JP2003311231A - Cleaning method and cleaning apparatus - Google Patents

Cleaning method and cleaning apparatus

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JP2003311231A
JP2003311231A JP2002119268A JP2002119268A JP2003311231A JP 2003311231 A JP2003311231 A JP 2003311231A JP 2002119268 A JP2002119268 A JP 2002119268A JP 2002119268 A JP2002119268 A JP 2002119268A JP 2003311231 A JP2003311231 A JP 2003311231A
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JP
Japan
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cleaning
pcb
treated
processed
cleaning device
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Withdrawn
Application number
JP2002119268A
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Japanese (ja)
Inventor
Chisato Tsukahara
千幸人 塚原
Tetsuya Sawatsubashi
徹哉 澤津橋
Keigo Baba
恵吾 馬場
Yoshinori Fukunaga
義徳 福永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning method for removing a toxic substance intruding into a minute gap on the surface of the object to be treated and sticking there. <P>SOLUTION: This cleaning method comprises a step to immerse the object 1 to be treated in a cleaning liquid 2 of dimethylsulfoxide (DMSO) to make the liquid 2 intrude into the minute gap, so that the toxic substance stuck to the minute gap can be removed. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被処理物の表面の
微細な隙間に侵入して付着した有害物質を除去する洗浄
方法およびその装置に関し、特に、PCB汚染されたト
ランスやコンデンサの錆びた容器等を洗浄する場合に適
用すると有効である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning method and apparatus for removing harmful substances adhering to fine gaps on the surface of an object to be treated, and more particularly to a rusted transformer or capacitor contaminated with PCB. It is effective when applied when washing containers.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年では、PCB(Polychlorinated bi
phenyl, ポリ塩化ビフェニル:ビフェニルの塩素化異性
体の総称)が強い毒性を有することから、その製造およ
び輸入が禁止されている。このPCBは、1954年頃
から国内で製造開始されたものの、カネミ油症事件をき
っかけに生体・環境への悪影響が明らかになり、197
2年に行政指導により製造中止、回収の指示(保管の義
務)が出された経緯がある。
2. Description of the Related Art In recent years, PCB (Polychlorinated bi
phenyl, polychlorinated biphenyl: a generic term for chlorinated isomers of biphenyl) is highly toxic and its manufacture and import are prohibited. Although this PCB was first manufactured in Japan around 1954, its adverse effects on the living body and environment became clear after the Kanemi Yusho incident.
In 2 years, there was a history of instructions to discontinue production and collection (duty of storage) by administrative guidance.

【0003】PCBは、ビフェニル骨格に塩素が1〜1
0個置換したものであり、置換塩素の数や位置によって
理論的に209種類の異性体が存在し、現在、市販のP
CB製品において約100種類以上の異性体が確認され
ている。また、この異性体間の物理・化学的性質や生体
内安定性および環境動体が多様であるため、PCBの化
学分析や環境汚染の様式を複雑にしているのが現状であ
る。さらに、PCBは、残留性有機汚染物質のひとつで
あって、環境中で分解されにくく、脂溶性で生物濃縮率
が高く、さらに半揮発性で大気経由の移動が可能である
という性質を持つ。また、水や生物など環境中に広く残
留することが報告されている。
PCB has 1 to 1 chlorine in the biphenyl skeleton.
It has 0 substitutions, and theoretically there are 209 kinds of isomers depending on the number and position of the substituted chlorine.
About 100 or more isomers have been confirmed in CB products. In addition, the physical and chemical properties among these isomers, the in vivo stability, and the environmental dynamics are so diverse that the chemical analysis of PCB and the mode of environmental pollution are complicated at present. Further, PCB is one of the persistent organic pollutants, is not easily decomposed in the environment, is fat-soluble, has a high bioconcentration rate, and is semi-volatile, and is capable of being transferred through the atmosphere. In addition, it has been reported that it widely remains in the environment such as water and living things.

【0004】このPCBは平成4(1997)年に廃PC
B、PCBを含む廃油、PCB汚染物が廃棄物の処理及
び清掃に関する法律に基づく特別管理廃棄物に指定さ
れ、さらに、平成9(1997)年にはPCB汚染物として
木くず、繊維くずが、追加指定された。
This PCB was an abandoned PC in 1997.
B, waste oil containing PCB, and PCB pollutants are designated as specially controlled wastes based on the law on waste treatment and cleaning. In addition, wood chips and fiber scraps were added as PCB pollutants in 1997. Designated.

【0005】PCB処理物となる電気機器としては、高
圧トランス、高圧コンデンサ、低圧トランス・コンデン
サ、柱上トランスがあり、廃PCB等としては、熱媒体
に用いたものは絶縁油として用いたもの、また、これら
の洗浄に用いた灯油等があり、廃感圧紙としては、ノー
カーボン紙に使用されたカプセルオイルがあり、さら
に、これらのPCBの使用又は熱媒の交換、絶縁油の再
生、漏洩の浄化、PCB含有物の処理等の際に用いられ
た活性炭や、廃白土、廃ウェス類、作業衣等のPCB汚
染物がある。現在これらは厳重に保管がなされている
が、早急なPCBの処理が望まれている。
There are high-voltage transformers, high-voltage capacitors, low-voltage transformers / capacitors, pole transformers as electric equipment to be treated with PCBs, and as waste PCBs, those used as a heat medium used as insulating oil, In addition, there are kerosene and the like used for cleaning these, and as the pressure-sensitive waste paper, there is capsule oil used for carbonless paper, and further, use of these PCBs or replacement of heat medium, regeneration of insulating oil, leakage. There are PCB pollutants such as activated carbon used in the purification of the above, the treatment of PCB-containing substances, waste white clay, waste waste, work clothes and the like. Currently, these are strictly stored, but urgent PCB treatment is desired.

【0006】近年では、このようなトランス等に使用さ
れているPCBを処理する技術が種々開発されており、
例えば特開平9−79531号公報に記載の技術が知ら
れている。図11に、上記提案にかかるPCBの処理方
法のフローチャートを示す。
In recent years, various techniques for processing PCBs used in such transformers have been developed.
For example, the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 9-79531 is known. FIG. 11 shows a flowchart of the PCB processing method according to the above proposal.

【0007】図11に示すように、まず、PCBが封入
されているトランスから油を抜き取り(S901)、さ
らに溶剤洗浄によって内部に付着しているPCBを除去
し(S902)、回収する(S903)。洗浄後の溶剤
は、トランスから抜き出した油と共に分解処理され(S
904)、無害化される。
As shown in FIG. 11, first, oil is drained from the transformer in which the PCB is enclosed (S901), and the PCB adhering to the inside is removed by solvent cleaning (S902), and then collected (S903). . The solvent after washing is decomposed with the oil extracted from the transformer (S
904), it is rendered harmless.

【0008】つぎに、油抜きしたトランスを乾燥させて
PCBを無酸素下高温常圧加熱によって蒸発させ(S9
05)、PCBの飛散を防止する。そして、乾燥後のト
ランスを解体し(S906)、ケースとトランスコアを
分離する。ケースは、電炉や転炉のスクラップ源に供さ
れる(S907)。一方、トランスコアは、モービルシ
ャー等によってその銅コイルを切断され、コイル線と鉄
心とに分離される(S908)。
Next, the oil-removed transformer is dried, and the PCB is evaporated by heating at high temperature and normal pressure in the absence of oxygen (S9
05), prevent the PCB from scattering. Then, the dried transformer is disassembled (S906), and the case and the transformer core are separated. The case is provided as a scrap source for an electric furnace or a converter (S907). On the other hand, the transformer core has its copper coil cut by a mobile shear or the like to be separated into a coil wire and an iron core (S908).

【0009】分離された鉄心は溶融炉にて溶融され、回
収される(S909)。また、分離した銅コイルおよび
これに付着した紙などの有機物は、誘導加熱炉にて溶融
される(S910)。そして、上記溶融した銅は回収さ
れ、各溶融炉で発生したPCBガスは、1200℃で高
温熱分解することにより無害化される(S911)。
The separated iron core is melted in a melting furnace and recovered (S909). Further, the separated copper coil and the organic matter such as paper attached to the copper coil are melted in the induction heating furnace (S910). Then, the molten copper is recovered, and the PCB gas generated in each melting furnace is detoxified by high-temperature thermal decomposition at 1200 ° C. (S911).

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】前述したような従来の
PCB処理方法では、金属製の各種部材(被処理物)を
溶融させてPCBを分解処理しているため、設備が大規
模化してしまうだけでなく、多大な熱エネルギが必要と
なってしまい、イニシャルコストおよびランニングコス
トが高くなってしまっている。
In the conventional PCB processing method as described above, the PCB is decomposed by melting various metallic members (objects to be processed), so that the equipment becomes large in scale. Not only that, but a large amount of heat energy is required, and the initial cost and running cost are high.

【0011】このため、例えば、被処理物をヘキサンや
トルエン等の洗浄剤で洗浄して、当該被処理物の表面に
付着しているPCBを洗浄液に移行させることにより、
被処理物を処理することが考えられている。ところが、
被処理物の状態によっては、PCBを十分に洗浄除去す
ることが非常に難しい場合があった。
Therefore, for example, by cleaning the object to be processed with a cleaning agent such as hexane or toluene and transferring the PCB adhering to the surface of the object to be processed to a cleaning liquid,
It is considered to treat the object to be treated. However,
Depending on the condition of the object to be processed, it may be very difficult to sufficiently remove the PCB by washing.

【0012】この原因を調べたところ、図12に示すよ
うに、母材801の表面のめっき802に錆等による微
細な隙間803があると、当該隙間803内にPCBの
分子が侵入して吸着してしまい、ヘキサンやトルエン等
の洗浄剤で洗浄しても、侵入吸着したPCBの上記分子
を当該隙間803から十分に除去しきれない場合がある
ことが判明した。
As a result of investigating the cause of this, as shown in FIG. 12, when there is a fine gap 803 due to rust or the like in the plating 802 on the surface of the base material 801, the molecules of the PCB enter the gap 803 and are adsorbed. Therefore, it was found that the molecules of the PCB adsorbed and adsorbed could not be sufficiently removed from the gap 803 even if washed with a cleaning agent such as hexane or toluene.

