JP2003315757A - Integrated type liquid crystal display panel assembling apparatus and substrate stacking apparatus - Google Patents

Integrated type liquid crystal display panel assembling apparatus and substrate stacking apparatus

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JP2003315757A
JP2003315757A JP2002122465A JP2002122465A JP2003315757A JP 2003315757 A JP2003315757 A JP 2003315757A JP 2002122465 A JP2002122465 A JP 2002122465A JP 2002122465 A JP2002122465 A JP 2002122465A JP 2003315757 A JP2003315757 A JP 2003315757A
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康 野田
Seiichi Aoki
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To make it easy to introduce a manufacturing environment of high cleanness by saving the space of a manufacturing line and simplifying the manufacturing line in postprocessing of liquid crystal display panel manufacture. <P>SOLUTION: A lower substrate 91 is carried in by a conveyance system from a 1st substrate carry-in part 101 a seal forming module 1 forms a seal 10 on the lower substrate 91 along the outline of a display area, and a liquid crystal dispensing module 2 dispenses liquid crystal 20 inside the seal 10 of the lower substrate 91. An upper substrate 92 is carried in by the conveyance system from a 2nd substrate carry-in part 102, and a vacuum stacking module 3 stacks the upper substrate on the lower substrate 91 after the seal formation and liquid crystal dispensation in specified position relation with a specified gap. After the lower substrate 91 and upper substrate 92 are stuck together by setting the seal 10, the conveyance system carries them out to a panel carry- out part 103. In the conveyance system, two or more substrates 91 and 92 are not retained among the modules 1, 2, and 3. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願の発明は、液晶ディスプ
レイの製造に関するものであり、特に、後工程と呼ばれ
る液晶ディスプレイパネルの組立工程に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display manufacturing process, and more particularly to a liquid crystal display panel assembling process called a post process.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ディスプレイは、コンピュータの表
示部用を始めとして多くの用途に盛んに使用されてい
る。液晶ディスプレイは、液晶ディスプレイパネルをフ
レームに嵌め込み、液晶ディスプレイパネルの駆動回路
を内部に設けた構成である。液晶ディスプレイパネル
は、一対の液晶基板の間に液晶が封入された構造のもの
である。一対の液晶基板の内側面には、TFT(Thin Fi
lm Transistor)のような駆動素子が形成されている。駆
動素子によって液晶中に電界を与えると、液晶の分子配
列が変化して光の透過・遮断が制御され、文字や映像が
表示される。また、出射側の液晶基板の内側面にはカラ
ーフィルタが設けられる。
2. Description of the Related Art Liquid crystal displays are widely used in many applications including those for computer display units. The liquid crystal display has a configuration in which a liquid crystal display panel is fitted in a frame and a drive circuit for the liquid crystal display panel is provided inside. The liquid crystal display panel has a structure in which liquid crystal is sealed between a pair of liquid crystal substrates. TFTs (Thin Filt
A driving element such as an lm transistor) is formed. When an electric field is applied to the liquid crystal by the driving element, the molecular arrangement of the liquid crystal is changed to control the transmission and blocking of light, and characters and images are displayed. Further, a color filter is provided on the inner surface of the liquid crystal substrate on the emission side.

【0003】液晶ディスプレイは、多くの場合、液晶デ
ィスプレイパネルをパネル製造メーカーが製造し、それ
がノートパソコンや液晶ディスプレイの製造メーカーに
持ち込まれて製品に組み込まれる。液晶ディスプレイパ
ネルの製造工程は、おおまかには、前工程と後工程に分
けられる。前工程は、一対の液晶基板を別々に処理する
工程であり、TFTのような素子を形成したり、カラー
フィルタを形成したりする工程である。後工程は、一対
の液晶基板の間に液晶を封入した状態で一対の液晶基板
を貼り合わせる工程であり、最終的な組立工程である。
In the liquid crystal display, in many cases, a liquid crystal display panel is manufactured by a panel manufacturer, and it is brought into a notebook computer or liquid crystal display manufacturer to be incorporated in the product. The manufacturing process of a liquid crystal display panel is roughly divided into a pre-process and a post-process. The previous step is a step of separately processing a pair of liquid crystal substrates, and is a step of forming an element such as a TFT and a color filter. The post-process is a process of adhering the pair of liquid crystal substrates in a state where liquid crystal is sealed between the pair of liquid crystal substrates and is a final assembly process.

【0004】後工程において重要なものの一つに、アラ
イメントとギャップ出しがある。一対の液晶基板の互い
に対向する内側面には、前述したように駆動素子が形成
されている。従って、素子が正しく機能するよう、液晶
基板の面方向(以下、板面方向)の位置関係が所定のも
のになるようにして一対の液晶基板を重ね合わせること
が必要である。また、駆動素子が正しく動作し、液晶の
制御が正常に行われるようにするためには、一対の液晶
基板を所定の狭い間隔で重ね合わせることが必要であ
る。一対の液晶基板の板面方向の位置合わせは「アライ
メント」と呼ばれ、一対の液晶基板の間隔(以下、ギャ
ップ長)を所定のものにする位置合わせは「ギャップ出
し」と呼ばれる。
Alignment and gap formation are one of the important things in the subsequent process. The driving elements are formed on the inner surfaces of the pair of liquid crystal substrates, which face each other, as described above. Therefore, in order for the element to function properly, it is necessary to stack the pair of liquid crystal substrates so that the positional relationship in the plane direction of the liquid crystal substrates (hereinafter referred to as the plate plane direction) is predetermined. Further, in order for the drive element to operate properly and the liquid crystal to be controlled normally, it is necessary to stack a pair of liquid crystal substrates at a predetermined narrow interval. The alignment of the pair of liquid crystal substrates in the plate surface direction is called “alignment”, and the alignment of the pair of liquid crystal substrates with a predetermined distance (hereinafter, gap length) is called “gap alignment”.

【0005】また、後工程のやり方については、液晶の
封入の仕方により、注入式と滴下式に分けられる。注入
式では、まず一対の液晶基板のうちの一方について、そ
の内側面の表示領域の輪郭に沿って光硬化性又は熱硬化
性のシールを周状に形成する。シールの形成は完全な周
状ではなく、少し途切れた部分を設けておく。この状態
で、スペーサを介在させて他方の液晶基板を重ね合わ
せ、アライメントとギャップ出しを行う。そして、シー
ルを光又は熱により硬化させ、一対の液晶基板を貼り合
わせる。
Further, the method of the post-process is classified into an injection type and a dropping type depending on how the liquid crystal is sealed. In the injection method, first, on one of the pair of liquid crystal substrates, a photocurable or thermosetting seal is circumferentially formed along the contour of the display area on the inner surface thereof. The seal should not be formed in a perfect circle, but should be provided with a slight break. In this state, the other liquid crystal substrate is superposed with a spacer interposed, and alignment and gap formation are performed. Then, the seal is cured by light or heat to bond the pair of liquid crystal substrates.

【0006】このように貼り合わせた一対の液晶基板の
間の空間は、シールの途切れた部分以外では閉じた空間
となっている。そして、シールの途切れた部分(以下、
注入孔)から、内部に液晶を注入する。液晶を溜めた容
器と、貼り合わせた一対の液晶基板とを真空中に配置
し、真空中で注入孔を液晶中に浸ける。この状態で雰囲
気を大気圧に戻し、圧力差により一対の液晶基板の間に
液晶を注入する。その後、注入孔をシールで閉じる。
The space between the pair of liquid crystal substrates bonded together in this way is a closed space other than the part where the seal is interrupted. And the part where the seal is broken (hereinafter,
Liquid crystal is injected into the interior through the injection hole). A container storing liquid crystal and a pair of bonded liquid crystal substrates are placed in a vacuum, and an injection hole is immersed in the liquid crystal in the vacuum. In this state, the atmosphere is returned to atmospheric pressure, and the liquid crystal is injected between the pair of liquid crystal substrates due to the pressure difference. Then, the injection hole is closed with a seal.

【0007】滴下式の場合、一対の液晶基板の一方につ
いて同様に周状にシールを形成する。この際、途切れた
部分はなく完全な周状(無終端状)とする。そして、こ
の液晶基板を水平な姿勢に保ち、その表面に所定量の液
晶を滴下する。液晶は、周状に形成されたシールの内側
で広がる。その後、スペーサを介在させた状態で他方の
液晶基板を一方の液晶基板に重ね合わせ、アライメント
とギャップ出しを行う。そして、シールを硬化させる
と、一対の液晶基板の間への液晶の封入が完了する。
In the case of the dropping type, a seal is similarly formed in a circumferential shape on one of the pair of liquid crystal substrates. At this time, there is no discontinuity, and the shape is a perfect circumference (endless shape). Then, the liquid crystal substrate is kept in a horizontal posture, and a predetermined amount of liquid crystal is dropped on the surface thereof. The liquid crystal spreads inside the circumferentially formed seal. After that, the other liquid crystal substrate is superposed on the one liquid crystal substrate with the spacer interposed, and alignment and gap formation are performed. Then, when the seal is cured, the filling of the liquid crystal between the pair of liquid crystal substrates is completed.

【0008】上述した二つの方式のうち、従来は注入式
が多く採用されてきたが、液晶基板の大型化等を考慮す
ると、滴下式の方が優れていると考えられる。注入式の
場合、貼り合わせた一対の液晶基板を持ち上げて注入孔
を液晶に浸けなければならず、液晶基板が大型化すると
作業が困難になる。自動化する場合にも、機構的に大が
かりになり易い。また、注入式では、差圧による液晶の
注入に長い時間がかかり、生産性の点で問題がある。液
晶基板が大型化すると、この問題が顕著になる。さら
に、注入式では、差圧により液晶の注入を行うため、液
晶内に空気等が混入して液晶に気泡が生じやすい。気泡
が生じると、やはり表示不良等の原因になる。従って、
滴下式が多く採用されるようになってきている。
Of the two methods described above, the injection method has been widely used in the past, but the drop method is considered to be superior in view of the increase in size of the liquid crystal substrate. In the case of the injection type, it is necessary to lift a pair of bonded liquid crystal substrates to immerse the injection hole in the liquid crystal, and the work becomes difficult when the liquid crystal substrate becomes large. Even when it is automated, it tends to be mechanically large. Further, in the injection method, it takes a long time to inject the liquid crystal due to the differential pressure, and there is a problem in productivity. This problem becomes remarkable as the size of the liquid crystal substrate increases. Further, in the injection type, since the liquid crystal is injected by the differential pressure, air or the like is easily mixed in the liquid crystal and bubbles are easily generated in the liquid crystal. When air bubbles are generated, it also causes display defects. Therefore,
The drop method has been widely adopted.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上述した液晶ディスプ
レイパネルの後工程において、後工程に属する各工程即
ちシール形成工程、液晶滴下工程、貼り合わせ工程等
は、それぞれ別々の装置で行われている。そして、装置
間を、自動搬送車やコンベア等を利用して液晶基板を搬
送している。従って、後工程の製造ラインは、大規模で
複雑なものとなっている。
In the post-process of the above-mentioned liquid crystal display panel, the processes belonging to the post-processes, that is, the seal forming process, the liquid crystal dropping process, the laminating process and the like are performed by different devices. Then, the liquid crystal substrate is transported between the devices using an automatic transport vehicle, a conveyor, or the like. Therefore, the post-process production line is large-scale and complicated.

【0010】また、各装置は独立しており、各装置にお
ける処理時間も工程の内容に応じて異なっている。従っ
て、製造ラインは、各装置における処理時間の差異を吸
収するバッファ部を有する場合が多い。バッファ部は、
処理時間の短い装置と処理時間の長い装置との間に設け
られ、処理時間の短い装置から搬出された液晶基板を一
時的溜め込むものである。このようなバッファ部がある
ため、製造ラインはさらに大規模で複雑なものになって
いる。
Further, each device is independent, and the processing time in each device also differs depending on the content of the process. Therefore, the manufacturing line often has a buffer unit that absorbs a difference in processing time between the devices. The buffer section is
It is provided between a device having a short processing time and a device having a long processing time, and temporarily stores the liquid crystal substrate carried out from the device having a short processing time. Such a buffer section makes the production line even larger and more complex.

【0011】また、処理時間の違い等から、処理時間の
長い装置ではバッチ式の構成即ち複数の液晶基板を一括
して処理する構成が採られることもある。しかしなが
ら、バッチ式の場合、ある回の処理で万が一不具合が発
生すると、その回に処理した液晶基板がすべて使用不能
になってしまう恐れがあり、歩留まり低下の原因となり
易い。
Further, due to the difference in processing time and the like, an apparatus having a long processing time may have a batch type structure, that is, a structure in which a plurality of liquid crystal substrates are collectively processed. However, in the case of the batch method, if a problem occurs in a certain treatment, all the liquid crystal substrates treated in that treatment may become unusable, which easily causes a reduction in yield.

【0012】さらに、近年における液晶ディスプレイの
画質性能の向上や高解像度化等の要請から、後工程の製
造環境に対する配慮もより厳しくなる傾向にある。例え
ば、一対の液晶基板の間に液晶を封入した際、塵や埃等
のゴミが混入すると、液晶基板が傷つけられる結果、欠
陥品となる場合がある。特に、最近の液晶ディスプレイ
は、薄型化や動作の高速化のためギャップ長がかなり短
くなる傾向にあり、ほんの僅かなゴミの混入によっても
液晶基板の傷つき等が発生する恐れがある。
Further, in recent years, due to demands for improvement in image quality performance and high resolution of liquid crystal displays, there is a tendency that consideration for the manufacturing environment in the subsequent process becomes more severe. For example, when liquid crystal is sealed between a pair of liquid crystal substrates, if dust such as dust enters, the liquid crystal substrates may be damaged, resulting in defective products. Particularly, in recent liquid crystal displays, the gap length tends to be considerably short due to thinning and high-speed operation, and even a slight amount of dust may damage the liquid crystal substrate.

【0013】このような要請から、後工程の製造ライン
においても、クリーンルームを採用することが多くなっ
てきている。しかしながら、従来のように、製造ライン
が大規模で長くなり易いと、クリーンルームの導入に
は、ランニングコストも含め、莫大な投資が必要にな
る。このため、清浄度の低い安価な構成にしたり、特定
のエリアだけ清浄度の比較的高い構成にしたりと、クリ
ーンルームの採用も中途半端なものになっている面も見
られる。
Due to such a demand, a clean room is often used also in a manufacturing line of a post-process. However, if the production line is large and tends to be long as in the conventional case, a huge investment including running cost is required to introduce the clean room. For this reason, it can be seen that the adoption of a clean room is halfway, such as an inexpensive structure with low cleanliness or a structure with relatively high cleanliness in a specific area.

【0014】本願の発明は、このような従来の製造ライ
ンの課題を解決すべく成されたものであり、液晶ディス
プレイパネル製造の後工程において、製造ラインの省ス
ペース化や簡略化を可能にし、清浄度の高い製造環境の
導入を容易にすることで、高性能の液晶ディスプレイパ
ネルのより安価なコストの製造を可能にする顕著な技術
的意義を有するものである。
The invention of the present application has been made to solve the problems of the conventional manufacturing line, and enables space saving and simplification of the manufacturing line in the post-process of manufacturing a liquid crystal display panel. By facilitating the introduction of a highly clean manufacturing environment, it is possible to manufacture a high-performance liquid crystal display panel at a lower cost, which has a significant technical significance.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本願の請求項1記載の発明は、一対の液晶基板の間
に液晶を封入した構造の液晶ディスプレイパネルを組み
立てる装置であって、一対の液晶基板のうちの一方の液
晶基板の内側面上に表示領域の輪郭に沿ってシールを形
成するシール形成モジュールと、一対の液晶基板のうち
の一方又は他方の上に液晶を滴下する液晶滴下モジュー
ルと、シール形成及び液晶滴下の後、一対の液晶基板を
所定の位置関係及び間隔で真空中で重ね合わせる真空重
ね合わせモジュールとを備えた統合型であるという構成
を有する。また、上記課題を解決するため、請求項2記
載の発明は、前記請求項1の構成において、一対の液晶
基板のうちの一方を装置に搬入する第一基板搬入部と、
他方を装置に搬入する第二基板搬入部と、組み立てられ
た液晶ディスプレイパネルを装置から搬出するパネル搬
出部と、搬送系とを備えており、搬送系は、一方の基板
を、第一基板搬入部から、シール形成モジュール、液晶
滴下モジュール、真空重ね合わせモジュールの順に搬送
するとともに、他方の基板を、第二基板搬入部から真空
重ね合わせモジュールに搬送するか、又は、一方の基板
を、第一基板搬入部から、シール形成モジュール、真空
重ね合わせモジュールの順に搬送するとともに、他方の
基板を、第二基板搬入部から、液晶滴下モジュール、真
空重ね合わせモジュールの順に搬送するものであり、さ
らに、搬送系は、液晶ディスプレイパネルを真空重ね合
わせモジュールからパネル搬出部に搬出するものである
という構成を有する。また、上記課題を解決するため、
請求項3記載の発明は、前記請求項2の構成において、
前記搬送系は、前記各モジュール間で前記液晶基板を二
枚以上滞留させることなく搬送するものであるという構
成を有する。また、上記課題を解決するため、請求項4
記載の発明は、前記請求項2又は3の構成において、前
記搬送系は、前記液晶基板をアームの先端に一枚ずつ保
持して搬送することが可能な搬送ロボットから成るとい
う構成を有する。また、上記課題を解決するため、請求
項5記載の発明は、前記請求項1乃至4いずれかの構成
において、クリーンルームの壁に埋め込まれた状態で設
置されており、前記シール形成モジュール、前記液晶滴
下モジュール及び前記真空重ね合わせモジュールに対し
て、クリーンルームの外部側からメンテナンスを行うこ
とが可能になっているという構成を有する。また、上記
課題を解決するため、請求項6記載の発明は、前記請求
項1乃至5いずれかの構成において、前記真空重ね合わ
せモジュールで重ね合わせた一対の液晶基板についてシ
ールを硬化させる硬化モジュールを備えているという構
成を有する。また、上記課題を解決するため、請求項7
記載の発明は、前記請求項2の構成において、前記パネ
ル搬出部は、前記第一基板搬入部又は前記第二基板搬入
部が兼用されるものであるという構成を有する。また、
上記課題を解決するため、請求項8記載の発明は、一対
の基板を所定の位置関係及び間隔で重ね合わせる基板重
ね合わせ装置であって、一対の基板のうちの一方を装置
に搬入する第一基板搬入部と、他方を装置に搬入する第
二基板搬入部と、重ね合わされた一対の基板を装置から
搬出する搬出部とを備えており、前記搬出部は、前記第
一基板搬入部又は前記第二基板搬入部が兼用されるもの
であるという構成を有する。また、上記課題を解決する
ため、請求項9記載の発明は、一対の液晶基板の間に液
晶を封入した構造の液晶ディスプレイパネルを組み立て
る装置であって、一対の液晶基板のうちの一方の液晶基
板の内側面上に表示領域の輪郭に沿ってシールを形成す
るとともに、一対の液晶基板のうちの一方又は他方の上
に液晶を滴下する複合モジュールと、シール形成及び液
晶滴下の後、一対の液晶基板を所定の位置関係及び間隔
で真空中で重ね合わせる真空重ね合わせモジュールとを
備えた統合型であるという構成を有する。
In order to solve the above problems, the invention according to claim 1 of the present application is an apparatus for assembling a liquid crystal display panel having a structure in which liquid crystal is sealed between a pair of liquid crystal substrates. A seal forming module that forms a seal along the contour of the display area on the inner surface of one of the liquid crystal substrates, and a liquid crystal dropping device that drops liquid crystal onto one or the other of the pair of liquid crystal substrates. It has a configuration of an integrated type including a module and a vacuum superposition module that superposes a pair of liquid crystal substrates in a vacuum at a predetermined positional relationship and a predetermined interval after forming a seal and dropping a liquid crystal. Further, in order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 2 is the structure according to claim 1, wherein a first substrate carry-in section for carrying one of the pair of liquid crystal substrates into the device is provided,
The second substrate carry-in section that carries the other into the apparatus, the panel carry-out section that carries out the assembled liquid crystal display panel from the apparatus, and the carrier system, and the carrier system carries one substrate into the first substrate carry-in. From the section, the seal forming module, the liquid crystal dropping module, and the vacuum stacking module are carried in this order, and the other substrate is carried from the second substrate loading section to the vacuum stacking module, or one of the substrates is The seal forming module and the vacuum stacking module are carried in this order from the substrate carry-in section, and the other substrate is carried in the order of the liquid crystal dropping module and the vacuum stacking module from the second substrate carry-in section. The system has a configuration in which the liquid crystal display panel is carried out from the vacuum stacking module to the panel carrying-out section. . In addition, in order to solve the above problems,
According to a third aspect of the invention, in the configuration of the second aspect,
The transfer system has a configuration in which two or more liquid crystal substrates are transferred between the modules without being retained. Moreover, in order to solve the above-mentioned subject, Claim 4
According to the invention described in claim 2 or 3, the transport system comprises a transport robot capable of holding and transporting the liquid crystal substrates one by one at the tip of an arm. In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 5 is, in the configuration according to any one of claims 1 to 4, installed in a state of being embedded in a wall of a clean room. The dropping module and the vacuum stacking module can be maintained from the outside of the clean room. In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 6 provides a curing module according to any one of claims 1 to 5, which cures a seal for a pair of liquid crystal substrates stacked by the vacuum stacking module. It has a configuration of being equipped. In order to solve the above-mentioned subject, Claim 7
The described invention has a configuration in which, in the configuration of claim 2, the panel unloading unit is also used as the first substrate loading unit or the second substrate loading unit. Also,
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 8 is a substrate superposing apparatus for superposing a pair of substrates at a predetermined positional relationship and a predetermined interval, wherein one of the pair of substrates is carried into the apparatus. A substrate carry-in unit, a second substrate carry-in unit that carries the other into the device, and a carry-out unit that carries out a pair of superposed substrates from the device, the carry-out unit, the first substrate carry-in unit or the It has a configuration in which the second substrate loading unit is also used. In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 9 is an apparatus for assembling a liquid crystal display panel having a structure in which liquid crystal is sealed between a pair of liquid crystal substrates, wherein one of the pair of liquid crystal substrates is a liquid crystal. A seal is formed on the inner surface of the substrate along the contour of the display area, and a composite module for dropping liquid crystal onto one or the other of the pair of liquid crystal substrates and a pair of liquid crystal substrates after the seal formation and the liquid crystal dropping. It has a configuration of an integrated type including a vacuum stacking module that stacks liquid crystal substrates in a vacuum at a predetermined positional relationship and a predetermined interval.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態(以
下、実施形態)について説明する。図1及び図2は、本
願発明の第一の実施形態の統合型液晶ディスプレイパネ
ル組立装置の概略を示す図であり、図1はその斜視図、
図2はその平面図である。図1及び図2に示す装置の大
きな特徴点は、後工程の主要な工程をすべて一つの装置
で行えるようになっている点である。即ち、図1及び図
2に示す装置は、シール形成工程、液晶滴下工程、基板
貼り合わせ工程を行えるようになっている。このよう
に、液晶ディスプレイパネルの組立工程の主要な工程を
一つの装置ですべて行える装置は、今のところ存在して
おらず、従来の装置と区別するため、「統合型液晶ディ
スプレイパネル組立装置」と呼ぶ。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments (hereinafter, embodiments) of the present invention will be described below. 1 and 2 are views showing an outline of an integrated liquid crystal display panel assembling apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a perspective view thereof.
FIG. 2 is a plan view thereof. A major feature of the apparatus shown in FIGS. 1 and 2 is that all the main steps of the post-steps can be performed by one apparatus. That is, the apparatus shown in FIGS. 1 and 2 can perform a seal forming step, a liquid crystal dropping step, and a substrate bonding step. As described above, there is no device that can perform all the main steps of assembling the liquid crystal display panel with one device so far, and in order to distinguish it from the conventional device, the "integrated liquid crystal display panel assembling device" is used. Call.

