JP2003291056A - Wire cutting method for any object, cutting wire, and manufacturing method for wire - Google Patents

Wire cutting method for any object, cutting wire, and manufacturing method for wire

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JP2003291056A
JP2003291056A JP2002098902A JP2002098902A JP2003291056A JP 2003291056 A JP2003291056 A JP 2003291056A JP 2002098902 A JP2002098902 A JP 2002098902A JP 2002098902 A JP2002098902 A JP 2002098902A JP 2003291056 A JP2003291056 A JP 2003291056A
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JP
Japan
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wire
cutting
cut
manufacturing
surface roughness
Prior art date
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Application number
JP2002098902A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuaki Sugitani
和明 杉谷
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Sumco Corp
Original Assignee
Sumitomo Mitsubishi Silicon Corp
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Publication date
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wire cutting method for any object to be cut, a cutting wire and a manufacturing method for the wire, capable of enhancing the cutting efficiency and accuracy of the object and suppressing generation of a wire severance. <P>SOLUTION: If the surface of the wire 11a is roughened to a certain degree or more, the retaining force of free abrasive grains b to the wire surface is heightened, and the amount of attachment of the free abrasive grains b to the wire surface is increased. Therefore, the cutting efficiency and accuracy are enhanced when cutting an ingot I by the wire 11a whereto a large quantity of the free abrasive grains b are attached. This suppresses unevenness of the wafer thickness and a warp of each wafer and also suppresses generation of the wire severance. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は被切断物のワイヤ
切断方法および切断用のワイヤならびに該ワイヤの製造
方法、詳しくはワイヤの表面の粗さをある程度以上に粗
く調整し、ワイヤ表面に対する遊離砥粒の保持力を高め
て被切断物をワイヤ切断する被切断物のワイヤ切断方法
および切断用のワイヤならびに該ワイヤの製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of cutting a wire to be cut, a wire for cutting, and a method of manufacturing the wire, and more specifically, adjusting the surface roughness of the wire to a certain degree or more so as to allow free grinding to the wire surface. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for cutting a wire to cut an object to be cut by increasing the holding power of grains, a wire for cutting, and a method for manufacturing the wire.

【0002】[0002]

【従来の技術】ワイヤソーは、ワイヤ繰出し用のボビン
から導出されたインゴット切断用のワイヤを、複数本の
グルーブローラにコイル状に巻き架け、これをワイヤ巻
取り用のボビンに巻き取るように構成されている。グル
ーブローラは、円筒形状の台金の外周面を所定厚さのラ
イニング材(ウレタンゴム)で被覆し、このライニング
材の外周面に多数条のワイヤ溝を刻設してある。グルー
ブローラは、その軸線方向の両端部に配置された1対の
軸受により回転自在に支持されている。インゴット切断
時には、ラッピングオイルに遊離砥粒(以下、砥粒)を
含ませたスラリー状の砥液を供給しながら、高速で往復
走行中のワイヤ列に対して、単結晶シリコンインゴット
を相対的に押し付ける。この砥粒の研削作用により、こ
のインゴットが多数枚のウェーハに切断される。
2. Description of the Related Art A wire saw has a structure in which a wire for cutting an ingot derived from a bobbin for feeding out a wire is wound around a plurality of groove rollers in a coil shape and wound around a bobbin for winding the wire. Has been done. In the groove roller, the outer peripheral surface of a cylindrical base metal is covered with a lining material (urethane rubber) having a predetermined thickness, and a large number of wire grooves are formed on the outer peripheral surface of the lining material. The groove roller is rotatably supported by a pair of bearings arranged at both ends in the axial direction of the groove roller. At the time of cutting the ingot, while supplying the slurry-like abrasive liquid containing loose abrasive grains (abrasive grains) in the lapping oil, the single crystal silicon ingot is relatively moved with respect to the wire train that is reciprocating at high speed. Press down. The grinding action of the abrasive grains cuts the ingot into a large number of wafers.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のワイ
ヤは、その表面の粗さが算術平均粗さRa値で0.01
μm程度と小さく、その表面は滑らかであった。そのた
め、インゴットの切断時に砥粒がワイヤの表面に付着し
にくかった。その結果、インゴットの切断効率が低下す
るとともに切断精度の低下を招き、ウェーハの厚さムラ
およびウェーハの反りが発生していた。さらには、ワイ
ヤの断線も頻繁に発生していた。
By the way, in the conventional wire, the surface roughness is 0.01 in terms of arithmetic average roughness Ra value.
It was as small as about μm, and its surface was smooth. Therefore, it was difficult for the abrasive grains to adhere to the surface of the wire when the ingot was cut. As a result, the cutting efficiency of the ingot is lowered and the cutting accuracy is lowered, and unevenness of the wafer thickness and warp of the wafer occur. Furthermore, wire breakage has frequently occurred.

【0004】そこで、発明者は、鋭意研究の結果、ワイ
ヤの表面をある程度以上に粗くし、ワイヤ表面に対する
遊離砥粒の保持力を高めれば、この遊離砥粒のワイヤ表
面への付着量が増加し、インゴットの切断効率および切
断精度を高めることができ、これによりウェーハの厚さ
ムラおよびウェーハの反りが抑制され、ワイヤの断線の
発生も抑えられることを知見し、この発明を完成させ
た。
Therefore, as a result of earnest research, the inventor has found that if the surface of the wire is roughened to a certain extent or more and the holding force of the loose abrasive grains on the wire surface is increased, the amount of the loose abrasive grains attached to the wire surface is increased. However, the inventors have found that the cutting efficiency and the cutting accuracy of the ingot can be improved, which suppresses the unevenness of the thickness of the wafer and the warp of the wafer, and also suppresses the occurrence of wire breakage, and completed the present invention.

