.06gを仕込み、窒素気流下25℃で3時間撹拌し
た。これにクロロホルム50ml、ジフェニルアミン−
4−スルホン酸ナトリウム8.14g、水50mlを加
え30分撹拌した後に、クロロホルム相を分離した。こ
れを水洗した後、脱溶媒して得えられた残渣をメタノー
ルで再結晶し、結晶を4.52g(収率65.0%)を
得た。これについて下記分析を行い、構造等を確認し
た。分析結果を以下に示す。(分析結果) 純度:HPLC測定;99.5% 構造解析:1H−NMR測定 (ケミカルシフトppm;多重度;プロトン数) (1.75;s;12)(3.71;s;6)(6.6
3〜6.72;d;2)(6.79〜6.84;t;
1)(6.95〜6.97;d;2)(7.07〜7.
08;d;2)(7.20〜7.24;t;2)(7.
40〜7.45;d;2)(7.67〜7.70;d;
2)(8.23;s;1)(8.37〜8.45;m;
3)(8.57;s;2) 光学的特性:メタノール溶媒でのUVスペクトル測定 λmax;562nm、ε;1.95×105 熱分解開始温度:窒素気流中、10℃/分昇温での示
差熱分析 269℃
[Production Example 1] Compound No. Preparation of Diphenylamine-4-sulfonate of No. 6 7.81 g of N-methylnitroindolenine toluenesulfonate, 1.96 g of diphenylformamidine, 15.8 g of pyridine, and 3.06 g of acetic anhydride were charged into a reaction flask substituted with nitrogen. The mixture was stirred under a nitrogen stream at 25 ° C for 3 hours. Chloroform 50 ml, diphenylamine-
After adding 8.14 g of sodium 4-sulfonate and 50 ml of water and stirring for 30 minutes, the chloroform phase was separated. This was washed with water and then desolvated to obtain a residue, which was recrystallized from methanol to obtain 4.52 g of crystals (yield 65.0%). The following analysis was performed on this, and the structure and the like were confirmed. The analysis results are shown below. (Analysis result) Purity: HPLC measurement; 99.5% Structural analysis: 1 H-NMR measurement (chemical shift ppm; multiplicity; number of protons) (1.75; s; 12) (3.71; s; 6) (6.6
3 to 6.72; d; 2) (6.79 to 6.84; t;
1) (6.95 to 6.97; d; 2) (7.07 to 7.
08; d; 2) (7.20 to 7.24; t; 2) (7.
40-7.45; d; 2) (7.67-7.70; d;
2) (8.23; s; 1) (8.37-8.45; m;
3) (8.57; s; 2) Optical characteristics: UV spectrum measurement in methanol solvent λmax; 562 nm, ε; 1.95 × 10 5 Thermal decomposition start temperature: In nitrogen stream, at 10 ° C./minute temperature rise Differential thermal analysis of 269 ℃