【0017】より具体的に説明すると、本実施形態の装
置は、一対の液晶基板91,92のうちの一方の液晶基
板91の素子面上に表示領域の輪郭に沿ってシールを形
成するシール形成モジュール1と、シールが形成された
一方の液晶基板91の上に所定量の液晶を滴下する液晶
滴下モジュール2と、シール形成及び液晶滴下がされた
一方の液晶基板91の上に他方の液晶基板92を重ね合
わせる真空重ね合わせモジュール3とを備えている。ま
た、装置は、一方の液晶基板91を装置に搬入する第一
基板搬入部101と、他方の液晶基板92をを装置に搬
入する第二基板搬入部102と、組み立てられた液晶デ
ィスプレイパネル93を装置から搬出するパネル搬出部
103とを備えている。また、装置は、各液晶基板9
1,92や組み立てられた液晶ディスプレイパネル93
を搬送する搬送系を備えている。
More specifically, in the device of this embodiment, a seal formation for forming a seal on the element surface of one of the pair of liquid crystal substrates 91, 92 along the contour of the display area. Module 1, a liquid crystal dropping module 2 for dropping a predetermined amount of liquid crystal on one liquid crystal substrate 91 having a seal formed thereon, and one liquid crystal substrate 91 having one seal formed and liquid crystal dropped on the other liquid crystal substrate 91. And a vacuum stacking module 3 for stacking 92. The apparatus also includes a first substrate loading section 101 for loading one liquid crystal board 91 into the apparatus, a second substrate loading section 102 for loading the other liquid crystal board 92 into the apparatus, and an assembled liquid crystal display panel 93. And a panel unloading unit 103 for unloading from the apparatus. In addition, the device is provided with each liquid crystal substrate 9
1, 92 and assembled liquid crystal display panel 93
Is equipped with a transport system for transporting.

【0018】図2に示すように、装置は、クリーンルー
ムの壁110に埋め込まれた状態で設置されている。具
体的には、第一第二基板搬入部101,102及びパネ
ル搬出部103の部分が壁110に埋め込まれている。
また、シール形成モジュール1、液晶滴下モジュール2
及び真空重ね合わせモジュール3、搬送系等は、装置の
外壁100内に設けられている。そして、シール形成モ
ジュール1、液晶滴下モジュール2及び真空重ね合わせ
モジュール3等に対して、クリーンルームの外部側から
メンテナンス作業が行えるようになっている。具体的に
は、作業者は、シール形成モジュール1、液晶滴下モジ
ュール2、真空重ね合わせモジュール3の背後側(壁面
110とは反対側)に立ってメンテナンス作業を行うよ
うになっている。尚、装置の外壁100内をクリーンル
ーム内と同等の清浄度としたり、必要な所にクリーンベ
ンチ等を設けたりすることもある。
As shown in FIG. 2, the apparatus is installed so as to be embedded in the wall 110 of the clean room. Specifically, the first and second substrate loading units 101 and 102 and the panel unloading unit 103 are embedded in the wall 110.
Also, the seal forming module 1 and the liquid crystal dropping module 2
The vacuum stacking module 3, the transfer system, etc. are provided in the outer wall 100 of the apparatus. Further, maintenance work can be performed on the seal forming module 1, the liquid crystal dropping module 2, the vacuum stacking module 3 and the like from the outside of the clean room. Specifically, the worker stands up behind the seal forming module 1, the liquid crystal dropping module 2, and the vacuum stacking module 3 (on the side opposite to the wall surface 110) to perform maintenance work. In addition, the inside of the outer wall 100 of the apparatus may be made as clean as the inside of a clean room, or a clean bench or the like may be provided where necessary.

【0019】また、図2に示すように、本実施形態の装
置は、必要なモジュールを追加して設置するための予備
のモジュール設置部130を有している。モジュール設
置部130は、搬送系による搬送が可能な位置に設けら
れており、主制御部からの制御信号ラインのポートや、
クリーンエア等のユーティリティの供給部等が標準化さ
れて設けられている。本実施形態では、重ね合わせの
際、一方の液晶基板91が下側になり、他方の液晶基板
92が上側になる。従って、以下、前者91を下側基板
と呼び、後者92を上側基板と呼ぶ。
Further, as shown in FIG. 2, the apparatus of this embodiment has a spare module installation section 130 for additionally installing required modules. The module installation unit 130 is provided at a position where it can be transferred by the transfer system, and has a port for a control signal line from the main control unit,
A supply section for utilities such as clean air is standardized. In the present embodiment, one liquid crystal substrate 91 is on the lower side and the other liquid crystal substrate 92 is on the upper side during superposition. Therefore, hereinafter, the former 91 is referred to as a lower substrate and the latter 92 is referred to as an upper substrate.

【0020】図3は、図1及び図2に示す装置の第一基
板搬入部101、第二基板搬入部102及びパネル搬出
部103の正面概略図である。図2に示すように、装置
は、全体に横に長い長方形のスペースを占有するように
なっている。第一基板搬入部101、第二基板搬入部1
02及びパネル搬出部103は、図2に示すように、装
置の手前側の辺の左端の部分に並べて配置されている。
FIG. 3 is a schematic front view of the first substrate loading section 101, the second substrate loading section 102 and the panel unloading section 103 of the apparatus shown in FIGS. As shown in FIG. 2, the device occupies a generally horizontally long rectangular space. First substrate loading unit 101, second substrate loading unit 1
02 and the panel unloading unit 103 are arranged side by side at the left end of the front side of the apparatus, as shown in FIG.

【0021】第一基板搬入部101、第二基板搬入部1
02及びパネル搬出部103は、同様の構成である。一
例として、第一基板搬入部101の構成について説明す
る。第一基板搬入部101は、複数の下側基板91を所
定間隔をおきながら上下に重ね合わせて収容する構成と
なっている。第一基板搬入部101は、左右に設けられ
た一対の側板104と、各々の側板104の向かい合う
面に設けた凸部105とから成っている。凸部105
は、側板104の幅方向に長く、上下に所定間隔をおい
て複数設けられている。下側基板91は、同じ高さにあ
る一対の凸部105に両端が載った状態で収容されるよ
うになっている。第二基板搬入部102及びパネル搬出
部103も基本的に同様の構成である。
First substrate loading section 101, second substrate loading section 1
02 and the panel carry-out section 103 have the same configuration. As an example, the configuration of the first substrate loading unit 101 will be described. The 1st board | substrate carrying-in part 101 has a structure which accommodates the several lower board | substrates 91 by piled up and down at predetermined intervals. The first substrate loading section 101 is composed of a pair of side plates 104 provided on the left and right sides, and a convex section 105 provided on the facing surface of each side plate 104. Convex portion 105
Are long in the width direction of the side plate 104, and are provided at predetermined intervals in the vertical direction. The lower substrate 91 is accommodated in a state in which both ends are mounted on a pair of convex portions 105 at the same height. The second substrate loading unit 102 and the panel unloading unit 103 have basically the same configuration.

【0022】図4は、図1及び図2に示す装置の搬送系
の構成を示す斜視概略図である。搬送系は、下側基板9
1、上側基板92又は液晶ディスプレイパネル93を保
持して搬送する搬送ロボット121と、搬送ロボット1
21を全体に直線移動させるロボット移動機構122と
から主に構成されている。また、搬送系を含む装置全体
を制御する不図示の主制御部が設けられている。
FIG. 4 is a schematic perspective view showing the structure of the transport system of the apparatus shown in FIGS. The transport system is the lower substrate 9
1, the transfer robot 121 that holds and transfers the upper substrate 92 or the liquid crystal display panel 93, and the transfer robot 1
It is mainly composed of a robot moving mechanism 122 for linearly moving 21 as a whole. In addition, a main control unit (not shown) that controls the entire apparatus including the transport system is provided.

【0023】搬送ロボット121は、下側基板91、上
側基板92又は液晶ディスプレイパネル93を支持する
フォーク123と、フォーク123を先端に固定した多
関節型のアーム124と、アーム124を駆動する駆動
機構を内部に納めたロボット本体125とから主に構成
されている。搬送ロボット121は、アーム124の伸
縮、垂直な回転軸の周りの回転及び垂直方向の移動(上
下動)を行って、フォーク123上の下側基板91、上
側基板92又は液晶ディスプレイパネル93を所定の位
置に搬送するようになっている。搬送ロボット121
は、フォーク123を、水平な面内で直交する二つの方
向(XY方向)、垂直方向(Z方向)、搬送ロボット1
21の垂直な軸の周りの回転方向(θ方向)に移動させ
る動作の他、フォーク123を水平な軸の周りに回転さ
せてフォーク123上の下側基板91、上側基板92又
は液晶ディスプレイパネル93の上下を逆にする動作も
行えるようになっている。
The transfer robot 121 includes a fork 123 for supporting the lower substrate 91, the upper substrate 92 or the liquid crystal display panel 93, an articulated arm 124 having the fork 123 fixed at its tip, and a drive mechanism for driving the arm 124. It is mainly composed of a robot main body 125 in which is stored. The transfer robot 121 expands and contracts the arm 124, rotates about a vertical rotation axis, and vertically moves (vertical movement) to set the lower substrate 91, the upper substrate 92, or the liquid crystal display panel 93 on the fork 123 in a predetermined manner. It is designed to be transported to the position. Transport robot 121
Means the fork 123 in two directions (XY directions) orthogonal to each other in a horizontal plane, a vertical direction (Z direction), and the transfer robot 1.
In addition to the operation of moving the fork 123 in the rotation direction around the vertical axis (θ direction), the fork 123 is rotated around the horizontal axis to lower the lower substrate 91, the upper substrate 92, or the liquid crystal display panel 93 on the fork 123. You can also reverse the upside down.

【0024】ロボット移動機構122は、搬送ロボット
121の動作範囲を越える搬送を行う際に使用されるも
のである。ロボット移動機構122は、シール形成モジ
ュール1、液晶滴下モジュール2及び真空重ね合わせモ
ジュール3が並ぶ方向(以下、並設方向)に搬送ロボッ
ト121を移動させるものであって、並設方向に延びる
一対のリニアガイド126と、ボールねじとサーボモー
タを組み合わせたリニア駆動源127等から構成されて
いる。不図示の主制御部は、本実施形態では、装置の各
部の制御も行うものである。主制御部は、各モジュール
における処理の進行状況に応じて、搬送ロボット121
の動作を最適に制御するようになっている。
The robot moving mechanism 122 is used when carrying the robot beyond the operating range of the transport robot 121. The robot moving mechanism 122 moves the transfer robot 121 in a direction in which the seal forming module 1, the liquid crystal dropping module 2, and the vacuum superposition module 3 are arranged (hereinafter, a juxtaposed direction). It is composed of a linear guide 126, a linear drive source 127 in which a ball screw and a servo motor are combined, and the like. In the present embodiment, the main control unit (not shown) also controls each unit of the apparatus. The main control unit controls the transfer robot 121 according to the progress of processing in each module.
Is designed to optimally control the operation of.

【0025】図5は、図1及び図2に示すシール形成モ
ジュール1の概略構成を示す斜視図である。図5に示す
ように、シール形成モジュール1は、下側基板91が載
るステージ11と、ステージ11を駆動させるステージ
駆動機構12と、シール10を吐出するシールディスペ
ンサー13と、シールディスペンサー13にシール10
を供給するシール供給系14と、ステージ11に対する
シールディスペンサー13の位置(高さ)を調節するデ
ィスペンサー位置調節機構15とから主に構成されてい
る。
FIG. 5 is a perspective view showing a schematic structure of the seal forming module 1 shown in FIGS. 1 and 2. As shown in FIG. 5, the seal forming module 1 includes a stage 11 on which the lower substrate 91 is placed, a stage drive mechanism 12 for driving the stage 11, a seal dispenser 13 for discharging the seal 10, and a seal dispenser 13 for the seal 10.
And a dispenser position adjusting mechanism 15 for adjusting the position (height) of the seal dispenser 13 with respect to the stage 11.

【0026】ステージ11は、上面は水平な姿勢であ
り、その上面に下側基板91が載置されるようになって
いる。ステージ11の上面には、不図示の真空吸着孔が
設けられており、下側基板91はステージ上の所定位置
で真空吸着されるようになっている。また、ステージに
は、下側基板91の受け渡しのための不図示のリフトピ
ンが設けられている。ステージ11を垂直に貫くように
して不図示のピン貫通孔が設けられており、ピン貫通孔
に垂直な姿勢でピンが挿通されている。リフトピンは、
下側基板91を各々角の位置で支持できるよう四つ設け
られている。リフトピンの下端は、水平な姿勢の不図示
のピンベース板に固定されており、ベース板には不図示
のピン昇降機構が設けられている。尚、ピン貫通孔を真
空吸着孔に兼用する場合もある。具体的には、ピン貫通
孔に横穴を設け、そこから真空吸引するようにする。ピ
ン貫通孔のステージ11とは反対側の端部は、気密封止
をしておく。
The stage 11 has a horizontal upper surface, and the lower substrate 91 is placed on the upper surface. A vacuum suction hole (not shown) is provided on the upper surface of the stage 11, and the lower substrate 91 is vacuum suctioned at a predetermined position on the stage. Further, the stage is provided with lift pins (not shown) for delivering the lower substrate 91. A pin through hole (not shown) is provided so as to vertically penetrate the stage 11, and the pin is inserted in a posture perpendicular to the pin through hole. Lift pins
Four lower substrates 91 are provided so that they can be supported at respective corner positions. The lower ends of the lift pins are fixed to a horizontal pin base plate (not shown), and the base plate is provided with a pin lifting mechanism (not shown). The pin through hole may also serve as the vacuum suction hole. Specifically, a lateral hole is provided in the pin through hole, and vacuum suction is performed from there. The end of the pin through hole opposite to the stage 11 is hermetically sealed.

【0027】ステージ駆動機構12は、ステージ11を
水平な面内の二つの直交する方向(X方向及びY方向)
にステージ11を駆動するようになっている。X方向及
びY方向は、所定位置に載置された下側基板91の各辺
の方向に一致している。ステージ駆動機構12は、サー
ボモータを使用したものであって、ステージ11をX方
向又はY方向に変位させながら所定の位置を保持できる
よう構成されたものである。このような機構は、各社か
ら容易に入手できるので、詳細な説明は省略する。
The stage driving mechanism 12 is arranged so that the stage 11 has two horizontal directions (X and Y directions) orthogonal to each other.
The stage 11 is driven. The X direction and the Y direction match the direction of each side of the lower substrate 91 placed at a predetermined position. The stage drive mechanism 12 uses a servo motor, and is configured to hold a predetermined position while displacing the stage 11 in the X direction or the Y direction. Since such a mechanism can be easily obtained from each company, detailed description thereof will be omitted.

【0028】シール10としては、本実施形態では、光
硬化性及び熱硬化性の双方を有する樹脂が使用されてい
る。シール10は、硬化前は、スラリーのようなある程
度粘性のある液状である。このようなシール10には、
例えば、協立化学産業株式会社の「ワールドロックN
o.717」などが使用できる。
As the seal 10, in the present embodiment, a resin having both photo-curing property and thermosetting property is used. Before curing, the seal 10 is a liquid having a certain degree of viscosity such as slurry. Such a seal 10 includes
For example, Kyoritsu Chemical Industry Co., Ltd. “World Rock N
No. 717 "can be used.

【0029】シールディスペンサー13は、未硬化のシ
ール10を内部に溜めたシリンダーであり、先端の吐出
口を下方に向けた姿勢で、不図示のディスペンサー保持
具によって保持されている。ディスペンサー位置調節機
構15は、シールディスペンサー保持具を上下に変位さ
せながらシールディスペンサー13の高さ方向の位置を
調節するようになっている。ディスペンサー位置調節機
構15は、サーボモータとボールねじを組み合わせた直
線移動機構によって構成される。シール供給系14は、
不図示のシール溜め容器とシールディスペンサー13と
をつなぐシール供給チューブと、シール供給チューブを
介してシールを供給する不図示の供給ポンプ等から構成
されている。
The seal dispenser 13 is a cylinder in which the uncured seal 10 is stored, and is held by a dispenser holder (not shown) in a posture with the discharge port at the tip facing downward. The dispenser position adjusting mechanism 15 adjusts the position of the seal dispenser 13 in the height direction while vertically displacing the seal dispenser holder. The dispenser position adjustment mechanism 15 is configured by a linear movement mechanism that combines a servo motor and a ball screw. The seal supply system 14 is
It is composed of a seal supply tube that connects the seal reservoir (not shown) and the seal dispenser 13, and a supply pump (not shown) that supplies a seal through the seal supply tube.

【0030】上記構成に係るシール形成モジュール1の
動作について、以下に説明する。搬送ロボット121
は、下側基板91を保持してステージ11の上方の所定
位置に位置させる。所定位置とは、ステージ11の中心
軸上に下側基板91の中心が位置する位置である。下側
基板91は、各辺がX方向又はY方向に沿った姿勢とさ
れる。ピン昇降機構は、リフトピンがステージ11から
突出した上限位置になるよう予め動作している。
The operation of the seal forming module 1 having the above structure will be described below. Transport robot 121
Holds the lower substrate 91 and positions it at a predetermined position above the stage 11. The predetermined position is a position where the center of the lower substrate 91 is located on the central axis of the stage 11. The lower substrate 91 has a posture in which each side is along the X direction or the Y direction. The pin elevating mechanism has been operated in advance so that the lift pin is at the upper limit position where it projects from the stage 11.

【0031】この状態で、搬送ロボット121は、フォ
ーク123を下降させて下側基板91を各リフトピン上
に載せる。そして、フォーク123を、下側基板91が
下降しても接触しない位置まで後退させる。そして、ピ
ン昇降機構は、各リフトピンを同時に下降させ、上端が
ステージ11の上面よりも下側の高さになるようにす
る。この下降の過程で、下側基板91はステージ11上
に載置される。その後、真空吸着機構が動作して下側基
板91がステージ11上に真空吸着される。
In this state, the transfer robot 121 lowers the fork 123 and places the lower substrate 91 on each lift pin. Then, the fork 123 is retracted to a position where it does not contact even if the lower substrate 91 descends. Then, the pin elevating mechanism lowers the lift pins at the same time so that the upper end is lower than the upper surface of the stage 11. In this descending process, the lower substrate 91 is placed on the stage 11. Then, the vacuum suction mechanism operates and the lower substrate 91 is vacuum-sucked on the stage 11.

【0032】次に、ステージ駆動機構12が動作し、ス
テージ11を所定の原点位置に位置させる。また、ディ
スペンサー位置調節機構15が動作して、シールディス
ペンサー13を所定の高さに位置させる。この状態で、
シール供給系14の供給ポンプが動作し、シール10が
シールディスペンサー13から吐出される。吐出された
シール10は、下側基板91上に盛られる。この際、ス
テージ駆動機構12が動作し、ステージ11をX方向又
はY方向に移動させる。シールディスペンサー13から
のシール10の吐出を継続しながら、ステージ駆動機構
12が、ステージ11の中心が方形の軌跡を描くように
移動させると、シール10が下側基板91上に方形の輪
郭を成すように形成される。ステージ駆動機構12は、
シール10が下側基板91の縁から所定の距離だけ内側
の位置に形成されるよう、X方向及びY方向にステージ
11を駆動する。
Next, the stage drive mechanism 12 operates to move the stage 11 to a predetermined origin position. Further, the dispenser position adjusting mechanism 15 operates to position the seal dispenser 13 at a predetermined height. In this state,
The supply pump of the seal supply system 14 operates and the seal 10 is discharged from the seal dispenser 13. The ejected seal 10 is placed on the lower substrate 91. At this time, the stage drive mechanism 12 operates to move the stage 11 in the X direction or the Y direction. While the discharge of the seal 10 from the seal dispenser 13 is continued, the stage drive mechanism 12 moves the center of the stage 11 so as to draw a square trajectory, and the seal 10 forms a square contour on the lower substrate 91. Is formed as. The stage drive mechanism 12 is
The stage 11 is driven in the X direction and the Y direction so that the seal 10 is formed at a position inside the edge of the lower substrate 91 by a predetermined distance.

【0033】このようにして方形の周状にシール10を
形成した後、供給ポンプを止める。その後、真空吸着を
解除した後、再びピン昇降機構を動作させて各リフトピ
ンを上限位置に位置させる。この結果、下側基板91は
ステージ11から離れる。その後、搬送ロボット121
は、フォーク123を下側基板91の下方に進入させた
後、上昇させ、下側基板91を受け取ってシール形成モ
ジュール1から取り出す。尚、上記実施形態の構成の
他、ステージ11を静止させておき、シールディスペン
サー13をXY方向に移動させながらシール10による
描画を行う場合もある。
After the seal 10 is formed in the rectangular shape in this manner, the supply pump is stopped. Then, after the vacuum suction is released, the pin lifting mechanism is operated again to position each lift pin at the upper limit position. As a result, the lower substrate 91 separates from the stage 11. Then, the transfer robot 121
After making the fork 123 enter below the lower substrate 91, the fork 123 is raised and the lower substrate 91 is received and taken out from the seal forming module 1. In addition to the configuration of the above-described embodiment, the stage 11 may be stationary and the seal dispenser 13 may be moved in the XY directions to perform drawing with the seal 10.

【0034】次に、液晶滴下モジュール2について説明
する。図6は、図1及び図2に示す液晶滴下モジュール
2の概略構成を示す斜視図である。図6に示すように、
液晶滴下モジュール2は、下側基板91が載るステージ
21と、ステージ21を駆動させるステージ駆動機構2
2と、液晶20を放出して滴下する液晶ディスペンサー
23と、液晶ディスペンサー23に液晶20を供給する
液晶供給系24と、ステージ21に対する液晶ディスペ
ンサー23の位置(高さ)を調節するディスペンサー位
置調節機構25とから主に構成されている。
Next, the liquid crystal dropping module 2 will be described. FIG. 6 is a perspective view showing a schematic configuration of the liquid crystal dropping module 2 shown in FIGS. 1 and 2. As shown in FIG.
The liquid crystal dropping module 2 includes a stage 21 on which the lower substrate 91 is placed and a stage drive mechanism 2 for driving the stage 21.
2, a liquid crystal dispenser 23 for discharging and dropping the liquid crystal 20, a liquid crystal supply system 24 for supplying the liquid crystal 20 to the liquid crystal dispenser 23, and a dispenser position adjusting mechanism for adjusting the position (height) of the liquid crystal dispenser 23 with respect to the stage 21. 25 and is mainly configured.

【0035】ステージ21及びステージ駆動機構22
は、シール形成モジュール1と同様の構成なので、説明
は省略する。液晶ディスペンサー23は、液晶20が貯
められているとともに放出孔を有する容器と、容器内で
液晶20を加圧して液晶を放出孔から滴下させるピスト
ン棒等から構成されている。液晶ディスペンサー23に
は、不図示の液晶溜めから液晶供給系24により液晶2
0が供給される。
Stage 21 and stage drive mechanism 22
Has the same configuration as that of the seal forming module 1, and the description thereof will be omitted. The liquid crystal dispenser 23 is composed of a container in which the liquid crystal 20 is stored and has a discharge hole, a piston rod which pressurizes the liquid crystal 20 in the container to drop the liquid crystal from the discharge hole, and the like. In the liquid crystal dispenser 23, the liquid crystal 2 is supplied from a liquid crystal reservoir (not shown) by a liquid crystal supply system 24.
0 is supplied.

【0036】上記構成に係る液晶滴下モジュール2の動
作について、以下に説明する。搬送ロボット121は、
シール形成モジュール1から取り出した下側基板91を
液晶滴下モジュール2に搬送し、ステージ21の上方の
所定位置に位置させる。所定位置とは、同様に、ステー
ジ21の中心軸上に下側基板91の中心が位置する位置
である。下側基板91は、同様に不図示のリフトピンに
よりステージ21に受け渡され、ステージ21上に真空
吸着される。
The operation of the liquid crystal dropping module 2 having the above structure will be described below. The transfer robot 121
The lower substrate 91 taken out from the seal forming module 1 is conveyed to the liquid crystal dropping module 2 and is positioned at a predetermined position above the stage 21. Similarly, the predetermined position is a position where the center of the lower substrate 91 is located on the central axis of the stage 21. Similarly, the lower substrate 91 is transferred to the stage 21 by lift pins (not shown) and is vacuum-adsorbed on the stage 21.