【0005】[0005]

【発明の目的】この発明は、被切断物の切断効率および
切断精度を高めることができ、ワイヤの断線の発生も抑
制することができる被切断物のワイヤ切断方法および切
断用のワイヤならびに該ワイヤの製造方法を提供するこ
とを、その目的としている。
It is an object of the present invention to improve the cutting efficiency and the cutting accuracy of an object to be cut, and to suppress the occurrence of wire breakage, a method for cutting an object to be cut, a wire for cutting, and the wire. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method of.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、複数本のグルーブローラ間に架け渡されたワイヤを
往復走行させ、遊離砥粒を含む砥液を供給しながら、被
切断物をワイヤに相対的に押しつけて、上記遊離砥粒の
研削作用により、上記被切断物を切断する被切断物のワ
イヤ切断方法において、上記ワイヤの表面の粗さをある
程度以上に粗く調整し、上記ワイヤ表面に対する遊離砥
粒の保持力を高めて被切断物をワイヤ切断する被切断物
のワイヤ切断方法である。
According to a first aspect of the present invention, a wire bridged between a plurality of groove rollers is reciprocally run to supply an abrasive liquid containing loose abrasive grains while cutting an object to be cut. In the wire cutting method of the object to be cut by pressing the wire relatively to the wire and by the grinding action of the loose abrasive grains, and adjusting the surface roughness of the wire to a certain degree or more, It is a wire cutting method for an object to be cut by increasing the holding force of loose abrasive grains on the surface of the wire to cut the object.

【0007】使用されるワイヤソーとしては、被切断物
を動かしてワイヤ列に押圧、接触させて切断する構造の
ものでもよい。これとは反対に、ワイヤ列を動かして被
切断物に押圧、接触させて切断するものでもよい。ま
た、ワイヤ列の上部に被切断物の下面が当接するもので
もよい。さらにワイヤ列の下部に被切断物上面が押し当
てられる型式のものでもよい。ワイヤソーに組み配置さ
れるグルーブローラの本数は2本でもよいし、3本以上
でもよい。ワイヤソーにより切断される被切断物として
は、例えばシリコン単結晶、化合物半導体単結晶、磁性
材料、石英、セラミックスなどが挙げられる。切断に使
用される砥液としては、例えば平均粒径5〜50μmの
SiCなどの遊離砥粒を含むものが採用される。グルー
ブローラの構造は限定されない。例えば、円筒形状の台
金の外周面に所定厚さのライニング材(ウレタンゴム)
を被覆し、このライニング材の外周面にワイヤ溝を刻設
したローラなどを採用することができる。
The wire saw to be used may have a structure in which an object to be cut is moved and pressed against and brought into contact with the wire row to cut. On the contrary, the wire row may be moved to press and contact the object to be cut to cut it. Further, the lower surface of the object to be cut may be in contact with the upper portion of the wire row. Further, it may be of a type in which the upper surface of the object to be cut is pressed against the lower part of the wire row. The number of groove rollers arranged in the wire saw may be two, or three or more. Examples of the object to be cut by the wire saw include silicon single crystal, compound semiconductor single crystal, magnetic material, quartz, and ceramics. As the abrasive liquid used for cutting, for example, a liquid containing free abrasive grains such as SiC having an average particle diameter of 5 to 50 μm is adopted. The structure of the groove roller is not limited. For example, a lining material (urethane rubber) with a specified thickness on the outer peripheral surface of a cylindrical base metal
It is possible to employ a roller or the like in which the wire is engraved on the outer peripheral surface of the lining material.

【0008】ワイヤとしては、例えば炭素を0.7〜
0.8%含有したピアノ線などを採用することができ
る。ワイヤの直径は、被切断物がシリコン単結晶の場合
で50〜200μm、化合物半導体単結晶の場合で80
〜120μm、磁性材料の場合で80〜140μm、石
英の場合で80〜160μm、セラミックスの場合で5
0〜200μm程度である。ワイヤの表面の粗さをある
程度以上に粗く調整するとは、遊離砥粒のワイヤ表面へ
の付着量が増加し、被切断物のワイヤ切断効率および切
断精度が高まる粗さに調整することを意味する。
As the wire, for example, carbon containing 0.7 to
A piano wire containing 0.8% can be adopted. The diameter of the wire is 50 to 200 μm when the object to be cut is a silicon single crystal, and 80 when it is a compound semiconductor single crystal.
~ 120 μm, 80-140 μm for magnetic material, 80-160 μm for quartz, 5 for ceramics
It is about 0 to 200 μm. Adjusting the roughness of the wire surface to a certain degree or more means adjusting the roughness so that the amount of loose abrasive grains attached to the wire surface increases, and the wire cutting efficiency and cutting accuracy of the workpiece are increased. .

【0009】請求項2に記載の発明は、上記ワイヤの表
面の粗さを、Ra0.08〜0.20μmとした請求項
1に記載の被切断物のワイヤ切断方法である。Ra0.
08μm未満では、製造上のダイス管理が難しくコスト
アップという不都合が生じる。また、Ra0.20μm
を超えると断線率が上昇する。
The invention according to claim 2 is the method of cutting a wire according to claim 1, wherein the surface roughness of the wire is Ra 0.08 to 0.20 μm. Ra0.
If the thickness is less than 08 μm, it is difficult to control the dice during manufacturing, which causes a problem of cost increase. Also, Ra 0.20 μm
If it exceeds, the wire breakage rate will increase.

【0010】請求項3に記載の発明は、複数本のグルー
ブローラ間を往復走行しながら、被切断物に押し付けら
れ、供給された砥液中の遊離砥粒の研削作用により、こ
の被切断物を切断するワイヤにおいて、その表面の粗さ
を、Ra0.08〜0.20μmとしたワイヤである。
According to a third aspect of the present invention, the object to be cut is pressed by the object to be cut while being reciprocated between a plurality of groove rollers and is ground by the free abrasive grains in the supplied abrasive liquid. The wire for cutting is a wire having a surface roughness Ra of 0.08 to 0.20 μm.

