JP2003317541A - Conductive paste and wiring board using the same - Google Patents

Conductive paste and wiring board using the same

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JP2003317541A
JP2003317541A JP2002123942A JP2002123942A JP2003317541A JP 2003317541 A JP2003317541 A JP 2003317541A JP 2002123942 A JP2002123942 A JP 2002123942A JP 2002123942 A JP2002123942 A JP 2002123942A JP 2003317541 A JP2003317541 A JP 2003317541A
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JP
Japan
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mass
conductor
powder
conductor paste
triallyl isocyanurate
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JP2002123942A
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Japanese (ja)
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Isamu Kirikihira
勇 桐木平
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1517Multilayer substrate
    • H01L2924/15172Fan-out arrangement of the internal vias
    • H01L2924/15174Fan-out arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive paste of which the conductor filling operability in respective through holes is excellent and also to provide a wiring board of which the respective through conductors have a respective low resistance even the content of a conductive powder is high. <P>SOLUTION: This wiring board is produced through the use of a conductive paste containing triallyl isocyanurate of 5 to 20 mass%, triallyl isocyanurate prepolymer of 0.25 to 8 mass%, polymer dispersing agent 2 of 0.05 to 2 mass%, metal powder 3 of 40 to 75 mass%, and a solder ball 4 of 20 to 55 mass%. The average particle size of the solder ball 4 is 30 to 60% of that of the metal powder 3. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数積層した絶縁
樹脂層と、絶縁層の表面および層間に形成された配線導
体と、上下の配線導体間を電気的に接続して成る貫通導
体とを具備した配線基板の貫通導体用として良好な導体
ペーストおよびこれを用いた配線基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plurality of insulating resin layers, a wiring conductor formed on the surface of the insulating layer and between the insulating layers, and a through conductor formed by electrically connecting upper and lower wiring conductors. The present invention relates to a good conductor paste for a penetrating conductor of a provided wiring board and a wiring board using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体素子や抵抗器等の電子部品
を搭載するために用いられる配線基板として、ガラス繊
維基材等の耐熱繊維基材および熱硬化性樹脂から成る絶
縁樹脂層と銅箔等から成る配線導体とを交互に複数層積
層するとともに、絶縁樹脂層を挟んで上下に位置する配
線導体同士を、絶縁樹脂層に形成された貫通導体により
電気的に接続して成る配線基板が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a wiring board used for mounting electronic parts such as semiconductor elements and resistors, a heat-resistant fiber base material such as a glass fiber base material and an insulating resin layer made of a thermosetting resin and a copper foil. A wiring board is formed by alternately laminating a plurality of wiring conductors made of, for example, etc., and electrically connecting the wiring conductors located above and below with the insulating resin layer in between by a through conductor formed in the insulating resin layer. Are known.

【0003】このような配線基板は、耐熱繊維基材に熱
硬化性樹脂前駆体を含浸させて成る絶縁樹脂層用の絶縁
シートにレーザで貫通孔を形成した後、この貫通孔内に
導電性粉末および熱硬化性樹脂前駆体から成る貫通導体
用の導体ペーストをスクリーン印刷(圧入)で埋め込
み、他方、耐熱性樹脂から成る転写シートの表面に銅箔
を被着させるとともにこれを所定のパターンにエッチン
グして転写シート上に配線導体を形成し、しかる後、導
体ペーストが充填された絶縁シートの表面に、配線導体
が形成された転写シートを圧接して配線導体を絶縁シー
トに転写埋入させるとともに配線導体と導体ペーストと
を接続させ、次に、絶縁シートから転写シートを剥離し
た後、配線導体が埋入された複数層の絶縁シートを積層
するとともに絶縁シートおよび導体ペースト中の熱硬化
性樹脂前駆体を熱硬化することにより製作される。なお
この時、導体ペーストを貫通孔に絶縁シートの表面より
盛りあがった形状で埋め込むとともにその上から配線導
体が形成された転写シートを圧接することにより、導体
ペーストを貫通孔へ密に充填している。
In such a wiring board, a through hole is formed by a laser in an insulating sheet for an insulating resin layer formed by impregnating a heat-resistant fiber base material with a thermosetting resin precursor, and then a conductive material is formed in the through hole. A conductor paste for through conductors consisting of powder and thermosetting resin precursor is embedded by screen printing (press-fitting), while a copper foil is adhered to the surface of a transfer sheet made of heat-resistant resin and formed into a predetermined pattern. The wiring conductor is formed on the transfer sheet by etching, and thereafter, the transfer sheet having the wiring conductor formed thereon is pressed onto the surface of the insulating sheet filled with the conductive paste to transfer the wiring conductor to the insulating sheet. At the same time, the wiring conductor and the conductor paste are connected, and then the transfer sheet is peeled off from the insulating sheet, and then a plurality of layers of the insulating sheet in which the wiring conductor is embedded are laminated and the insulating sheet is separated. The thermosetting resin precursor in the preparative and the conductor paste is fabricated by thermally curing. At this time, the conductor paste is densely filled in the through holes by embedding the conductor paste in a shape that is raised from the surface of the insulating sheet and pressing the transfer sheet on which the wiring conductor is formed from above. .

【0004】このような導体ペーストとしては、例え
ば、トリアリルイソシアヌレート5〜20質量%と、トリ
アリルイソシアヌレートプレポリマー0.25〜8質量%
と、導電性粉末80〜94質量%とからなる導体ペーストが
特開2001-176328号公報に提案されている。上記の組成
から成る導体ペーストは、熱硬化性樹脂前駆体のトリア
リルイソシアヌレートを硬化させることにより、金属粉
末と半田粉末とから成る導電性粉末同士を接着して貫通
導体を形成している。そして、この貫通導体は、金属粉
末間を半田粉末で接続させることにより導電性を発現さ
せている。
As such a conductor paste, for example, 5 to 20 mass% of triallyl isocyanurate and 0.25 to 8 mass% of triallyl isocyanurate prepolymer are used.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-176328 proposes a conductor paste containing 80 to 94% by mass of conductive powder. The conductor paste having the above composition is obtained by curing the thermosetting resin precursor triallyl isocyanurate to bond the conductive powders of the metal powder and the solder powder to each other to form a through conductor. The through conductors exhibit conductivity by connecting the metal powders with solder powders.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
導体ペーストは、導電性粉末とトリアリルイソシアヌレ
ートとの濡れ性が悪く、長時間保管した場合、導電性粉
末とトリアリルイソシアヌレートとが分離してしまい、
導体ペーストの粘度が極端に高くなってしまい、充填が
困難になり易いという問題点を有していた。
However, the above-described conductor paste has poor wettability between the conductive powder and triallyl isocyanurate, and when stored for a long time, the conductive powder and triallyl isocyanurate separate. And
There has been a problem that the viscosity of the conductor paste becomes extremely high, which makes it difficult to fill the conductor paste.

【0006】また、上述の導体ペーストは、金属粉末と
半田粉末との導電性粉末間の隙間が大きく、そのため導
電性粉末の含有率が高くなると、導電性粉末の間をトリ
アリルイソシアヌレートおよびトリアリルイソシアヌレ
ートプレポリマーで十分に埋めることが困難となり易
く、導体ペーストの粘度が高くなるとともに貫通孔へ良
好に充填することが困難となり易いという問題点を有し
ていた。
Further, in the above-mentioned conductor paste, the gap between the conductive powders of the metal powder and the solder powder is large, and therefore, when the content ratio of the conductive powders becomes high, the triallyl isocyanurate and the triaryl isocyanurate and the triaryl isocyanurate are formed between the conductive powders. There is a problem that it is difficult to sufficiently fill with the allyl isocyanurate prepolymer, the viscosity of the conductor paste becomes high, and it becomes difficult to fill the through holes well.

