JP2003287745A - 半透過型液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 色の再現性をよくし、より一層表示品位を向
上させた半透過型の液晶表示装置およびその製造方法を
提供することを目的とする。 【解決手段】 透過領域２６と反射領域２７を有する半
透過型液晶パネル１のカラーフィルタ基板３０に形成さ
れた層厚の異なるカラーフィルタ層３３の第１層部３４
と第２層部３５の間に、第１層部３４から第２層部３５
へ向かって傾斜する第３層部３６を設ける。これによっ
て、第１層部３４と第２層部３５との間で透明電極３７
の段切れが生じ難くなり、また配向膜３８が溜まり難く
なる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は半透過型の液晶表示
装置およびその製造方法に関し、さらに詳しくは透過領
域と反射領域とでカラーフィルタ層の厚さを変えた半透
過型液晶表示装置およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報通信機器等への液晶表示装置
の応用が急速に普及している。特に携帯型のものについ
ては反射型の液晶表示装置が多く用いられている。この
反射型の液晶表示装置は外光を光源として表示を行うた
め、室内などの暗い場所では見えにくくなってしまう。
そこで透過型と反射型の性質を併せ持った半透過型の液
晶表示装置が知られている。

【０００３】この半透過型液晶表示装置はバックライト
を備えており、画素には透過領域と反射領域が形成され
ている。そして透過領域ではバックライトの光を利用
し、反射領域では外光を利用して表示を行っている。し
かしながら外光を利用する反射領域では、カラーフィル
タ基板のカラーフィルタ層を通過してきた外光がアレイ
基板の反射電極で反射して再度カラーフィルタ層を通過
する。つまりカラーフィルタ層を２回通過することにな
る。これに対してバックライトの光を利用する透過領域
では、アレイ基板の透明電極を通過した光がカラーフィ
ルタ層を通過する。つまりカラーフィルタ層を１回だけ
しか通過しない。したがって透過領域の光は反射領域の
光に比べてどうしても淡い色になってしまい、色の再現
性が悪くなっていた。

【０００４】そこで透過領域と反射領域とで色の再現性
を略同じにする必要があり、このような技術としては特
開２０００-２９８２７１等が知られている。これはカ
ラーフィルタ層の厚さを透過領域と反射領域とで変えて
おり、具体的には透過領域のカラーフィルタ層の厚さ
を、反射領域のカラーフィルタ層の厚さの約２倍にし
て、透過領域と反射領域とで色の再現性を略同じにしよ
うとするものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、カラー
フィルタ層の厚さを透過領域と反射領域とで変えただけ
では、カラーフィルタ層の透過領域と反射領域との境に
段差が生じてしまう。そのためカラーフィルタ層の上に
配向膜を形成する際に、この段差部分に配向膜材料が溜
まってしまい、この配向膜材料が溜まった部分では液晶
分子に印加される電圧が高くなってしまう。したがって
この部分と他の部分とで色の再現性が異なってしまう。
さらにはカラーフィルタ層の上面全体には透明電極を形
成し、その上に配向膜を形成するが、カラーフィルタ層
の透過領域と反射領域との境に生じてしまう段差部分に
おいて、透明電極に切れが発生してしまう。

【０００６】とくに、特開２０００-２９８２７１にお
いては、透過領域と反射領域とのカラーフィルタ層の層
厚の差をドライエッチングにより設けている。したがっ
て透過領域と反射領域との境は略垂直な壁のような段差
になってしまうため、上記問題の発生する可能性が非常
に高くなる。

【０００７】そこで本発明は上記問題に鑑みてなされた
ものであり、色の再現性をよくし、より一層表示品位を
向上させた半透過型の液晶表示装置およびその製造方法
を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、アレイ基板と
カラーフィルタ基板を備えた液晶パネルの１つの画素が
透過領域と反射領域からなる半透過型液晶表示装置であ
って、前記カラーフィルタ基板は、前記透過領域に位置
し表面が平坦な第１層部と、前記反射領域に位置し表面
が平坦であると共に第１層部よりも薄い第２層部と、前
記第１層部と前記第２層部との間に位置し表面が傾斜し
ている第３層部と、を備えるカラーフィルタ層を有して
いることを特徴とするものである。

【０００９】また本発明は、前記第３層部は前記第１層
部の周りを囲んでおり、前記第２層部は前記第３層部の
周りを囲んでいることを特徴とする半透過型液晶表示装
置である。

