JP2003309216A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2003309216A
JP2003309216A JP2002114538A JP2002114538A JP2003309216A JP 2003309216 A JP2003309216 A JP 2003309216A JP 2002114538 A JP2002114538 A JP 2002114538A JP 2002114538 A JP2002114538 A JP 2002114538A JP 2003309216 A JP2003309216 A JP 2003309216A
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JP
Japan
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semiconductor element
semiconductor device
resin
semiconductor
mounting
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Application number
JP2002114538A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadahiko Sakai
忠彦 境
Mitsuru Osono
満 大園
Yoshiyuki Wada
義之 和田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Priority to US10/509,025 priority patent/US7446423B2/en
Priority to EP03746477A priority patent/EP1487014A4/en
Priority to AU2003236251A priority patent/AU2003236251A1/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which comprises a thinned semiconductor element and secures reliability by preventing damages near the outer edge of the semiconductor element. <P>SOLUTION: The semiconductor device 1 comprises the semiconductor element 2 which is thinned, the surface of which is formed with a plurality of terminals for external connection and which has a bumper 4 having rigidity higher than that of the semiconductor element 2 bonded on the rear face thereof via resin 5. The external shape of the bumper 4 is larger than that of the semiconductor element 2, and the side face 2b of the semiconductor element 2 is covered by the resin 5 for forming a reinforcing section for reinforcing the edge of the semiconductor element 2. Due to the existence of the reinforcing section, damages near the outer edge of the semiconductor element 2 are prevented when the semiconductor device 1 is mounted, while securing reliability after mounting. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子の裏面
にこの半導体素子よりも剛性の高い構造体を樹脂によっ
て接着した半導体装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device in which a structure having higher rigidity than the semiconductor element is bonded to the back surface of the semiconductor element with a resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子をパッケージングして製造さ
れる半導体装置を回路基板に実装する品実装構造とし
て、半導体装置に形成された半田バンプなどの突出電極
を基板に接合した構造が知られている。このような実装
構造において、実装後の接合信頼性を実現する上で求め
られるヒートサイクル時の応力レベルの低減、すなわち
実装後の環境温度変化によって半導体とワークとの熱膨
張率の差に起因して半導体素子と半田バンプとの接合部
に発生する応力を低く抑えることを目的として、半導体
素子を150μm以下に極力薄くする試みが進行してい
る。
2. Description of the Related Art As a product mounting structure for mounting a semiconductor device manufactured by packaging semiconductor elements on a circuit board, a structure in which a protruding electrode such as a solder bump formed on the semiconductor device is bonded to the substrate is known. There is. In such a mounting structure, the stress level at the time of heat cycle required to realize the bonding reliability after mounting is reduced, that is, due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the semiconductor and the work due to the environmental temperature change after mounting. For the purpose of suppressing the stress generated at the joint between the semiconductor element and the solder bump to be low, attempts have been made to make the semiconductor element as thin as 150 μm or less as much as possible.

【0003】このような薄化された半導体素子より成る
実装構造について、図面を参照して説明する。図11
(a)は、従来の実装構造の断面図、図11(b)は、
従来の実装構造における半導体素子の変形状態を示す図
である。図11(a)において、基板10には半導体装
置1が実装されており、基板10の上面に形成された電
極10aには、半導体素子2の回路形成面に半田を形成
材料として設けられたバンプ3が接合されている。半導
体素子2は、前述のように半導体素子とバンプとの接合
部に発生する応力を低く抑えることを目的として薄化処
理されている。
A mounting structure composed of such a thinned semiconductor element will be described with reference to the drawings. Figure 11
11A is a sectional view of a conventional mounting structure, and FIG. 11B is
It is a figure which shows the deformation | transformation state of the semiconductor element in the conventional mounting structure. In FIG. 11A, the semiconductor device 1 is mounted on the substrate 10, and the electrodes 10 a formed on the upper surface of the substrate 10 have bumps provided on the circuit forming surface of the semiconductor element 2 with solder as a forming material. 3 are joined. As described above, the semiconductor element 2 is thinned for the purpose of suppressing the stress generated at the joint between the semiconductor element and the bump to be low.

【0004】図11(b)は、このような薄化処理され
た半導体素子2を有する半導体装置1を基板10に実装
して成る実装構造において、リフロー後の基板10に熱
収縮応力が生じた状態を示している。半導体素子2は薄
化されて撓みやすいため、基板10の収縮変位に応じて
半導体素子2が追従して変形する。そして薄化の程度を
進めて150μm以下の厚みの半導体素子2を用いた実
装構造では、半導体素子2の撓み変形は各バンプ3間で
半導体素子2が凹状となる撓み形状を示すようになり
(矢印a参照)、薄化が進行するほど良好な追従性が実
現されていることが判る。そしてこれにより、半導体素
子2とバンプ3との接合部に発生する応力のレベルを有
効に低減されることが実証されている。
FIG. 11B shows a mounting structure in which the semiconductor device 1 having the semiconductor element 2 subjected to such a thinning process is mounted on the substrate 10, and heat shrinkage stress is generated in the substrate 10 after the reflow. It shows the state. Since the semiconductor element 2 is thinned and easily bends, the semiconductor element 2 deforms following the contraction displacement of the substrate 10. In the mounting structure in which the semiconductor element 2 having a thickness of 150 μm or less is used by further reducing the thickness, the bending deformation of the semiconductor element 2 becomes a bending shape in which the semiconductor element 2 is concave between the bumps 3 ( It can be seen that as the thinning progresses, better followability is realized (see arrow a). It has been proved that this can effectively reduce the level of stress generated at the joint between the semiconductor element 2 and the bump 3.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記薄化
された半導体素子2より成る実装構造においては、以下
のような不具合が実証的にまた数値解析によって確認さ
れている。図11(b)に示すように、半導体素子2は
最外周のバンプ3の外側で撓みが急激に増大し(矢印b
参照)、最外周のバンプ3外側近傍の半導体素子2の下
面にクラックが発生し、半導体素子2がこのクラックか
ら破断するという現象が生じる。すなわち、半導体素子
の薄化を進めると、半田バンプに生じる応力は低下する
ものの、半導体素子の外縁部近傍の局部的な破損が発生
するという問題点があった。
However, in the mounting structure composed of the thinned semiconductor element 2, the following defects have been confirmed empirically and by numerical analysis. As shown in FIG. 11B, the semiconductor element 2 has a sharply increased flexure outside the outermost bump 3 (arrow b).
As a result, a crack occurs on the lower surface of the semiconductor element 2 near the outermost periphery of the bump 3 and the semiconductor element 2 breaks from the crack. That is, as the thickness of the semiconductor element is reduced, the stress generated in the solder bump is reduced, but there is a problem that local damage occurs near the outer edge of the semiconductor element.

