JP2003332430A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

Info

Publication number
JP2003332430A
JP2003332430A JP2002137136A JP2002137136A JP2003332430A JP 2003332430 A JP2003332430 A JP 2003332430A JP 2002137136 A JP2002137136 A JP 2002137136A JP 2002137136 A JP2002137136 A JP 2002137136A JP 2003332430 A JP2003332430 A JP 2003332430A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
clock signal
wiring
semiconductor integrated
integrated circuit
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002137136A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisaya Keida
久弥 慶田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kawasaki Microelectronics Inc
Original Assignee
Kawasaki Microelectronics Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Microelectronics Inc filed Critical Kawasaki Microelectronics Inc
Priority to JP2002137136A priority Critical patent/JP2003332430A/en
Publication of JP2003332430A publication Critical patent/JP2003332430A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To restrain such a problem concerning skew in a clock signal which is widely used inside a semiconductor integrated circuit that has a tendency that coping with the problem becomes difficult in accordance with micronization in manufacturing technique of a semiconductor integrated circuit. <P>SOLUTION: In a clock signal distribution circuit constituted of a plurality of buffering stages, a wiring layer which is formed on an upper layer side out of a plurality of wiring layers and whose film thickness is large is used as at least a part of a clock signal line of a signal source side, so that increase of wiring resistance can be restrained. At least one out of a power source line and a ground line is made to run in parallel to the clock signal line, so that adverse effect on other wirings can be restrained. A wiring layer which is formed on a lower layer side out of the plurality of wiring layers and whose film thickness is small is used as at least a part of a clock signal line on an end side of the clock signal distribution circuit, so that deterioration of the level of integration can be restrained. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、膜厚が異なる複数
の配線層を有すると共に、膜厚が厚い方が上層側に形成
された、共通のクロック信号により動作する同期型回路
が広範囲で存在する半導体集積回路に係り、特に、半導
体集積回路の製造技術の微細化に伴い対応が難しくなる
傾向がある、半導体集積回路の内部で広範囲に用いられ
るクロック信号に関するスキューの問題を抑制すること
ができる半導体集積回路に関する。 【0002】 【従来の技術】半導体集積回路には、共通のクロック信
号により動作する同期型回路が広範囲で存在するものが
ある。特に最近のLSI(Large Scale Integrated
circuit)においては、クロック信号の負荷が多数で巨
大になっている。このようなクロック信号は、チップの
隅々まで長い距離をタイミングのバラツキが少なくなる
ようにしながら、短時間で分配しなければならない。こ
こで、タイミングのバラツキは一般にスキューなどと呼
ばれている。 【0003】図6は、多数のバッファをツリー状に用い
るクロック信号分配回路の基本的なものの回路図であ
る。 【0004】この図や他の図において、バッファB11
〜B15の個々については、バッファBとも呼ぶことに
する。なお、クロック信号の分配元からのバッファ段数
を以下において、バッファリング・ステージと呼ぶ。例
えば、バッファB11〜B15のそれぞれは順に、第1
段〜第5段のバッファリング・ステージになる。 【0005】図6のクロック信号分配回路は、クロック
・ツリーとも呼ばれる手法である。該手法では、ツリー
状に分岐し末端の負荷を複数のバッファBで分担して、
半導体集積回路内において分散する負荷を駆動する。例
えば図6ではフリップフロップFFのように、半導体集
積回路内に存在する同期型回路にクロック信号が分配さ
れる。 【0006】クロック信号分配回路には他に、クロック
・メッシュと呼ばれる手法がある。これは、チップ上に
クロック信号のメッシュ状の配線を設け、このような配
線を一括して巨大なバッファで駆動するというものであ
る。 【0007】次に、"H"ツリーと称する手法は、チップ
上に等長で分岐するクロック信号の配線を設ける。又、
場合によっては該分岐点で適宜バッファを設けるという
ものである。 【0008】上述のいずれの手法においても、スキュー
を小さくし、クロック信号が到達するまでの遅延時間を
少なくするためには、クロック信号を分配出力するトラ
ンジスタの駆動能力を強力にする、あるいはチップ上の
随所で適宜バッファを配置する必要がある。又、クロッ
ク信号分配においては、使用する製造技術などに依存す
る、クロック信号の配線容量、抵抗などのプロセス・パ
ラメータの値が大きな影響を与える。 【0009】 【発明が解決しようとする課題】近年、半導体集積回路
の製造技術の微細化に伴い、配線ピッチも縮小されてい
る。配線ピッチのために、配線層の膜厚も同時に薄膜化
され、スケーリングされる。又、薄膜化すると配線断面
積が減少するため、配線抵抗は一般に増大する。 【0010】小さい負荷容量を駆動する場合は、駆動ト
ランジスタのオン抵抗が比較的大きいため、配線抵抗の
大きさは問題にはならない。しかしながら、クロック信
号など比較的大きな負荷容量を駆動する際には、駆動ト
ランジスタも大きく、従ってそのオン抵抗も低いものを
使うため、配線抵抗の増大は信号の遅延時間増大につな
がり、問題となる。 【0011】配線抵抗を抑えるために、クロック信号配
線のみ厚い膜厚の配線層を使うということも行われてい
る。しかしながら、厚い膜厚の配線層は、デザイン・ル
ールも緩くなり、細かなレイアウト設計ができないた
め、クロック信号分配回路のクロック信号分配末端まで
厚い膜厚の配線層を使用すると、レイアウト面積に無駄
がでる。 【0012】又、微細化によりトランジスタのスイッチ
ングも高速化し、信号波形が急峻になってきている。ク
ロック信号分配回路のクロック信号分配末端まで厚い膜
厚の配線層を使用すると、末端まで、急峻な波形で強力
に駆動されるクロック信号が分配されることなる。する
と、近傍にある比較的弱い駆動能力で駆動される並走配
線へ、同層のカップリング容量を介したクロストークに
よる妨害を与え易くなる。 【0013】更に、信号波形の急峻化により、膜厚増大
や配線幅拡大で配線断面積を増大して低抵抗化を図る
と、配線のインダクタンスの影響が顕著になる。その結
果、クロック信号の反射が生じ、波形が歪んでしまうと
いう問題が生じる。通常、膜厚の厚い配線層は上層に作
られるため、インダクタンスのリターン電流を供給する
半導体基盤との距離も遠く、そのため更にインダクタン
スの影響がでやすいという問題もある。又、インダクタ
ンスの影響は末端で大きく異なり、結果として、大きな
スキューを生じていた。 【0014】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、半導体集積回路の製造技術の微細化
に伴い対応が難しくなる傾向がある、半導体集積回路の
内部で広範囲に用いられるクロック信号に関するスキュ
ーの問題を抑制することができる半導体集積回路を提供
することを目的とする。 【0015】 【課題を解決するための手段】まず、本願の発明は、膜
厚が異なる複数の配線層を有すると共に、膜厚が厚い方
が上層側に形成された、共通のクロック信号により動作
する同期型回路が広範囲で存在する半導体集積回路にお
いて、複数のバッファリング・ステージによりなるクロ
ック信号分配回路における、信号源側の少なくとも一部
のクロック信号線には、膜厚が厚い方の前記配線層を用
い、かつ、信号源側のクロック信号線の少なくとも一部
には、その敷設に接近した少なくともその片脇に、電源
線及びグランド線の少なくとも一方を並走させ、更に、
前記クロック信号分配回路における末端側の少なくとも
一部のクロック信号線には、膜厚が薄い方の前記配線層
を用いるようにしたことにより、前記課題を解決したも
のである。 【0016】以下、本発明の作用について、簡単に説明
する。 【0017】図1は、クロック信号分配回路に用いられ
るバッファ及びその出力配線を示す回路図である。 【0018】バッファBの出力側には負荷や配線の浮遊
容量などの容量Cが存在する。このため、スキューを小
さくし、クロック信号が到達するまでの遅延時間を少な
くできるような、バッファBの出力トランジスタの駆動
能力が必要になり、又バッファBの出力側の配線抵抗も
抑える必要がある。 【0019】更に、バッファBの出力側には、配線にイ
ンダクタンス成分が存在する。このため、図2のタイム
チャートに示されるように分配するクロック信号におい
