JP2003290619A - Gas treatment apparatus and gas treatment method - Google Patents
Gas treatment apparatus and gas treatment methodInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス処理装置およ
びガス処理方法に関するものであり、詳しくは、被処理
ガスが腐食性であっても装置の構成部品、例えば真空ポ
ンプおよび減圧タンクを腐食する恐れのないガス処理装
置およびガス処理方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas treatment apparatus and a gas treatment method, and more particularly to corrosive components of the apparatus such as a vacuum pump and a decompression tank even if the gas to be treated is corrosive. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a gas treatment device and a gas treatment method that are not feared.
【０００２】[0002]
【従来の技術】トンネル、地下駐車場、発電所、ボイラ
ー、焼却炉、ビルディング等から排出されるＮＯガス、
ＮＯ２ガス、硝酸ガス等（以下ＮＯｘという）、ＳＯ２
ガス、また工場等から排出されるＰＦＣ（パーフルオロ
コンパウンド）ガスは、酸性雨の原因となることが知ら
れており、そのため該ガスを処理する装置は従来から幾
つか提案されている。2. Description of the Related Art NO gas emitted from tunnels, underground parking lots, power plants, boilers, incinerators, buildings, etc.,
NO 2 gas, nitric acid gas (hereinafter referred to as NOx), SO 2
It is known that gas and PFC (perfluoro compound) gas discharged from factories and the like cause acid rain, and therefore, some devices for treating the gas have been conventionally proposed.
【０００３】例えば特開平４−３１７７２０号公報に
は、ＮＯｘを吸着剤を用いて濃縮し、この濃縮ＮＯｘ含
有ガスを燃焼域に導いて分解する方法が開示されてい
る。図８は、特開平４−３１７７２０号公報に開示され
たガス処理装置を説明するための図である。図７におい
て、３１は吸着塔、３２は大気放出のためのブロア、３
３は真空ポンプ、３４、３５、３６はバルブ、３７はガ
ス分解装置である。ＮＯｘをガス入口Ｆから吸着塔３１
に引き込み、ＮＯｘを吸着塔内に設置された吸着剤で吸
着し、浄化したガスをブロア３２によりガス出口Ｇから
排出する。吸着剤に吸着されたＮＯｘは真空ポンプ３３
により脱着され、高濃度濃縮ガスとなる。脱着時、通常
吸着剤は加熱され、バルブ３４、３５はクローズに、バ
ルブ３６はオープンになっている。高濃度濃縮ガスは、
後段のガス分解装置３７により燃焼され、無害化され、
清浄ガス出口Ｈから排出される。For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-317720 discloses a method of concentrating NOx using an adsorbent and introducing the concentrated NOx-containing gas into a combustion zone for decomposition. FIG. 8 is a diagram for explaining the gas treatment device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-317720. In FIG. 7, 31 is an adsorption tower, 32 is a blower for atmospheric release, 3
3 is a vacuum pump, 34, 35 and 36 are valves, and 37 is a gas decomposition device. NOx from gas inlet F to adsorption tower 31
, NOx is adsorbed by the adsorbent installed in the adsorption tower, and the purified gas is discharged from the gas outlet G by the blower 32. The NOx adsorbed by the adsorbent is the vacuum pump 33.
Is desorbed and becomes a high-concentration concentrated gas. At the time of desorption, the adsorbent is usually heated so that the valves 34 and 35 are closed and the valve 36 is open. Highly concentrated gas is
The gas is decomposed by the gas decomposition device 37 in the latter stage to be rendered harmless,
It is discharged from the clean gas outlet H.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】前記の従来のガス処理
装置にあっては、ＮＯｘが例えばＮＯ２や硝酸ガス等で
ある場合、吸着剤の脱着再生のために３００℃以上の加
熱が必要である。またＮＯ２や硝酸ガスは腐食性ガスで
あり、この高温、腐食性のガスが真空ポンプを腐食し、
損傷させるという問題があった。したがって本発明の目
的は、被処理ガスが腐食性であっても装置の構成部品、
例えば真空ポンプ、減圧タンク等を腐食する恐れのない
ガス処理装置およびガス処理方法を提供することにあ
る。In the above-mentioned conventional gas treatment apparatus, when NOx is, for example, NO 2 or nitric acid gas, it is necessary to heat the adsorbent at a temperature of 300 ° C. or higher for desorption and regeneration. is there. Further, NO 2 and nitric acid gas are corrosive gases, and this high temperature, corrosive gas corrodes the vacuum pump,
There was a problem of damaging it. Therefore, an object of the present invention is to provide a component of the device even if the gas to be treated is corrosive,
An object of the present invention is to provide a gas treatment device and a gas treatment method that are free from the risk of corroding a vacuum pump, a pressure reducing tank, and the like.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、被処
理ガスに含まれる被処理成分を吸着する吸着剤を備えた
吸着塔と、前記吸着塔に被処理ガスを導入するガス入口
部と、前記吸着塔により処理された処理済みガスを放出
する処理済みガス出口部と、前記吸着剤を加熱するヒー
タと、前記吸着塔に接続した温度調節可能な減圧タンク
と、前記減圧タンクに接続した真空ポンプと、前記真空
ポンプの排気口に接続した被処理成分分解装置と、前記
分解装置に接続した分解後の清浄ガスを放出する出口部
とを備え、前記吸着剤の被処理成分の吸着能力が低下し
たときに前記被処理ガスの吸着塔への導入を停止すると
ともに前記ヒータおよび真空ポンプを稼動させ吸着剤を
減圧下加熱し、前記被処理成分をガスとして脱着させ、
脱着された被処理成分を前記減圧タンク内に拡散させ、
前記減圧タンク内の被処理成分を所定の温度に維持し、
その後被処理成分を前記真空ポンプにより吸引しその排
気口から前記被処理成分分解装置に導入し、これを分解
するようにしたことを特徴とするガス処理装置である。
請求項２の発明は、前記被処理成分の脱着時には、前記
吸着剤が前記吸着塔の内壁に接触しない状態で露出可能
にしたことを特徴とする請求項１に記載のガス処理装置
である。請求項３の発明は、前記吸着塔が、分割可能に
構成され、かつその少なくとも一部は前記減圧タンク内
に収容され、被処理成分の脱着時には、吸着剤が前記減
圧タンク内で露出可能にしたことを特徴とする請求項１
に記載のガス処理装置である。請求項４の発明は、被処
理ガスの実質上全部が前記吸着剤と接触するように、前
記吸着剤が吸着塔の内部に設置されている請求項３に記
載のガス処理装置である。請求項５の発明は、前記吸着
塔を減圧タンク内部で分割してスライドさせることによ
り、前記吸着剤の露出が行われる請求項３または４に記
載のガス処理装置である。請求項６の発明は、通気可能
なフィルタにより前記吸着剤が覆われ、前記フィルタが
支持部材によって前記減圧タンクの内部に固定されてい
る請求項５に記載のガス処理装置である。請求項７の発
明は、（１）吸着剤が充填された吸着塔に被処理ガスを
導入し、前記被処理ガスに含まれる被処理成分を吸着さ
せる工程；
（２）前記（１）の工程により処理された処理済みガス
を大気中に放出する工程；
（３）前記（１）の工程を経た後、前記吸着剤の被処理
成分の吸着能力が低下したときに、前記被処理ガスの吸
着塔への導入を停止するとともに前記吸着剤を減圧下加
熱し、前記被処理成分をガスとして脱着させる工程；
（４）前記（３）の工程により脱着された被処理成分を
温度調節された減圧タンク内に拡散させ、前記減圧タン
ク内の被処理成分を所定の温度に維持する工程；および
（５）前記（４）の工程を経た被処理成分を真空ポンプ
により吸引し、前記真空ポンプの排気口から被処理成分
分解装置に導入し、分解する工程
を有することを特徴とするガス処理方法である。According to a first aspect of the present invention, there is provided an adsorption tower having an adsorbent for adsorbing a component to be treated contained in the gas to be treated, and a gas inlet portion for introducing the gas to be treated into the adsorption tower. A treated gas outlet for releasing the treated gas treated by the adsorption tower, a heater for heating the adsorbent, a temperature adjustable pressure reducing tank connected to the adsorption tower, and a pressure reducing tank connected to the adsorption tower. A vacuum pump, an apparatus for decomposing a component to be treated connected to an exhaust port of the vacuum pump, and an outlet connected to the decomposing unit for releasing clean gas after decomposition, and adsorbing a component to be treated on the adsorbent. When the capacity is lowered, the introduction of the gas to be treated into the adsorption tower is stopped and the heater and the vacuum pump are operated to heat the adsorbent under reduced pressure, and the components to be treated are desorbed as a gas,
Diffuse the desorbed components to be treated in the vacuum tank,
Maintaining the components to be treated in the vacuum tank at a predetermined temperature,
After that, the component to be treated is sucked by the vacuum pump and introduced into the device for decomposing the component to be treated from the exhaust port thereof to decompose the gas treatment device.