【0006】そこで本発明は、薄化された半導体素子を
備えた半導体装置において、外縁部近傍に発生する半導
体素子の破損を防止して信頼性を確保することができる
半導体装置を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention provides a semiconductor device having a thinned semiconductor element, which is capable of ensuring reliability by preventing damage to the semiconductor element near the outer edge. To aim.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体装
置は、表面に複数の外部接続用端子が形成された半導体
素子の裏面にこの半導体素子よりも剛性の高い構造体を
樹脂によって接着した半導体装置であって、前記構造体
の外形を前記半導体素子の外形よりも大きくするととも
に前記樹脂で半導体素子の側面を覆うことによりこの半
導体素子の縁部を補強する補強部を形成した。
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device in which a structure having a higher rigidity than the semiconductor element is adhered to the back surface of the semiconductor element having a plurality of external connection terminals formed on the front surface with a resin. In the semiconductor device, an outer shape of the structure is made larger than an outer shape of the semiconductor element, and a side surface of the semiconductor element is covered with the resin to form a reinforcing portion for reinforcing an edge portion of the semiconductor element.

【0008】請求項2記載の半導体装置は、請求項1記
載の半導体装置であって、前記補強部を前記半導体素子
の全周にわたって形成した。
A semiconductor device according to a second aspect is the semiconductor device according to the first aspect, wherein the reinforcing portion is formed over the entire circumference of the semiconductor element.

【0009】請求項3記載の半導体装置は、請求項1記
載の半導体装置であって、前記補強部を前記半導体素子
の角部に形成した。
A semiconductor device according to a third aspect is the semiconductor device according to the first aspect, wherein the reinforcing portion is formed at a corner of the semiconductor element.

【0010】請求項4記載の半導体装置は、請求項1記
載の半導体装置であって、前記樹脂が、前記半導体素子
の厚み方向への変形を許容した状態でこの半導体素子を
前記構造体に接着する。
A semiconductor device according to a fourth aspect is the semiconductor device according to the first aspect, wherein the semiconductor element is bonded to the structural body in a state where the resin allows deformation of the semiconductor element in a thickness direction. To do.

【0011】請求項5記載の半導体装置は、請求項1記
載の半導体装置であって、前記半導体素子の厚みが、1
0〜150μmの範囲で形成されている。
A semiconductor device according to a fifth aspect is the semiconductor device according to the first aspect, wherein the thickness of the semiconductor element is 1
It is formed in the range of 0 to 150 μm.

【0012】請求項6記載の半導体装置は、請求項1記
載の半導体装置であって、前記半導体素子の複数の外部
接続用端子に、バンプが形成されている。
A semiconductor device according to a sixth aspect is the semiconductor device according to the first aspect, wherein bumps are formed on a plurality of external connection terminals of the semiconductor element.

【0013】請求項7記載の半導体装置は、請求項1記
載の半導体装置であって、前記半導体素子の電極形成面
に再配線層を備え、この再配線層の表面にこの再配線層
内に形成された内部配線によって前記外部接続用端子と
電気的に接続された複数の電極を備えた。
A semiconductor device according to a seventh aspect is the semiconductor device according to the first aspect, wherein a rewiring layer is provided on an electrode forming surface of the semiconductor element, and a rewiring layer is provided on a surface of the rewiring layer. A plurality of electrodes electrically connected to the external connection terminals by the formed internal wiring were provided.

【0014】請求項8記載の半導体装置は、請求項7記
載の半導体装置であって、前記複数の電極にバンプが形
成されている。
A semiconductor device according to an eighth aspect is the semiconductor device according to the seventh aspect, wherein bumps are formed on the plurality of electrodes.

【0015】本発明によれば、半導体素子に樹脂を介し
て接着される構造体の外形を半導体素子の外形よりも大
きくするとともに、樹脂で半導体素子の側面を覆って半
導体素子の縁部を補強する補強部を形成することによ
り、外縁部近傍に発生する半導体素子の破損を防止し
て、信頼性を確保することができる。
According to the present invention, the outer shape of the structure bonded to the semiconductor element via the resin is made larger than the outer shape of the semiconductor element, and the side surface of the semiconductor element is covered with the resin to reinforce the edge portion of the semiconductor element. By forming the reinforcing portion, it is possible to prevent the semiconductor element from being damaged near the outer edge portion and ensure the reliability.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)図1(a)は本
発明の実施の形態1の半導体装置の斜視図、図1(b)
は本発明の実施の形態1の半導体装置の部分断面図、図
2は本発明の実施の形態1の半導体装置の組立方法の工
程説明図、図3は本発明の実施の形態1の半導体装置に
用いられる板状部材の斜視図、図4は本発明の実施の形
態1の半導体装置の組立に使用される電子部品搭載装置
の斜視図、図5は本発明の実施の形態1の半導体装置の
組立に使用されるダイシング装置の斜視図、図6は本発
明の実施の形態1の半導体装置の組立に使用されるダイ
シング装置の部分断面図、図7(a)は本発明の実施の
形態1の実装構造の断面図、図7(b)は本発明の実施
の形態1の実装構造の部分断面図、図8(a)は本発明
の実施の形態1の半導体装置の斜視図、図8(b)は本
発明の実施の形態1の半導体装置の平面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) FIG. 1A is a perspective view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, and FIG.
1 is a partial cross-sectional view of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a process explanatory diagram of a method for assembling the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. 4 is a perspective view of a plate-shaped member used for the above, FIG. 4 is a perspective view of an electronic component mounting apparatus used for assembling the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. 6 is a perspective view of a dicing device used for assembling the semiconductor device, FIG. 6 is a partial sectional view of the dicing device used for assembling the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 7A is an embodiment of the present invention. 1 is a sectional view of the mounting structure of FIG. 1, FIG. 7B is a partial sectional view of the mounting structure of the first embodiment of the present invention, and FIG. 8A is a perspective view of the semiconductor device of the first embodiment of the present invention. 8B is a plan view of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【0017】まず図1を参照して、半導体装置について
説明する。図1(a)、(b)において、半導体装置1
は、半導体素子2の裏面に樹脂5によってバンパ4(構
造体)を接着した構成となっており、半導体素子2の表
面の縁部に沿って形成された複数の外部接続用端子であ
る電極2a上には、バンプ3が形成されている。
First, a semiconductor device will be described with reference to FIG. 1A and 1B, the semiconductor device 1
Has a structure in which a bumper 4 (structure) is adhered to the back surface of the semiconductor element 2 with a resin 5, and a plurality of electrodes 2a serving as external connection terminals formed along the edge of the front surface of the semiconductor element 2. The bumps 3 are formed on the top.

【0018】ここで半導体素子2は機械研磨やエッチン
グなどの方法によって薄化処理が行われた後の状態であ
る。一般に、半導体素子をバンプを介して基板に実装し
た状態では、半導体素子の厚み寸法が小さいほど実装後
の接合信頼性が優れている。これは、半導体素子2と基
板の応力の差に起因してバンプ3の接合部に応力が集中
しようとしても、半導体素子2自体が厚さ方向に変形
(撓み)を生じることで応力を分散するからである。こ
のため、本実施の形態では、上述のように半導体素子2
を薄化処理して厚みt1が10〜150μmの範囲とな
るように設定し、厚さ方向への変形(撓み)を可能とし
ている。
Here, the semiconductor element 2 is in a state after being thinned by a method such as mechanical polishing or etching. In general, in a state where a semiconductor element is mounted on a substrate via bumps, the smaller the thickness dimension of the semiconductor element, the better the bonding reliability after mounting. This is because even if stress concentrates on the joints of the bumps 3 due to the difference in stress between the semiconductor element 2 and the substrate, the semiconductor element 2 itself deforms (deflects) in the thickness direction to disperse the stress. Because. Therefore, in the present embodiment, as described above, the semiconductor element 2
Is thinned to set the thickness t1 to be in the range of 10 to 150 μm so that deformation (deflection) in the thickness direction is possible.