て、理想的には時刻taで立ち上がる実線のような波形
になるべきところ、一点鎖線のようになってしまう。
又、配線に反射波があると、二点鎖線のように、バッフ
ァBが出力した信号の波形と反射波とが干渉した波形に
なってしまう。二点鎖線の波形では、時刻tbにおいて
反射波が到達して、バッファBが出力した信号の波形と
干渉し、波形のピークが生じてしまっている。 【0020】本発明は、膜厚が異なる複数の配線層を有
すると共に、膜厚が厚い方が上層側に形成された、共通
のクロック信号により動作する同期型回路が広範囲で存
在する半導体集積回路において、複数のバッファリング
・ステージによりなるクロック信号分配回路における、
信号源側の少なくとも一部のクロック信号線には、膜厚
が厚い方の前記配線層を用いる。従って、クロック信号
の配線抵抗を抑えて、スキューを小さくし、クロック信
号が到達するまでの遅延時間を少なくすることができ
る。 【0021】又、本発明は、図3に示すように、該クロ
ック信号線の少なくとも一部には、その敷設に接近した
少なくともその片脇に、電源線及びグランド線の少なく
とも一方を並走させる。これにより、インダクタンスの
リターン電流をごく近傍で供給でき、図2を用いて説明
したような、インダクタンスの悪影響を抑えることがで
きる。又、近傍にある比較的弱い駆動能力で駆動される
並走配線への、同層のカップリング容量を介したクロス
トークによる妨害を抑えることができ、他配線への悪影
響を抑制できる。 【0022】なお、図3において破線が、上述のよう
に、クロック信号の敷設に接近した少なくともその片脇
に並走させた、電源線やグランド線である。 【0023】更に本発明は、前記クロック信号分配回路
における末端側の少なくとも一部のクロック信号線に
は、膜厚が薄い方の前記配線層を用いるようにしてい
る。これにより、チップのレイアウトを有効に利用し
て、集積度を向上することが可能になる。又、クロック
信号分配の末端において、クロック信号が過度に急峻に
ならないようにすることができるので、この面でも、近
傍にある比較的弱い駆動能力で駆動される並走配線へ
の、同層のカップリング容量を介したクロストークによ
る妨害を抑えることが可能になる。 【0024】このように本発明によれば、半導体集積回
路の製造技術の微細化に伴い対応が難しくなる傾向があ
る、半導体集積回路の内部で広範囲に用いられるクロッ
ク信号に関するスキューの問題を抑制することができ
る。 【0025】 【発明の実施の形態】以下、図を用いて本発明の実施の
形態を詳細に説明する。 【0026】図4は、本発明が適用された実施形態の半
導体集積回路における断面図である。 【0027】この図においては、本実施形態の断面構造
が模式的に示されており、右下がり斜線は、膜厚が薄い
配線層による配線の断面を示す。右上がり斜線は、膜厚
が厚い配線層による配線の断面を示す。本実施形態は、
一例として、第1〜第6配線層が、膜厚が薄い配線層に
なっている。又、これら第1〜第6配線層より上層にお
いて、第7及び第8配線層が、膜厚が厚い配線層になっ
ている。 【0028】又、これら配線層より下層には、基盤上に
作り込んだチャネル部上方にゲート2が設けられたトラ
ンジスタや、ウェル1に作り込んだチャネル部上方にゲ
ート3が設けられたトランジスタが作り込まれている。 【0029】これらトランジスタのゲートやソースやド
レインや、膜厚が薄い配線層の配線や、膜厚が厚い配線
層の配線の間は、ビアによって接続される。あるいは、
スタック・ビアによって接続してもよい。該スタック・
ビアは、複数の配線層に亘るビアであり、直接の上層・
下層の関係にない配線層において作り込まれている配線
間を接続するビアである。 【0030】図5は、本実施形態のクロック信号分配回
路の回路図である。 【0031】この図において、クロック信号分配回路の
クロック信号の信号源は左側であり、クロック信号分配
回路のクロック信号の末端側は右側である。該クロック
信号分配回路において、バッファBは、ツリー状に構成
されている。 【0032】ここで、バッファBにおいて、符号B11
のものが第1段であり、符号B12のものが第2段であ
り、符号B13のものが第3段であり、符号B14のも
のが第4段であり、符号B15のものが第5段である。
図5において破線が、本発明を適用して敷設される、ク
ロック信号の敷設に接近した少なくともその片脇に並走
させた、電源線やグランド線である。 【0033】本実施形態においては、信号源側のクロッ
ク信号の配線には、膜厚が厚い配線層が用いられてい
る。具体的には、上述のように破線で図示される、電源
線やグランド線が並走されたクロック信号の部分であ
る。 【0034】以上のように本実施形態においては、本発
明を効果的に適用することができる。従って、半導体集
積回路の製造技術の微細化に伴い対応が難しくなる傾向
がある、半導体集積回路の内部で広範囲に用いられるク
ロック信号に関するスキューの問題を抑制することがで
きる。 【0035】 【発明の効果】本発明によれば、半導体集積回路の製造
技術の微細化に伴い対応が難しくなる傾向がある、半導
体集積回路の内部で広範囲に用いられるクロック信号に
関するスキューの問題を抑制することができる。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a common clock signal comprising a plurality of wiring layers having different thicknesses, and a thicker one formed on an upper layer side. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit in which a synchronous circuit operated by a wide range exists, and in particular, a clock signal widely used inside a semiconductor integrated circuit, which tends to be difficult to cope with as the manufacturing technology of the semiconductor integrated circuit becomes finer. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit that can suppress the problem of skew. 2. Description of the Related Art Some semiconductor integrated circuits have a wide range of synchronous circuits which operate by a common clock signal. Especially recent LSI (Large Scale Integrated)
circuit), the load of the clock signal is large and large. Such a clock signal must be distributed over a long distance to every corner of the chip in a short time while minimizing timing variations. Here, the variation in timing is generally called skew. FIG. 6 is a circuit diagram of a basic clock signal distribution circuit using a large number of buffers in a tree shape. In this and other figures, a buffer B11
To B15 are also referred to as buffers B. The number of buffer stages from the clock signal distribution source is hereinafter referred to as a buffering stage. For example, each of the buffers B11 to B15 is sequentially assigned to the first buffer.
The stage becomes the buffering stage from the fifth stage to the fifth stage. [0005] The clock signal distribution circuit of FIG. 6 is a technique also called a clock tree. In this method, a load is branched in a tree shape and the load at the end is shared by a plurality of buffers B.
Driving a distributed load in a semiconductor integrated circuit. For example, in FIG. 6, a clock signal is distributed to a synchronous circuit existing in a semiconductor integrated circuit like a flip-flop FF. The clock signal distribution circuit has another method called a clock mesh. In this method, a mesh wiring of a clock signal is provided on a chip, and such a wiring is collectively driven by a huge buffer. Next, in a technique called "H" tree, wiring of clock signals branching at equal lengths is provided on a chip. or,