【0013】このような問題は、PCB汚染されたトラ
ンスやコンデンサの錆びた容器等を洗浄する場合に限ら
ず、被処理物の表面の微細な隙間に侵入して吸着してい
る有害物質を除去する場合であれば、上述した場合と同
様にして起こり得ることである。
Such a problem is not limited to the case of cleaning a transformer contaminated with a PCB or a rusted container of a capacitor, etc., and removes harmful substances that have entered and adsorbed into minute gaps on the surface of the object to be treated. If it does, it can happen in the same manner as the above case.

【0014】このようなことから、本発明は、被処理物
の表面の微細な隙間に有害物質が侵入して吸着している
ような場合であっても、有害物質を十分に洗浄除去する
ことが容易にできる洗浄方法およびその装置を提供する
ことを目的とする。
In view of the above, the present invention is capable of sufficiently cleaning and removing harmful substances even when the harmful substances enter and adsorb into the minute gaps on the surface of the object to be treated. It is an object of the present invention to provide a cleaning method and an apparatus for cleaning the same.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
第1の発明は、被処理物に付着した有害物質を除去する
洗浄方法であって、ジメチルスルホキシド(DMSO)
洗浄液中に前記被処理物を浸漬することにより、前記有
害物質を洗浄除去することを特徴とする洗浄方法にあ
る。
A first invention for solving the above-mentioned problems is a cleaning method for removing harmful substances adhering to an object to be treated, which is dimethyl sulfoxide (DMSO).
The cleaning method is characterized in that the harmful substance is washed away by immersing the object to be treated in a cleaning liquid.

【0016】第2の発明は、第1の発明において、洗浄
した前記被処理物を、減圧環境下、不活性ガス雰囲気中
で加熱することにより、当該被処理物を乾燥させて洗浄
することを特徴とする洗浄方法にある。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the cleaned object is heated in an inert gas atmosphere under a reduced pressure environment to dry the object to be cleaned. There is a characteristic cleaning method.

【0017】第3の発明は、 被処理物の内部に付着し
た有害物質を除去する洗浄方法であって、ジメチルスル
ホキシド(DMSO)洗浄液を前記被処理物内に供給し
て内部を洗浄することにより、前記有害物質を洗浄除去
することを特徴とする洗浄方法にある。
A third aspect of the present invention is a cleaning method for removing harmful substances adhering to the inside of an object to be treated, which comprises supplying a dimethyl sulfoxide (DMSO) cleaning solution into the object to be treated to clean the inside. In the cleaning method, the harmful substance is removed by cleaning.

【0018】第4の発明は、第3の発明において、ジメ
チルスルホキシド(DMSO)洗浄液の飽和雰囲気下で
洗浄することを特徴とする洗浄方法にある。
A fourth invention is a cleaning method according to the third invention, characterized in that the cleaning is carried out in a saturated atmosphere of a dimethyl sulfoxide (DMSO) cleaning liquid.

【0019】第5の発明は、第1又は3の発明におい
て、前記有害物質が、PCB、廃棄塗料、廃棄燃料、有
害薬品のうちの少なくとも一種であることを特徴とする
洗浄方法にある。
A fifth aspect of the present invention is the cleaning method according to the first or third aspect, wherein the harmful substance is at least one of PCB, waste paint, waste fuel, and harmful chemicals.

【0020】第6の発明は、第1又は3の発明におい
て、前記被処理物が、PCBを含有したトランスまたは
コンデンサの無機物製の部材であることを特徴とする洗
浄方法にある。
A sixth aspect of the present invention is the cleaning method according to the first or third aspect of the present invention, wherein the object to be treated is an inorganic member of a transformer or capacitor containing PCB.

【0021】第7の発明は、第1又は3の発明におい
て、前記部材が、錆びた容器であることを特徴とする洗
浄方法にある。
A seventh aspect of the present invention is the cleaning method according to the first or third aspect, wherein the member is a rusted container.

【0022】第8の発明は、 被処理物に付着した有害
物質を除去する洗浄装置の発明において、 前記被処理
物が内部に入れられると共に、ジメチルスルホキシド
(DMSO)洗浄液が内部に入れられる洗浄槽を備えて
いることを特徴とする洗浄装置にある。
An eighth invention is a cleaning apparatus for removing harmful substances adhering to an object to be processed, wherein the object to be processed is put inside and a dimethyl sulfoxide (DMSO) cleaning liquid is put inside. The cleaning device is characterized by being provided with.

【0023】第9の発明は、 被処理物に付着した有害
物質を除去する洗浄装置の発明において、 前記被処理
物が内部に入れられると共に内部を密封できる加熱槽
と、前記加熱槽の内部を真空環境下、不活性ガス雰囲気
中のいずれかの環境下とする環境調整手段と、前記加熱
槽の内部を加熱する加熱手段とを備えていることを特徴
とする洗浄装置にある。
A ninth aspect of the present invention is an invention of a cleaning device for removing harmful substances attached to an object to be treated, wherein a heating tank in which the object to be treated is put inside and the inside can be sealed, and an inside of the heating tank. The cleaning apparatus is provided with an environment adjusting means for making the environment any one of a vacuum environment and an inert gas atmosphere, and a heating means for heating the inside of the heating tank.

【0024】第10の発明は、第8の発明において、前
記槽に超音波発振手段が設けられていることを特徴とす
る洗浄装置にある。
A tenth aspect of the present invention is the cleaning apparatus according to the eighth aspect, characterized in that the tank is provided with ultrasonic wave oscillating means.

【0025】第11の発明は、第8の発明において、前
記被処理物が内部に入れられると共に内部を密封できる
加熱槽と、前記加熱槽の内部を真空環境下、不活性ガス
雰囲気とする環境調整手段と、前記加熱槽の内部を加熱
する加熱手段とを備えていることを特徴とする洗浄装置
にある。
An eleventh invention is, in the eighth invention, a heating tank in which the object to be treated can be put inside and the inside can be sealed, and an environment in which the inside of the heating tank is in a vacuum environment and an inert gas atmosphere. The cleaning apparatus is provided with an adjusting means and a heating means for heating the inside of the heating tank.

【0026】第12の発明は、被処理物の表面の微細な
隙間に侵入して付着した有害物質を除去する洗浄装置の
発明において、前記被処理物の内部にジメチルスルホキ
シド(DMSO)洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記被処理物の雰囲気下をジメチルスルホキシド(DM
SO)蒸気飽和雰囲気下とするジメチルスルホキシド
(DMSO)洗浄液噴霧手段と、を備えていることを特
徴とする洗浄装置にある。
A twelfth aspect of the invention is an invention of a cleaning device for removing harmful substances adhering to fine gaps on the surface of an object to be treated, wherein a dimethyl sulfoxide (DMSO) cleaning liquid is supplied to the inside of the object to be treated. Cleaning liquid supply means,
Dimethyl sulfoxide (DM
SO) a dimethylsulfoxide (DMSO) cleaning liquid spraying means under a saturated atmosphere of steam, and a cleaning device.

【0027】第13の発明は、第8又は12の発明にお
いて、前記有害物質が、PCB、廃棄塗料、廃棄燃料、
有害薬品のうちの少なくとも一種であることを特徴とす
る洗浄装置にある。
A thirteenth invention is the invention according to the eighth or twelfth invention, wherein the harmful substance is PCB, waste paint, waste fuel,
The cleaning device is characterized by being at least one of harmful chemicals.

【0028】第14の発明は、第8又は12の発明にお
いて、前記被処理物が、PCBを含有したトランスまた
はコンデンサの無機物製の部材であることを特徴とする
洗浄装置にある。
A fourteenth aspect of the present invention is the cleaning apparatus according to the eighth or twelfth aspect, wherein the object to be treated is an inorganic member of a transformer or capacitor containing PCB.

【0029】第15の発明は、第8又は12の発明にお
いて、前記部材が、錆びた容器であることを特徴とする
洗浄装置にある。
A fifteenth invention is the cleaning apparatus according to the eighth or twelfth invention, wherein the member is a rusted container.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】本発明による洗浄方法およびその
装置の実施の形態を図面を用いて以下に説明するが、本
発明はこれらの実施の形態に限定されるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a cleaning method and an apparatus therefor according to the present invention will be described below with reference to the drawings, but the present invention is not limited to these embodiments.

【0031】[第1の実施の形態]本発明による洗浄方
法およびその装置の第1の実施の形態を図1〜7を用い
て説明する。図1は、洗浄装置の概略構成図、図2は、
トランスの概略構成図、図3は、コンデンサの概略構成
図、図4は、蛍光灯安定器の概略構成図、図5は、PC
B処理システムの説明図、図6は、有害物質処理システ
ムの全体構成図である。
[First Embodiment] The first embodiment of the cleaning method and apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of the cleaning device, and FIG. 2 is
Schematic configuration diagram of the transformer, FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the capacitor, FIG. 4 is a schematic configuration diagram of the fluorescent lamp ballast, and FIG. 5 is a PC.
FIG. 6 is an explanatory diagram of the B treatment system, and FIG. 6 is an overall configuration diagram of the harmful substance treatment system.

【0032】本実施の形態の洗浄方法は、被処理物の表
面の微細な隙間に侵入して付着した有害物質を除去する
洗浄方法において、ジメチルスルホキシド(DMSO)
洗浄液中に前記被処理物を浸漬することにより、前記隙
間に当該洗浄液を侵入させて、当該隙間に付着した前記
有害物質を洗浄除去するものである。
The cleaning method of the present embodiment is a cleaning method for removing harmful substances adhering to fine gaps on the surface of an object to be treated, which is dimethyl sulfoxide (DMSO).
By immersing the object to be treated in a cleaning liquid, the cleaning liquid is allowed to enter the gap to clean and remove the harmful substance attached to the gap.