【0019】薄化処理は、半導体素子2の回路形成面の
反対面を砥石等を用いた機械研磨によって粗加工を行
い、ドライエッチングや薬液によるウェットエッチング
で仕上げ加工を行う。機械研磨を行うと裏面に多数のマ
イクロクラックを有するダメージ層が形成される。この
ダメージ層は、半導体素子の抗折強度を低下させる要因
となるものであるが、仕上げ加工によりこのダメージ層
を除去して半導体素子2の抗折強度を高めることができ
る。
In the thinning process, the surface opposite to the circuit forming surface of the semiconductor element 2 is roughly processed by mechanical polishing using a grindstone or the like, and finished by dry etching or wet etching with a chemical solution. When mechanical polishing is performed, a damage layer having many microcracks is formed on the back surface. This damage layer is a factor that reduces the bending strength of the semiconductor element, but the bending strength of the semiconductor element 2 can be increased by removing this damage layer by finishing.

【0020】バンパ4は、半導体装置1の搭載時などの
ハンドリングにおいて半導体装置1を安定して保持する
ことを容易にするとともに、基板などへ実装された後の
半導体装置1を外力から保護する機能を有するものであ
る。したがってバンパ4は、金属やセラミックまたは樹
脂などの構造材を、上記機能を満たすような形状、すな
わち半導体素子2よりも高い剛性を有するような厚みt
2で、半導体素子2の外形よりも大きい外形形状に加工
したものが用いられる。
The bumper 4 facilitates stable holding of the semiconductor device 1 during handling when the semiconductor device 1 is mounted, and protects the semiconductor device 1 mounted on a substrate or the like from external force. Is to have. Therefore, the bumper 4 is made of a structural material such as metal, ceramic, or resin, and has a shape that satisfies the above functions, that is, a thickness t that has a higher rigidity than the semiconductor element 2.
In step 2, the one processed into an outer shape larger than the outer shape of the semiconductor element 2 is used.

【0021】ここで半導体素子2をバンパ4に接着する
樹脂5には、低弾性係数の変形しやすい材質が用いられ
ており、半導体素子2の厚み方向への変形を許容した状
態で半導体素子2をバンパ4に接着するようになってい
る。これにより、半導体装置1を基板に実装した状態に
おいて、基板の変形状態に応じて半導体素子2が追従変
形するようになっている。
Here, the resin 5 for bonding the semiconductor element 2 to the bumper 4 is made of a material having a low elastic coefficient and easily deformed, and the semiconductor element 2 is allowed to deform in the thickness direction. Is bonded to the bumper 4. As a result, in the state where the semiconductor device 1 is mounted on the substrate, the semiconductor element 2 is deformed following the deformation of the substrate.

【0022】図1に示すように、樹脂5は半導体素子2
の全周にわたって4辺の端部からはみ出しており、はみ
出した樹脂5aは半導体素子2の側面2bに沿って這い
上がり側面2bを部分的に覆うような形状となってい
る。この側面2bを覆う樹脂5aは、半導体素子2の縁
部を補強する補強部を形成している。
As shown in FIG. 1, the resin 5 is used for the semiconductor element 2
The resin 5a protrudes from the end portions of the four sides over the entire circumference of the above, and the protruding resin 5a has a shape that crawls along the side surface 2b of the semiconductor element 2 and partially covers the side surface 2b. The resin 5a that covers the side surface 2b forms a reinforcing portion that reinforces the edge portion of the semiconductor element 2.

【0023】半導体素子2の縁部には、半導体ウェハを
ダイシングして個片の半導体素子2に切り出す際に生じ
た微小なクラックがそのまま残留しやすく、このクラッ
クから破損を生じる場合がある。側面2bを覆う樹脂5
aは、このような微小なクラックを含んだ半導体素子2
の縁部を補強するとともに、後述するように半導体装置
1を基板10に実装した状態において、基板と半導体素
子2との熱変形の差によって発生する応力に起因して半
導体素子2が過剰に変形するのを防止する機能を有す
る。
At the edge of the semiconductor element 2, minute cracks generated when the semiconductor wafer is diced and cut into individual semiconductor elements 2 are likely to remain as they are, and the cracks may cause damage. Resin 5 that covers the side surface 2b
a is a semiconductor element 2 including such minute cracks.
Of the semiconductor element 1 is mounted on the substrate 10 as described later, and the semiconductor element 2 is excessively deformed due to the stress generated by the difference in thermal deformation between the substrate and the semiconductor element 2 as described later. It has a function to prevent it.

【0024】次に図2を参照して、半導体装置1の組立
方法について説明する。図2(a)において、板状部材
6は半導体装置1の一部を構成するバンパ4が切り離さ
れる前の中間部品である。図3に示すように、板状部材
6の上面には、格子形状に突出した仕切部6aが設けら
れており、仕切部6aで囲まれる凹部6bは半導体素子
2が接着される半導体素子接着位置となっている。仕切
部6aは、後述するように凹部6b内に半導体素子2の
接着用の樹脂5を塗布する際に、樹脂5が半導体接着位
置を超えて周囲に広がるのを規制するダム部となってい
る。
Next, a method of assembling the semiconductor device 1 will be described with reference to FIG. In FIG. 2A, the plate member 6 is an intermediate component before the bumper 4 forming a part of the semiconductor device 1 is separated. As shown in FIG. 3, the plate-shaped member 6 is provided with partition portions 6a protruding in a lattice shape on the upper surface thereof, and the recessed portion 6b surrounded by the partition portions 6a is a semiconductor element bonding position where the semiconductor element 2 is bonded. Has become. The partition portion 6a is a dam portion that restricts the resin 5 from spreading beyond the semiconductor bonding position to the periphery when the resin 5 for bonding the semiconductor element 2 is applied to the recess 6b as described later. .

【0025】板状部材6の下面の仕切部6aに対応する
位置には、溝部6cが形成されている。溝部6cは、厚
み寸法t4の板状部材6の下面側から格子状の溝を切り
込んで形成され、これにより上面からの厚み寸法t3が
t4よりも小さい肉薄部となっている。この肉薄部は、
板状部材6をバンパ4に切断分離する際の切断位置と一
致している。
A groove 6c is formed on the lower surface of the plate member 6 at a position corresponding to the partition 6a. The groove portion 6c is formed by cutting a grid-like groove from the lower surface side of the plate-shaped member 6 having a thickness dimension t4, whereby the thickness dimension t3 from the upper surface is a thin portion smaller than t4. This thin part is
It coincides with the cutting position when the plate member 6 is cut and separated into the bumper 4.

