JP2003286524A - （Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法 - Google Patents
（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法Info
- Publication number
- JP2003286524A JP2003286524A JP2002089467A JP2002089467A JP2003286524A JP 2003286524 A JP2003286524 A JP 2003286524A JP 2002089467 A JP2002089467 A JP 2002089467A JP 2002089467 A JP2002089467 A JP 2002089467A JP 2003286524 A JP2003286524 A JP 2003286524A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- alloy material
- base material
- substrate
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水素の分離精製膜として、任意の形状に、し
かも大流量の水素を対象とすることができるように大面
積のものとすることが可能な、Ｖ基合金材の新しい製造
方法を提供する。 【解決手段】 Ｎｉ基材中にＶまたはＶとＡｌを拡散浸
透させて合金相を形成するか、あるいはＶ基材中にＮｉ
およびＡｌの１種以上を拡散浸透させて合金相を形成す
る。
かも大流量の水素を対象とすることができるように大面
積のものとすることが可能な、Ｖ基合金材の新しい製造
方法を提供する。 【解決手段】 Ｎｉ基材中にＶまたはＶとＡｌを拡散浸
透させて合金相を形成するか、あるいはＶ基材中にＮｉ
およびＡｌの１種以上を拡散浸透させて合金相を形成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この出願の発明は（Ｎｉ，Ａ
ｌ）−Ｖ合金材の製造方法に関するものである。さらに
詳しくは、この出願の発明は、水素分離精製用部材とし
て有用な、（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材を任意の形状のも
のとして製造可能とし、大流量の水素の分離精製をも可
能とすることのできる、（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の新
しい製造方法に関するものである。
ｌ）−Ｖ合金材の製造方法に関するものである。さらに
詳しくは、この出願の発明は、水素分離精製用部材とし
て有用な、（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材を任意の形状のも
のとして製造可能とし、大流量の水素の分離精製をも可
能とすることのできる、（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の新
しい製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術と発明の課題】Ｎｉ、あるいはＡｌを含有
するＶ基合金は高い水素透過能を有し、現在、水素透過
膜として実用化レベルにあるＰｄ合金と比較して安価で
あるという特徴をもっている。このような特徴のあるＶ
基合金について、水素の分離精製膜としての実用化に向
けて、この出願の発明者らによってこれまでにも詳細な
検討が進められてきている（たとえば、Materials Tran
sactions, JIM, Vol.32，No.５(1991），pp.501−507；
Journal of Alloys and Compounds 330-332(2002)902−
906）。
するＶ基合金は高い水素透過能を有し、現在、水素透過
膜として実用化レベルにあるＰｄ合金と比較して安価で
あるという特徴をもっている。このような特徴のあるＶ
基合金について、水素の分離精製膜としての実用化に向
けて、この出願の発明者らによってこれまでにも詳細な
検討が進められてきている（たとえば、Materials Tran
sactions, JIM, Vol.32，No.５(1991），pp.501−507；
Journal of Alloys and Compounds 330-332(2002)902−
906）。
【０００３】しかしながら、これらの合金は酸化されや
すく、酸化物の融点が低いことから熱間圧延が難しく、
