KR101416067B1 - Uv 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 uv를 이용한 수처리장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치는 오염수를 유입하는 유입구, 처리수를 배출하는 배출구 및 내면에 UV 반사부재를 구비한 펄스UV반응조; 상기 펄스UV반응조의 내부에 배치되어 펄스UV를 조사하는 펄스UV광원부를 포함하여 구성된다.
Description
본 발명은 오염된 물을 처리하기 위한 수처리 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 UV 반사부재를 구비한 반응조와 펄스 UV를 이용하여 오염수를 정화처리하는 수처리장치에 관한 것이다.
오늘날 산업이 발전함과 더불어 산업 현장에서 발생한 부산물로 인해 지하수, 토양, 대기 등 환경 오염문제도 심각해지고 있다. 특히, 산업체에서 배출되는 폐수 속에는 기존의 재래식 폐수처리공정으로 쉽게 처리할 수 없는 난분해성 오염물질의 함유량이 증가하고 있다. 난분해성 오염물질이란, 자연적으로 잘 분해되지 않거나 활성슬러지와 같은 생물학적 처리과정에서도 쉽게 분해되지 않는 물질로서, 방향족 벤젠고리 화합물(페놀, 나프탈렌 등) 및 할로겐화 유기화합물(TCE, PCB 등)이 대표적이다.
상기와 같은 난분해성 오염물질을 처리하는 방법으로는 활성탄 처리, 펜톤 산화법(H2O2), 오존처리(O3), 광촉매 및 자외선 조사, 초음파 처리와 같은 물리/화학적 공법들이 있으며, 생물학적 공법으로는 고활성 미생물 균주를 이용한 생물학적 처리 2단 폭기방식, 혐기성 여상 공법 등이 있다. 특히, 펜톤 산화법, 오존, 광촉매, UV, 초음파 처리와 같은 기술은 고급산화법(Advanced Oxidation Processes; AOPs)으로 분류되어 최근 활발히 연구되고 있는 분야로서, 강력한 산화력을 갖고 있는 OH 라디칼(radical)을 이용하여 오염물질을 산화시키는 기술이다.
특히, AOPs 중 펄스 UV(Pulse Ultraviolet ray) 기술은 강력한 에너지를 지닌 UV를 조사하여 수용액 내에 OH 라디칼을 발생시켜 H2O2나 광촉매와 같은 별도의 첨가물 없이 산화작용을 일으키는 친환경적인 기술로 알려져 있다. 하지만 펄스 UV 기술은 일반 UV보다 반응거리가 길고 반응의 세기도 크지만 램프의 사이즈가 최대 40cm 정도로 작으므로, 펄스 UV를 이용하여 오염물질을 처리하는 반응조의 크기 및 모양도 제약이 많다.
한편, 상기 고급산화법의 종래기술로서, 외부로부터 유입되는 유체를 UV광에 노출시키고, 상기 유체에 부유되며 다수의 자성을 갖는 광촉매 부재들에 직접적으로 접촉시켜 살균 처리하여 상기 광촉매 부재들과 함께 외부로 배출시키는 수처리 부; 및 상기 수처리 부와 연결되며, 상기 처리된 유체와 상기 배출되는 광촉매 부재들을 서로 다른 유로를 따라 분리시켜 상기 배출되는 광촉매 부재들을 일정량 포집하여 상기 수처리부의 내부로 주입시키는 광촉매 부재 순환부를 포함하여 구성되는 광촉매 수처리 장치가 대한민국 특허공보 제10-2011-0057894호에 공개되어 있다. 하지만 상기 종래기술은 일반적인 UV와 광촉매를 적용한 기술로서, 형태가 한정되어 있는 펄스 UV 반응조에 적용할 경우, 높은 오염물질 처리효율을 기대하기 어려운 실정이다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해 도출된 것으로서, UV 반사를 증가시키는 UV 반사부재가 코팅된 반응조에 광촉매와 펄스 UV를 이용하여 오염수를 효과적으로 정화 처리하도록 구조가 개선된 수처리장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치는, (1) 오염수를 유입하는 유입구, 처리수를 배출하는 배출구 및 내면에 UV 반사부재를 구비한 펄스UV반응조, (2) 상기 펄스UV반응조의 내부에 배치되어 펄스UV를 조사하는 펄스UV광원부를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은 상기 펄스UV광원부와 UV 반사부재 사이에 위치하는 광촉매 메쉬를 더 포함하는 것이 바람직하다
구체적으로, 상기 펄스UV반응조는 내부가 원통 형상으로 형성되며, 상기 유입구는 상기 펄스UV반응조의 내부 일측면에 연결되고, 상기 배출구는 상기 펄스UV반응조의 중심점이나 중심선을 기준으로 상기 유입구와 대칭되는 상기 펄스UV반응조의 내부 타측면에 연결되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 펄스UV반응조의 내부 원통은 윗면 및 밑면의 지름이 측면의 길이보다 길게 형성될 수 있으며, 이때 상기 펄스UV광원부는 막대 형상으로 형성으로 되고 길이 방향의 연장선이 상기 펄스UV반응조의 내부 원통의 윗면 및 밑면의 중심을 지나도록 배치되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 펄스UV반응조는 (1) 오염수가 유입되도록 상기 유입구를 관통하고, 상기 펄스UV반응조의 내부로 돌출되게 형성된 유입관, (2) 처리수가 배출되도록 상기 배출구를 관통하고, 상기 펄스UV반응조의 내부로 돌출되게 형성된 배출관을 더 포함할 수 있다. 이때 상기 유입관 및 배출관은 상기 펄스UV반응조의 내부로 돌출된 방향이 상기 펄스UV반응조의 내부 원주면의 접선방향에 평행하게 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 광촉매 메쉬는 다수의 요철이 형성되는 것이 바람직하며, 상기 펄스UV반응조에 대응하는 원통 형상으로 형성되는 것이 바람직하다