【0026】次に図2(b)に示すように、板状部材6
の各凹部6bにはディスペンサ7によって樹脂5が塗布
され、これにより半導体素子2接着用の樹脂5が供給さ
れる(第1工程)。この樹脂5の塗布において、凹部6
bの周囲にはダム部としての仕切部6aが設けられてい
ることから、樹脂5が半導体接着位置を超えて周囲に広
がることが防止される。
Next, as shown in FIG. 2B, the plate member 6
The resin 5 is applied to each of the recesses 6b by the dispenser 7, and thus the resin 5 for bonding the semiconductor element 2 is supplied (first step). In applying the resin 5, the recess 6
Since the partition portion 6a as a dam portion is provided around b, it is possible to prevent the resin 5 from spreading beyond the semiconductor bonding position to the periphery.

【0027】また塗布に際しては、塗布後に半導体素子
2によって押し広げられた樹脂5が半導体素子2の端部
から外側にはみ出した際に、前述のように半導体素子2
の側面2bを覆うのに過不足がないような適正塗布量の
樹脂5がディスペンサ7から吐出される。
In addition, upon application, when the resin 5 spread by the semiconductor element 2 after application protrudes from the end portion of the semiconductor element 2 to the outside, as described above,
A proper amount of resin 5 is dispensed from the dispenser 7 so that there is no excess or deficiency in covering the side surface 2b of the dispenser 7.

【0028】この後、樹脂5が供給された板状部材6は
半導体素子接着工程に送られる。この半導体素子接着工
程では、図2(c)、(d)に示すように、半導体素子
2を板状部材6に塗布された樹脂5上に搭載し(搭載工
程)、次いで樹脂5を加熱して(加熱工程)、樹脂5を
熱硬化させることによって、複数の半導体素子2の裏面
側を樹脂5を介して板状部材6の各凹部6bに整列状態
で接着する(第2工程)。
After that, the plate-shaped member 6 to which the resin 5 is supplied is sent to the semiconductor element bonding step. In this semiconductor element bonding step, as shown in FIGS. 2C and 2D, the semiconductor element 2 is mounted on the resin 5 applied to the plate member 6 (mounting step), and then the resin 5 is heated. (Heating step), the resin 5 is thermally cured to bond the back surfaces of the plurality of semiconductor elements 2 to the recesses 6b of the plate-shaped member 6 via the resin 5 in an aligned state (second step).

【0029】この搭載工程において半導体素子2の搭載
に用いられる電子部品搭載装置について、図4を参照し
て説明する。図4において、部品供給テーブル11には
半導体素子2が格子状に貼着された粘着シート12が装
着されている。部品供給テーブル11の下方には、半導
体素子剥離機構13が配設されており、半導体素子剥離
機構13を半導体素子剥離機構駆動部14によって駆動
することにより、エジェクタピン機構13aによって粘
着シート12の下面を突き上げ、これにより半導体素子
2を搭載ヘッド16によってピックアップする際に、半
導体素子2が粘着シート12の上面から剥離される。
An electronic component mounting apparatus used for mounting the semiconductor element 2 in this mounting step will be described with reference to FIG. In FIG. 4, the component supply table 11 is equipped with an adhesive sheet 12 to which the semiconductor elements 2 are attached in a grid pattern. A semiconductor element peeling mechanism 13 is arranged below the component supply table 11, and the semiconductor element peeling mechanism 13 is driven by a semiconductor element peeling mechanism driving unit 14 to cause the ejector pin mechanism 13 a to move the lower surface of the adhesive sheet 12. When the semiconductor element 2 is picked up by the mounting head 16, the semiconductor element 2 is separated from the upper surface of the adhesive sheet 12.

【0030】部品供給テーブル11の側方には基板保持
部15が配設されており、基板保持部15上には樹脂供
給後の板状部材6が保持されている。部品供給テーブル
11および基板保持部15の上方には、搭載ヘッド駆動
部19によって駆動される搭載ヘッド16が配設されて
いる。搭載ヘッド16は吸着ノズル8を備えており、粘
着シート12から半導体素子2をピックアップし、基板
保持部15上の板状部材6に搭載する。
A board holding portion 15 is arranged beside the component supply table 11, and a plate-shaped member 6 after the resin is supplied is held on the board holding portion 15. A mounting head 16 driven by a mounting head drive unit 19 is arranged above the component supply table 11 and the substrate holding unit 15. The mounting head 16 includes the suction nozzle 8 and picks up the semiconductor element 2 from the adhesive sheet 12 and mounts it on the plate-shaped member 6 on the substrate holding portion 15.

【0031】部品供給テーブル11の上方にはカメラ1
7が配設されており、カメラ17は粘着シート12に貼
着された半導体素子2を撮像する。カメラ17によって
撮像された画像を半導体素子認識部20で認識処理する
ことにより、粘着シート12における半導体素子2の位
置が認識される。位置認識結果は制御部21に送られる
とともに、半導体素子剥離機構駆動部14に送られる。
制御部21がこの位置認識結果に基づいて搭載ヘッド駆
動部19を制御することにより、搭載ヘッド16による
半導体素子2のピックアップ時には、吸着ノズル8およ
びエジェクタピン機構13aがピックアップ対象の半導
体素子2に位置合わせされる。
The camera 1 is provided above the parts supply table 11.
7 is arranged, and the camera 17 images the semiconductor element 2 attached to the adhesive sheet 12. The position of the semiconductor element 2 on the adhesive sheet 12 is recognized by subjecting the image captured by the camera 17 to the recognition processing by the semiconductor element recognition unit 20. The position recognition result is sent to the control unit 21 and the semiconductor element peeling mechanism driving unit 14.
The control unit 21 controls the mounting head drive unit 19 based on the position recognition result, so that when the mounting head 16 picks up the semiconductor element 2, the suction nozzle 8 and the ejector pin mechanism 13a are positioned on the semiconductor element 2 to be picked up. Be matched.

【0032】基板保持部15の上方にはカメラ18が配
設されており、カメラ18は基板保持部15に保持され
た板状部材6を撮像する。カメラ18によって撮像され
た画像を搭載位置認識部22で認識処理することによ
り、板状部材6における半導体素子搭載位置が検出され
る。位置認識結果は制御部21に送られ、制御部21が
この位置認識結果に基づいて搭載ヘッド駆動部19を制
御することにより、搭載ヘッド16による半導体素子2
の搭載時には、吸着ノズル8に保持された半導体素子2
が検出された搭載位置に位置合わせされる。
A camera 18 is arranged above the substrate holding portion 15, and the camera 18 images the plate member 6 held by the substrate holding portion 15. The mounting position recognition unit 22 performs recognition processing on the image captured by the camera 18 to detect the semiconductor element mounting position on the plate-shaped member 6. The position recognition result is sent to the control unit 21, and the control unit 21 controls the mounting head drive unit 19 based on the position recognition result, so that the semiconductor element 2 by the mounting head 16 is controlled.
When mounting the semiconductor element 2 held by the suction nozzle 8
Is aligned with the detected mounting position.