【0037】ステージ駆動機構22がステージ21を所
定位置に位置させるとともに、ディスペンサー位置調節
機構25が動作して、液晶ディスペンサー23を所定の
高さに位置させる。この状態で、液晶ディスペンサー2
3が動作し、液晶20が所定量滴下される。次に、ステ
ージ駆動機構22が動作し、ステージ21をX方向及び
又はY方向に所定距離移動させ、別の所定位置にステー
ジ21を位置させる。その後、同様に、液晶ディスペン
サー23を動作させ、液晶20を所定量滴下する。これ
を繰り返し、ステージ21を逐次移動させながら、下側
基板91上の複数の所定箇所に液晶20を滴下する。複
数の所定箇所は、均等間隔の箇所であり、下側基板91
上に均等に液晶20が滴下される。滴下された液晶20
は、粘性はあるものの、下側基板91上で均一に拡が
る。
The stage driving mechanism 22 positions the stage 21 at a predetermined position, and the dispenser position adjusting mechanism 25 operates to position the liquid crystal dispenser 23 at a predetermined height. In this state, the liquid crystal dispenser 2
3 operates, and the liquid crystal 20 is dropped by a predetermined amount. Next, the stage drive mechanism 22 operates to move the stage 21 in the X direction and / or the Y direction by a predetermined distance and position the stage 21 at another predetermined position. After that, similarly, the liquid crystal dispenser 23 is operated to drop a predetermined amount of the liquid crystal 20. By repeating this, the liquid crystal 20 is dropped onto a plurality of predetermined positions on the lower substrate 91 while the stage 21 is sequentially moved. The plurality of predetermined locations are locations at equal intervals, and the lower substrate 91
The liquid crystal 20 is evenly dropped on the top. Dropped liquid crystal 20
Has a viscosity, but spreads uniformly on the lower substrate 91.

【0038】このようにして所定量の液晶20を滴下し
た後、真空吸着を解除しその後、リフトピンにより下側
基板91を搬送ロボット121に渡す。搬送ロボット1
21は、下側基板91を液晶滴下モジュール2から取り
出す。尚、ステージ21は静止させ、液晶ディスペンサ
ー23をXY方向に逐次移動させながら液晶を滴下させ
る場合もある。
After dropping a predetermined amount of the liquid crystal 20 as described above, the vacuum suction is released, and then the lower substrate 91 is transferred to the transfer robot 121 by lift pins. Transport robot 1
21 takes out the lower substrate 91 from the liquid crystal dropping module 2. The stage 21 may be stationary and the liquid crystal dispenser 23 may be sequentially moved in the XY directions to drop the liquid crystal.

【0039】次に、真空重ね合わせモジュール3につい
て説明する。図7は、真空重ね合わせモジュール3の概
略構成を示す正面断面図である。本実施形態の大きな特
徴点の一つは、真空重ね合わせモジュール3が、真空中
で下側基板91と上側基板92とを重ね合わせてギャッ
プ出しとアライメントとを行うものである点である。本
実施形態では、一対の液晶基板91,92を真空雰囲気
に配置するための真空容器が、一対の液晶基板91,9
2を保持する一対の基板保持具31,32によって構成
されている。
Next, the vacuum stacking module 3 will be described. FIG. 7 is a front sectional view showing a schematic configuration of the vacuum stacking module 3. One of the major features of this embodiment is that the vacuum superposition module 3 superposes the lower substrate 91 and the upper substrate 92 in vacuum to perform gap formation and alignment. In the present embodiment, the vacuum container for arranging the pair of liquid crystal substrates 91, 92 in a vacuum atmosphere is a pair of liquid crystal substrates 91, 9
It is composed of a pair of substrate holders 31 and 32 for holding 2.

【0040】具体的に説明すると、一対の基板保持具3
1,32は、図7に示すように、水平な姿勢で下側基板
91と上側基板92とを保持するようになっている。一
対の基板保持具31,32のうち、下側基板91を保持
する基板保持具1を「下側基板保持具」と呼び、上側基
板92を保持する基板保持具2を「上側基板保持具」と
呼ぶ。上側基板保持具32は、図7に示すように、下面
に凹部が形成されている保持具本体321と、保持具本
体321の凹部の空間を仕切るように設けられた隔膜3
22と、隔膜322の下面に固定された保持ヘッド32
3とから主に構成されている。
More specifically, the pair of substrate holders 3
As shown in FIG. 7, the reference numerals 1 and 32 hold the lower substrate 91 and the upper substrate 92 in a horizontal posture. Of the pair of substrate holders 31 and 32, the substrate holder 1 that holds the lower substrate 91 is called a “lower substrate holder”, and the substrate holder 2 that holds the upper substrate 92 is an “upper substrate holder”. Call. As shown in FIG. 7, the upper substrate holder 32 has a holder main body 321 having a recess formed on the lower surface thereof, and a diaphragm 3 provided so as to partition the space of the recess of the holder main body 321.
22 and a holding head 32 fixed to the lower surface of the diaphragm 322.
It is mainly composed of 3 and 3.

【0041】保持具本体321は、剛性の高いジュラル
ミンやステンレス等の材料で形成されている。場合によ
っては、充分な剛性を備えつつ軽量であるアルミニウム
が保持具本体321の材料として選ばれることもある。
隔膜322は、後述する差圧印加機構62が印加する差
圧により上側基板92を押圧するものである。保持ヘッ
ド323は、上側基板92に接触して上側基板92を直
接的に保持する部材である。保持ヘッド323は、上側
基板92を大気中では真空吸着し真空中では静電吸着し
て保持するようになっている。
The holder main body 321 is made of a material having high rigidity such as duralumin or stainless steel. In some cases, aluminum, which has sufficient rigidity and is lightweight, may be selected as the material of the holder main body 321.
The diaphragm 322 presses the upper substrate 92 by the differential pressure applied by the differential pressure applying mechanism 62 described later. The holding head 323 is a member that contacts the upper substrate 92 and directly holds the upper substrate 92. The holding head 323 holds the upper substrate 92 by vacuum suction in the atmosphere and electrostatic suction in the vacuum.

【0042】静電吸着機構は、保持ヘッド323内に設
けられた一対の吸着電極(不図示)に、大きさが同じで
極性が互いに異なるもしくは極性が同一の直流電圧を不
図示の吸着電源により印加する構成である。保持ヘッド
323は、銅のような金属製の部材の表面にポリイミド
樹脂のような誘電体で被覆された構成となっている。吸
着電源が動作して一対の吸着電極に極性の異なる直流電
圧が印加されると、保持ヘッド323の誘電体被覆層に
誘電分極が生じて下面に静電気が誘起される。この静電
気により上側基板92が静電吸着される。尚、保持ヘッ
ド323としては、全体がアルミナ等の誘電体で形成さ
れたものを用いることもある。
In the electrostatic attraction mechanism, a pair of attraction electrodes (not shown) provided in the holding head 323 receives a DC voltage having the same size and different polarities or the same polarity by an attraction power source (not shown). It is a configuration to apply. The holding head 323 has a structure in which the surface of a member made of metal such as copper is covered with a dielectric such as polyimide resin. When the adsorption power supply operates and DC voltages having different polarities are applied to the pair of adsorption electrodes, dielectric polarization occurs in the dielectric coating layer of the holding head 323, and static electricity is induced on the lower surface. The upper substrate 92 is electrostatically attracted by this static electricity. The holding head 323 may be entirely made of a dielectric material such as alumina.

【0043】下側基板保持具31も、同様に剛性の高い
ジュラルミン、ステンレス又はアルミニウム等の材料で
形成されている。下側基板保持具31は、不図示の頑丈
なベースによって支持されている。下側基板保持具31
には、同様に静電吸着機構が設けられている。具体的に
は、下側基板保持具31の上面には、凹部が設けられて
おり、この凹部に填め込まれるようにして静電吸着プレ
ート311が設けられている。静電吸着プレート311
は誘電体製であり、同様の構成により下側基板91を静
電吸着する。
The lower substrate holder 31 is also made of a highly rigid material such as duralumin, stainless steel or aluminum. The lower substrate holder 31 is supported by a sturdy base (not shown). Lower substrate holder 31
Is similarly provided with an electrostatic adsorption mechanism. Specifically, a recess is provided on the upper surface of the lower substrate holder 31, and an electrostatic adsorption plate 311 is provided so as to be fitted in the recess. Electrostatic attraction plate 311
Is made of a dielectric material and electrostatically attracts the lower substrate 91 with the same configuration.

【0044】上述したように、一対の基板保持具31,
32は、真空容器を構成する部材となっている。具体的
には、真空容器は、一対の基板保持具31,32と、一
対の基板保持具31,32の間に位置する中間リング3
3とから構成されている。下側基板保持具31は排気路
312を有し、排気路312には排気系41が設けられ
ている。排気系41は、排気路312と真空ポンプ41
1とをつなぐ排気管412と、排気管412上に設けら
れたバルブ413や不図示の排気速度調整器等から構成
されている。そして、上側基板保持具32は、ベントガ
ス導入路325を有し、ベントガス導入路325にはベ
ントガス導入系42が設けられている。ベントガスに
は、清浄化された乾燥空気(ドライエア)又は窒素等が
使用される。尚、下側基板保持具31の上面は、周辺部
に段差を有しており、少し低くなっている。この低くな
った部分は周状に延びており、この部分に中間リング3
3が位置している。
As described above, the pair of substrate holders 31,
32 is a member that constitutes a vacuum container. Specifically, the vacuum container includes a pair of substrate holders 31 and 32 and an intermediate ring 3 located between the pair of substrate holders 31 and 32.
3 and 3. The lower substrate holder 31 has an exhaust path 312, and the exhaust system 312 is provided in the exhaust path 312. The exhaust system 41 includes an exhaust passage 312 and a vacuum pump 41.
1, an exhaust pipe 412 connecting the exhaust pipe 1 and the valve 1, a valve 413 provided on the exhaust pipe 412, an exhaust speed regulator (not shown), and the like. The upper substrate holder 32 has a vent gas introduction passage 325, and the vent gas introduction passage 325 is provided with a vent gas introduction system 42. As the vent gas, purified dry air (dry air), nitrogen, or the like is used. The upper surface of the lower substrate holder 31 has a step in the peripheral portion and is slightly lower. This lowered portion extends circumferentially, and the intermediate ring 3
3 is located.

【0045】一対の基板保持具31,32は、開閉機構
5により、真空容器が大気に開放される際には長い第一
の距離離れて位置し、真空容器が真空に排気される際に
は短い第二の距離離れて位置するようになっている。具
体的には、開閉機構5は、上側基板保持具32を上下動
させるようになっている。以下の説明では、一対の基板
保持具31,32の距離が第一の距離になるような上側
基板保持具32の位置を上限位置と呼び、第二の距離に
なるような上側基板保持具32の位置を下限位置と呼
ぶ。
The pair of substrate holders 31, 32 are located at a long first distance when the vacuum container is opened to the atmosphere by the opening / closing mechanism 5, and when the vacuum container is evacuated to a vacuum. It is located a short second distance away. Specifically, the opening / closing mechanism 5 is configured to vertically move the upper substrate holder 32. In the following description, the position of the upper substrate holder 32 at which the distance between the pair of substrate holders 31 and 32 becomes the first distance is referred to as the upper limit position, and the upper substrate holder 32 at which the distance becomes the second distance. The position of is called the lower limit position.

【0046】開閉機構5は、上側基板保持具32を全体
に保持した保持部材51と、保持部材51に駆動軸が固
定された開閉駆動源52とから主に構成されている。開
閉駆動源52にはサーボモータ等が使用され、ボールネ
ジを回転させてその回転を上下動に変換する構成が採用
される。尚、開閉機構5としては、エアシリンダや油圧
シリンダのような流体圧シリンダを使用した機構が採用
されることもある。開閉機構5は、大気開放の際には、
上側基板保持具32を上限位置に位置させ、真空排気の
際には所定の下方位置に位置させるようになっている。
上側基板保持具32が下限位置にあるとき、上側基板保
持具32は、中間リング33に接触するようになってい
る。尚、一対の基板保持具31,32のみで真空容器が
構成される場合、開閉機構5は、一対の基板保持具3
1,32が接触するよう移動させる。
The opening / closing mechanism 5 is mainly composed of a holding member 51 that holds the upper substrate holder 32 as a whole, and an opening / closing drive source 52 whose drive shaft is fixed to the holding member 51. A servomotor or the like is used as the opening / closing drive source 52, and a configuration is adopted in which a ball screw is rotated to convert the rotation into vertical movement. As the opening / closing mechanism 5, a mechanism using a fluid pressure cylinder such as an air cylinder or a hydraulic cylinder may be adopted. The opening / closing mechanism 5 is designed so that when opening to the atmosphere,
The upper substrate holder 32 is located at the upper limit position, and is located at a predetermined lower position during evacuation.
When the upper substrate holder 32 is at the lower limit position, the upper substrate holder 32 contacts the intermediate ring 33. When the vacuum container is composed of only the pair of substrate holders 31 and 32, the opening / closing mechanism 5 operates as the pair of substrate holders 3.
Move them so that 1, 32 are in contact with each other.

【0047】このような構成は、一対の基板91,92
の搬入搬出やメンテナンスなどを考慮したものである。
単に大気開放するだけであればベントガス導入系42を
設ければ足りるが、真空容器内への基板91,92の搬
入や真空容器外への基板91,92の搬出のため、一対
の基板保持具31,32が長い距離離れて対向するよう
にしている。尚、基板91,92の搬入搬出のための構
成としては、真空容器に開口を設けてこの開口を開閉す
るゲートバルブを設ける構成があるが、この構成では、
内壁面のクリーニング等のメンテナンスの作業がしづら
い。
Such a structure has a pair of substrates 91 and 92.
It takes into consideration the loading and unloading of items and maintenance.
A vent gas introduction system 42 may be provided if it is simply opened to the atmosphere, but a pair of substrate holders is used to carry the substrates 91 and 92 into the vacuum container and to carry the substrates 91 and 92 out of the vacuum container. 31 and 32 are arranged to face each other with a long distance. As a configuration for loading and unloading the substrates 91 and 92, there is a configuration in which an opening is provided in the vacuum container and a gate valve for opening and closing the opening is provided.
Maintenance work such as cleaning the inner wall surface is difficult.

【0048】本実施形態の装置は、一対の基板91,9
2の板面方向の位置関係が所定のものになるよう一対の
基板保持具31,32の少なくとも一方を板面方向に移
動させてアライメントを行うアライメント用移動手段7
を備えている。本実施形態では、下側基板91は板面方
向には移動しないようになっており、静止した下側基板
91に対して上側基板92を板面方向に移動させること
でアライメントを行うようになっている。即ち、アライ
メント用移動手段7は、上側基板92を板面方向に移動
させてアライメントを行うものとなっている。尚、一対
の基板91,92は水平方向に保持されるため、板面方
向は水平方向である。
The apparatus of this embodiment is composed of a pair of substrates 91, 9
Alignment moving means 7 for performing alignment by moving at least one of the pair of substrate holders 31 and 32 in the plate surface direction so that the positional relationship of 2 in the plate surface direction becomes predetermined.
Is equipped with. In the present embodiment, the lower substrate 91 does not move in the plate surface direction, and alignment is performed by moving the upper substrate 92 in the plate surface direction with respect to the stationary lower substrate 91. ing. That is, the alignment moving means 7 moves the upper substrate 92 in the plate surface direction to perform alignment. Since the pair of substrates 91 and 92 are held in the horizontal direction, the plate surface direction is the horizontal direction.

【0049】アライメント用移動手段7の構成につい
て、図8及び図9を使用して説明する。図8は、図7の
真空重ね合わせモジュール3が備えるアライメント用移
動手段7の構成について示す斜視概略図である。図9
は、図8に示すアライメント用移動手段7の要部の斜視
概略図である。図7に示すように、アライメント用移動
手段7は直接的には中間リング33を移動させるよう構
成されている。上側基板保持具32は、真空容器内外の
差圧により中間リング33に対して大きな力で押し付け
られる。アライメント用移動手段7は、この状態におい
て中間リング33を移動させることで、中間リング33
と一体に上側基板保持具32を移動させ、それによって
上側基板92を移動させる構成となっている。
The structure of the alignment moving means 7 will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a schematic perspective view showing the configuration of the alignment moving means 7 provided in the vacuum superposition module 3 of FIG. Figure 9
FIG. 9 is a schematic perspective view of a main part of the alignment moving means 7 shown in FIG. 8. As shown in FIG. 7, the alignment moving means 7 is configured to directly move the intermediate ring 33. The upper substrate holder 32 is pressed against the intermediate ring 33 with a large force by the pressure difference inside and outside the vacuum container. The alignment moving means 7 moves the intermediate ring 33 in this state to move the intermediate ring 33.
The upper substrate holder 32 is moved integrally with the upper substrate holder 32, thereby moving the upper substrate 92.

【0050】アライメント用移動手段7は、図8及び図
9に示すように、中間リング33に固定されたブラケッ
ト701と、ブラケット701を介して中間リング33
を移動させる直線駆動源702と、直線駆動源702の
出力軸に設けられた支点ピン703と、支点ピン703
に連結された連結具704と、連結具704とブラケッ
ト701との間に設けられたリニアガイド705とから
構成されている。
As shown in FIGS. 8 and 9, the alignment moving means 7 includes a bracket 701 fixed to the intermediate ring 33, and the intermediate ring 33 via the bracket 701.
A linear drive source 702 for moving a fulcrum, a fulcrum pin 703 provided on the output shaft of the linear drive source 702, and a fulcrum pin 703.
And a linear guide 705 provided between the connector 704 and the bracket 701.

【0051】図8及び図9に示すように、ブラケット7
01、直線駆動源702、支点ピン703及びリニアガ
イド705から成るユニット71,72,73,74
は、中間リング33の各辺のそれぞれに設けられてい
る。以下、説明の都合上、各ユニットを第一ユニット7
1、第二ユニット72、第三ユニット73、第四ユニッ
ト74とする。図8に示すように、第一ユニット71と
第三ユニット73、及び、第二ユニット72と第四ユニ
ット74が、中間リング33の対向する辺にそれぞれ位
置している。各ユニット71,72,73,74におい
て、直線駆動源702は、サーボモータ又はパルスモー
タ等のモータと、モータの出力を直線運動に変換するボ
ールネジを含む運動変換機構とから構成されている。各
直線駆動源702は、不図示の固定板に固定されてお
り、移動しないようになっている。
As shown in FIGS. 8 and 9, the bracket 7
01, linear drive source 702, fulcrum pin 703, and unit 71, 72, 73, 74 including linear guide 705.
Are provided on each side of the intermediate ring 33. Hereinafter, for convenience of explanation, each unit is referred to as the first unit 7
1, second unit 72, third unit 73, and fourth unit 74. As shown in FIG. 8, the first unit 71 and the third unit 73, and the second unit 72 and the fourth unit 74 are located on opposite sides of the intermediate ring 33, respectively. In each of the units 71, 72, 73, 74, the linear drive source 702 is composed of a motor such as a servo motor or a pulse motor, and a motion conversion mechanism including a ball screw that converts the output of the motor into linear motion. Each linear drive source 702 is fixed to a fixed plate (not shown) so as not to move.

【0052】連結具704は、図9に示すように断面コ
状であり、開口を直線駆動源702の側に向けて配置さ
れている。支点ピン703は、軸方向が上下方向になる
よう配置されている。連結具704は、上側部分と下側
部分に支点ピン703を挿入する孔を有している。支点
ピン703は、この孔に上端と下端が挿入されている。
支点ピン703と連結具704とは固定されておらず、
静止した支点ピン703の周りに連結具704は回転で
きるようになっている。ブラケット701は、図8及び
図9に示すように平面視が直角三角形のものである。ブ
ラケット701は直角を成す一対の辺の一方が中間リン
グ33の側面と平行となっており、この辺の部分で中間
リング33の側面に固定されている。
The connecting member 704 has a U-shaped cross section as shown in FIG. 9, and is arranged with its opening facing the linear drive source 702. The fulcrum pin 703 is arranged so that the axial direction is the vertical direction. The connecting tool 704 has a hole for inserting the fulcrum pin 703 in the upper part and the lower part. The fulcrum pin 703 has an upper end and a lower end inserted into this hole.
The fulcrum pin 703 and the connector 704 are not fixed,
The connector 704 can rotate around the stationary fulcrum pin 703. The bracket 701 has a right-angled triangular shape in plan view as shown in FIGS. 8 and 9. One side of the pair of right angles of the bracket 701 is parallel to the side surface of the intermediate ring 33, and this side portion is fixed to the side surface of the intermediate ring 33.

【0053】リニアガイド705は、ブラケット701
の直角を成す他方の辺に固定されている。リニアガイド
705は、そのリニアガイド705が属するユニット7
1,72,73,74が設けられた中間リング33の辺
の方向に対して直角な水平方向に長いものであり、この
方向の直線移動をガイドするものである。連結具704
は、リニアガイド705と同じ方向に長いものであって
リニアガイド705の形状に適合した凹部又は段差を有
する。リニアガイド705は、この凹部又は段差に沿っ
て滑りながら直線移動をガイドする。
The linear guide 705 includes a bracket 701.
It is fixed to the other side of the right angle. The linear guide 705 is a unit 7 to which the linear guide 705 belongs.
It is long in the horizontal direction perpendicular to the direction of the side of the intermediate ring 33 provided with 1, 72, 73, 74 and guides the linear movement in this direction. Connector 704
Has a concave portion or a step which is long in the same direction as the linear guide 705 and conforms to the shape of the linear guide 705. The linear guide 705 guides a linear movement while sliding along the recess or the step.

【0054】図8及び図9に示すアライメント用移動手
段7の動作について、次に説明する。図8及び図9に示
すアライメント用移動手段7は、各ユニット71,7
2,73,74の直線駆動源702を任意に動作させる
ことで、水平面上の直交する二つの方向の直線移動(X
方向及びY方向の移動)と、任意の位置を中心とする水
平面上での円周方向の移動(θ方向の移動)とを中間リ
ング33に行わせるようになっている。
The operation of the alignment moving means 7 shown in FIGS. 8 and 9 will be described below. The alignment moving means 7 shown in FIG. 8 and FIG.
By arbitrarily operating the linear drive sources 702 of 2, 73 and 74, linear movement (X
(Movement in the direction and Y direction) and movement in the circumferential direction (movement in the θ direction) on a horizontal plane centered on an arbitrary position are performed by the intermediate ring 33.

【0055】さらに具体的に説明する。図8に示すよう
に、X方向は、第一第三ユニット71,73が配置され
た辺の方向とし、Y方向は、第二第四ユニット72,7
4が配置された辺の方向とする。まず、X方向に中間リ
ング33を直線移動させるには、第一ユニット71及び
第三ユニット73の直線駆動源702を同時に動作さ
せ、第二ユニット72及び第四ユニット74の直線駆動
源702を動作させないようにする。この際、第一ユニ
ット71及び第三ユニット73の直線駆動源702は、
同じ距離だけ各ブラケット701が移動するよう駆動さ
れる。例えばモータがパルスモータである場合、同パル
ス数だけ駆動される。この結果、この駆動距離だけ中間
リング33もX方向に直線移動する。尚、直線駆動源7
02を動作させないとは、モータがサーボモータのよう
なものである場合、その位置を保持して動かないように
するよう動作する場合も含む意味である。
A more specific description will be given. As shown in FIG. 8, the X direction is the direction of the side on which the first and third units 71 and 73 are arranged, and the Y direction is the second and fourth units 72 and 7.
The direction of the side where 4 is arranged is set. First, in order to linearly move the intermediate ring 33 in the X direction, the linear drive sources 702 of the first unit 71 and the third unit 73 are simultaneously operated, and the linear drive sources 702 of the second unit 72 and the fourth unit 74 are operated. Try not to let me. At this time, the linear drive sources 702 of the first unit 71 and the third unit 73 are
Each bracket 701 is driven to move by the same distance. For example, when the motor is a pulse motor, the same number of pulses are driven. As a result, the intermediate ring 33 also linearly moves in the X direction by this driving distance. The linear drive source 7
Not operating 02 means that the motor is like a servo motor and also includes the case where it operates so as to hold its position and prevent it from moving.