구체적으로, 상기 UV 반사부재는 금속, 실리카, 산화알루미늄, 플루오르화마그네슘, 플루오르화칼슘, 플루오르화리튬 및 산화마그네슘으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 광촉매 메쉬는 TiO2, V2O3, ZnO, ZrO2 및 SrTiO3로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 광촉매 메쉬는 상기 펄스UV광원부와 5 내지 40 ㎝ 거리를 유지하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 펄스UV광원부에서 조사되는 펄스UV의 파장은 200 내지 380 ㎚, 펄스 폭은 5 내지 20 ㎲ 인 것이 바람직하다.
상기한 바와 같이 구성되는 본 발명에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 UV를 이용한 수처리장치는, 펄스UV반응조의 원통구조, 유입구와 배출구의 대칭구조 및 광촉매 메쉬의 원통구조에 의해 오염수가 와류 형태로 순환하게 될 뿐만 아니라, 상기와 같이 와류 형태로 순환하는 오염수에 요철에 의한 파동이 함께 발생하게 됨에 따라, 오염물질의 처리 효율이 향상되어 난분해성 오염물질도 안전한 수준까지 제거할 수 있으며, UV 반사부재를 형성한 펄스UV반응조의 내부에 펄스 UV의 재사용이 증가하게 되어 오염물질 처리비용을 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치를 나타낸 사시도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치의 내부 구성을 나타낸 정면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치의 내부 구성을 나타낸 평면도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치의 내부 구성을 나타낸 정면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치의 내부 구성을 나타낸 평면도.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 명칭에는 동일 부호를 사용하기로 한다.
또한, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 경우에 따라 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외의 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또, 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
본 발명의 기타 이점 및 특징, 그리고 이들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치의 구성을 나타낸다.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 광촉매 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 폐수 또는 오염수 특히 오염된 지하수 등을 정화하기 위한 장치로서, 펄스UV반응조(100), 펄스UV광원부(200) 및 광촉매 메쉬(300)를 포함하여 구성된다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치의 내부 구성을 도 1에서 'A' 방향으로 바라본 도면을 나타낸다.
구체적으로, 상기 펄스UV반응조(100)는 오염수를 유입 받아 정화처리하여 배출하는 저수조로서, 도 2에 도시된 바와 같이, 오염수를 유입하는 유입구(110), 처리수를 배출하는 배출구(120) 및 내면에 형성된 UV 반사부재(130)를 구비하는 것이 바람직하다.
상기 UV 반사부재(130)는 상기 펄스UV반응조(100) 내면에 코팅되어 상기 펄스UV광원부(200)로부터 조사되는 펄스 UV를 전반사시키는 역할을 한다. 이에 따라, 상기 펄스UV반응조(100)의 내부에서는 펄스 UV의 재사용이 증대되어 오염수 처리 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 오염수 처리비용도 줄일 수 있다. 상기 UV 반사부재(130)는 알루미늄(Al), 은(Ag) 등과 같은 금속재질이나 금속산화물과 같이 반사효율이 높은 물질로 형성되는 것이 바람직하다. 구체적으로, 상기 UV 반사부재(30)는 금속, 실리카, 산화알루미늄(알루미나), 플루오르화마그네슘, 플루오르화칼슘, 플루오르화리튬 및 산화마그네슘(마그네시아)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어질 수 있으며, 특히 펄스UV의 반사에 효율이 높은 산화마그네슘(마그네시아)으로 이루어지는 것이 가장 바람직하다.
