JP2003320244A - 有害な流体の自浄式急速光浄化装置 - Google Patents
有害な流体の自浄式急速光浄化装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 主に非金属系の公害物質を含む空気及び水な
どの有害な流体を光照射下で酸化チタン光触媒作用を発
現している活性触媒面に接触させて無害化処理する有害
な流体の自浄式急速光浄化装置である。 【解決手段】 筒状の缶体と該缶体の中央域に組み込ん
だ光源と該光源を囲い込むように装設した受光反応体と
を備え、該受光反応体が主に傾斜面を持つ複数の受光板
と外導遮流板と内導遮流板とからなる複数の乱流路を備
え、該受光板が流体の流れる方向に向い蛇行する交流波
形状の波板断面を有し、該缶体の缶胴内壁面及び受光板
が主に酸化チタンで成層されてなる胴面触媒層及び板面
触媒層を備えている。
どの有害な流体を光照射下で酸化チタン光触媒作用を発
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な流体の自浄式急速光浄化装置である。 【解決手段】 筒状の缶体と該缶体の中央域に組み込ん
だ光源と該光源を囲い込むように装設した受光反応体と
を備え、該受光反応体が主に傾斜面を持つ複数の受光板
と外導遮流板と内導遮流板とからなる複数の乱流路を備
え、該受光板が流体の流れる方向に向い蛇行する交流波
形状の波板断面を有し、該缶体の缶胴内壁面及び受光板
が主に酸化チタンで成層されてなる胴面触媒層及び板面
触媒層を備えている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、生物の内分泌を攪
乱したり、催奇性や発癌性を持っていたり、異臭味の発
生源になったりする主に非金属系の公害物質、例えばポ
リ塩化ビフェニール、ノニフェノール、トリクロルエチ
レン、トリメチルアミン、ベンゼン、トルエン、ホルム
アルデヒド、ダイオキシン、硫化水素、アンモニアなど
及び/又はウイルス、細菌類とそれらの代識物質などで
汚染された空気、排気ガス等や地下水、廃水、浸透水等
の気相や液相の有害な流体を、主に酸化チタンの触媒層
に囲まれた複数の乱流路内に分配し流通させる間に、光
源からの主に紫外線に照射されている触媒面に効率よく
接触させて該公害物質の電子移動を触媒させることによ
り無害化する、所謂、既知の「酸化チタン光触媒作用」
により短時間で衛生的且つ経済的に光浄化処理し且つ負
荷変動に対する追随範囲と適用分野とが広い有害な流体
の自浄式急速光浄化装置に関する。
乱したり、催奇性や発癌性を持っていたり、異臭味の発
生源になったりする主に非金属系の公害物質、例えばポ
リ塩化ビフェニール、ノニフェノール、トリクロルエチ
レン、トリメチルアミン、ベンゼン、トルエン、ホルム
アルデヒド、ダイオキシン、硫化水素、アンモニアなど
及び/又はウイルス、細菌類とそれらの代識物質などで
汚染された空気、排気ガス等や地下水、廃水、浸透水等
の気相や液相の有害な流体を、主に酸化チタンの触媒層
に囲まれた複数の乱流路内に分配し流通させる間に、光
源からの主に紫外線に照射されている触媒面に効率よく
接触させて該公害物質の電子移動を触媒させることによ
り無害化する、所謂、既知の「酸化チタン光触媒作用」
により短時間で衛生的且つ経済的に光浄化処理し且つ負
荷変動に対する追随範囲と適用分野とが広い有害な流体
の自浄式急速光浄化装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の技術は、主に、内壁面が平滑で形
状が短筒形の多数の細孔流路を有し且つ該内壁面に酸化
チタンが塗布されてなる触媒面を持つハニカム構造の反
応体と該細孔流路の中を紫外線が通るように装設した照
射ランプとを備え、該細孔流路を通り抜ける流体中の公
害物質を光照射下で酸化チタン光触媒作用を発現してい
る活性触媒面に接触させて無害化し、光浄化処理するも
のであった。
状が短筒形の多数の細孔流路を有し且つ該内壁面に酸化
チタンが塗布されてなる触媒面を持つハニカム構造の反
応体と該細孔流路の中を紫外線が通るように装設した照
射ランプとを備え、該細孔流路を通り抜ける流体中の公
害物質を光照射下で酸化チタン光触媒作用を発現してい
る活性触媒面に接触させて無害化し、光浄化処理するも
のであった。
【0003】なお、光源から放射されて細孔流路を通る
紫外線は拡散及び反射しながら触媒面を照射するが、直
進する光は該触媒面を殆んど照射することなく素通りす
るために触媒の感光活性化率を小さくするとともに光損
失率を大きくし、また該細孔流路が公害物質を含む流体
の流れを整流化してしまい、混合攪作用及び接面刷新作
用の発現を抑えることから該触媒面と接触せずに素通り
する公害物質量を増し、更に前記両作用が相挨って該触
媒面の付着物を剥脱し排除する自浄作用の発現をも抑え
てしまい遮光障害及び遮流障害を生じ易くするために、
煩繁に運転を止めて分解洗浄しなければならない繁雑な
再生作業が必要になるなどのことから処理能力は小さく
なり、光浄化処理に要する時間は延びるため連続安定運
転が困難になり、従って適用分野が主に閉鎖空間の比較
的に濃度の低い臭気の循環脱臭用に限定され、また前処
理に精密除塵工程を設けると通気抵抗が大きくなったり
するので、装置の建設費及び運転管理費が過大になるな
どの問題があった。
紫外線は拡散及び反射しながら触媒面を照射するが、直
進する光は該触媒面を殆んど照射することなく素通りす
るために触媒の感光活性化率を小さくするとともに光損
失率を大きくし、また該細孔流路が公害物質を含む流体
の流れを整流化してしまい、混合攪作用及び接面刷新作
用の発現を抑えることから該触媒面と接触せずに素通り
する公害物質量を増し、更に前記両作用が相挨って該触
媒面の付着物を剥脱し排除する自浄作用の発現をも抑え
てしまい遮光障害及び遮流障害を生じ易くするために、
煩繁に運転を止めて分解洗浄しなければならない繁雑な
再生作業が必要になるなどのことから処理能力は小さく
なり、光浄化処理に要する時間は延びるため連続安定運
転が困難になり、従って適用分野が主に閉鎖空間の比較
的に濃度の低い臭気の循環脱臭用に限定され、また前処
理に精密除塵工程を設けると通気抵抗が大きくなったり
するので、装置の建設費及び運転管理費が過大になるな
どの問題があった。
【0004】
【本発明が解決しようとする課題】本発明が解決しよう
とする課題は、装置の適用分野が狭く、建設費と運転管
理費が過大になる点である。
とする課題は、装置の適用分野が狭く、建設費と運転管
理費が過大になる点である。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の手段は、主に非金属系の公害物質を含む空気や水など
の有害な流体を光照射下の主に酸化チタンの触媒面に接
触させて無害化処理する自浄式急速光浄化装置におい
て、形状が筒形の缶体と該缶体の中央域に組み込んだ光
源と該光源を囲うように該缶体内に装設した受光反応体
とを備え、該受光反応体が主に酸化チタンで成層された
板面触媒層を有する複数の受光板を備え、該受光板が光
源側端辺部と缶胴側端辺部との間に傾斜面を有するとと
もに前記光源側端辺部が一定距離を置き配設された複数
の小径環板に等間隔を開けて放射状に締結され且つ前記
缶胴側端辺部が一定距離を置き配設された複数の大径環
板に等間隔を開けて締結され、該傾斜面が光源の中心点
と該光源側端辺部とを通る放射線に対し一定の傾斜角度
を持って一回転方向へ屈析している有害な流体の自浄式
急速光浄化装置である。
の手段は、主に非金属系の公害物質を含む空気や水など
の有害な流体を光照射下の主に酸化チタンの触媒面に接
触させて無害化処理する自浄式急速光浄化装置におい
て、形状が筒形の缶体と該缶体の中央域に組み込んだ光
源と該光源を囲うように該缶体内に装設した受光反応体
とを備え、該受光反応体が主に酸化チタンで成層された
板面触媒層を有する複数の受光板を備え、該受光板が光
源側端辺部と缶胴側端辺部との間に傾斜面を有するとと
もに前記光源側端辺部が一定距離を置き配設された複数
の小径環板に等間隔を開けて放射状に締結され且つ前記
缶胴側端辺部が一定距離を置き配設された複数の大径環
板に等間隔を開けて締結され、該傾斜面が光源の中心点
と該光源側端辺部とを通る放射線に対し一定の傾斜角度
を持って一回転方向へ屈析している有害な流体の自浄式
急速光浄化装置である。
【0006】また、受光反応体が一定距離を置き交互に
配設された外導遮流板と内導遮流板とを有して光源と缶
体の缶胴内壁面との間に受光板と同数の乱流路を形成
し、該受光板が光源側端辺部で該外導遮流板に等間隔を
開けて放射状に締結されるとともに缶胴側端辺部で該内
導遮流板に等間隔を開けて締結され、該内導遮流板と大
径環板とが外周部で連結桿により締結されて該受光反応
体を一体構造化し、該連結桿が複数の側桿と端結桿とか
らなり、該側桿が缶体の缶胴内壁部に設けた複数のウォ
ールガイドと噛み合う軌条になる有害な流体の自浄式急
速光浄化装置である。
配設された外導遮流板と内導遮流板とを有して光源と缶
体の缶胴内壁面との間に受光板と同数の乱流路を形成
し、該受光板が光源側端辺部で該外導遮流板に等間隔を
開けて放射状に締結されるとともに缶胴側端辺部で該内
導遮流板に等間隔を開けて締結され、該内導遮流板と大
径環板とが外周部で連結桿により締結されて該受光反応