【0056】また、Y方向に移動させる場合は、第二ユ
ニット72及び第四ユニット74の直線駆動源702を
同時に動作させ、第一ユニット71及び第三ユニット7
3の直線駆動源702を動作させないようにする。この
場合も、第二ユニット72及び第四ユニット74の直線
駆動源702の駆動距離は同じにする。これにより、中
間リング33がY方向に駆動距離だけ直線移動する。
When moving in the Y direction, the linear drive sources 702 of the second unit 72 and the fourth unit 74 are simultaneously operated, and the first unit 71 and the third unit 7 are operated.
The linear drive source 702 of No. 3 is not operated. Also in this case, the driving distances of the linear driving sources 702 of the second unit 72 and the fourth unit 74 are the same. As a result, the intermediate ring 33 linearly moves in the Y direction by the driving distance.

【0057】上記X方向及びY方向の移動において、各
ユニット71,72,73,74のリニアガイド705
は、移動をガイドする機能を持っている。即ち、X方向
の移動の際、各ブラケット701も中間リング33と一
体にX方向に移動する。この際、第二ユニット72及び
第四ユニット74のブラケット701に設けられたリニ
アガイド705は、連結具704の凹部又は段差に沿っ
て滑りながら移動し、X方向の移動をガイドする。つま
り、第二第四ユニット72,74のリニアガイド705
は、X方向の駆動力を逃がして直線駆動源702等に伝
えないようにするものである。また、Y方向の移動の
際、第一ユニット71及び第三ユニット73のブラケッ
ト701に設けられたリニアガイド705が連結具70
4の凹部又は段差に沿って滑り、Y方向の移動をガイド
する。
In the movement in the X and Y directions, the linear guide 705 of each unit 71, 72, 73, 74 is moved.
Has the function of guiding the movement. That is, when moving in the X direction, each bracket 701 also moves in the X direction together with the intermediate ring 33. At this time, the linear guides 705 provided on the brackets 701 of the second unit 72 and the fourth unit 74 move while sliding along the recesses or steps of the connector 704, and guide the movement in the X direction. That is, the linear guide 705 of the second fourth unit 72, 74.
Is to prevent the driving force in the X direction from being transmitted to the linear driving source 702 and the like. Further, when moving in the Y direction, the linear guides 705 provided on the brackets 701 of the first unit 71 and the third unit 73 are connected to the connector 70.
It slides along the concave portion or the step of 4 and guides the movement in the Y direction.

【0058】次に、θ方向に移動させる場合について説
明する。例えば、回転軸が中間リング33と同軸即ち中
間リング33の中心軸にある場合の移動について説明す
る。この場合は、例えば、第一ユニット71の直線駆動
源702と第三ユニット73の直線駆動源702を同時
に動作させ、第二ユニット72の直線駆動源702と第
四ユニット74の直線駆動源702を動作させないでお
く。この際、第一ユニット71の直線駆動源702と第
三ユニット73の直線駆動源702を異なる向きに(前
進と後退)同じ距離だけ駆動させる。この結果、中間リ
ング33は、中心軸を中心とする水平な円周方向(図8
にθで示す)に移動する。
Next, the case of moving in the θ direction will be described. For example, the movement when the rotation axis is coaxial with the intermediate ring 33, that is, the center axis of the intermediate ring 33 will be described. In this case, for example, the linear drive source 702 of the first unit 71 and the linear drive source 702 of the third unit 73 are simultaneously operated, and the linear drive source 702 of the second unit 72 and the linear drive source 702 of the fourth unit 74 are operated. Don't let it work. At this time, the linear drive source 702 of the first unit 71 and the linear drive source 702 of the third unit 73 are driven in different directions (forward and backward) by the same distance. As a result, the intermediate ring 33 has a horizontal circumferential direction centered on the central axis (see FIG. 8).
Indicated by θ 1 ).

【0059】このθ方向の移動の際、各ブラケット7
01も中間リング33と一体にθ方向に移動する。こ
の際、第二第四ユニット72,74の支点ピン703及
び連結具704は、θ方向への駆動力を逃がして直線
駆動源702に伝えないようにする機能を持っている。
即ち、第二第四ユニット72,74のブラケット701
がθ方向に移動すると、リニアガイド705を介して
連結具704も一体にθ方向に移動する。しかし、支
点ピン703は、直線駆動源702の出力軸に固定され
ており移動しない。従って、ブラケット701がθ
向に移動すると、連結具704が支点ピン703を中心
にして少し回転し、θ方向への駆動力を逃がして直線
駆動源702等に伝えないようにしている。
During this movement in the θ 1 direction, each bracket 7
01 also moves in the θ 1 direction integrally with the intermediate ring 33. At this time, the fulcrum pin 703 and the connector 704 of the second fourth unit 72, 74 have a function of releasing the driving force in the θ 1 direction and not transmitting it to the linear driving source 702.
That is, the bracket 701 of the second fourth unit 72, 74
When is moved in the θ 1 direction, the connector 704 is also integrally moved in the θ 1 direction via the linear guide 705. However, the fulcrum pin 703 is fixed to the output shaft of the linear drive source 702 and does not move. Therefore, when the bracket 701 moves in the θ 1 direction, the connecting tool 704 slightly rotates around the fulcrum pin 703, so that the driving force in the θ 1 direction is released and is not transmitted to the linear drive source 702 and the like.

【0060】尚、θ方向への移動は、第一第三ユニッ
ト71,73の直線駆動源702を動作させないでお
き、第二第四ユニット72,74の直線駆動源702を
異なる向きに同じ距離だけ駆動させることでも行うこと
ができる。この場合、第二第四ユニット72,74の連
結具704と支点ピン703がθ方向の駆動力を逃が
すよう動作する。
In the movement in the θ 1 direction, the linear drive sources 702 of the first and third units 71 and 73 are not operated, and the linear drive sources 702 of the second and fourth units 72 and 74 are the same in different directions. It can also be performed by driving only a distance. In this case, the connecting tool 704 and the fulcrum pin 703 of the second fourth unit 72, 74 operate so as to release the driving force in the θ 1 direction.

【0061】θ方向以外の円周方向についても、各ユ
ニット71,72,73,74の直線駆動源702の駆
動のさせ方(駆動距離及び駆動の向き)を適宜選択する
ことで自由に行うことができる。例えば、図4中θ
示すように、基板91,92又は中間リング33等の方
形の隅の位置を中心とする円周上の方向に移動させるこ
とができる。上記アライメントの際の移動の距離は、か
なり短い。X方向やY方向のような直線移動の場合、±
2mm程度又はそれ以下である。θ方向の移動の場合、
角度で表すと±1度程度又はそれ以下である。
Also in the circumferential direction other than the θ 1 direction, the linear driving source 702 of each unit 71, 72, 73, 74 can be freely driven by appropriately selecting the driving method (driving distance and driving direction). be able to. For example, as indicated by θ 2 in FIG. 4, it is possible to move the substrate 91, 92 or the intermediate ring 33 in a circumferential direction around the position of a square corner. The movement distance in the above alignment is quite short. ± in case of linear movement such as X direction or Y direction
It is about 2 mm or less. In case of movement in θ direction,
When expressed as an angle, it is about ± 1 degree or less.

【0062】また、本実施形態の装置は、アライメント
を行う際に一対の基板91,92の板面方向の位置関係
のずれを検出する位置ずれ検出センサ75を備えてい
る。位置ずれ検出センサ75は、図7に示すように下側
基板保持具31に取り付けられている。具体的に説明す
ると、下側基板保持具31には、上下に延びる検出用貫
通孔314を有する。位置ずれ検出センサ75は、検出
用貫通孔314の下端開口を臨む位置に取り付けられて
いる。検出用貫通孔314は複数設けられており、その
それぞれに位置ずれ検出センサ75が取り付けられてい
る。尚、検出用貫通孔314の下端開口は、光学窓31
5によって気密に塞がれている。
Further, the apparatus of this embodiment is provided with a position shift detection sensor 75 for detecting a shift in the positional relationship between the pair of substrates 91 and 92 in the plate surface direction during alignment. The displacement detection sensor 75 is attached to the lower substrate holder 31 as shown in FIG. 7. Specifically, the lower substrate holder 31 has a detection through hole 314 extending vertically. The displacement detection sensor 75 is attached to a position facing the lower end opening of the detection through hole 314. A plurality of through holes 314 for detection are provided, and a displacement detection sensor 75 is attached to each of them. The lower end opening of the detection through hole 314 is the optical window 31.
It is airtightly closed by 5.

【0063】各位置ずれ検出センサ75は、具体的には
CCDカメラ等の撮像素子である。一対の基板91,9
2のそれぞれには、板面上の所定の位置にアライメント
用マークが設けられている。一対の基板91,92は透
明であって同じ形状寸法である。そして、アライメント
用マークは、一対の基板91,92において同じ位置に
設けられている。
Each displacement detecting sensor 75 is specifically an image pickup device such as a CCD camera. A pair of substrates 91, 9
Each of the two is provided with an alignment mark at a predetermined position on the plate surface. The pair of substrates 91 and 92 are transparent and have the same shape and dimension. The alignment mark is provided at the same position on the pair of substrates 91 and 92.

【0064】前述したように搬送ロボット121により
下側基板91が搬入された際、搬送ロボット121は、
アライメントマークが検出用貫通孔314の上端開口に
位置するよう精度良く下側基板91を下側基板保持具3
1に載置する。アライメントの際、位置ずれ検出センサ
75は、検出用貫通孔314を通して下側基板保持具3
1のアライメントマークと上側基板92のアライメント
マークとを撮像するようになっている。
As described above, when the lower substrate 91 is loaded by the transfer robot 121, the transfer robot 121
The lower substrate 91 is accurately positioned so that the alignment mark is located at the upper end opening of the through hole 314 for detection.
Place on 1. At the time of alignment, the misalignment detection sensor 75 passes through the detection through hole 314 and the lower substrate holder 3
The alignment mark 1 and the alignment mark on the upper substrate 92 are imaged.

【0065】本実施形態では、上側基板92を下側基板
91に向けて押圧してギャップ出しを行うようになって
いる。即ち、上側基板92を下側基板91に向けて移動
させてギャップ出しを行うギャップ出し用移動手段が設
けられている。ギャップ出し用移動手段の構成は、本実
施形態の三番目の大きな特徴点を成している。即ち、ギ
ャップ出し用移動手段は、上側基板92に機械的に押圧
力を与える機構(以下、押圧機構)61と、ガスの差圧
により上側基板92に押圧力を与える機構(以下、差圧
印加機構)62とを併用しており、この点が大きな特徴
点となっている。
In this embodiment, the upper substrate 92 is pressed toward the lower substrate 91 to form a gap. That is, gap moving means for moving the upper substrate 92 toward the lower substrate 91 to perform a gap is provided. The configuration of the gap moving means constitutes the third major feature of this embodiment. That is, the gap moving means includes a mechanism 61 for mechanically applying a pressing force to the upper substrate 92 (hereinafter referred to as a pressing mechanism) and a mechanism for applying a pressing force to the upper substrate 92 by a gas differential pressure (hereinafter referred to as a differential pressure application). Mechanism) 62 is also used, and this is a major feature.

【0066】押圧機構61は、上側基板保持具32に固
定された複数の押圧ロッド611と、各押圧ロッド61
1のそれぞれに設けられた押圧駆動源612とから主に
構成されている。各押圧ロッド611は、垂直な姿勢で
あり、下端が隔膜322に固定されて上方に延び、上側
基板保持具32を気密に貫通している。各押圧駆動源6
12は、押圧ロッド611の上端に連結されている。各
押圧駆動源612は、サーボモータ等の位置制御用のモ
ータとなっており、ボールネジ等を用いた運動変換機構
によりその回転運動が直線運動に変換されるようになっ
ている。
The pressing mechanism 61 includes a plurality of pressing rods 611 fixed to the upper substrate holder 32 and the pressing rods 61.
1 and a pressing drive source 612 provided in each of the above. Each pressing rod 611 is in a vertical posture, has a lower end fixed to the diaphragm 322, extends upward, and penetrates the upper substrate holder 32 in an airtight manner. Each pressing drive source 6
12 is connected to the upper end of the pressing rod 611. Each pressing drive source 612 is a position control motor such as a servo motor, and its rotational motion is converted into a linear motion by a motion conversion mechanism using a ball screw or the like.

【0067】尚、各押圧ロッド611の貫通部分には、
各押圧ロッド611の上下動を許容しつつ真空シールを
行う押圧用真空シール手段613が設けられている。こ
の押圧用真空シール手段613は、具体的にはOリング
シールであるが、磁性流体を用いたメカニカルシールを
用いることもできる。また、各押圧ロッド611と上側
基板保持具32との間にベローズを設けても良い。
The penetrating portion of each pressing rod 611 is
A pressing vacuum sealing means 613 is provided which performs vacuum sealing while permitting vertical movement of each pressing rod 611. The pressing vacuum seal means 613 is specifically an O-ring seal, but a mechanical seal using magnetic fluid can also be used. A bellows may be provided between each pressing rod 611 and the upper substrate holder 32.

【0068】隔膜322によって仕切られた空間のう
ち、上側の空間は、上側保持具本体321と隔膜322
とによって囲まれた閉空間326となっている。この閉
空間326は、上側基板92の背後に位置する。差圧印
加機構62は、この閉空間326内にガスを導入し、上
側基板92が位置する空間との間で差圧を与えるように
なっている。即ち、差圧印加機構62は、上側保持具本
体321に接続された差圧用配管621と、差圧用配管
621を通して閉空間326内にガスを導入する不図示
のボンベと、差圧用配管621上に設けられた差圧用主
バルブ622から主に構成されてる。尚、上側保持具本
体321は、差圧用配管621が接続された箇所にガス
導入路327を有している。閉空間326とは、このよ
うなガス導入路327以外の部分では基本的に閉じた空
間であるという意味である。
Among the spaces partitioned by the diaphragm 322, the upper space is the upper holder main body 321 and the diaphragm 322.
It is a closed space 326 surrounded by and. The closed space 326 is located behind the upper substrate 92. The differential pressure applying mechanism 62 is adapted to introduce gas into the closed space 326 and apply a differential pressure to the space where the upper substrate 92 is located. That is, the differential pressure applying mechanism 62 includes a differential pressure pipe 621 connected to the upper holder main body 321, a cylinder (not shown) for introducing gas into the closed space 326 through the differential pressure pipe 621, and a differential pressure pipe 621 on the differential pressure pipe 621. It is mainly configured by the provided differential pressure main valve 622. The upper holder main body 321 has a gas introduction passage 327 at a position where the differential pressure pipe 621 is connected. The closed space 326 means that the portion other than the gas introduction path 327 is basically a closed space.

【0069】また、差圧印加機構62は、閉空間326
内の圧力を調節する不図示の圧力調整器を有している。
不図示の圧力調整器には、制御用の電気信号の入力に従
って圧力を調節する電−空レギュレータが使用される。
電−空レギュレータは、電気信号(電圧又は電流)によ
って圧力を制御する機器である。例えば、圧電素子によ
ってダイヤフラム(隔膜)を制御し、これによって内部
バルブを調整して圧力を制御する構成のものが使用され
る。このような電−空レギュレータは各社から市販され
ているので、適宜選択して使用する。尚、図7に示すよ
うに、閉空間326内を排気するための補助排気ポンプ
626が設けられている。補助排気ポンプ626は、差
圧用配管621、バルブ622,624及び補助排気管
623を通して閉空間326内を排気するようになって
いる。
The differential pressure applying mechanism 62 has a closed space 326.
It has a pressure regulator (not shown) for adjusting the internal pressure.
A pressure regulator (not shown) uses an electro-pneumatic regulator that adjusts the pressure according to the input of an electric signal for control.
An electro-pneumatic regulator is a device that controls pressure with an electrical signal (voltage or current). For example, a structure in which a diaphragm (diaphragm) is controlled by a piezoelectric element and an internal valve is adjusted by this to control the pressure is used. Since such electro-pneumatic regulators are commercially available from various companies, they are appropriately selected and used. As shown in FIG. 7, an auxiliary exhaust pump 626 for exhausting the inside of the closed space 326 is provided. The auxiliary exhaust pump 626 exhausts the inside of the closed space 326 through the differential pressure pipe 621, the valves 622 and 624, and the auxiliary exhaust pipe 623.

【0070】本実施形態の装置では、ギャップ出しを高
精度で行えるよう、多くの工夫が成されている。まず、
ギャップ出しのために上側基板92を下側基板91に押
し付けている際、両者の距離を間接的に測定する距離セ
ンサ63が設けられており、この距離センサ63からの
信号をフィードバックして押圧力を制御している。より
具体的に説明すると、距離センサ63は複数設けられて
おり、下側基板保持具31に取り付けられている。下側
基板保持具31の上面には、下側基板91を保持する部
分の外側に凹部が設けられており、距離センサ63はこ
の凹部を埋めるように設けられている。
The device of the present embodiment has been devised in many ways so that the gap can be formed with high accuracy. First,
A distance sensor 63 is provided for indirectly measuring the distance between the upper substrate 92 and the lower substrate 91 when the upper substrate 92 is pressed against the lower substrate 91 in order to form a gap. Are in control. More specifically, a plurality of distance sensors 63 are provided and attached to the lower substrate holder 31. A recess is provided on the upper surface of the lower substrate holder 31 outside the portion that holds the lower substrate 91, and the distance sensor 63 is provided so as to fill this recess.

【0071】図7に示すように、下側基板保持具31の
基板保持具面(静電吸着プレート311の上面)と上側
基板保持具32の基板保持面(保持ヘッド323の下
面)は平行である。また、下側基板91の厚さと上側基
板92の厚さは既知である。従って、下側基板保持具3
1の基板保持面と上側基板保持具32の基板保持面との
距離が判れば、一対の基板91,92のギャップ長(離
間距離)が判る。距離センサ63に対する下側基板保持
具31の基板保持面の位置関係は不変であるので、距離
センサ63から保持ヘッド323の下面までの距離を計
ることによって、一対の基板91,92のギャップ長が
間接的に求まることになる。
As shown in FIG. 7, the substrate holder surface of the lower substrate holder 31 (the upper surface of the electrostatic attraction plate 311) and the substrate holding surface of the upper substrate holder 32 (the lower surface of the holding head 323) are parallel to each other. is there. Further, the thickness of the lower substrate 91 and the thickness of the upper substrate 92 are known. Therefore, the lower substrate holder 3
If the distance between the substrate holding surface 1 and the substrate holding surface of the upper substrate holder 32 is known, the gap length (separation distance) between the pair of substrates 91 and 92 can be known. Since the positional relationship of the substrate holding surface of the lower substrate holder 31 with respect to the distance sensor 63 is unchanged, the gap length between the pair of substrates 91 and 92 can be determined by measuring the distance from the distance sensor 63 to the lower surface of the holding head 323. It will be obtained indirectly.

【0072】距離センサ63には、例えばうず電流を検
出するものが使用できる。即ち、センサの一方を交流磁
界を発生させる構成とし、他方をこの交流磁界により生
ずるうず電流を検出する構成とする。うず電流の大きさ
により距離が求められる。この他、磁界強度により距離
を測定するセンサやレーザー干渉計を用いた距離センサ
等が使用できる。また、電気式接触式マイクロメータを
使用しても良い。
As the distance sensor 63, for example, one which detects an eddy current can be used. That is, one of the sensors is configured to generate an AC magnetic field, and the other is configured to detect an eddy current generated by this AC magnetic field. The distance is determined by the magnitude of the eddy current. In addition, a sensor that measures the distance by the magnetic field strength, a distance sensor that uses a laser interferometer, or the like can be used. Alternatively, an electric contact micrometer may be used.

【0073】図10は、板面方向における距離センサ6
3の配置位置について説明する図である。本実施形態の
さらに別の大きな特徴点は、押圧機構61の各押圧ロッ
ド611と対を成すように距離センサ63を配置してい
る点である。即ち、図10に示すように、本実施形態で
は、四つの押圧ロッド611が設けられている。各押圧
ロッド611は、上側基板保持具32と同軸の仮想的な
長方形又は正方形の角の位置に配置されている。そし
て、各距離センサ63も、同様に四つ設けられており、
各押圧ロッド611の下方に位置して対を成している。
より正確には、四つの押圧ロッド611を結んだ方形
と、四つの距離センサ63を結んだ方形とは相似形であ
って同軸上である。そして、各対を成す押圧ロッド61
1と距離センサ63とは、方形の同じ頂点の位置に位置
している。
FIG. 10 shows the distance sensor 6 in the plate surface direction.
It is a figure explaining the arrangement position of No. 3. Yet another major feature of this embodiment is that the distance sensor 63 is arranged so as to form a pair with each pressing rod 611 of the pressing mechanism 61. That is, as shown in FIG. 10, in this embodiment, four pressing rods 611 are provided. Each pressing rod 611 is arranged at a corner position of a virtual rectangle or square coaxial with the upper substrate holder 32. And each distance sensor 63 is also provided four in the same manner,
It is located below each pressing rod 611 and forms a pair.
More precisely, the square connecting the four pressing rods 611 and the square connecting the four distance sensors 63 are similar to each other and coaxial with each other. The pressing rods 61 forming each pair
1 and the distance sensor 63 are located at the same vertex of the rectangle.

【0074】また、上側基板保持具32が有する隔膜3
22は、上記アライメント用移動手段7による板面方向
の駆動力を上側基板92に伝えるものとなっている。即
ち、前述したようにアライメント用移動手段7は、中間
リング33を介して上側基板保持具32を板面方向に移
動させる。この移動の力は、隔膜322及び押圧ロッド
611を介して保持ヘッド323に伝えられ、この結
果、保持ヘッド323に静電吸着されている上側基板9
2が移動する。
The diaphragm 3 of the upper substrate holder 32
22 transmits the driving force in the plate surface direction by the alignment moving means 7 to the upper substrate 92. That is, as described above, the alignment moving means 7 moves the upper substrate holder 32 in the plate surface direction via the intermediate ring 33. The force of this movement is transmitted to the holding head 323 via the diaphragm 322 and the pressing rod 611, and as a result, the upper substrate 9 electrostatically attracted to the holding head 323.
2 moves.

【0075】前述したように、隔膜322は、ギャップ
出し用移動手段の差圧印加機構62により厚さ方向に膨
らんで上側基板92に押圧力を与える。そして、その一
方で、アライメントの際には板面方向の力を上側基板9
2に伝える。この際重要なことは、隔膜322は、厚さ
方向には変形が可能であるが、押圧ロッド611で強固
に支持されているためと、それ自身の剛性により板面方
向には本質的に変形しないものとなっていることであ
る。板面方向に変形してしまうと、アライメントが不安
定となり、再現性や精度の悪化する恐れがある。「本質
的に変化しない」とは、例えば、厚さ方向に力Fが加
えられたときの変形量をΔTとし、板面方向に大きさ
の同じ力Fが加えられたときの変形量をΔTとした
とき、ΔT/ΔT≦0.1となるような場合を指
す。隔膜322には、薄いシート状であり、例えばステ
ンレスやチタン等の金属又はカーボン繊維強化プラスチ
ック(CFRP)等の材料から成るものが使用される。
隔膜322の厚さは、例えば1mm〜2mm程度であ
る。
As described above, the diaphragm 322 swells in the thickness direction by the differential pressure applying mechanism 62 of the gap moving means and applies a pressing force to the upper substrate 92. On the other hand, at the time of alignment, a force in the plate surface direction is applied to the upper substrate 9
Tell 2. At this time, it is important that the diaphragm 322 can be deformed in the thickness direction, but is substantially supported in the plate surface direction by the rigidity of the diaphragm 322 because it is firmly supported by the pressing rod 611. It is something that is not done. If the sheet is deformed in the plate surface direction, the alignment becomes unstable, and the reproducibility and accuracy may deteriorate. “Substantially unchanged” means, for example, that the amount of deformation when the force F 1 is applied in the thickness direction is ΔT 1, and the amount of deformation when the same force F 2 is applied in the plate surface direction. When the amount is ΔT 2 , it means a case where ΔT 2 / ΔT 1 ≦ 0.1. The diaphragm 322 has a thin sheet shape, and is made of, for example, a metal such as stainless steel or titanium or a material such as carbon fiber reinforced plastic (CFRP).
The thickness of the diaphragm 322 is, for example, about 1 mm to 2 mm.