インゴットを直接冷間圧延することもわれが生じやすい
ことから実際的に困難であるという問題があった。
すく、酸化物の融点が低いことから熱間圧延が難しく、
インゴットを直接冷間圧延することもわれが生じやすい
ことから実際的に困難であるという問題があった。
【０００４】このため、従来では、薄板状のものを得る
にはインゴットを切断した後に研磨によって薄くすると
いう汎用性の低い方法による外になく、任意の形状に、
しかも大面積のものにすることができないという問題が
あった。
にはインゴットを切断した後に研磨によって薄くすると
いう汎用性の低い方法による外になく、任意の形状に、
しかも大面積のものにすることができないという問題が
あった。
【０００５】そこで、この出願の発明は、以上のとおり
の従来の問題点を解消し、水素の分離精製膜として、任
意の形状に、しかも大流量の水素を対象とすることがで
きるように大面積のものとすることが可能な、Ｖ基合金
材の新しい製造方法を提供することを課題としている。
の従来の問題点を解消し、水素の分離精製膜として、任
意の形状に、しかも大流量の水素を対象とすることがで
きるように大面積のものとすることが可能な、Ｖ基合金
材の新しい製造方法を提供することを課題としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この出願の発明は、上記
の課題を解決するものとして、第１には、Ｎｉ基材中に
ＶまたはＶとＡｌを拡散浸透させて合金相を形成するこ
とを特徴とする（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法を
提供し、第２には、Ｖ基材中にＮｉおよびＡｌの１種以
上を拡散浸透させて合金相を形成することを特徴とする
（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法を提供する。
の課題を解決するものとして、第１には、Ｎｉ基材中に
ＶまたはＶとＡｌを拡散浸透させて合金相を形成するこ
とを特徴とする（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法を
提供し、第２には、Ｖ基材中にＮｉおよびＡｌの１種以
上を拡散浸透させて合金相を形成することを特徴とする
（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法を提供する。
【０００７】また、この出願の発明は、上記方法につい
て、第３には、ガス状の金属ハロゲン化物を基材と接触
させて拡散浸透させることを特徴とする（Ｎｉ，Ａｌ）
−Ｖ合金材の製造方法を、第４には、ガス状の金属ハロ
ゲン化物の生成とその温度勾配上での化学輸送、並びに
基材との接触のプロセスを含むことを特徴とする（Ｎ
ｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法を、第５には、基材は
薄板またはパイプ状体であることを特徴とする（Ｎｉ，
Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法を提供する。
て、第３には、ガス状の金属ハロゲン化物を基材と接触
させて拡散浸透させることを特徴とする（Ｎｉ，Ａｌ）
−Ｖ合金材の製造方法を、第４には、ガス状の金属ハロ
ゲン化物の生成とその温度勾配上での化学輸送、並びに
基材との接触のプロセスを含むことを特徴とする（Ｎ
ｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法を、第５には、基材は
薄板またはパイプ状体であることを特徴とする（Ｎｉ，
Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法を提供する。
【０００８】以上のとおりのこの出願の発明において
は、気相拡散浸透法を利用して合金材を製造するため、
加工の難しい合金材に比べて加工が容易なＮｉあるいは
Ｖの純金属を冷間圧延等によって予め所定の形状に加工
しておいたものを合金化することができる。このため、
複雑な形状のものをはじめとして任意の形状のものの、
さらには大面積のものの製造が容易とされる。
は、気相拡散浸透法を利用して合金材を製造するため、
加工の難しい合金材に比べて加工が容易なＮｉあるいは
Ｖの純金属を冷間圧延等によって予め所定の形状に加工
しておいたものを合金化することができる。このため、
複雑な形状のものをはじめとして任意の形状のものの、
さらには大面積のものの製造が容易とされる。
【０００９】そして拡散浸透法であることから、温度や
圧力、気体濃度等の条件の選択、変更によって合金の組
成を精密に制御することが可能であり、さらには傾斜組