体を一体構造化し、該連結桿が複数の側桿と端結桿とか
らなり、該側桿が缶体の缶胴内壁部に設けた複数のウォ
ールガイドと噛み合う軌条になる有害な流体の自浄式急
速光浄化装置である。
【0007】また、受光板が板面触媒層に流体の流れる
方向へ向い蛇行する交流波形状の形を与える波形断面を
有し、缶体が缶胴内壁面に主として酸化チタンを成層し
てなる胴面触媒層を備えている有害な流体の自浄式急速
光浄化装置である。
方向へ向い蛇行する交流波形状の形を与える波形断面を
有し、缶体が缶胴内壁面に主として酸化チタンを成層し
てなる胴面触媒層を備えている有害な流体の自浄式急速
光浄化装置である。
【0008】また、光源が主に紫外線を放射する照射ラ
ンプと該照射ランプを缶体内の流体から隔離する透明な
石英ガラス製の保護管と該保護管の開口部を塞ぎ閉鎖空
間を形成させる封栓とからなり、該封栓に該閉鎖空間内
へ気体を流通させる注気管及び抜気管などが設けられ、
該照射ランプが電極部と射光管部との境界上に反射板を
備えている有害な流体の自浄式急速光浄化装置である。
ンプと該照射ランプを缶体内の流体から隔離する透明な
石英ガラス製の保護管と該保護管の開口部を塞ぎ閉鎖空
間を形成させる封栓とからなり、該封栓に該閉鎖空間内
へ気体を流通させる注気管及び抜気管などが設けられ、
該照射ランプが電極部と射光管部との境界上に反射板を
備えている有害な流体の自浄式急速光浄化装置である。
【0009】
【作用】上記のように構成された本発明の有害な流体の
自浄式急速光浄化装置において、主に非金属系の公害物
質を含む空気や水などの流体、例えば化学品工場、精油
所、合板工場、食品加工工場等の閉鎖空間の循環空気及
び生ごみの集積所や中継所や焼却場、堆肥工場、地下駐
車場、トンネル等からの排気ガスなどの気相の有害な流
体、或は廃棄物の焼却場や埋立地、電子部品工場等及び
それらの跡地などからの排出水、浸透水及び地下水など
の液相の有害な流体は、前処理装置で主に懸濁物質が除
去された後に、流体供給装置から該自浄式急速光浄化装
置に供給され、形状が5〜24角筒形或は円筒形の缶体
の中央域に組み込んだ光源を囲い込むように装設した受
光反応体の中を流通する。
自浄式急速光浄化装置において、主に非金属系の公害物
質を含む空気や水などの流体、例えば化学品工場、精油
所、合板工場、食品加工工場等の閉鎖空間の循環空気及
び生ごみの集積所や中継所や焼却場、堆肥工場、地下駐
車場、トンネル等からの排気ガスなどの気相の有害な流
体、或は廃棄物の焼却場や埋立地、電子部品工場等及び
それらの跡地などからの排出水、浸透水及び地下水など
の液相の有害な流体は、前処理装置で主に懸濁物質が除
去された後に、流体供給装置から該自浄式急速光浄化装
置に供給され、形状が5〜24角筒形或は円筒形の缶体
の中央域に組み込んだ光源を囲い込むように装設した受
光反応体の中を流通する。
【0010】受光反応体には、主に酸化チタンで成層さ
れてなる板面触媒層を持つ5〜24枚程度の受光板が設
けられ、該受光板の光源側端辺部が一定距離を置き配設
された複数の小径環板と外導遮流板とにより等間隔を開
けて締結され且つ該受光板の缶胴側端辺部が一定距離を
置き配設された複数の大径環板と内導遮流板とにより等
間隔を開けて締結されて光源と缶体の缶胴内壁面との間
に5〜24本程度の乱流路を形成し、該乱流路に分配さ
れて流れる有害な流体に混合攪拌作用を発現させる蠕動
流を与える。
れてなる板面触媒層を持つ5〜24枚程度の受光板が設
けられ、該受光板の光源側端辺部が一定距離を置き配設
された複数の小径環板と外導遮流板とにより等間隔を開
けて締結され且つ該受光板の缶胴側端辺部が一定距離を
置き配設された複数の大径環板と内導遮流板とにより等
間隔を開けて締結されて光源と缶体の缶胴内壁面との間
に5〜24本程度の乱流路を形成し、該乱流路に分配さ
れて流れる有害な流体に混合攪拌作用を発現させる蠕動
流を与える。
【0011】また、受光板に、光源の中心点と光源側端
辺部、好ましくはその中心線を通る放射線に対し一定角
度を持って時計回り或は反時計回りのいずれか一方向へ
屈析させてなる傾斜面を設けるとともに該受光板に流体
の流れる方向に向い蛇行する正弦波、三角波、方形波、
鋸歯状波、或はそれらを適宜に組み合わせてなる形状の
波板断面を設けて板面触媒層に交流波形を与えることに
より、流体の中に接面刷新作用を発現させる多数の小渦
流の群列を連続して発生させる。
辺部、好ましくはその中心線を通る放射線に対し一定角
度を持って時計回り或は反時計回りのいずれか一方向へ
屈析させてなる傾斜面を設けるとともに該受光板に流体
の流れる方向に向い蛇行する正弦波、三角波、方形波、
鋸歯状波、或はそれらを適宜に組み合わせてなる形状の
波板断面を設けて板面触媒層に交流波形を与えることに
より、流体の中に接面刷新作用を発現させる多数の小渦
流の群列を連続して発生させる。
【0012】従って、受光板には傾斜面とその波板断面
とから広い面積の板面触媒層と機械的強度とが与えられ
る。
とから広い面積の板面触媒層と機械的強度とが与えられ
る。
【0013】また、光源は、波長が100〜260nm
程度の主に紫外線を放射する本数が1〜6本程度、ワッ
ト数が100〜200ワット程度の直管状の照射ランプ
をスタンド盤間に固定して取扱し易く一体化してから紫
外線透過率の高い透明な石英ガラス製の保護管内に随時
装脱着可能に装設してなり、放射された高エネルギーの
光線は光源側端辺部で5〜24本程度の光束に分割され
且つ大きな入射角を持って受光板表側の板面触媒層に広
く、薄く延展化されるとともに、その約半分程度の光エ
ネルギーが転化され且つ大きな反射角が与えられた光線
は拡散光及び散乱光とともに該受光板裏側の板面触媒層
と胴面触媒層とを照射するなどのことから、有効受光面
積は大きくなり且つ光損失が抑えられ、また触媒層に含
まれる成層固着剤を攻撃する紫外線の化学反応力は緩和
されて該触媒層の経時的活性低下と亀裂及び脱落などに
伴なう脆化障害の発生をも抑えられる。
程度の主に紫外線を放射する本数が1〜6本程度、ワッ
ト数が100〜200ワット程度の直管状の照射ランプ
をスタンド盤間に固定して取扱し易く一体化してから紫
外線透過率の高い透明な石英ガラス製の保護管内に随時
装脱着可能に装設してなり、放射された高エネルギーの
光線は光源側端辺部で5〜24本程度の光束に分割され
且つ大きな入射角を持って受光板表側の板面触媒層に広
く、薄く延展化されるとともに、その約半分程度の光エ
ネルギーが転化され且つ大きな反射角が与えられた光線
は拡散光及び散乱光とともに該受光板裏側の板面触媒層
と胴面触媒層とを照射するなどのことから、有効受光面
積は大きくなり且つ光損失が抑えられ、また触媒層に含
まれる成層固着剤を攻撃する紫外線の化学反応力は緩和
されて該触媒層の経時的活性低下と亀裂及び脱落などに
伴なう脆化障害の発生をも抑えられる。
【0014】また、照射ランプの射光管部と電極部との
境界上に反射板を設けるとともに、封栓で塞いでなる保
護管の閉鎖空間内へ比較的温度の低い空気、酸素富化ガ
ス及び純酸素ガスなどの酸素含有ガスを導入する注気管
と比較的温度が高くなったガスを該閉鎖空間外へ導出す
る抜気管とを設けることなどにより該電極部及び樹脂部
材を熱、紫外線及び該紫外線で励起された酸素から生じ
るオゾンなどの攻撃から守り該照射ランプの消耗を防ぐ
とともに、光変換効率の低下を抑える。なお、抜気管か
ら導出したオゾン含有ガスは前処理装置に送られて有害
な流体中に吹き込まれたり、或は除塵工程の再生用酸化
・滅菌剤として有効利用される。
境界上に反射板を設けるとともに、封栓で塞いでなる保
護管の閉鎖空間内へ比較的温度の低い空気、酸素富化ガ
ス及び純酸素ガスなどの酸素含有ガスを導入する注気管
と比較的温度が高くなったガスを該閉鎖空間外へ導出す
る抜気管とを設けることなどにより該電極部及び樹脂部
材を熱、紫外線及び該紫外線で励起された酸素から生じ
るオゾンなどの攻撃から守り該照射ランプの消耗を防ぐ
とともに、光変換効率の低下を抑える。なお、抜気管か
ら導出したオゾン含有ガスは前処理装置に送られて有害
な流体中に吹き込まれたり、或は除塵工程の再生用酸化
・滅菌剤として有効利用される。
【0015】また、上記のように、光損失と触媒層の脆
化とともに照射ランプの消耗及び光変換効率の低下が抑
えられるので、該照射ランプの放射光の波長を短くし且
つワット数及び本数を増したりして光源の照射エネルギ
ー強度の設定範囲を拡大させ得ることから、装置の光浄
化効率の最適化が容易になる。
化とともに照射ランプの消耗及び光変換効率の低下が抑
えられるので、該照射ランプの放射光の波長を短くし且
つワット数及び本数を増したりして光源の照射エネルギ
ー強度の設定範囲を拡大させ得ることから、装置の光浄
化効率の最適化が容易になる。
【0016】また、本自浄式急速光浄化装置の導入管
に、有害な流体を送り込む流体供給装置と連動して光浄
化処理後の浄化流体を返送する流体循環装置を設けて乱
流路内の流速を加減し、混合攪拌作用を発現させる蠕動
流と接面刷新作用を発現させる小渦流の群列との強さを
制御するとともに、それら両作用が相挨って自浄作用を
発現させる乱流の強さをも調整し得るので、定常運転時
の連続的なセルフクリーニングでは十分に排除できない
付着物や目詰などを発生させるような性状の有害な流体
の光浄化処理をも、適宜に該乱流を強めて自浄作用を大
きくし、以って遮光障害及び遮流障害の発生を抑えるこ