【0033】ここで、上記洗浄した被処理物を、減圧環
境下、不活性ガス雰囲気中、蒸気雰囲気中のいずれかの
環境下で加熱することにより、当該被処理物を乾燥させ
て洗浄するようにしてもよい。
Here, the cleaned object is heated in a reduced pressure environment, an inert gas atmosphere, or a steam atmosphere to dry the object to be cleaned. You may

【0034】また、本洗浄の前洗浄処理として、ヘキサ
ンやトルエン、炭化水素系(例えばC11系炭化水素)洗
浄液、イソプロパノール(IPA)等の洗浄剤で粗洗浄
するようにしてもよい。
As a pre-cleaning treatment for the main cleaning, a rough cleaning may be performed with a cleaning agent such as hexane, toluene, a hydrocarbon-based (for example, C11 hydrocarbon) cleaning liquid, isopropanol (IPA) or the like.

【0035】<被処理物>本発明による洗浄方法および
その装置で洗浄処理可能な被処理物としては、例えば、
絶縁油としてPCBを適用しているトランスやコンデン
サや蛍光灯安定器等が挙げられる。このようなトランス
やコンデンサや蛍光灯安定器の概略構成を図2〜4を用
いて説明する。
<Processing Object> Examples of processing objects that can be cleaned by the cleaning method and apparatus according to the present invention include:
A transformer, a condenser, a fluorescent lamp ballast, etc. to which PCB is applied as the insulating oil can be mentioned. A schematic configuration of such a transformer, a condenser, and a fluorescent lamp ballast will be described with reference to FIGS.

【0036】図2に示すように、トランス10は、鉄心
11に対して銅製のコイル12を巻いたコア13を鉄製
の容器14内に収納した構成であり、PCB油を絶縁油
として内部に封入したものである。また、コイル12
は、銅線に絶縁紙を巻き付けた構成であり、鉄枠17上
部には碍子18が設けられている。また、容器14の開
口部は蓋19により密封されている。一般的なトランス
の容量範囲は、5〜100kVAであり、本発明ではす
べての範囲において処理ができる。
As shown in FIG. 2, the transformer 10 has a structure in which a core 13 in which a coil 12 made of copper is wound around an iron core 11 is housed in a container 14 made of iron, and PCB oil is enclosed inside as insulating oil. It was done. Also, the coil 12
Is a structure in which an insulating paper is wrapped around a copper wire, and an insulator 18 is provided on the upper portion of the iron frame 17. The opening of the container 14 is sealed by the lid 19. A typical transformer has a capacity range of 5 to 100 kVA, and the present invention can process in all ranges.

【0037】また、図3に示すように、コンデンサ20
は、複数の素子21がプレスボード22を介して固定バ
ンド23で束ねてなるものを絶縁紙24で覆った状態で
容器25内に充填され、PCB油が封入口25aから内
部に封入され封止されてなるものである。なお、図6
中、27は接地端子、28は高圧端子、29は碍子であ
る。上記素子21は、アルミ箔、絶縁紙、樹脂フィルム
及びスペーサ等から構成されている。一般的なコンデン
サの容量範囲は、数〜500kvarであり、本発明で
はすべての範囲において処理ができる。
Further, as shown in FIG.
Is filled in a container 25 in a state in which a plurality of elements 21 are bundled by a fixing band 23 via a press board 22 covered with insulating paper 24, and PCB oil is sealed inside from a sealing port 25a. It has been done. Note that FIG.
Inside, 27 is a ground terminal, 28 is a high voltage terminal, and 29 is an insulator. The element 21 is composed of aluminum foil, insulating paper, resin film, spacers, and the like. A typical capacitor has a capacity range of several to 500 kvar, and the present invention can process in all ranges.

【0038】また、図4に示すように、蛍光灯安定器3
0は、トランス31と力率改善用のコンデンサ32とか
らなり、当該コンデンサ32中にPCB油1が絶縁油と
して使用されている。なお、このコンデンサ32は、容
量が小さく、PCB油1の量が少ないので、前処理せず
に処理することができる。
Further, as shown in FIG. 4, the fluorescent lamp ballast 3
0 consists of a transformer 31 and a power factor improving capacitor 32, and the PCB oil 1 is used as insulating oil in the capacitor 32. Since this capacitor 32 has a small capacity and the amount of PCB oil 1 is small, it can be processed without pretreatment.

【0039】<洗浄装置>次に、本実施の形態にかかる
洗浄装置を図1を用いて説明する。図1に示すように、
洗浄槽111の上方には、ジメチルスルホキシド(DM
SO)洗浄液2を当該洗浄槽111内に供給する洗浄液
供給手段である洗浄液供給装置112が配設されてい
る。洗浄槽111の内部には、金網製の洗浄筐101を
支承するブラケット111aが取り付けられている。洗
浄槽111の下部には、当該洗浄槽111の内部へ超音
波を発振する超音波発振手段である超音波発振器113
が取り付けられている。また、洗浄槽111の下部に
は、当該洗浄槽111内の洗浄液2を外部へ排出する排
出バルブ114が連結されている。
<Cleaning Device> Next, the cleaning device according to the present embodiment will be described with reference to FIG. As shown in Figure 1,
Above the cleaning tank 111, dimethyl sulfoxide (DM
A cleaning liquid supply device 112 which is a cleaning liquid supply means for supplying the (SO) cleaning liquid 2 into the cleaning tank 111 is provided. Inside the cleaning tank 111, a bracket 111a that supports the cleaning case 101 made of wire mesh is attached. An ultrasonic oscillator 113, which is an ultrasonic wave oscillating means for oscillating ultrasonic waves into the cleaning tank 111, is provided below the cleaning tank 111.
Is attached. Further, a discharge valve 114 for discharging the cleaning liquid 2 in the cleaning tank 111 to the outside is connected to the lower portion of the cleaning tank 111.

【0040】<洗浄方法>このような洗浄装置100を
使用して、PCBが表面に付着残留していると共に微細
な隙間に吸着残留している被処理物1(PCB残留量:
10mg/m2 程度)を洗浄する場合を図1を用いて次
に説明する。
<Cleaning Method> Using the cleaning apparatus 100 as described above, the object 1 to be processed (PCB residual amount: PCB remaining on the surface and adsorbing and remaining in the minute gaps:
The case of cleaning about 10 mg / m 2 ) will be described below with reference to FIG.

【0041】被処理物1を洗浄筐101内に入れ、当該
洗浄筐101を洗浄槽111内に入れてブラケット11
1a上に載置し、被処理物1を前記洗浄液2中に浸漬し
た後、超音波発振器113を作動させると、被処理物1
は、上記洗浄液2中で超音波洗浄される。
The object to be processed 1 is put in the cleaning casing 101, the cleaning casing 101 is put in the cleaning tank 111, and the bracket 11 is inserted.
When the ultrasonic oscillator 113 is operated after placing the object 1a on the substrate 1a and immersing the object 1 in the cleaning liquid 2.
Is ultrasonically cleaned in the cleaning liquid 2.

【0042】このとき、ジメチルスルホキシド(DMS
O)洗浄液2は、被処理物1の表面に付着しているPC
B油を溶解して当該表面から除去すると共に、被処理物
1の表面に生じた錆等の微細な隙間に侵入して、当該隙
間に吸着しているPCBを溶解して当該隙間から除去す
る。
At this time, dimethyl sulfoxide (DMS
O) The cleaning liquid 2 is a PC attached to the surface of the object 1 to be processed.
The B oil is dissolved and removed from the surface, and at the same time, it penetrates into a fine gap such as rust formed on the surface of the object to be processed 1 and dissolves the PCB adsorbed in the gap to remove it from the gap. .

【0043】なぜなら、洗浄液2は、下記「化1」に示
す構造を有し、極性が高く、溶解力の大きい非プロトン
性溶媒として機能するため、被処理物1の表面に生じた
錆等の微細な隙間に侵入しやすいと共に、PCBに対し
て高い溶解能を発現することができるからである。
Because the cleaning liquid 2 has the structure shown in the following "Chemical formula 1" and has a high polarity and functions as an aprotic solvent having a high dissolving power, the rust and the like generated on the surface of the object to be treated 1 This is because it is possible to easily penetrate into fine gaps and to exhibit a high dissolving ability for PCB.

【0044】また、図10にジメチルスルホキシド(D
MSO)洗浄液とその他の洗浄液との洗浄能力指標と洗
浄剤の炭素数(個)との関係を示す。図10によれば、
ジメチルスルホキシド(DMSO)が他の洗浄液(炭化
水素系洗浄剤(「NS−100:商品名。C1124、炭
化水素系洗浄剤(「EMクリーン」:商品名。C
9 12、n−ヘキサン(C6 1 4 )、イソプロピルア
ルコール(IPA:C3 7OH)、パークロロエチレ
ン(C2 Cl4 ))等と比べて洗浄能力が極めて高いも
のとなる。
Further, in FIG. 10, dimethyl sulfoxide (D
MSO) Cleaning performance index and cleaning performance between cleaning solution and other cleaning solutions
The relationship with the carbon number (pieces) of the cleaning agent is shown. According to FIG.
Dimethyl sulfoxide (DMSO) is another cleaning solution (carbonization
Hydrogen-based cleaning agent ("NS-100: trade name. C11Htwenty four, Charcoal
Hydrogen-based cleaning agent (“EM Clean”: trade name. C
9H 12, N-hexane (C6H14), Isopropyla
Lucor (IPA: C3H7OH), perchloroethyl
(C2ClFour)) Etc. have a very high cleaning ability
Will be

【0045】[0045]

【化1】 [Chemical 1]

【0046】このため、従来のヘキサンやトルエン等の
ような、その分子を構成する原子数が多く(C6
上)、極性基がない洗浄液で洗浄した場合よりも、被処
理物1に残留するPCB濃度を大幅に低減することがで
きる(約1/200)。
For this reason, the number of atoms constituting the molecule is large (C 6 or more) such as hexane and toluene, and remains on the object to be treated 1 as compared with the case of cleaning with a cleaning liquid having no polar group. The PCB concentration can be significantly reduced (about 1/200).