【0011】請求項4に記載の発明は、断面形状を略真
円とした請求項3に記載のワイヤである。ワイヤの断面
形状が略真円であることは、断面形状が偏平な使用済み
ワイヤではなく、新線の(未使用)ワイヤであることを
意味する。
The invention according to claim 4 is the wire according to claim 3, wherein the cross-sectional shape is a substantially perfect circle. The cross-sectional shape of the wire being substantially circular means that the wire is not a used wire having a flat cross-sectional shape but a new wire (unused).

【0012】請求項5に記載の発明は、鋼線材を伸線ダ
イスの引抜き孔に通して伸線加工する伸線工程と、伸線
加工後の鋼線材をオーステナイト化させてからパーライ
ト組成に変態させるパテンティング処理を施すパテンテ
ィング工程とを備えたワイヤ製造方法において、上記伸
線ダイスの引抜き孔の内周面をメッキ処理が施されてい
ない面とし、該引抜き孔からワイヤを引き抜くことで、
該ワイヤの表面の粗さをRa0.08〜0.20μmと
したワイヤ製造方法である。ワイヤの製造装置として
は、汎用タイプを採用することができる。ただし、伸線
加工装置に組み込まれた伸線ダイスは、その引抜き孔の
内周面に、引抜き抵抗を抑える真鍮などがメッキされて
いないものとする。
[0012] According to a fifth aspect of the present invention, a steel wire rod is drawn through a drawing hole of a wire drawing die to perform a wire drawing step, and the steel wire rod after the wire drawing is austenitized and then transformed into a pearlite composition. In a wire manufacturing method comprising a patenting step of applying a patenting treatment to, a surface not subjected to plating treatment on the inner peripheral surface of the drawing hole of the wire drawing die, and by pulling out the wire from the drawing hole,
This is a wire manufacturing method in which the surface roughness of the wire is Ra 0.08 to 0.20 μm. A general-purpose type can be adopted as the wire manufacturing apparatus. However, the wire drawing die incorporated in the wire drawing apparatus is not plated with brass or the like which suppresses drawing resistance on the inner peripheral surface of the drawing hole.

【0013】パテンティングとは、あらかじめ鋼線材を
炉温約900℃でオーステナイト化させ、その後、約5
50〜600℃まで急冷し、パーライト組成に変態させ
る処理である。鋼線材の伸線工程およびパテンティング
工程は1回ずつでもよいし、複数回ずつ繰り返してもよ
い。また、最終パテンティング後のワイヤは、その表面
にブラスメッキを施してもよい。ブラスメッキとは、ワ
イヤの表面に銅および亜鉛を順次メッキし、その後、こ
れらの銅および亜鉛を熱拡散して真鍮合金とするメッキ
法である。さらに、このメッキ後のワイヤに、湿式伸線
加工を施してもよい。この湿式伸線加工とは、伸線ダイ
スおよび鋼線材に潤滑油を供給しながら伸線加工を行う
ものである。
The patenting means that the steel wire is austenitized in advance at a furnace temperature of about 900 ° C., and then about 5
It is a process of rapidly cooling to 50 to 600 ° C. and transforming it into a pearlite composition. The wire drawing step and the patenting step of the steel wire rod may be performed once or may be repeated a plurality of times. Further, the wire after the final patenting may be brass-plated on its surface. Brass plating is a plating method in which copper and zinc are sequentially plated on the surface of a wire, and then these copper and zinc are thermally diffused to form a brass alloy. Further, the wire after plating may be subjected to wet wire drawing. This wet wire drawing is to perform wire drawing while supplying lubricating oil to a wire drawing die and a steel wire rod.

【0014】請求項6に記載の発明は、鋼線材を伸線ダ
イスの引抜き孔に通して伸線加工する伸線工程と、伸線
加工後の鋼線材をオーステナイト化させてからパーライ
ト組成に変態させるパテンティング処理を施すパテンテ
ィング工程とを備えたワイヤ製造方法において、上記伸
線ダイスの引抜き孔の内周面を粗面仕上げされた面と
し、該引抜き孔からワイヤを引き抜くことで、該ワイヤ
の表面の粗さをRa0.08〜0.20μmとしたワイ
ヤ製造方法である。引抜き孔の内周面を粗面仕上げする
加工法としては、例えばシリカ粒子を高圧空気に混入し
て吹き付けるサンドブラスト加工などを採用することが
できる。この粗面仕上げされる引抜き孔は、その内周面
がメッキ処理されたものでもよい。
According to the sixth aspect of the invention, a wire drawing step of drawing a steel wire rod through a drawing hole of a wire drawing die and a steel wire rod after the wire drawing process is transformed into a pearlite composition after austenitizing. In the wire manufacturing method, which comprises a patenting process for applying a patenting treatment, the inner peripheral surface of the drawing hole of the wire drawing die is a roughened surface, and the wire is drawn out from the drawing hole. Is a wire manufacturing method in which the roughness of the surface of Ra is 0.08 to 0.20 μm. As a processing method for finishing the inner peripheral surface of the drawing hole with a rough surface, for example, sand blast processing in which silica particles are mixed with high-pressure air and blown can be adopted. The roughened surface of the drawing hole may have its inner peripheral surface plated.