【0033】この電子部品搭載装置によって半導体素子
2を板状部材6に搭載する際には、図2(c)に示すよ
うに、半導体素子2のバンプ3が形成された表面側を吸
着ノズル8によって吸着保持し、半導体素子2の裏面を
樹脂5に押し付ける。このとき、樹脂5の塗布量に応じ
て吸着ノズル8による押し付け高さを調整することによ
り、各半導体素子2の縁部外側(矢印A参照)にはみ出
した樹脂5が、半導体素子2の側面2bを這い上がって
側面2bを覆うようにする(図1(b)に示す樹脂5a
参照)。このときダイシング時のダメージが残留しやす
い半導体素子2の裏面側の端部が完全に覆われて補強さ
れていれば、側面2bは完全に覆われていても、または
部分的にのみ覆われていてもどちらでも良い。
When the semiconductor element 2 is mounted on the plate-like member 6 by this electronic component mounting apparatus, as shown in FIG. 2C, the suction nozzle 8 is attached to the front surface side of the semiconductor element 2 on which the bumps 3 are formed. It is adsorbed and held by and the back surface of the semiconductor element 2 is pressed against the resin 5. At this time, by adjusting the pressing height of the suction nozzle 8 according to the coating amount of the resin 5, the resin 5 protruding to the outside of the edge of each semiconductor element 2 (see the arrow A) is removed from the side surface 2 b of the semiconductor element 2. To cover the side surface 2b (the resin 5a shown in FIG. 1B).
reference). At this time, if the end portion on the back surface side of the semiconductor element 2 in which damage during dicing is likely to remain is completely covered and reinforced, the side surface 2b may be completely covered or only partially covered. Either way is fine.

【0034】本実施の形態では、半導体素子2を1個づ
つ搭載ヘッド16で樹脂5に押し付けながら搭載するの
で、一括して搭載(貼り付け)する場合よりも搭載荷重
(押し付け力)を小さくできる。よって電子部品搭載装
置としては、ダイボンディング装置や、チップマウンタ
ー等を流用することができる。
In the present embodiment, the semiconductor elements 2 are mounted one by one while being pressed against the resin 5 by the mounting head 16, so that the mounting load (pressing force) can be made smaller than in the case of collectively mounting (pasting). . Therefore, a die bonding device, a chip mounter, or the like can be used as the electronic component mounting device.

【0035】このようにして半導体素子2が搭載された
板状部材6は加熱炉に送られる。そしてここで所定温度
で加熱されることにより、図2(d)に示すように樹脂
5が熱硬化する。このとき、各半導体素子2の縁部外側
にはみ出した樹脂5は、熱硬化の過程において一時的に
粘度低下することにより表面張力によって半導体素子2
の側面2bにさらに這い上がり、側面2bを覆った形状
のまま硬化する。これにより、樹脂5の硬化後におい
て、図1(b)に示す補強部としての樹脂5aが形成さ
れる。そしてこれにより第2工程が完了する。
The plate-like member 6 on which the semiconductor element 2 is mounted in this manner is sent to the heating furnace. Then, by heating at a predetermined temperature here, the resin 5 is thermoset as shown in FIG. At this time, the resin 5 protruding to the outside of the edge of each semiconductor element 2 is temporarily reduced in viscosity during the process of thermosetting, so that the surface tension causes the semiconductor element 2 to swell.
Crawl further to the side surface 2b of the above, and it is hardened with the shape covering the side surface 2b. As a result, after the resin 5 is cured, the resin 5a as the reinforcing portion shown in FIG. 1B is formed. Then, the second step is completed.

【0036】なお上記実施の形態では、半導体素子2の
搭載後に板状部材6を加熱炉に送ることにより樹脂5を
熱硬化させるようにしているが、搭載ヘッド16として
加熱手段を内蔵したものを用い、半導体素子2を搭載し
ながら加熱するようにしてもよい。
In the above embodiment, the resin 5 is thermally cured by sending the plate member 6 to the heating furnace after mounting the semiconductor element 2. However, the mounting head 16 having a heating means built-in is used. Alternatively, the semiconductor element 2 may be heated while being mounted.

【0037】搭載ヘッド16によって加熱する場合に
は、図2(d)に示す専用の加熱工程を省略してもよ
く、このようにすれば加熱炉を省略して設備の簡略化を
図ることができるという利点がある。ただし、この場合
には搭載ヘッド16のタクトタイムが熱硬化時間によっ
て制約されるため、全体の生産性としては搭載工程と加
熱工程を別々に行う場合よりも低下する。また、樹脂5
として上記実施の形態では熱硬化性の樹脂を用いる例を
示しているが、これに変えて熱可塑性の樹脂素材を用い
るようにしてもよい。
When the heating is carried out by the mounting head 16, the dedicated heating step shown in FIG. 2D may be omitted. In this case, the heating furnace can be omitted and the facility can be simplified. There is an advantage that you can. However, in this case, the takt time of the mounting head 16 is limited by the thermosetting time, and thus the overall productivity is lower than that in the case where the mounting step and the heating step are performed separately. Also, resin 5
As an example, in the above embodiment, a thermosetting resin is used, but a thermoplastic resin material may be used instead.

【0038】このようにして樹脂5が硬化した板状部材
6は切断工程に送られ、ここで図2(e)に示すよう
に、半導体素子2が接着された板状部材6を回転切断刃
24aによって隣接する半導体素子2の間の切断位置で
切断する(第3工程)。これにより、板状部材6が半導
体素子2ごとのバンパ4に切断分離され、半導体装置1
の組立が完成する。
The plate-shaped member 6 thus cured with the resin 5 is sent to the cutting step, where the plate-shaped member 6 to which the semiconductor element 2 is bonded is rotated by a rotary cutting blade as shown in FIG. 2 (e). The semiconductor element 2 is cut at a cutting position between the adjacent semiconductor elements 2 by 24a (third step). As a result, the plate-shaped member 6 is cut and separated into bumpers 4 for each semiconductor element 2, and the semiconductor device 1
The assembly of is completed.

【0039】この切断工程について、図5,図6を参照
して説明する。図5は、この切断に用いられるダイシン
グ装置を示している。基板固定部23の上面には、半導
体素子2が搭載され樹脂硬化が完了した板状部材6は基
板固定部23上に載置される。基板固定部23の上方に
は、回転切断刃24aを備えた切断ヘッド24が配設さ
れており、回転切断刃24aを回転させながら切断ヘッ
ド24をX方向、Y方向に移動させることにより、板状
部材6が溝部6cに一致した切断位置に沿って切断され
る。
This cutting step will be described with reference to FIGS. FIG. 5 shows a dicing device used for this cutting. On the upper surface of the substrate fixing portion 23, the plate-shaped member 6 on which the semiconductor element 2 is mounted and the resin curing is completed is placed on the substrate fixing portion 23. A cutting head 24 having a rotary cutting blade 24a is disposed above the substrate fixing portion 23, and the plate is obtained by moving the cutting head 24 in the X direction and the Y direction while rotating the rotary cutting blade 24a. The strip-shaped member 6 is cut along a cutting position that coincides with the groove 6c.