【0047】また、ヘキサン等の溶媒はPCB以外の含
有油をも取込ながら溶解させるので、PCB除去するに
は多量の溶媒量を必要とするが、ジメチルスルホキシド
(DMSO)洗浄液を用いた場合には、芳香族ハロゲン
化物のみを積極的に溶解することになるので、単位当た
りのPCBの溶解量が大きなものとなる。
Further, since a solvent such as hexane dissolves while containing the oil contained other than PCB, a large amount of solvent is required to remove PCB. However, when a dimethylsulfoxide (DMSO) cleaning solution is used, Since only the aromatic halide is positively dissolved, the dissolved amount of PCB per unit becomes large.

【0048】また、ジメチルスルホキシド(DMSO)
洗浄液で洗浄する際に、加温手段等により加温(例えば
80℃前後)して洗浄することで、効率よくPCBと絶
縁優先権とを分離し、強い浸透性から隙間やクラック、
塗料や錆の隙間にジメチルスルホキシド(DMSO)が
入り込み、PCBを選択的に溶解回収することができ
る。
Further, dimethyl sulfoxide (DMSO)
When cleaning with a cleaning liquid, by heating (for example, around 80 ° C.) with a heating means or the like, the PCB and the insulation priority are efficiently separated, and due to strong permeability, gaps and cracks,
Dimethyl sulfoxide (DMSO) can enter the gaps between the paint and rust, and the PCB can be selectively dissolved and recovered.

【0049】さらに、ヘキサン等のような揮発性溶媒は
沸点が低い(約69℃)ので、ハンドリング性に問題が
あるが、ジメチルスルホキシド(DMSO)は沸点が高
い(189℃)ので、溶媒揮発量が少なくしかもハンド
リングし易いものとなる。
Further, since a volatile solvent such as hexane has a low boiling point (about 69 ° C.), it has a problem in handling property, but dimethyl sulfoxide (DMSO) has a high boiling point (189 ° C.), so that the solvent volatilization amount is high. Less and more easily handled.

【0050】また、PCBを含むジメチルスルホキシド
(DMSO)に多量の水を投入することで、下記「化
2」に示すように、ジメチルスルホキシド(DMSO)
を加水分解させ、PCBを水中に溶解させ、該PCBが
溶解された水は後述する水熱酸化分解処理装置や他の処
理装置において分解することで、洗浄液の処理が容易と
なる。これは、ジメチルスルホキシド(DMSO)より
も水のほうが極性が大きいので、PCBが水中に移行す
ることになるからである。なお、PCBの水への溶解力
は400ppbであるので、多量の水で加水分解処理す
ることが必要である。
By adding a large amount of water to dimethyl sulfoxide (DMSO) containing PCB, dimethyl sulfoxide (DMSO) can be obtained as shown in the following "Chemical formula 2".
Is hydrolyzed, PCB is dissolved in water, and the water in which the PCB is dissolved is decomposed in a hydrothermal oxidative decomposition treatment device described later or another treatment device, which facilitates the treatment of the cleaning liquid. This is because water has a greater polarity than dimethylsulfoxide (DMSO), so the PCB migrates into the water. Since the solubility of PCB in water is 400 ppb, it is necessary to hydrolyze it with a large amount of water.

【0051】[0051]

【化2】 [Chemical 2]

【0052】したがって、本実施の形態によれば、表面
の微細な隙間にPCBが侵入して吸着している被処理物
1であっても、PCBを十分に洗浄除去することが容易
にできる。
Therefore, according to the present embodiment, it is possible to easily wash and remove the PCB even if it is the object 1 to be treated in which the PCB has entered and adsorbed in the minute gaps on the surface.

【0053】また、加水分解物である硫酸ナトリウム
(Na2 SO4 )は腐蝕性がないので、処理設備の腐蝕
による劣化が発生することはない。
Further, since sodium sulfate (Na 2 SO 4 ) which is a hydrolyzate is not corrosive, deterioration of the treatment equipment due to corrosion does not occur.

【0054】<PCB処理方法>以上のような洗浄装置
100を例えばPCB処理システムに組み込んで、例え
ば前記コンデンサ20を無害化処理する場合について図
5を用いて次に説明する。
<PCB Processing Method> A case in which the cleaning apparatus 100 as described above is incorporated into, for example, a PCB processing system to detoxify the capacitor 20 will be described below with reference to FIG.

【0055】図5に示すように、まず、受け入れたコン
デンサ20のPCB油抜きを行い(S201)、付着P
CBレベルを50g/m2 程度から10〜100mg/
2程度にまで低減するために、環境毒性が低くて引火
性の高くない長鎖脂肪族系炭化水素(例えばNS−10
0や灯油等)等のような有機溶剤を洗浄剤に用いて粗洗
浄を行う(S202)。この粗洗浄は、仕上洗浄工程へ
のPCBの流入量を減らし、仕上洗浄工程で使用する機
器等のPCB汚染レベルを低く保つことで洗浄性能の低
下を抑制するものである。続いて、粗洗浄したコンデン
サ20を解体して、紙や木などの有機物、素子21、お
よびこれら以外の容器25や碍子29等の無機物等に分
別する(S203)。このコンデンサ20の素子21
は、一般にアルミニウム箔の電極、プラスチックフィル
ム、絶縁紙の積層物を巻いた構造となっている。
As shown in FIG. 5, first, PCB oil of the received condenser 20 is removed (S201), and the adhered P is removed.
CB level from about 50 g / m 2 to 10-100 mg /
In order to reduce it to about m 2, long-chain aliphatic hydrocarbons having low environmental toxicity and low flammability (for example, NS-10
Rough cleaning is performed using an organic solvent such as 0 or kerosene) as a cleaning agent (S202). This rough cleaning suppresses the deterioration of the cleaning performance by reducing the inflow amount of PCB into the finish cleaning process and keeping the PCB contamination level of the equipment used in the finish cleaning process low. Then, the roughly washed capacitor 20 is disassembled and separated into organic substances such as paper and wood, the element 21, and other inorganic substances such as the container 25 and the insulator 29 (S203). Element 21 of this capacitor 20
Generally has a structure in which an aluminum foil electrode, a plastic film, and a laminate of insulating paper are wound.

【0056】つぎに、分別した素子21を加熱して炭化
する(S204)。加熱炭化は、真空またはAr、N2
などの不活性雰囲気中にて行われ、その温度は200〜
600℃程度、加熱時間を3〜12時間程度とすると好
ましい。このようにして素子21を加熱炭化することに
より、PCBの除去または低濃度化を行うことができる
と共に、プラスチックスフィルムや絶縁紙等の有機物を
脆化することができ、素子21の分解分別の容易化を図
る。
Next, the separated element 21 is heated and carbonized (S204). Carbonization by heating is performed in vacuum or Ar, N 2
The temperature is 200 ~.
It is preferable to set the temperature to about 600 ° C. and the heating time to about 3 to 12 hours. By heating and carbonizing the element 21 in this manner, it is possible to remove the PCB or reduce the concentration thereof, and it is also possible to embrittle organic substances such as a plastics film and insulating paper, thereby decomposing and separating the element 21. Make it easier.

【0057】このようにして加熱炭化した素子21は、
有機物(脆化物)とアルミニウム箔とに分離される(S
205)。なお、素子21の上記有機物を脆化するにあ
たっては、加熱炭化に代えて、冷凍または紫外線照射を
行うようにしてもよい。さらに、微生物による脆化も可
能である。
The element 21 thus heated and carbonized is
Separated into organic matter (embrittlement) and aluminum foil (S
205). In addition, in embrittlement of the said organic substance of the element 21, you may make it freeze or irradiate with ultraviolet rays instead of heating carbonization. Further, embrittlement by microorganisms is possible.

【0058】続いて、素子21から分離された有機物お
よび解体時に発生した他の紙やフィルムなどの有機物
は、微粉砕ミルで微粉砕されてスラリー化される(S2
06)。一方、素子21から分離されたアルミニウム箔
および解体時に発生した他の金属や碍子等の無機物は、
上述した洗浄装置100により洗浄され、廃棄または再
利用される(S207)。
Subsequently, the organic substances separated from the element 21 and other organic substances such as paper and film generated at the time of disassembling are finely pulverized by a fine pulverizing mill to form a slurry (S2).
06). On the other hand, the aluminum foil separated from the element 21 and other metals generated during disassembly and inorganic substances such as insulators are
It is cleaned by the cleaning device 100 described above, and is discarded or reused (S207).

【0059】そして、スラリー化した有機物と洗浄廃液
は、抜き出した絶縁油および洗浄時の洗浄廃液と共に水
熱分解され、NaCl、CO2およびH2Oとなって排出
される(S208)。これにより、PCBを含むコンデ
ンサ20を安全かつ確実に処理することができる。
Then, the slurried organic matter and the cleaning waste liquid are hydrothermally decomposed together with the extracted insulating oil and the cleaning waste liquid at the time of cleaning to become NaCl, CO 2 and H 2 O and discharged (S208). As a result, the capacitor 20 including the PCB can be safely and reliably processed.

【0060】このようなPCB処理システムにおいて
は、コンデンサ20等の電力機器の構成材のうち、PC
Bに汚染された紙や木などの有機廃棄物を他の構成材か
ら分離して取り出し、この有機廃棄物を水熱分解処理し
ているので、有機物に染み込んだPCBを含めて安全か
つ確実に処理することができる。
In such a PCB processing system, among the components of power equipment such as the capacitor 20, the PC
Since the organic waste such as paper and wood contaminated with B is separated from other components and taken out, and this organic waste is hydrothermally decomposed, it is safe and reliable including the PCB soaked in the organic matter. Can be processed.