또한, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치의 내부 구성을 도 1에서 'C' 방향으로 바라본 도면을 나타낸다.
특히, 상기 펄스UV반응조(100)는, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 내부가 원통 형상으로 형성된다. 이때, 상기 펄스UV반응조(100)의 내부 원통은 윗면, 밑면 및 측면으로 구성되다. 구체적으로, 도 1 및 도 3에서 'A'는 원통의 윗면을 가리키고, 'B'는 원통의 밑면을 가리킨다. 또한, 도 1 및 도 2에서 'C'와 'D', 도 2 및 3에서 'E'와 'F'는 각각 원통의 측면을 가리킨다. 이에 따라, 상기 유입구(110)는 상기 펄스UV반응조(100)의 내부 원통의 일측면에 연결되며, 상기 배출구(120)는 상기 펄스UV반응조(100)의 중심점(O)이나 중심선(도 3에서 M-M' 사이의 선으로서, 상기 중심점을 지나고 상기 펄스UV반응조의 내부 원통의 측면에 수직한 선)을 기준으로 상기 유입구(110)와 대칭되는 상기 펄스UV반응조(100)의 내부 원통의 타측면에 연결된다. 이에 따라, 상기 펄스UV반응조(100)의 내부로 유입된 오염수는, 도 2에 도시된 바와 같이, 와류 형태로 순환되면서 정화처리되어 정화효율이 향상된다.
또한, 상기 펄스UV반응조는, 도 2에 도시된 바와 같이, 유입관(140)과 배출관(150)을 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 유입관(140)은 오염수가 유입되도록 상기 유입구(110)를 관통하고, 상기 펄스UV반응조(100)의 내부로 돌출하도록 형성된다. 상기 배출관(150)은 처리수가 배출되도록 상기 배출구(120)를 관통하고, 상기 펄스UV반응조(100)의 내부로 돌출하도록 형성된다. 이때, 상기 유입관(140) 및 배출관(150)이 상기 펄스UV반응조(100)의 내부로 돌출된 방향은 상기 펄스UV반응조(100)의 내부 원주면의 접선방향에 평행한 것 바람직하다. 이와 같은 유입관(140) 및 배출관(150)의 구조는 상기 펄스UV반응조(100)의 내부로 유입된 오염수가 와류 형태로 순환되는 것을 더욱 촉진할 수 있다.
또한, 상기 펄스UV반응조(100)는 장비의 정상가동 여부를 확인할 수 있도록 소정 위치에 확인구(도면 미도시)를 구비할 수도 있다.
상기 펄스UV광원부(200)는 상기 펄스UV반응조(100) 내부로 유입된 오염수를 살균하여 정화처리하도록 펄스UV를 조사하는 것으로서, 통상적으로 사용되는 펄스UV램프로 구성될 수 있으며, 상기 펄스UV반응조(100)의 내부에 1개 이상 설치된다. 특히 상기 펄스UV반응조(100) 내부 전체에 동일한 에너지의 펄스UV가 도달되도록, 상기 펄스UV광원부(200)는 상기 펄스UV반응조(100)의 내부 중앙에 설치된다. 이때, 복수개의 펄스UV광원부(200)가 구비될 경우, 각 펄스UV광원부(200)는 서로 등 간격이 유지되도록 설치되는 것이 바람직하다.
구체적으로, 상기 펄스 UV반응조(100)의 내부 원통은, 도 3에 도시된 바와 같이, 원의 지름( L1 )이 원통 측면의 길이( L2 )보다 길게 형성된다. 또한, 상기 펄스 UV 반응조(100) 내부 전체에 동일한 에너지의 펄스 UV 가 도달되도록, 상기 펄스UV광원부(200)는 막대 형상으로 형성으로 되고, 상기 펄스UV반응조(100)의 내부 원통의 측면의 길이 방향에 평행하되, 상기 펄스UV반응조의 중심점을 지나도록 배치된다. 즉, 상기 펄스UV광원부(200)의 길이 방향의 연장선이 상기 펄스UV반응조(100)의 내부 원통의 윗면(A)과 밑면(B)의 중심을 각각 지나도록, 상기 펄스UV광원부(200)는 설치된다. 이는 막대 형상의 펄스UV광원부(200)의 길이에 수직한 방향으로 방사되는 최대거리는 펄스UV광원부(200)의 길이보다 크기 때문이다.