In some cases, a buffer is appropriately provided at the branch point. In any of the above methods, in order to reduce the skew and the delay time until the clock signal arrives, the driving capability of the transistor for distributing and outputting the clock signal is increased, or the on-chip It is necessary to arrange buffers as appropriate everywhere. In the clock signal distribution, values of process parameters such as wiring capacitance and resistance of a clock signal, which depend on a manufacturing technique to be used, have a great influence. In recent years, the wiring pitch has been reduced along with the miniaturization of semiconductor integrated circuit manufacturing technology. Due to the wiring pitch, the film thickness of the wiring layer is simultaneously reduced and scaled. Further, when the thickness is reduced, the wiring cross-sectional area is reduced, so that the wiring resistance generally increases. When driving a small load capacitance, the on-resistance of the driving transistor is relatively large, so that the wiring resistance does not matter. However, when driving a relatively large load capacitance such as a clock signal, the drive transistor is large and therefore has a low on-resistance. Therefore, an increase in wiring resistance leads to an increase in signal delay time, which poses a problem. In order to suppress the wiring resistance, a thick wiring layer is used only for the clock signal wiring. However, a thick wiring layer has looser design rules and cannot be designed in a fine layout. Therefore, if a thick wiring layer is used up to the clock signal distribution terminal of the clock signal distribution circuit, the layout area is wasted. Out. In addition, transistor switching speeds up due to miniaturization, and signal waveforms are becoming steep. If a thick wiring layer is used up to the clock signal distribution end of the clock signal distribution circuit, a clock signal that is strongly driven with a steep waveform is distributed to the end. Then, it becomes easy to cause interference due to crosstalk via the coupling capacitance in the same layer to parallel wirings driven by relatively weak driving ability in the vicinity. Further, when the signal waveform is made steeper to reduce the resistance by increasing the wiring cross-sectional area by increasing the film thickness or the wiring width, the effect of the wiring inductance becomes remarkable. As a result, there is a problem that the clock signal is reflected and the waveform is distorted. Normally, since a thick wiring layer is formed in an upper layer, the distance from the semiconductor substrate supplying the return current of the inductance is long, and therefore, there is a problem that the influence of the inductance is more likely to occur. In addition, the influence of the inductance greatly differs at the ends, resulting in a large skew. The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and is widely used in a semiconductor integrated circuit, which tends to be difficult to cope with as the manufacturing technology of the semiconductor integrated circuit becomes finer. An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit that can suppress a problem of skew regarding a clock signal. First, the invention of the present application operates by a common clock signal having a plurality of wiring layers having different thicknesses and the thicker one being formed on an upper layer side. In a semiconductor integrated circuit having a wide range of synchronous circuits, a clock signal distribution circuit composed of a plurality of buffering stages has at least a part of a clock signal line on a signal source side which has a thicker wiring. Using a layer, and at least a part of the clock signal line on the signal source side, at least one of a power supply line and a ground line is run in parallel at least on one side near the laying, and further,
This problem has been solved by using the thinner wiring layer for at least a part of the clock signal lines on the terminal side in the clock signal distribution circuit. Hereinafter, the operation of the present invention will be briefly described. FIG. 1 is a circuit diagram showing a buffer used in a clock signal distribution circuit and its output wiring. On the output side of the buffer B, there is a capacitance C such as a load or a floating capacitance of a wiring. For this reason, the drive capability of the output transistor of the buffer B is required to reduce the skew and the delay time until the clock signal arrives, and the wiring resistance on the output side of the buffer B also needs to be suppressed. . Further, on the output side of the buffer B, there is an inductance component in the wiring. For this reason, in the clock signal distributed as shown in the time chart of FIG. 2, ideally, a waveform like a solid line rising at the time ta should be formed, but it becomes like a dashed line.
Further, if there is a reflected wave on the wiring, the waveform of the signal output from the buffer B and the reflected wave interfere with each other, as shown by the two-dot chain line. In the waveform of the two-dot chain line, the reflected wave arrives at the time tb, interferes with the waveform of the signal output from the buffer B, and a peak of the waveform occurs. According to the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit having a wide range of synchronous circuits having a plurality of wiring layers having different thicknesses and having a thicker thickness formed on an upper layer side and operated by a common clock signal. In the clock signal distribution circuit comprising a plurality of buffering stages,