【0061】また、この際、紙や木などの有機廃棄物を
スラリー化し、当該スラリー化した有機廃棄物を水熱分
解処理しているので、安全確実に且つ連続的にPCBの
処理を行うことができる。
At this time, since the organic waste such as paper and wood is slurried and the slurried organic waste is hydrothermally decomposed, the PCB should be treated safely and reliably and continuously. You can

【0062】また、コンデンサ20などの電力機器の構
成材のうち、PCBに汚染された金属や碍子等の無機廃
棄物を他の構成材から分離して取り出し、洗浄剤により
洗浄後、当該洗浄剤を水熱分解処理等をしているので、
PCBに汚染された洗浄剤を安全・確実に無害化するこ
とができる。
In addition, among the constituent materials of electric power equipment such as the capacitor 20, inorganic waste such as metal and insulator contaminated by PCB is separated from other constituent materials and taken out, and after cleaning with a cleaning agent, the cleaning agent Since it is hydrothermally decomposed,
The cleaning agent contaminated by PCB can be safely and surely rendered harmless.

【0063】また、PCBに汚染された紙や木などの有
機廃棄物と、金属や碍子等の洗浄によりPCBに汚染さ
れた洗浄剤を水熱分解処理しているので、さらに、安全
・確実にPCBの処理を行うことができる。
Further, since the organic waste such as paper and wood contaminated by the PCB and the cleaning agent contaminated by the PCB by cleaning the metal, the insulator and the like are hydrothermally decomposed, further safety and reliability are ensured. PCB processing can be performed.

【0064】また、ジメチルスルホキシド(DMSO)
洗浄液の替わりにテトラヒドロフラン(THF)を単独
又は混合して用いてもよい。また、テトラヒドロフラン
(THF)は、特に樹脂系材料等に対しての溶解力が高
いので、好ましい。なお、テトラヒドロフラン(TH
F)は、沸点が65℃前後とジメチルスルホキシド(D
MSO)よりも低いので、加温する場合には40℃前後
で加温する必要がある。
Further, dimethyl sulfoxide (DMSO)
Tetrahydrofuran (THF) may be used alone or as a mixture instead of the cleaning liquid. Tetrahydrofuran (THF) is preferable because it has a high dissolving power especially for resin materials. In addition, tetrahydrofuran (TH
F) has a boiling point of around 65 ° C. and dimethyl sulfoxide (D
Since it is lower than MSO), it is necessary to heat at about 40 ° C. when heating.

【0065】よって、PCBが混入した絶縁油が封入さ
れたコンデンサやトランスから解体時にPCBが混入し
た絶縁油を液抜きした後、テトラヒドロフラン単独又は
ジメチルスルホキシドを混合した洗浄剤を添加し、テト
ラヒドロフランの沸点以下に加温(例えば40℃)し、
攪拌等を行うことで、効率よく塗料、樹脂、PCBを絶
縁油等とともに溶解し、容器洗浄面の隙間やクラック、
塗料や錆の隙間に当該洗浄剤が入り込み、PCB等付着
した有機化合物を全て溶解回収することができる。
Therefore, after the insulating oil mixed with PCB is drained from the condenser or transformer in which the insulating oil mixed with PCB is sealed, the cleaning agent containing only tetrahydrofuran or dimethyl sulfoxide is added to the boiling point of tetrahydrofuran. Heat (eg 40 ° C) to
By stirring, etc., paint, resin, PCB can be efficiently dissolved together with insulating oil, etc.
The cleaning agent can enter the gaps between the paint and rust, and all the organic compounds attached such as PCB can be dissolved and collected.

【0066】<有害物質処理システム>また、上記洗浄
装置100は、図6に示すような有害物質処理システム
に組み込まれることにより、より効果的に利用すること
ができる。
<Toxic Substance Treatment System> Further, the cleaning apparatus 100 can be used more effectively by incorporating it into a hazardous substance treatment system as shown in FIG.

【0067】図6に示すように、有害物質処理システム
は、有害物質が付着又は含有又は保存されている被処理
物を無害化する有害物質処理システムであって、被処理
物(例えばトランス、コンデンサ等)1001である有害物
質( 例えばPCB等)1002 を保存する容器1003から当該
有害物質1002を分離する第1の分離手段1004と、被処理
物1001を構成する構成材1001a,b,…を解体する解体
手段1005とのいずれか一方又は両方を有する前処理手段
1006と、前処理手段1006において処理された被処理物を
構成する構成材(コア、コンデンサ素子部等)1001a,
b,…から紙・木・樹脂等の有機物1007と金属等の無機
物1008とに分離する第2の分離手段1009と、上記前処理
手段1006で分離された金属製の容器1003又は上記分離手
段1009で分離した金属等の無機物1008を洗浄液1010で洗
浄する洗浄手段1011と、洗浄後の洗浄廃液1012及び前処
理手段で分離した有害物質1001のいずれか一方又は両方
を分解処理する有害物質分解処理手段1013とを、具備し
てなるものである。
As shown in FIG. 6, the harmful substance treatment system is a harmful substance treatment system for detoxifying an object to be treated on which harmful substances are attached, contained or stored. Etc.) 1001 is a first separating means 1004 for separating the harmful substance 1002 from a container 1003 for storing the harmful substance (eg PCB) 1002 and the constituent materials 1001a, b, ... Pretreatment means having one or both of the disassembling means 1005
1006 and constituent materials (core, capacitor element portion, etc.) 1001a constituting the object processed by the pretreatment means 1006,
Second separation means 1009 for separating organic matter 1007 such as paper, wood, resin, etc. and inorganic matter 1008 such as metal from b, ..., Metal container 1003 separated by the pretreatment means 1006, or the separation means 1009 The cleaning means 1011 for cleaning the inorganic substance 1008 such as the metal separated by the cleaning solution 1010, the cleaning waste liquid 1012 after cleaning, and the harmful substance 1001 separated by the pretreatment means. 1013 and are provided.

【0068】このような有害物質処理システムにおいて
は、前記洗浄装置100は上記洗浄手段1011として使用
される。
In such a hazardous substance treatment system, the cleaning device 100 is used as the cleaning means 1011.

【0069】このような有害物質処理システムによれ
ば、トランス10やコンデンサ20等のPCB濃度を、
現在のPCBの排出基準値(3ppb)以下の0.5pp
b以下にまで低減することができ、PCBを含むトラン
ス10やコンデンサ20等を安全かつ確実に処理するこ
とができる。したがって、PCB含有物品の完全処理が
可能となり、PCBの完全消滅が可能となる。
According to such a harmful substance treatment system, the PCB concentration of the transformer 10, the capacitor 20, etc.
0.5 pp below the current PCB emission standard value (3 ppb)
It can be reduced to b or less, and the transformer 10 including the PCB, the capacitor 20 and the like can be processed safely and reliably. Therefore, the PCB-containing article can be completely processed, and the PCB can be completely extinguished.

【0070】また、PCB以外の有機化合物も処理する
ことができるので、PCB中に含まれるダイオキシン
類、PCBに汚染された紙、木、布などの有機物、およ
びケースの洗浄に使用する洗浄剤も同様に分解処理する
ことができる。
Since organic compounds other than PCB can be treated, dioxins contained in PCB, organic substances such as paper, wood, cloth, etc. contaminated by PCB, and cleaning agents used for cleaning the case are also used. It can be decomposed similarly.

【0071】図7は、PCBの水熱分解処理システム1
20の構成図である。
FIG. 7 shows a hydrothermal decomposition treatment system 1 for PCB.
It is a block diagram of 20.

【0072】図7に示すように、筒形状の一次反応器1
22と、燃焼用の油123a、液抜きしたPCB123
b、水酸化ナトリウム(NaOH)123c及び水12
3dを各々加圧する加圧ポンプ124a〜124dと、
水と水酸化ナトリウムとの混合液を予熱する予熱器12
5と、例えば配管を巻いた構成の二次反応器126と、
冷却器127および減圧弁128を備えている。また、
減圧弁127の下流には、気水分離器129、活性炭槽
130が配置されており、排ガス(CO2 )131は煙
突132から外部へ排出され、排水(H2 O,NaC
l)133は別途、必要に応じて排水処理される。ま
た、酸素の配管135は、一次反応器125に対して直
結している。なお、反応器は、必要に応じて例えば1次
反応器を複数並列したり、又は上記二次反応器126を
必要に応じて省略することもできる。
As shown in FIG. 7, a cylindrical primary reactor 1
22 and oil 123a for combustion, drained PCB123
b, sodium hydroxide (NaOH) 123c and water 12
Pressurizing pumps 124a to 124d for pressurizing 3d respectively,
Preheater 12 for preheating a mixed solution of water and sodium hydroxide
5, and a secondary reactor 126 having a structure in which piping is wound, for example,
The cooler 127 and the pressure reducing valve 128 are provided. Also,
A steam separator 129 and an activated carbon tank 130 are arranged downstream of the pressure reducing valve 127, and exhaust gas (CO 2 ) 131 is discharged from a chimney 132 to the outside, and waste water (H 2 O, NaC) is discharged.
l) 133 is separately treated as waste water as required. The oxygen pipe 135 is directly connected to the primary reactor 125. As for the reactor, for example, a plurality of primary reactors may be arranged in parallel, or the secondary reactor 126 may be omitted as necessary.