【００１０】また本発明は、１つの画素で前記透過領域
の占める割合はだいたい１０〜２０％であることを特徴
とする半透過型液晶表示装置である。

【００１１】また本発明は、前記第３層部は反射領域に
位置していることを特徴とする半透過型液晶表示装置で
ある。

【００１２】また本発明は、前記第３層部の表面の傾斜
角度はだいたい３０度〜６０度であることを特徴とする
半透過型液晶表示装置である。

【００１３】また本発明は、前記第１層部の層厚は前記
第２層部の層厚の略２倍であることを特徴とする半透過
型液晶表示装置である。

【００１４】また本発明は、アレイ基板とカラーフィル
タ基板を備えた液晶パネルの１つの画素が透過領域と反
射領域からなる半透過型液晶表示装置の製造方法であっ
て、前記カラーフィルタ基板の製造工程には、透明な基
板上のブラックマトリクスにより形成されている開口部
を覆うようにカラーレジストを塗布する工程と、前記カ
ラーレジストに、前記透過領域に位置し表面が平坦な第
１層部と、前記反射領域に位置し表面が平坦であると共
に第１層部よりも薄い第２層部と、前記第１層部と前記
第２層部との間に位置し表面が傾斜している第３層部と
に対応する形状を一度の露光で形成する露光工程と、前
記第１層部と前記第２層部と前記第３層部とを残してカ
ラーレジストを取り除く現像工程と、が含まれているこ
とを特徴とする。

【００１５】また本発明は、前記露光工程において、露
光に用いるフォトマスクにより露光光の光量の調整を行
って前記第１層部と前記第２層部と前記第３層部とに対
応する形状を形成していることを特徴とする半透過型液
晶表示装置の製造方法である。

【００１６】また本発明は、前記フォトマスクに露光光
を通過させる部分と遮断する部分を設けてカラーフィル
タ層を形成していることを特徴とする半透過型液晶表示
装置の製造方法である。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１は半透過型液晶パネル１のア
レイ基板１０側の平面図であり、図２は半透過型液晶パ
ネル１の断面図を示す。１１はガラスなどの透明な絶縁
性を有している第１基板である。第１基板１１上にはア
ルミニウムやクロムなどの金属からなる厚さ約２５００
Åの複数の走査線１２が略等間隔で平行に形成されてい
る。走査線１２からはゲート電極１３が分かれて伸びて
いる。また走査線１２やゲート電極１３を覆うようにし
て窒化シリコンや酸化シリコンなどから成るゲート絶縁
膜１４が約４０００Åの厚さで積層されている。ゲート
電極１３の上にはゲート絶縁膜１４を介して非晶質シリ
コンや多結晶シリコンなどからなる半導体層１５が形成
されている。またゲート絶縁膜１４上にはアルミニウム
などの金属からなる厚さ約２５００Åの複数の映像線１
６が走査線１２と直交するようにして形成されている。
走査線１２と映像線１６で囲まれた領域が１画素に相当
する。映像線１６からはソース電極１７が分かれて伸び
ており半導体層１５と接続している。また映像線１６、
ソース電極１７と同一の材料で且つ同時形成されたドレ
イン電極１８が設けられており半導体層１５と接続して
いる。このゲート電極１３、ゲート絶縁膜１４、半導体
層１５、ソース電極１７、ドレイン電極１８によってス
イッチング素子となるＴＦＴ１９が構成され、それぞれ
の画素にこのＴＦＴ１９が形成される。

【００１８】また、映像線１６、ＴＦＴ１９、を覆うよ
うにして有機絶縁物から成る膜厚１．５μｍ程度の保護
膜２０が積層されている。保護膜２０にはそれぞれのＴ
ＦＴ１９のドレイン電極１８に対応する部分にコンタク
トホール２１が設けられている。さらに保護膜２０には
長方形状の溝部２２が設けられている。また保護膜２０
の表面には複数の凹凸が設けられている。

【００１９】保護膜２０の表面にはそれぞれの画素に画
素電極２３が形成されている。この画素電極２３は、Ｉ
ＴＯなどの透明電極２４を一画素の全体に積層して形成
すると共に、透明電極２４の上にアルミニウム、銀など
の反射率の高い金属からなる反射電極２５を、溝部２２
を除いて一画素の全体に積層して形成している。また画
素電極２３は隣接する画素電極２３と接しないで、且つ
保護膜２０を介して走査線２２と映像線１６と若干重な
るようにして形成されている。