At least some of the clock signal lines on the signal source side use the thicker wiring layer. Therefore, the wiring resistance of the clock signal can be suppressed, the skew can be reduced, and the delay time until the clock signal arrives can be reduced. Further, in the present invention, as shown in FIG. 3, at least one of a power supply line and a ground line runs in parallel on at least one side of at least a part of the clock signal line close to the laying thereof. . As a result, the return current of the inductance can be supplied very close, and the adverse effect of the inductance as described with reference to FIG. 2 can be suppressed. In addition, it is possible to suppress interference in the nearby parallel wiring driven by relatively weak driving capability due to crosstalk via the same layer of coupling capacitance, thereby suppressing adverse effects on other wirings. Note that, in FIG. 3, the broken lines are the power supply lines and the ground lines running parallel to at least one side near the clock signal laying as described above. Further, in the present invention, the wiring layer having a smaller thickness is used for at least a part of the clock signal lines on the terminal side in the clock signal distribution circuit. This makes it possible to improve the degree of integration by effectively utilizing the chip layout. In addition, since the clock signal can be prevented from becoming excessively sharp at the end of the clock signal distribution, the same layer can be connected to the neighboring parallel wiring driven by relatively weak driving capability. Interference due to crosstalk via the coupling capacitor can be suppressed. As described above, according to the present invention, the problem of skew relating to a clock signal widely used in a semiconductor integrated circuit, which tends to be difficult to cope with with the miniaturization of the semiconductor integrated circuit manufacturing technology, is suppressed. be able to. Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 4 is a sectional view of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment to which the present invention is applied. In this figure, the cross-sectional structure of the present embodiment is schematically shown, and the diagonally lower right lines indicate the cross-section of the wiring with a thin wiring layer. The oblique line rising to the right indicates the cross section of the wiring by the wiring layer having a large film thickness. In this embodiment,
As an example, the first to sixth wiring layers are thin wiring layers. The seventh and eighth wiring layers are thicker wiring layers above the first to sixth wiring layers. Below these wiring layers, there are a transistor provided with a gate 2 above a channel portion formed on a substrate and a transistor provided with a gate 3 above a channel portion formed in a well 1. It is built in. Vias are connected between the gates, sources and drains of these transistors, wirings of a thin wiring layer, and wirings of a thick wiring layer. Or
They may be connected by stacked vias. The stack
A via is a via that extends over multiple wiring layers,
This is a via connecting between wirings formed in a wiring layer having no relation with a lower layer. FIG. 5 is a circuit diagram of the clock signal distribution circuit of the present embodiment. In this figure, the signal source of the clock signal of the clock signal distribution circuit is on the left side, and the terminal side of the clock signal of the clock signal distribution circuit is on the right side. In the clock signal distribution circuit, the buffer B is configured in a tree shape. Here, in the buffer B, the code B11
Is the first stage, B12 is the second stage, B13 is the third stage, B14 is the fourth stage, and B15 is the fifth stage. It is.
In FIG. 5, broken lines are power lines and ground lines laid in accordance with the present invention and run in parallel to at least one side of the clock signal laid. In this embodiment, a thick wiring layer is used for the clock signal wiring on the signal source side. Specifically, it is a portion of the clock signal in which the power supply line and the ground line are run in parallel, which is illustrated by the broken line as described above. As described above, in the present embodiment, the present invention can be effectively applied. Therefore, it is possible to suppress a problem of a skew relating to a clock signal widely used in the semiconductor integrated circuit, which tends to be difficult to cope with with the miniaturization of the manufacturing technology of the semiconductor integrated circuit. According to the present invention, the problem of skew relating to a clock signal widely used inside a semiconductor integrated circuit, which tends to be difficult to cope with with the miniaturization of the manufacturing technology of the semiconductor integrated circuit, is solved. Can be suppressed.