とにより可能にし、且つ煩繁に運転を止て分解洗浄し、
組み立て直し、試運転調整しながら起動したりする繁雑
な再生作業の人手と時間とを省くこともできるばかりで
なく、触媒面の感光活性率を高水準に維持させ得るの
で、負荷変動に対する追随性の向上と長期間に亘る連続
安定運転とを可能にする。
に、有害な流体を送り込む流体供給装置と連動して光浄
化処理後の浄化流体を返送する流体循環装置を設けて乱
流路内の流速を加減し、混合攪拌作用を発現させる蠕動
流と接面刷新作用を発現させる小渦流の群列との強さを
制御するとともに、それら両作用が相挨って自浄作用を
発現させる乱流の強さをも調整し得るので、定常運転時
の連続的なセルフクリーニングでは十分に排除できない
付着物や目詰などを発生させるような性状の有害な流体
の光浄化処理をも、適宜に該乱流を強めて自浄作用を大
きくし、以って遮光障害及び遮流障害の発生を抑えるこ
とにより可能にし、且つ煩繁に運転を止て分解洗浄し、
組み立て直し、試運転調整しながら起動したりする繁雑
な再生作業の人手と時間とを省くこともできるばかりで
なく、触媒面の感光活性率を高水準に維持させ得るの
で、負荷変動に対する追随性の向上と長期間に亘る連続
安定運転とを可能にする。
【0017】
【実施例】本発明の一実施例を概要説明図を示した図1
と、図1の自浄式急速光浄化装置部概略説明図を示した
図2と、図2のA−A矢視横断面図を示した図3と、図
2のB−B横断面部における缶体と受光反応体との取合
説明図を示した図4と、図2の流体動態概説図を示した
図5と、図2の光源部縦断面説明図を示した図6と、図
6のC−C横断面図を示した図7とに基づいて説明す
る。4は自浄式急速光浄化装置であり、前処理装置1で
懸濁物質を除去してから流体供給装置2で昇圧した気相
の有害な流体Lを導入管10から受け入れて無害化処理
し導出管11から気相の浄化流体Mとして排出する。3
は該浄化流体Mを適宜に導入管10に返送する流体循環
装置であり、流体供給装置2と連動して乱流路27の中
を流れる流体の速さを調整する。また、該自浄式急速光
浄化装置4は導入管10側が導出管11側よりも低くな
るように傾設されている。なお、Kは気相で懸濁物質を
含む有害な流体である。
と、図1の自浄式急速光浄化装置部概略説明図を示した
図2と、図2のA−A矢視横断面図を示した図3と、図
2のB−B横断面部における缶体と受光反応体との取合
説明図を示した図4と、図2の流体動態概説図を示した
図5と、図2の光源部縦断面説明図を示した図6と、図
6のC−C横断面図を示した図7とに基づいて説明す
る。4は自浄式急速光浄化装置であり、前処理装置1で
懸濁物質を除去してから流体供給装置2で昇圧した気相
の有害な流体Lを導入管10から受け入れて無害化処理
し導出管11から気相の浄化流体Mとして排出する。3
は該浄化流体Mを適宜に導入管10に返送する流体循環
装置であり、流体供給装置2と連動して乱流路27の中
を流れる流体の速さを調整する。また、該自浄式急速光
浄化装置4は導入管10側が導出管11側よりも低くな
るように傾設されている。なお、Kは気相で懸濁物質を
含む有害な流体である。
【0018】5は自浄式急速光浄化装置4の缶体であ
り、24角筒形の形状を有している。6は該缶体5の缶
胴内壁面に硼素、炭素、カルシュウム、白金及びコバル
ト等やそれらの化合物などの助剤物質を単独乃至それら
を適宜に組み合わせて添加した酸化チタンで成層してな
る胴面触媒層、7は該缶体5にフランジ留めされた蓋
板、8は該缶体5の缶胴内壁部に設けた3本のウォール
ガイド、9は受光反応体17を支持する受座、12は止
水弁が付設されたドレーン抜管、16は架台である。ま
た、該蓋板7には中央部に光源29の装脱着口となる短
管14が設けられている。13は保護管31をその両端
部で挟み込み該短管14内に支持する2割栓、15は短
管カバーである。なお、Uはドレーンである。
り、24角筒形の形状を有している。6は該缶体5の缶
胴内壁面に硼素、炭素、カルシュウム、白金及びコバル
ト等やそれらの化合物などの助剤物質を単独乃至それら
を適宜に組み合わせて添加した酸化チタンで成層してな
る胴面触媒層、7は該缶体5にフランジ留めされた蓋
板、8は該缶体5の缶胴内壁部に設けた3本のウォール
ガイド、9は受光反応体17を支持する受座、12は止
水弁が付設されたドレーン抜管、16は架台である。ま
た、該蓋板7には中央部に光源29の装脱着口となる短
管14が設けられている。13は保護管31をその両端
部で挟み込み該短管14内に支持する2割栓、15は短
管カバーである。なお、Uはドレーンである。
【0019】受光反応体17には硼素、炭素、カルシュ
ウム、白金及びコバルト等やそれらの化合物などの助剤
物質を単独乃至それらを適宜に組み合わせて添加した酸
化チタンで成層してなる板面触媒層22を備えた24枚
の受光板18が設けられ、該受光板18の光源側端辺部
20は一定距離を置き配設された複数の小径環板23に
それぞれ等間隔を開けて放射状に締結され、また該受光
板18の缶胴側端辺部21は一定距離を置き配設された
複数の大径環板24にそれぞれ等間隔を開けて締結さ
れ、更に外導遮流板25と内導遮流板26とが一定距離
を置き交互に締結されて24本の乱流路27を形成して
いる。なお、19は受光板18の光源側端辺部20と缶
胴側端辺部21とに挟まれた傾斜面であり、光源29の
中心点Qと光源側端辺部20の中心線とを通る放射線に
対し向って反時計回り方向に一定の傾斜角度θを持って
屈折し且つ流体の流れる方向に向って蛇行する交流波形
状の波板断面を有している。28は連結桿であり、内導
遮流板26と大径環板24とをそれらの外周部で締結す
る3本の側桿と該側桿の端部を三角形状に連結する端結
桿とからなって受光反応体17を補強し且つ一体構造化
するとともに、該側桿はそれぞれがウォールガイド8と
噛み合う軌条になっている。なお、Gは傾斜面19の波
板断面の交流波節部中心線、Jは蠕動流の進む方向を示
す矢印である。
ウム、白金及びコバルト等やそれらの化合物などの助剤
物質を単独乃至それらを適宜に組み合わせて添加した酸
化チタンで成層してなる板面触媒層22を備えた24枚
の受光板18が設けられ、該受光板18の光源側端辺部
20は一定距離を置き配設された複数の小径環板23に
それぞれ等間隔を開けて放射状に締結され、また該受光
板18の缶胴側端辺部21は一定距離を置き配設された
複数の大径環板24にそれぞれ等間隔を開けて締結さ
れ、更に外導遮流板25と内導遮流板26とが一定距離
を置き交互に締結されて24本の乱流路27を形成して
いる。なお、19は受光板18の光源側端辺部20と缶
胴側端辺部21とに挟まれた傾斜面であり、光源29の
中心点Qと光源側端辺部20の中心線とを通る放射線に
対し向って反時計回り方向に一定の傾斜角度θを持って
屈折し且つ流体の流れる方向に向って蛇行する交流波形
状の波板断面を有している。28は連結桿であり、内導
遮流板26と大径環板24とをそれらの外周部で締結す
る3本の側桿と該側桿の端部を三角形状に連結する端結
桿とからなって受光反応体17を補強し且つ一体構造化
するとともに、該側桿はそれぞれがウォールガイド8と
噛み合う軌条になっている。なお、Gは傾斜面19の波
板断面の交流波節部中心線、Jは蠕動流の進む方向を示
す矢印である。
【0020】光源29は、形状が両端の開いた円管形で
紫外線透過率の高い石英ガラス製の透明な保護管31と
ワット数が100W程度以上で波長が主に180〜26
0nm程度の主に紫外線を放射する1本、好ましくは3
本の直管状の照射ランプ30とを備え、該照射ランプ3
0がその電極部32と射光管部との境界上に反射板33
を備えている。34は該照射ランプ30の両端の電極ホ
ルダー部を挟み込み支持する2板で1組のスタンド盤で
あり、該スタンド盤34の間は結束板36で中間部が補
強された3本のスタンドバー35により支持されてい
る。37は該電極部32と図示しない点灯装置とを結ぶ
電線である。38は封栓であり、保護管31の両端を塞
いで閉鎖空間を形成する。39は該閉鎖空間内へ比較的
に温度の低い気体Nを導入する注気管であり、図示しな
い送気ポンプに接続されている。40は比較的に温度が
高くなった気体Pを該閉鎖空間外へ導出する抜気管であ
る。
紫外線透過率の高い石英ガラス製の透明な保護管31と
ワット数が100W程度以上で波長が主に180〜26
0nm程度の主に紫外線を放射する1本、好ましくは3
本の直管状の照射ランプ30とを備え、該照射ランプ3
0がその電極部32と射光管部との境界上に反射板33
を備えている。34は該照射ランプ30の両端の電極ホ
ルダー部を挟み込み支持する2板で1組のスタンド盤で
あり、該スタンド盤34の間は結束板36で中間部が補
強された3本のスタンドバー35により支持されてい
る。37は該電極部32と図示しない点灯装置とを結ぶ
電線である。38は封栓であり、保護管31の両端を塞
いで閉鎖空間を形成する。39は該閉鎖空間内へ比較的
に温度の低い気体Nを導入する注気管であり、図示しな
い送気ポンプに接続されている。40は比較的に温度が
高くなった気体Pを該閉鎖空間外へ導出する抜気管であ
る。
【0021】なお、比較的に温度の低い気体Nに空気、
酸素富化ガス及び純酸素などの酸素含有ガスを使うと、
酸素が紫外線により励起されてオゾンを含む気体になる
ので、抜気管40から引き抜き前処理工程の酸化・滅菌
剤として有効利用する。但し、引火性の物質が有害な流