【0076】また、本実施形態の装置は、板面方向の力
を上側基板92に伝える隔膜322の機能を考慮して、
押圧ロッド611の下端に特別のベアリング機構(図7
中不図示)を備えている。図11は、図7に示す押圧ロ
ッド611の下端に設けられたベアリング機構の断面概
略図である。ベアリング機構は、隔膜322に固定され
た軸受け614と、軸受け614と押圧ロッド611の
下端と間に介在された主ベアリング615と、押圧ロッ
ド611の下端部側面と軸受け614の内側面との間に
介在された副ベアリング616とから主に構成されてい
る。
Further, in the apparatus of this embodiment, considering the function of the diaphragm 322 for transmitting the force in the plate surface direction to the upper substrate 92,
A special bearing mechanism (see FIG. 7) is attached to the lower end of the pressing rod 611.
(Not shown). FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of the bearing mechanism provided at the lower end of the pressing rod 611 shown in FIG. The bearing mechanism includes a bearing 614 fixed to the diaphragm 322, a main bearing 615 interposed between the bearing 614 and the lower end of the pressing rod 611, and a lower end side surface of the pressing rod 611 and an inner side surface of the bearing 614. It is mainly composed of an intervening sub bearing 616.

【0077】前述したように、アライメント用移動手段
7により隔膜322に板面方向の力が加えられると、隔
膜322は非常に薄いものであるため、場合によっては
隔膜322が波打つように変形し易い。このような変形
が生ずると、板面方向の力が上側基板92に上手く伝わ
らず、アライメントが上手くいかなかったり、精度が低
下したりする場合がある。このため、本実施形態では、
図11に示すベアリング機構により、波打ちのような変
形を防止している。即ち、波打ちのような変形が生ずる
と、図11中に点線で示すように隔膜322は局所的に
は斜めに傾いた状態となる。この状態になると、隔膜3
22自体が持っている張力により隔膜322は元の水平
な状態に戻ろうとする。主ベアリング615は、この隔
膜322の動きを助ける働きをする。尚、副ベアリング
616は、軸受け614と押圧ロッド611との間で板
面方向で遊び(バックラッシュ)が無いようにするもの
である。遊びがあると、アライメント精度が低下してし
まう。
As described above, when a force in the plate surface direction is applied to the diaphragm 322 by the moving means 7 for alignment, the diaphragm 322 is very thin, so that the diaphragm 322 is likely to be deformed in a wavy manner in some cases. . If such deformation occurs, the force in the plate surface direction may not be well transmitted to the upper substrate 92, alignment may not be performed well, and accuracy may be deteriorated. Therefore, in this embodiment,
The bearing mechanism shown in FIG. 11 prevents deformation such as waviness. That is, when a deformation such as waviness occurs, the diaphragm 322 is locally inclined as shown by the dotted line in FIG. In this state, the diaphragm 3
The diaphragm 322 tries to return to its original horizontal state due to the tension of 22 itself. The main bearing 615 serves to assist the movement of this diaphragm 322. The sub-bearing 616 prevents play (backlash) between the bearing 614 and the pressing rod 611 in the plate surface direction. If there is play, the alignment accuracy will decrease.

【0078】次に、図7を使用して、真空シール手段8
1,82の構成について説明する。前述したように一対
の基板保持具31,32と中間リング33は真空容器を
構成するから、それらの接触箇所は、真空シールされて
いる必要がある。この真空シールを行う真空シール手段
81,82の構成も、本実施形態の装置の大きな特徴点
となっている。
Next, referring to FIG. 7, the vacuum sealing means 8
The configuration of 1, 82 will be described. As described above, the pair of substrate holders 31 and 32 and the intermediate ring 33 constitute a vacuum container, so that their contact points must be vacuum-sealed. The structure of the vacuum sealing means 81, 82 for performing this vacuum sealing is also a major feature of the apparatus of this embodiment.

【0079】まず、中間リング33と下側基板保持具3
1との間には、第一真空シール手段81が設けられてい
る。特徴的な点は、この第一真空シール手段81が、上
記アライメントのために上側基板保持具32と中間リン
グ33とが一体に移動する際にも真空シールを維持する
ものとなっている点である。具体的に説明すると、第一
真空シール手段81は、アライメント用移動手段7によ
って移動する中間リング33に接触する弾性体シール具
811と、弾性体シール具811の変形量を限定する剛
体812とより構成されている。
First, the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 3
A first vacuum sealing unit 81 is provided between the first vacuum sealing unit 81 and the first vacuum sealing unit 81. The characteristic point is that the first vacuum seal means 81 maintains the vacuum seal even when the upper substrate holder 32 and the intermediate ring 33 move integrally for the alignment. is there. More specifically, the first vacuum sealing means 81 includes an elastic body sealing tool 811 that contacts the intermediate ring 33 that is moved by the alignment moving means 7, and a rigid body 812 that limits the amount of deformation of the elastic body sealing tool 811. It is configured.

【0080】弾性体シール具811は、典型的にはOリ
ングのような真空シール具である。下側基板保持具31
の上面のうち周辺部の低くなった場所には周状の溝が形
成されており、この溝に弾性体シール具811が填め込
まれている。一方、中間リング33は、下面の内縁に沿
って凸部が周状に形成されており、この凸部が弾性体シ
ール具811に接触することにより真空シールがされる
ようになっている。一方、剛体812は、球状であり、
軸受鋼等の剛性の高い材料から形成されている。剛体8
12は複数設けられており、任意の向きに転動可能な状
態で不図示の係止具により係止されている。尚、剛体8
12は、周状の弾性体シール具811の周囲に均等間隔
を置いて複数設けられている。
The elastic sealer 811 is typically a vacuum sealer such as an O-ring. Lower substrate holder 31
A circumferential groove is formed in the lower part of the upper surface of the peripheral part, and the elastic sealer 811 is fitted in this groove. On the other hand, in the intermediate ring 33, a convex portion is formed in a circumferential shape along the inner edge of the lower surface, and the convex portion comes into contact with the elastic body seal member 811 to perform vacuum sealing. On the other hand, the rigid body 812 is spherical,
It is made of a highly rigid material such as bearing steel. Rigid body 8
A plurality of 12 are provided and are locked by a locking tool (not shown) in a state of being rollable in any direction. The rigid body 8
A plurality of 12 are provided at equal intervals around the peripheral elastic sealer 811.

【0081】通常の真空シール手段の構成では、真空シ
ールがされるべき部材の間にOリングのような弾性体シ
ール具を介在させ、この状態で両者を接触させてネジ止
め等を行う。ネジ止め等のみでは両者の接触は完全では
なく真空シールはされないが、弾性体シール具が両者の
間に気密に挟み込まれることで、真空シールが達成され
る。しかしながら、このような構成は、本実施形態では
採用できない。アライメントの際、固定された下側基板
保持具31に対して中間リング33を水平方向に移動さ
せる必要があるためである。下側基板保持具31と中間
リング33とが接触している構成の場合、アライメント
を行うには、中間リング33を下側基板保持具31に対
して擦らせながら中間リング33を移動させることにな
る。このようなことを行うと、移動に大きな力を要する
問題の他、擦動により塵等のゴミが発生する問題があ
る。
In the structure of the usual vacuum sealing means, an elastic sealing member such as an O-ring is interposed between the members to be vacuum-sealed, and in this state, the two members are brought into contact with each other for screwing or the like. The two are not completely contacted with each other only by screwing or the like, and the vacuum sealing is not performed, but the vacuum sealing is achieved by the airtightly sandwiching the elastic body sealing member between the two. However, such a configuration cannot be adopted in this embodiment. This is because the intermediate ring 33 needs to be moved horizontally with respect to the fixed lower substrate holder 31 during alignment. In the case where the lower substrate holder 31 and the intermediate ring 33 are in contact with each other, alignment is performed by moving the intermediate ring 33 while rubbing the intermediate ring 33 against the lower substrate holder 31. Become. If such a thing is performed, there is a problem that a large amount of force is required for movement and that dust such as dust is generated by the rubbing.

【0082】弾性体シール具811の弾性力を大きい最
適なものにすることで、中間リング33と下側基板保持
具31との接触を防止する構成も考えられる。しかしな
がら、このようにすると、ギャップ出しの際の上側基板
保持具32からの圧力及び大気圧と真空圧力との差圧に
よる圧力が弾性体シール具811のみにかかることにな
る。このため、弾性体シール具811の弾性力をかなり
大きなものにしなければならず、適正な真空シール作用
を得るのが困難になることもあり得る。また、弾性力が
小さいと、大きな力が弾性体シール具811に加わる結
果、弾性体シール具811の変形量が徐々に大きくな
り、最終的には中間リング33と下側基板保持具31と
が接触してしまう恐れもある。このように、弾性体シー
ル具811のみであると、最適な弾性力の範囲が狭く、
選定が非常に困難である。一方、本実施形態のように、
剛体812によって弾性体シール具811の変形を限定
すると、中間リング33と下側基板保持具31とが接触
しない範囲に弾性体シール具811の変形を限定するこ
とが容易にできる。即ち、球状である剛体812の直径
を適当な値にすれば良い。
A structure in which the contact between the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 31 is prevented can be considered by optimizing the elastic force of the elastic sealer 811 to be large. However, in this case, the pressure due to the pressure from the upper substrate holder 32 and the pressure difference between the atmospheric pressure and the vacuum pressure when the gap is formed is applied only to the elastic body seal member 811. Therefore, the elastic force of the elastic body sealing member 811 must be made considerably large, and it may be difficult to obtain an appropriate vacuum sealing action. When the elastic force is small, a large force is applied to the elastic body seal member 811, so that the amount of deformation of the elastic body seal member 811 gradually increases, and finally the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 31 are separated. There is a risk of contact. As described above, when only the elastic body sealing tool 811 is used, the range of the optimum elastic force is narrow,
Selection is very difficult. On the other hand, like this embodiment,
When the deformation of the elastic body sealing tool 811 is limited by the rigid body 812, the deformation of the elastic body sealing tool 811 can be easily limited to the range in which the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 31 are not in contact with each other. That is, the diameter of the spherical rigid body 812 may be set to an appropriate value.

【0083】また、剛体812による弾性体シール具8
11の変形の限定は、真空シールを維持したアライメン
トの点でも大きな技術的意義を有する。具体的に説明す
ると、アライメントの際、中間リング33が移動する
と、弾性体シール具811は中間リング33に擦り付け
られる状態となる。即ち、中間リング33は、その下面
に弾性体シール具811を滑らせながら移動する状態と
なる。
Further, the elastic body seal member 8 by the rigid body 812 is used.
The limitation of the deformation of 11 has great technical significance in terms of alignment while maintaining the vacuum seal. More specifically, when the intermediate ring 33 moves during alignment, the elastic body seal member 811 is rubbed against the intermediate ring 33. That is, the intermediate ring 33 is in a state of moving while sliding the elastic body seal member 811 on the lower surface thereof.

【0084】この場合、弾性体シール具811に大きな
力が加わって変形量が大きくなると、摩擦力が大きくな
り、中間リング33が充分に移動できなかったり、移動
に大きな力を要したり、移動距離の制御の精度が低下し
たりする恐れがある。また、無理に移動させる結果、弾
性体シール具811の摩耗が激しかったり、塵等のゴミ
が多く発生したりする恐れもある。さらに、弾性体シー
ル具811の変形が小さくなるよう弾性力を大きくする
と、真空シールが維持できない恐れもある。本実施形態
の構成によれば、剛体812があるため、弾性体シール
具811の変形が限定され、中間リング33と下側基板
保持具31との間の圧力が分散する。このため、上記の
ような問題はなく、中間リング33を充分に高い制御性
で容易に移動させることができ、ゴミの発生等の問題も
ない。
In this case, when a large force is applied to the elastic sealer 811, and the amount of deformation increases, the frictional force increases, and the intermediate ring 33 cannot move sufficiently, or requires a large force to move, or moves. The accuracy of distance control may be reduced. In addition, as a result of forcibly moving, there is a possibility that the elastic body seal member 811 will be greatly worn or that much dust such as dust will be generated. Further, if the elastic force is increased so that the elastic sealer 811 is less deformed, the vacuum seal may not be maintained. According to the configuration of the present embodiment, since the rigid body 812 is provided, the deformation of the elastic body seal member 811 is limited, and the pressure between the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 31 is dispersed. Therefore, the above problem does not occur, the intermediate ring 33 can be easily moved with sufficiently high controllability, and there is no problem such as dust generation.

【0085】本実施形態では、摩擦によるゴミの発生の
低減等の効果をさらに高く得るための工夫が施されてい
る。まず、弾性体シール具811はシリコンゴム等から
成るが、テフロン(登録商標)等の潤滑剤で表面をコー
ティングしたものが使用されている。また、剛体812
の表面も、同様に潤滑剤でコーティングされている。そ
して、弾性体シール具811や剛体812に接触する中
間リング33の下面は鏡面加工されており、さらにその
面には潤滑剤が設けられている。この潤滑剤は、具体的
には潤滑油であり、中間リング33の下面に塗布されて
いる。このような構成のため、中間リング33の移動が
小さい力で済んだり、制御が容易であったり、摩擦によ
るゴミの発生が少なくなったりする効果がさらに高く得
られるようになっている。
In the present embodiment, a device is provided to further enhance the effect of reducing the generation of dust due to friction. First, the elastic sealer 811 is made of silicon rubber or the like, but the one whose surface is coated with a lubricant such as Teflon (registered trademark) is used. In addition, the rigid body 812
The surface of the is also coated with a lubricant. The lower surface of the intermediate ring 33 that comes into contact with the elastic body seal member 811 and the rigid body 812 is mirror-finished, and the surface thereof is provided with a lubricant. This lubricant is specifically a lubricating oil and is applied to the lower surface of the intermediate ring 33. With such a configuration, the effect that the movement of the intermediate ring 33 is small, the control is easy, and the amount of dust generated by friction is reduced can be further enhanced.

【0086】また、図7に示すように、剛体812は、
弾性体シール具811よりも外側(基板保持具31,3
2の中心軸から見て遠い側)に位置している。従って、
剛体812の接触箇所でゴミが発生したとしても、その
ゴミは、弾性体シール具811により遮られ、基板9
1,92の重ね合わせを行う空間には進入しない。つま
り、剛体812が弾性体シール具811よりも外側に位
置する点も、液晶20中へのゴミの混入、基板91,9
2の素子面へのゴミの付着等を防止するのに貢献してい
る。
Further, as shown in FIG. 7, the rigid body 812 is
Outside of the elastic sealer 811 (the substrate holders 31, 3
It is located on the side farther from the central axis of 2). Therefore,
Even if dust is generated at the contact point of the rigid body 812, the dust is blocked by the elastic sealer 811, and the substrate 9
Do not enter the space where 1 and 92 are overlapped. That is, the point where the rigid body 812 is located outside the elastic body seal member 811 also means that dust is mixed in the liquid crystal 20 and the substrates 91 and 9 are disposed.
This contributes to preventing dust from adhering to the element surface of No. 2.

【0087】このような第一真空シール手段81の構成
において、剛体812は転動を行うものであるが、滑動
を行うものであっても良い。即ち、剛体812は、直方
体等の形状のブロックであり、表面にフッ素樹脂等の潤
滑剤が塗布されたものであっても良い。この場合、中間
リング33に対して剛体812は相対的に滑動する。
In such a structure of the first vacuum sealing means 81, the rigid body 812 rolls, but it may slide. That is, the rigid body 812 is a block having a rectangular parallelepiped shape or the like, and may have a surface coated with a lubricant such as a fluororesin. In this case, the rigid body 812 slides relative to the intermediate ring 33.

【0088】また、第一真空シール手段81の構成とし
ては、剛体812に代えて、中間リング33と下側基板
保持具31とを磁気的に反発させて両者の間隔を維持す
る機構でも良い。この場合は、中間リング33と下側基
板保持具31とに磁石を設け、同一極性の磁極が向かい
合うようにする。磁石を電磁石で構成し、電流を制御し
て所定の間隔が維持されるようにする。
Further, the first vacuum sealing means 81 may have a structure in which the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 31 are magnetically repulsed instead of the rigid body 812 to maintain the space between them. In this case, magnets are provided on the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 31 so that magnetic poles of the same polarity face each other. The magnet is composed of an electromagnet, and the current is controlled so that a predetermined interval is maintained.

【0089】また、中間リング33と下側基板保持具3
1との間に介在する流体の圧力を調整して間隔を維持す
る機構が採用できる。この場合は、中間リング33と下
側基板保持具31とのベローズ等でつなぎながら密閉さ
れた空間とし、この空間にガスを導入する。導入するガ
スの圧力を調整して両者の間隔を所定の値に保つ。いず
れにしても、このような間隔の維持により、弾性体シー
ル具811の変形を所定以下にすることができるととも
に、中間リング33と下側基板保持具31との接触が防
止できるので、アライメントの際に大きな力を要したり
ゴミが発生したりする問題が生じない。
Further, the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 3
It is possible to employ a mechanism for adjusting the pressure of the fluid interposed between the first and the second fluid and maintaining the space. In this case, the space is sealed by connecting the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 31 with a bellows, and gas is introduced into this space. The pressure of the introduced gas is adjusted to keep the distance between them at a predetermined value. In any case, by maintaining such an interval, the deformation of the elastic body seal member 811 can be kept below a predetermined level, and the contact between the intermediate ring 33 and the lower substrate holder 31 can be prevented, so that the alignment can be prevented. In this case, there is no problem that a large force is required and dust is generated.

【0090】真空シールに関する本実施形態の別の大き
な特徴点は、開閉機構5により開閉の際に接触したり離
間したりするシール部を真空シールする第二真空シール
手段82が、上述した第一真空シール手段81とは別に
設けられている点である。以下、この点について説明す
る。
Another major feature of the present embodiment relating to the vacuum seal is that the second vacuum seal means 82 for vacuum-sealing the seal portion which is brought into contact with or separated from the open / close mechanism 5 at the time of opening / closing is the above-mentioned first. The point is that it is provided separately from the vacuum sealing means 81. Hereinafter, this point will be described.

【0091】開閉機構5により開閉の際に接触したり離
間したりする部材は、本実施形態では、上側基板保持具
32と中間リング33である。従って、第二真空シール
部材は、上側基板保持具32と中間リング33との間の
真空シールするようになっている。第二真空シール手段
82は、第一真空シール手段81とは異なり、弾性体シ
ール具821のみから構成されている。この弾性体シー
ル具821も、典型的にはOリング等である。中間リン
グ33の上面には、図7に示すような断面台形状の溝が
周状に設けられており、この溝内に弾性体シール具82
1が填め込まれている。弾性体シール具821は、真空
シールしない状態では溝から少し突出する形状である
が、真空シール時には、上側基板保持具32によって押
しつぶされるようにして上側基板保持具32に接触し、
真空シールを確保するようになっている。
The members that come into contact with or separate from each other by the opening / closing mechanism 5 at the time of opening / closing are the upper substrate holder 32 and the intermediate ring 33 in this embodiment. Therefore, the second vacuum seal member is adapted to perform a vacuum seal between the upper substrate holder 32 and the intermediate ring 33. Unlike the first vacuum sealing means 81, the second vacuum sealing means 82 is composed of only the elastic body sealing tool 821. The elastic sealer 821 is also typically an O-ring or the like. A groove having a trapezoidal cross section as shown in FIG. 7 is circumferentially provided on the upper surface of the intermediate ring 33, and the elastic body sealing member 82 is provided in the groove.
1 is filled. The elastic body sealing member 821 has a shape that slightly protrudes from the groove in a state where the vacuum sealing is not performed.
It is designed to secure a vacuum seal.

【0092】このような第二真空シール手段82を採用
する構成は、以下のような技術的意義を有する。本実施
形態の構成において、第二真空シール手段82を設けな
いようにすることも不可能ではない。例えば、中間リン
グ33を上側基板保持具32と一体のものにすれば(中
間リング33を設けなければ)、第二真空シール手段8
2は不要である。しかしながら、このようにすると、開
閉機構5による開閉の際、上側基板保持具32と下側基
板保持具31とが接触したり離間したりすることにな
る。つまり、第一真空シール手段81において、大気開
放と真空シールとを繰り返すことになる。
The construction employing such second vacuum sealing means 82 has the following technical significance. In the configuration of this embodiment, it is not impossible not to provide the second vacuum sealing means 82. For example, if the intermediate ring 33 is integrated with the upper substrate holder 32 (if the intermediate ring 33 is not provided), the second vacuum sealing means 8
2 is unnecessary. However, in this case, when the opening / closing mechanism 5 opens and closes, the upper substrate holder 32 and the lower substrate holder 31 come into contact with or separate from each other. That is, in the first vacuum sealing means 81, opening to the atmosphere and vacuum sealing are repeated.

【0093】しかしながら、第一真空シール手段81の
部分が大気に開放されると、ゴミの付着の問題が生じ易
い。弾性体シール具811の表面にゴミが付着すると、
アライメントの際に中間リング33に擦り付けられる結
果、弾性体シール具811の表面が傷つき、弾性体シー
ル具811の性能が低下してリーク(真空の漏れ)が生
じやすくなる。また、中間リング33の下面にゴミが付
着すると、弾性体シール具811が擦り付けられる結
果、ゴミによって鏡面に傷が付き、摩擦力が大きくなる
等の問題が生じることがある。さらに、開閉のたびに、
弾性体シール具811及び剛体812に対して中間リン
グ33が接触と離間を繰り返す結果、潤滑剤が摩耗した
り、潤滑剤が削れてゴミになったりすることもあり得
る。
However, if the portion of the first vacuum sealing means 81 is opened to the atmosphere, the problem of dust adhesion tends to occur. If dust adheres to the surface of the elastic sealer 811,
As a result of being rubbed against the intermediate ring 33 at the time of alignment, the surface of the elastic body sealing tool 811 is damaged, the performance of the elastic body sealing tool 811 deteriorates, and a leak (vacuum leakage) easily occurs. Further, when dust adheres to the lower surface of the intermediate ring 33, the elastic body seal member 811 is rubbed, and as a result, the mirror surface may be scratched by the dust and the frictional force may increase. Furthermore, each time it is opened and closed,
As a result of the intermediate ring 33 repeatedly contacting and separating from the elastic body seal member 811 and the rigid body 812, the lubricant may be worn or the lubricant may be scraped to become dust.

【0094】本実施形態の構成によれば、第二真空シー
ル手段82があるため、第一真空シール手段81の部分
において開閉を行う必要はなく、常時真空シールの構成
とすることができる。従って、上述したような問題は本
実施形態においては無い。尚、真空重ね合わせモジュー
ル3は、各部の制御を行う不図示の重ね合わせ制御部を
有している。重ね合わせ制御部は、複数の距離センサか
らの信号に従い、一対の基板のギャップ長や平行度を判
断する判断部を備えている。判断部は、各距離センサか
らの信号を比較して平行度を判断するとともに、各距離
センサからの信号を平均するなどしてギャップ長を判断
するようになっている。さらに、重ね合わせ制御部は、
位置ずれ検出センサからの信号に従い、一対の基板の板
面方向の位置関係が所定のものになっているかを判断す
る判断部も備えている。そして、このような重ね合わせ
制御部は、ギャップ出し用移動手段やアライメント用移
動手段に制御信号を送るようになっている。
According to the configuration of this embodiment, since the second vacuum sealing means 82 is provided, it is not necessary to open and close the portion of the first vacuum sealing means 81, and the vacuum sealing can be always performed. Therefore, the problem described above does not occur in this embodiment. The vacuum stacking module 3 has a stacking control unit (not shown) that controls each unit. The overlay control unit includes a determination unit that determines the gap length and parallelism of the pair of substrates according to signals from the plurality of distance sensors. The determination unit is configured to compare the signals from the distance sensors to determine the parallelism and also to determine the gap length by averaging the signals from the distance sensors. Furthermore, the overlay control unit
A determination unit is also provided that determines whether the positional relationship between the pair of substrates in the plate surface direction is predetermined according to a signal from the displacement detection sensor. Then, such a superposition control section sends a control signal to the gap moving means and the alignment moving means.