【0007】さらに、上述の導体ペーストを用いた配線
基板は、貫通孔に導体ペーストを埋め込んだ後に、導電
性粉末とトリアリルイソシアヌレートとの濡れ性が悪い
ことから、導電性粉末とトリアリルイソシアヌレートと
が分離してしまい導電性粉末が密に充填されず、貫通導
体中の導電性粉末間の隙間が大きくなり金属粉末間に半
田粉末を確実に配置させることが困難であり、その結
果、金属粉末同士を半田粉末で良好に接続することが困
難となり、貫通導体の導通抵抗が高くなり易くなってし
まうという問題点を有していた。
Further, in the wiring board using the above-mentioned conductor paste, since the conductive powder and the triallyl isocyanurate have poor wettability after the conductor paste is embedded in the through holes, the conductive powder and the triallyl isocyanate are poor. The conductive powder is not densely packed because it is separated from the nurate, the gap between the conductive powders in the through conductor becomes large, and it is difficult to reliably arrange the solder powder between the metal powders. There is a problem that it is difficult to satisfactorily connect the metal powders to each other with the solder powder, and the conduction resistance of the through conductor tends to increase.

【0008】本発明はかかる従来技術の問題点に鑑み完
成されたものであり、その目的は、金属粉末と半田粉末
とから成る導電性粉末の含有率が高くなっても、貫通孔
への充填性に優れた導体ペーストおよび、貫通導体の導
通抵抗が低い配線基板を提供することにある。
The present invention has been completed in view of the problems of the prior art, and an object thereof is to fill the through holes even if the content of the conductive powder composed of the metal powder and the solder powder becomes high. An object of the present invention is to provide a conductor paste having excellent properties and a wiring board having a low conduction resistance of a through conductor.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の導体ペースト
は、トリアリルイソシアヌレート5〜20質量%と、トリ
アリルイソシアヌレートプレポリマー0.25〜8質量%
と、高分子分散剤0.05〜2質量%と、金属粉末40〜75質
量%と、半田粉末20〜55質量%とを含有して成り、この
半田粉末は、その平均粒径が金属粉末の平均粒径の30〜
60%であることを特徴とするものである。
The conductor paste of the present invention comprises 5 to 20% by mass of triallyl isocyanurate and 0.25 to 8% by mass of triallyl isocyanurate prepolymer.
And 0.05 to 2% by mass of a polymer dispersant, 40 to 75% by mass of metal powder, and 20 to 55% by mass of solder powder. This solder powder has an average particle size of that of the metal powder. Particle size 30 ~
It is characterized by being 60%.

【0010】また、本発明の配線基板は、耐熱繊維基材
に熱硬化性樹脂を含浸させた絶縁樹脂層と金属箔から成
る配線導体とを交互に複数積層するとともに、絶縁樹脂
層を挟んで上下に位置する配線導体同士を、絶縁樹脂層
に設けた貫通孔に充填した上記の導体ペーストを熱硬化
して成る貫通導体により電気的に接続して成ることを特
徴とするものである。
In the wiring board of the present invention, a plurality of insulating resin layers in which a heat-resistant fiber base material is impregnated with a thermosetting resin and wiring conductors made of a metal foil are alternately laminated, and the insulating resin layers are sandwiched. It is characterized in that the upper and lower wiring conductors are electrically connected to each other by a through conductor formed by thermosetting the above conductor paste filled in a through hole provided in an insulating resin layer.

【0011】本発明の導体ペーストによれば、導体ペー
ストが高分子分散材を0.05〜2重量%含有していること
から、高分子分散剤が金属粉末および半田粉末へ吸着し
て、これらをトリアリルイソシアヌレート中に良好に分
散させることができ、その結果、長期間使用しても粘度
変化がなく、充填性が低下することのない導体ペースト
とすることができる。
According to the conductor paste of the present invention, since the conductor paste contains the polymer dispersant in an amount of 0.05 to 2% by weight, the polymer dispersant is adsorbed on the metal powder and the solder powder, and these are mixed. The conductor paste can be satisfactorily dispersed in allyl isocyanurate, and as a result, a conductor paste can be obtained in which the viscosity does not change even after long-term use and the filling property does not deteriorate.

【0012】また、本発明の導体ペーストによれば、半
田粉末の平均粒径を金属粉末の平均粒径の30〜60%とし
たことから、金属粉末および半田粉末の含有率が高くな
った場合においても、金属粉末間の隙間に粒径の小さな
半田粉末が確実に入り込んで金属粉末間の隙間が小さい
ものとなり、その小さな隙間を少ない量のトリアリルイ
ソシアヌレートおよびトリアリルイソシアヌレートプレ
ポリマーで十分に埋めることができ、その結果、粘度が
低く貫通孔へ良好に充填できる導体ペーストとすること
ができる。
Further, according to the conductor paste of the present invention, since the average particle size of the solder powder is set to 30 to 60% of the average particle size of the metal powder, when the content ratio of the metal powder and the solder powder becomes high. In this case, the solder powder having a small particle size surely enters the gaps between the metal powders to make the gaps between the metal powders small, and a small amount of triallyl isocyanurate and triallyl isocyanurate prepolymer is sufficient for the small gaps. It is possible to obtain a conductor paste which has a low viscosity and can be well filled in the through holes.

【0013】また、本発明の配線基板によれば、貫通孔
に充填した上記の導体ペーストを熱硬化することにより
貫通導体を形成したことから、金属粉末間の隙間に粒径
の小さな半田粉末が確実に入り込んで金属粉末や半田粉
末等の導電性粉末が密に充填されるとともに金属粉末間
の隙間に入り込んだ半田粉末により金属粉末同士が良好
に接続され、その結果、貫通導体の導通抵抗が低い配線
基板とすることができる。
Further, according to the wiring board of the present invention, since the through conductor is formed by thermosetting the above-mentioned conductor paste filled in the through hole, the solder powder having a small particle size is formed in the gap between the metal powders. The conductive powder such as the metal powder or the solder powder is tightly filled and the metal powder is satisfactorily connected by the solder powder entering the gap between the metal powders. As a result, the conduction resistance of the through conductor is reduced. It can be a low wiring board.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】次に、本発明の導体ペーストおよ
びそれを用いた配線基板を添付の図面に基づいて詳細に
説明する。図1は、本発明の導体ペーストの金属粉末お
よび半田粉末の分散状態を示す模式図である。この図に
おいて、1はトリアリルイソシアヌレートとトリアリル
イソシアヌレートプレポリマーとの混合物、2は高分子
分散剤、3は金属粉末、4は半田粉末であり、これらで
本発明の導体ペースト5が構成される。そして、この導
体ペースト5を例えば絶縁樹脂層用の絶縁シートに設け
た貫通孔内に埋め込んで充填するとともに熱硬化させる
ことにより絶縁樹脂層に貫通導体が形成される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, a conductor paste of the present invention and a wiring board using the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing a dispersed state of metal powder and solder powder of the conductor paste of the present invention. In this figure, 1 is a mixture of triallyl isocyanurate and triallyl isocyanurate prepolymer, 2 is a polymer dispersant, 3 is a metal powder, 4 is a solder powder, and these constitute the conductor paste 5 of the present invention. To be done. Then, the conductor paste 5 is embedded and filled in, for example, a through hole provided in an insulating sheet for an insulating resin layer, and is thermally cured to form a through conductor in the insulating resin layer.

【0015】本発明の導体ペーストは、トリアリルイソ
シアヌレート5〜20質量%と、トリアリルイソシアヌレ
ートプレポリマー0.25〜8質量%と、高分子分散剤0.05
〜2質量%と、金属粉末40〜75質量%と、半田粉末20〜
55質量%とを含有して成る。
The conductor paste of the present invention contains 5 to 20% by mass of triallyl isocyanurate, 0.25 to 8% by mass of triallyl isocyanurate prepolymer, and 0.05 of a polymer dispersant.
~ 2% by mass, metal powder 40 to 75% by mass, solder powder 20 to
And 55% by mass.