【図面の簡単な説明】 【図1】クロック信号分配回路に用いられるバッファ及
びその出力配線を示す回路図 【図2】クロック信号の波形を示すタイムチャート 【図3】本発明のクロック信号分配回路に用いられるバ
ッファ及びその出力配線を示す回路図 【図4】本発明が適用された実施形態の半導体集積回路
における断面図 【図5】上記実施形態のクロック信号分配回路の回路図 【図6】多数のバッファをツリー状に用いるクロック信
号分配回路の基本的なものの回路図 【符号の説明】 1…ウェル 2、3…ゲート B、B11〜B15…バッファ C…容量 FF…フリップフロップ GND…グランド
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a circuit diagram showing a buffer used in a clock signal distribution circuit and its output wiring. FIG. 2 is a time chart showing a waveform of a clock signal. FIG. 3 is a clock signal distribution circuit of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment to which the present invention is applied. FIG. 5 is a circuit diagram of a clock signal distribution circuit according to the embodiment. Circuit diagram of a basic clock signal distribution circuit using a large number of buffers in a tree shape [Description of References] 1 ... Well 2, 3 ... Gate B, B11-B15 ... Buffer C ... Capacitance FF ... Flip-flop GND ... Ground

フロントページの続き Fターム(参考) 5B079 BC03 CC20 DD08 DD13 5F038 CD02 CD06 CD08 CD09 CD12 CD13 EZ20 5F064 BB26 EE09 EE19 EE23 EE42 EE43 EE46 EE47 EE52 EE54 5J039 EE10 EE13 KK09 KK13 MM16Continuation of front page    F term (reference) 5B079 BC03 CC20 DD08 DD13                 5F038 CD02 CD06 CD08 CD09 CD12                       CD13 EZ20                 5F064 BB26 EE09 EE19 EE23 EE42                       EE43 EE46 EE47 EE52 EE54                 5J039 EE10 EE13 KK09 KK13 MM16