【0095】次に、上記構成に係る真空重ね合わせモジ
ュール3の動作について説明する。図12及び図13
は、本実施形態における真空重ね合わせモジュール3の
動作について説明する図である。図12の(1)(2)
(3)、続いて、図13の(1)(2)(3)の順に動
作が進行することを示している。尚、図12及び図13
は、図7に示すモジュールのほぼ右半分を示したもので
ある。
Next, the operation of the vacuum superposition module 3 having the above structure will be described. 12 and 13
[Fig. 6] is a view for explaining the operation of the vacuum superposition module 3 in the present embodiment. 12 (1) and (2)
(3) indicates that the operation proceeds in the order of (1), (2), and (3) of FIG. 12 and 13
Shows almost the right half of the module shown in FIG.

【0096】また、図12及び図13は、図7には示さ
れていないモジュールの詳細な構成が一部示されてい
る。まず、図12(1)〜(3)に示すように、一対の
基板保持具31,32のそれぞれには、基板91,92
の受け渡し用のリフトピン316,328が設けられて
いる。各基板保持具31,32には、リフトピン31
6,328用の貫通孔が設けられている。貫通孔は垂直
な方向に長く、リフトピン316,328も垂直な姿勢
で貫通孔内に配置されている。尚、貫通孔及びリフトピ
ン316,328は、各基板保持具31,32に複数
(例えば四つ)均等に設けられている。
12 and 13 partially show the detailed structure of the module not shown in FIG. First, as shown in FIGS. 12A to 12C, the pair of substrate holders 31 and 32 have substrates 91 and 92, respectively.
Lift pins 316 and 328 for delivering the above are provided. The lift pins 31 are attached to the substrate holders 31 and 32.
Through holes for 6, 328 are provided. The through holes are long in the vertical direction, and the lift pins 316 and 328 are also arranged in the through holes in a vertical posture. A plurality of (for example, four) through holes and lift pins 316 and 328 are evenly provided in each of the substrate holders 31 and 32.

【0097】各リフトピン316,328には、リフト
ピン316,328を上下動させる不図示の昇降機構が
設けられている。また、リフトピン316,328は管
状であり、先端の開口の部分で基板を真空吸着できるよ
うになっている。即ち、リフトピン328を通して真空
吸引する不図示の真空ポンプが設けられている。また、
図13(3)に示すように、下側基板保持具31には、
仮止め用の光照射部317が設けられている。光照射部
317は、本実施形態では、光ファイバ318の先端部
となっている。光ファイバ318は、紫外線ランプ31
9からの光を導いてシールに照射するものとなってい
る。尚、光ファイバ318の先端は複数に分岐してお
り、光照射部317は、下側基板保持具31に複数均等
に設けられている。
Each lift pin 316, 328 is provided with a lift mechanism (not shown) for moving the lift pins 316, 328 up and down. The lift pins 316 and 328 are tubular, and the substrate can be vacuum-sucked at the opening at the tip. That is, a vacuum pump (not shown) that suctions vacuum through the lift pins 328 is provided. Also,
As shown in FIG. 13C, the lower substrate holder 31 has
A light irradiation unit 317 for temporary fixing is provided. The light irradiation section 317 is the tip of the optical fiber 318 in this embodiment. The optical fiber 318 is used for the ultraviolet lamp 31.
The light from 9 is directed to irradiate the seal. The tip of the optical fiber 318 is branched into a plurality of parts, and a plurality of light irradiation parts 317 are evenly provided on the lower substrate holder 31.

【0098】まず、一対の基板91,92の搬入動作に
ついて、図12(1)〜(3)に従って説明する。ま
ず、搬送ロボット121は、上側基板92を第二基板搬
入部102から取り出す。上側基板92は、搬送ロボッ
ト121のフォーク123に真空吸着されながら保持さ
れて真空重ね合わせモジュール3に搬送され、所定位置
で停止する。尚、上側基板92は、下側が素子面になる
ので、上側の面で真空吸着されて搬送される。そして、
図12(1)に示すように、上側基板保持具32のリフ
トピン(以下、上側リフトピン)328が下降し、上側
基板92を真空吸着する。この際、上側リフトピン32
8は、フォーク123に干渉しない位置で下降して真空
吸着する。フォーク123の真空吸着が解除された後、
フォーク123は、上側基板92が上昇しても接触しな
い位置まで後退する。そして、図12(2)に示すよう
に、上側リフトピン328が上昇し、上側基板92が保
持ヘッド323に接触する位置で停止する。そして、真
空吸着機構が動作し、上側基板92が保持ヘッド323
に真空吸着される。その後、上側リフトピン328は、
真空吸着を解除した後、さらに上昇し、所定の待機位置
で停止する。
First, the loading operation of the pair of substrates 91 and 92 will be described with reference to FIGS. 12 (1) to 12 (3). First, the transfer robot 121 takes out the upper substrate 92 from the second substrate loading unit 102. The upper substrate 92 is held while being vacuum-adsorbed by the fork 123 of the transfer robot 121, transferred to the vacuum stacking module 3, and stopped at a predetermined position. Since the lower side of the upper substrate 92 is the element surface, the upper substrate 92 is vacuum-sucked and conveyed by the upper surface. And
As shown in FIG. 12A, the lift pins (hereinafter, upper lift pins) 328 of the upper substrate holder 32 are lowered, and the upper substrate 92 is vacuum-sucked. At this time, the upper lift pin 32
The reference numeral 8 descends at a position where it does not interfere with the fork 123 and is vacuum-adsorbed. After the vacuum suction of the fork 123 is released,
The fork 123 retracts to a position where it does not come into contact with the upper substrate 92 even if the upper substrate 92 rises. Then, as shown in FIG. 12B, the upper lift pins 328 rise and stop at the position where the upper substrate 92 contacts the holding head 323. Then, the vacuum suction mechanism operates and the upper substrate 92 holds the holding head 323.
Is vacuum-adsorbed by. Then, the upper lift pin 328
After releasing the vacuum suction, it further rises and stops at a predetermined standby position.

【0099】次に、搬送ロボット121は、液晶滴下さ
れた下側基板91を液晶滴下モジュール2から取り出
し、真空重ね合わせモジュール3に搬送する。下側基板
91も、同様に搬送ロボット121のフォーク123に
真空吸着されながら保持され、真空重ね合わせモジュー
ル3内の所定位置で停止する。下側基板91は上側が素
子面なので、下側で真空吸着される。そして、フォーク
123の真空吸着を解除した後、下側基板保持具31の
リフトピン(以下、下側リフトピン)316が上昇して
下側基板91の下面に接触する。そして、フォーク12
3は、下側基板91が下降しても接触しない位置まで後
退し、その後、所定距離下降する。この結果、図12
(3)に示すように、下側基板91は静電吸着プレート
311の上に載置された状態となる。その後、静電吸着
プレート311の真空吸着機構が動作して下側基板91
が静電吸着プレート311に真空吸着される。下側リフ
トピン316は、さらに下降して所定の待機位置で停止
する。
Next, the transfer robot 121 takes out the lower substrate 91 on which the liquid crystal has been dropped from the liquid crystal dropping module 2 and transfers it to the vacuum stacking module 3. Similarly, the lower substrate 91 is also held while being vacuum-sucked by the fork 123 of the transfer robot 121, and stopped at a predetermined position in the vacuum stacking module 3. Since the upper side of the lower substrate 91 is the element surface, vacuum suction is performed on the lower side. Then, after the vacuum suction of the fork 123 is released, the lift pins (hereinafter, lower lift pins) 316 of the lower substrate holder 31 are raised and come into contact with the lower surface of the lower substrate 91. And fork 12
3 retreats to a position where it does not contact even if the lower substrate 91 descends, and then descends a predetermined distance. As a result, FIG.
As shown in (3), the lower substrate 91 is placed on the electrostatic attraction plate 311. Then, the vacuum suction mechanism of the electrostatic suction plate 311 operates to operate the lower substrate 91.
Are vacuum-adsorbed on the electrostatic adsorption plate 311. The lower lift pin 316 further descends and stops at a predetermined standby position.

【0100】次に、図7に示す開閉機構5が動作し、上
側基板保持具32が下限位置に位置するよう所定距離下
降させる。これにより、図13(1)に示すように、上
側基板保持具32と中間リング33とが接触し、第二真
空シール手段82により真空シールが達成される。この
状態で、排気系41が動作し、一対の基板保持具31,
32と中間リング33とから成る真空容器内を所定の圧
力まで排気する。この際、隔膜322の背後の閉空間3
26内も同様に排気され、真空容器内と同程度の真空圧
力とされる。また、排気開始と同時に静電吸着機構を動
作させ基板91,92を静電吸着するとともに、真空吸
着を解除する。尚、後述するアライメントの動作が阻害
されないよう、上側基板保持具32と中間リング33と
が接触した後、不図示の機構により、保持部材51は開
閉駆動源52から切り離される。
Next, the opening / closing mechanism 5 shown in FIG. 7 operates to lower the upper substrate holder 32 by a predetermined distance so as to be located at the lower limit position. As a result, as shown in FIG. 13A, the upper substrate holder 32 and the intermediate ring 33 come into contact with each other, and the second vacuum sealing means 82 achieves vacuum sealing. In this state, the exhaust system 41 operates and the pair of substrate holders 31,
The inside of the vacuum container composed of 32 and the intermediate ring 33 is evacuated to a predetermined pressure. At this time, the closed space 3 behind the diaphragm 322
The inside of 26 is also evacuated in the same manner and the vacuum pressure is set to the same level as the inside of the vacuum container. At the same time as the start of evacuation, the electrostatic adsorption mechanism is operated to electrostatically adsorb the substrates 91 and 92, and the vacuum adsorption is released. Note that the holding member 51 is separated from the opening / closing drive source 52 by a mechanism (not shown) after the upper substrate holder 32 and the intermediate ring 33 have come into contact with each other so that the alignment operation described later is not hindered.

【0101】次に、ギャップ出し用移動手段及びアライ
メント用移動手段7が動作し、ギャップ出しとアライメ
ントが行われる。まず、本装置において最終的に達成す
べきギャップ長として設定されている所定の値(以下、
ギャップ長設定値)よりも少し大きなギャップ長(以
下、ギャップ長スタンバイ値)になるようにする。即
ち、ギャップ出し用移動手段が、押圧駆動源612を動
作させ、保持ヘッド323を下降させ、一対の基板9
1,92のギャップ長がギャップ長スタンバイ値になる
ようにする。尚、ギャップ長スタンバイ値の状態では、
上側基板92は下側基板91上のシールには接触してい
ない。つまり、ギャップ長スタンバイ値は、シールの塗
布高さよりも充分に大きな値となっている。
Next, the gap moving means and the alignment moving means 7 are operated to perform gap forming and alignment. First, a predetermined value set as the gap length to be finally achieved in this device (hereinafter,
The gap length (hereinafter, gap length standby value) is set to be slightly larger than the gap length setting value. That is, the gap moving means operates the pressing drive source 612, lowers the holding head 323, and moves the pair of substrates 9
The gap length of 1,92 is set to the gap length standby value. In the state of the gap length standby value,
The upper substrate 92 is not in contact with the seal on the lower substrate 91. That is, the gap length standby value is sufficiently larger than the seal coating height.

【0102】この状態で、まず平行度を所定の高い値に
する動作を行う。即ち、各距離センサ63からの信号に
より不図示の重ね合わせ制御部が平行度を求め、それが
所定の高い値になっているかを不図示の判断部が判断す
る。平行度が所定の高い値になっていないと判断される
と、重ね合わせ制御部は、押圧機構61の各押圧駆動源
612に制御信号を送り、一対の基板91,92が平行
になるように各押圧駆動源612を制御する。即ち、特
定の距離センサ63で測定された距離が他の距離センサ
63で測定された距離に比べて長い場合、その距離セン
サ63の上方に位置する(対になっている)押圧ロッド
611が少し下方に変位するようにその押圧ロッド61
1を駆動する押圧駆動源612に制御信号を送る。この
ようにして各押圧駆動源612を制御し、各距離センサ
63からの信号の大きさを比べる。そして、各距離セン
サ63からの信号の大きさの違いが所定の小さい範囲内
であると判断されたら、一対の基板91,92の平行度
が所定の高い値であるとする。
In this state, first, the operation of setting the parallelism to a predetermined high value is performed. That is, the overlay control unit (not shown) obtains the parallelism from the signals from the distance sensors 63, and the determination unit (not shown) determines whether the parallelism is a predetermined high value. When it is determined that the parallelism has not reached a predetermined high value, the superposition control section sends a control signal to each pressing drive source 612 of the pressing mechanism 61 so that the pair of substrates 91 and 92 become parallel to each other. Each pressing drive source 612 is controlled. That is, when the distance measured by the specific distance sensor 63 is longer than the distance measured by the other distance sensor 63, the pressing rod 611 located above the distance sensor 63 (in a pair) is slightly moved. The pressing rod 61 is displaced downward.
A control signal is sent to the pressing drive source 612 which drives 1. In this way, each pressing drive source 612 is controlled, and the magnitude of the signal from each distance sensor 63 is compared. Then, when it is determined that the difference in the magnitude of the signal from each distance sensor 63 is within a predetermined small range, the parallelism between the pair of substrates 91 and 92 is set to a predetermined high value.

【0103】次に、アライメントを行う。即ち、位置ず
れ検出センサ75によって二つのアライメントマークを
撮像する。撮像されたイメージデータは、重ね合わせ制
御部において処理されてデジタル化され、位置ずれが算
出される。そして、位置ずれを補正するよう重ね合わせ
制御部がアライメント用移動手段7の各ユニット71,
72,73,74の直線駆動源702に制御信号を送
る。制御信号に従って直線駆動源702が駆動され、
X、Y及び/又はθの各方向に上側基板92が移動す
る。引き続き位置ずれ検出センサ75から送られる二つ
のアライメントマークのイメージデータから、位置ずれ
が補正されたと重ね合わせ制御部が判断すると、アライ
メントが完了する。
Next, alignment is performed. That is, the positional deviation detection sensor 75 images the two alignment marks. The captured image data is processed and digitized by the superposition control unit, and the positional deviation is calculated. Then, the superposition control section adjusts each unit 71 of the alignment moving means 7 so as to correct the positional deviation.
A control signal is sent to the linear drive sources 702 of 72, 73, and 74. The linear drive source 702 is driven according to the control signal,
The upper substrate 92 moves in each of the X, Y and / or θ directions. When the overlay control unit determines that the positional deviation is corrected from the image data of the two alignment marks sent from the positional deviation detection sensor 75, the alignment is completed.

【0104】この状態で、次に、ギャップ出し用移動手
段が再び動作し、上側基板92を下側基板91に向けて
板面方向に移動させ、ギャップ長がギャップ長設定値に
なるようにする。即ち、重ね合わせ制御部は、ギャップ
長がギャップ長設定値になるように四つの押圧駆動源6
12に同様に制御信号を送る。しかしながら、各押圧駆
動源612による押圧力のみでは足らない場合が多く、
所定時間経過後もギャップ長はギャップ長設定値になら
ない。この場合、重ね合わせ制御部は、補助排気管62
3上の補助バルブ624を閉じ、不図示のボンベにつな
がるバルブ625及び差圧用主バルブ622を開け、閉
空間326内を加圧する。この結果、真空と大気圧との
差圧に加えて、大気圧より高い圧力と真空との差圧によ
り上側基板92が下側基板91に向けて押圧される。
In this state, the gap moving means is operated again to move the upper substrate 92 toward the lower substrate 91 in the plate surface direction so that the gap length becomes the gap length set value. . That is, the superposition control unit controls the four pressing drive sources 6 so that the gap length becomes the gap length setting value.
Similarly, a control signal is sent to 12. However, in many cases, the pressing force by each pressing drive source 612 is not sufficient,
The gap length does not reach the gap length set value even after the lapse of a predetermined time. In this case, the superposition control unit is configured to operate the auxiliary exhaust pipe 62.
3, the auxiliary valve 624 on the upper part 3 is closed, the valve 625 connected to a cylinder (not shown) and the differential pressure main valve 622 are opened, and the inside of the closed space 326 is pressurized. As a result, in addition to the pressure difference between the vacuum and the atmospheric pressure, the upper substrate 92 is pressed toward the lower substrate 91 by the pressure difference higher than the atmospheric pressure and the vacuum.

【0105】そして、四つの距離センサ63からの出力
を平均して得られたギャップ長がギャップ長設定値にな
るよう、不図示の圧力調整器に信号を送り、差圧印加機
構62を負帰還制御する。ギャップ長がギャップ長設定
値に一致したと判断されたら、位置ずれ検出センサ75
からの信号により位置ずれがないか重ね合わせ制御部が
もう一度判断する。
Then, a signal is sent to a pressure regulator (not shown) so that the gap length obtained by averaging the outputs from the four distance sensors 63 becomes the gap length set value, and the differential pressure applying mechanism 62 is fed back negatively. Control. If it is determined that the gap length matches the gap length setting value, the position shift detection sensor 75
The overlay control unit determines once again whether there is any positional deviation according to the signal from.

【0106】位置ずれがあると判断された場合、アライ
メントを再び行うが、この際、上側基板92を少し上昇
させる。ギャップ長設定値の状態では、上側基板92は
下側基板91上のシールに接触している。この状態で再
びアライメントを行おうとすると、粘性の高いシールに
接触しているため、上側基板92を動かすのに非常に大
きな力が必要になってしまう。また、滴下式の場合、ギ
ャップ内に液晶があるため、この問題は顕著である。さ
らに、ギャップ長設定値の状態でアライメントを行おう
とすると、上側基板92がスペーサを引きずってしま
い、基板91,92の表面に傷が付いてしまうことがあ
る。
If it is determined that there is a positional deviation, the alignment is performed again, but at this time, the upper substrate 92 is slightly raised. In the state of the gap length setting value, the upper substrate 92 is in contact with the seal on the lower substrate 91. If alignment is attempted again in this state, a very large force is required to move the upper substrate 92 because it is in contact with the highly viscous seal. Further, in the case of the dropping type, since the liquid crystal exists in the gap, this problem is remarkable. Furthermore, if an attempt is made to perform alignment with the gap length set value, the upper substrate 92 may drag the spacer, and the surfaces of the substrates 91 and 92 may be scratched.

【0107】このようなことから、本実施形態では、ギ
ャップ長設定値の状態から上側基板92を少し浮かせ、
その状態で再度アライメントを行う。この際のギャップ
長は、ギャップ長スタンバイ値でも良いし、ギャップ長
スタンバイ値よりは短いものの、上側基板92がシール
から離れることが可能な長さとしても良い。このように
して再度アライメントをした後、再び上側基板92を下
降させてギャップ出しを行う。再びギャップ出しを行う
前に、もう一度平行度を確認するようにすると好適であ
る。平行度が所定の高い値になっていなかったら、前述
したように各押圧駆動源612を制御して平行度を出す
動作をする。
Therefore, in the present embodiment, the upper substrate 92 is slightly lifted from the state of the gap length setting value,
Alignment is performed again in that state. The gap length at this time may be a gap length standby value, or may be a length that is shorter than the gap length standby value but allows the upper substrate 92 to separate from the seal. After performing the alignment again in this manner, the upper substrate 92 is lowered again to form the gap. It is preferable to check the parallelism again before performing the gap formation again. If the parallelism does not reach a predetermined high value, the pressing drive sources 612 are controlled to obtain parallelism as described above.

【0108】再びギャップ出しを行って、ギャップ長が
ギャップ長設定になっており、位置ずれも発生していな
いと判断されたら、図13(3)に示すように、シール
の仮止めを行う。即ち、光照射部317より紫外線をス
ポット的に照射して、シールを部分的に硬化させる。こ
れにより、下側基板91と上側基板92とが貼り合わさ
れ、液晶ディスプレイパネル93が出来上がる。その
後、保持ヘッド323の静電吸着機構の動作を停止し、
保持ヘッド323による上側基板92の保持を解除す
る。そして、閉空間326内を排気して真空容器内と同
程度の圧力にするとともに、押圧用駆動源612を動作
させて保持ヘッド323を当初の位置まで上昇させる。
When it is judged that the gap has been set again and the gap length has been set to the gap length and no positional deviation has occurred, the seal is temporarily fixed as shown in FIG. 13C. That is, ultraviolet rays are spotwise irradiated from the light irradiation unit 317 to partially cure the seal. As a result, the lower substrate 91 and the upper substrate 92 are bonded together, and the liquid crystal display panel 93 is completed. After that, the operation of the electrostatic attraction mechanism of the holding head 323 is stopped,
The holding of the upper substrate 92 by the holding head 323 is released. Then, the inside of the closed space 326 is evacuated to the same pressure as in the vacuum container, and the pressing drive source 612 is operated to raise the holding head 323 to the initial position.

【0109】次に、真空容器内にガスを導入して大気圧
とし、開閉機構5を動作させて上側基板保持具32を上
限位置まで上昇させる。その後、静電吸着プレート31
1の静電吸着機構を停止し、下側リフトピン316を上
昇させる。この結果、一対の基板91,92は下側リフ
トピン316によって持ち上げられ、静電吸着プレート
311から離れる。その後、搬送ロボット121は、出
来上がった液晶ディスプレイパネル93を真空吸着しな
がら保持し、真空重ね合わせモジュール3から搬出す
る。
Next, gas is introduced into the vacuum container to bring it to atmospheric pressure, and the opening / closing mechanism 5 is operated to raise the upper substrate holder 32 to the upper limit position. After that, the electrostatic attraction plate 31
The electrostatic attraction mechanism of No. 1 is stopped and the lower lift pin 316 is raised. As a result, the pair of substrates 91 and 92 are lifted by the lower lift pins 316 and separated from the electrostatic attraction plate 311. After that, the transfer robot 121 holds the completed liquid crystal display panel 93 while vacuum-sucking it, and carries it out from the vacuum stacking module 3.

【0110】次に、本実施形態の統合型液晶ディスプレ
イパネル組立装置の全体の動作について概略的に説明す
る。駆動素子やカラーフィルタの形成等の前工程が終了
した下側基板91及び上側基板92は、洗浄などの必要
な処理の後、第一基板搬入部101及び第二基板搬入部
102に所定の同じ数だけ収容される。装置の1ロット
の動作がスタートすると、主制御部は、搬送ロボット1
21を制御して、まず第一基板搬入部101から下側基
板91を一枚取り出し、シール形成モジュール1に搬送
する。この下側基板91に対するシール形成が終了する
と、主制御部は、この下側基板91を液晶滴下モジュー
ル2に搬送する。液晶滴下モジュール2での液晶滴下に
並行して、主制御部は、次の下側基板91を第一基板搬
入部101から取り出し、シール形成モジュール1に搬
送し、シール形成を行わせる。
Next, the overall operation of the integrated liquid crystal display panel assembling apparatus of this embodiment will be briefly described. The lower substrate 91 and the upper substrate 92 that have undergone the pre-processes such as the formation of the driving elements and the color filters are subjected to the necessary processing such as cleaning, and then are transferred to the first substrate loading unit 101 and the second substrate loading unit 102 in the same predetermined manner. Only the number is accommodated. When the operation of one lot of the apparatus is started, the main control unit sets the transfer robot 1
21 is controlled to first take out one lower substrate 91 from the first substrate loading unit 101 and conveys it to the seal forming module 1. When the formation of the seal on the lower substrate 91 is completed, the main controller transfers the lower substrate 91 to the liquid crystal dropping module 2. In parallel with the liquid crystal dropping in the liquid crystal dropping module 2, the main control unit takes out the next lower substrate 91 from the first substrate loading unit 101, conveys it to the seal forming module 1, and causes it to form a seal.