The invention according to claim 2 is the gas treatment apparatus according to claim 1, characterized in that, when the component to be treated is desorbed, the adsorbent can be exposed without being in contact with the inner wall of the adsorption tower. According to a third aspect of the present invention, the adsorption tower is configured to be dividable, and at least a part of the adsorption tower is housed in the decompression tank so that the adsorbent can be exposed in the decompression tank when desorbing components to be treated. Claim 1 characterized in that
The gas treatment device according to 1. The invention according to claim 4 is the gas treatment apparatus according to claim 3, wherein the adsorbent is installed inside the adsorption tower so that substantially all of the gas to be treated comes into contact with the adsorbent. A fifth aspect of the present invention is the gas treatment apparatus according to the third or fourth aspect, in which the adsorbent is exposed by dividing and sliding the adsorption tower inside the decompression tank. A sixth aspect of the present invention is the gas treatment apparatus according to the fifth aspect, wherein the adsorbent is covered with a permeable filter, and the filter is fixed inside the decompression tank by a supporting member. The invention of claim 7 is: (1) a step of introducing a gas to be treated into an adsorption tower filled with an adsorbent to adsorb a component to be treated contained in the gas to be treated; (2) the step of (1) above. Releasing the treated gas treated by (3) into the atmosphere; (3) When the adsorption capability of the component to be treated of the adsorbent decreases after the process of (1), the adsorption of the gas to be treated is adsorbed. Stopping the introduction into the tower and heating the adsorbent under reduced pressure to desorb the component to be treated as a gas; (4) Reduced temperature of the component to be treated desorbed by the step (3) A step of diffusing into the tank to maintain the component to be treated in the decompression tank at a predetermined temperature; and (5) a component to be treated after the step (4) is sucked by a vacuum pump and exhausted from the vacuum pump. Introduced into the component decomposition device from the mouth, A gas processing method characterized by comprising the step of.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１は本発明の一
実施形態を説明するための図である。図１において、１
は吸着塔、２、３、４、５、８はバルブ、6は減圧タン
ク、７は真空ポンプ、９は分解装置、１０は温調器、１
１は濃度センサ、１２は希釈ガス供給装置である。吸着
塔１には被処理ガスに含まれる被処理成分を吸着する吸
着剤が設置されている。被処理ガスは、ガス入口部Ａか
ら吸着塔１内に導入され、被処理成分が吸着除去され
る。処理された処理済みガスは処理済みガス出口部Ｂか
ら排出される。この工程において、バルブ２およびバル
ブ３はオープンとなっており、バルブ４およびバルブ５
はクローズされている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiment 1. FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1
Is an adsorption tower, 2, 3, 4, 5, 8 are valves, 6 is a decompression tank, 7 is a vacuum pump, 9 is a decomposition device, 10 is a temperature controller, 1
Reference numeral 1 is a concentration sensor, and 12 is a dilution gas supply device. The adsorption tower 1 is provided with an adsorbent that adsorbs the components to be treated contained in the gas to be treated. The gas to be treated is introduced into the adsorption tower 1 through the gas inlet A, and the components to be treated are adsorbed and removed. The processed gas that has been processed is discharged from the processed gas outlet portion B. In this process, the valves 2 and 3 are open and the valves 4 and 5 are open.
Is closed.
【０００７】前記吸着工程が繰り返され、吸着塔１内に
設置された吸着剤の被処理成分の吸着能力が低下した場
合、真空加熱法により吸着剤を再生する。すなわち、被
処理ガスの吸着塔１への導入を停止するとともに吸着剤
をヒータにより減圧下加熱し、被処理成分をガスとして
脱着させ、吸着剤を再生する。具体的にはまず、吸着塔
１および減圧タンク６内を真空ポンプ７で減圧する。こ
のときバルブ５およびバルブ８はオープン、バルブ２、
バルブ３およびバルブ４はクローズとなっている。真空
ポンプ７の排気口は、分解装置９と接続されているが、
この工程で分解装置９は停止している。吸着塔１と減圧
タンク６が所定の圧力に減圧されると、バルブ８をクロ
ーズして吸着塔１内部のヒータを加熱する。吸着剤は加
熱されることで被処理成分をガスとして放出し、このガ
スは吸着塔１と減圧タンク６に拡散していく。吸着塔１
および減圧タンク６があらかじめ減圧されていること
で、これらの内部に充満していたガスの分子数が減少し
ており、吸着剤から放出された被処理成分を希釈するガ
ス分子数が少ないことから、放出された被処理成分は、
高濃度に吸着塔１および減圧タンク６に蓄えられる効果
がある。When the adsorption ability of the component to be treated of the adsorbent installed in the adsorption tower 1 is lowered by repeating the adsorption step, the adsorbent is regenerated by the vacuum heating method. That is, the introduction of the gas to be treated into the adsorption tower 1 is stopped and the adsorbent is heated under reduced pressure by the heater to desorb the component to be treated as a gas to regenerate the adsorbent. Specifically, first, the pressure inside the adsorption tower 1 and the pressure reducing tank 6 is reduced by the vacuum pump 7. At this time, valve 5 and valve 8 are open, valve 2,
The valves 3 and 4 are closed. The exhaust port of the vacuum pump 7 is connected to the decomposition device 9,
The decomposition device 9 is stopped in this step. When the adsorption tower 1 and the decompression tank 6 are depressurized to a predetermined pressure, the valve 8 is closed to heat the heater inside the adsorption tower 1. The adsorbent is heated to release the component to be treated as a gas, and this gas diffuses into the adsorption tower 1 and the decompression tank 6. Adsorption tower 1
Since the decompression tank 6 is decompressed in advance, the number of molecules of the gas filled inside these is reduced, and the number of gas molecules for diluting the component to be treated released from the adsorbent is small. , The released components are
There is an effect that a high concentration is stored in the adsorption tower 1 and the decompression tank 6.