【0015】[0015]

【作用】この発明によれば、例えばワイヤの表面をある
程度以上に粗くすると、ワイヤ表面に対する遊離砥粒の
保持力が高まり、遊離砥粒のワイヤ表面への付着量が増
加する。そのため、このような多量の遊離砥粒が付着し
た(保持された)ワイヤによって被切断物を切断するこ
とで、その切断効率および切断精度を高めることができ
る。その結果、ウェーハの厚さムラおよびウェーハの反
りが抑制され、ワイヤの断線の発生も抑えることができ
る。
According to the present invention, when the surface of the wire is roughened to a certain extent or more, the holding force of the loose abrasive grains on the wire surface is increased, and the amount of the loose abrasive grains attached to the wire surface is increased. Therefore, by cutting the object to be cut with the wire having such a large amount of loose abrasive particles attached (held), the cutting efficiency and the cutting accuracy can be improved. As a result, the unevenness of the wafer thickness and the warp of the wafer are suppressed, and the occurrence of wire breakage can also be suppressed.

【0016】特に、請求項5の発明によれば、まず高温
の鋼線材を伸線ダイスの引抜き孔に通して伸線加工す
る。この伸線ダイスの引抜き孔の内周面には、メッキ処
理が施されていない。そのため、引抜き孔からのワイヤ
の引き抜きを繰り返すことで、ダイスの引抜き孔の内周
面が磨耗し、あれる。その結果、表面の粗さがRa0.
08〜0.20μmのワイヤを容易に製造することがで
きる。その後、この伸線加工された鋼線材をパテンティ
ングする。すなわち、あらかじめ鋼線材を炉温約900
℃でオーステナイト化させ、次いで、約550〜600
℃まで急冷し、パーライト組成に変態させる。これらの
パテンティング工程と伸線工程とは、必要に応じ、複数
回繰り返すことができる。その場合には、伸線工程を重
ねるごとに鋼線材が細くなるように引抜き孔の口径を小
さくする。
In particular, according to the invention of claim 5, a high temperature steel wire is first drawn through the drawing hole of the wire drawing die and drawn. The inner peripheral surface of the drawing hole of this wire drawing die is not plated. Therefore, by repeatedly drawing the wire from the drawing hole, the inner peripheral surface of the drawing hole of the die is worn and broken. As a result, the surface roughness is Ra0.
A wire having a diameter of 08 to 0.20 μm can be easily manufactured. Then, the drawn steel wire rod is patented. That is, the steel wire is preheated to a furnace temperature of about 900
Austenitized at ℃, then about 550-600
Quench to ℃ and transform into a pearlite composition. The patenting process and the wire drawing process can be repeated a plurality of times as necessary. In that case, the diameter of the drawing hole is reduced so that the steel wire rod becomes thinner each time the wire drawing process is repeated.

【0017】請求項6の発明によれば、引抜き孔の内周
面が粗面仕上げされているので、この引抜き孔から鋼線
材を引き抜くだけで、表面がRa0.08〜0.20μ
mの粗面に仕上げられたワイヤを得ることができる。こ
れにより、表面がRa0.08〜0.20μmの粗さの
ワイヤを容易に製造することができる。
According to the invention of claim 6, since the inner peripheral surface of the drawing hole is roughened, the surface is Ra 0.08 to 0.20 μm only by pulling out the steel wire from the drawing hole.
It is possible to obtain a wire having a rough surface of m. This makes it possible to easily manufacture a wire whose surface has a roughness of Ra 0.08 to 0.20 μm.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施例を図面を
参照して説明する。図1(a)は、従来手段に係る被切
断物のワイヤ切断方法による被切断物の切断作業中を示
す要部拡大断面図である。図1(b)は、この発明に係
る被切断物のワイヤ切断方法による被切断物の切断作業
中を示す要部拡大断面図である。図2(a)は、この発
明の一実施例に係る被切断物のワイヤ切断方法が適用さ
れたワイヤソーの要部を拡大して示す模式図である。図
2(b)は、この発明の一実施例に係るワイヤソーに組
み込まれたグルーブローラの部分拡大図である。図3
(a)は、従来手段に係る被切断物のワイヤ切断方法に
用いられる被切断物の表面粗さを示すグラフである。図
3(b)は、この発明に係る被切断物のワイヤ切断方法
に用いられる被切断物の表面粗さを示すグラフである。
図4は、この発明の一実施例に係るワイヤ製造方法を示
すフローシートである。図5(a)は、この発明の一実
施例に係るワイヤ製造方法における鋼線材の伸線工程を
示す要部拡大断面図である。図5(b)は、この発明の
一実施例に係るワイヤ製造装置に組み込まれたダイスの
部分拡大断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing a cutting operation of an object to be cut by a wire cutting method for the object to be cut according to the conventional means. FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing a cutting operation of the object to be cut by the wire cutting method for the object to be cut according to the present invention. FIG. 2A is an enlarged schematic view showing an essential part of a wire saw to which the wire cutting method for an object to be cut according to an embodiment of the present invention is applied. FIG. 2B is a partially enlarged view of the groove roller incorporated in the wire saw according to the embodiment of the present invention. Figure 3
(A) is a graph which shows the surface roughness of the to-be-cut object used for the conventional wire cutting method of the to-be-cut object. FIG. 3B is a graph showing the surface roughness of the object to be cut used in the method for cutting the wire of the object to be cut according to the present invention.
FIG. 4 is a flow sheet showing a wire manufacturing method according to an embodiment of the present invention. FIG. 5A is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing a wire drawing process of a steel wire rod in a wire manufacturing method according to an embodiment of the present invention. FIG. 5B is a partially enlarged sectional view of a die incorporated in the wire manufacturing apparatus according to the embodiment of the present invention.