【0016】トリアリルイソシアヌレートは、金属粉末
3および半田粉末4の間を埋め熱硬化することにより金
属粉末3および半田粉末4を固定する機能を有し、その
含有率は5〜20質量%が好ましい。含有率が5質量%よ
り少ないと導体ペースト5の粘度が高すぎて貫通孔内へ
の導体ペースト5の埋め込み性が低下して、貫通導体の
抵抗値が高くなる傾向にあり、20質量%より多いと導体
ペースト5の粘度が低くなり過ぎ、絶縁樹脂層の表面へ
導体ペースト5が滲んでしまう傾向にある。従って、ト
リアリルイソシアヌレートの含有率は5〜20質量%が好
ましい。
Triallyl isocyanurate has a function of fixing the metal powder 3 and the solder powder 4 by filling the space between the metal powder 3 and the solder powder 4 and thermosetting, and its content is 5 to 20 mass%. preferable. If the content is less than 5% by mass, the viscosity of the conductor paste 5 is too high and the embedding property of the conductor paste 5 in the through holes is lowered, and the resistance value of the through conductor tends to increase. If the amount is large, the viscosity of the conductor paste 5 becomes too low, and the conductor paste 5 tends to bleed onto the surface of the insulating resin layer. Therefore, the content of triallyl isocyanurate is preferably 5 to 20% by mass.

【0017】なお、トリアリルイソシアヌレートは、分
子量が250のモノマーであるが、トリアリルイソシアヌ
レートを重合させたトリアリルイソシアヌレートプレポ
リマーを0.25〜8質量%含有させることにより、導体ペ
ースト5の粘度を調整することができ、導体ペースト5
の絶縁樹脂層表面へ滲み出しを抑制できる。
Although triallyl isocyanurate is a monomer having a molecular weight of 250, the viscosity of the conductor paste 5 can be increased by adding 0.25 to 8% by mass of triallyl isocyanurate prepolymer obtained by polymerizing triallyl isocyanurate. Can be adjusted, the conductor paste 5
Can be suppressed from seeping out to the surface of the insulating resin layer.

【0018】また、トリアリルイソシアヌレートプレポ
リマーの含有率が0.25質量%より少ないと導体ペースト
5の粘度を調整することが困難となる傾向にあり、8質
量%より多いとトリアリルイソシアヌレートプレポリマ
ーを完全に溶解することが困難となり、導体ペースト5
の均質性が低下して埋め込み作業性が低下する傾向にあ
る。従って、トリアリルイソシアヌレートプレポリマー
の含有率は0.25〜8質量%が好ましい。なお、導体ペー
スト5中におけるトリアリルイソシアヌレートプレポリ
マーの良好な溶解性を得るためと導体ペースト5の初期
の粘度調整を良好に行なうためには、トリアリルイソシ
アヌレートプレポリマーの重量平均分子量が1500〜7000
0であることが望ましい。
When the content of triallyl isocyanurate prepolymer is less than 0.25% by mass, it tends to be difficult to adjust the viscosity of the conductor paste 5, and when it is more than 8% by mass, triallyl isocyanurate prepolymer is contained. Becomes difficult to completely dissolve, and the conductor paste 5
However, the homogeneity of the material tends to deteriorate, and the workability of embedding tends to decrease. Therefore, the content of the triallyl isocyanurate prepolymer is preferably 0.25 to 8% by mass. In order to obtain good solubility of the triallyl isocyanurate prepolymer in the conductor paste 5 and to adjust the initial viscosity of the conductor paste 5 well, the weight average molecular weight of the triallyl isocyanurate prepolymer is 1500. ~ 7000
It is preferably 0.

【0019】また、本発明の導体ペースト5は、高分子
分散剤2を0.05〜2重量%含有していることから、図1
に示すように、高分子分散剤2が金属粉末3および半田
粉末4へ吸着して、トリアリルイソシアヌレート中に金
属粉末3および半田粉末4を良好に分散させることがで
き、長期間使用しても粘度変化がなく、充填性が低下す
ることのない導体ペースト5とすることができる。
Further, since the conductor paste 5 of the present invention contains the polymer dispersant 2 in an amount of 0.05 to 2% by weight, FIG.
As shown in, the polymer dispersant 2 can be adsorbed on the metal powder 3 and the solder powder 4 to disperse the metal powder 3 and the solder powder 4 in triallyl isocyanurate well, Also, it is possible to obtain the conductor paste 5 in which the viscosity does not change and the filling property does not decrease.

【0020】このような高分子分散剤2としては、ナフ
タレンスルホン酸ナトリウムのホルマリン縮合物やポリ
スルホン酸ナトリウム等のアニオン高分子分散剤、ノニ
ルフェノールホルマリン縮合物のエチレンオキサイド付
加物やポリエチレンポリアミンのプロピレンオキサイド
−エチレンオキサイド付加物等のノニオン高分子分散剤
が用いることができる。
Examples of such a polymer dispersant 2 include anionic polymer dispersants such as formalin condensate of sodium naphthalene sulfonate and sodium polysulfonate, ethylene oxide adducts of nonylphenol formalin condensate, and propylene oxide of polyethylene polyamine. A nonionic polymer dispersant such as an ethylene oxide adduct can be used.

【0021】なお、高分子分散剤2の含有率は0.05〜2
重量%が好ましい。含有率が0.05重量%より少ないと長
期使用していると粘度が上昇し、埋め込み不良が生じる
傾向にあり、2重量%より多いと金属粉末3および半田
粉末4に厚く被着してしまい、金属粉末3および半田粉
末4の接触抵抗が上昇してしまう傾向にある。従って、
高分子分散剤2の含有率は0.05〜2重量%が好ましい。
The content of the polymer dispersant 2 is 0.05 to 2
Weight percent is preferred. If the content is less than 0.05% by weight, the viscosity will increase when used for a long period of time, resulting in poor embedding. The contact resistance of the powder 3 and the solder powder 4 tends to increase. Therefore,
The content of the polymer dispersant 2 is preferably 0.05 to 2% by weight.

【0022】また、本発明の導体ペースト5は、貫通孔
に充填して熱硬化されることにより、半田粉末3の表面
が溶融して、金属粉末3間を半田粉末4で接続させて形
成された貫通導体となる。金属粉末3としては、金・銀
・パラジウム・銅・ニッケル・錫・鉛の中から選ばれる
少なくとも1種の金属であることが好ましく、具体的に
は、上記の純粋な金属およびそれらの合金あるいは混合
物、さらには上記から選ばれる金属の核に他の金属を被
覆したものを用いることができる。特に、マイグレーシ
ョンの抑制および安価である点で銅が好ましく、化学的
安定性を考慮すると銀を被覆した銅粉末が最適である。
また、半田粉末4としては、錫・鉛・銀・インジウム・
アンチモン・ビスマス等から選ばれる2種類以上の金属
の合金であることが好ましい。
The conductor paste 5 of the present invention is formed by filling the through-holes and thermosetting to melt the surface of the solder powder 3 and connect the metal powders 3 with the solder powder 4. It becomes a through conductor. The metal powder 3 is preferably at least one metal selected from gold, silver, palladium, copper, nickel, tin, and lead. Specifically, the above-mentioned pure metals and their alloys or A mixture, or a core of a metal selected from the above and coated with another metal can be used. In particular, copper is preferable in terms of suppressing migration and being inexpensive, and in consideration of chemical stability, copper powder coated with silver is most suitable.
Further, as the solder powder 4, tin, lead, silver, indium,
An alloy of two or more kinds of metals selected from antimony, bismuth and the like is preferable.