【0040】図6に示すように、基板固定部23の上面
には板状部材6上の半導体素子2に対応した位置毎に吸
引保持部25が設けられており、吸引保持部25の上面
には吸引溝25aが形成されている。吸引溝25aは、
基板固定部23の内部に設けられた吸引孔23aに連通
しており、吸引孔23aはさらに真空吸引源26に接続
されている。板状部材6の下面を吸引保持部25に当接
させた状態で真空吸引源26を駆動することにより、板
状部材6は吸引保持部25によって吸着保持され、これ
により板状部材6の位置が固定される。
As shown in FIG. 6, a suction holding portion 25 is provided on the upper surface of the substrate fixing portion 23 at each position corresponding to the semiconductor element 2 on the plate-shaped member 6, and the suction holding portion 25 has an upper surface. Has a suction groove 25a. The suction groove 25a is
The suction holes 23 a are provided inside the substrate fixing portion 23, and the suction holes 23 a are further connected to a vacuum suction source 26. By driving the vacuum suction source 26 with the lower surface of the plate-shaped member 6 in contact with the suction-holding portion 25, the plate-shaped member 6 is suction-held by the suction-holding portion 25, whereby the position of the plate-shaped member 6 is changed. Is fixed.

【0041】そしてこのようにして位置が固定された板
状部材6の仕切部6a上に回転切断刃24aを位置合わ
せし、回転切断刃24aを回転させながら下降させるこ
とにより、溝部6c内の肉薄部が切断される。このと
き、隣接する半導体素子2間の間隔よりも刃幅が小さい
回転切断刃24aを用いることにより、板状部材6は個
片に分離された後のバンパ4が半導体素子2の端面から
はみ出した形状で切断される。したがって、個片分離さ
れた半導体装置1においては、バンパ4の外形は半導体
素子2の外形よりも大きくなる。
The rotary cutting blade 24a is positioned on the partition 6a of the plate-like member 6 whose position is fixed in this way, and the rotary cutting blade 24a is lowered while being rotated, whereby the thin wall in the groove 6c is formed. The part is cut. At this time, by using the rotary cutting blade 24a having a blade width smaller than the interval between the adjacent semiconductor elements 2, the bumper 4 after the plate-shaped member 6 is separated into individual pieces protrudes from the end surface of the semiconductor element 2. Cut in shape. Therefore, in the separated semiconductor device 1, the outer shape of the bumper 4 is larger than the outer shape of the semiconductor element 2.

【0042】またこの切断においては、予め下面に溝部
6cが形成されていることから、回転切断刃24aによ
る切断代が小さくなっている。これにより切断工程にお
ける回転切断刃24aの必要下降量を極力小さくするこ
とができ、切断刃下降時に刃先が基板固定部23に接触
して破損する事故を防止することができる。
Further, in this cutting, since the groove portion 6c is formed in the lower surface in advance, the cutting allowance by the rotary cutting blade 24a is reduced. As a result, the required lowering amount of the rotary cutting blade 24a in the cutting process can be minimized, and an accident that the cutting edge comes into contact with the substrate fixing portion 23 and is damaged when the cutting blade is lowered can be prevented.

【0043】次に上述の半導体装置1を基板に実装して
成る電子部品実装構造について図7を参照して説明す
る。図7(a)に示すように、半導体装置1は基板10
の上面に形成された電極10aにバンプ3を半田接合し
て接続することにより基板10に実装される。図7
(b)は,バンプ3から外側に位置する半導体素子2の
変形状態を示している。本実施の形態に示すような薄化
された半導体素子2をバンプ3を介して基板10に接合
した構造では、半導体素子2と基板10の熱変形の差に
よって発生する応力に起因して、バンプ3から外側の範
囲は基板10側に大きく撓む傾向にある(破線で示す半
導体素子2参照)。そしてこの変形に伴ってバンプ3の
外側近傍の半導体素子2の下面には高いレベルの表面応
力が生じ、半導体素子2を破損させる原因となる場合が
ある。
Next, an electronic component mounting structure formed by mounting the above-described semiconductor device 1 on a substrate will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 7A, the semiconductor device 1 includes a substrate 10
The bumps 3 are soldered and connected to the electrodes 10 a formed on the upper surface of the substrate 10 to be mounted on the substrate 10. Figure 7
(B) shows a deformed state of the semiconductor element 2 located outside the bump 3. In the structure in which the thinned semiconductor element 2 is bonded to the substrate 10 via the bump 3 as shown in the present embodiment, the bumps are generated due to the stress generated by the difference in thermal deformation between the semiconductor element 2 and the substrate 10. The range from 3 to the outside tends to largely bend to the substrate 10 side (see the semiconductor element 2 shown by the broken line). Along with this deformation, a high level of surface stress is generated on the lower surface of the semiconductor element 2 near the outside of the bump 3, which may cause damage to the semiconductor element 2.

【0044】これに対し、本実施の形態に示すように、
半導体素子2の側面2bを覆う樹脂5aによって補強さ
れた半導体装置1を基板10に実装した場合には、最外
周のバンプ3から外側の範囲における半導体素子2の下
方への撓みは大幅に低減される。すなわち、樹脂5aは
半導体素子2の側面2bを覆って半導体素子2の過度の
曲げ変形を防止するように作用する。そしてこの作用に
より、半導体素子2の下方への撓み変形が防止され、半
導体素子2の曲げ変形による破損を防止することができ
る。
On the other hand, as shown in this embodiment,
When the semiconductor device 1 reinforced by the resin 5a covering the side surface 2b of the semiconductor element 2 is mounted on the substrate 10, the downward bending of the semiconductor element 2 in the area outside the outermost bump 3 is significantly reduced. It That is, the resin 5a covers the side surface 2b of the semiconductor element 2 and acts to prevent excessive bending deformation of the semiconductor element 2. By this action, downward bending deformation of the semiconductor element 2 can be prevented, and damage due to bending deformation of the semiconductor element 2 can be prevented.

【0045】なお、図8に示す半導体装置1Aのよう
に、半導体素子2の縁部からの樹脂5aのはみ出しを半
導体素子2の対角線方向に限定し、樹脂5aで半導体素
子2の側面を覆う補強部を、半導体素子2の角部のみに
形成するようにしてもよい。この場合には、図2(b)
においてディスペンサ7によって樹脂5を塗布する際
に、図8(b)に示す範囲のみに樹脂5を塗布するよう
に、ディスペンサ7の塗布軌跡をX字状に設定するとと
もにディスペンサ7からの吐出量を制御する。このよう
に補強部の形成範囲を半導体素子2の角部に限定するこ
とにより、半導体装置完成後の実装状態において最も破
損が生じやすい角部を集中的に補強することができる。
As in the semiconductor device 1A shown in FIG. 8, the protrusion of the resin 5a from the edge of the semiconductor element 2 is limited to the diagonal direction of the semiconductor element 2, and the side surface of the semiconductor element 2 is reinforced by the resin 5a. The parts may be formed only at the corners of the semiconductor element 2. In this case, FIG. 2 (b)
When the resin 5 is applied by the dispenser 7, the application locus of the dispenser 7 is set in an X shape so that the resin 5 is applied only in the range shown in FIG. Control. By limiting the formation area of the reinforcing portion to the corner portion of the semiconductor element 2 as described above, it is possible to intensively reinforce the corner portion which is most likely to be damaged in the mounted state after the semiconductor device is completed.