【0019】図2(a)において、10はこの発明の一
実施例に係るワイヤソーを示している。このワイヤソー
10は、CZ法により引き上げられた単結晶シリコン製
の8インチウェーハ用のインゴット(被切断物)Iを多
数枚のウェーハにワイヤ切断する装置である。ワイヤソ
ー10は、図において正面視して逆三角形状に配置され
た3本のグルーブローラ12A,12B,12Cを有し
ている。これらのグルーブローラ12A,12B,12
C間には、1本のワイヤ11aを互いに平行かつ一定ピ
ッチで巻きかけている。これによって、グルーブローラ
12A,12B,12C間にワイヤ列11が現出され
る。ワイヤ列11は、3本のグルーブローラ12A,1
2B,12C間で駆動モータにより往復走行される。上
側に配置された2本のグルーブローラ12A,12Bの
中間が、インゴットIを切断するワイヤ列11のインゴ
ット切断位置aとなっている。
In FIG. 2A, reference numeral 10 shows a wire saw according to an embodiment of the present invention. The wire saw 10 is a device for cutting an ingot (object to be cut) I for 8-inch wafer made of single crystal silicon pulled up by the CZ method into a large number of wafers. The wire saw 10 has three groove rollers 12A, 12B, 12C arranged in an inverted triangular shape when viewed from the front in the drawing. These groove rollers 12A, 12B, 12
Between C, one wire 11a is wound in parallel with each other at a constant pitch. As a result, the wire row 11 is exposed between the groove rollers 12A, 12B, 12C. The wire row 11 includes three groove rollers 12A, 1
It is reciprocated by a drive motor between 2B and 12C. The middle of the two groove rollers 12A and 12B arranged on the upper side is the ingot cutting position a of the wire row 11 for cutting the ingot I.

【0020】インゴットIは、カーボンベッド19aを
介して、インゴットIを昇降する昇降台19の下面に固
定されている。インゴット切断位置aの両側の上方に
は、砥液をワイヤ列11上に連続供給する砥液供給部
(図示せず)が、例えば一対配設されている。これらの
グルーブローラ12A,12B,12Cは円筒形状でそ
れらの外周面は、ウレタンゴムからなる所定厚さのライ
ニング材12a,12b,12cで被覆されている。各
ライニング材12a,12b,12cの外周面には、そ
れぞれワイヤ溝12dが刻設されている(図2
(b))。
The ingot I is fixed to the lower surface of a lift table 19 for moving the ingot I up and down via a carbon bed 19a. Above both sides of the ingot cutting position a, for example, a pair of abrasive liquid supply units (not shown) for continuously supplying the abrasive liquid onto the wire array 11 are arranged. These groove rollers 12A, 12B, 12C have a cylindrical shape, and their outer peripheral surfaces are covered with lining materials 12a, 12b, 12c made of urethane rubber and having a predetermined thickness. Wire grooves 12d are formed on the outer peripheral surface of each of the lining materials 12a, 12b, 12c (FIG. 2).
(B)).

【0021】ワイヤ11aは直径150μmのピアノ線
で、その表面の粗さはRa0.1283μm(株式会社
東京精密製の接触式の表面粗さ測定器、Surfcom
1400Dにより測定、以下、Ra値は同じ)である。
このワイヤ11aは、繰出し装置13のボビン20から
導出され、供給側のガイドローラ(図示せず)を介し
て、これらのグルーブローラ12A,12B,12Cに
架け渡された後、導出側のガイドローラ(図示せず)を
介して、巻取り装置15のボビン21に巻き取られる。
ボビン20,21の各回転軸は、駆動モータ16,17
の対応する出力軸にそれぞれ連結されている。各駆動モ
ータ16,17を同期して駆動すると、一対の軸受18
に軸支された各ボビン20,21が、その軸線を中心と
して図2(a)における時計回り方向または反時計回り
方向に回転して、ワイヤ11aが往復走行する。
The wire 11a is a piano wire having a diameter of 150 μm, and the surface roughness is Ra 0.1283 μm (a contact-type surface roughness measuring instrument manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., Surfcom).
1400D, Ra value is the same).
The wire 11a is led out from the bobbin 20 of the feeding device 13, is laid over these groove rollers 12A, 12B, 12C via a guide roller (not shown) on the supply side, and then is guided on the lead side. It is wound around the bobbin 21 of the winding device 15 via (not shown).
The rotating shafts of the bobbins 20 and 21 have drive motors 16 and 17, respectively.
Are respectively connected to the corresponding output shafts of. When the drive motors 16 and 17 are driven in synchronization, a pair of bearings 18
The bobbins 20 and 21 pivotally supported on the wire 11a rotate in the clockwise direction or the counterclockwise direction in FIG. 2A around the axis, and the wire 11a reciprocates.