【００２０】画素電極２３のうち透明電極２４が表面に
露出した範囲が透過領域２６であり、この透過領域２６
においてバックライトからの光が通過する。本実施例に
おいては、透過領域２６は長方形状をした領域であり、
一画素の略中央に位置している。また反射電極２５が表
面に露出した範囲が反射領域２７であり、この反射領域
２７において外光が反射される。保護膜２０表面に設け
られた凹凸によって反射領域２７の表面にも凹凸が形成
されることになり、この凹凸により外光の反射特性が向
上する。１つの画素において透過領域２６の占める割合
は大体１０〜２０％となっている。これはあまり透過領
域２６の占める割合が多くなってしまうと反射領域２７
を設けて光源に外光を利用する意味がなくなってしまう
からであり、少なすぎると光源としての外光の不足をバ
ックライトの光で補うのには不十分となるからである。
なお本実施例では透明電極２４を一画素全体に形成して
いるが、溝部２２にだけ透明電極３４を形成し、他の部
分については反射電極２５だけを形成してもよい。そし
て、総ての画素を覆うようにアレイ基板１０側の配向膜
２８を形成して半透過型液晶パネル１のアレイ基板１０
となる。

【００２１】このアレイ基板１０と対向するカラーフィ
ルタ基板３０とを貼り合せ、両基板間に液晶２９を注入
して半透過型液晶パネル１となる。

【００２２】カラーフィルタ基板３０は、透明な絶縁性
を有している第２基板３１上に各画素の間を仕切るよう
に形成されたブラックマトリクス３２を有している。こ
のブラックマトリクス３２は隣接する画素間からの光漏
れを防止する等の理由で設けられており、遮光性に優れ
た材料、たとえば金属クロム等により形成されている。

【００２３】このブラックマトリクス３２により形成さ
れた開口を埋めるようにして各画素にはカラーフィルタ
層３３が形成されている。カラーフィルタ層３３はＲ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色あり、ＲＧＢ３色は
モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列等に配列さ
れている。各カラーフィルタ層３３それぞれには、透過
領域２６にだけ位置し表面が平坦な第１層部３４と、透
過領域２６には位置せず反射領域２７に位置し表面が平
坦な第２層部３５、そして第１層部３４と第２層部３５
の間に位置する第３層部３６とで構成されている。ま
た、第３層部３６は第１層部３４の周りを取り囲んでお
り、第２層部３５はさらにその第３層部３６の周りを取
り囲んで形成されている。

【００２４】カラーフィルタ層３３の表面上には、ＩＴ
Ｏ等の透明電極３７が全面を覆うようにして積層されて
いる。本実施例においてはカラーフィルタ層３３の上に
アクリル樹脂等の透明樹脂材料からなる保護膜を介さな
いで透明電極３７を積層しているので、保護膜を積層す
る工程を省略できると共にコストの削減が図れる。透明
電極３７上には、カラーフィルタ基板３０側の配向膜３
８が全面を覆うようにして積層されている。この配向膜
３８はポリイミド等の配向膜材料からなっており、まず
この配向膜材料を滴下し、スピンナーで拡散させて、硬
化処理を行った後、ラビングによる配向処理が施されて
いる。

【００２５】第1層部３４はカラーフィルタ層３３の厚
さが第２層部３５の厚さよりも厚くなっている。これは
バックライトからの光を利用する透過領域２６と外光を
利用する反射領域２７とでカラーフィルタ層３３を通過
した光の色の再現性を略同じにするためである。本実施
例では第1層部３４の層厚が第２層部３５の層厚の約２
倍となっている。

【００２６】第３層部３６は第１層部３４から第２層部
３５にかけてその表面が傾斜している。傾斜の角度は配
向膜３８の材料が溜まり過ぎない程度に傾斜していれば
よく、好ましくはだいたい３０度〜６０度の傾斜角を有
していると良い。こうすることで、層厚の異なる第１層
部３４と第２層部３５との間に配向膜３８材料が溜ま
り、その部分で液晶分子に印加される電圧が高くなって
しまうという問題を防止することができる。また第１層
部３４と第２層部３５との間で表面上の透明電極３７が
切れたり、配向膜３８の材料が溜まりすぎたりする恐れ
は少なくなる。なお第３層部３６は本実施例においては
反射領域２７に位置している。透過領域２６に比べて広
い反射領域２７に第３層部３６を設けることで、透過領
域２６におけるバックライトからの光をより有効に利用
できる。