【０００８】減圧タンク６に拡散した被処理成分が例え
ば常温で液化する性質を持つガスである場合、温調器１
０を作動させて減圧タンク６を加温し、該ガスが液化し
ないような温度に減圧タンク６を維持する。なお、被処
理成分がＮＯｘであり、かつ吸着塔１内部の吸着剤が水
分を吸着した場合、真空加熱法により吸着剤から同時に
ＮＯｘおよび水が脱着することがあるが、この場合も減
圧タンク６を加温しておくことで、ＮＯｘおよび水を液
化させずに両者を蓄えておくことが可能になる。これに
よって減圧タンク６内壁の結露を防ぎ、かつＮＯｘと水
の反応による液体状の硝酸を生成することを防ぎ、減圧
タンク６内部の腐食を防ぐ効果を得ることが可能であ
る。When the component to be treated diffused in the decompression tank 6 is a gas having a property of liquefying at room temperature, for example, the temperature controller 1
0 is operated to heat the decompression tank 6, and the decompression tank 6 is maintained at a temperature at which the gas is not liquefied. When the component to be treated is NOx and the adsorbent inside the adsorption tower 1 adsorbs water, NOx and water may be simultaneously desorbed from the adsorbent by the vacuum heating method. By heating the NOx, it becomes possible to store both NOx and water without liquefying them. As a result, it is possible to prevent dew condensation on the inner wall of the decompression tank 6, prevent liquid nitric acid from being produced by the reaction of NOx and water, and prevent corrosion inside the decompression tank 6.
【０００９】また、減圧タンク６に拡散したガス成分が
大量にあり、吸着塔１で加熱された温度と同じガス温度
で減圧タンク６に拡散して行く場合、温調器１０を冷却
器として作動させて、このガス温度の温度を低下させ
る。これによって次の工程で再び使用する真空ポンプ７
を保護する効果を得ることが可能となる。例えば、被処
理成分がＮＯｘである場合、耐熱性、耐腐食性をもつ真
空ポンプ7の、一般的な使用温度例は２００℃以下であ
る。この理由から、減圧タンク６内部のＮＯｘガス温度
を温調器１０で２００℃以下に冷却し維持することで、
耐熱性、耐腐食性の真空ポンプを使用することが可能
で、次に説明する工程を実行することが可能である。When a large amount of the gas component diffused in the decompression tank 6 is diffused into the decompression tank 6 at the same gas temperature as that heated in the adsorption tower 1, the temperature controller 10 operates as a cooler. Then, the temperature of this gas temperature is lowered. This allows the vacuum pump 7 to be used again in the next step.
It becomes possible to obtain the effect of protecting. For example, when the component to be treated is NOx, a typical working temperature of the vacuum pump 7 having heat resistance and corrosion resistance is 200 ° C. or lower. For this reason, by cooling the NOx gas temperature inside the decompression tank 6 to 200 ° C. or less by the temperature controller 10 and maintaining it,
A heat resistant and corrosion resistant vacuum pump can be used, and the steps described below can be performed.
【００１０】吸着剤の再生の完了は、減圧タンク６に備
えられた濃度センサ１１により知ることができる。すな
わち、濃度センサ１１により、時間の関数として被処理
成分の濃度変化を測定し、時間が経過しても被処理成分
の濃度が増加しなくなった場合、吸着剤の再生が完了し
たと判断することができる。再生後は、被処理成分を真
空ポンプ７により吸引しその排気口から被処理成分の分
解装置９に導入し、分解する。ここで濃度センサ１１と
しては、例えばガスを光で測定する紫外−可視光吸光光
度計もしくは、赤外線吸光光度計が望ましい。Completion of the regeneration of the adsorbent can be known by the concentration sensor 11 provided in the decompression tank 6. That is, the concentration sensor 11 measures the change in concentration of the component to be treated as a function of time, and if the concentration of the component to be treated does not increase over time, it is determined that the regeneration of the adsorbent is completed. You can After the regeneration, the component to be treated is sucked by the vacuum pump 7 and introduced into the decomposing device 9 for the component to be treated from its exhaust port to decompose it. Here, as the concentration sensor 11, for example, an ultraviolet-visible light absorptiometer or an infrared absorptiometer for measuring gas with light is desirable.
【００１１】ここで、吸着剤としてゼオライトを採用
し、被処理成分をＮＯｘとした場合における、ゼオライ
トの吸着性能について説明する。図２は、ゼオライトを
４５０℃まで加熱した場合のゼオライト温度と加熱時間
との関係を示す図であり、図３は、図２の加熱形態にお
ける吸着塔１および減圧タンク６内部の圧力変化と時間
との関係を示す図であり、図４は、図２の加熱形態にお
ける吸着塔１および減圧タンク６内部の被処理成分の濃
度変化と時間との関係を示す図である。なお、吸着塔１
および減圧タンク６内部の圧力は、ｔ＝０ｓｅｃで１気
圧（＝760Torr）であり、その後真空ポンプ７を稼動し
て約１０Torrまで減圧した。減圧後はバルブ８をクロー
ズした。図２および図３から、ゼオライト温度の上昇に
つれて、ＮＯｘと水分が脱着され、圧力が上昇している
ことが判る。また図４から、ゼオライト温度の上昇とと
もにＮＯｘ濃度も増加し、ｔ＝３０００ｓｅｃにおいて
濃度約15％でほぼ一定となったことが判る。この時点で
ＮＯｘはほぼ全量脱着されたが、水分は脱着し続けるた
め圧力は少しずつ上昇し続けている。Here, the adsorption performance of zeolite when zeolite is used as the adsorbent and the component to be treated is NOx will be described. FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the zeolite temperature and the heating time when the zeolite is heated to 450 ° C., and FIG. 3 is a pressure change and time in the adsorption tower 1 and the decompression tank 6 in the heating mode of FIG. And FIG. 4 is a diagram showing the relationship between changes in the concentrations of the components to be treated in the adsorption tower 1 and the decompression tank 6 in the heating mode of FIG. 2 and time. The adsorption tower 1
The pressure inside the decompression tank 6 was 1 atm (= 760 Torr) at t = 0 sec, and then the vacuum pump 7 was operated to reduce the pressure to about 10 Torr. After reducing the pressure, the valve 8 was closed. From FIG. 2 and FIG. 3, it can be seen that NOx and water are desorbed and the pressure rises as the zeolite temperature rises. Further, it can be seen from FIG. 4 that the NOx concentration increased as the zeolite temperature increased, and became almost constant at a concentration of about 15% at t = 3000 sec. At this point, almost all of the NOx was desorbed, but since the water continued to be desorbed, the pressure continued to rise little by little.