【0022】次に、このワイヤソー10によるインゴッ
トIの切断方法を説明する。図2に示すように、ワイヤ
ソー10では、砥液を砥液供給部よりワイヤ列11に供
給しながら、駆動モータ16により繰出し装置13のボ
ビン20を回転し、ワイヤ11aを供給側のガイドロー
ラを介してグルーブローラ12A,12B,12Cに供
給する。これと同時に、駆動モータ17により巻取り装
置15のボビン21を回転し、グルーブローラ12A,
12B,12C、導出側のガイドローラを介してワイヤ
11aを巻き取る。その際、一定の周期で各ボビン2
0,21の回転方向を変更し、ワイヤ11aを往復走行
する。これにより2本のグルーブローラ12A,12B
が回転し、両ガイドローラも回転する。このとき、グル
ーブローラ12Cが図外の回転モータにより回転し、ワ
イヤ列11の往復走行を補助する。一方、このワイヤ列
11の往復走行中、上方からインゴットIをワイヤ列1
1へ押し付ける。これにより、インゴットIが多数枚の
ウェーハに切断される。すなわち、ワイヤ列11の往復
走行時に、砥液中の遊離砥粒がワイヤ列11のワイヤ1
1aにより切断溝の底部に擦りつけられ、その底部が研
削作用によって徐々に削り取られ、最終的に多数枚のウ
ェーハに切断される。
Next, a method of cutting the ingot I with the wire saw 10 will be described. As shown in FIG. 2, in the wire saw 10, the bobbin 20 of the feeding device 13 is rotated by the drive motor 16 while supplying the abrasive liquid to the wire row 11 from the abrasive liquid supply unit, and the wire 11a is fed to the guide roller on the supply side. It supplies to groove roller 12A, 12B, 12C via. At the same time, the bobbin 21 of the winding device 15 is rotated by the drive motor 17, and the groove rollers 12A,
The wire 11a is wound up via the guide rollers 12B and 12C and the lead-out side. At that time, each bobbin 2 at a constant cycle
The rotation directions of 0 and 21 are changed, and the wire 11a is reciprocated. As a result, the two groove rollers 12A, 12B
Rotates, and both guide rollers also rotate. At this time, the groove roller 12C is rotated by a rotation motor (not shown) to assist the wire train 11 in the reciprocating movement. On the other hand, while the wire train 11 is traveling back and forth, the ingot I is fed from above from the wire train 1.
Press to 1. As a result, the ingot I is cut into a large number of wafers. That is, when the wire array 11 travels back and forth, loose abrasive grains in the polishing liquid are removed from the wire 1 of the wire array 11.
1a rubs against the bottom of the cutting groove, the bottom is gradually scraped off by the grinding action, and finally cut into a large number of wafers.

【0023】従来のワイヤ100は、図3(a)のグラ
フに示すように、表面の粗さがRa0.0128μmと
小さく、その表面は滑らかであった。そのため、インゴ
ット切断時にワイヤ100の表面に遊離砥粒bが付着し
にくく(図1(a))、インゴットIの切断効率および
切断精度が低下していた。これに対して、一実施例のワ
イヤ11aは、図3(b)のグラフに示すように、表面
の粗さがRa0.1283μmとある程度大きく、粗面
仕上げである。その結果、インゴット切断時には、ワイ
ヤ11aの表面に対する遊離砥粒bの保持力が高まり、
これにより遊離砥粒bがワイヤ11aの表面に付着しや
すくなる(図1(b))。その結果、インゴットIの切
断効率および切断精度が高まり、シリコンウェーハの厚
さムラおよび反りを抑制することができる。しかも、ワ
イヤ11aの断線の発生を抑えることができる。実際
に、従来のワイヤ100と一実施例のワイヤ11aとを
使用してインゴットIの切断試験を行った。その結果、
この実施例のワイヤ11aは従来品に比べて、切断効率
で約15%、ウェーハの厚さムラで約15%、ウェーハ
の反りで約15%それぞれ向上するという良好な結果が
得られた。
As shown in the graph of FIG. 3A, the conventional wire 100 had a surface roughness as small as Ra 0.0128 μm and had a smooth surface. Therefore, the loose abrasive grains b are unlikely to adhere to the surface of the wire 100 during the cutting of the ingot (FIG. 1A), and the cutting efficiency and the cutting accuracy of the ingot I are reduced. On the other hand, as shown in the graph of FIG. 3 (b), the wire 11 a of the example has a surface roughness Ra of 0.1283 μm, which is relatively large, and has a rough surface finish. As a result, the holding force of the loose abrasive grains b on the surface of the wire 11a is increased when the ingot is cut,
As a result, the loose abrasive grains b easily adhere to the surface of the wire 11a (FIG. 1 (b)). As a result, the cutting efficiency and cutting accuracy of the ingot I are improved, and it is possible to suppress unevenness in thickness and warpage of the silicon wafer. Moreover, it is possible to suppress the occurrence of disconnection of the wire 11a. Actually, the cutting test of the ingot I was performed using the conventional wire 100 and the wire 11a of the embodiment. as a result,
The wire 11a of this example has improved the cutting efficiency by about 15%, the wafer thickness unevenness by about 15%, and the wafer warpage by about 15% as compared with the conventional product.

【0024】ここで、図4のフローシートに基づき、こ
の一実施例のワイヤ11aの製造方法を説明する。ま
ず、熱間圧延後に調整冷却された直径5〜6mmの鋼線
材を用意し(S401)、これを冷間引抜き装置によっ
て直径3〜4mmまで1次伸線加工する(S402)。
以下、この冷間引抜き装置を、図5を参照して詳細に説
明する。図5において、30は冷間引抜き装置で、この
冷間引抜き装置30は鋼線材の引抜き側に伸線ダイス3
1が固定されている。伸線ダイス31には、鋼線材の入
口から出口に向かって徐々に断面積が小さくなった引抜
き孔31aが形成されている。伸線ダイス31の先方
(下流)には、鋼線材の先部を挟持して引抜き孔31a
から鋼線材を引き抜く、上下1対の引抜きローラ32,
32が配設されている。この鋼線材の先部を挟持した状
態で両引抜きローラ32,32を回転することで、鋼線
材を引抜き孔31aから引き抜くことができる。
Now, a method of manufacturing the wire 11a of this embodiment will be described with reference to the flow sheet of FIG. First, a steel wire having a diameter of 5 to 6 mm that has been adjusted and cooled after hot rolling is prepared (S401), and this is subjected to primary wire drawing by a cold drawing device to a diameter of 3 to 4 mm (S402).
Hereinafter, this cold drawing apparatus will be described in detail with reference to FIG. In FIG. 5, reference numeral 30 is a cold drawing device, and this cold drawing device 30 is provided on the drawing side of a steel wire rod with a wire drawing die 3
1 is fixed. The wire drawing die 31 is formed with a drawing hole 31a whose cross-sectional area is gradually reduced from the inlet of the steel wire rod toward the outlet thereof. At the tip (downstream) of the wire drawing die 31, the tip portion of the steel wire material is clamped to draw out a hole 31a.
A pair of upper and lower pulling rollers 32 for pulling the steel wire rod from the
32 are provided. The steel wire rod can be pulled out from the pull-out hole 31a by rotating both the pull-out rollers 32, 32 with the front end portion of the steel wire rod being sandwiched.