【0051】[製造例2]化合物No.31のジフェニ
ルアミン−4−スルホン酸塩の製造 窒素置換した反応フラスコにN−イソアミルベンゾイン
ドレニントルエンスルホン酸塩9.03g、マロンジア
ルデヒドジアニリン塩酸塩2.596g、ピリジン1
5.8g、無水酢酸3.06gを仕込み、窒素気流下2
5℃で3時間撹拌した。これにクロロホルム50ml、
ジフェニルアミン−4−スルホン酸ナトリウム8.14
g、水50mlを加え30分撹拌した後に、クロロホル
ム相を分離した。これを水洗した後脱溶媒して得えられ
た残渣をメタノールで再結晶し、結晶を5.99g(収
率71.0%)を得た。これについて下記分析を行い、
構造等を確認した。分析結果を以下に示す。 (分析結果) 純度:HPLC測定;99.6% 構造解析:1H−NMR測定 (ケミカルシフトppm;多重度;プロトン数) (0.95〜1.01;d;12)(1.57〜1.6
3;q;4)(1.73〜1.84;m;2)(1.9
5;s;12)(4.18〜4.23;t;4)(6.
31〜6.35;d;2)(6.62〜6.69;t;
1)(6.79〜6.83;t;1)(6.91〜6.
99;d;2)(7.02〜7.07;d;2)(7.
17〜7.24;t;2)(7.39〜7.45;d;
2)(7.47〜7.53;t;2)(7.65〜7.
74;m;4)(8.00〜8.10;t;4)(8.
20〜8.26;s+s;3)(8.43〜8.50;
t;2) 光学的特性:メタノール溶媒でのUVスペクトル測定 λmax;680nm、ε;2.30×105 熱分解開始温度:窒素気流中、10℃/分昇温での示
差熱分析 248℃
[Production Example 2] Compound No. Preparation of 31 Diphenylamine-4-Sulfonate N-isoamylbenzoindolenintoluenesulfonate 9.03 g, malondialdehyde dianiline hydrochloride 2.596 g, pyridine 1 in a nitrogen-substituted reaction flask.
Charge 5.8g and acetic anhydride 3.06g, under nitrogen stream 2
The mixture was stirred at 5 ° C for 3 hours. 50 ml of chloroform,
Sodium diphenylamine-4-sulfonate 8.14
After adding g and 50 ml of water and stirring for 30 minutes, the chloroform phase was separated. This was washed with water and desolvated, and the obtained residue was recrystallized from methanol to obtain 5.99 g of crystals (yield 71.0%). The following analysis is done about this,
The structure etc. were confirmed. The analysis results are shown below. (Analysis result) Purity: HPLC measurement; 99.6% Structural analysis: 1 H-NMR measurement (chemical shift ppm; multiplicity; number of protons) (0.95 to 1.01; d; 12) (1.57 to 1.6
3; q; 4) (1.73 to 1.84; m; 2) (1.9
5; s; 12) (4.18 to 4.23; t; 4) (6.
31-6.35; d; 2) (6.62-6.69; t;
1) (6.79 to 6.83; t; 1) (6.91 to 6.
99; d; 2) (7.02 to 7.07; d; 2) (7.
17-7.24; t; 2) (7.39-7.45; d;
2) (7.47 to 7.53; t; 2) (7.65 to 7.
74; m; 4) (8.00-8.10; t; 4) (8.
20-8.26; s + s; 3) (8.43-8.50;
t; 2) Optical properties: UV spectrum measurement in methanol solvent λmax; 680 nm, ε; 2.30 × 10 5 Thermal decomposition start temperature: Differential thermal analysis at a temperature rise of 10 ° C./min in a nitrogen stream 248 ° C.

【0052】[製造例3]化合物No.7のジフェニル
アミン−4−スルホン酸塩の合成 N−メチルニトロインドレニントルエンスルホン酸をN
−[2−(4−イソプロポキシフェニル)エチル]ニト
ロインドレニントルエンスルホン酸に換えた以外は、上
記の製造例1と同様の方法により、目的物を合成した。
分析結果を以下に示す。 (分析結果) 純度:HPLC測定;99.7% 構造解析:1H−NMR測定 (ケミカルシフトppm;多重度;プロトン数) (1.06〜1.10;d;12)(1.67;s;1
2)(3.01〜3.05;t;4)(4.42〜4.
49;m;6)(6.43〜6.47;d;2)(6.
73〜6.77;d;4)(6.79〜6.84;t;
1)(6.94〜6.97;d;2)(7.05〜7.
08;d;2)(7.17〜7.18;d;4)(7.
20〜7.24;t;2)(7.41〜7.44;d;
2)(7.52〜7.55;d;2)(8.18〜8.
31;m;4)(8.56;s;2) 光学的特性:メタノール溶媒でのUVスペクトル測定 λmax;573nm、ε;1.76×105 熱分解開始温度:窒素気流中、10℃/分昇温での示
差熱分析 271℃
[Production Example 3] Compound No. Synthesis of diphenylamine-4-sulfonate of 7 N-methylnitroindolenine toluenesulfonic acid
The target product was synthesized in the same manner as in Production Example 1 above, except that-[2- (4-isopropoxyphenyl) ethyl] nitroindolenine toluenesulfonic acid was used.
The analysis results are shown below. (Analysis result) Purity: HPLC measurement; 99.7% Structural analysis: 1 H-NMR measurement (chemical shift ppm; multiplicity; number of protons) (1.06-1.10; d; 12) (1.67; s; 1
2) (3.01 to 3.05; t; 4) (4.42 to 4.
49; m; 6) (6.43 to 6.47; d; 2) (6.
73-6.77; d; 4) (6.79-6.84; t;
1) (6.94 to 6.97; d; 2) (7.05 to 7.
08; d; 2) (7.17 to 7.18; d; 4) (7.
20-7.24; t; 2) (7.41-7.44; d;
2) (7.52 to 7.55; d; 2) (8.18 to 8.
31; m; 4) (8.56; s; 2) Optical properties: UV spectrum measurement in methanol solvent λmax; 573 nm, ε; 1.76 × 10 5 Thermal decomposition start temperature: 10 ° C./in nitrogen stream Differential thermal analysis at minute temperature rise 271 ℃