体Lに含まれていたり、或は光浄化過程で副生されたり
する場合には、酸素含有ガスの代りに、炭酸ガス、窒素
ガス及びヘリュウムガスなどの不活性ガスが冷却装置を
介して循環使用される。また、自浄式急速光浄化装置4
の機側には図示しない点検保守用のリフトが設けられて
いる。なお、Hは光源側端辺部20で24本に分割され
た光束の進む方向を示す矢印である。
酸素富化ガス及び純酸素などの酸素含有ガスを使うと、
酸素が紫外線により励起されてオゾンを含む気体になる
ので、抜気管40から引き抜き前処理工程の酸化・滅菌
剤として有効利用する。但し、引火性の物質が有害な流
体Lに含まれていたり、或は光浄化過程で副生されたり
する場合には、酸素含有ガスの代りに、炭酸ガス、窒素
ガス及びヘリュウムガスなどの不活性ガスが冷却装置を
介して循環使用される。また、自浄式急速光浄化装置4
の機側には図示しない点検保守用のリフトが設けられて
いる。なお、Hは光源側端辺部20で24本に分割され
た光束の進む方向を示す矢印である。
【0022】また、本発明の別の一実施例を概要説明図
を示した図8と、図8の自浄式急速光浄化装置部概略説
明図を示した図9と、図9のD−D矢視横断面図を示し
た図10と、図9のE−E横断面部における缶体と受光
反応体との取合説明図を示した図11と、図9の光源部
縦断面説明図を示した図12と、図12のF−F横断面
図を示した図13とに基づいて説明する。44は自浄式
急速光浄化装置であり、前処理装置41で懸濁物質を除
去してから流体供給装置42で昇圧した液相の有害な流
体Sを導入管50から受け入れて無害化処理し導入管5
1から液相の浄化流体Tとして払出す。43は該浄化流
体Tを適宜に導入管50に返送する流体循環装置であ
り、流体供給装置42と連動して乱流路69の中を流れ
る流体の速さを調整する。なお、Rは液相で懸濁物質を
含む有害な流体である。
を示した図8と、図8の自浄式急速光浄化装置部概略説
明図を示した図9と、図9のD−D矢視横断面図を示し
た図10と、図9のE−E横断面部における缶体と受光
反応体との取合説明図を示した図11と、図9の光源部
縦断面説明図を示した図12と、図12のF−F横断面
図を示した図13とに基づいて説明する。44は自浄式
急速光浄化装置であり、前処理装置41で懸濁物質を除
去してから流体供給装置42で昇圧した液相の有害な流
体Sを導入管50から受け入れて無害化処理し導入管5
1から液相の浄化流体Tとして払出す。43は該浄化流
体Tを適宜に導入管50に返送する流体循環装置であ
り、流体供給装置42と連動して乱流路69の中を流れ
る流体の速さを調整する。なお、Rは液相で懸濁物質を
含む有害な流体である。
【0023】45は自浄式急速光浄化装置44の缶体で
あり、12角筒形の形状を有している。46は該缶体4
5の缶胴内壁面にアルミナ、弗化カルシュウム、シリ
カ、白金及びコバルトなどの助剤物質を単独乃至それら
を適宜に組み合わせて添加した酸化チタンで成層してな
る胴面触媒層、47は該缶体45にフランジ留めされた
蓋板、48は該缶体45の缶胴内壁部に設けた3本のウ
ォールガイド、49は受光反応体59を支持する受座、
52は止水弁が付設されたドレーン抜管、53は点検
口、57は通気管、58は架台である。また、蓋板47
には中央部に光源71の装脱着口となる短管55が設け
られている。54は保護管73をその上端部で挟み込み
短管55内に支持する2割栓、56は短管カバーであ
る。なお、Vはドレーン、Zは吸吐気である。
あり、12角筒形の形状を有している。46は該缶体4
5の缶胴内壁面にアルミナ、弗化カルシュウム、シリ
カ、白金及びコバルトなどの助剤物質を単独乃至それら
を適宜に組み合わせて添加した酸化チタンで成層してな
る胴面触媒層、47は該缶体45にフランジ留めされた
蓋板、48は該缶体45の缶胴内壁部に設けた3本のウ
ォールガイド、49は受光反応体59を支持する受座、
52は止水弁が付設されたドレーン抜管、53は点検
口、57は通気管、58は架台である。また、蓋板47
には中央部に光源71の装脱着口となる短管55が設け
られている。54は保護管73をその上端部で挟み込み
短管55内に支持する2割栓、56は短管カバーであ
る。なお、Vはドレーン、Zは吸吐気である。
【0024】受光反応体59にはアルミナ、弗化カルシ
ュウム、シリカ、白金及びコバルトなどの助剤物質を単
独乃至それらを適宜に組み合わせて添加した酸化チタン
で成層してなる板面触媒層64を備えた12枚の受光板
60が設けられ、該受光板60の光源側端辺部62は一
定距離を置き配設された複数の小径環板65にそれぞれ
等間隔を開けて放射状に締結され、また該受光板60の
缶胴側端辺部63は一定距離を置き配設された複数の大
径環板66にそれぞれ等間隔を開けて締結され、更に外
導遮流板67と内導遮流板68とが一定距離を置き交互
に締結されて12本の乱流路69を形成している。な
お、61は受光板60の光源側端辺部62と缶胴側端辺
部63との間に挟まれた傾斜面であり、光源71の中心
点Q’と光源側端辺部62の中心線とを通る放射線に対
し向って時計回り方向に一定の傾斜角度θ’を持って屈
折し且つ流体の流れる方向に向かい蛇行する交流波形状
の波板断面を有している。70は連結桿であり、内導遮
流板68と大径環板66とをそれらの外周部で締結する
3本の側桿と該側桿の端部を三角形状に連結する端結桿
とからなり受光反応体59を補強し且つ一体構造化する
とともに、側桿はそれぞれが3本のウォールガイド48
と噛み合う軌条になっている。なお、G’は傾斜面61
の波板断面の交流波節部中心線である。
ュウム、シリカ、白金及びコバルトなどの助剤物質を単
独乃至それらを適宜に組み合わせて添加した酸化チタン
で成層してなる板面触媒層64を備えた12枚の受光板
60が設けられ、該受光板60の光源側端辺部62は一
定距離を置き配設された複数の小径環板65にそれぞれ
等間隔を開けて放射状に締結され、また該受光板60の
缶胴側端辺部63は一定距離を置き配設された複数の大
径環板66にそれぞれ等間隔を開けて締結され、更に外
導遮流板67と内導遮流板68とが一定距離を置き交互
に締結されて12本の乱流路69を形成している。な
お、61は受光板60の光源側端辺部62と缶胴側端辺
部63との間に挟まれた傾斜面であり、光源71の中心
点Q’と光源側端辺部62の中心線とを通る放射線に対
し向って時計回り方向に一定の傾斜角度θ’を持って屈
折し且つ流体の流れる方向に向かい蛇行する交流波形状
の波板断面を有している。70は連結桿であり、内導遮
流板68と大径環板66とをそれらの外周部で締結する
3本の側桿と該側桿の端部を三角形状に連結する端結桿
とからなり受光反応体59を補強し且つ一体構造化する
とともに、側桿はそれぞれが3本のウォールガイド48
と噛み合う軌条になっている。なお、G’は傾斜面61
の波板断面の交流波節部中心線である。
【0025】光源71は、形状が円筒形で下端が試験管
状に閉じ且つ紫外線透過率の高い石英ガラス製の透明な
保護管73とワット数が100〜200ワット程度以上
で波長が主に100〜260nm程度の紫外線を放射す
る3本、好ましくは4〜6本の照射ランプ72とを備
え、該照射ランプ72の射光管部と電極部74との境界
上に反射板が設けられている。76は電極ホルダー部を
挟み込む2枚で1組のスタンド盤であり、多面鏡柱77
で支持されている。なお、該多面鏡柱77の中には図示
しない点灯装置と下部の電極部とを結ぶ電線79が通っ
ている。80は保護管73の上部を塞ぎ閉鎖空間を形成
させる封栓である。81は該閉鎖空間内へ比較的に温度
の低い気体Wを送り込む注気管であり、図示しない送気
ポンプに接続されている。82は比較的に温度が高くな
った気体Yを該閉鎖空間外へ導出する抜気管、83は浄
化流体受槽である。
状に閉じ且つ紫外線透過率の高い石英ガラス製の透明な
保護管73とワット数が100〜200ワット程度以上
で波長が主に100〜260nm程度の紫外線を放射す
る3本、好ましくは4〜6本の照射ランプ72とを備
え、該照射ランプ72の射光管部と電極部74との境界
上に反射板が設けられている。76は電極ホルダー部を
挟み込む2枚で1組のスタンド盤であり、多面鏡柱77
で支持されている。なお、該多面鏡柱77の中には図示
しない点灯装置と下部の電極部とを結ぶ電線79が通っ
ている。80は保護管73の上部を塞ぎ閉鎖空間を形成
させる封栓である。81は該閉鎖空間内へ比較的に温度
の低い気体Wを送り込む注気管であり、図示しない送気
ポンプに接続されている。82は比較的に温度が高くな
った気体Yを該閉鎖空間外へ導出する抜気管、83は浄
化流体受槽である。
【0026】なお、比較的に温度の低い気体Wに空気、
酸素富化ガス及び純酸素ガスなどの酸素含有ガスを使う
と酸素が紫外線により励起されてオゾンを含むガスにな
るので、抜気管82から引き抜き前処理装置の酸化・滅
菌剤として有効利用する。但し、引火性の物質が有害な
流体Sに含まれていたり、或は光浄化過程で副生された
りする場合には酸素含有ガスの代りに炭酸ガス、窒素ガ
ス及びヘリュウムガスなどの不活性ガスが冷却装置を介
して循環使用される。また、自浄式急速光浄化装置44
の機側には図示しない点検保守用のリフトが設けられて
いる。なお、H’は光源側端辺部62で12本に分割さ
れた光束の進む方向を示す矢印である。
酸素富化ガス及び純酸素ガスなどの酸素含有ガスを使う
と酸素が紫外線により励起されてオゾンを含むガスにな