【００２７】このように半透過型液晶パネル１とこの半
透過型液晶パネル１の下方に配置するバックライト（図
示せず）とを備えることにより、本発明の半透過型液晶
表示装置となる。

【００２８】図３はカラーフィルタ基板３０を製造する
際に、カラーフィルタ層３３を形成するときに用いるフ
ォトマスクの概略平面図を示す。フォトマスク４０はた
とえばガラス基板にクロムでパターンを描いたもの等で
ある。フォトマスク４０はカラーフィルタ層３３の第１
層部３４と第２層部３５と第３層部３６を形成するため
のパターン部にそれぞれ分かれている。このフォトマス
ク４０はフォトマスク４０を通過した露光光の光量を、
露光する領域によって調整可能となっている。フォトマ
スク４０は光を通過させるための窓の大きさ、またその
窓のピッチ等が適切に調整されたものである。これによ
りレジストに照射される光の露光量を適切に調整するこ
とが可能となり、レジストの厚さを任意に調整できる。

【００２９】本実施例においてはポジレジスト用のフォ
トマスク４０を示している。第１層部３４を形成するた
めに露光する光を遮断しているパターン部３４ｐが透過
領域３４の大きさと略同じ形状で描かれている。またパ
ターン部３４ｐの周りを囲んで第３層部３６のパターン
部３６ｐが描かれている。そして第３層部３６のパター
ン部３６ｐの周りを囲んで第２領域３５のパターン部３
５ｐが描かれている。第３層部３６のパターン部３６ｐ
はパターン部３４ｐから離れるにしたがって露光量が増
えていくようなパターンが描かれている。つまり第１層
部３４から離れるにしたがってカラーフィルタ層３３が
徐々に薄くなっていくようなパターンとなっている。ま
た第２層部３５のパターン部３５ｐは露光量が第２層部
３５全域で略一定になるようなパターンが描かれてい
る。つまり第２層部３５全域において、カラーフィルタ
層３３が略一定の厚さになるようなパターンとなってい
る。

【００３０】具体的には、図３の斜線部分は光を遮断す
る遮断部分であり、第１層部３４のパターン部３４ｐ以
外では光を通過させる通過部分と遮断部分とが交互に配
置されている。通過部分と遮断部分とは第１層部３４の
パターン部３４ｐを囲んでいくような枠状をしている。
また第１層部３４のパターン部３４ｐから離れるにした
がって、第３層部３６のパターン部３６ｐでは通過部分
が遮断部分を挟みながらその枠の大きさを徐々に広げて
いる。これによりレジストに照射される単位面積あたり
の露光量が徐々に増えていく。第２層部３５のパターン
部３５ｐでは通過部分と遮断部分との関係が一定のまま
となっている。これによりレジストに照射される単位面
積あたりの露光量は第２層部３５全体で見た場合略全域
で同じになる。このようなフォトマスク４０を用いてレ
ジストを露光することによって、レジストの厚さを任意
に調整可能となる。

【００３１】なお、フォトマスク４０のパターンは当然
上記の実施例に限定されるものではなく、カラーフィル
タ層３３に第１層部３４と第２層部３５と第３層部３６
を形成できるパターンであればいかなるパターンが描か
れていてもよい。たとえば第１層部３４のパターン部３
４ｐを囲んで大小複数の円形や四角形等からなる遮光部
分または通過部分の組合せにより第２層部３５のパター
ン部３５ｐ、第３層部３６のパターン部３６ｐを描いた
ものでも良い。

【００３２】また、本実施例においてはポジレジスト用
のフォトマスク４０を用いているが、ネガレジスト用の
フォトマスクの場合にはフォトマスク４０の通過部分と
遮断部分との関係が逆になる。

【００３３】図４はカラーフィルタ層３３を形成するた
めの製造工程を示す。図４（ａ）では、第２基板３１上
に各画素間を仕切るような形状にブラックマトリクス３
２を形成しておく。そして第２基板３１上のブラックマ
トリクス３２により形成されている開口部分を覆うよう
にＲ（赤）のカラーレジスト３３Ｒを塗布する。このカ
ラーレジスト３３Ｒは赤の顔料を光可溶化するポジレジ
ストに分散したものである。したがって露光により光が
照射された部分が溶ける。