【0053】[製造例4]化合物No.36のジフェニ
ルアミン−4−スルホン酸塩の合成 窒素置換した反応フラスコに2−ナフチルヒドラジン3
0.1g、エタノール94.8gを仕込み、70℃まで
加温してから、アセチルシクロヘキサン48.0gを5
分で滴下した。更に硫酸39.2gを加え3時間反応さ
せた後、エタノールを留去し、トルエン500ml、2
0質量%水酸化ナトリウム水溶液200gを加え、油水
分離した。油相を洗浄水が中性になるまで水洗し、硫酸
ナトリウムで乾燥後脱溶媒して得た残渣を60℃のトル
エン94gで溶解させた溶液に、N−ヘキサン94gを
加えて晶析を行い、結晶を濾取、乾燥して中間体(A)
を27.2g得た。窒素置換した反応フラスコに、中間
体(A)25.0gとヨウ化メチル17.1gを仕込
み、110℃で4時間反応させた後、酢酸エチル10
2.4gを滴下し30分還流させ、冷却した。固相を濾
取し、洗浄、乾燥を行い中間体(B)を27.2g得
た。窒素置換した反応フラスコに中間体(B)11.8
g、ピリジン23.7gを仕込み50℃まで加温した系
に、無水酢酸3.1gに下記原料化合物5.00gを溶
解させた溶液を30分で滴下した後、70℃で2時間反
応させた。この系にジフェニルアミン−4−スルホン酸
ナトリウム5.10g、メタノール35.6gを加え1
時間還流させた。反応系を冷却後、析出した結晶をメタ
ノール、水で洗浄した後乾燥させて、目的物の結晶2.
84g(収率35.3%)を得た。これについて下記分
析を行い、構造等を確認した。分析結果を以下に示す。 (分析結果) 純度:HPLC測定;99.6% 構造解析:1H−NMR測定 (ケミカルシフトppm;多重度;プロトン数) (1.73〜1.92;m;6)(1.95;s;6)
(1.99〜2.08;m;2)(2.45〜2,5
8;m;2)(3.69;s;3)(3.96;s;
3)(6.27〜6.32;d;1)(6.58〜6.
63;d;1)(6.69〜6.76;t;1)(6.
79〜6.84;t;1)(6.91〜6.97;d;
2)(7.05〜7.11;d;2)(7.19〜7.
24;t;2)(7.39〜7.45;d;2)(7.
46〜7.53;q;2)(7.62〜7.69;q;
2)(7.71〜7.75;d;1)(7.78〜7.
82;d;1)(8.02〜8.11;m;4)(8.
21〜8.33;m;5) 光学的特性:メタノール溶媒でのUVスペクトル測定 λmax;678nm、ε;1.98×105 熱分解開始温度:窒素気流中、10℃/分昇温での示
差熱分析 222℃
[Production Example 4] Compound No. Synthesis of 36 diphenylamine-4-sulfonate 2-naphthylhydrazine 3 in a reaction flask purged with nitrogen.
Charge 0.1 g and ethanol 94.8 g and warm to 70 ° C., then add 58.0 g of acetylcyclohexane.
Dropped in minutes. After further adding 39.2 g of sulfuric acid and reacting for 3 hours, ethanol was distilled off, and 500 ml of toluene was added to 2 ml.
200 g of 0 mass% sodium hydroxide aqueous solution was added, and oily water was separated. The oil phase was washed with water until the washing water became neutral, dried over sodium sulfate and desolvated, and the residue obtained was dissolved in 94 g of toluene at 60 ° C. To a solution dissolved in 94 g of N-hexane, crystallization was performed. , The crystals are collected by filtration and dried to give the intermediate (A)
27.2g was obtained. 25.0 g of the intermediate (A) and 17.1 g of methyl iodide were charged into a reaction flask purged with nitrogen, and the mixture was reacted at 110 ° C. for 4 hours, and then ethyl acetate 10 was added.
2.4 g was added dropwise and the mixture was refluxed for 30 minutes and cooled. The solid phase was collected by filtration, washed and dried to obtain 27.2 g of intermediate (B). Intermediate product (B) 11.8 was added to a reaction flask purged with nitrogen.
g, and 23.7 g of pyridine were added and heated to 50 ° C., a solution prepared by dissolving 5.00 g of the following raw material compound in 3.1 g of acetic anhydride was added dropwise over 30 minutes, and then reacted at 70 ° C. for 2 hours. . To this system, 5.10 g of sodium diphenylamine-4-sulfonate and 35.6 g of methanol were added, and 1
Reflux for hours. After cooling the reaction system, the precipitated crystals are washed with methanol and water and then dried to obtain the desired crystal 2.
84 g (yield 35.3%) was obtained. The following analysis was performed on this, and the structure and the like were confirmed. The analysis results are shown below. (Analysis result) Purity: HPLC measurement; 99.6% Structural analysis: 1 H-NMR measurement (chemical shift ppm; multiplicity; number of protons) (1.73 to 1.92; m; 6) (1.95; s; 6)
(1.99 to 2.08; m; 2) (2.45 to 2.5
8; m; 2) (3.69; s; 3) (3.96; s;
3) (6.27-6.32; d; 1) (6.58-6.
63; d; 1) (6.69 to 6.76; t; 1) (6.
79-6.84; t; 1) (6.91-6.97; d;
2) (7.05-7.11; d; 2) (7.19-7.
24; t; 2) (7.39 to 7.45; d; 2) (7.
46-7.53; q; 2) (7.62-7.69; q;
2) (7.71-7.75; d; 1) (7.78-7.
82; d; 1) (8.02 to 8.11; m; 4) (8.
21-8.33; m; 5) Optical characteristics: UV spectrum measurement in methanol solvent λmax; 678 nm, ε; 1.98 × 10 5 Thermal decomposition start temperature: In nitrogen stream, at 10 ° C./min temperature increase Differential thermal analysis 222 ° C