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】膜厚が異なる複数の配線層を有すると共
に、膜厚が厚い方が上層側に形成された、共通のクロッ
ク信号により動作する同期型回路が広範囲で存在する半
導体集積回路において、 複数のバッファリング・ステージによりなるクロック信
号分配回路における、信号源側の少なくとも一部のクロ
ック信号線には、膜厚が厚い方の前記配線層を用い、 かつ、信号源側のクロック信号線の少なくとも一部に
は、その敷設に接近した少なくともその片脇に、電源線
及びグランド線の少なくとも一方を並走させ、 更に、前記クロック信号分配回路における末端側の少な
くとも一部のクロック信号線には、膜厚が薄い方の前記
配線層を用いるようにしたことを特徴とする半導体集積
回路。
Claims: 1. A wide range of synchronous circuits having a plurality of wiring layers having different thicknesses and having a thicker thickness formed on an upper layer side and operated by a common clock signal. In a semiconductor integrated circuit, a thicker wiring layer is used for at least a part of a clock signal line on a signal source side in a clock signal distribution circuit including a plurality of buffering stages; At least one of a power supply line and a ground line is run in parallel to at least one side of the clock signal line on at least one side thereof near the laying, and further, at least a part of a terminal side in the clock signal distribution circuit. Wherein the wiring layer having a smaller thickness is used for the clock signal line.
JP2002137136A 2002-05-13 2002-05-13 Semiconductor integrated circuit Pending JP2003332430A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002137136A JP2003332430A (en) 2002-05-13 2002-05-13 Semiconductor integrated circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002137136A JP2003332430A (en) 2002-05-13 2002-05-13 Semiconductor integrated circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003332430A true JP2003332430A (en) 2003-11-21