るので、抜気管82から引き抜き前処理装置の酸化・滅
菌剤として有効利用する。但し、引火性の物質が有害な
流体Sに含まれていたり、或は光浄化過程で副生された
りする場合には酸素含有ガスの代りに炭酸ガス、窒素ガ
ス及びヘリュウムガスなどの不活性ガスが冷却装置を介
して循環使用される。また、自浄式急速光浄化装置44
の機側には図示しない点検保守用のリフトが設けられて
いる。なお、H’は光源側端辺部62で12本に分割さ
れた光束の進む方向を示す矢印である。
【0027】また、本発明は図1〜図13の実施例に限
定されるものではなく、自浄式急速光浄化装置4、44
に液相の有害な流体Sの噴霧装置を付設して気−液中間
処理する方法に代えても、随時切替可能な逆循環回路を
設けてもよく、流体供給装置2、42にパルセータを設
けてもよく、流体循環装置3、43と導入管10、50
との間に熱交換装置を設けてもよく、缶体5、45の直
胴部の平滑壁面をその一部又は全部に正弦波、三角波、
方形波及び鋸歯状波など或はそれらを適宜に組み合わせ
た形状の溝が蛇腹状、螺線状或は縞状に設けられたもの
に代えても更にそれらとジャケットとを組み合わせたも
のに代えてもよく、缶体5、45の所要直径寸法によっ
ては外導遮流板25、67及び内導遮流板26、68を
省いても更には缶体の形状をUチューブ状に配設しても
或は湾曲させてもよく、缶体5、45の内壁部に複数の
洗浄ノズルを設けてもよく、照射ランプ30、72の形
状を直管形の代りにU字形、W字形、或は螺線形のもの
に代えてもよく、光源29、71を紫外線発光ダイオー
ド及び紫外線レーザなどに代えてもよく、外導遮流板2
5、67及び/又は内導遮流板26、68に傾斜部を設
けても或は切欠部を設けてもよく、有害な流体L、Sの
性状によっては酸化チタンに添加する助剤物質の種類を
変えても或は省いてもよくその他本発明の要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更を加え得ることは勿論である。
定されるものではなく、自浄式急速光浄化装置4、44
に液相の有害な流体Sの噴霧装置を付設して気−液中間
処理する方法に代えても、随時切替可能な逆循環回路を
設けてもよく、流体供給装置2、42にパルセータを設
けてもよく、流体循環装置3、43と導入管10、50
との間に熱交換装置を設けてもよく、缶体5、45の直
胴部の平滑壁面をその一部又は全部に正弦波、三角波、
方形波及び鋸歯状波など或はそれらを適宜に組み合わせ
た形状の溝が蛇腹状、螺線状或は縞状に設けられたもの
に代えても更にそれらとジャケットとを組み合わせたも
のに代えてもよく、缶体5、45の所要直径寸法によっ
ては外導遮流板25、67及び内導遮流板26、68を
省いても更には缶体の形状をUチューブ状に配設しても
或は湾曲させてもよく、缶体5、45の内壁部に複数の
洗浄ノズルを設けてもよく、照射ランプ30、72の形
状を直管形の代りにU字形、W字形、或は螺線形のもの
に代えてもよく、光源29、71を紫外線発光ダイオー
ド及び紫外線レーザなどに代えてもよく、外導遮流板2
5、67及び/又は内導遮流板26、68に傾斜部を設
けても或は切欠部を設けてもよく、有害な流体L、Sの
性状によっては酸化チタンに添加する助剤物質の種類を
変えても或は省いてもよくその他本発明の要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更を加え得ることは勿論である。
【0028】
【発明の形態】上記本発明の実施例における形態を先ず
流体の流れに基づいて説明する。主に非金属系の公害物
質で汚染された懸濁物質を含む有害な流体K、Rは、前
処理装置1、41で懸濁物質が除去された後に流体供給
装置2、42で昇圧され、自浄式急速光浄化装置4、4
4へ有害な流体L、Sとして供給され、光源29、71
を囲い込むように缶体5、45内に装設された受光反応
体17、59の複数の乱流路27、69内に分配されて
流通する間に、光照射下で酸化チタン光触媒作用を発現
している胴面触媒層6、46及び板面触媒層22、64
などの活性触媒面に接触し光浄化処理され、無害な浄化
流体M、Tとして流体循環装置3、43により返送循環
されたり、再利用されたり、或は環境へ放出される。
流体の流れに基づいて説明する。主に非金属系の公害物
質で汚染された懸濁物質を含む有害な流体K、Rは、前
処理装置1、41で懸濁物質が除去された後に流体供給
装置2、42で昇圧され、自浄式急速光浄化装置4、4
4へ有害な流体L、Sとして供給され、光源29、71
を囲い込むように缶体5、45内に装設された受光反応
体17、59の複数の乱流路27、69内に分配されて
流通する間に、光照射下で酸化チタン光触媒作用を発現
している胴面触媒層6、46及び板面触媒層22、64
などの活性触媒面に接触し光浄化処理され、無害な浄化
流体M、Tとして流体循環装置3、43により返送循環
されたり、再利用されたり、或は環境へ放出される。
【0029】なお、乱流路27、69の中を流れる有害
な流体L、Sは一定間隔を開け交互に配設された複数の
外導遮流板25、67と内導遮流板26、68とから混
合攪拌作用を発現する蠕動流が与えられるとともに、該
受光板18、60に設けられた交流波形状の波板断面か
ら接面刷新作用を発現させる多数の小渦流の群列が連続
的に与えられ、更に該蠕動流と小渦流とが相俟って自浄
作用を発現する乱流が与えられる。なお、該蠕動流、小
渦流及び乱流の強さは該乱流路27、69内を流れる流
体の速さで加減され、主に流体供給装置2、42と連動
する流体循環装置3、43により調整される。
な流体L、Sは一定間隔を開け交互に配設された複数の
外導遮流板25、67と内導遮流板26、68とから混
合攪拌作用を発現する蠕動流が与えられるとともに、該
受光板18、60に設けられた交流波形状の波板断面か
ら接面刷新作用を発現させる多数の小渦流の群列が連続
的に与えられ、更に該蠕動流と小渦流とが相俟って自浄
作用を発現する乱流が与えられる。なお、該蠕動流、小
渦流及び乱流の強さは該乱流路27、69内を流れる流
体の速さで加減され、主に流体供給装置2、42と連動
する流体循環装置3、43により調整される。
【0030】従って、光源29、71から放射される主
に紫外線を受けて酸化チタン光触媒作用を発現している
胴面触媒層6、46及び板面触媒層22、64などの活
性触媒面に囲まれた複数の乱流路27、69内に分配さ
れて流通する有害な流体L、Sは、(1)蠕動流を与え
られることにより、該活性触媒面に接し抵抗を受ける比
較的に遅い流れと中央域を該活性触媒面に接することな
く比較的に速く素通りしようとする流れとを混合撹拌作
用により撹乱して該活性触媒面に接触できる公害物質の
総量を増大させるとともに、(2)連続的に発生する多
数の小渦流の群列を与えられることにより、公害物質が
該活性触媒面と接触し無害化された後も該活性触媒面に
沿って流れようとする接面流を接面刷新作用により離脱
させて光浄化効率を高水準に維持させるばかりでなく、
(3)乱流を与えられることにより、該活性触媒面を被
う付着物及び乱流路27、69を塞ぐ目詰などを自浄作
用により排除して遮光障害及び遮流障害の発生を防ぎ、
該活性触媒面の感光活性率を高水準に維持させ且つ圧力
損失の上昇も抑制させることなどが同時進行する様態下
で、従来法の約1/10以下の所要時間で急速光浄化処
理される。また、光浄化処理された浄化流体M、Tは、
定常運転時には、大部分が再利用されるか、或は環境へ
放出される。
に紫外線を受けて酸化チタン光触媒作用を発現している
胴面触媒層6、46及び板面触媒層22、64などの活
性触媒面に囲まれた複数の乱流路27、69内に分配さ
れて流通する有害な流体L、Sは、(1)蠕動流を与え
られることにより、該活性触媒面に接し抵抗を受ける比
較的に遅い流れと中央域を該活性触媒面に接することな
く比較的に速く素通りしようとする流れとを混合撹拌作
用により撹乱して該活性触媒面に接触できる公害物質の
総量を増大させるとともに、(2)連続的に発生する多
数の小渦流の群列を与えられることにより、公害物質が
該活性触媒面と接触し無害化された後も該活性触媒面に
沿って流れようとする接面流を接面刷新作用により離脱
させて光浄化効率を高水準に維持させるばかりでなく、
(3)乱流を与えられることにより、該活性触媒面を被
う付着物及び乱流路27、69を塞ぐ目詰などを自浄作
用により排除して遮光障害及び遮流障害の発生を防ぎ、
該活性触媒面の感光活性率を高水準に維持させ且つ圧力
損失の上昇も抑制させることなどが同時進行する様態下
で、従来法の約1/10以下の所要時間で急速光浄化処
理される。また、光浄化処理された浄化流体M、Tは、
定常運転時には、大部分が再利用されるか、或は環境へ
放出される。
【0031】なお、定常運転時の自浄作用では排除し切
れない付着及び目詰などを生じさせる成分を多く含むこ
とから従来は処理を断念せざるを得なかったような有害
な流体については、流体供給装置2、42と連動する流
体循環装置3、43で返送する浄化流体M、Tの循環量
を1時間毎に数分間程度〜12時間毎に10数分間程度
の範囲で増加させて乱流を強め、以って自浄作用を大き
くする剥脱操作を定常運転プログラム中に適宜に組み込
むことにより、従来のような頻繁に運転を止めて分解洗
浄し、組み立て直して微調整しながら起動させる繁雑な
再生作業を不要にして、長期間に亘る連続した光浄化処