【0111】液晶滴下モジュール2で最初の下側基板9
1に液晶滴下が行われ、シール形成モジュール1で次の
下側基板91にシール形成が行われている間、搬送ロボ
ット121は、第二基板搬入部102から上側基板92
を取り出し、真空重ね合わせモジュール3に搬送する。
そして、前述したように、真空重ね合わせモジュール3
内で上側基板92は保持ヘッド323に真空吸着され、
この姿勢で待機する。
First lower substrate 9 in liquid crystal dropping module 2
While the liquid crystal is dropped on the first substrate 1 and the seal is formed on the next lower substrate 91 by the seal forming module 1, the transfer robot 121 moves from the second substrate loading unit 102 to the upper substrate 92.
Is taken out and conveyed to the vacuum superposition module 3.
Then, as described above, the vacuum stacking module 3
Inside, the upper substrate 92 is vacuum-adsorbed by the holding head 323,
Stand by in this position.

【0112】液晶滴下モジュール2での最初の下側基板
91に対する液晶滴下が終了すると、主制御部は、搬送
ロボット121を制御してその下側基板91を真空重ね
合わせモジュール3に搬送させる。下側基板91は静電
吸着プレート311の上に載置され、前述したように、
アライメントとギャップ出しを行いながら、下側基板9
1の上に上側基板92が重ね合わされ、液晶ディスプレ
イパネル93が出来上がる。シールの仮硬化が行われた
後、主制御部は、搬送ロボット121に液晶ディスプレ
イを真空重ね合わせモジュール3から取り出させ、パネ
ル搬出部103に搬送させる。
When the liquid crystal dropping on the first lower substrate 91 in the liquid crystal dropping module 2 is completed, the main controller controls the transfer robot 121 to transfer the lower substrate 91 to the vacuum superposition module 3. The lower substrate 91 is placed on the electrostatic attraction plate 311, and as described above,
Lower substrate 9 while performing alignment and gap formation
The upper substrate 92 is overlaid on top of 1, and the liquid crystal display panel 93 is completed. After the temporary curing of the seal is performed, the main control unit causes the transfer robot 121 to take out the liquid crystal display from the vacuum stacking module 3 and transfer it to the panel discharge unit 103.

【0113】一方、真空重ね合わせモジュール3での重
ね合わせに並行して、液晶滴下モジュール2には次の下
側基板91が搬送されて液晶滴下が行われる。また、シ
ール形成モジュール1には、さらに次の下側基板91が
搬送されてシール形成が行われる。このようにして、シ
ール形成モジュール1でのシール形成、液晶滴下モジュ
ール2での液晶滴下、真空重ね合わせモジュール3での
重ね合わせを同時進行的に行いながら、次々に液晶ディ
スプレイパネル93の組立を行っていく。上側基板92
は、組み立てられた液晶ディスプレイパネル93が取り
出されるたびに、真空重ね合わせモジュール3に予め搬
送され、下側基板91を待つ待機の姿勢を取る。尚、主
制御部は、必要に応じてロボット移動機構122を動作
させ、搬送ロボット121の動作範囲を越える搬送に対
応させる。
On the other hand, in parallel with the stacking in the vacuum stacking module 3, the next lower substrate 91 is conveyed to the liquid crystal dropping module 2 to drop the liquid crystal. Further, the next lower substrate 91 is further conveyed to the seal forming module 1 to form a seal. In this manner, the liquid crystal display panel 93 is assembled one after another while simultaneously performing the seal formation in the seal forming module 1, the liquid crystal dropping in the liquid crystal dropping module 2, and the superposition in the vacuum superposing module 3. To go. Upper substrate 92
Each time the assembled liquid crystal display panel 93 is taken out, it is preliminarily conveyed to the vacuum stacking module 3 and waits for the lower substrate 91. The main control unit operates the robot moving mechanism 122 as necessary to cope with conveyance exceeding the operation range of the conveyance robot 121.

【0114】第一基板搬入部101及び第二基板搬入部
102にある下側基板91及び上側基板92についてす
べて貼り合わせが終了すると、1ロットの装置の動作が
終了する。この後、組み立てられた液晶ディスプレイパ
ネル93がパネル搬出部103から取り出され、シール
の本硬化を行った後、表示テスト工程等にまわされる。
そして、第一基板搬入部101及び第二基板搬入部10
2に次のロットの下側基板91及び上側基板92が配置
される。この状態で、次のロットの動作が開始される。
When the lower substrate 91 and the upper substrate 92 in the first substrate carry-in section 101 and the second substrate carry-in section 102 are all bonded together, the operation of the apparatus for one lot is completed. After that, the assembled liquid crystal display panel 93 is taken out from the panel unloading section 103, and after the seal is fully cured, it is sent to a display test process or the like.
Then, the first substrate loading unit 101 and the second substrate loading unit 10
The lower substrate 91 and the upper substrate 92 of the next lot are arranged in No. 2. In this state, the operation of the next lot is started.

【0115】本実施形態では、一つの装置により後工程
全体即ち液晶ディスプレイパネル93の組立が行え、従
来のように個別に装置をレイアウトする必要がない。こ
のため、製造ラインの省スペース化や簡略化が可能にな
る。装置を高いクラスのクリーンルーム(例えばクラス
10〜100)内に配置することが可能になり、その場
合のコストもそれほど大きなものにはならない。従っ
て、ゴミ等の混入防止が厳しく要求されつつある高性能
の液晶ディスプレイパネル93の組立に非常に適したも
のとなっている。
In this embodiment, the whole post-process, that is, the liquid crystal display panel 93 can be assembled by one device, and it is not necessary to individually lay out the device. Therefore, it is possible to save space and simplify the manufacturing line. It becomes possible to arrange the device in a high class clean room (for example, class 10 to 100), and the cost in that case is not so large. Therefore, it is very suitable for assembling the high-performance liquid crystal display panel 93 in which the prevention of dust and the like is strictly required.

【0116】加えて、本実施形態の装置では、真空中で
下側基板91と上側基板92との重ね合わせが行われ
る。このため、ゴミや異物が挟み込まれてしまう恐れが
さらに低くなっており、この点でも高性能の液晶ディス
プレイパネル93の組立に非常に適したものとなってい
る。さらに、本実施形態では、各モジュール間で下側基
板91等は滞留せず、そのまま次のモジュールへ搬送さ
れる。これは、統合型である本実施形態の装置ならでは
のことである。従来のように、シール形成装置、液晶滴
下装置、基板重ね合わせ装置等が独立して存在している
と、各々の処理時間の相違から下側基板91や上側基板
92が滞留し易い。このため、滞留を考慮してバッファ
部等が必要になり、前述したように製造ラインが大規模
化し複雑になり易い。一方、本実施形態の構成によれ
ば、バッファ部は不要であり、製造ラインが大規模にな
ったり複雑になったりすることはない。尚、この場合の
「滞留」とは、液晶基板が二枚以上同じ場所に滞ってし
まうということである。
In addition, in the apparatus of this embodiment, the lower substrate 91 and the upper substrate 92 are superposed in a vacuum. For this reason, the risk of dust and foreign matter being caught is further reduced, and in this respect also, it is very suitable for assembling the high-performance liquid crystal display panel 93. Further, in the present embodiment, the lower substrate 91 and the like do not stay between the modules and are directly conveyed to the next module. This is unique to the integrated device of this embodiment. When the seal forming device, the liquid crystal dropping device, the substrate stacking device, and the like are independently provided as in the conventional case, the lower substrate 91 and the upper substrate 92 are likely to stay due to the difference in processing time of each. For this reason, a buffer section or the like is required in consideration of retention, and as described above, the manufacturing line tends to be large-scaled and complicated. On the other hand, according to the configuration of the present embodiment, the buffer section is unnecessary, and the manufacturing line does not become large-scaled or complicated. In this case, "retention" means that two or more liquid crystal substrates stay at the same place.

【0117】また、本実施形態では、搬送系が、下側基
板91等をアーム124の先端に一枚ずつ保持して搬送
する搬送ロボット121から成るので、省スペース化し
たり下側基板91等の滞留を無くしたりすることがより
効果的にできている。搬送系の構成として、搬送コロを
使用したコンベア方式を採用することも可能である。し
かしながら、コンベア方式では、基本的に搬送速度をモ
ジュール毎に変えることができないため、液晶基板が滞
留し易い。また、コンベアとモジュールとの間で液晶基
板の受け渡しをする機構が必要になったりして、搬送系
の構成が大がかりで複雑になり易い。これに比べると、
搬送ロボット121による構成は、シンプルであり、基
板の滞留もない。
Further, in this embodiment, since the transfer system is composed of the transfer robot 121 which holds and transfers the lower substrate 91 and the like one by one to the tip of the arm 124, space is saved and the lower substrate 91 and the like are saved. It is more effective to eliminate the retention. It is also possible to adopt a conveyor system using a transport roller as the configuration of the transport system. However, in the conveyor system, since the transport speed cannot be basically changed for each module, the liquid crystal substrate easily stays. In addition, a mechanism for transferring the liquid crystal substrate between the conveyor and the module is required, and the configuration of the transport system is large and tends to be complicated. Compared to this,
The configuration of the transfer robot 121 is simple and there is no substrate retention.

【0118】尚、搬送ロボット121は一つのみから成
る方が、省スペース及びコスト低減の観点から好ましい
が、二つの搬送ロボット121を使用する場合もある。
二つの搬送ロボット121を使用する場合、液晶基板の
受け渡しを直接行っても良いが、それが困難な場合は、
受け渡し用の棚を設け、一旦棚に液晶基板を置いてから
別の搬送ロボット121が基板を受け取るようにする。
また、本実施形態では、シール形成モジュール1、液晶
滴下モジュール2及び真空重ね合わせモジュール3に対
して、クリーンルームの外部側からメンテナンス作業を
行うよう構成できるため、クリーンルーム内にオペレー
タが入ることが少なくて済み、クリーンルームの清浄度
を高く保てる。
Although it is preferable that the number of the transfer robots 121 is only one, from the viewpoints of space saving and cost reduction, two transfer robots 121 may be used.
When the two transfer robots 121 are used, the liquid crystal substrate may be directly transferred, but if it is difficult,
A transfer shelf is provided, and the liquid crystal substrate is once placed on the shelf before another transfer robot 121 receives the substrate.
Further, in this embodiment, since the seal forming module 1, the liquid crystal dropping module 2 and the vacuum stacking module 3 can be configured to perform maintenance work from the outside of the clean room, it is possible to reduce the number of operators entering the clean room. The cleanliness of the clean room can be kept high.

【0119】上記実施形態の構成において、必要に応じ
て、シールを硬化させるための硬化モジュールが増設さ
れることがある。増設される硬化モジュールは、モジュ
ール設置部130に設置される。硬化モジュールは、こ
の装置においてシールの本硬化まで行うようにする場
合、好適に採用される。硬化モジュールには、同様に光
照射により硬化を行う構成と、熱硬化を行う構成とがあ
る。どちらの構成を採用するかは、シールの性質にもよ
るが、シールが前述したように光硬化性と熱硬化性の両
方を性質を持っている場合、光硬化を行う硬化モジュー
ルと熱硬化を行う硬化モジュールの両方が増設される場
合もある。
In the configuration of the above embodiment, a curing module for curing the seal may be added if necessary. The additional curing module is installed in the module installation unit 130. The curing module is preferably used when the seal is fully cured in this apparatus. Similarly, the curing module has a configuration of performing curing by light irradiation and a configuration of performing thermal curing. Which configuration to use depends on the nature of the seal, but if the seal has both photo-curing and thermo-setting properties as described above, the curing module that performs photo-curing and the heat-curing are used. In some cases both curing modules are added.

【0120】光照射により硬化を行う場合、硬化モジュ
ールには、組み立てられた液晶ディスプレイパネル93
の全面に光照射する構成が採用される。例えば、紫外線
ランプを平行に数本並べ、液晶ディスプレイパネル93
の両側の面の全面に紫外線を照射する構成が採用され
る。照射される紫外線が、封入された液晶や内部の駆動
素子に悪影響を与える恐れがある場合、マスクが使用さ
れることもある。マスクとしては、シールにだけ紫外線
が照射されるよう、シールの形状に沿ってパターン化さ
れたものが用いられる。
When curing is performed by light irradiation, the assembled liquid crystal display panel 93 is included in the curing module.
A structure in which light is irradiated on the entire surface of is adopted. For example, by arranging several ultraviolet lamps in parallel, the liquid crystal display panel 93
A structure is adopted in which the entire surface on both sides of is irradiated with ultraviolet rays. A mask may be used when the irradiated ultraviolet rays may adversely affect the enclosed liquid crystal and the driving elements inside. As the mask, a mask patterned according to the shape of the seal is used so that only the seal is irradiated with ultraviolet rays.

【0121】また、熱硬化を行う硬化モジュールとして
は、加熱炉と同様のものが採用される。炉内に熱風を循
環させて高温を維持する構成、又は、シールの部分に熱
風を吹き付けるガスブロー加熱の構成等である。熱硬化
を行う場合、長時間(例えば1時間程度)要する場合が
多いので、硬化モジュールはバッチ式となる。即ち、複
数の液晶ディスプレイパネル93を収容して一括して加
熱・硬化を行う。
As the curing module for performing thermal curing, the same one as in a heating furnace is used. The configuration is such that hot air is circulated in the furnace to maintain a high temperature, or gas blow heating is used to blow hot air to the seal portion. When heat curing is performed, it often takes a long time (for example, about 1 hour), so the curing module is a batch type. That is, a plurality of liquid crystal display panels 93 are accommodated and collectively heated and cured.

【0122】このように本硬化用の硬化モジュールを増
設することで、本硬化の工程まで統合した装置とするこ
とができ、装置の優位性がさらに高まる。尚、真空重ね
合わせモジュール3内の光照射部317の光照射による
硬化が仮硬化ではなく本硬化的なものであっても、硬化
モジュールを増設してさらに硬化を行うこともある。こ
れは、光照射部317による光照射において、陰になっ
て充分に光がシールに照射されず硬化が不充分な場合が
あるからである。
As described above, by adding the curing module for the main curing, the apparatus can be integrated into the main curing step, and the superiority of the apparatus is further enhanced. Even if the curing by the light irradiation of the light irradiation unit 317 in the vacuum superposition module 3 is not the temporary curing but the main curing, the curing module may be additionally installed and further cured. This is because in the light irradiation by the light irradiation unit 317, there is a case where the seal is shaded and the seal is not sufficiently irradiated with light, and curing is insufficient.

【0123】硬化モジュールが増設される場合、主制御
部は、搬送ロボット121を制御して、真空重ね合わせ
モジュール3から液晶ディスプレイパネル93を取り出
した後に、硬化モジュールに搬送する。シールを完全に
硬化させた後、液晶ディスプレイパネル93は硬化モジ
ュールから取り出され、パネル搬出部103に搬送され
る。このように、本実施形態の装置は、任意のモジュー
ルの追加が可能となっているため、工程の変更に柔軟に
対応できる。従って、汎用性が極めて高い。
When a curing module is added, the main controller controls the transfer robot 121 to take out the liquid crystal display panel 93 from the vacuum stacking module 3 and then transfers it to the curing module. After the seal is completely cured, the liquid crystal display panel 93 is taken out from the curing module and conveyed to the panel unloading section 103. As described above, in the apparatus of this embodiment, it is possible to add an arbitrary module, so that it is possible to flexibly deal with a change in process. Therefore, the versatility is extremely high.

【0124】次に、第二の実施形態の統合型液晶ディス
プレイパネル組立装置について説明する。図14は、第
二の実施形態の統合型液晶ディスプレイパネル組立装置
の要部の概略を示す正面図である。第二の実施形態の装
置は、パネル搬出部103の構成が第一の実施形態と異
なっている。第二の実施形態では、専用のパネル搬出部
103は設けられておらず、第一基板搬入部101又は
第二基板搬入部102が兼用されている。即ち、装置の
動作の進行により、第一基板搬入部101及び第二基板
搬入部102には、下側基板91や上側基板92が取り
出された空きのスペースができる。不図示の主制御部
は、不図示の搬送ロボット121を制御し、組み立てら
れた液晶ディスプレイパネル93を、この空きのスペー
スに収容するようになっている。
Next, the integrated liquid crystal display panel assembling apparatus of the second embodiment will be described. FIG. 14 is a front view showing the outline of the main part of the integrated liquid crystal display panel assembly apparatus of the second embodiment. The device of the second embodiment is different from the first embodiment in the configuration of the panel carry-out section 103. In the second embodiment, the dedicated panel unloading unit 103 is not provided, and the first substrate loading unit 101 or the second substrate loading unit 102 is also used. That is, as the operation of the apparatus progresses, an empty space from which the lower substrate 91 and the upper substrate 92 are taken out is formed in the first substrate loading unit 101 and the second substrate loading unit 102. A main control unit (not shown) controls the transfer robot 121 (not shown) to house the assembled liquid crystal display panel 93 in this empty space.

【0125】第二の実施形態の装置によれば、専用のパ
ネル搬出部が無いので、その分だけコストが安く、また
省スペース化できる。尚、パネル搬出部として第一基板
搬入部101又は第二基板搬入部102を兼用する構成
は、統合型液晶ディスプレイパネル組立装置の場合に限
らず、統合型でない装置即ち下側基板91と上側基板9
2との重ね合わせのみを行う装置であっても、同様の技
術的意義を有する。この場合は、第一基板搬入部101
には、シール形成と液晶滴下が行われた下側基板91が
配置されることになる。また、この構成は、液晶ディス
プレイパネル93の組立に用いられる装置に限られず、
例えばプラズマディスプレイパネルの組立に用いられる
装置でもよい。従って、基板重ね合わせ装置一般に適用
できる。
According to the apparatus of the second embodiment, since there is no dedicated panel carry-out section, the cost is correspondingly low and the space can be saved. The configuration in which the first substrate carry-in section 101 or the second substrate carry-in section 102 is also used as the panel carry-out section is not limited to the case of the integrated liquid crystal display panel assembly apparatus, but is not an integrated type apparatus, that is, the lower board 91 and the upper board 9
Even a device that only superimposes the two has the same technical significance. In this case, the first substrate loading unit 101
In this case, the lower substrate 91 on which the seal is formed and the liquid crystal is dropped is arranged. Further, this configuration is not limited to the device used for assembling the liquid crystal display panel 93,
For example, it may be an apparatus used for assembling a plasma display panel. Therefore, it can be applied to a substrate superposition apparatus in general.

【0126】上記各実施形態において、下側基板91に
シール形成と液晶滴下が行われたが、場合によっては、
シール形成を上側基板92に行うこともある。この場
合、下側基板91に液晶を滴下した際、粘性の低い液晶
が下側基板91から流れ出してしまうのを防止するた
め、堰のようなものを下側基板91に設けることもあ
る。また、シール形成を上側基板92に行う場合、搬送
系は、下側基板91を、第一基板搬入部101から、液
晶滴下モジュール、真空重ね合わせモジュール3の順に
搬送するとともに、上側基板92を、第二基板搬入部1
02から、シール形成モジュール1、真空重ね合わせモ
ジュール3の順に搬送する。
In each of the above embodiments, the seal formation and the liquid crystal dropping are performed on the lower substrate 91, but in some cases,
A seal may be formed on the upper substrate 92. In this case, in order to prevent the liquid crystal having low viscosity from flowing out from the lower substrate 91 when the liquid crystal is dropped on the lower substrate 91, a dam-like member may be provided on the lower substrate 91. Further, when the seal is formed on the upper substrate 92, the transport system transports the lower substrate 91 from the first substrate loading unit 101 to the liquid crystal dropping module and the vacuum stacking module 3 in this order, and at the same time, transports the upper substrate 92. Second substrate loading section 1
From 02, the seal forming module 1 and the vacuum stacking module 3 are conveyed in this order.

【0127】次に、本願発明の第三の実施形態について
説明する。図15及び図16は、第三の実施形態の統合
型液晶ディスプレイパネル組立装置の主要部の概略を示
す斜視図である。この実施形態では、シール形成と液晶
滴下とが一つのモジュールで行えるようになっている。
シール形成と液晶滴下とを行うモジュール(以下、複合
モジュール)は、下側基板91が載るステージ21と、
ステージ21を駆動させるステージ駆動機構22と、シ
ール10を吐出するシールディスペンサー13と、シー
ルディスペンサー13にシール10を供給するシール供
給系14と、ステージ11に対するシールディスペンサ
ー13の位置を調節するディスペンサー位置調節機構1
5と、液晶20を放出して滴下する液晶ディスペンサー
23と、液晶ディスペンサー23に液晶20を供給する
液晶供給系24と、ステージ21に対する液晶ディスペ
ンサー23の位置を調節するディスペンサー位置調節機
構25とを備えている。
Next, a third embodiment of the present invention will be described. 15 and 16 are perspective views showing the outline of the main part of the integrated liquid crystal display panel assembling apparatus of the third embodiment. In this embodiment, the seal formation and the liquid crystal dropping can be performed by one module.
A module for performing seal formation and liquid crystal dropping (hereinafter referred to as a composite module) includes a stage 21 on which a lower substrate 91 is mounted,
A stage drive mechanism 22 that drives the stage 21, a seal dispenser 13 that discharges the seal 10, a seal supply system 14 that supplies the seal 10 to the seal dispenser 13, and a dispenser position adjustment that adjusts the position of the seal dispenser 13 with respect to the stage 11. Mechanism 1
5, a liquid crystal dispenser 23 for discharging and dropping the liquid crystal 20, a liquid crystal supply system 24 for supplying the liquid crystal 20 to the liquid crystal dispenser 23, and a dispenser position adjusting mechanism 25 for adjusting the position of the liquid crystal dispenser 23 with respect to the stage 21. ing.

【0128】図15及び図16に示すように、この実施
形態では、三つのシールディスペンサー13が備えられ
ている。三つのシールディスペンサー13は、不図示の
ホルダーによって保持されている。ディスペンサー位置
調節機構15は、ホルダーを駆動して三つのシールディ
スペンサー13を一体に移動させて位置調節するように
なっている。
As shown in FIGS. 15 and 16, in this embodiment, three seal dispensers 13 are provided. The three seal dispensers 13 are held by a holder (not shown). The dispenser position adjusting mechanism 15 drives the holder to move the three seal dispensers 13 integrally and adjust the position.

【0129】この実施形態は、一対の液晶基板91,9
2から複数の液晶ディスプレイパネルが製作される場合
を想定したものである。携帯電話用のような小さな液晶
ディスプレイパネルの場合、貼り合わせた一対の液晶基
板91,92を切断した後、最終的に液晶ディスプレイ
パネルの組立が完了する場合がある。このような場合、
一対の液晶基板91,92の素子面は、各々の液晶ディ
スプレイパネル用に領域が区分され、各区分に駆動素子
等が設けられている。このような場合、シール形成も、
各区分毎に行う必要がある。
In this embodiment, a pair of liquid crystal substrates 91 and 9 are used.
It is assumed that two or more liquid crystal display panels will be manufactured from two. In the case of a small liquid crystal display panel for a mobile phone, the assembly of the liquid crystal display panel may be finally completed after cutting the pair of liquid crystal substrates 91 and 92 that are bonded together. In such cases,
The device surfaces of the pair of liquid crystal substrates 91 and 92 are divided into regions for each liquid crystal display panel, and drive devices and the like are provided in each region. In such a case, the seal formation
It needs to be done for each category.