【0023】金属粉末3の含有率は40〜75質量%が好ま
しい。導電性粉末の含有率が40質量%より少ないと、導
体ペースト5を熱硬化させて形成される貫通導体におい
て、金属粉末3同士の接触点が少なくなるために抵抗値
が上昇してしまう傾向にあり、75質量%より多いと導体
ペースト5の粘度調整が難しくなってしまう傾向にあ
る。従って、金属粉末3の含有率は40〜75質量%が好ま
しい。また、半田粉末4の含有率は20〜55質量%である
ことが好ましい。半田粉末4の含有率が20%より低いと
導体ペースト5を熱硬化させて形成される貫通導体にお
いて、半田粉末4が少なすぎるため金属粉末3同士を半
田粉末4で良好に接続することが困難となり導通抵抗が
高くなってしまう傾向あり、55質量%より低いと導体ペ
ースト5を熱硬化させて形成される貫通導体において、
半田粉末4の融点以上の温度が印加されたて半田粉末4
が溶融した場合に貫通導体の形状が変化し易くなる傾向
にある。従って、半田粉末4の含有率は20〜54質量%で
あることが好ましい。
The content of the metal powder 3 is preferably 40 to 75% by mass. If the content of the conductive powder is less than 40% by mass, the resistance value tends to increase because the number of contact points between the metal powders 3 decreases in the through conductor formed by thermosetting the conductor paste 5. If the amount is more than 75% by mass, it tends to be difficult to adjust the viscosity of the conductor paste 5. Therefore, the content of the metal powder 3 is preferably 40 to 75% by mass. The content of the solder powder 4 is preferably 20 to 55 mass%. If the content of the solder powder 4 is lower than 20%, it is difficult to satisfactorily connect the metal powders 3 with the solder powder 4 because the solder powder 4 is too small in the through conductor formed by thermosetting the conductor paste 5. And the conduction resistance tends to increase, and when it is less than 55% by mass, in the through conductor formed by thermosetting the conductor paste 5,
The solder powder 4 is applied with a temperature equal to or higher than the melting point of the solder powder 4.
When is melted, the shape of the through conductor tends to change. Therefore, the content of the solder powder 4 is preferably 20 to 54 mass%.

【0024】さらに、本発明の導体ペースト5において
は、半田粉末4の平均粒径を金属粉末3の平均粒径に対
して30〜60%としており、そのことが重要である。半田
粉末4の平均粒径が金属粉末3の平均粒径に対して30%
より小さいと、半田粉末4の微粉が多くなりその微粉が
金属粉末3の表面に付着し、導体ペースト5の粘度が高
くなり良好に埋め込みできなくなる傾向があり、60%よ
り大きいと金属粉末3の間に半田粉末4が確実に入り込
むことが困難となり、金属粉末3および半田粉末4間の
間隔が大きなものとなってその間を少ない量のトリアリ
ルイソシアヌレートおよびトリアリルイソシアヌレート
プレポリマーで十分に埋めることができずに導体ペース
ト5の粘度が高くなってしまう傾向がある。また、導体
ペースト5を熱硬化させて形成される貫通導体において
も、金属粉末3間の隙間が大きくなり、金属粉末3およ
び半田粉末4が密に充填されないとともに金属粉末3間
に半田粉末4を確実に配置させることが困難となり、そ
の結果、金属粉末3同士を半田粉末4で充分に接続する
ことができずに貫通導体の導通抵抗が高くなってしまう
傾向がある。従って、半田粉末4の平均粒径を金属粉末
3の平均粒径の30〜60%とすることが重要である。
Furthermore, in the conductor paste 5 of the present invention, the average particle size of the solder powder 4 is 30 to 60% of the average particle size of the metal powder 3, which is important. The average particle size of the solder powder 4 is 30% of the average particle size of the metal powder 3.
If it is smaller, the amount of fine powder of the solder powder 4 increases, and the fine powder adheres to the surface of the metal powder 3, and the viscosity of the conductor paste 5 increases, which tends to prevent good embedding. It becomes difficult for the solder powder 4 to reliably enter in between, and the space between the metal powder 3 and the solder powder 4 becomes large, and the space is sufficiently filled with a small amount of triallyl isocyanurate and triallyl isocyanurate prepolymer. However, the viscosity of the conductor paste 5 tends to be high. Also, in the through conductor formed by thermosetting the conductor paste 5, the gap between the metal powders 3 becomes large, the metal powders 3 and the solder powders 4 are not densely filled, and the solder powders 4 are placed between the metal powders 3. It becomes difficult to dispose the metal powder 3 reliably, and as a result, the metal powders 3 cannot be sufficiently connected with the solder powders 4, and the conduction resistance of the through conductor tends to increase. Therefore, it is important to set the average particle size of the solder powder 4 to 30 to 60% of the average particle size of the metal powder 3.

【0025】なお、金属粉末3の平均粒径は4〜10μm
が好ましい。平均粒径が4μmより小さいと導体ペース
ト5の粘度が高いものとなり、良好に埋め込みできなく
なる傾向があり、10μmを超えると金属粉末3が高充填
できず導通抵抗が高くなる傾向がある。従って、金属粉
末3の平均粒径は4〜10μmが好ましい。
The average particle size of the metal powder 3 is 4 to 10 μm.
Is preferred. If the average particle size is smaller than 4 μm, the viscosity of the conductor paste 5 becomes high, and it tends to be difficult to embed, and if it exceeds 10 μm, the metal powder 3 cannot be highly filled and the conduction resistance tends to be high. Therefore, the average particle size of the metal powder 3 is preferably 4 to 10 μm.

【0026】また、トリアリルイソシアヌレートの硬化
を促進するために、ラジカル重合開始剤として、ハイド
ロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアリ
ルパーオキサイド等の有機過酸化物を0.25〜3質量%添
加しても良い。
In order to accelerate the curing of triallyl isocyanurate, 0.25 to 3 mass% of an organic peroxide such as hydroperoxide, dialkyl peroxide, diallyl peroxide may be added as a radical polymerization initiator. good.

【0027】かくして、本発明の導体ペースト5によれ
ば、高分子分散剤2を0.05〜2重量%含有していること
から、高分子分散剤2が金属粉末3および半田粉末4へ
吸着して、金属粉末3および半田粉末4をトリアリルイ
ソシアヌレート中に良好に分散させることができ、その
結果、長期間使用しても粘度変化がなく、充填性が低下
することのない導体ペースト5とすることができる。
Thus, according to the conductor paste 5 of the present invention, since the polymer dispersant 2 is contained in an amount of 0.05 to 2% by weight, the polymer dispersant 2 is adsorbed on the metal powder 3 and the solder powder 4. The metal powder 3 and the solder powder 4 can be satisfactorily dispersed in triallyl isocyanurate, and as a result, there is no change in viscosity even when used for a long period of time, and the conductor paste 5 does not deteriorate in filling property. be able to.

【0028】また、本発明の導体ペーストによれば、導
電性粉末が金属粉末3と半田粉末4とからなり、半田粉
末4の平均粒径を金属粉末3の平均粒径に対して、30〜
60%としたことから、導電性粉末の含有率が高くなって
も、導体ペースト5の粘度を低くすることができ、その
結果、貫通孔へ良好に充填できる導体ペースト5とする
ことができる。
According to the conductor paste of the present invention, the conductive powder is composed of the metal powder 3 and the solder powder 4, and the average particle diameter of the solder powder 4 is 30 to 30 times the average particle diameter of the metal powder 3.
Since the content is 60%, the viscosity of the conductive paste 5 can be lowered even if the content of the conductive powder is high, and as a result, the conductive paste 5 can be filled well into the through holes.

【0029】なお、本発明の導体ペースト5の調整方法
は、例えば、トリアリルイソシアヌレートを8.1質量
%、トリアリルイソシアヌレートプレポリマーを0.9質
量%、高分子分散剤2としてノニルフェノールホルマリ
ン縮合物のエチレンオキサイド付加物を1質量%、平均
粒径が10μmの金属粉末2を45質量%、平均粒径が5μ
mの半田粉末3を45質量%混合して、攪拌脱泡機で混練
することにより、所定の粘度に調整できる。また、貫通
孔への埋め込み充填性を高めるために、導体ペーストの
粘度を剪断速度=100s-1で20〜200Pa・sに調整するこ
とが好ましい。
The method for preparing the conductor paste 5 of the present invention is, for example, 8.1% by mass of triallyl isocyanurate, 0.9% by mass of triallyl isocyanurate prepolymer, and ethylene as a nonylphenol formalin condensate as the polymer dispersant 2. 1 mass% of oxide adduct, 45 mass% of metal powder 2 having an average particle size of 10 μm, average particle size of 5 μm
It is possible to adjust the viscosity to a predetermined value by mixing 45 mass% of the solder powder 3 of m and kneading with a stirring defoaming machine. Further, in order to improve the filling property into the through holes, it is preferable to adjust the viscosity of the conductor paste to 20 to 200 Pa · s at a shear rate of 100 s −1 .