【0046】(実施の形態2)図9は本発明の実施の形
態2の半導体装置の組立方法の工程説明図である。本発
明の実施の形態2では、板状部材に樹脂を供給する第1
工程において、ディスペンサを用いずに予めシート状に
形成された樹脂を貼着するものである。
(Embodiment 2) FIG. 9 is a process explanatory view of a method for assembling a semiconductor device according to Embodiment 2 of the present invention. In the second embodiment of the present invention, the first resin is supplied to the plate-shaped member.
In the process, a sheet-shaped resin is attached in advance without using a dispenser.

【0047】図9(a)において、板状部材6Aは実施
の形態1に示す板状部材6の上面の仕切部6aを除去し
た形態となっており、板状部材6Aの下面には同様の溝
部6cが形成されている。板状部材6Aの上面には、樹
脂シート5Aが貼着される。樹脂シート5Aは、実施の
形態1において用いた樹脂5と同様の樹脂素材を粘着シ
ート状に成形したものであり、樹脂5自体の粘着性によ
って板状部材6Aに貼着される。
In FIG. 9A, the plate-shaped member 6A has a configuration in which the partition 6a on the upper surface of the plate-shaped member 6 shown in the first embodiment is removed, and the lower surface of the plate-shaped member 6A has the same shape. A groove 6c is formed. The resin sheet 5A is attached to the upper surface of the plate member 6A. The resin sheet 5A is formed by molding a resin material similar to the resin 5 used in the first embodiment into an adhesive sheet, and is attached to the plate-shaped member 6A by the adhesiveness of the resin 5 itself.

【0048】この後、樹脂シート5Aが貼着された板状
部材6は半導体素子接着工程に送られる。この半導体素
子接着工程では、図9(b)、(c)に示すように、半
導体素子2を板状部材6に貼着された樹脂シート5A上
に搭載し(搭載工程)、次いで樹脂シート5Aを加熱し
て(加熱工程)、樹脂シート5Aの樹脂成分を熱硬化さ
せることによって、複数の半導体素子2の裏面側を熱硬
化した樹脂シート5Aを介して板状部材6に整列状態で
接着する(第2工程)。
After that, the plate-like member 6 to which the resin sheet 5A is attached is sent to the semiconductor element bonding step. In this semiconductor element bonding step, as shown in FIGS. 9B and 9C, the semiconductor element 2 is mounted on the resin sheet 5A attached to the plate-shaped member 6 (mounting step), and then the resin sheet 5A. By heating (heating step) and thermosetting the resin component of the resin sheet 5A, the back surface sides of the plurality of semiconductor elements 2 are adhered to the plate member 6 in an aligned state via the thermoset resin sheet 5A. (Second step).

【0049】上述の加熱工程においては、加熱炉によっ
て所定温度で加熱されることにより、樹脂シート5Aの
樹脂成分が熱硬化する。このとき、各半導体素子2の縁
部外側に位置している樹脂5は熱硬化の過程において一
時的に粘度が低下し、これにより流動性が増して表面張
力によって半導体素子2の側面2bに這い上がる。そし
てさらに加熱を継続することにより、樹脂シート5Aの
樹脂成分は側面2bを覆った形状のまま硬化する。これ
により、樹脂シート5Aの硬化後において、図1(b)
に示す補強部としての樹脂5aが形成される。そしてこ
れにより第2工程が完了する。
In the above heating step, the resin component of the resin sheet 5A is thermoset by being heated at a predetermined temperature by the heating furnace. At this time, the resin 5 located on the outer side of the edge of each semiconductor element 2 temporarily decreases in viscosity during the process of thermosetting, thereby increasing the fluidity and crawling to the side surface 2b of the semiconductor element 2 due to surface tension. Go up. Then, by continuing heating further, the resin component of the resin sheet 5A is cured with the shape covering the side surface 2b. As a result, after the resin sheet 5A is cured, as shown in FIG.
Resin 5a is formed as a reinforcing portion shown in FIG. Then, the second step is completed.

【0050】このようにして樹脂シート5Aが完全硬化
した板状部材6Aは切断工程に送られ、ここで半導体素
子2が接着された板状部材6Aを、隣接する半導体素子
2の間で切断する(第3工程)。これにより、板状部材
6Aが半導体素子2毎のバンパ4に切断分離され、半導
体装置1の組立が完成する。
The plate-shaped member 6A thus completely cured of the resin sheet 5A is sent to the cutting step, where the plate-shaped member 6A to which the semiconductor element 2 is bonded is cut between the adjacent semiconductor elements 2. (Third step). As a result, the plate-shaped member 6A is cut and separated into bumpers 4 for each semiconductor element 2, and the assembly of the semiconductor device 1 is completed.

【0051】(実施の形態3)図10(a)は本発明の
実施の形態3の半導体装置の斜視図、図10(b)は本
発明の実施の形態3の半導体装置の部分断面図である。
(Third Embodiment) FIG. 10A is a perspective view of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 10B is a partial sectional view of the semiconductor device according to the third embodiment of the present invention. is there.

【0052】図10(a)において、半導体装置1Bは
再配線層付半導体素子30の裏面に樹脂5によってバン
パ4(構造体)を接着した構成となっており、再配線層
付半導体素子30の表面にはバンプ3が格子状に複数形
成されている。図9(b)に示すように、再配線層付半
導体素子30は、実施の形態1に示す半導体素子2と同
様に薄化処理された半導体素子2Aの上面(電極形成
面)に再配線層9を形成した構成となっている。
In FIG. 10A, the semiconductor device 1B has a structure in which a bumper 4 (structure) is adhered to the back surface of the semiconductor element 30 with a rewiring layer by a resin 5 and the semiconductor element 1B with a rewiring layer is formed. A plurality of bumps 3 are formed in a grid pattern on the surface. As shown in FIG. 9B, the semiconductor element 30 with a rewiring layer has a rewiring layer on the upper surface (electrode forming surface) of the thinned semiconductor element 2A as in the semiconductor element 2 according to the first embodiment. 9 is formed.

【0053】半導体素子2Aの表面の縁部には、外部接
続用端子である電極2aが形成されており、各電極2a
は再配線層9の表面に電極2aに対応した個数だけ形成
された電極9aと、内部配線9bによって導通してい
る。そして電極9a上には、半導体装置1Bを実装する
ためのバンプ3が形成されている。
Electrodes 2a, which are terminals for external connection, are formed on the edges of the surface of the semiconductor element 2A.
Are electrically connected to the electrodes 9a formed by the number corresponding to the electrodes 2a on the surface of the redistribution layer 9 and the internal wiring 9b. The bumps 3 for mounting the semiconductor device 1B are formed on the electrodes 9a.

【0054】本実施の形態3では、再配線層9を設ける
ことにより、実施の形態1に示す半導体装置1と比較し
て、同一投影面積内により多数のバンプ3を形成するこ
とができ、より高密度の実装が可能となっている。この
半導体装置1Bを組み立てるには、実施の形態1、2に
示す半導体装置の組立方法おいて、半導体素子2を再配
線層付半導体素子30に置き換えればよい。
In the third embodiment, by providing the rewiring layer 9, it is possible to form a larger number of bumps 3 in the same projected area as compared with the semiconductor device 1 shown in the first embodiment. High-density mounting is possible. To assemble this semiconductor device 1B, the semiconductor element 2 may be replaced with the semiconductor element 30 with the rewiring layer in the method of assembling the semiconductor device shown in the first and second embodiments.