【0073】上記装置において、加圧ポンプ124a〜
124dによる加圧により一次反応器122内は、26
MPaまで昇圧される。また、予熱器125は、水とN
aOHの混合処理液を300℃程度に予熱する。また、
一次反応器122内には酸素が噴出しており、内部の反
応熱により380℃〜400℃の亜臨界域まで昇温す
る。この亜臨界状態の熱水中で析出した炭酸ナトリウム
(Na2CO3)の結晶とPCBとが反応して、脱塩素反
応および酸化分解反応を起こし、NaCl、CO 2およ
びH2Oに分解されている。つぎに、冷却器127で
は、二次反応器126からの流体を100℃程度に冷却
すると共に後段の減圧弁128にて大気圧まで減圧す
る。そして、気水分離器129によりCO2および水蒸
気と処理水とが分離され、CO2および水蒸気は、活性
炭槽130を通過して環境中に排出される。また、排水
133中には塩化ナトリウムが混在しているが、別途脱
塩処理をした後に、水熱分解装置で使用する水28に再
利用することができる。
In the above apparatus, the pressure pumps 124a ...
The pressure in the primary reactor 122 is 26
The pressure is increased to MPa. Further, the preheater 125 uses water and N
The mixed treatment solution of aOH is preheated to about 300 ° C. Also,
Oxygen is ejected into the primary reactor 122,
Heat up to 380 ℃ -400 ℃ subcritical range
It Sodium carbonate precipitated in this subcritical hot water
(Na2CO3) Crystal reacts with PCB, dechlorination reaction
Reaction and oxidative decomposition reaction, resulting in NaCl, CO 2And
And H2It is decomposed into O. Next, in the cooler 127
Cools the fluid from the secondary reactor 126 to about 100 ° C.
At the same time, the pressure is reduced to atmospheric pressure by the pressure reducing valve 128 in the subsequent stage.
It Then, by the steam separator 129, CO2And water vapor
CO and treated water are separated, CO2And steam is active
It passes through the charcoal tank 130 and is discharged into the environment. Also drain
Sodium chloride is mixed in 133, but separate
After salt treatment, re-use the water 28 used in the hydrothermal decomposition device.
Can be used.

【0074】ここで、反応塔である1次反応容器122
及び二次反応器122内でのPCBの熱水分解反応につ
いて説明する。まず、反応開始時には油、有機溶剤等が
酸化剤供給源から塔内に供給される酸化剤(本実施形態
では酸素を使用する)により酸化され二酸化炭素を生成
する。例えば、燃焼材としたの油(例えばトルエン)を
使用した場合を例にとると、C 6 5 CH3 +9O2
4H2 O+7CO2 の反応によりCO2 が生成する。こ
の酸化反応は発熱反応であり、これにより系内の温度は
上昇し、それに応じて圧力も上昇する。本実施形態で
は、一次反応容器122内の温度、圧力はそれぞれ38
0℃、26MPa程度に維持した場合に最もPCBの分
解率が向上することが判明している。
Here, the primary reaction vessel 122 which is a reaction tower
And hydrothermal decomposition reaction of PCB in the secondary reactor 122.
And explain. First of all, when starting the reaction, oil, organic solvent, etc.
The oxidant supplied from the oxidant supply source into the tower (the present embodiment
Then oxygen is used) to produce carbon dioxide
To do. For example, the oil used as a combustion material (for example, toluene)
For example, when used, C 6HFiveCH3+ 9O2
4H2O + 7CO2Due to the reaction of2Is generated. This
The oxidation reaction of is an exothermic reaction, so the temperature inside the system
Rises and the pressure rises accordingly. In this embodiment
Indicates that the temperature and pressure inside the primary reaction container 122 are 38
When the temperature is maintained at 0 ° C and 26 MPa, the PCB content is the highest.
It has been found that the solution rate improves.

【0075】上記により生成したCO2 は、一次反応容
器122内にPCBとともに供給された水酸化ナトリウ
ムと反応し炭酸ナトリウム(Na2 CO3 )を生成す
る。 2NaOH+CO2 →Na2 CO3 +H2 O …(A) 次に、上記(A)の反応により生成したNa2 CO
3 は、PCBと反応し、PCBを脱塩及び酸化分解す
る。 C126 Cl4 +12.5O2 +2Na2 CO3 →4NaCl+3H2 O+14CO2 …(B) なお、上記の塩素数4のPCBの場合であるが、他の塩
素数のものについても同様な反応が生じ、PCBがH2
O、CO2 、NaClに分解される。上記(B)の反応
により生じたCO2 は更に、上記(A)の反応によりN
aOHと反応し(B)の反応に必要とされるNa2 CO
3 を生成するようになる。ところで、上記(B)のPC
B分解反応においては、炭酸ナトリウム(Na2
3 )は反応剤として作用する他に、(B)の分解反応
は促進する触媒としても作用している。また、上記
(B)の分解反応はアルカリ雰囲気(例えばpH10以
上)で促進されることが判明している。
The CO 2 produced as described above reacts with the sodium hydroxide supplied together with the PCB in the primary reaction vessel 122 to produce sodium carbonate (Na 2 CO 3 ). 2NaOH + CO 2 → Na 2 CO 3 + H 2 O (A) Next, Na 2 CO produced by the reaction of the above (A)
3 reacts with PCB, desalting and oxidatively decomposing PCB. C 12 H 6 Cl 4 + 12.5O 2 + 2Na 2 CO 3 → 4NaCl + 3H 2 O + 14CO 2 (B) In the case of the above-mentioned PCB having a chlorine number of 4, the same reaction is obtained for other chlorine numbers. Occurs, PCB is H 2
It is decomposed into O, CO 2 , and NaCl. The CO 2 generated by the above reaction (B) is further converted into N 2 by the above reaction (A).
Na 2 CO that reacts with aOH and is required for the reaction of (B)
Will generate 3 . By the way, the above (B) PC
In the B decomposition reaction, sodium carbonate (Na 2 C
O 3 ) acts not only as a reaction agent but also as a catalyst for promoting the decomposition reaction of (B). Further, it has been found that the decomposition reaction of the above (B) is promoted in an alkaline atmosphere (for example, pH 10 or higher).

【0076】上記熱水分解装置120によれば、現在で
のPCBの排出基準値(3ppb)以下の0.5ppb以
下まで分解でき、完全分解ができる。これによりPCB
含有物品の完全処理が可能となり、PCBの完全消滅が
可能となる。
According to the hot water decomposing apparatus 120, it is possible to decompose to 0.5 ppb or less, which is less than the current PCB discharge standard value (3 ppb), and complete decomposition is possible. This allows PCB
It becomes possible to completely treat the contained article and completely eliminate the PCB.

【0077】このように、上記水熱分解システム120
を用いることで、熱水中にて確実にPCBを分解するこ
とができるようになる。また、PCB以外の有機化合物
も分解可能であり、PCB中に含まれるダイオキシン
類、PCBに汚染された紙、木、布等の有機物、および
ケースの洗浄に使用する洗浄剤も同様に分解処理が可能
になる。なお、上記水熱分解方法は本願出願人により既
に開示されており、詳しくは特開平11−639号公
報、特開平11−253795号公報等を参照された
い。以上のPCB処理方法によれば、PCBを含むトラ
ンス等を安全かつ確実に処理することができる。
As described above, the hydrothermal decomposition system 120
By using, it becomes possible to surely decompose the PCB in hot water. In addition, organic compounds other than PCB can also be decomposed, and dioxins contained in PCB, organic substances such as paper, wood, cloth, etc. contaminated by PCB, and cleaning agents used for cleaning the case can also be decomposed. It will be possible. The above hydrothermal decomposition method has already been disclosed by the applicant of the present application, and for details, refer to JP-A Nos. 11-639 and 11-253795. According to the PCB processing method described above, it is possible to safely and reliably process a transformer or the like including a PCB.

【0078】[第2の実施の形態]本発明による洗浄方
法およびその装置の第2の実施の形態を図8を用いて説
明する。図8は、洗浄装置の概略構成図である。ただ
し、前述した第1の実施の形態の場合と同様な部分につ
いては、前述した実施の形態の説明で使用した符号と同
一の符号を図面に付すことにより、その説明を省略す
る。
[Second Embodiment] A second embodiment of the cleaning method and apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a schematic configuration diagram of the cleaning device. However, the same parts as those in the above-described first embodiment are denoted by the same reference numerals as those used in the description of the above-described embodiment, and the description thereof will be omitted.

【0079】図8に示すように、内部を密封できる加熱
槽211には、加熱手段である高周波加熱器212が設
けられている。加熱槽211の上方には、当該加熱槽2
11内を減圧吸引する吸引ポンプ213が活性炭等の吸
着剤を充填した吸着槽214および三方バルブ215を
介して連結されている。加熱槽211の内部には、洗浄
筐101を支承するブラケット211aが取り付けられ
ている。なお、本実施の形態では、吸引ポンプ213、
吸着槽214、三方バルブ215等により環境調整手段
を構成している。
As shown in FIG. 8, a heating tank 211 capable of sealing the inside is provided with a high-frequency heater 212 as a heating means. Above the heating tank 211, the heating tank 2
A suction pump 213 for suctioning the inside of the chamber 11 under reduced pressure is connected via an adsorption tank 214 filled with an adsorbent such as activated carbon and a three-way valve 215. A bracket 211 a that supports the cleaning casing 101 is attached inside the heating tank 211. In this embodiment, the suction pump 213,
The adsorbing tank 214, the three-way valve 215, etc. constitute an environment adjusting means.

【0080】このような洗浄装置200を使用して、P
CBが表面に付着残留していると共に微細な隙間に吸着
残留している被処理物1を洗浄する場合には、被処理物
1を洗浄筐101内に入れ、当該洗浄筐101を加熱槽
211内に入れてブラケット211a上に載置し、加熱
槽211を密閉した後、吸引ポンプ213を作動して加
熱槽211内を減圧して真空環境にすると共に(5KP
a以下)、前記高周波加熱器212を作動して被処理物
1を高周波加熱する(200〜600℃)。
Using such a cleaning device 200, P
When cleaning the object to be processed 1 in which CB remains on the surface and is adsorbed and remaining in the minute gaps, the object to be processed 1 is placed in the cleaning case 101, and the cleaning case 101 is heated by the heating tank 211. After putting it inside and placing it on the bracket 211a and sealing the heating tank 211, the suction pump 213 is operated to depressurize the inside of the heating tank 211 to create a vacuum environment (5KP
a) or less), the high-frequency heater 212 is operated to heat the object 1 by high-frequency (200 to 600 ° C.).