【0030】次に、上記の導体ペースト5を用いた配線
基板を図2に基づいて詳細に説明する。図2は、本発明
の導体ペースト5を用いた配線基板の実施の形態の一例
を示す断面図であり、この図において、6は絶縁樹脂
層、7は配線導体、8は貫通孔、9は貫通導体である。
なお、図2には、絶縁樹脂層6を4層積層して成る配線
基板を示している。
Next, a wiring board using the above-mentioned conductor paste 5 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 2 is a sectional view showing an example of an embodiment of a wiring board using the conductor paste 5 of the present invention. In this figure, 6 is an insulating resin layer, 7 is a wiring conductor, 8 is a through hole, and 9 is a through hole. It is a through conductor.
Note that FIG. 2 shows a wiring board formed by laminating four insulating resin layers 6.

【0031】絶縁樹脂層6は、その厚みが50〜150μm
程度であり、配線導体7を支持するとともに上下に位置
する配線導体7間の絶縁を保持する機能を有し、ガラス
クロス等の耐熱性繊維に変性ポリフェニレンエーテル樹
脂やトリアリルイソシアヌレートの熱硬化性樹脂を含浸
させて成る。なお、絶縁樹脂層6の厚みが50μm未満で
あると、配線基板の剛性が低下して配線基板が撓みやす
くなる傾向があり、150μmを超えると絶縁樹脂層6の
厚みが不要に厚いものとなり配線基板の軽量化が困難と
なる傾向がある。従って、絶縁樹脂層6は、その厚みを
50〜150μmとすることが好ましい。
The insulating resin layer 6 has a thickness of 50 to 150 μm.
It has the function of supporting the wiring conductors 7 and maintaining the insulation between the wiring conductors 7 positioned above and below, and the thermosetting property of the modified polyphenylene ether resin or triallyl isocyanurate to the heat resistant fiber such as glass cloth. It is made by impregnating a resin. If the thickness of the insulating resin layer 6 is less than 50 μm, the rigidity of the wiring board tends to decrease and the wiring board tends to bend, and if it exceeds 150 μm, the thickness of the insulating resin layer 6 becomes unnecessarily thick and wiring It tends to be difficult to reduce the weight of the substrate. Therefore, the insulating resin layer 6 has a thickness
The thickness is preferably 50 to 150 μm.

【0032】また、各絶縁樹脂層6の表面には配線導体
7が埋入されている。配線導体7は、配線基板に搭載さ
れる電子部品(図示せず)の各電極を外部電気回路基板
(図示せず)に電気的に接続する導電路の一部としての
機能を有し、幅が20〜200μm程度、厚みが5〜50μm
程度で、銅やアルミニウム・ニッケル・銀・金等の金属
箔から成り、特に加工性および安価という観点からは銅
箔から成ることが好ましい。配線導体7の幅が20μm未
満となると配線導体7の変形や断線が発生しやすくなる
傾向があり、200μmを超えると高密度配線が形成でき
なくなる傾向がある。また、配線導体7の厚みが5μm
未満になると配線導体7の強度が低下し変形や断線が発
生しやすくなる傾向があり、50μmを超えると絶縁樹脂
層6への埋入が困難となる傾向がある。従って、配線導
体7は、その幅を20〜200μm、厚みを5〜50μmとす
ることが好ましい。
A wiring conductor 7 is embedded in the surface of each insulating resin layer 6. The wiring conductor 7 has a function as a part of a conductive path that electrically connects each electrode of an electronic component (not shown) mounted on the wiring board to an external electric circuit board (not shown), and has a width. Is about 20-200 μm, thickness is 5-50 μm
To some extent, it is made of a metal foil of copper, aluminum, nickel, silver, gold or the like, and is preferably made of a copper foil from the viewpoint of workability and low cost. If the width of the wiring conductor 7 is less than 20 μm, the wiring conductor 7 tends to be deformed or broken, and if it exceeds 200 μm, high-density wiring cannot be formed. In addition, the thickness of the wiring conductor 7 is 5 μm
If it is less than 50 μm, the strength of the wiring conductor 7 tends to decrease, and deformation or disconnection tends to occur. If it exceeds 50 μm, it tends to be difficult to embed it in the insulating resin layer 6. Therefore, the wiring conductor 7 preferably has a width of 20 to 200 μm and a thickness of 5 to 50 μm.

【0033】さらに、各絶縁樹脂層6には、その上面か
ら下面にかけて貫通導体9が複数個配設されている。こ
れらの貫通導体9は、絶縁樹脂層6の上下に位置する配
線導体7間を電気的に接続する機能を有し、絶縁樹脂層
6に設けた貫通孔8に、トリアリルイソシアヌレートを
5〜20質量%と、トリアリルイソシアヌレートプレポリ
マーを0.25〜8質量%と、高分子分散剤2を0.05〜2質
量%と、金属粉末3を40〜75質量%と、半田粉末4を20
〜55質量%とを含有して成り、半田粉末4の平均粒径が
金属粉末3の平均粒径の30〜60%である本発明の導体ペ
ースト5を埋め込み熱硬化することにより形成されてい
る。なお、貫通孔8は、その直径が30〜200μm程度で
あり、直径が30μm未満になるとその加工が困難となる
傾向があり、200μmを超えると高密度配線が形成でき
なくなる傾向がある。従って、貫通孔8は、その直径を
30〜200μmとすることが好ましい。
Further, each insulating resin layer 6 is provided with a plurality of through conductors 9 from the upper surface to the lower surface thereof. These through conductors 9 have a function of electrically connecting the wiring conductors 7 located above and below the insulating resin layer 6, and the through holes 8 provided in the insulating resin layer 6 are provided with triallyl isocyanurate in an amount of 5 to 5%. 20 mass%, triallyl isocyanurate prepolymer 0.25-8 mass%, polymer dispersant 2 0.05-2 mass%, metal powder 3 40-75 mass%, solder powder 4 20
˜55% by mass, and is formed by embedding and thermally curing the conductor paste 5 of the present invention in which the average particle size of the solder powder 4 is 30 to 60% of the average particle size of the metal powder 3. . The through-hole 8 has a diameter of about 30 to 200 μm, and if the diameter is less than 30 μm, its processing tends to be difficult, and if it exceeds 200 μm, high-density wiring cannot be formed. Therefore, the through hole 8 has a diameter
The thickness is preferably 30 to 200 μm.

【0034】本発明の配線基板によれば、貫通孔8に上
記の導体ペースト5を充填して熱硬化することにより貫
通導体9を形成したことから、金属粉末3間の隙間に粒
径の小さな半田粉末4が確実に入り込んで金属粉末3お
よび半田粉末4から成る導電性粉末が密に充填されると
ともに金属粉末3間の隙間に入り込んだ半田粉末4によ
り金属粉末3同士が良好に接続され、その結果、貫通導
体9の導通抵抗が低い配線基板とすることができる。
According to the wiring board of the present invention, since the through-hole conductor 9 is formed by filling the through-hole 8 with the above-mentioned conductor paste 5 and thermosetting, the particle size in the gap between the metal powders 3 is small. The solder powder 4 surely enters, the conductive powder composed of the metal powder 3 and the solder powder 4 is densely filled, and the solder powder 4 entering the gap between the metal powders 3 connects the metal powders 3 well. As a result, it is possible to obtain a wiring board in which the conduction resistance of the through conductor 9 is low.