【0054】[0054]

【化19】 [Chemical 19]

【0055】[実施例1〜6]光学記録媒体の製造及び
適正記録光波長評価 チタンキレート化合物(T−50:日本曹達社製)を塗
布、加水分解して下地層(0.01μm)を設けた直径
12cmのポリカーボネートディスク基板上に、化合物
No.4、6、7、22、31又は36のジフェニルア
ミン−4−スルホン酸塩の2,2,3,3−テトラフル
オロプロパノール溶液(濃度2.0質量%)をスピンコ
ーティング法にて塗布して、厚さ100nmの光学記録
層を形成し、光学記録媒体を得た。これらの光学記録媒
体について、光学記録ディスクに現在用いられている記
録光の波長について、UVスペクトル吸収の測定を行
い、適正記録光波長の評価を行った。各光学記録媒体の
λmaxの強度を1として、これに対する相対強度が
0.15より小さいと記録及び再生の特性が悪化し、
0.50を超えると記録層の耐光性が悪くなり、記録の
保存安定性が悪くなる。従って、上記相対強度が、好適
な範囲である0.15〜0.50を示すものを適正記録
光波長とした。結果を表1に記す。
Examples 1 to 6 Production of Optical Recording Medium and Evaluation of Appropriate Recording Light Wavelength A titanium chelate compound (T-50: manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) was applied and hydrolyzed to form a base layer (0.01 μm). Compound No. was placed on a polycarbonate disk substrate having a diameter of 12 cm. A 2,2,3,3-tetrafluoropropanol solution of 4,6,7,22,31 or 36 of diphenylamine-4-sulfonate (concentration 2.0% by mass) is applied by spin coating, An optical recording layer having a thickness of 100 nm was formed to obtain an optical recording medium. Regarding these optical recording media, the UV spectrum absorption was measured for the wavelength of the recording light currently used in the optical recording disk, and the appropriate recording light wavelength was evaluated. When the intensity of λmax of each optical recording medium is 1, and the relative intensity to this is less than 0.15, the recording and reproducing characteristics deteriorate,
If it exceeds 0.50, the light resistance of the recording layer is deteriorated and the storage stability of the recording is deteriorated. Therefore, the appropriate recording light wavelength is one in which the relative intensity is within a suitable range of 0.15 to 0.50. The results are shown in Table 1.

【0056】[0056]

【表1】 [Table 1]

【0057】[評価例1及び比較評価例1]耐光性評価 チタンキレート化合物(T−50:日本曹達社製)を塗
布、加水分解して下地層(0.01μm)を設けた直径
12cmのポリカーボネートディスク基板上に、表2に
記載のポリメチン化合物の2,2,3,3−テトラフル
オロプロパノール溶液(濃度2.0質量%)をスピンコ
ーティング法にて塗布して、厚さ100nmの光学記録
層(薄膜)を形成し、光学記録媒体を得た。これらの光
学記録媒体について、キセノン耐候性試験器(テーブル
サン:スガ試験機(株)社製)を用いて、55000ル
クスの光を20時間照射し、薄膜のλmaxにおける塗布
成膜直後の吸光度A’と照射後の吸光度Aとの比A/
A’(%)を色素残存率として耐光性評価を行った。結
果を表2に示す。
[Evaluation Example 1 and Comparative Evaluation Example 1] Evaluation of light resistance A titanium chelate compound (T-50: manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) was coated and hydrolyzed to provide a base layer (0.01 μm) with a diameter of 12 cm. A 2,2,3,3-tetrafluoropropanol solution (concentration 2.0% by mass) of the polymethine compound shown in Table 2 was applied onto a disk substrate by spin coating to give an optical recording layer having a thickness of 100 nm. (Thin film) was formed to obtain an optical recording medium. These optical recording media were irradiated with light of 55000 lux for 20 hours using a xenon weather resistance tester (Table Sun: manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), and the absorbance at the λ max of the thin film immediately after coating was formed. Ratio of A'and absorbance A after irradiation A /
The light resistance was evaluated using A '(%) as the residual ratio of the dye. The results are shown in Table 2.