【0055】これにより、再配線層付半導体素子30の
側面30aには、はみ出した樹脂5aが側面30aを覆
った補強部が形成される。このような構成の半導体装置
1Bにおいて、再配線層付半導体素子30の側面30a
を覆った補強部を形成することにより、前述のように実
装後に再配線層付半導体素子30の縁部に生じる曲げ変
形が防止され、再配線層9内の内部配線9bの破断を防
止することができる。
As a result, on the side surface 30a of the semiconductor element 30 with a rewiring layer, a reinforcing portion is formed in which the protruding resin 5a covers the side surface 30a. In the semiconductor device 1B having such a configuration, the side surface 30a of the semiconductor element 30 with a rewiring layer is formed.
By forming the reinforcing portion covering the above, the bending deformation that occurs at the edge of the semiconductor element 30 with a rewiring layer after mounting as described above is prevented, and the breakage of the internal wiring 9b in the rewiring layer 9 is prevented. You can

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明によれば、半導体素子に樹脂を介
して接着される構造体の外形を半導体素子の外形よりも
大きくするとともに、樹脂で半導体素子の側面を覆って
半導体素子の縁部を補強する補強部を形成するようにし
たので、外縁部近傍に発生する半導体素子の破損を防止
して実装後の信頼性を確保することができる。
According to the present invention, the outer shape of the structure adhered to the semiconductor element via the resin is made larger than the outer shape of the semiconductor element, and the side surface of the semiconductor element is covered with the resin to form the edge portion of the semiconductor element. Since the reinforcing portion that reinforces is formed, it is possible to prevent the semiconductor element from being damaged in the vicinity of the outer edge portion and to ensure the reliability after mounting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)本発明の実施の形態1の半導体装置の斜
視図 (b)本発明の実施の形態1の半導体装置の部分断面図
FIG. 1A is a perspective view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1B is a partial cross-sectional view of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1の半導体装置の組立方法
の工程説明図
FIG. 2 is a process explanatory view of the method for assembling the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1の半導体装置に用いられ
る板状部材の斜視図
FIG. 3 is a perspective view of a plate-like member used in the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態1の半導体装置の組立に使
用される電子部品搭載装置の斜視図
FIG. 4 is a perspective view of an electronic component mounting apparatus used for assembling the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態1の半導体装置の組立に使
用されるダイシング装置の斜視図
FIG. 5 is a perspective view of a dicing device used for assembling the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態1の半導体装置の組立に使
用されるダイシング装置の部分断面図
FIG. 6 is a partial cross-sectional view of a dicing device used for assembling the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図7】(a)本発明の実施の形態1の実装構造の断面
図 (b)本発明の実施の形態1の実装構造の部分断面図
7A is a sectional view of the mounting structure according to the first embodiment of the present invention. FIG. 7B is a partial sectional view of the mounting structure according to the first embodiment of the present invention.

【図8】(a)本発明の実施の形態1の半導体装置の斜
視図 (b)本発明の実施の形態1の半導体装置の平面図
FIG. 8A is a perspective view of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 8B is a plan view of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態2の半導体装置の組立方法
の工程説明図
FIG. 9 is a process explanatory view of the method for assembling the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention.

【図10】(a)本発明の実施の形態3の半導体装置の
斜視図 (b)本発明の実施の形態3の半導体装置の部分断面図
FIG. 10A is a perspective view of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention. FIG. 10B is a partial cross-sectional view of the semiconductor device according to the third embodiment of the present invention.

【図11】(a)従来の実装構造の断面図 (b)従来の実装構造における半導体素子の変形状態を
示す図
11A is a cross-sectional view of a conventional mounting structure, and FIG. 11B is a diagram showing a deformed state of a semiconductor element in the conventional mounting structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1A,1B 半導体装置 2,2A 半導体素子 2a 電極 2b 側面 3 バンプ 4 バンパ 5 樹脂 5A 樹脂シート 6 板状部材 6a 仕切部 6b 凹部 7 ディスペンサ 1,1A, 1B Semiconductor device 2,2A semiconductor element 2a electrode 2b side 3 bumps 4 bumpers 5 resin 5A resin sheet 6 Plate members 6a partition 6b recess 7 dispensers

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 和田 義之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Yoshiyuki Wada             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】表面に複数の外部接続用端子が形成された
半導体素子の裏面にこの半導体素子よりも剛性の高い構
造体を樹脂によって接着した半導体装置であって、前記
構造体の外形を前記半導体素子の外形よりも大きくする
とともに前記樹脂で半導体素子の側面を覆うことにより
この半導体素子の縁部を補強する補強部を形成したこと
を特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device comprising a semiconductor element having a plurality of external connection terminals formed on the front surface thereof, and a structure having a higher rigidity than the semiconductor element adhered to the back surface of the semiconductor element by resin. A semiconductor device, wherein a reinforcing portion is formed that is larger than the outer shape of the semiconductor element and covers the side surface of the semiconductor element with the resin to reinforce the edge portion of the semiconductor element.
【請求項2】前記補強部を前記半導体素子の全周にわた
って形成したことを特徴とする請求項1記載の半導体装
置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the reinforcing portion is formed over the entire circumference of the semiconductor element.
【請求項3】前記補強部を前記半導体素子の角部に形成
したことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the reinforcing portion is formed at a corner portion of the semiconductor element.
【請求項4】前記樹脂が、前記半導体素子の厚み方向へ
の変形を許容した状態でこの半導体素子を前記構造体に
接着することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the resin adheres the semiconductor element to the structural body while allowing the semiconductor element to deform in the thickness direction.
【請求項5】前記半導体素子の厚みが、10〜150μ
mの範囲で形成されていることを特徴とする請求項1記
載の半導体装置。
5. The semiconductor element has a thickness of 10 to 150 μm.
The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is formed in a range of m.
【請求項6】前記半導体素子の複数の外部接続用端子
に、バンプが形成されていることを特徴とする請求項1
記載の半導体装置。
6. A bump is formed on a plurality of external connection terminals of the semiconductor element.
The semiconductor device described.
【請求項7】前記半導体素子の電極形成面に再配線層を
備え、この再配線層の表面にこの再配線層内に形成され
た内部配線によって前記外部接続用端子と電気的に接続
された複数の電極を備えたことを特徴とする請求項1記
載の半導体装置。
7. A rewiring layer is provided on an electrode forming surface of the semiconductor element, and an internal wiring formed in the rewiring layer is electrically connected to the external connection terminal on a surface of the rewiring layer. The semiconductor device according to claim 1, comprising a plurality of electrodes.
【請求項8】前記複数の電極にバンプが形成されている
ことを特徴とする請求項7記載の半導体装置。
8. The semiconductor device according to claim 7, wherein bumps are formed on the plurality of electrodes.
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