【００１２】分解工程は、バルブ８をオープンにすると
ともに真空ポンプ7および分解装置９を作動させる。真
空ポンプ７は被処理成分を吸引し、その排気口から被処
理成分を分解装置９に搬送する。分解装置９では、被処
理成分を分解・清浄化することが可能であり、清浄され
たガスは清浄ガス出口Ｃより排出される。例えば、分解
装置９は公知の熱プラズマ分解装置または触媒型分解装
置であることができる。マイクロ波熱プラズマトーチで
3,000〜10,000℃のプラズマフレームを生成する熱プラ
ズマ分解装置である場合、被処理成分のガス濃度が高け
れば高いほど、これを清浄ガスに転化する率が増加する
傾向にある。本実施の形態によれば高濃度の被処理成分
ガスを得ることができ、清浄ガスへの転化率も増加する
効果が得られる。さらに熱プラズマ分解装置は、プラズ
マフレームを安定に生成するために、一定流量のガスを
供給する必要があるが、吸着塔１と減圧タンク６内部の
ガスが不足し、一定流量供給できなくなった場合は、分
解装置９を停止し、同時にバルブ４をオープンにして、
希釈ガス供給装置１２を作動させ、空気、純チッ素、純
酸素および希ガス類等の無害ガスを吸着塔１および減圧
タンク６内部に導入し、被処理成分である有害ガスを環
境基準以下の濃度まで希釈して清浄ガス出口Ｃより排出
することが可能である。In the disassembling process, the valve 8 is opened and the vacuum pump 7 and the disassembling device 9 are operated. The vacuum pump 7 sucks the component to be treated, and conveys the component to be treated to the decomposition device 9 through its exhaust port. In the decomposition device 9, the components to be treated can be decomposed and cleaned, and the cleaned gas is discharged from the clean gas outlet C. For example, the decomposition device 9 can be a known thermal plasma decomposition device or a catalytic decomposition device. With microwave thermal plasma torch
In the case of a thermal plasma decomposition apparatus that generates a plasma flame at 3,000 to 10,000 ° C., the higher the gas concentration of the component to be treated, the higher the conversion rate of this to clean gas. According to the present embodiment, a high-concentration component gas can be obtained, and the effect of increasing the conversion rate to clean gas can be obtained. Further, the thermal plasma decomposition apparatus needs to supply a gas at a constant flow rate in order to stably generate a plasma flame, but when the gas inside the adsorption tower 1 and the decompression tank 6 is insufficient and the constant flow rate cannot be supplied. Stops the disassembling device 9 and at the same time opens the valve 4,
The diluent gas supply device 12 is operated to introduce harmless gases such as air, pure nitrogen, pure oxygen, and rare gases into the adsorption tower 1 and the decompression tank 6 so that the harmful gas as a component to be treated is brought to a concentration below the environmental standard. It can be diluted and discharged from the clean gas outlet C.
【００１３】続いて、前記操作において、吸着塔１およ
び減圧タンク６内部が希釈ガスで置換された後は、バル
ブ４、５、８をクローズし、真空ポンプ７および希釈ガ
ス供給装置１２を停止し、続いてバルブ２、３をオープ
ンにして、ガス入口部Ａから被処理ガスを吸着塔１内に
導入し、被処理成分を吸着除去し、処理済みガスを処理
済みガス出口部Ｂから排出する。その後は、前記の工程
を再び行うことができる。Subsequently, in the above operation, after the adsorption tower 1 and the decompression tank 6 are replaced with the diluent gas, the valves 4, 5 and 8 are closed and the vacuum pump 7 and the diluent gas supply device 12 are stopped. Then, the valves 2 and 3 are opened, the gas to be treated is introduced into the adsorption tower 1 through the gas inlet A, the components to be treated are adsorbed and removed, and the treated gas is discharged from the treated gas outlet B. . After that, the above steps can be performed again.
【００１４】吸着剤としては、活性炭やゼオライトを用
いることが可能であり、被処理成分、例えば有害ガスは
一般的に水分を含んでいるため、疎水性ゼオライトが好
ましい。さらには有害ガスが自動車排気ガスである場合
は、細孔径が5Å以上を有するフォージャサイト型もし
くはMFI型構造を持つ疎水性ゼオライトを用いることが
好ましい。As the adsorbent, activated carbon or zeolite can be used, and the component to be treated, for example, harmful gas, generally contains water, and therefore hydrophobic zeolite is preferable. Further, when the harmful gas is automobile exhaust gas, it is preferable to use a hydrophobic zeolite having a faujasite type or MFI type structure having a pore size of 5Å or more.
【００１５】図５は、本実施の形態の減圧タンク６を詳
細に説明するための図である。図５において、１３は
窓、１４、１５は接続口、１６は配水管、１７は熱交換
器であり、その他の符号は図１と同様である。図５によ
れば減圧タンク6に窓１３が設置され、この窓１３を介
して減圧タンク６内部に光を入射することができ、窓１
３付近に設置された濃度センサ１１（図示せず）によ
り、前述のように時間の関数として被処理成分の濃度変
化を測定し、時間が経過しても被処理成分の濃度が増加
しなくなった場合、吸着剤の再生が完了したと判断する
ことができる。また接続口１４はバルブ５を介して吸着
塔１と接続し、接続口１５はバルブ８を介して真空ポン
プ７と接続する。減圧タンク６の側部には温調器１０が
備えられ、この温調器で温調された水を減圧タンク６へ
供給する配水管１６が設けられている。減圧タンク６の
内部は、熱交換器１７が備えられており、温調された水
が配水管１６を通って熱交換器１７に供給される。熱交
換器１７は減圧タンク6内部のガス温度を調整するため
に用いられる。FIG. 5 is a view for explaining the decompression tank 6 of this embodiment in detail. In FIG. 5, 13 is a window, 14 and 15 are connection ports, 16 is a water distribution pipe, 17 is a heat exchanger, and other reference numerals are the same as in FIG. According to FIG. 5, a window 13 is installed in the decompression tank 6, and light can be made incident on the inside of the decompression tank 6 through this window 13.
As described above, the concentration sensor 11 (not shown) installed in the vicinity of 3 measured the change in the concentration of the treated component as a function of time, and the concentration of the treated component did not increase over time. In this case, it can be determined that the regeneration of the adsorbent has been completed. The connection port 14 is connected to the adsorption tower 1 via the valve 5, and the connection port 15 is connected to the vacuum pump 7 via the valve 8. A temperature controller 10 is provided on the side of the decompression tank 6, and a water distribution pipe 16 is provided to supply water whose temperature is controlled by the temperature controller 6 to the decompression tank 6. A heat exchanger 17 is provided inside the decompression tank 6, and the temperature-controlled water is supplied to the heat exchanger 17 through the water pipe 16. The heat exchanger 17 is used to adjust the gas temperature inside the decompression tank 6.
【００１６】実施の形態２．図６は、本発明の別の実施
形態を説明するための図である。図６において、１８は
吸着剤、１９は円柱状のフィルタ、２０は支持リング、
２１は支柱、２２は減圧タンク、２３はヒータ、２４、
２５は吸着塔、２６、２７はオーリング、２８、２９は
ゲートバルブ、３０は接続口である。図６ａは吸着塔お
よび減圧タンクの断面図であり、吸着塔２４、２５の少
なくとも１部が減圧タンク２２内に収容されている。吸
着剤１８は通気可能な円柱状のフィルタ１９で上下およ
び側面部を覆われており、さらにフィルタ１９は支持リ
ング２０および支柱２１からなる支持部材によって減圧
タンク２２の内部に支持・固定されている。図６ｂは図
６ａのＥ−Ｅ’断面図であり、吸着剤１８、フィルタ１
９、支柱２１および減圧タンク２２の位置関係を説明す
るものである。吸着剤１８の内部にはヒータ２３が埋め
込まれている。Embodiment 2. FIG. 6 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention. In FIG. 6, 18 is an adsorbent, 19 is a cylindrical filter, 20 is a support ring,
21 is a pillar, 22 is a decompression tank, 23 is a heater, 24,
25 is an adsorption tower, 26 and 27 are O-rings, 28 and 29 are gate valves, and 30 is a connection port. FIG. 6 a is a sectional view of the adsorption tower and the decompression tank, and at least a part of the adsorption towers 24 and 25 is housed in the decompression tank 22. The adsorbent 18 is covered with a ventilated cylindrical filter 19 on its upper and lower sides and side surfaces, and the filter 19 is supported and fixed inside the decompression tank 22 by a supporting member composed of a supporting ring 20 and a column 21. . 6b is a sectional view taken along line EE ′ of FIG. 6a, showing the adsorbent 18 and the filter 1.