【0025】次に、1次伸線加工後の鋼線材に、パテン
ティング処理を施す(S403)。具体的には、あらか
じめ鋼線材を炉温約900℃でオーステナイト化させ、
その後、約550〜600℃まで急冷し、パーライト組
成に変態させる。続いて、このパテンティングされた鋼
線材を、冷間引抜き装置30により2次伸線加工し、直
径1〜2mmの鋼線材を得る(S404)。その後、2
次伸線加工された鋼線材に対して、最終パテンティング
処理を施す(S405)。それから、この最終パテンテ
ィングされた鋼線材の表面にブラスメッキを施す(S4
06)。すなわち、鋼線材の表面に銅および亜鉛を順次
メッキし、その後、これらを熱拡散して真鍮合金とす
る。次に、このブラスメッキ後の鋼線材に、最終湿式伸
線加工を行う(S407)。具体的には、潤滑油を伸線
ダイスおよび鋼線材などにスプレーしながら伸線加工す
る。ここで使用される伸線ダイス31としては、サンド
ブラスト加工により、引抜き孔31aの内周面が粗面仕
上げされたものを採用している(図5(b))。これに
より、引抜き孔31aから鋼線材を引き抜くだけで、ワ
イヤ11aの表面をRa0.08〜0.20μmの粗面
に仕上げることができる。その結果、このRa0.08
〜0.20μmの表面を有するワイヤを容易に製造する
ことができる。
Next, the steel wire rod after the primary wire drawing is subjected to patenting treatment (S403). Specifically, the steel wire rod is austenitized at a furnace temperature of about 900 ° C in advance,
Then, it is rapidly cooled to about 550 to 600 ° C. and transformed into a pearlite composition. Subsequently, the patented steel wire rod is subjected to secondary wire drawing by the cold drawing device 30 to obtain a steel wire rod having a diameter of 1 to 2 mm (S404). Then 2
The final patenting treatment is applied to the steel wire rod subjected to the secondary wire drawing (S405). Then, brass plating is applied to the surface of the finally patented steel wire rod (S4
06). That is, the surface of a steel wire rod is sequentially plated with copper and zinc, and then these are thermally diffused to obtain a brass alloy. Next, final wet wire drawing is performed on the brass-plated steel wire rod (S407). Specifically, wire drawing is performed while spraying a lubricating oil on a wire drawing die, a steel wire material and the like. As the wire drawing die 31 used here, one in which the inner peripheral surface of the drawing hole 31a is roughened by sandblasting is employed (FIG. 5 (b)). As a result, the surface of the wire 11a can be finished to a rough surface of Ra 0.08 to 0.20 μm simply by pulling out the steel wire rod from the pulling hole 31a. As a result, this Ra0.08
Wires with a surface of ˜0.20 μm can be easily manufactured.

【0026】[0026]

【発明の効果】この発明によれば、ワイヤの表面をある
程度以上に粗くすることで、遊離砥粒のワイヤ表面への
付着量(保持力)が増加し、被切断物の切断性能が高ま
って、その切断効率および切断精度を高めることができ
る。その結果、ウェーハの厚さムラおよびウェーハの反
りが抑制され、ワイヤの断線も抑えることができる。
According to the present invention, by roughening the surface of the wire to a certain degree or more, the amount of loose abrasive grains attached to the wire surface (holding force) increases, and the cutting performance of the object to be cut is improved. The cutting efficiency and cutting accuracy can be improved. As a result, uneven thickness of the wafer and warp of the wafer are suppressed, and wire breakage can also be suppressed.

【0027】特に、請求項5の発明によれば、引抜き孔
の内周面にメッキ処理されていない伸線ダイスを使用し
て鋼線材を伸線加工するので、表面の粗さがRa0.0
8〜0.20μmのワイヤを容易に製造することができ
る。
In particular, according to the invention of claim 5, the steel wire is drawn by using a wire drawing die which is not plated on the inner peripheral surface of the drawing hole, so that the surface roughness is Ra0.00.
A wire of 8 to 0.20 μm can be easily manufactured.

【0028】また、請求項6の発明によれば、内周面が
粗面仕上げされた引抜き孔を通して鋼線材を引き抜くの
で、表面の粗さがRa0.08〜0.20μmのワイヤ
を良好に製造することができる。
Further, according to the invention of claim 6, the steel wire is drawn out through the drawing hole whose inner peripheral surface is roughened, so that a wire having a surface roughness Ra of 0.08 to 0.20 μm can be manufactured well. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は、従来手段に係る被切断物のワイヤ切
断方法による被切断物の切断作業中を示す要部拡大断面
図である。(b)は、この発明に係る被切断物のワイヤ
切断方法による被切断物の切断作業中を示す要部拡大断
面図である。
FIG. 1A is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing a work of cutting an object to be cut by a wire cutting method of the object to be cut according to a conventional means. FIG. 3B is an enlarged sectional view of an essential part showing a cutting operation of the object to be cut by the wire cutting method for the object to be cut according to the present invention.

【図2】(a)は、この発明の一実施例に係る被切断物
のワイヤ切断方法が適用されたワイヤソーの要部を拡大
して示す模式図である。(b)は、この発明の一実施例
に係るワイヤソーに組み込まれたグルーブローラの部分
拡大図である。
FIG. 2A is an enlarged schematic view showing a main part of a wire saw to which a method of cutting a wire of an object to be cut according to an embodiment of the present invention is applied. FIG. 6B is a partially enlarged view of the groove roller incorporated in the wire saw according to the embodiment of the present invention.