【0081】すると、被処理物1の表面に付着している
PCBが気化して当該表面から離脱すると共に、被処理
物1の表面に生じた錆等の微細な隙間に吸着しているP
CBも気化して当該隙間から流出し、吸着槽214で吸
着除去されることにより、被処理物1が乾燥されて洗浄
される。
Then, the PCB adhering to the surface of the object to be processed 1 is vaporized and separated from the surface, and P is adsorbed in a fine gap such as rust formed on the surface of the object to be processed 1.
The CB is also vaporized, flows out from the gap, and is adsorbed and removed by the adsorption tank 214, so that the object to be treated 1 is dried and washed.

【0082】つまり、PCBを加熱気化させて、PCB
に著しく大きな分子運動を生じさせることにより、被処
理物1の表面に生じた錆等の微細な隙間からPCBを容
易に離脱させて乾燥洗浄するようにしたのである。
That is, by heating and vaporizing the PCB,
By causing a remarkably large molecular motion in the PCB, the PCB is easily separated from the minute gap such as rust formed on the surface of the object to be processed 1 and dried and washed.

【0083】このため、前述した第1の実施の形態の場
合と同様に、被処理物1に残留するPCB濃度を従来よ
りも大幅に低減することができる(約1/400以
下)。
Therefore, as in the case of the above-described first embodiment, the PCB concentration remaining on the object to be processed 1 can be significantly reduced as compared with the conventional one (about 1/400 or less).

【0084】したがって、本実施の形態によれば、前述
した第1の実施の形態の場合と同様に、微細な隙間にP
CBが侵入して吸着している被処理物1であっても、P
CBを十分に洗浄除去することが容易にできる。
Therefore, according to the present embodiment, as in the case of the above-described first embodiment, P is formed in the fine gap.
Even if the object 1 to be treated has CB invaded and adsorbed, P
The CB can be easily washed and removed sufficiently.

【0085】なお、本実施の形態では、高周波加熱を利
用する高周波加熱器212を用いるようにしたが、本発
明は、これに限らず、他の実施の形態として、例えば、
輻射熱を利用する輻射加熱器を用いることも可能であ
る。
In the present embodiment, the high frequency heater 212 utilizing high frequency heating is used, but the present invention is not limited to this, and as another embodiment, for example,
It is also possible to use a radiant heater that utilizes radiant heat.

【0086】[第3の実施の形態]本発明による洗浄方
法およびその装置の第3の実施の形態を図9を用いて説
明する。図9は、洗浄装置の概略構成図である。ただ
し、前述した第1の実施の形態の場合と同様な部分につ
いては、前述した実施の形態の説明で使用した符号と同
一の符号を図面に付すことにより、その説明を省略す
る。
[Third Embodiment] A third embodiment of the cleaning method and apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a schematic configuration diagram of the cleaning device. However, the same parts as those in the above-described first embodiment are denoted by the same reference numerals as those used in the description of the above-described embodiment, and the description thereof will be omitted.

【0087】図9に示すように、本実施の形態にかかる
洗浄装置301は、上部にジメチルスルホキシド(DM
SO)洗浄液2を噴霧する噴霧手段302を備えた密閉
可能な洗浄槽303と、該洗浄廃液304を回収する洗
浄廃液タンク305と、被処理物であるトランス306
の内部に洗浄液304を供給する供給ポンプ307とを
具備してなり、内部に設置したPCB含有トランス30
6の液抜き時においてPCBが蒸発等した場合に、その
ミスト又は蒸気を噴霧したDMSO洗浄液2で吸収する
ようにしている。噴霧された洗浄液は、洗浄槽300の
下部に溜められ、適宜洗浄廃液タンク305に導かれて
いる。なお、本実施の形態では、液抜きしたトランス3
06の内部を洗浄するのに回収した洗浄廃液304を用
いているが、別途洗浄液2を用意して、洗浄するように
してもよい。
As shown in FIG. 9, the cleaning device 301 according to the present embodiment has a dimethyl sulfoxide (DM)
(SO) A cleaning tank 303 having a spraying means 302 for spraying the cleaning liquid 2, a cleaning waste liquid tank 305 for recovering the cleaning waste liquid 304, and a transformer 306 to be processed.
And a supply pump 307 for supplying the cleaning liquid 304 to the inside of the container, and the PCB-containing transformer 30 installed inside.
If the PCB evaporates at the time of draining the liquid of 6, the mist or vapor is absorbed by the sprayed DMSO cleaning liquid 2. The sprayed cleaning liquid is stored in the lower part of the cleaning tank 300, and is appropriately guided to the cleaning waste liquid tank 305. In the present embodiment, the drained transformer 3 is used.
Although the collected cleaning waste liquid 304 is used for cleaning the inside of 06, the cleaning liquid 2 may be separately prepared for cleaning.

【0088】洗浄槽303内を飽和以上の洗浄液雰囲気
とすることで、蒸発したPCBが吸収され、外部へ飛散
することが防止される。また、外部に設けた排ガス31
0を処理するための活性炭フィルタ311のPCBの吸
着による劣化を防止することができる。
By making the inside of the cleaning tank 303 a cleaning liquid atmosphere having a saturation or higher, it is possible to prevent the evaporated PCB from being absorbed and scattered to the outside. In addition, the exhaust gas 31 provided outside
It is possible to prevent deterioration of the activated carbon filter 311 for treating 0 due to adsorption of PCB.

【0089】トランス306の洗浄が終了したPCBを
含む洗浄廃液308は上述した図7に示す水熱酸化分解
処理装置120へ導かれ、ここで分解処理がなされる。
The cleaning waste liquid 308 containing PCB after the cleaning of the transformer 306 is introduced to the hydrothermal oxidation decomposition processing apparatus 120 shown in FIG. 7 and is decomposed therein.

【0090】[他の実施の形態] <他の洗浄装置>前述した各実施の形態の洗浄装置以外
としては、例えば、CO2 超臨界液中で被処理物1を洗
浄処理することも可能である。
[Other Embodiments] <Other Cleaning Devices> Other than the cleaning devices of the above-described embodiments, for example, the object 1 to be processed can be cleaned in a CO 2 supercritical fluid. is there.

【0091】<有害物質>また、本発明で処理可能な有
害物質としては、上記PCB以外に、例えば、廃棄塗
料、廃棄燃料、有害薬品、未処理爆薬類等が挙げられ
る。しかしながら、本発明は、これらに限定されること
はなく、環境汚染に起因する環境ホルモン等のような有
害物質であれば、同様にして処理することができる。
<Toxic Substances> In addition to the above PCBs, examples of the harmful substances that can be treated in the present invention include waste paint, waste fuel, hazardous chemicals, untreated explosives and the like. However, the present invention is not limited to these, and any harmful substance such as an environmental hormone caused by environmental pollution can be treated in the same manner.

【0092】[0092]

【発明の効果】以上述べたように、被処理物の表面の微
細な隙間に侵入して付着した有害物質を除去する洗浄方
法において、ジメチルスルホキシド(DMSO)洗浄液
中に前記被処理物を浸漬することにより、前記隙間に当
該洗浄液を侵入させて、当該隙間に付着した前記有害物
質を洗浄除去するので、選択的にPCB等の有機ハロゲ
ン化物を除去することができ、洗浄工程の工程数の低減
を図ることができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, in the cleaning method for removing harmful substances adhering to the minute gaps on the surface of the object to be processed, the object to be processed is immersed in a dimethyl sulfoxide (DMSO) cleaning solution. As a result, the cleaning liquid is allowed to enter the gap and the harmful substances attached to the gap are cleaned and removed. Therefore, organic halides such as PCB can be selectively removed, and the number of cleaning steps can be reduced. Can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による洗浄装置の第1の実施の形態の概
略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a first embodiment of a cleaning device according to the present invention.

【図2】トランスの概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a transformer.

【図3】コンデンサの概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a capacitor.

【図4】蛍光灯安定器の概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a fluorescent lamp ballast.

【図5】本発明による洗浄装置を利用したPCB処理シ
ステムの実施の形態の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of an embodiment of a PCB processing system using the cleaning apparatus according to the present invention.

【図6】本発明による洗浄装置を利用した有害物質処理
システムの実施の形態の全体構成図である。
FIG. 6 is an overall configuration diagram of an embodiment of a harmful substance treatment system using a cleaning device according to the present invention.

【図7】水熱酸化分解処理装置の概略構成図である。FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a hydrothermal oxidative decomposition treatment apparatus.

【図8】本発明による洗浄装置の第2の実施の形態の概
略構成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a second embodiment of a cleaning device according to the present invention.

【図9】本発明による洗浄装置の第3の実施の形態の概
略構成図である。
FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a third embodiment of a cleaning device according to the present invention.

【図10】ジメチルスルホキシド(DMSO)洗浄液と
その他の洗浄液との洗浄能力指標と洗浄剤の炭素数
(個)との関係図である。
FIG. 10 is a graph showing the relationship between the cleaning performance index of a dimethylsulfoxide (DMSO) cleaning liquid and other cleaning liquids, and the number of carbon atoms (pieces) of the cleaning agent.

【図11】従来の有害物質処理システムの説明図であ
る。
FIG. 11 is an explanatory diagram of a conventional harmful substance processing system.