9, the positional relationship among the support columns 21 and the decompression tank 22 will be described. A heater 23 is embedded inside the adsorbent 18.
【００１７】図６ａにおいて、吸着塔２４、２５は減圧
タンク２２の上下部でオーリング２６および２７を介し
て減圧タンク２２に支持されている。ここでオーリング
２６、２７は吸着塔２４、２５を支持するのみならず、
減圧タンク２２内部の気密を保つようにパッキングして
いる。吸着塔２４、２５の端部にはそれぞれ流体の移動
を制止するゲートバルブ２８、２９が設けられている。
このゲートバルブ２８を通して被処理ガスが導入され、
吸着剤１８と接触し、被処理成分が吸着剤１８に吸着さ
れ、清浄ガスがゲートバルブ２９を通して排出される。
このとき、吸着塔２４、２５は支持リング２０と密着し
ているため、被処理成分が減圧タンク２２内に入ってい
くことはない。また、吸着剤１８は、被処理ガスの実質
上全部が吸着剤１８と接触するように、吸着塔２４、２
５の内部に設置されている。In FIG. 6a, the adsorption towers 24 and 25 are supported on the decompression tank 22 above and below the decompression tank 22 via O-rings 26 and 27. Here, the O-rings 26 and 27 not only support the adsorption towers 24 and 25,
The inside of the decompression tank 22 is packed so as to maintain airtightness. Gate valves 28 and 29 for stopping the movement of the fluid are provided at the ends of the adsorption towers 24 and 25, respectively.
The gas to be treated is introduced through the gate valve 28,
In contact with the adsorbent 18, the components to be treated are adsorbed by the adsorbent 18, and the clean gas is discharged through the gate valve 29.
At this time, since the adsorption towers 24 and 25 are in close contact with the support ring 20, the components to be treated do not enter the decompression tank 22. In addition, the adsorbent 18 is provided in the adsorption towers 24, 2 so that substantially all of the gas to be processed comes into contact with the adsorbent 18.
It is installed inside 5.
【００１８】吸着工程が繰り返され、吸着剤１８の被処
理成分の吸着能力が低下した場合、実施の形態１と同様
に真空加熱法により吸着剤を再生する。図６ｃは吸着剤
１８の再生工程を説明するための図である。再生工程に
おいて、まず、ゲートバルブ２８、２９をクローズす
る。次に吸着塔２４、２５を減圧タンク２２内部で分割
してスライドさせ、吸着剤１８の露出を行う。このと
き、吸着塔２４、２５は減圧タンク２２から外側に突出
し、吸着剤１８は減圧タンク２２の内部で露出した状態
になる。続いて、接続口３０に接続された真空ポンプ
（図示せず）を作動させて減圧タンク２２および吸着塔
２４、２５内部を減圧する。さらに吸着剤１８をヒータ
２３で加熱することにより、吸着塔２４、２５および減
圧タンク２２内部に高濃度の被処理成分のガスを蓄える
ことが可能となる。この高濃度の被処理成分ガスは、実
施の形態１と同様に、接続口３０をバルブ８、真空ポン
プ7および分解装置9に接続することで、分解が達成され
る。When the adsorption ability of the component to be treated of the adsorbent 18 is lowered by repeating the adsorption step, the adsorbent is regenerated by the vacuum heating method as in the first embodiment. FIG. 6c is a diagram for explaining the regeneration process of the adsorbent 18. In the regeneration process, first, the gate valves 28 and 29 are closed. Next, the adsorption towers 24 and 25 are divided and slid in the decompression tank 22 to expose the adsorbent 18. At this time, the adsorption towers 24 and 25 project outward from the decompression tank 22, and the adsorbent 18 is exposed inside the decompression tank 22. Then, a vacuum pump (not shown) connected to the connection port 30 is operated to reduce the pressure inside the decompression tank 22 and the adsorption towers 24 and 25. Further, by heating the adsorbent 18 with the heater 23, it becomes possible to store a high concentration gas of the component to be treated in the adsorption towers 24, 25 and the decompression tank 22. This high-concentration component gas is decomposed by connecting the connection port 30 to the valve 8, the vacuum pump 7 and the decomposition device 9 as in the first embodiment.
【００１９】本実施の形態において、吸着剤の再生工程
では吸着剤１８がフィルタ１９を介して減圧タンク２２
内部に露出していることから、被処理成分の放出が良好
に達成される。被処理成分の放出および拡散の物理現象
は、ガスの濃度拡散で説明される。ガスの濃度拡散はガ
ス濃度の高いところから低いほうへ向かって、ガス分子
が移動する現象である。吸着剤を円筒型の吸着塔に充填
した場合、通常吸着剤の側面は円筒型吸着塔が形成する
壁部と接触している。この壁部は被処理成分の脱着時に
吸着剤から放出されたガス分子を停滞させる。これによ
り局所的にガス濃度が上昇し、この方向へのガスの濃度
拡散を阻害する。よってガスの濃度拡散をスムーズに行
うためには該壁部が存在しないほうがよい。本実施の形
態によれば、脱着時に吸着塔２４、２５を分割しスライ
ドさせることで、吸着剤周辺の癖部が存在せず、脱着さ
れたガスはスムーズに短時間に吸着塔２４、２５および
減圧タンク２２内部に放出される効果を得ることが可能
となる。In the present embodiment, in the adsorbent regeneration process, the adsorbent 18 passes through the filter 19 and the decompression tank 22.
Since it is exposed to the inside, the release of the component to be treated is well achieved. The physical phenomenon of release and diffusion of the components to be treated is explained by the concentration diffusion of the gas. Gas concentration diffusion is a phenomenon in which gas molecules move from a high gas concentration to a low gas concentration. When the adsorbent is packed in a cylindrical adsorption tower, the side surface of the adsorbent is usually in contact with the wall formed by the cylindrical adsorption tower. This wall portion holds the gas molecules released from the adsorbent at the time of desorption of the component to be treated. As a result, the gas concentration locally rises, hindering the gas concentration diffusion in this direction. Therefore, in order to smoothly diffuse the gas concentration, it is preferable that the wall portion does not exist. According to the present embodiment, the adsorption towers 24, 25 are divided and slid at the time of desorption, so that the habit portion around the adsorbent does not exist, and the desorbed gas smoothly and in a short time. It is possible to obtain the effect of being discharged inside the decompression tank 22.