理を可能にする。
れない付着及び目詰などを生じさせる成分を多く含むこ
とから従来は処理を断念せざるを得なかったような有害
な流体については、流体供給装置2、42と連動する流
体循環装置3、43で返送する浄化流体M、Tの循環量
を1時間毎に数分間程度〜12時間毎に10数分間程度
の範囲で増加させて乱流を強め、以って自浄作用を大き
くする剥脱操作を定常運転プログラム中に適宜に組み込
むことにより、従来のような頻繁に運転を止めて分解洗
浄し、組み立て直して微調整しながら起動させる繁雑な
再生作業を不要にして、長期間に亘る連続した光浄化処
理を可能にする。
【0032】次に、光源29、71から放射される光に
ついて説明する。紫外線透過率の高い石英ガラス製の透
明な保護管31、73に波長の短かい高エネルギーの主
に紫外線を放射するワット数の大きな照射ランプ30、
72を随時装脱着可能に装設してなる光源29、71か
ら放射された光は、受光板18、60の光源側端辺部2
0、62により24〜12本の光束H、H′に分割され
た直射光となって該受光板18、60表側の板面触媒層
に大きな入射角を持って広く、薄く延展化され、またそ
の反射光も大きな反射角を持って拡散光及び散乱光とと
もに広く、薄く分散化されながら該受光板18、60裏
側の板面触媒層及び胴面触媒層6、46を照射する。従
って、有害な流体L、Sが接触し且つ酸化チタン光触媒
作用を発現する該受光板18、60には傾斜した該板面
触媒層22、64表裏両面の交流波形の形状から広い受
光面積が与えられるばかれではなく、該板面触媒層2
2、64の主にアナターゼ型の酸化チタンに添加された
成層固着剤を劣化させる曝露強度も大きな入射角及び反
射角によって大幅に緩和される。
ついて説明する。紫外線透過率の高い石英ガラス製の透
明な保護管31、73に波長の短かい高エネルギーの主
に紫外線を放射するワット数の大きな照射ランプ30、
72を随時装脱着可能に装設してなる光源29、71か
ら放射された光は、受光板18、60の光源側端辺部2
0、62により24〜12本の光束H、H′に分割され
た直射光となって該受光板18、60表側の板面触媒層
に大きな入射角を持って広く、薄く延展化され、またそ
の反射光も大きな反射角を持って拡散光及び散乱光とと
もに広く、薄く分散化されながら該受光板18、60裏
側の板面触媒層及び胴面触媒層6、46を照射する。従
って、有害な流体L、Sが接触し且つ酸化チタン光触媒
作用を発現する該受光板18、60には傾斜した該板面
触媒層22、64表裏両面の交流波形の形状から広い受
光面積が与えられるばかれではなく、該板面触媒層2
2、64の主にアナターゼ型の酸化チタンに添加された
成層固着剤を劣化させる曝露強度も大きな入射角及び反
射角によって大幅に緩和される。
【0033】また、照射ランプ30、72が装設された
保護管31、73の開口部を封栓38、80で塞いでな
る閉鎖空間内へ、比較的に温度の低い気体N、Wとして
主に空気が注気管39、81から導入されるとともに、
該空気中の酸素が紫外線に励起されて生じたオゾンを含
み且つ比較的に温度が高くなった気体P、Yを抜気管4
0、82から導出して該閉鎖空間内の熱とオゾンとを排
除し、また該照射ランプ30、72の射光管部と電極部
32、74との境界上に反射板33、75を設けること
などにより該電極部32、74及び樹脂部材の熱、紫外
線及びオゾンなどに起因する老化を防ぐとともに、該照
射ランプ30、72の光変換効率と寿命とを高水準に維
持させる。なお、比較的に温度が高くなったオゾンを含
む気体P、Yは酸化・滅菌剤として前処理装置1、41
に移送される。
保護管31、73の開口部を封栓38、80で塞いでな
る閉鎖空間内へ、比較的に温度の低い気体N、Wとして
主に空気が注気管39、81から導入されるとともに、
該空気中の酸素が紫外線に励起されて生じたオゾンを含
み且つ比較的に温度が高くなった気体P、Yを抜気管4
0、82から導出して該閉鎖空間内の熱とオゾンとを排
除し、また該照射ランプ30、72の射光管部と電極部
32、74との境界上に反射板33、75を設けること
などにより該電極部32、74及び樹脂部材の熱、紫外
線及びオゾンなどに起因する老化を防ぐとともに、該照
射ランプ30、72の光変換効率と寿命とを高水準に維
持させる。なお、比較的に温度が高くなったオゾンを含
む気体P、Yは酸化・滅菌剤として前処理装置1、41
に移送される。
【0034】また、主に自浄作用により生じるドレーン
U、Vは止水弁が付設されたドレーン抜管12、52か
ら随時に系外へ排除される。
U、Vは止水弁が付設されたドレーン抜管12、52か
ら随時に系外へ排除される。
【0035】以下に、本発明の一実施例に示した自浄式
急速光浄化装置4による空気中のアンモニアガスの一光
浄化試験について説明する。先づ、該自浄式急速光浄化
装置4において、導入管10部にアンモニアガスの注入
管を取り付け、導出管11部に処理ガスのサンプリング
管を取り付け、また流体循環装置3を介し該導入管10
と導出管11とを連通管で継いでなる閉鎖回路を付設
し、次に該流体循環装置3と照射ランプ30とに通電
し、その5分後に該注入管からアンモニアガスを注入
し、該閉鎖回路内のアンモニアガス濃度が20℃におい
て100ppmになるように調整し、その15秒、30
秒及び60秒後にそれぞれ該サンプリング管からガス採
取し分析した100%循環処理における試験結果を表1
の「本発明によるアンモニアガスの一光浄化試験」に示
す。但し、本試験にはワット数が200ワット、直管部
有効照射長が1.5mの照射ランプを1本使用した。な
お、上記と同じ方法により実施した窒素酸化物、トリメ
チルアミン及びホルムアルデヒドなどの有害ガス単独の
光浄化試験における処理所要時間はアンモニアガスの光
浄化試験と同様に、いずれも従来法の約1/10以下で
あった。
急速光浄化装置4による空気中のアンモニアガスの一光
浄化試験について説明する。先づ、該自浄式急速光浄化
装置4において、導入管10部にアンモニアガスの注入
管を取り付け、導出管11部に処理ガスのサンプリング
管を取り付け、また流体循環装置3を介し該導入管10
と導出管11とを連通管で継いでなる閉鎖回路を付設
し、次に該流体循環装置3と照射ランプ30とに通電
し、その5分後に該注入管からアンモニアガスを注入
し、該閉鎖回路内のアンモニアガス濃度が20℃におい
て100ppmになるように調整し、その15秒、30
秒及び60秒後にそれぞれ該サンプリング管からガス採
取し分析した100%循環処理における試験結果を表1
の「本発明によるアンモニアガスの一光浄化試験」に示
す。但し、本試験にはワット数が200ワット、直管部
有効照射長が1.5mの照射ランプを1本使用した。な
お、上記と同じ方法により実施した窒素酸化物、トリメ
チルアミン及びホルムアルデヒドなどの有害ガス単独の
光浄化試験における処理所要時間はアンモニアガスの光
浄化試験と同様に、いずれも従来法の約1/10以下で
あった。
【0036】
【表1】
【0037】
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、以下に記載されるような効果を奏する。
いるので、以下に記載されるような効果を奏する。
【0038】缶体とその中央部に組み込んだ光源を囲い
込むように装設させた受光反応体とにより形成され且つ
主に酸化チタンで成層されてなる胴面触媒層と板面触媒
層との触媒面に囲まれた複数の乱流路に分配されて流れ
る主に非金属系の公害物質を含む有害な流体は、該乱流
路に一定間隔を開けて交互に配設された複数の外導遮流
板と内導遮流板とから混合撹拌作用を発現させる蠕動流
が与えられるので、該触媒面に接する比較的にゆっくり
とした流れと該乱流路の中央域を該触媒面に殆ど接触せ
ずに素通りしようとする比較的に速い流れとを撹乱させ
て該触媒面に接触できる公害物質の触媒面積当り及び単
位時間当りの量を大幅に増大させることにより、装置の
小型化が計られる。
込むように装設させた受光反応体とにより形成され且つ
主に酸化チタンで成層されてなる胴面触媒層と板面触媒
層との触媒面に囲まれた複数の乱流路に分配されて流れ
る主に非金属系の公害物質を含む有害な流体は、該乱流
路に一定間隔を開けて交互に配設された複数の外導遮流
板と内導遮流板とから混合撹拌作用を発現させる蠕動流
が与えられるので、該触媒面に接する比較的にゆっくり
とした流れと該乱流路の中央域を該触媒面に殆ど接触せ
ずに素通りしようとする比較的に速い流れとを撹乱させ
て該触媒面に接触できる公害物質の触媒面積当り及び単
位時間当りの量を大幅に増大させることにより、装置の
小型化が計られる。
【0039】乱流路を構成する5〜24枚程度の受光板
に、その光源側端辺部の中心線と光源の中心点とを通る
放射線に対し一定の傾斜角度を持って一定回転方向へ屈
折した傾斜面と、流体の流れる方向へ向い蛇行して板面
触媒層に交流波形を与える波板断面とを設けているの
で、(1)該光源から放射された大きな光エネルギーを
持つ主に紫外線は5〜24本の光束に分割され且つ該光
束のそれぞれの直射光が大きな入射角を持って該受光板
表側の板面触媒層の交流波形面に長く、広く、薄く延展
化され、また該直射光の約半分程度の光エネルギーが転
化された反射光が拡散光及び散乱光とともに該受光板裏
側の板面触媒層の交流波形面に広く、薄く分散化され且
つ胴面触媒層をも照射するので、酸化チタン光触媒作用