【0035】このような配線基板は、以下に述べる方法
により製作される。まず、例えば、ガラスクロス等の耐
熱性繊維に変性ポリフェニレン樹脂を100重量部とトリ
アリルイソシアヌレートを5重量部とスチレン−エチレ
ン−ブチレン−スチレンテトラブロックポリマーを20重
量部とから成る熱硬化樹脂組成物を含浸させることによ
り絶縁樹脂層6用の絶縁シートを製作し、次に、絶縁樹
脂層6用の絶縁シートの所定の位置に炭酸ガスレーザや
YAGレーザ等の従来周知の方法を採用して直径が30〜
200μm程度の貫通孔8用の孔を穿設する。そして、貫
通孔8に従来周知のスクリーン印刷法を採用して上述し
た本発明の導体ペースト5をスクリーン印刷法(圧入)
で充填する。その後、別途準備した、表面に銅箔から成
る配線導体7を所定のパターンに被着形成した、ポリエ
チレンテレフタレート(PET)樹脂等の耐熱性樹脂か
ら成る転写シートを絶縁樹脂層6用の絶縁シートに、貫
通孔8用の孔に充填した導体ペースト5と配線導体7と
が接続するように位置合わせして重ね合わせ、これらを
熱プレス機を用いて100〜150℃の温度で数分間プレスす
ることにより転写シートを絶縁樹脂層4用の絶縁シート
に圧接して、配線導体7を絶縁樹脂層6用の絶縁シート
に転写埋入させる。しかる後、転写シートを絶縁樹脂層
6用の絶縁シートから剥離するとともに転写シートを剥
離した絶縁樹脂層6用の絶縁シートを複数枚上下に重ね
合わせ、熱プレス機を用いて150〜200℃の温度で数時間
加熱プレスして絶縁シートおよび導体ペースト5を熱硬
化させることにより、配線基板が得られる。
Such a wiring board is manufactured by the method described below. First, for example, a thermosetting resin composition comprising 100 parts by weight of a modified polyphenylene resin, 5 parts by weight of triallyl isocyanurate, and 20 parts by weight of a styrene-ethylene-butylene-styrene tetrablock polymer on a heat-resistant fiber such as glass cloth. An insulating sheet for the insulating resin layer 6 is manufactured by impregnating the material, and then a diameter of the insulating sheet for the insulating resin layer 6 is applied at a predetermined position by a well-known method such as a carbon dioxide laser or a YAG laser. Is 30 ~
A hole for the through hole 8 of about 200 μm is formed. Then, the conductor paste 5 of the present invention described above is applied to the through holes 8 by a screen printing method (press-fitting) according to the present invention.
Fill with. Thereafter, a separately prepared transfer sheet made of a heat-resistant resin such as polyethylene terephthalate (PET) resin, on the surface of which a wiring conductor 7 made of copper foil is formed in a predetermined pattern, is used as an insulating sheet for the insulating resin layer 6. , The conductor paste 5 filled in the holes for the through holes 8 and the wiring conductor 7 are aligned and overlapped so as to be connected, and these are pressed with a hot press machine at a temperature of 100 to 150 ° C. for several minutes. Thus, the transfer sheet is pressed against the insulating sheet for the insulating resin layer 4, and the wiring conductor 7 is transferred and embedded in the insulating sheet for the insulating resin layer 6. After that, the transfer sheet is peeled from the insulating sheet for the insulating resin layer 6, and a plurality of insulating sheets for the insulating resin layer 6 from which the transfer sheet is peeled are stacked on top of each other, and a heat press machine is used to heat the sheet at 150 to 200 ° C. A wiring board is obtained by heat-pressing the insulating sheet and the conductor paste 5 at a temperature for several hours to cure them.

【0036】また、絶縁樹脂層6の一方の最外層表面に
形成された配線導体7の一部は、電子部品(図示せず)
の各電極に導体バンプ10aを介して接合される電子部品
接続用の実装用電極11aを形成し、絶縁樹脂層6の他方
の最外層表面に形成された配線導体7の一部は、外部電
気回路基板(図示せず)の各電極に導体バンプ10bを介
して接続される外部接続用の実装用電極11bを形成して
いる。
A part of the wiring conductor 7 formed on the surface of one outermost layer of the insulating resin layer 6 is an electronic component (not shown).
Part of the wiring conductor 7 formed on the surface of the other outermost layer of the insulating resin layer 6 is formed by forming a mounting electrode 11a for connecting an electronic component, which is joined to each of the electrodes via a conductor bump 10a. External mounting connection electrodes 11b are formed on each electrode of a circuit board (not shown) via conductor bumps 10b.

【0037】なお、実装用電極11a・11bの表面には、
その酸化腐蝕を防止するとともに導体バンプ10a・10b
との接続を良好とするために、半田との濡れ性が良好で
耐腐蝕性に優れたニッケル−金等のめっき層が被着され
ている。
On the surfaces of the mounting electrodes 11a and 11b,
The conductive bumps 10a and 10b are prevented from being oxidized and corroded.
In order to make a good connection with, a plating layer of nickel-gold or the like having good wettability with solder and excellent in corrosion resistance is deposited.

【0038】また、最外層の絶縁樹脂層4および実装用
電極11a・11bには、必要に応じて実装用電極11a・11
bの中央部を露出させる開口を有する耐半田樹脂層12が
被着されている。耐半田樹脂層12は、その厚みが10〜50
μm程度であり、例えばアクリル変性エポキシ樹脂等の
感光性樹脂と光開始剤等とから成る混合物に30〜70質量
%のシリカやタルク等の無機粉末フィラーを含有させた
絶縁材料から成り、隣接する実装用電極11a同士・11b
同士が導体バンプ10a・10bにより電気的に短絡するこ
とを防止するとともに、実装用電極11a・11bと絶縁樹
脂層6との接合強度を向上させる機能を有する。
If necessary, the outermost insulating resin layer 4 and the mounting electrodes 11a and 11b may be mounted on the mounting electrodes 11a and 11b.
A solder resistant resin layer 12 having an opening for exposing the central portion of b is applied. The solder-resistant resin layer 12 has a thickness of 10 to 50.
It is about μm and is made of an insulating material in which a mixture of a photosensitive resin such as an acrylic modified epoxy resin and a photoinitiator contains 30 to 70% by mass of an inorganic powder filler such as silica or talc, which are adjacent to each other. Mounting electrodes 11a, 11b
The conductor bumps 10a and 10b are prevented from electrically short-circuiting each other, and have a function of improving the bonding strength between the mounting electrodes 11a and 11b and the insulating resin layer 6.

【0039】このような耐半田樹脂層12は、感光性樹脂
と光開始剤と無機粉末フィラーとから成る未硬化樹脂フ
ィルムを最外層の絶縁樹脂層6表面に被着させる、ある
いは、熱硬化性樹脂と無機粉末フィラーとから成る未硬
化樹脂ワニスを最外層の絶縁樹脂層6表面に塗布すると
ともに乾燥し、しかる後、露光・現像により開口部を形
成し、これをUV硬化および熱硬化させることにより形
成される。
Such a solder-resistant resin layer 12 is formed by applying an uncured resin film composed of a photosensitive resin, a photoinitiator and an inorganic powder filler onto the surface of the outermost insulating resin layer 6, or by thermosetting. Applying an uncured resin varnish consisting of a resin and an inorganic powder filler to the surface of the outermost insulating resin layer 6 and drying, and then forming an opening by exposure and development, and UV-curing and heat-curing this. Is formed by.

【0040】なお、本発明は上述の実施例に限定される
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば
種々の変更は可能であり、例えば上述の実施例では絶縁
層を4層積層した場合を例示したが、5層以上であって
もかまわない。
The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, in the above-mentioned embodiments, four insulating layers are used. Although the case where the layers are stacked is shown as an example, the number of layers may be five or more.