【００２０】実施の形態３．なお、実施の形態２で説明
した吸着塔を分割・スライドさせる手段は、前記実施の
形態１においても好適に適用することができる。すなわ
ち、被処理成分の脱着時には、吸着剤が前記吸着塔の内
壁に接触しない状態で露出可能にしておけば、被処理成
分の放出が良好に達成され好ましい。図７は、本実施の
形態を説明するための図である。図７において、１１８
は吸着剤、１１９は円柱状のフィルタ、１２０は支持リ
ング、１２１は支柱、１２３はヒータ、１２２、１２
４、１２５は吸着塔、１２６、１２７はオーリングであ
る。図７ａは吸着塔および減圧タンクの断面図であり、
吸着塔１２２内に吸着塔１２４、１２５が収容されてい
る。吸着剤１１８は通気可能な円柱状のフィルタ１１９
で上下および側面部を覆われており、さらにフィルタ１
１９は支持リング１２０および支柱１２１からなる支持
部材によって吸着塔１２２の内部に支持・固定されてい
る。図７ｂは図７ａのＥ−Ｅ’断面図であり、吸着剤１
１８、フィルタ１１９、支柱１２１および吸着塔１２２
の位置関係を説明するものである。吸着剤１１８の内部
にはヒータ１２３が埋め込まれている。Embodiment 3. The means for dividing and sliding the adsorption tower described in the second embodiment can be preferably applied to the first embodiment. That is, at the time of desorption of the component to be treated, it is preferable that the adsorbent can be exposed without contacting the inner wall of the adsorption tower so that the component to be treated can be released well. FIG. 7 is a diagram for explaining the present embodiment. In FIG. 7, 118
Is an adsorbent, 119 is a cylindrical filter, 120 is a support ring, 121 is a pillar, 123 is a heater, and 122, 12
Reference numerals 4 and 125 are adsorption towers, and 126 and 127 are o-rings. FIG. 7a is a cross-sectional view of the adsorption tower and vacuum tank,
The adsorption towers 122 and 125 are housed in the adsorption tower 122. The adsorbent 118 is a ventilated cylindrical filter 119.
The top and bottom sides are covered with and the filter 1
19 is supported and fixed inside the adsorption tower 122 by a support member composed of a support ring 120 and a support 121. FIG. 7b is a sectional view taken along line EE ′ of FIG.
18, filter 119, support 121 and adsorption tower 122
For explaining the positional relationship of the. A heater 123 is embedded inside the adsorbent 118.
【００２１】図７ａにおいて、吸着塔１２４、１２５は
吸着塔１２２の上下部でオーリング１２６および１２７
を介して吸着塔１２２に支持されている。ここでオーリ
ング１２６、１２７は吸着塔１２４、１２５を支持する
のみならず、吸着塔１２２内部の気密を保つようにパッ
キングしている。また、吸着剤１１８は、被処理ガスの
実質上全部が吸着剤１１８と接触するように、吸着塔１
２４、１２５の内部に設置されている。In FIG. 7a, adsorption towers 124, 125 are O-rings 126 and 127 above and below adsorption tower 122.
It is supported by the adsorption tower 122 via. Here, the O-rings 126 and 127 not only support the adsorption towers 124 and 125, but are packed so as to maintain the airtightness inside the adsorption tower 122. In addition, the adsorbent 118 is so constructed that substantially all of the gas to be processed comes into contact with the adsorbent 118.
It is installed inside 24 and 125.
【００２２】吸着工程が繰り返され、吸着剤１１８の被
処理成分の吸着能力が低下した場合真空加熱法により吸
着剤を再生する。図７ｃは吸着剤１１８の再生工程を説
明するための図である。再生工程において、吸着塔１２
４、１２５を吸着塔１２２内部で分割してスライドさ
せ、吸着剤１１８の露出を行う。このとき、吸着塔１２
４、１２５は吸着塔１２２から外側に突出し、吸着剤１
１８は吸着塔１２２の内壁に接触せずに内部で露出した
状態になる。続いて、真空ポンプ（図示せず）を作動さ
せて吸着塔１２２、１２４、１２５内部を減圧する。さ
らに吸着剤１１８をヒータ１２３で加熱することによ
り、吸着塔１２２、１２４、１２５内部に高濃度の被処
理成分のガスを蓄えることが可能となる。The adsorption process is repeated, and when the adsorption capacity of the component to be treated of the adsorbent 118 decreases, the adsorbent is regenerated by the vacuum heating method. FIG. 7c is a diagram for explaining the regeneration process of the adsorbent 118. In the regeneration process, the adsorption tower 12
The adsorbent 118 is exposed by dividing and sliding 4, 125 inside the adsorption tower 122. At this time, the adsorption tower 12
Nos. 4 and 125 project from the adsorption tower 122 to the outside, and the adsorbent 1
18 does not contact the inner wall of the adsorption tower 122 and is exposed inside. Then, a vacuum pump (not shown) is operated to reduce the pressure inside the adsorption towers 122, 124, 125. Further, by heating the adsorbent 118 with the heater 123, it becomes possible to store a high concentration gas of the component to be treated inside the adsorption towers 122, 124, 125.
【００２３】[0023]
【発明の効果】請求項１の発明は、被処理ガスに含まれ
る被処理成分を吸着する吸着剤を備えた吸着塔と、前記
吸着塔により処理された処理済みガスを放出する処理済
みガス出口部と、前記吸着剤を加熱するヒータと、前記
吸着塔と接続した温度調節可能な減圧タンクと、前記減
圧タンクに接続した真空ポンプと、前記真空ポンプの排
気口と接続した被処理成分分解装置とを備え、前記吸着
剤の被処理成分の吸着能力が低下したときに前記被処理
ガスの吸着塔への導入を停止するとともに前記ヒータお
よび真空ポンプを稼動させ吸着剤を減圧下加熱し、前記
被処理成分をガスとして脱着させ、脱着された被処理成
分を前記減圧タンク内に拡散させ、前記減圧タンク内の
被処理成分を所定の温度に維持し、その後被処理成分を
前記真空ポンプにより吸引しその排気口から前記被処理
成分分解装置に導入し、これを分解するようにしたこと
を特徴とするガス処理装置であるので、被処理ガスが腐
食性であっても装置の構成部品、例えば真空ポンプを腐
食する恐れがない。また減圧タンクの腐食も防止するこ
とができる。According to the first aspect of the present invention, an adsorption tower equipped with an adsorbent for adsorbing a component to be treated contained in a gas to be treated, and a treated gas outlet for releasing the treated gas treated by the adsorption tower. Section, a heater for heating the adsorbent, a temperature-adjustable decompression tank connected to the adsorption tower, a vacuum pump connected to the decompression tank, and an apparatus for decomposing components to be processed connected to an exhaust port of the vacuum pump. And stopping the introduction of the gas to be treated into the adsorption tower when the adsorption capacity of the component to be treated of the adsorbent is lowered and operating the heater and the vacuum pump to heat the adsorbent under reduced pressure, The component to be treated is desorbed as a gas, the desorbed component to be treated is diffused in the decompression tank, the component to be treated in the decompression tank is maintained at a predetermined temperature, and then the component to be treated is transferred to the vacuum pump. The gas treatment device is characterized in that it is sucked into the above-mentioned component decomposition device through its exhaust port and decomposes it, so that even if the gas to be processed is corrosive, it is a component part of the device. , For example, there is no risk of corroding the vacuum pump. Further, it is possible to prevent corrosion of the vacuum tank.
【００２４】請求項２の発明は、前記被処理成分の脱着
時には、前記吸着剤が前記吸着塔の内壁に接触しない状
態で露出可能にしたことを特徴とする請求項１に記載の
ガス処理装置であるので、脱着時は吸着剤の周囲に障害
物がないので、スムーズかつ短時間の被処理成分の脱着
が可能である。The invention according to claim 2 is characterized in that, when the components to be treated are desorbed, the adsorbent can be exposed without contacting the inner wall of the adsorption tower. Therefore, since there is no obstacle around the adsorbent during desorption, the components to be treated can be desorbed smoothly and in a short time.