【図12】PCB汚染物の表面状態の説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram of the surface state of PCB contaminants.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被処理物 2 洗浄液 3 不活性ガス 4 水 5 水蒸気 6 酸 7 添加剤 8 電解原液 10 トランス 20 コンデンサ 30 蛍光灯安定器 100 洗浄装置 111 洗浄槽 112 洗浄液供給装置 113 超音波発振器 114 排出バルブ 200 洗浄装置 211 加熱槽 212高周波加熱器 213 吸引ポンプ 214 吸着槽 215 三方バルブ 301 洗浄装置 302 噴霧手段 303 洗浄槽 304 洗浄廃液タンク 305 PCB含有トランス 306 洗浄廃液タンク 307 洗浄廃液 308 洗浄廃液 1001 被処理物 1002 有害物質(例えばPCB) 1003 容器 1004 分離手段 1005 解体手段 1006 前処理手段 1007 有機物 1008 無機物 1009 分離手段 1010 洗浄液 1011 洗浄手段 1012 洗浄廃液 1013 有害物質分解処理手段 1014 スラリー 1015 スラリー化手段 1 Object to be processed 2 cleaning liquid 3 inert gas 4 water 5 steam 6 acids 7 additives 8 Electrolyte stock solution 10 transformers 20 capacitors 30 fluorescent light ballast 100 cleaning equipment 111 cleaning tank 112 Cleaning liquid supply device 113 Ultrasonic oscillator 114 discharge valve 200 cleaning equipment 211 heating tank 212 high frequency heater 213 Suction pump 214 adsorption tank 215 three-way valve 301 cleaning device 302 spraying means 303 washing tank 304 Washing waste liquid tank 305 PCB containing transformer 306 Washing waste liquid tank 307 Washing waste liquid 308 Washing waste liquid 1001 object 1002 Hazardous substances (eg PCB) 1003 containers 1004 Separation means 1005 Dismantling method 1006 Pretreatment means 1007 organic matter 1008 inorganic 1009 Separation means 1010 cleaning solution 1011 Cleaning means 1012 Wash waste liquid 1013 Hazardous substance decomposition processing means 1014 slurry 1015 Slurrying means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B05D 1/02 B05D 1/02 Z 4F042 3/10 3/10 F 4H003 B08B 3/02 B08B 3/02 A 3/08 3/08 Z 3/10 3/10 A 3/12 3/12 A C11D 7/34 C11D 7/34 17/00 17/00 (72)発明者 馬場 恵吾 長崎県長崎市深堀町五丁目717番地1 長 菱エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 福永 義徳 長崎県長崎市深堀町五丁目717番地1 長 菱エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 3B116 AA23 BB02 BB82 BB83 CA03 CC03 CD31 3B201 AA23 AB03 BB02 BB21 BB82 BB83 BB95 BB98 BB99 CA03 CC12 CD11 CD31 4D075 AA01 AA74 AB03 AB41 BB65Z BB69Z DB11 DC19 EA05 EC30 4F033 AA04 BA03 DA05 EA06 HA01 4F040 AA12 AB13 BA42 CC07 4F042 AA06 AB00 CC01 CC10 DA01 DB21 4H003 BA12 DA12 DA14 EB21 ED32 FA03 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B05D 1/02 B05D 1/02 Z 4F042 3/10 3/10 F 4H003 B08B 3/02 B08B 3/02 A 3/08 3/08 Z 3/10 3/10 A 3/12 3/12 A C11D 7/34 C11D 7/34 17/00 17/00 (72) Inventor Keigo Baba 5, Fukahori-cho, Nagasaki-shi, Nagasaki Prefecture 717 1 In Choryo Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Yoshinori Fukunaga 5-chome, Fukahori-cho, Nagasaki City, Nagasaki Prefecture 717 1 F-term in Choryo Engineering Co., Ltd. (reference) 3B116 AA23 BB02 BB82 BB83 CA03 CC03 CD31 3B201 AA23 AB03 BB02 BB21 BB82 BB83 BB95 BB98 BB99 CA03 CC12 CD11 CD31 4D075 AA01 AA74 AB03 AB41 BB65Z BB69Z DB11 DC19 EA05 EC30 4F033 AA04 BA03 DA05 EA06 HA01 4F040 AA12 AB13 BA42 CC07 4F042 AA06 AB00 CC01 BA42 B21 4H003 BA12 DA12 DA14 EB21 ED32 FA03

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被処理物に付着した有害物質を除去する
洗浄方法であって、 ジメチルスルホキシド(DMSO)洗浄液中に前記被処
理物を浸漬することにより、前記有害物質を洗浄除去す
ることを特徴とする洗浄方法。
1. A cleaning method for removing harmful substances adhering to an object to be treated, wherein the object to be treated is immersed in a dimethyl sulfoxide (DMSO) cleaning solution to remove the harmful substances by washing. And the cleaning method.
【請求項2】 請求項1において、 洗浄した前記被処理物を、減圧環境下、不活性ガス雰囲
気中で加熱することにより、当該被処理物を乾燥させて
洗浄することを特徴とする洗浄方法。
2. The cleaning method according to claim 1, wherein the cleaned object is heated in an inert gas atmosphere under a reduced pressure environment to dry the object to be cleaned. .
【請求項3】 被処理物の内部に付着した有害物質を除
去する洗浄方法であって、 ジメチルスルホキシド(DMSO)洗浄液を前記被処理
物内に供給して内部を洗浄することにより、前記有害物
質を洗浄除去することを特徴とする洗浄方法。
3. A cleaning method for removing harmful substances adhering to the inside of an object to be treated, comprising supplying a dimethylsulfoxide (DMSO) cleaning solution into the object to be cleaned to wash the inside thereof. A cleaning method characterized by cleaning and removing.
【請求項4】 請求項3において、 ジメチルスルホキシド(DMSO)洗浄液の飽和雰囲気
下で洗浄することを特徴とする洗浄方法。
4. The cleaning method according to claim 3, wherein the cleaning is performed in a saturated atmosphere of a dimethyl sulfoxide (DMSO) cleaning liquid.
【請求項5】 請求項1又は3において、 前記有害物質が、PCB、廃棄塗料、廃棄燃料、有害薬
品のうちの少なくとも一種であることを特徴とする洗浄
方法。
5. The cleaning method according to claim 1 or 3, wherein the harmful substance is at least one of PCB, waste paint, waste fuel, and harmful chemicals.
【請求項6】 請求項1又は3において、 前記被処理物が、PCBを含有したトランスまたはコン
デンサの無機物製の部材であることを特徴とする洗浄方
法。
6. The cleaning method according to claim 1, wherein the object to be processed is an inorganic member of a transformer or a capacitor containing PCB.
【請求項7】 請求項1又は3において、 前記部材が、錆びた容器であることを特徴とする洗浄方
法。
7. The cleaning method according to claim 1, wherein the member is a rusted container.
【請求項8】 被処理物に付着した有害物質を除去する
洗浄装置において、 前記被処理物が内部に入れられると共に、ジメチルスル
ホキシド(DMSO)洗浄液が内部に入れられる洗浄槽
を備えていることを特徴とする洗浄装置。
8. A cleaning device for removing harmful substances adhering to an object to be processed, comprising a cleaning tank in which the object to be processed is put and a dimethyl sulfoxide (DMSO) cleaning liquid is put inside. A characteristic cleaning device.
【請求項9】 被処理物に付着した有害物質を除去する
洗浄装置において、 前記被処理物が内部に入れられると共に内部を密封でき
る加熱槽と、 前記加熱槽の内部を真空環境下、不活性ガス雰囲気中の
いずれかの環境下とする環境調整手段と、 前記加熱槽の内部を加熱する加熱手段とを備えているこ
とを特徴とする洗浄装置。
9. A cleaning device for removing harmful substances adhering to an object to be processed, wherein a heating tank in which the object to be processed can be sealed and the inside can be sealed, and the inside of the heating tank is inert under a vacuum environment. A cleaning apparatus comprising: an environment adjusting means for setting an environment under a gas atmosphere, and a heating means for heating the inside of the heating tank.
【請求項10】 請求項8において、 前記槽に超音波発振手段が設けられていることを特徴と
する洗浄装置。
10. The cleaning device according to claim 8, wherein the tank is provided with ultrasonic wave oscillating means.
【請求項11】 請求項8において、 前記被処理物が内部に入れられると共に内部を密封でき
る加熱槽と、 前記加熱槽の内部を真空環境下、不活性ガス雰囲気とす
る環境調整手段と、 前記加熱槽の内部を加熱する加熱手段とを備えているこ
とを特徴とする洗浄装置。
11. The heating tank according to claim 8, wherein the object to be processed can be put inside and the inside can be sealed, and an environment adjusting means for making the inside of the heating tank an inert gas atmosphere under a vacuum environment, A cleaning device, comprising: a heating unit configured to heat the inside of the heating tank.
【請求項12】 被処理物の表面の微細な隙間に侵入し
て付着した有害物質を除去する洗浄装置において、 前記被処理物の内部にジメチルスルホキシド(DMS
O)洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、 前記被処理物の雰囲気下をジメチルスルホキシド(DM
SO)蒸気飽和雰囲気下とするジメチルスルホキシド
(DMSO)洗浄液噴霧手段と、 を備えていることを特徴とする洗浄装置。
12. A cleaning device for removing harmful substances adhering to fine gaps on the surface of an object to be treated, wherein dimethyl sulfoxide (DMS) is provided inside the object to be treated.
O) cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid, and dimethylsulfoxide (DM) under the atmosphere of the object to be treated.
SO) a dimethylsulfoxide (DMSO) cleaning liquid spraying means under a vapor saturated atmosphere, and a cleaning device.
【請求項13】 請求項8又は12において、 前記有害物質が、PCB、廃棄塗料、廃棄燃料、有害薬
品のうちの少なくとも一種であることを特徴とする洗浄
装置。
13. The cleaning device according to claim 8 or 12, wherein the harmful substance is at least one of PCB, waste paint, waste fuel, and harmful chemicals.
【請求項14】 請求項8又は12において、 前記被処理物が、PCBを含有したトランスまたはコン
デンサの無機物製の部材であることを特徴とする洗浄装
置。
14. The cleaning device according to claim 8 or 12, wherein the object to be processed is an inorganic member of a transformer or a capacitor containing PCB.
【請求項15】 請求項8又は12において、 前記部材が、錆びた容器であることを特徴とする洗浄装
置。
15. The cleaning device according to claim 8 or 12, wherein the member is a rusted container.
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Cited By (7)

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