【0130】より具体的に説明すると、本実施形態で
は、一対の液晶基板91,92から六つの液晶ディスプ
レイパネルを製作することが想定されている。図15に
示すように、ディスペンサー位置調節機構15は、シー
ル10を吐出させながら三つのシールディスペンサー1
3を所定の位置をスタート地点にして方形に一周移動さ
せる。スタート地点及び方形の移動経路は、上述した区
分の形状に沿ったものとして設定されている。方形の一
周の移動で、三つの区分についてシール形成が完了す
る。ディスペンサー移動機構15は、シール10の吐出
を止め、別の三つの区分についてのシール形成のため、
シールディスペンサー13を次のスタート地点の位置に
移動させる。そして、同様に、シール10を吐出させな
がら方形に一周させることで、別の三つの区分について
のシール形成が完了する。
More specifically, in this embodiment, it is assumed that six liquid crystal display panels are manufactured from a pair of liquid crystal substrates 91 and 92. As shown in FIG. 15, the dispenser position adjusting mechanism 15 controls the three seal dispensers 1 while discharging the seal 10.
3 is moved in a square around a predetermined position as a starting point. The starting point and the moving path of the square are set as following the shape of the section described above. One round of movement of the square completes the seal formation for the three sections. The dispenser moving mechanism 15 stops the discharge of the seal 10 and forms a seal for the other three sections.
The seal dispenser 13 is moved to the position of the next start point. Then, in the same manner, the seal 10 is ejected to make one round in a rectangular shape, whereby the seal formation for the other three sections is completed.

【0131】ディスペンサー位置調節機構25は、上記
シール形成の際、液晶ディスペンサー23を所定の退避
位置に退避させている。シール形成が終了すると、ディ
スペンサー位置調節機構15は、各シールディスペンサ
ー13を一体に移動させて所定位置に退避させる。そし
て、ディスペンサー位置調節機構25が液晶ディスペン
サー23を所定のスタート地点に位置させる。ディスペ
ンサー位置調節機構25は、各区分で方形の周状に塗布
されたシール10の内側に液晶ディスペンサー23が順
次液晶20を滴下するよう位置制御する。各区分すべて
について液晶20の滴下が終了すると、この複合モジュ
ール内での動作は終了である。上記以外の構成及び動作
については、前述した実施形態と同様である。
The dispenser position adjusting mechanism 25 retracts the liquid crystal dispenser 23 to a predetermined retracted position when forming the seal. When the seal formation is completed, the dispenser position adjusting mechanism 15 integrally moves each seal dispenser 13 and retracts it to a predetermined position. Then, the dispenser position adjusting mechanism 25 positions the liquid crystal dispenser 23 at a predetermined start point. The dispenser position adjusting mechanism 25 controls the position so that the liquid crystal dispenser 23 sequentially drops the liquid crystal 20 inside the seal 10 applied in a rectangular shape in each section. When the dropping of the liquid crystal 20 is completed for all the sections, the operation in this composite module is completed. The configuration and the operation other than the above are the same as those in the above-described embodiment.

【0132】この実施形態によれば、一つのモジュール
でシール形成と液晶滴下が行えるので、生産性の点で優
れている。即ち、シール形成と液晶滴下が別のモジュー
ルで行われる場合、そのモジュールに液晶基板を搬送す
る必要があるが、この実施形態ではそれは不要であり、
時間短縮できる。また、本実施形態によれば、モジュー
ル数の削減により装置コストが安くなったり、さらに省
スペース化が図れたりする効果もある。
According to this embodiment, the seal formation and the liquid crystal dropping can be performed by one module, which is excellent in productivity. That is, when the seal formation and the liquid crystal dropping are performed in different modules, it is necessary to convey the liquid crystal substrate to the module, which is not necessary in this embodiment,
You can save time. Further, according to the present embodiment, there is an effect that the device cost is reduced due to the reduction in the number of modules, and further space saving can be achieved.

【0133】尚、本実施形態における複合モジュール
は、一対の液晶基板91,92から複数の液晶ディスプ
レイパネルを製作する場合に限らず、一つのみ液晶ディ
スプレイパネルを製作する場合に使用しても良いのは勿
論である。また、複合モジュールの使い方として、上側
基板92を搬入してシール形成を行い、上側基板92を
搬出した後、下側基板91を対して液晶滴下を行う場合
もある。
The composite module of this embodiment is not limited to the case of manufacturing a plurality of liquid crystal display panels from a pair of liquid crystal substrates 91 and 92, but may be used in the case of manufacturing only one liquid crystal display panel. Of course. Further, as a method of using the composite module, there is a case where the upper substrate 92 is carried in to form a seal, the upper substrate 92 is carried out, and then the liquid crystal is dropped to the lower substrate 91.

【0134】次に、本願発明の第四の実施形態について
説明する。図17は、第四の実施形態の統合型液晶ディ
スプレイパネル組立装置の概略を示す平面図である。こ
の実施形態では、クリーンルームに対する組み込み方
が、図2に示す第一の実施形態と異なっている。即ち、
図17に示すように、第四の実施形態では、シール形成
モジュール1、液晶滴下モジュール2及び真空重ね合わ
せモジュール3が並んでいる部分が、クリーンルームの
壁110に埋め込まれた状態で設置されている。従っ
て、搬送系や、第一第二基板搬入部101,102及び
パネル搬出部103の部分は、クリーンルーム内となっ
ている。尚、シール形成モジュール1、液晶滴下モジュ
ール2及び真空重ね合わせモジュール3が並んでいる部
分の外側(搬送系の側とは反対側)は、メンテナンスル
ーム内である。この実施形態の場合、搬送系がクリーン
ルーム内となるので、クリーンルームが備えるクリーン
ベンチやそのユーティリティを用いることができる。こ
のため、装置の構成が簡略化される。尚、搬送系はクリ
ーンルーム内に持ち込まれるため、ユニット化するなど
して発塵を抑えた構成とすることが好ましい。
Next explained is the fourth embodiment of the invention. FIG. 17 is a plan view showing the outline of the integrated liquid crystal display panel assembly apparatus of the fourth embodiment. This embodiment differs from the first embodiment shown in FIG. 2 in the way of assembling into a clean room. That is,
As shown in FIG. 17, in the fourth embodiment, a portion where the seal forming module 1, the liquid crystal dropping module 2 and the vacuum superposition module 3 are lined up is installed in a state where it is embedded in the wall 110 of the clean room. . Therefore, the transfer system and the first and second substrate loading units 101 and 102 and the panel unloading unit 103 are in a clean room. Incidentally, the outside of the portion where the seal forming module 1, the liquid crystal dropping module 2 and the vacuum superposition module 3 are lined up (the side opposite to the transport system side) is in the maintenance room. In the case of this embodiment, since the transfer system is in the clean room, the clean bench and its utility provided in the clean room can be used. Therefore, the configuration of the device is simplified. Since the transfer system is brought into the clean room, it is preferable that the transfer system is configured as a unit to suppress dust generation.

【0135】[0135]

【発明の効果】以上説明した通り、本願の各請求項記載
の発明によれば、一つの装置により後工程のほぼ全体即
ち液晶ディスプレイパネルの組立が行え、従来のように
個別に装置をレイアウトする必要がない。このため、製
造ラインの省スペース化や簡略化が可能になる。装置を
高いクラスのクリーンルーム内に配置することが可能に
なり、その場合のコストもそれほど大きなものにはなら
ない。従って、ゴミ等の混入防止が厳しく要求されつつ
ある高性能の液晶ディスプレイパネルの組立に非常に適
したものとなる。また、請求項3記載の発明によれば、
上記効果に加え、各モジュール間で液晶基板が滞留せ
ず、そのまま次のモジュールへ搬送されるので、バッフ
ァ部は不要であり、製造ラインが大規模になったり複雑
になったりすることはないという効果が得られる。ま
た、請求項4記載の発明によれば、上記効果に加え、搬
送系が、液晶基板をアームの先端に一枚ずつ保持して搬
送する搬送ロボットから成るので、省スペース化したり
液晶基板の滞留を無くしたりすることがより効果的にで
きる。また、請求項5記載の発明によれば、上記効果に
加え、シール形成モジュール、液晶滴下モジュール及び
真空重ね合わせモジュールが、クリーンルームの壁に埋
め込まれた状態で並設されていて、搬送系がクリーンル
ームの内部側で搬送を行うので、背後のクリーンルーム
の外部側の空間からメンテナンス作業を行うよう構成で
きる。このため、クリーンルーム内にオペレータが入る
ことが少なくて済み、クリーンルームの清浄度を高く保
てる。また、請求項6記載の発明によれば、シールを硬
化させる硬化モジュールが設けられているので、本硬化
の工程まで統合した装置とすることが可能になり、上記
効果がさらに高くなる。また、請求項7記載の発明によ
れば、上記効果に加え、パネル搬出部に第一基板搬入部
又は第二基板搬入部が兼用され、専用のパネル搬出部が
無いので、その分だけコストが安く、また省スペース化
できる。また、請求項8記載の発明によれば、基板重ね
合わせ装置において、パネル搬出部に第一基板搬入部又
は第二基板搬入部が兼用され、専用のパネル搬出部が無
いので、その分だけコストが安く、また省スペース化で
きる。また、請求項9記載の発明によれば、上記効果に
加え、一つのモジュールでシール形成と液晶滴下が行え
るので、生産性、装置コスト、省スペース化等の点で優
れたものとなる。
As described above, according to the inventions described in each of the claims of the present application, almost all of the subsequent steps, that is, the liquid crystal display panel can be assembled by one device, and the devices can be individually laid out as in the prior art. No need. Therefore, it is possible to save space and simplify the manufacturing line. It allows the equipment to be placed in a higher class clean room, at a much less costly cost. Therefore, it becomes very suitable for assembling a high-performance liquid crystal display panel in which the prevention of dust and the like is strictly required. According to the invention of claim 3,
In addition to the above effects, since the liquid crystal substrate does not stay between the modules and is conveyed to the next module as it is, the buffer section is unnecessary, and the manufacturing line does not become large or complicated. The effect is obtained. According to the invention described in claim 4, in addition to the above effects, since the transfer system is composed of a transfer robot which holds and transfers the liquid crystal substrates one by one at the tip of the arm, space is saved and liquid crystal substrates are retained. Can be more effectively eliminated. According to the invention of claim 5, in addition to the above effects, the seal forming module, the liquid crystal dropping module and the vacuum stacking module are arranged side by side in a state of being embedded in the wall of the clean room, and the transfer system is a clean room. Since the conveyance is performed on the inner side of the, the maintenance work can be performed from the space on the outer side of the back clean room. Therefore, it is possible to reduce the number of operators entering the clean room and keep the cleanliness of the clean room high. Further, according to the invention as set forth in claim 6, since the curing module for curing the seal is provided, it is possible to provide an apparatus in which the steps of the main curing are integrated, and the above effect is further enhanced. Further, according to the invention of claim 7, in addition to the above effects, since the panel carry-out section also serves as the first substrate carry-in section or the second board carry-in section, and there is no dedicated panel carry-out section, the cost is correspondingly reduced. It is cheap and can save space. Further, according to the invention of claim 8, in the substrate superposing apparatus, the panel carry-out section is also used as the first board carry-in section or the second board carry-in section, and there is no dedicated panel carry-out section. It is cheap and can save space. Further, according to the invention described in claim 9, in addition to the above effects, the seal formation and the liquid crystal dropping can be performed by one module, which is excellent in productivity, apparatus cost, space saving, and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本願発明の第一の実施形態の統合型液晶ディス
プレイパネル組立装置の概略を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing an integrated liquid crystal display panel assembling apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本願発明の第一の実施形態の統合型液晶ディス
プレイパネル組立装置の概略を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing the outline of the integrated liquid crystal display panel assembly apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】図1及び図2に示す装置の第一基板搬入部10
1、第二基板搬入部102及びパネル搬出部103の正
面概略図である。
FIG. 3 is a first substrate loading section 10 of the apparatus shown in FIGS. 1 and 2.
1 is a schematic front view of a first substrate carry-in section 102 and a panel carry-out section 103. FIG.

【図4】図1及び図2に示す装置の搬送系の構成を示す
斜視概略図である。
FIG. 4 is a schematic perspective view showing a configuration of a transport system of the apparatus shown in FIGS. 1 and 2.

【図5】図1及び図2に示すシール形成モジュール1の
概略構成を示す斜視図である。
5 is a perspective view showing a schematic configuration of a seal forming module 1 shown in FIGS. 1 and 2. FIG.

【図6】図1及び図2に示す液晶滴下モジュール2の概
略構成を示す斜視図である。
6 is a perspective view showing a schematic configuration of a liquid crystal dropping module 2 shown in FIGS. 1 and 2. FIG.

【図7】真空重ね合わせモジュール3の概略構成を示す
正面断面図である。
FIG. 7 is a front sectional view showing a schematic configuration of a vacuum superposition module 3.

【図8】図7の真空重ね合わせモジュール3が備えるア
ライメント用移動手段7の構成について示す斜視概略図
である。
8 is a schematic perspective view showing a configuration of alignment moving means 7 included in the vacuum superposition module 3 of FIG.

【図9】図8に示すアライメント用移動手段7の要部の
斜視概略図である。
9 is a schematic perspective view of a main part of the alignment moving means 7 shown in FIG.

【図10】板面方向における距離センサ63の配置位置
について説明する図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating an arrangement position of a distance sensor 63 in the plate surface direction.

【図11】図7に示す押圧ロッド611の下端に設けら
れたベアリング機構の断面概略図である。
11 is a schematic sectional view of a bearing mechanism provided at the lower end of the pressing rod 611 shown in FIG.

【図12】真空重ね合わせモジュール3の動作について
説明する図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining the operation of the vacuum superposition module 3.

【図13】真空重ね合わせモジュール3の動作について
説明する図である。
FIG. 13 is a diagram for explaining the operation of the vacuum superposition module 3.

【図14】第二の実施形態の統合型液晶ディスプレイパ
ネル組立装置の要部の概略を示す正面図である。
FIG. 14 is a front view showing an outline of a main part of an integrated liquid crystal display panel assembling apparatus according to a second embodiment.

【図15】第三の実施形態の統合型液晶ディスプレイパ
ネル組立装置の主要部の概略を示す斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view showing an outline of a main part of an integrated liquid crystal display panel assembling apparatus according to a third embodiment.

【図16】第三の実施形態の統合型液晶ディスプレイパ
ネル組立装置の主要部の概略を示す斜視図である。
FIG. 16 is a perspective view showing an outline of a main part of an integrated liquid crystal display panel assembly device according to a third embodiment.

【図17】第四の実施形態の統合型液晶ディスプレイパ
ネル組立装置の概略を示す平面図である。
FIG. 17 is a plan view showing the outline of an integrated type liquid crystal display panel assembling apparatus of a fourth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シール形成モジュール 10 シール 11 ステージ 13 シールディスペンサー 2 液晶滴下モジュール 20 液晶 21 ステージ 23 液晶ディスペンサー 3 真空重ね合わせモジュール 31 下側基板保持具 322 隔膜 32 上側基板保持具 33 中間リング 41 排気系 42 ベントガス導入系 5 開閉機構 61 押圧機構 62 差圧印加機構 63 距離センサ 7 アライメント用移動手段 75 位置ずれ検出センサ 81 第一真空シール手段 82 第二真空シール手段 91 下側基板 92 上側基板 93 液晶ディスプレイパネル 101 第一基板搬入部 102 第二基板搬入部 103 パネル搬出部 110 クリーンルームの壁 121 搬送ロボット 122 ロボット移動機構 130 モジュール設置部 1 Seal formation module 10 seals 11 stages 13 seal dispenser 2 Liquid crystal dropping module 20 liquid crystal 21 stages 23 Liquid crystal dispenser 3 vacuum stacking module 31 Lower substrate holder 322 diaphragm 32 Upper substrate holder 33 Middle ring 41 Exhaust system 42 Vent gas introduction system 5 open / close mechanism 61 Pressing mechanism 62 Differential pressure applying mechanism 63 distance sensor 7 Alignment moving means 75 Displacement detection sensor 81 First vacuum sealing means 82 Second vacuum sealing means 91 Lower substrate 92 upper substrate 93 LCD display panel 101 first substrate loading section 102 second substrate loading section 103 panel unloading section 110 clean room wall 121 Transport robot 122 Robot movement mechanism 130 Module installation section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H088 FA01 FA03 FA04 FA09 FA10 FA16 FA17 FA21 FA24 FA30 HA01 HA08 HA12 MA10 MA20 2H089 KA01 LA01 LA21 LA24 NA22 NA24 NA25 NA37 NA39 NA42 NA44 NA56 NA60 QA11 QA12 QA14 QA16 TA01 TA09 TA12   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H088 FA01 FA03 FA04 FA09 FA10                       FA16 FA17 FA21 FA24 FA30                       HA01 HA08 HA12 MA10 MA20                 2H089 KA01 LA01 LA21 LA24 NA22                       NA24 NA25 NA37 NA39 NA42                       NA44 NA56 NA60 QA11 QA12                       QA14 QA16 TA01 TA09 TA12

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の液晶基板の間に液晶を封入した構
造の液晶ディスプレイパネルを組み立てる装置であっ
て、 一対の液晶基板のうちの一方の液晶基板の内側面上に表
示領域の輪郭に沿ってシールを形成するシール形成モジ
ュールと、 一対の液晶基板のうちの一方又は他方の上に液晶を滴下
する液晶滴下モジュールと、 シール形成及び液晶滴下の後、一対の液晶基板を所定の
位置関係及び間隔で真空中で重ね合わせる真空重ね合わ
せモジュールとを備えた統合型であることを特徴とする
統合型液晶ディスプレイパネル組立装置。
1. A device for assembling a liquid crystal display panel having a structure in which liquid crystal is sealed between a pair of liquid crystal substrates, wherein the liquid crystal display panel is formed on an inner surface of one of the pair of liquid crystal substrates along the contour of a display area. And a liquid crystal dropping module for dropping liquid crystal onto one or the other of the pair of liquid crystal substrates, and after the seal formation and liquid crystal dropping, the pair of liquid crystal substrates are placed in a predetermined positional relationship and An integrated liquid crystal display panel assembling apparatus, characterized in that it is an integrated type equipped with a vacuum stacking module that stacks in a vacuum at intervals.
【請求項2】 一対の液晶基板のうちの一方を装置に搬
入する第一基板搬入部と、他方を装置に搬入する第二基
板搬入部と、組み立てられた液晶ディスプレイパネルを
装置から搬出するパネル搬出部と、搬送系とを備えてお
り、 搬送系は、一方の基板を、第一基板搬入部から、シール
形成モジュール、液晶滴下モジュール、真空重ね合わせ
モジュールの順に搬送するとともに、他方の基板を、第
二基板搬入部から真空重ね合わせモジュールに搬送する
か、又は、一方の基板を、第一基板搬入部から、液晶滴
下モジュール、真空重ね合わせモジュールの順に搬送す
るとともに、他方の基板を、第二基板搬入部から、シー
ル形成モジュール、真空重ね合わせモジュールの順に搬
送するものであり、 さらに、搬送系は、液晶ディスプレイパネルを真空重ね
合わせモジュールからパネル搬出部に搬出するものであ
ることを特徴とする請求項1記載の統合型液晶ディスプ
レイパネル組立装置。
2. A first substrate loading section for loading one of a pair of liquid crystal substrates into the apparatus, a second substrate loading section for loading the other into the apparatus, and a panel for unloading the assembled liquid crystal display panel from the apparatus. The transport system includes a carry-out section and a transport system. The transport system transports one substrate from the first substrate carry-in section to the seal forming module, the liquid crystal dropping module, and the vacuum stacking module in this order, and at the same time, transports the other substrate. , The second substrate carry-in section to the vacuum stacking module, or one of the substrates is carried from the first board carry-in section to the liquid crystal dropping module and the vacuum stacking module in that order while the other substrate is (2) From the substrate loading section, the seal forming module and the vacuum stacking module are carried in this order. Overlay integrated liquid crystal display panel assembly apparatus according to claim 1, characterized in that for unloading the module to the panel unloading unit.
【請求項3】 前記搬送系は、前記各モジュール間で前
記液晶基板を二枚以上滞留させることなく搬送するもの
であることを特徴とする請求項2記載の統合型液晶ディ
スプレイパネル組立装置。
3. The integrated liquid crystal display panel assembling apparatus according to claim 2, wherein the carrying system carries the liquid crystal substrates between the respective modules without retaining two or more liquid crystal substrates.
【請求項4】 前記搬送系は、前記液晶基板をアームの
先端に一枚ずつ保持して搬送することが可能な搬送ロボ
ットから成ることを特徴とする請求項2又は3に記載の
統合型液晶ディスプレイパネル組立装置。
4. The integrated liquid crystal according to claim 2, wherein the transfer system comprises a transfer robot capable of holding and transferring the liquid crystal substrates one by one at the tip of an arm. Display panel assembly device.
【請求項5】 クリーンルームの壁に埋め込まれた状態
で設置されており、前記シール形成モジュール、前記液
晶滴下モジュール及び前記真空重ね合わせモジュールに
対して、クリーンルームの外部側からメンテナンスを行
うことが可能になっていることを特徴とする請求項1乃
至4いずれかに記載の統合型液晶ディスプレイパネル組
立装置。
5. The seal forming module, the liquid crystal dropping module, and the vacuum stacking module, which are installed in a state where they are embedded in a wall of a clean room, can perform maintenance from the outside of the clean room. The integrated liquid crystal display panel assembling apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein
【請求項6】 前記真空重ね合わせモジュールで重ね合
わせた一対の液晶基板についてシールを硬化させる硬化
モジュールを備えていることを特徴とする請求項1乃至
5いずれかに記載の統合型液晶ディスプレイパネル組立
装置。
6. The integrated liquid crystal display panel assembly according to claim 1, further comprising a curing module that cures a seal on a pair of liquid crystal substrates that are stacked by the vacuum stacking module. apparatus.
【請求項7】 前記パネル搬出部は、前記第一基板搬入
部又は前記第二基板搬入部が兼用されるものであること
を特徴とする請求項2記載の統合型液晶ディスプレイパ
ネル組立装置。
7. The integrated liquid crystal display panel assembling apparatus according to claim 2, wherein the panel carry-out section is also used as the first board carry-in section or the second board carry-in section.
【請求項8】 一対の基板を所定の位置関係及び間隔で
重ね合わせる基板重ね合わせ装置であって、一対の基板
のうちの一方を装置に搬入する第一基板搬入部と、他方
を装置に搬入する第二基板搬入部と、重ね合わされた一
対の基板を装置から搬出する搬出部とを備えており、前
記搬出部は、前記第一基板搬入部又は前記第二基板搬入
部が兼用されるものであることを特徴とする基板重ね合
わせ装置。
8. A substrate superposing apparatus for superposing a pair of substrates at a predetermined positional relationship and a predetermined interval, wherein a first substrate loading section for loading one of the pair of substrates into the apparatus and another for loading into the apparatus. A second substrate carry-in section, and a carry-out section for carrying out a pair of superposed substrates from the apparatus, wherein the carry-out section is also used as the first substrate carry-in section or the second substrate carry-in section. Substrate stacking device characterized in that
【請求項9】 一対の液晶基板の間に液晶を封入した構
造の液晶ディスプレイパネルを組み立てる装置であっ
て、 一対の液晶基板のうちの一方の液晶基板の内側面上に表
示領域の輪郭に沿ってシールを形成するとともに、一対
の液晶基板のうちの一方又は他方の上に液晶を滴下する
複合モジュールと、 シール形成及び液晶滴下の後、一対の液晶基板を所定の
位置関係及び間隔で真空中で重ね合わせる真空重ね合わ
せモジュールとを備えた統合型であることを特徴とする
統合型液晶ディスプレイパネル組立装置。
9. An apparatus for assembling a liquid crystal display panel having a structure in which a liquid crystal is sealed between a pair of liquid crystal substrates, wherein the liquid crystal display panel is formed on the inner surface of one of the pair of liquid crystal substrates along the contour of the display area. A composite module that forms a seal by dropping liquid crystal onto one or the other of the pair of liquid crystal substrates, and after forming the seal and dropping the liquid crystal, the pair of liquid crystal substrates are placed in a vacuum in a predetermined positional relationship and interval. An integrated liquid crystal display panel assembling apparatus, characterized in that the integrated liquid crystal display panel is equipped with a vacuum stacking module for stacking.
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