【００２５】請求項３の発明は、前記吸着塔が、分割可
能に構成され、かつその少なくとも一部は前記減圧タン
ク内に収容され、被処理成分の脱着時には、吸着剤が前
記減圧タンク内で露出可能にしたことを特徴とする請求
項１に記載のガス処理装置であるので、被処理ガスが腐
食性であっても装置の構成部品、例えば真空ポンプを腐
食する恐れがない。また減圧タンクの腐食も防止するこ
とができる。さらに、脱着時は吸着剤の周囲に障害物が
ないので、スムーズかつ短時間の被処理成分の脱着が可
能である。According to a third aspect of the present invention, the adsorption tower is configured to be dividable, and at least a part of the adsorption tower is housed in the decompression tank, and when the components to be treated are desorbed, the adsorbent is kept in the decompression tank. Since it is exposed, the gas treatment device according to claim 1, so that even if the gas to be treated is corrosive, there is no risk of corroding the components of the device, such as the vacuum pump. Further, it is possible to prevent corrosion of the vacuum tank. Furthermore, since there are no obstacles around the adsorbent during desorption, the components to be treated can be desorbed smoothly and in a short time.
【００２６】請求項４の発明は、被処理ガスの実質上全
部が前記吸着剤と接触するように、前記吸着剤が吸着塔
の内部に設置されている請求項３に記載のガス処理装置
であるので、被処理ガスが腐食性であっても装置の構成
部品、例えば真空ポンプを腐食する恐れがない。また減
圧タンクの腐食も防止することができる。さらに、吸着
効率も高まる。The invention according to claim 4 is the gas treatment apparatus according to claim 3, wherein the adsorbent is installed inside the adsorption tower so that substantially all of the gas to be treated comes into contact with the adsorbent. Therefore, even if the gas to be treated is corrosive, there is no risk of corroding the components of the apparatus, such as the vacuum pump. Further, it is possible to prevent corrosion of the vacuum tank. Furthermore, the adsorption efficiency is also increased.
【００２７】請求項５の発明は、前記吸着塔を減圧タン
ク内部で分割してスライドさせることにより、前記吸着
剤の露出が行われる請求項３または４に記載のガス処理
装置であるので、被処理ガスが腐食性であっても装置の
構成部品、例えば真空ポンプを腐食する恐れがない。ま
た減圧タンクの腐食も防止することができる。さらに、
脱着時は吸着剤の周囲に障害物がないので、スムーズか
つ短時間の被処理成分の脱着が可能である。The invention according to claim 5 is the gas treatment apparatus according to claim 3 or 4, wherein the adsorbent is exposed by dividing and sliding the adsorption tower inside the decompression tank. Even if the process gas is corrosive, there is no risk of corroding the components of the device, such as the vacuum pump. Further, it is possible to prevent corrosion of the vacuum tank. further,
Since there are no obstacles around the adsorbent during desorption, the components to be treated can be desorbed smoothly and in a short time.
【００２８】請求項６の発明は、通気可能なフィルタに
より前記吸着剤が覆われ、前記フィルタが支持部材によ
って前記減圧タンクの内部に固定されている請求項５に
記載のガス処理装置であるので、被処理ガスが腐食性で
あっても装置の構成部品、例えば真空ポンプを腐食する
恐れがない。また減圧タンクの腐食も防止することがで
きる。さらに、脱着時は吸着剤の周囲に障害物がないの
で、スムーズかつ短時間の被処理成分の脱着が可能であ
る。The invention according to claim 6 is the gas treatment apparatus according to claim 5, wherein the adsorbent is covered with a filter which can be aerated, and the filter is fixed to the inside of the decompression tank by a supporting member. Even if the gas to be treated is corrosive, there is no risk of corroding the components of the apparatus, such as the vacuum pump. Further, it is possible to prevent corrosion of the vacuum tank. Furthermore, since there are no obstacles around the adsorbent during desorption, the components to be treated can be desorbed smoothly and in a short time.
【００２９】請求項７の発明は、（１）吸着剤が充填さ
れた吸着塔に被処理ガスを導入し、前記被処理ガスに含
まれる被処理成分を吸着させる工程；
（２）前記（１）の工程により処理された処理済みガス
を大気中に放出する工程；
（３）前記（１）の工程を経た後、前記吸着剤の被処理
成分の吸着能力が低下したときに、前記被処理ガスの吸
着塔への導入を停止するとともに前記吸着剤を減圧下加
熱し、前記被処理成分をガスとして脱着させる工程；
（４）前記（３）の工程により脱着された被処理成分を
温度調節された減圧タンク内に拡散させ、前記減圧タン
ク内の被処理成分を所定の温度に維持する工程；および
（５）前記（４）の工程を経た被処理成分を真空ポンプ
により吸引し、前記真空ポンプの排気口から被処理成分
分解装置に導入し、分解する工程
を有することを特徴とするガス処理方法であるので、被
処理ガスが腐食性であっても装置の構成部品、例えば真
空ポンプを腐食する恐れがない。また減圧タンクの腐食
も防止することができる。The invention of claim 7 is: (1) a step of introducing a gas to be treated into an adsorption tower filled with an adsorbent to adsorb a component to be treated contained in the gas to be treated; And (3) releasing the treated gas treated by the process of step (1) into the atmosphere, (3) after the process of (1), when the adsorption capacity of the component to be treated of the adsorbent decreases, Stopping the introduction of gas into the adsorption tower and heating the adsorbent under reduced pressure to desorb the component to be treated as a gas; (4) temperature control of the component to be treated desorbed in the step (3). A step of diffusing into the reduced pressure tank to maintain the component to be treated in the reduced pressure tank at a predetermined temperature; and (5) sucking the component to be treated after the step (4) with a vacuum pump to obtain the vacuum. From the exhaust port of the pump to the component decomposition device Introduced, because it is a gas processing method characterized by comprising the step of decomposing, there is no fear gas to be treated to corrode components of the apparatus be corrosive, for example a vacuum pump. Further, it is possible to prevent corrosion of the vacuum tank.
【図１】 本発明の一実施形態を説明するための図であ
る。FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment of the present invention.
【図２】 ゼオライトを４５０℃まで加熱した場合のゼ
オライト温度と加熱時間との関係を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a zeolite temperature and a heating time when the zeolite is heated to 450 ° C.
【図３】 図２の加熱形態における吸着塔および減圧タ
ンク内部の圧力変化と時間との関係を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a pressure change inside the adsorption tower and the decompression tank and time in the heating mode of FIG.
【図４】 図２の加熱形態における吸着塔および減圧タ
ンク内部の被処理成分の濃度変化と時間との関係を示す
図である。FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a change in concentration of a component to be treated inside the adsorption tower and the decompression tank and time in the heating mode of FIG.
【図５】 実施の形態１の減圧タンクを詳細に説明する
ための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining the decompression tank according to the first embodiment in detail.
【図６】 本発明の別の実施形態を説明するための図で
ある。FIG. 6 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention.
【図７】 本発明の別の実施形態を説明するための図で
ある。FIG. 7 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention.
【図８】 従来技術に開示されたガス処理装置を説明す
るための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining the gas treatment device disclosed in the related art.