【0041】[0041]

【実施例】まず、表1に示すように、トリアリルイソシ
アヌレート(TAIC)と、トリアリルイソシアヌレー
トプレポリマー(TAICPP)と、高分子分散剤と、
金属粉末と半田粉末とを調合し、これにジアリルパーオ
キサイドを1質量%添加して、攪拌脱泡機で混練するこ
とにより導体ペーストを調整した。また、コーン型粘度
計を用い、剪断速度100s-1における導体ペーストの粘
度を測定した。
EXAMPLES First, as shown in Table 1, triallyl isocyanurate (TAIC), triallyl isocyanurate prepolymer (TAICPP), a polymer dispersant, and
A metal paste and a solder powder were prepared, 1 mass% of diallyl peroxide was added thereto, and the mixture was kneaded by a stirring defoaming machine to prepare a conductor paste. Further, the viscosity of the conductor paste at a shear rate of 100 s -1 was measured using a cone type viscometer.

【0042】次に、ガラスクロス等の耐熱性繊維に変性
ポリフェニレン樹脂100重量部と、トリアリルイソシア
ヌレート5重量部と、スチレン−エチレン−ブチレン−
スチレンテトラブロックポリマー20重量部とから成る熱
硬化樹脂組成物を含浸させることにより厚みが100μm
の絶縁シートを4枚製作するとともに、それぞれの絶縁
シートの同一位置に炭酸ガスレーザやYAGレーザ等の
従来周知の方法を採用して直径が100μmの貫通孔を穿
設した。そして、それらの貫通孔に従来周知のスクリー
ン印刷法を採用して先に調整した導体ペーストをスクリ
ーン印刷法(圧入)で充填した。その後、別途準備し
た、表面に銅箔から成る直径が150μmで厚みが15μm
の円形の配線導体を前記貫通孔に対応する位置に被着形
成した、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂等
の耐熱性樹脂から成る転写シートを絶縁シートに、導体
ペーストと配線導体とが接続するように位置合わせして
重ね合わせ、これらを熱プレス機を用いて125℃の温度
で数分間プレスすることにより転写シートを絶縁シート
に圧接して、配線導体を絶縁シートに転写埋入させた。
しかる後、転写シートを絶縁シートから剥離するととも
に転写シートを剥離した絶縁シートを上下に重ね合わ
せ、熱プレス機を用いて200℃の温度で3時間加熱プレ
スすることにより、絶縁シートが熱硬化した4層の絶縁
樹脂層を導体ペーストが熱硬化した貫通導体が各層間に
円形の配線導体を挟んで貫通する配線基板を得た。次
に、外観検査と電気テスターで4層の絶縁層を貫通する
貫通導体の両端間の導通抵抗を測定した。結果を表1に
示す。
Next, 100 parts by weight of modified polyphenylene resin, 5 parts by weight of triallyl isocyanurate, and styrene-ethylene-butylene- were added to heat resistant fibers such as glass cloth.
By impregnating a thermosetting resin composition consisting of 20 parts by weight of styrene tetrablock polymer, the thickness is 100 μm.
4 insulating sheets were prepared, and through holes each having a diameter of 100 μm were formed at the same position of each insulating sheet by using a conventionally known method such as a carbon dioxide gas laser or a YAG laser. Then, the through-holes were filled with the conductor paste previously prepared by employing a conventionally known screen printing method by the screen printing method (press-fitting). After that, a copper foil with a diameter of 150 μm and a thickness of 15 μm was prepared separately.
A transfer sheet made of a heat-resistant resin such as polyethylene terephthalate (PET) resin, in which a circular wiring conductor is formed at a position corresponding to the through hole, is connected to the insulating sheet by the conductor paste and the wiring conductor. The sheets were aligned and superposed, and these were pressed at a temperature of 125 ° C. for several minutes using a heat press machine to press the transfer sheet into pressure contact with the insulating sheet and transfer-embed the wiring conductor in the insulating sheet.
Then, the transfer sheet was peeled off from the insulating sheet, and the insulating sheets from which the transfer sheet was peeled off were stacked on top of each other, and heat-pressed at a temperature of 200 ° C. for 3 hours using a heat press machine, so that the insulating sheet was thermoset. A wiring board was obtained in which the through conductor, which was obtained by thermosetting the conductor paste, penetrated the four insulating resin layers with the circular wiring conductor sandwiched between the respective layers. Next, the conduction resistance between both ends of the through conductor penetrating the four insulating layers was measured by a visual inspection and an electric tester. The results are shown in Table 1.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】表1からは、トリアリルイソシアヌレート
(TAIC)が5質量%より少なく、トリアリルイソシ
アヌレートプレポリマー(TAICPP)が0.25質量%
より少ない(試料No.1)と、導体ペーストの粘度が高
くなり過ぎて埋め込み不良となり、TAICが20質量%
より多く、TAICPPが2質量%より多い(試料No.
5)と導体ペーストの粘度が低くなり過ぎて良好に埋め
込むことができなかった。それに対して、TAICが5
〜20質量%、TAICPPが0.25〜2質量%である(試
料No.2〜4)とペーストの粘度が20〜150Pa・sとな
り、良好に埋め込むことができた。また、高分子分散剤
が0.05重量%より少ない(試料No.6)と24時間保管後
の導体ペーストの粘度が急激に上昇し埋め込むことがで
きず、埋め込こみができても保形成に劣りので転写時に
導電性粉末が飛散り貫通導体間の絶縁性が低下してしま
った。一方、高分子分散剤が2重量%より多い(試料N
o.9)と高分子分散剤がトリアリルイソシアヌレートに
良好に溶解せず分離し、外観不良となった。それに対し
て、高分子分散剤が0.05〜2重量%である(試料No.
7,8)と導体ペーストの粘度変化がなく、良好に埋め
込みができ、貫通導体の導体抵抗も低かった。
From Table 1, it is shown that triallyl isocyanurate (TAIC) is less than 5% by mass and triallyl isocyanurate prepolymer (TAICPP) is 0.25% by mass.
If it is less (Sample No. 1), the viscosity of the conductor paste becomes too high, resulting in poor embedding, and TAIC is 20% by mass.
More, TAICPP more than 2% by mass (Sample No.
5) and the viscosity of the conductor paste became too low to be embedded properly. On the other hand, TAIC is 5
.About.20% by mass and TAICPP of 0.25 to 2% by mass (Sample Nos. 2 to 4), the viscosity of the paste was 20 to 150 Pa.s, and good embedding was possible. Also, if the polymer dispersant is less than 0.05% by weight (Sample No. 6), the viscosity of the conductor paste after storage for 24 hours will rise sharply and it will not be possible to embed it. Therefore, the conductive powder was scattered during the transfer, and the insulation between the through conductors was deteriorated. On the other hand, the polymer dispersant is more than 2% by weight (Sample N
o.9) and the polymer dispersant did not dissolve well in triallyl isocyanurate and separated, resulting in poor appearance. On the other hand, the polymer dispersant is 0.05 to 2% by weight (Sample No.
7 and 8), there was no change in the viscosity of the conductor paste, good embedding was possible, and the conductor resistance of the through conductor was also low.