【００３４】図４（ｂ）では、フォトマスク４０を用い
てカラーフィルタ層３３の内、Ｒ（赤）に該当する部分
のみを露光する。そしてＲ（赤）に該当する部分ではフ
ォトマスク４０によって、破線で示すような形状にカラ
ーレジスト３３Ｒが露光されることになる。つまりカラ
ーレジスト３３Ｒが第１層部３４、第２層部３５、第３
層部３６を有するように露光される。

【００３５】図４（ｃ）では、現像液を用いて現像を行
う。この現像によって露光部が溶解する。つまり、透過
領域２６に形成され、バックライトからの光が透過する
カラーフィルタ層３３の第１層部３４が現れる。また反
射領域２７に形成され、外光が通過する第２層部３５が
現れる。第２層部３５はカラーフィルタ層３３の層厚が
第１層部３４の厚さに比べ略２倍になっており、具体的
には第１層部３４の層厚がだいたい１．０μｍ、第２層
部３５の層厚がだいたい０．５μｍとなっている。この
第１層部３４と第２層部３５の表面は平坦となってい
る。なお平坦とはカラーフィルタ層３３全体で見た場合
に、層の厚さが第１層部３４と第２層部３５それぞれの
全面で略同じ厚さになっていることであり、露光や現像
によって表面上に微細な凹凸が多少存在していても、こ
こでいう表面が平坦に含まれることは当然である。また
第１層部３４と第２層部３５の間には、第１層部３４か
ら離れるにしたがってカラーフィルタ層３３の厚さが徐
々に薄くなるように表面が傾斜している第３層部３６が
現れる。

【００３６】図４（ｄ）では、（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）、の工程をＧ（緑）のカラーレジスト３３Ｇ、Ｂ
（青）のカラーレジスト３３Ｂについても行う。そして
第２基板３１上にカラーフィルタ層３３が形成される。

【００３７】そして、カラーフィルタ層３３の上に直接
ＩＴＯ等の透明電極３７を積層し、透明電極３７上に配
向膜３８が積層されてカラーフィルタ基板３０が完成す
る。このとき本発明ではカラーフィルタ層３３に第３層
部３６が形成されているため、カラーフィルタ層３３の
上に透明電極３７を積層してもカラーフィルタ基板３０
側で段切れの発生する可能性は極めて低くなる。また第
１層部３４から第２層部３５にかけて第３層部３６が存
在するために配向膜３８の材料が溜まってしまうことも
少なくなる。また透過領域２６に位置する第１層部３４
と反射領域２７に位置する第２層部３５とカラーフィル
タ層３３の厚さが異なっているため、透過領域２６と反
射領域２７とで色の特性が略同じとなり、色の再現性も
向上する。またフォトマスク４０を用いて、層厚の異な
るカラーフィルタ層３３を１度に形成してしまうため、
たとえば第１層部３４の厚さでカラーフィルタ層３３を
形成した後第２層部３５、第３層部３６をエッチング等
により設けたりする必要がないため、製造工程を削減で
きる。

【００３８】なお、本実施例ではカラーレジストとして
ポジレジストを用いているが、光硬化するネガレジスト
を用いても構わない。その際フォトマスクとしては、フ
ォトマスク４０の光を通過させる部分と光を遮断する部
分との関係が逆になるものを用いる。

【００３９】また、本発明の要旨はカラーフィルタ層３
３の第１層部３４と第２層部３５の間に第３層部３６を
設けることにより、第１層部３４と第２層部３５との間
で透明電極３７の段切れを防止し、また配向膜３８が溜
まってしまうのを防止するものであり、本発明の要旨を
逸脱しない範囲であれば上記実施形態以外の形態も可能
である。たとえば第３層部３６を設けない場合の第１層
部３４と第２層部３５の間にできる段差に比べると非常
に小さい段差であれば、第３層部３６の表面はそのよう
な小さな段差をつないだ階段状の傾斜でも良い。また第
３層部３６の表面がテーパー状であっても良い。