막대 형상의 상기 펄스UV광원부(200)가 상기와 같은 구조로 설치되도록, 상기 펄스UV반응조(100)는 내부 원통의 윗면(A)을 관통하는 제1관(160)과 내부 원통의 밑면(B)의 중심을 관통하는 제2관(170)을 각각 더 포함할 수 있다. 이에 따라, 막대 형상의 상기 펄스UV광원부(200)는 상기 제1관(160)과 제2관(170)을 관통하도록 설치되어 교체 작업이 용이하게 된다. 상기 제1관(160) 및 제2관(170)은 통상적으로 사용하는 파이프나 플랜지로 구성될 수 있으며, 삽입된 상기 펄스UV광원부(200)가 밀착되어 오염수가 유출되지 않도록 내측면에 패킹이 형성된다.
한편, 최적의 효율로 오염물질을 처리할 수 있도록, 상기 펄스UV광원부(200)에서 조사되는 펄스 UV의 파장은 200 내지 380 ㎚, 펄스 폭은 5 내지 20 ㎲, 조사거리는 10 내지 30 cm, 전력은 1,000 내지 6,000 W 이하인 것이 바람직하다.
펄스 UV 기술은 펄스 형태의 강력한 전원을 자외선 램프에 걸어줌으로써 순간 출력이 수 MW에 달하는 자외선을 발생시켜, 유기물을 단시간에 산화시키는 기술이다. 기존의 연속적인(continuous) 방식의 자외선을 이용하는 램프의 경우 출력이 200 W 이하로 낮고 부유슬러지와 온도 변화에 민감하며 자외선의 유효투과 거리가 5 cm 이하로 짧아 설비가 대형화될수록 반응조 설계가 어렵지만, 펄스 자외선 램프는 Xenon이나 Krypton 기체가 충진되어 있어 자외선의 재흡수 현상이 없고 수십 ~ 수백 μs의 짧은 시간동안 순간적으로 0.4 MW 이상의 고출력 자외선을 발생시키기 때문에 AOPs에 효과적인 180 ~ 320 nm의 빛을 충분히 낼뿐만 아니라 에너지 측면에서도 계속해서 높은 전력을 공급해야하는 연속방전 램프들에 비해 효율이 훨씬 높아 설비를 대형화하여 반응조를 설계할 수 있는 장점이 있다.
상기 광촉매 메쉬(300)는 상기 펄스UV반응조(100)의 내부로 유입된 오염수와 물리적으로 접촉하여 상기 펄스UV광원부(200)에서 조사되는 펄스 UV에 대한 촉매 효과를 일으키는 광촉매로서, 오염수에 라디칼반응을 효과적으로 일으키기 위해 상기 펄스UV광원부(200)와 이격되게 설치된다. 특히, 상기 펄스UV광원부(200)에서 조사되는 펄스 UV는 상기 펄스UV광원부(200)로부터 5 내지 40 ㎝ 거리에서 강도가 최대에 이르며, 이에 따라 최대의 라디칼반응이 발생하도록, 상기 광촉매 메쉬(300)는 상기 펄스UV광원부(200)와 5 내지 40 ㎝ 거리를 유지하도록 설치되는 것이 바람직하다. 상기 광촉매 메쉬(300)는 유입된 오염수의 유속에 의해 변형이 되지 않도록, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 다수의 개방홈을 구비한 메쉬(mesh) 구조로 형성된다. 상기 광촉매 메쉬(300)는 TiO2, V2O3, ZnO, ZrO2 및 SrTiO3로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어질 수 있으며, 특히 펄스UV에 대한 효율이 높은 TiO2로 이루어지는 것이 가장 바람직하다.