【0045】さらに、半田粉末の平均粒径が金属粉末の
平均粒径に対して30%より小さい(試料No.10)と、半
田粉末が小さすぎて金属粉末の隙間を確実に埋め込むこ
とができずに貫通導体の導通抵抗が高くなってしまっ
た。一方、60%より大きい(試料No.14)と半田粉末が
大きすぎて金属粉末の隙間を広げ、良好に充填できず導
通抵抗が高くなってしまった。それに対して、半田粉末
の平均粒径が金属粉末の平均粒径に対して30〜60%(試
料No.11〜13)とすると金属粉末間の隙間に粒径が小さ
な半田粉末が確実に入り込んで導電性粉末間の隙間が小
さいものとなるので、その小さな隙間を少ない量のTA
ICおよびTAICPPで十分に埋めることができ、粘
度が低く貫通孔へ良好に充填できる。また、金属粉末の
含有率が74質量%より多く、半田粉末の含有率20質量%
より少ない(試料No.15)と半田粉末が少なすぎるため
金属粉末同士を半田粉末で良好に接続することが困難と
なり導通抵抗が高くなった。一方、金属粉末の含有率が
40質量%より少なく、半田粉末の含有率55質量%より多
い(試料No.19)と半田粉末4の融点以上の温度が印加
されたて半田粉末4が溶融した場合に貫通導体の形状が
変化し易く、導通抵抗が高くなった。それに対して、金
属粉末の含有率が40〜75質量%、半田粉末の含有率20〜
55質量%(試料No.16〜18)とすると金属粉末間の隙間
に粒径の小さな半田粉末が確実に入り込んで導電性粉末
が密に充填されるとともに金属粉末間の隙間に入り込ん
だ半田粉末により金属粉末同士が良好に接続され、貫通
導体の導通抵抗が低くなった。
Further, when the average particle diameter of the solder powder is smaller than 30% of the average particle diameter of the metal powder (Sample No. 10), the solder powder is too small and the gap of the metal powder can be surely filled. Instead, the conduction resistance of the through conductor increased. On the other hand, if it is more than 60% (Sample No. 14), the solder powder is too large and the gap between the metal powders is widened, and it is not possible to satisfactorily fill the metal powder with a high conduction resistance. On the other hand, if the average particle size of the solder powder is 30 to 60% of the average particle size of the metal powder (Sample No. 11 to 13), the solder powder with a small particle size will surely enter the gap between the metal powders. As a result, the gap between the conductive powders becomes small.
It can be sufficiently filled with IC and TAICPP, has a low viscosity, and can be well filled into the through holes. Also, the content of metal powder is more than 74% by mass, and the content of solder powder is 20% by mass.
When the amount is smaller (Sample No. 15), the solder powder is too small, so that it is difficult to satisfactorily connect the metal powders with each other by the solder powder, and the conduction resistance is increased. On the other hand, the metal powder content is
When the content of solder powder is less than 40 mass% and the content of solder powder is more than 55 mass% (Sample No. 19), the shape of the through conductor changes when the solder powder 4 melts due to the temperature above the melting point of the solder powder 4 being applied. It was easy to do and the conduction resistance was high. On the other hand, the metal powder content is 40-75 mass%, the solder powder content is 20-
If it is 55% by mass (Sample No. 16 to 18), the solder powder with a small particle size will surely enter the gaps between the metal powders and the conductive powder will be densely packed, and the solder powders that have entered the gaps between the metal powders. Thus, the metal powders were satisfactorily connected to each other, and the conduction resistance of the through conductor was lowered.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明の導体ペーストによれば、導体ペ
ーストが高分子分散材を0.05〜2重量%含有しているこ
とから、高分子分散剤が金属粉末および半田粉末へ吸着
して、これらをトリアリルイソシアヌレート中に良好に
分散させることができ、その結果、長期間使用しても粘
度変化がなく、充填性が低下することのない導体ペース
トとすることができる。
According to the conductor paste of the present invention, since the conductor paste contains 0.05 to 2% by weight of the polymer dispersant, the polymer dispersant is adsorbed on the metal powder and the solder powder, Can be satisfactorily dispersed in triallyl isocyanurate, and as a result, a conductor paste can be obtained in which the viscosity does not change even after long-term use and the filling property does not deteriorate.

【0047】また、本発明の導体ペーストによれば、半
田粉末の平均粒径を金属粉末の平均粒径の30〜60%とし
たことから、金属粉末および半田粉末の含有率が高くな
った場合においても、金属粉末間の隙間に粒径の小さな
半田粉末が確実に入り込んで金属粉末間の隙間が小さい
ものとなり、その小さな隙間を少ない量のトリアリルイ
ソシアヌレートおよびトリアリルイソシアヌレートプレ
ポリマーで十分に埋めることができ、その結果、粘度が
低く貫通孔へ良好に充填できる導体ペーストとすること
ができる。
Further, according to the conductor paste of the present invention, since the average particle size of the solder powder is set to 30 to 60% of the average particle size of the metal powder, when the content ratio of the metal powder and the solder powder becomes high. In this case, the solder powder having a small particle size surely enters the gaps between the metal powders to make the gaps between the metal powders small, and a small amount of triallyl isocyanurate and triallyl isocyanurate prepolymer is sufficient for the small gaps. It is possible to obtain a conductor paste which has a low viscosity and can be well filled in the through holes.

【0048】また、本発明の配線基板によれば、貫通孔
に充填した上記の導体ペーストを熱硬化することにより
貫通導体を形成したことから、金属粉末間の隙間に粒径
の小さな半田粉末が確実に入り込んで金属粉末や半田粉
末等の導電性粉末が密に充填されるとともに金属粉末間
の隙間に入り込んだ半田粉末により金属粉末同士が良好
に接続され、その結果、貫通導体の導通抵抗が低い配線
基板とすることができる。
Further, according to the wiring board of the present invention, since the through conductor is formed by thermosetting the above-mentioned conductor paste filled in the through hole, the solder powder having a small particle size is formed in the gap between the metal powders. The conductive powder such as the metal powder or the solder powder is tightly filled and the metal powder is satisfactorily connected by the solder powder entering the gap between the metal powders. As a result, the conduction resistance of the through conductor is reduced. It can be a low wiring board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の導体ペーストの金属粉末および半田粉
末の分散状態を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a dispersed state of a metal powder and a solder powder of a conductor paste of the present invention.

【図2】本発明の導体ペーストを用いた配線基板の実施
の形態の一例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a wiring board using the conductor paste of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・・・トリアリルイソシアヌレートとトリアリ
ルイソシアヌレートプレポリマーとの混合物 2・・・・・・高分子分散剤 3・・・・・・金属粉末 4・・・・・・半田粉末 5・・・・・・導体ペースト 6・・・・・・絶縁樹脂層 7・・・・・・配線導体 8・・・・・・貫通孔 9・・・・・・貫通導体
1 ··· Mixture of triallyl isocyanurate and triallyl isocyanurate prepolymer 2 ·· Polymer dispersant 3 ·· Metal powder 4 ·· Solder powder 5 ... Conductor paste 6 ... Insulating resin layer 7 ... Wiring conductor 8 ... Through hole 9 ... Through conductor

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 トリアリルイソシアヌレート5〜20質
量%と、トリアリルイソシアヌレートプレポリマー0.
25〜8質量%と、高分子分散剤0.05〜2質量%
と、金属粉末40〜75質量%と、半田粉末20〜55
質量%とを含有して成り、該半田粉末は、その平均粒径
が前記金属粉末の平均粒径の30〜60%であることを
特徴とする導体ペースト。
1. A triallyl isocyanurate prepolymer of 5 to 20 mass% and a triallyl isocyanurate prepolymer of 0.
25 to 8% by mass and a polymer dispersant 0.05 to 2% by mass
40 to 75% by mass of metal powder and 20 to 55 of solder powder
%, And the solder powder has an average particle diameter of 30 to 60% of the average particle diameter of the metal powder.
【請求項2】 耐熱繊維基材に熱硬化性樹脂を含浸させ
た絶縁樹脂層と金属箔から成る配線導体とを交互に複数
積層するとともに、前記絶縁樹脂層を挟んで上下に位置
する前記配線導体同士を、前記絶縁樹脂層に設けた貫通
孔に充填した請求項1記載の導体ペーストを熱硬化して
成る貫通導体により電気的に接続して成ることを特徴と
する配線基板。
2. A plurality of insulating resin layers in which a heat-resistant fiber base material is impregnated with a thermosetting resin and wiring conductors made of a metal foil are alternately laminated, and the wirings are vertically arranged with the insulating resin layer interposed therebetween. A wiring board, characterized in that the conductors are electrically connected by a through conductor formed by thermosetting the conductor paste according to claim 1 filled in a through hole provided in the insulating resin layer.
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