【図3】(a)は、従来手段に係る被切断物のワイヤ切
断方法に用いられる被切断物の表面粗さを示すグラフで
ある。(b)は、この発明に係る被切断物のワイヤ切断
方法に用いられる被切断物の表面粗さを示すグラフであ
る。
FIG. 3A is a graph showing the surface roughness of the object to be cut used in the wire cutting method for the object to be cut according to the conventional means. (B) is a graph which shows the surface roughness of the to-be-cut object used for the wire cutting method of the to-be-cut object concerning this invention.

【図4】この発明の一実施例に係るワイヤ製造方法を示
すフローシートである。
FIG. 4 is a flow sheet showing a wire manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

【図5】(a)は、この発明の一実施例に係るワイヤ製
造方法における鋼線材の伸線工程を示す要部拡大断面図
である。(b)は、この発明の一実施例に係るワイヤ製
造装置に組み込まれたダイスの部分拡大断面図である。
FIG. 5 (a) is an enlarged sectional view of an essential part showing a wire drawing step of a steel wire rod in a wire manufacturing method according to an embodiment of the present invention. (B) is a partial enlarged sectional view of a die incorporated in a wire manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ワイヤソー、 11a ワイヤ、 12A,12B,12C グルーブローラ、 12d ワイヤ溝、 31 伸線ダイス、 31a 引抜き孔、 I インゴット(被切断物)、 b 遊離砥粒。 10 wire saw, 11a wire, 12A, 12B, 12C groove rollers, 12d wire groove, 31 wire drawing die, 31a Extraction hole, I ingot (cut object), b Free abrasive grains.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数本のグルーブローラ間に架け渡され
たワイヤを往復走行させ、遊離砥粒を含む砥液を供給し
ながら、被切断物をワイヤに相対的に押しつけて、上記
遊離砥粒の研削作用により、上記被切断物を切断する被
切断物のワイヤ切断方法において、 上記ワイヤの表面の粗さをある程度以上に粗く調整し、
上記ワイヤ表面に対する遊離砥粒の保持力を高めて被切
断物をワイヤ切断する被切断物のワイヤ切断方法。
1. A wire suspended between a plurality of groove rollers is made to reciprocate, and an object to be cut is relatively pressed against the wire while supplying a polishing liquid containing free abrasive particles, whereby the free abrasive particles are removed. In the wire cutting method of the cutting object for cutting the cutting object by the grinding action of, by adjusting the surface roughness of the wire to a certain degree or more,
A wire cutting method for an object to be cut, which increases the holding force of loose abrasive grains on the surface of the wire to wire the object to be cut.
【請求項2】 上記ワイヤの表面の粗さが、Ra0.0
8〜0.20μmである請求項1に記載の被切断物のワ
イヤ切断方法。
2. The surface roughness of the wire is Ra0.00.
The wire cutting method for an object to be cut according to claim 1, having a thickness of 8 to 0.20 μm.
【請求項3】 複数本のグルーブローラ間を往復走行し
ながら、被切断物に押し付けられ、供給された砥液中の
遊離砥粒の研削作用により、この被切断物を切断するワ
イヤにおいて、 その表面の粗さが、Ra0.08〜0.20μmである
ワイヤ。
3. A wire for cutting an object to be cut by the grinding action of loose abrasive grains in a supplied abrasive liquid, which is pressed against the object to be cut while reciprocating between a plurality of groove rollers. A wire having a surface roughness Ra of 0.08 to 0.20 μm.
【請求項4】 断面形状が略真円である請求項3に記載
のワイヤ。
4. The wire according to claim 3, wherein the cross-sectional shape is a substantially perfect circle.
【請求項5】 鋼線材を伸線ダイスの引抜き孔に通して
伸線加工する伸線工程と、 伸線加工後の鋼線材をオーステナイト化させてからパー
ライト組成に変態させるパテンティング処理を施すパテ
ンティング工程とを備えたワイヤ製造方法において、 上記伸線ダイスの引抜き孔の内周面をメッキ処理が施さ
れていない面とし、該引抜き孔からワイヤを引き抜くこ
とで、該ワイヤの表面の粗さをRa0.08〜0.20
μmとしたワイヤ製造方法。
5. A patenting process for drawing a steel wire rod through a drawing hole of a wire drawing die, and a patenting process for transforming the steel wire rod into an pearlite composition after austenitizing the drawn steel wire rod. In the wire manufacturing method including a coating step, the inner peripheral surface of the drawing hole of the wire drawing die is a surface not subjected to plating treatment, and the wire is pulled out from the drawing hole to obtain a surface roughness of the wire. Ra 0.08 to 0.20
A method of manufacturing a wire having a size of μm.
【請求項6】 鋼線材を伸線ダイスの引抜き孔に通して
伸線加工する伸線工程と、 伸線加工後の鋼線材をオーステナイト化させてからパー
ライト組成に変態させるパテンティング処理を施すパテ
ンティング工程とを備えたワイヤ製造方法において、 上記伸線ダイスの引抜き孔の内周面を粗面仕上げされた
面とし、該引抜き孔からワイヤを引き抜くことで、該ワ
イヤの表面の粗さをRa0.08〜0.20μmとした
ワイヤ製造方法。
6. A patenting process for drawing a steel wire rod through a drawing hole of a wire drawing die, and a patenting process for transforming the steel wire rod into a pearlite composition after austenitizing the drawn steel wire rod. In a wire manufacturing method including a wire drawing step, the inner peripheral surface of the drawing hole of the wire drawing die is a roughened surface, and the wire is drawn out from the drawing hole to obtain a surface roughness Ra0. The wire manufacturing method was set to 0.08 to 0.20 μm.
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