한편, 상기 광촉매 메쉬(300)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 다수의 요철(310)을 구비하며, 상기 펄스UV광원부(200)와 UV 반사부재(130) 사이에 위치하되, 상기 펄스UV반응조(100)에 대응하는 원통 형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 이에 따라, 상기 펄스UV반응조(100)의 내부로 유입되는 오염수는 상기 펄스UV반응조(100)의 원통구조, 상기 유입구(10)와 배출구(20)의 대칭구조 및 상기 광촉매 메쉬(300)의 원통구조에 의해 와류 형태로 순환하면서 정화처리되어 오염물질의 처리 효율이 향상된다. 또한, 와류 형태로 순환하는 오염수는 상기 요철(310)에 의해 파동이 함께 발생하게 되며, 이에 따라 오염물질의 처리 효율이 더욱 향상되어 난분해성 오염물질도 안전한 수준까지 제거할 수 있게 된다. 상기 요철(310)은 상기 광촉매 메쉬(300)의 내측면과 외측면에 모두 형성되는 것이 바람직하며, 서로 인접한 요철(310) 사이의 간격은 4 내지 50 ㎜인 것이 바람직하다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 펄스UV반응조(100)를 고정하기 위하여 받침대(400)가 하부에 설치된다.
이상과 같이, 본 발명을 첨부된 도면에 도시된 실시예들을 토대로 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
100 : 펄스UV반응조 110 : 유입구
120 : 배출구 130 : UV 반사부재
140 : 유입관 150 : 배출관
160 : 제1관 170 : 제2관
200 : 펄스UV광원부 300 : 광촉매 메쉬
400 : 받침대
120 : 배출구 130 : UV 반사부재
140 : 유입관 150 : 배출관
160 : 제1관 170 : 제2관
200 : 펄스UV광원부 300 : 광촉매 메쉬
400 : 받침대
Claims (10)
- 오염수를 유입하는 유입구, 처리수를 배출하는 배출구 및 내면에 UV 반사부재를 구비한 펄스UV반응조;
상기 펄스UV반응조의 내부에 배치되어 펄스UV를 조사하는 펄스UV광원부; 및
상기 펄스UV광원부와 UV 반사부재 사이에 위치하며 다수의 요철이 형성된 광촉매 메쉬를 포함하는 것을 특징으로 하는 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 펄스UV반응조는 내부가 원통 형상으로 형성되며,
상기 유입구는 상기 펄스UV반응조의 내부 일측면에 연결되고,
상기 배출구는 상기 펄스UV반응조의 중심점이나 중심선을 기준으로 상기 유입구와 대칭되는 상기 펄스UV반응조의 내부 타측면에 연결되는 것을 특징으로 하는 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치. - 제3항에 있어서,
상기 펄스UV반응조의 내부 원통은 윗면 및 밑면의 지름이 측면의 길이보다 길게 형성되며,
상기 펄스UV광원부는 막대 형상으로 형성으로 되고, 길이 방향의 연장선이 상기 펄스UV반응조의 내부 원통의 윗면 및 밑면의 중심을 지나도록 배치된 것을 특징으로 하는 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치. - 제3항에 있어서,
상기 펄스UV반응조는,
오염수가 유입되도록 상기 유입구를 관통하고, 상기 펄스UV반응조의 내부로 돌출되게 형성된 유입관; 및
처리수가 배출되도록 상기 배출구를 관통하고, 상기 펄스UV반응조의 내부로 돌출되게 형성된 배출관을 더 포함하되,
상기 유입관 및 배출관은 상기 펄스UV반응조의 내부로 돌출된 방향이 상기 펄스UV반응조의 내부 원주면의 접선방향에 평행하게 형성된 것을 특징으로 하는 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 펄스UV반응조는 내부가 원통 형상으로 형성되며,
상기 광촉매 메쉬는 상기 펄스UV반응조에 대응하는 원통 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치. - 제1항에 있어서,
상기 UV 반사부재는 금속, 실리카, 산화알루미늄, 플루오르화마그네슘, 플루오르화칼슘, 플루오르화리튬 및 산화마그네슘으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지고,
상기 광촉매 메쉬는 TiO2, V2O3, ZnO, ZrO2 및 SrTiO3로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치. - 제1항에 있어서,
상기 광촉매 메쉬는 상기 펄스UV광원부와 5 내지 40 ㎝ 거리를 유지하는 것을 특징으로 하는 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치. - 제9항에 있어서,
상기 펄스UV광원부에서 조사되는 펄스UV의 파장은 200 내지 380 ㎚, 펄스 폭은 5 내지 20 ㎲ 인 것을 특징으로 하는 UV 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 UV를 이용한 수처리장치.
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| KR1020130112763A KR101416067B1 (ko) | 2013-09-23 | 2013-09-23 | Uv 반사부재를 구비한 반응조 및 펄스 uv를 이용한 수처리장치 |
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