１ 吸着塔、２，３，４，５，８ バルブ、6 減圧タ
ンク、７ 真空ポンプ、９ 分解装置、１０ 温調器、
１１ 濃度センサ、１２ 希釈ガス供給装置、１３
窓、１４，１５ 接続口、１６ 配水管、１７ 熱交換
器、１８，１１８吸着剤、１９，１１９ フィルタ、２
０，１２０ 支持リング、２１，１２１支柱、２２，１
２２ 減圧タンク、２３，１２３ ヒータ、２４，２
５，１２２，１２４，１２５ 吸着塔、２６，２７，１
２６，１２７ オーリング、２８，２９ ゲートバル
ブ、３０ 接続口、Ａ ガス入口部、Ｂ ガス出口部。1 adsorption tower, 2,3,4,5,8 valve, 6 decompression tank, 7 vacuum pump, 9 decomposition device, 10 temperature controller,
11 concentration sensor, 12 dilution gas supply device, 13
Windows, 14, 15 connection ports, 16 water pipes, 17 heat exchangers, 18,118 adsorbents, 19,119 filters, 2
0,120 Support ring 21,121 Support post, 22,1
22 decompression tank, 23,123 heater, 24,2
5,122,124,125 Adsorption tower, 26,27,1
26,127 O-ring, 28,29 Gate valve, 30 connection port, A gas inlet part, B gas outlet part.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 葛本 昌樹 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 鈴木 弘一 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 森 和人 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 4D012 CA10 CA15 CA16 CB12 CD05 CD07 CG01 CH03 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Masaki Kuzumoto 2-3 2-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Ryo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Koichi Suzuki 2-3 2-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Ryo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Kazuto Mori 2-3 2-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Ryo Electric Co., Ltd. F term (reference) 4D012 CA10 CA15 CA16 CB12 CD05 CD07 CG01 CH03
Claims (7)
する吸着剤を備えた吸着塔と、 前記吸着塔に被処理ガスを導入するガス入口部と、 前記吸着塔により処理された処理済みガスを放出する処
理済みガス出口部と、 前記吸着剤を加熱するヒータと、 前記吸着塔に接続した温度調節可能な減圧タンクと、 前記減圧タンクに接続した真空ポンプと、 前記真空ポンプの排気口に接続した被処理成分分解装置
と、 前記分解装置に接続した分解後の清浄ガスを放出する出
口部とを備え、 前記吸着剤の被処理成分の吸着能力が低下したときに前
記被処理ガスの吸着塔への導入を停止するとともに前記
ヒータおよび真空ポンプを稼動させ吸着剤を減圧下加熱
し、前記被処理成分をガスとして脱着させ、脱着された
被処理成分を前記減圧タンク内に拡散させ、前記減圧タ
ンク内の被処理成分を所定の温度に維持し、その後被処
理成分を前記真空ポンプにより吸引しその排気口から前
記被処理成分分解装置に導入し、これを分解するように
したことを特徴とするガス処理装置。1. An adsorption tower provided with an adsorbent for adsorbing a treatment target component contained in a treatment target gas, a gas inlet for introducing the treatment target gas into the adsorption tower, and a treated treatment by the adsorption tower. A treated gas outlet for releasing gas, a heater for heating the adsorbent, a temperature-adjustable decompression tank connected to the adsorption tower, a vacuum pump connected to the decompression tank, and an exhaust port of the vacuum pump. A component to be treated decomposition apparatus connected to the, and an outlet portion for releasing the clean gas after decomposition connected to the decomposition apparatus, of the gas to be treated when the adsorption capacity of the component to be treated of the adsorbent is reduced. While stopping the introduction into the adsorption tower, the heater and the vacuum pump are operated to heat the adsorbent under reduced pressure to desorb the component to be treated as a gas, and the desorbed component to be treated is diffused into the reduced pressure tank. Then, the components to be treated in the reduced pressure tank were maintained at a predetermined temperature, and then the components to be treated were sucked by the vacuum pump and introduced from the exhaust port to the component decomposer for components to be decomposed. A gas treatment device characterized by the above.
剤が前記吸着塔の内壁に接触しない状態で露出可能にし
たことを特徴とする請求項１に記載のガス処理装置。2. The gas treatment apparatus according to claim 1, wherein the desorption of the component to be treated is allowed to be exposed without contacting the inner wall of the adsorption tower with the adsorbent.
つその少なくとも一部は前記減圧タンク内に収容され、
被処理成分の脱着時には、吸着剤が前記減圧タンク内で
露出可能にしたことを特徴とする請求項１に記載のガス
処理装置。3. The adsorption tower is configured to be divisible, and at least a part of the adsorption tower is housed in the decompression tank,
The gas treatment apparatus according to claim 1, wherein the adsorbent is exposed in the decompression tank when the components to be treated are desorbed.
接触するように、前記吸着剤が吸着塔の内部に設置され
ている請求項３に記載のガス処理装置。4. The gas treatment apparatus according to claim 3, wherein the adsorbent is installed inside the adsorption tower so that substantially all of the gas to be treated comes into contact with the adsorbent.
スライドさせることにより、前記吸着剤の露出が行われ
る請求項３または４に記載のガス処理装置。5. The gas treatment device according to claim 3, wherein the adsorbent is exposed by dividing and sliding the adsorption tower inside a decompression tank.
覆われ、前記フィルタが支持部材によって前記減圧タン
クの内部に固定されている請求項５に記載のガス処理装
置。6. The gas treatment device according to claim 5, wherein the adsorbent is covered with a filter which can be aerated, and the filter is fixed inside the decompression tank by a supporting member.
理ガスを導入し、前記被処理ガスに含まれる被処理成分
を吸着させる工程； （２）前記（１）の工程により処理された処理済みガス
を大気中に放出する工程； （３）前記（１）の工程を経た後、前記吸着剤の被処理
成分の吸着能力が低下したときに、前記被処理ガスの吸
着塔への導入を停止するとともに前記吸着剤を減圧下加
熱し、前記被処理成分をガスとして脱着させる工程； （４）前記（３）の工程により脱着された被処理成分を
温度調節された減圧タンク内に拡散させ、前記減圧タン
ク内の被処理成分を所定の温度に維持する工程；および （５）前記（４）の工程を経た被処理成分を真空ポンプ
により吸引し、前記真空ポンプの排気口から被処理成分
分解装置に導入し、分解する工程 を有することを特徴とするガス処理方法。7. A step of (1) introducing a gas to be treated into an adsorption tower filled with an adsorbent to adsorb a component to be treated contained in the gas to be treated; (2) treatment by the step of (1) above. Releasing the treated gas thus processed into the atmosphere; (3) When the adsorption capability of the component to be treated of the adsorbent decreases after the process of (1), the gas to be treated is adsorbed to the adsorption tower. Of decompressing the adsorbent while heating the adsorbent under reduced pressure to desorb the component to be treated as a gas; (4) The temperature-controlled decompression tank of the component to be treated desorbed in the step (3). To maintain the component to be treated in the decompression tank at a predetermined temperature; and (5) the component to be treated after the step (4) is sucked by a vacuum pump, and the exhaust port of the vacuum pump. Introduce it into the component decomposer and decompose it A gas treatment method comprising steps.
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| JP2017073988A (en) * | 2015-10-13 | 2017-04-20 | 東京瓦斯株式会社 | Plant growth promoting apparatus and plant cultivation method |
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