【００４０】

【発明の効果】本発明によれば、カラーフィルタ層の層
厚の異なる第１層部と第２層部との間に大きな段差が生
じないため、第１層部と第２層部との間で透明電極に切
れが生じ難くなり、また配向膜材料が溜まり難くなる。
したがって透過領域と反射領域とで色の再現性をよく
し、より一層表示品位を向上させた半透過型液晶表示装
置およびその製造方法を提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の半透過型液晶表示装置を構成する半透
過型液晶パネルのアレイ基板側平面図である。

【図２】本発明の半透過型液晶表示装置を構成する半透
過型液晶パネルの断面図である。

【図３】カラーフィルタ基板のカラーフィルタ層を形成
するときに用いるフォトマスクの概略平面図である。

【図４】カラーフィルタ基板のカラーフィルタ層を形成
するための製造工程である。

【符号の説明】

１ 半透過型液晶パネル １０ アレイ基板 ２４ 透明電極 ２５ 反射電極 ２６ 透過領域 ２７ 反射領域 ３０ カラーフィルタ基板 ３３ カラーフィルタ層 ３４ 第１層部 ３５ 第２層部 ３６ 第３層部 ３７ 透明電極 ３８ 配向膜 ４０ フォトマスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 BA45 BA48 BB02 BB07 BB08 BB28 BB42 2H091 FA02Y FA14Y FA35Y FA41X FA41Y FA41Z FC01 FC10 FC23 FC26 GA01 GA02 GA03 GA06 GA07 GA13 GA16 LA30

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アレイ基板とカラーフィルタ基板を備え
   た液晶パネルの１つの画素が透過領域と反射領域からな
   る半透過型液晶表示装置であって、 前記カラーフィルタ基板は、前記透過領域に位置し表面
   が平坦な第１層部と、前記反射領域に位置し表面が平坦
   であると共に第１層部よりも薄い第２層部と、前記第１
   層部と前記第２層部との間に位置し表面が傾斜している
   第３層部と、を備えるカラーフィルタ層を有しているこ
   とを特徴とする半透過型液晶表示装置。
2. 【請求項２】 前記第３層部は前記第１層部の周りを囲
   んでおり、前記第２層部は前記第３層部の周りを囲んで
   いることを特徴とする請求項１記載の半透過型液晶表示
   装置。
3. 【請求項３】 １つの画素で前記透過領域の占める割合
   はだいたい１０〜２０％であることを特徴とする請求項
   １または２記載の半透過型液晶表示装置。
4. 【請求項４】 前記第３層部は反射領域に位置している
   ことを特徴とする請求項１から３の何れか一項記載の半
   透過型液晶表示装置。
5. 【請求項５】 前記第３層部の表面の傾斜角度はだいた
   い３０度〜６０度であることを特徴とする請求項１から
   ４の何れか一項記載の半透過型液晶表示装置。
6. 【請求項６】 前記第１層部の層厚は前記第２層部の層
   厚の略２倍であることを特徴とする請求項１から５の何
   れか一項記載の半透過型液晶表示装置。
7. 【請求項７】 アレイ基板とカラーフィルタ基板を備え
   た液晶パネルの１つの画素が透過領域と反射領域からな
   る半透過型液晶表示装置の製造方法であって、 前記カラーフィルタ基板の製造工程には、透明な基板上
   のブラックマトリクスにより形成されている開口部を覆
   うようにカラーレジストを塗布する工程と、 前記カラーレジストに、前記透過領域に位置し表面が平
   坦な第１層部と、前記反射領域に位置し表面が平坦であ
   ると共に第１層部よりも薄い第２層部と、前記第１層部
   と前記第２層部との間に位置し表面が傾斜している第３
   層部とに対応する形状を一度の露光で形成する露光工程
   と、 前記第１層部と前記第２層部と前記第３層部とを残して
   カラーレジストを取り除く現像工程と、が含まれている
   ことを特徴とする半透過型液晶表示装置の製造方法。
8. 【請求項８】 前記露光工程において、露光に用いるフ
   ォトマスクにより露光光の光量の調整を行って前記第１
   層部と前記第２層部と前記第３層部とに対応する形状を
   形成していることを特徴とする請求項７記載の半透過型
   液晶表示装置の製造方法。
9. 【請求項９】 前記フォトマスクに露光光を通過させる
   部分と遮断する部分を設けてカラーフィルタ層を形成し
   ていることを特徴とする請求項８記載の半透過型液晶表
   示装置の製造方法。