Family

ID=29698974

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002137136A Pending JP2003332430A (en) 2002-05-13 2002-05-13 Semiconductor integrated circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003332430A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022042611A1 (en) * 2020-08-31 2022-03-03 中兴通讯股份有限公司 Clock driving unit assembly of chip, design method therefor, and chip

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022042611A1 (en) * 2020-08-31 2022-03-03 中兴通讯股份有限公司 Clock driving unit assembly of chip, design method therefor, and chip

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6515521B2 (en) Semiconductor integrated circuit for low power and high speed operation
US7786513B2 (en) Semiconductor integrated circuit device and power source wiring method therefor
JP4560846B2 (en) Crosstalk prevention circuit
JPH02208956A (en) Arrangement and wiring system of integrated circuit
JP2007067207A (en) Semiconductor device
KR100394255B1 (en) Wiring structure of semiconductor device
US6430735B2 (en) Semiconductor integrated circuit having thereon on-chip capacitors
US20090019407A1 (en) Clock supply circuit and method of designing the same
JP2001144091A (en) Semiconductor ic
JP2003332430A (en) Semiconductor integrated circuit
US20020036354A1 (en) Semiconductor device
KR940008132B1 (en) Semiconductor memory device
JP2000277618A (en) Lsi arrangement method
US20020002699A1 (en) Method of designing semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device
JP3073547B2 (en) Clock distribution circuit
JPH05102393A (en) Semiconductor device
US7157752B2 (en) Semiconductor device
JPH11168173A (en) Semiconductor device
JP3052374B2 (en) Layout method for CMOS integrated circuit
JP4498787B2 (en) Semiconductor device
JPH08316323A (en) Method of forming power supply wiring and circuit device with it
JP2005347591A (en) Standard cell, semiconductor integrated circuit device in standard cell system and layout design method for semiconductor integrated circuit device
JP2009239316A (en) Crosstalk prevention circuit
JPS61156834A (en) Signal transmission line of semiconductor ic
JP2000216263A (en) Semiconductor circuit using field effect transistor

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040820

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061031

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080115

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080520