を発現する極めて広い有効受光面積の確保と光損失率の
大幅な低減とを両立させ得るばかりではなく、触媒層の
成層固着剤を曝露し脆化させる該紫外線の強力な化学的
酸化力をも緩和させて触媒機能の劣化を抑え得るととも
に、光源に波長が短かい高エネルギーの光を放射するワ
ット数の大きな複数の照射ランプの効果的な使用をも可
能にし、(2)光源からの放射光に照射されて酸化チタ
ン光触媒作用を発現し且つ多数の小渦流の群列により接
面刷新作用を発現している板面触媒層の交流波形状の活
性触媒面に接触した公害物質が無害化された後の接面流
を払拭させて該活性触媒面の感光反応率を常に高水準に
維持させ得るなどのことから、装置の高性能化と省エネ
ルギー化とが計られる。
に、その光源側端辺部の中心線と光源の中心点とを通る
放射線に対し一定の傾斜角度を持って一定回転方向へ屈
折した傾斜面と、流体の流れる方向へ向い蛇行して板面
触媒層に交流波形を与える波板断面とを設けているの
で、(1)該光源から放射された大きな光エネルギーを
持つ主に紫外線は5〜24本の光束に分割され且つ該光
束のそれぞれの直射光が大きな入射角を持って該受光板
表側の板面触媒層の交流波形面に長く、広く、薄く延展
化され、また該直射光の約半分程度の光エネルギーが転
化された反射光が拡散光及び散乱光とともに該受光板裏
側の板面触媒層の交流波形面に広く、薄く分散化され且
つ胴面触媒層をも照射するので、酸化チタン光触媒作用
を発現する極めて広い有効受光面積の確保と光損失率の
大幅な低減とを両立させ得るばかりではなく、触媒層の
成層固着剤を曝露し脆化させる該紫外線の強力な化学的
酸化力をも緩和させて触媒機能の劣化を抑え得るととも
に、光源に波長が短かい高エネルギーの光を放射するワ
ット数の大きな複数の照射ランプの効果的な使用をも可
能にし、(2)光源からの放射光に照射されて酸化チタ
ン光触媒作用を発現し且つ多数の小渦流の群列により接
面刷新作用を発現している板面触媒層の交流波形状の活
性触媒面に接触した公害物質が無害化された後の接面流
を払拭させて該活性触媒面の感光反応率を常に高水準に
維持させ得るなどのことから、装置の高性能化と省エネ
ルギー化とが計られる。
【0040】また、乱流路を流れる有害な流体に蠕動流
と小渦流の群列とが相俟って自浄作用を発現させる乱流
が与えられるので、光照射下の胴面触媒層及び板面触媒
層などの活性触媒面を被う付着物と該乱流路を塞ぐ目詰
の生成とを防ぐことができるので、(1)遮光障害及び
遮流障害に起因する感光反応率の低下と圧力損失の上昇
とを抑え得ること、(2)該乱流の強さを流体供給装置
と連動する流体循環装置が返送する浄化流体の量で随時
に調整することにより、従来は頻繁に運転を止めて行な
う繁雑な再生作業を必要とするために処理を断念せざる
を得なかったような有害な流体をも定常運転中に適宜に
強力なセルフクリーニング操作を組み込みながら光浄化
処理を継続させ得るので、装置の長期安定運転と省力化
と負荷変動に対する追随範囲及び適用分野の大幅な拡大
とが計られる。
と小渦流の群列とが相俟って自浄作用を発現させる乱流
が与えられるので、光照射下の胴面触媒層及び板面触媒
層などの活性触媒面を被う付着物と該乱流路を塞ぐ目詰
の生成とを防ぐことができるので、(1)遮光障害及び
遮流障害に起因する感光反応率の低下と圧力損失の上昇
とを抑え得ること、(2)該乱流の強さを流体供給装置
と連動する流体循環装置が返送する浄化流体の量で随時
に調整することにより、従来は頻繁に運転を止めて行な
う繁雑な再生作業を必要とするために処理を断念せざる
を得なかったような有害な流体をも定常運転中に適宜に
強力なセルフクリーニング操作を組み込みながら光浄化
処理を継続させ得るので、装置の長期安定運転と省力化
と負荷変動に対する追随範囲及び適用分野の大幅な拡大
とが計られる。
【0041】また、5〜24本程度の乱流路を備えた受
光反応体は、(1−1)該受光反応体を構成する5〜2
4枚の受光板に形状が交流波形状の波板断面が与えられ
ていること、(1−2)該受光板の光源側端辺部が一定
間隔を置き配設した複数の小径環板と外導遮流板とで締
結されていること、(1−3)該受光板の缶胴側端辺部
が一定間隔を置き配設した複数の大径環板と内導遮流板
とで締結されていること、(2−1)該大径環板と内導
遮流板とがそれらの外周部で3〜6本程度の側桿で締結
されていること、(2−2)該側桿が端結桿でそれぞれ
連結されていることなどによって、形状が単純で圧力損
失が小さいタービン翼体構造状に一体化された強靭な機
械的強度が付与されるので、設計製作上の標準化による
量産化が容易になり、また缶体は3〜6本のウォールガ
イドで補強されているので、装置建設費の大幅な削減が
計られる。
光反応体は、(1−1)該受光反応体を構成する5〜2
4枚の受光板に形状が交流波形状の波板断面が与えられ
ていること、(1−2)該受光板の光源側端辺部が一定
間隔を置き配設した複数の小径環板と外導遮流板とで締
結されていること、(1−3)該受光板の缶胴側端辺部
が一定間隔を置き配設した複数の大径環板と内導遮流板
とで締結されていること、(2−1)該大径環板と内導
遮流板とがそれらの外周部で3〜6本程度の側桿で締結
されていること、(2−2)該側桿が端結桿でそれぞれ
連結されていることなどによって、形状が単純で圧力損
失が小さいタービン翼体構造状に一体化された強靭な機
械的強度が付与されるので、設計製作上の標準化による
量産化が容易になり、また缶体は3〜6本のウォールガ
イドで補強されているので、装置建設費の大幅な削減が
計られる。
【0042】また、照射ランプは、スタンド盤間に組み
込み固定してから保護管内に随時装脱着可能に装設され
るので、取扱時の脱落及び捩れなどによる破損が回避さ
れ、また該照射ランプの交換頻度が寿命の6000〜9
000時間/本程度と比較的に長く、その交換作業には
専門知識も熟練も必要とせず且つ給電を10分間止める
程度の比較的に短時間で完工し得るばかりではなく、運
転中の放射管部破裂のような不可抗力の突発事故が万が
一発生した場合においても、水銀乃至弗素ガスやガラス
破片などによる流体の汚染や触媒層の損傷などが回避さ
れるので、殆どメンテナンスフリーの長期連続安定運転
と保健衛生上の安全確保と運転管理費の大幅な削減とが
計られる。
込み固定してから保護管内に随時装脱着可能に装設され
るので、取扱時の脱落及び捩れなどによる破損が回避さ
れ、また該照射ランプの交換頻度が寿命の6000〜9
000時間/本程度と比較的に長く、その交換作業には
専門知識も熟練も必要とせず且つ給電を10分間止める
程度の比較的に短時間で完工し得るばかりではなく、運
転中の放射管部破裂のような不可抗力の突発事故が万が
一発生した場合においても、水銀乃至弗素ガスやガラス
破片などによる流体の汚染や触媒層の損傷などが回避さ
れるので、殆どメンテナンスフリーの長期連続安定運転
と保健衛生上の安全確保と運転管理費の大幅な削減とが
計られる。
【0043】また、照射ランプの電極部と射光管部との
境界上に反射板を設けるとともに、保護管を封栓で塞ぎ
形成した閉鎖空間の中へ比較的に温度の低い気体を導入
する注気管と比較的に温度が高くなった気体を該閉鎖空
間の外へ導出する抜気管とを設けて、該電極部及び樹脂
部材の紫外線曝露による脆化障害と過熱による消耗及び
光変換効率の低下とを抑え得るので、装置の長期連続安
定運転と経済性の向上とが計られる。
境界上に反射板を設けるとともに、保護管を封栓で塞ぎ
形成した閉鎖空間の中へ比較的に温度の低い気体を導入
する注気管と比較的に温度が高くなった気体を該閉鎖空
間の外へ導出する抜気管とを設けて、該電極部及び樹脂
部材の紫外線曝露による脆化障害と過熱による消耗及び
光変換効率の低下とを抑え得るので、装置の長期連続安
定運転と経済性の向上とが計られる。
【0044】また、処理すべき有害な流体の種類、性状
及び処理量などに応じ、受光板の寸法と枚数、傾斜面の
寸法と傾斜角度及び波板断面の交流波形の形状と波数、
胴面触媒層及び板面触媒層の酸化チタンに添加する助剤
物質の種類と量、照射ランプの放射波長とワット数と形
状及び本数、受光反応体の組み込み段数、導入管及び導
出管の取付位置と寸法と本数、缶体の設置角度などを適
宜に選定し組み合わせることにより無駄のない最適な設
計及び製作ができるので、装置の建設費及び運転管理費
の大幅な削減と適用分野の拡大とが計られる。
及び処理量などに応じ、受光板の寸法と枚数、傾斜面の
寸法と傾斜角度及び波板断面の交流波形の形状と波数、
胴面触媒層及び板面触媒層の酸化チタンに添加する助剤
物質の種類と量、照射ランプの放射波長とワット数と形
状及び本数、受光反応体の組み込み段数、導入管及び導
出管の取付位置と寸法と本数、缶体の設置角度などを適
宜に選定し組み合わせることにより無駄のない最適な設
計及び製作ができるので、装置の建設費及び運転管理費
の大幅な削減と適用分野の拡大とが計られる。
【図1】本発明の一実施例の概要説明図である。
【図2】図1の自浄式急速光浄化装置部概略説明図であ
る。
る。
【図3】図2のA−A矢視横断面図である。
【図4】図2のB−B横断面部における缶体と受光反応
体との取合説明図である。
体との取合説明図である。
【図5】図2の流体動態概説図である。
【図6】図2の光源部縦断面説明図である。
【図7】図6のC−C横断面図である。
【図8】本発明の別の一実施例の概要説明図である。