【0058】[0058]

【表2】 [Table 2]

【0059】[評価例2及び比較評価例2]耐光性評価 下記表3及び4に記載の配合によりテトラフルオロプロ
パノール溶液(トータル濃度1.5質量%)を調製し、
上記評価例1と同様に光学記録媒体を製造し、耐光性評
価を行った。結果を表3及び4に示す。なお、表3及び
4中のクエンチャーNo.3のアニオンとしては、六フ
ッ化アンチモンを用いた。
[Evaluation Example 2 and Comparative Evaluation Example 2] Evaluation of light resistance A tetrafluoropropanol solution (total concentration: 1.5% by mass) was prepared according to the formulations shown in Tables 3 and 4 below.
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Evaluation Example 1 above, and light resistance was evaluated. The results are shown in Tables 3 and 4. The quencher Nos. In Tables 3 and 4 were used. As the anion of 3, antimony hexafluoride was used.

【0060】[0060]

【表3】 [Table 3]

【0061】[0061]

【表4】 [Table 4]

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明は、充分な光堅牢性を有する光学
記録媒体用の光学記録材料を提供できるものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide an optical recording material for an optical recording medium having sufficient light fastness.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡田 光裕 東京都荒川区東尾久7丁目2番35号 旭電 化工業株式会社内 (72)発明者 伏見 友紀 東京都荒川区東尾久7丁目2番35号 旭電 化工業株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA39 FB42 4H056 CA01 CC02 CC08 CE03 DD03 FA06 5D029 JA04 JC17    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Mitsuhiro Okada             7-35 Higashiokyu, Arakawa-ku, Tokyo Asahiden             Chemical Industry Co., Ltd. (72) Inventor Yuki Fushimi             7-35 Higashiokyu, Arakawa-ku, Tokyo Asahiden             Chemical Industry Co., Ltd. F-term (reference) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA39                       FB42                 4H056 CA01 CC02 CC08 CE03 DD03                       FA06                 5D029 JA04 JC17

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基体上に光学記録層が形成された光学記
録媒体において、該光学記録層に用いられ、下記一般式
(I)で表されるアニオンとポリメチンカチオンとから
なるポリメチン化合物を含有してなる光学記録材料。 【化1】
1. An optical recording medium having an optical recording layer formed on a substrate, which contains a polymethine compound used for the optical recording layer and comprising an anion represented by the following general formula (I) and a polymethine cation. Optical recording material consisting of [Chemical 1]
【請求項2】 上記ポリメチン化合物が下記一般式(I
I)で表されるものである請求項1記載の光学記録材
料。 【化2】
2. The polymethine compound represented by the following general formula (I
The optical recording material according to claim 1, which is represented by I). [Chemical 2]
【請求項3】 上記連結基Qが下記群IIIの(1)〜
(6)のいずれかで表される基である請求項2記載の光
学記録材料。 【化3】
3. The linking group Q (1) to (3) of the following group III:
The optical recording material according to claim 2, which is a group represented by any one of (6). [Chemical 3]
【請求項4】 上記環Aが上記(a)又は(d)で表さ
れる基であり、上記環A’が上記(a’)又は(d’)
で表される基である請求項2又は3記載の光学記録材
料。
4. The ring A is a group represented by the above (a) or (d), and the above ring A ′ is the above (a ′) or (d ′).
The optical recording material according to claim 2, which is a group represented by:
【請求項5】 上記連結基Qが上記(1)又は(2)で
表される基である請求項3又は4記載の光学記録材料。
5. The optical recording material according to claim 3, wherein the linking group Q is a group represented by the above (1) or (2).
【請求項6】 基体上に、請求項1〜5のいずれかに記
載の光学記録材料からなる薄膜を形成したことを特徴と
する光学記録媒体。
6. An optical recording medium, wherein a thin film made of the optical recording material according to any one of claims 1 to 5 is formed on a substrate.
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