【図9】図8の自浄式急速光浄化装置部概略説明図であ
る。
る。
【図10】図9のD−D矢視横断面図である。
【図11】図9のE−E横断面部における缶体と受光反
応体との取合説明図である。
応体との取合説明図である。
【図12】図9の光源部縦断面説明図である。
【図13】図12のF−F横断面図である。
1、41 前処理装置
2、42 流体供給装置
3、43 流体循環装置
4、44 自浄式急速光浄化装置
5、45 缶体
6、46 胴面触媒層
8、48 ウォールガイド
17、59 受光反応体
18、60 受光板
19、61 傾斜面
20、62 光源側端辺部
21、63 缶胴側端辺部
22、64 板面触媒層
23、65 小径環板
24、66 大径環板
25、67 外導遮流板
26、68 内導遮流板
27、69 乱流路
28、70 連結桿
29、71 光源
30、72 照射ランプ
31、73 保護管
32、74 電極部
33、75 反射板
38、80 封栓
39、81 注気管
40、82 抜気管
θ、θ’ 一定の傾斜角度
G、G’ 傾斜面の波板断面の交流波節部中心線
H、H’ 光束の進む方向を示す矢印
J 蠕動流の進む方向を示す矢印
K、R 懸濁物質を含む有害な流体
L、S 有害な流体
M、T 浄化流体
N、W 比較的に温度の低い気体
P、Y 比較的に温度の高くなった気体
Q、Q’ 光源の中心点
U、V ドレーン
Z 吸吐気
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
B01D 53/86 B01J 35/02 J 4G069
B01J 35/02 C02F 1/32 4G075
C02F 1/32 1/72 101
1/72 101 B01D 53/36 J
B
Fターム(参考) 2E191 BA01 BA11 BA13 BA15 BB00
BD13 BD17
4C080 AA07 AA10 BB02 BB05 BB06
CC02 CC03 CC07 CC08 HH05
JJ03 KK08 LL02 MM02 QQ11
4D037 AA11 AB03 AB04 AB11 AB12
AB13 AB14 AB16 BA18
4D048 AA05 AA06 AA08 AA19 AA21
BA02X BA04X BA05X BA07X
BA30X BA37X BA41X BB03
BB18 CA07 DA01 DA20 EA01
EA08
4D050 AA12 AB04 AB06 AB14 AB15
AB17 AB19 AB35 AB41 BC09
4G069 AA03 BA04A BA04B BA08B
BA48A BC03B BC09B BC67B
BC75B CA01 CA05 CA11
CA13 DA06 EE07
4G075 AA03 AA13 AA37 BA04 BA05
BD02 CA33 CA54 DA02 DA12
EA01 EA03 EB01 EB31 EC06
EC09 EE02 EE31 FB02
Claims (4)
- 【請求項1】 主に非金属系の公害物質を含む空気や水
などの有害な流体を光照射下の主に酸化チタンの触媒面
に接触させて無害化処理する自浄式急速光浄化装置にお
いて、形状が筒形の缶体(5、45)と前記缶体(5、
45)の中央域に組み込んだ光源(29、71)と前記
光源(29、71)を囲うように前記缶体(5、45)
内に装設した受光反応体(17、59)とを備え、前記
受光反応体(17、59)が主に酸化チタンで成層され
た板面触媒層(22、64)を有する複数の受光板(1
8、60)を備え、前記受光板(18、60)が光源側
端辺部(20、62)と缶胴側端辺部(21、63)と
の間に傾斜面(19、61)を有するとともに前記光源
側端辺部(20、62)が一定距離を置き配設された複
数の小径環板(23、65)に等間隔を開けて放射状に
締結され且つ前記缶胴側端辺部(21、63)が一定距
離を置き配設された複数の大径環板(24、66)に等
間隔を開けて締結され、前記傾斜面(19、61)が光
源(29、71)の中心点(Q、Q′)と前記光源側端
辺部(20、62)とを通る放射線に対し一定の傾斜角
度(θ、θ′)を持って一回転方向へ屈析していること
を特徴とする有害な流体の自浄式急速光浄化装置。 - 【請求項2】 受光反応体(17、59)が一定距離を
置き交互に配設された外導遮流板(25、67)と内導
遮流板(26、68)とを有して光源(29、71)と
缶体(5、45)の缶胴内壁面との間に受光板(18、
60)と同数の乱流路(27、69)を形成し、前記受
光板(18、60)が光源側端辺部(20、69)で前
記外導遮流板(25、67)に等間隔を開けて放射状に
締結されるとともに缶胴側端辺部(21、63)で前記
内導遮流板(26、68)に等間隔を開けて締結され、
前記内導遮流板(26、68)と大径環板(24、6
6)とが外周部で連結桿(28、70)により締結され
て前記受光反応体(17、59)を一体構造化し、前記
連結桿(28、70)が複数の側桿と端結桿とからな
り、前記側桿が缶体(5、45)の缶胴内壁部に設けた
複数のウォールガイド(8、48)と噛み合う軌条にな
ることを特徴とする請求項1に記載の有害な流体の自浄
式急速光浄化装置。 - 【請求項3】 受光板(18、60)が板面触媒層(2
2、64)に流体の流れる方向へ向い蛇行する交流波形
状の形を与える波板断面を有していることを特徴とする
請求項1に記載の有害な流体の自浄式急速光浄化装置。 - 【請求項4】 光源(29、71)が主に紫外線を放射
する照射ランプ(30、72)と前記照射ランプ(3
0、72)を缶体(5、45)内の流体から隔離する透
明な石英ガラス製の保護管(31、73)と前記保護管
(31、73)の開口部を塞ぎ閉鎖空間を形成させる封
栓(38、80)とからなり、前記封栓(38、80)
に前記閉鎖空間内へ気体を流通させる注気管(39、8
1)及び抜気管(40、82)などが設けられているこ
とを特徴とする請求項1に記載の有害な流体の自浄式急
速光浄化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002163563A JP2003320244A (ja) | 2002-04-30 | 2002-04-30 | 有害な流体の自浄式急速光浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002163563A JP2003320244A (ja) | 2002-04-30 | 2002-04-30 | 有害な流体の自浄式急速光浄化装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003320244A true JP2003320244A (ja) | 2003-11-11 |
Family
ID=29545705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002163563A Pending JP2003320244A (ja) | 2002-04-30 | 2002-04-30 | 有害な流体の自浄式急速光浄化装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003320244A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006133649A1 (fr) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Chun Yu Shan Tech. Co., Ltd | Recipient pour reaction de sterilisation |
JP2010279917A (ja) * | 2009-06-05 | 2010-12-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排水処理装置及び排水処理方法 |
JP2018526196A (ja) * | 2015-07-07 | 2018-09-13 | ユーヴイエアエックス, インコーポレイテッドUvairx, Inc. | 光触媒清浄のための反応コアシステム |
-
2002
- 2002-04-30 JP JP2002163563A patent/JP2003320244A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006133649A1 (fr) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Chun Yu Shan Tech. Co., Ltd | Recipient pour reaction de sterilisation |
JP2010279917A (ja) * | 2009-06-05 | 2010-12-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排水処理装置及び排水処理方法 |
JP2018526196A (ja) * | 2015-07-07 | 2018-09-13 | ユーヴイエアエックス, インコーポレイテッドUvairx, Inc. | 光触媒清浄のための反応コアシステム |
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