成のものを得ることも可能である。
圧力、気体濃度等の条件の選択、変更によって合金の組
成を精密に制御することが可能であり、さらには傾斜組
成のものを得ることも可能である。
【００１０】
【発明の実施の形態】この出願の発明は上記のとおりの
特徴をもつものであるが、以下にその実施の形態につい
て説明する。
特徴をもつものであるが、以下にその実施の形態につい
て説明する。
【００１１】この出願の発明においては、水素の分離精
製用の膜体をその主な用途とするＶ基合金材を製造す
る。その組成としては、Ｎｉ−Ｖ合金、Ｎｉ−Ａｌ−Ｖ
合金、そしてＡｌ−Ｖ合金のいずれかのものとなる。
製用の膜体をその主な用途とするＶ基合金材を製造す
る。その組成としては、Ｎｉ−Ｖ合金、Ｎｉ−Ａｌ−Ｖ
合金、そしてＡｌ−Ｖ合金のいずれかのものとなる。
【００１２】これらの合金材を製造するための手段とし
て、気体（ガス）と基材との接触による拡散浸透法が採
用される。基材としては、ＮｉもしくはＶの純金属が使
用され、これらの基体は、あらかじめ所定の形状、たと
えば薄板、円筒体、さらには他の複雑形状のものに成形
加工されていてよい。
て、気体（ガス）と基材との接触による拡散浸透法が採
用される。基材としては、ＮｉもしくはＶの純金属が使
用され、これらの基体は、あらかじめ所定の形状、たと
えば薄板、円筒体、さらには他の複雑形状のものに成形
加工されていてよい。
【００１３】拡散浸透のためにこれらの基材に接触され
る気体（ガス）は、Ｎｉ基材の場合には、ＶまたはＶと
Ａｌとの化合物であり、Ｖ基材の場合には、Ｎｉ、Ａｌ
の化合物の１種以上である。これらの化合物は、所定の
温度レベルにおいてガス状で存在し得るものであれば各
種のものであってよく、たとえば塩化物、沃化物等のハ
ロゲン化物や、カルボニル化合物等が考慮される。これ
らのガス状の金属化合物の使用に際しては、その生成
と、温度勾配上での化学輸送、並びに基材との接触を連
続的プロセスとして行うことも考慮される。
る気体（ガス）は、Ｎｉ基材の場合には、ＶまたはＶと
Ａｌとの化合物であり、Ｖ基材の場合には、Ｎｉ、Ａｌ
の化合物の１種以上である。これらの化合物は、所定の
温度レベルにおいてガス状で存在し得るものであれば各
種のものであってよく、たとえば塩化物、沃化物等のハ
ロゲン化物や、カルボニル化合物等が考慮される。これ
らのガス状の金属化合物の使用に際しては、その生成
と、温度勾配上での化学輸送、並びに基材との接触を連
続的プロセスとして行うことも考慮される。
【００１４】実際、この出願の発明者は、金属Ｖ、Ｎ
ｉ、Ａｌを塩化水素、ヨウ素などの存在下で加熱するこ
とにより形成した気体の塩化物またはヨウ化物が温度勾
配に沿って輸送された後分解し、もとの金属として析出
する化学輸送反応に着目し、温度傾斜炉上の１ヶ所に金
属Ｖ、Ｎｉ、Ａｌと塩化水素の発生源を設置し、これよ
り離れたところにＶまたはＮｉ基材を設置し、それぞれ
を異なる温度に加熱することにより、金属と塩化水素と
の反応により生成した塩化物が温度勾配上を化学輸送さ
れ、基材上で分解し拡散浸透することで、合金層が形成
されることを知見している。形成された合金の組成は輸
送原料と基材との温度差によって異なっており、反応条
件を変えてやることにより、合金組成を精密に制御する
ことが可能であることが確認されている。さらに傾斜組
成のものを得ることも可能である。加工がきわめて容易
な純Ｖ、Ｎｉを冷間圧延等によって予め任意の形状とし
た後に上記の処理を施すことにより、従来法では製造す
るのが困難であった複雑な形状のＶ基合金膜を製造する
ことが可能となる。
ｉ、Ａｌを塩化水素、ヨウ素などの存在下で加熱するこ
とにより形成した気体の塩化物またはヨウ化物が温度勾
配に沿って輸送された後分解し、もとの金属として析出
する化学輸送反応に着目し、温度傾斜炉上の１ヶ所に金
属Ｖ、Ｎｉ、Ａｌと塩化水素の発生源を設置し、これよ
り離れたところにＶまたはＮｉ基材を設置し、それぞれ
を異なる温度に加熱することにより、金属と塩化水素と
の反応により生成した塩化物が温度勾配上を化学輸送さ
れ、基材上で分解し拡散浸透することで、合金層が形成
されることを知見している。形成された合金の組成は輸
送原料と基材との温度差によって異なっており、反応条
件を変えてやることにより、合金組成を精密に制御する
ことが可能であることが確認されている。さらに傾斜組
成のものを得ることも可能である。加工がきわめて容易
な純Ｖ、Ｎｉを冷間圧延等によって予め任意の形状とし
た後に上記の処理を施すことにより、従来法では製造す
るのが困難であった複雑な形状のＶ基合金膜を製造する
ことが可能となる。
【００１５】水素分離合金の原料となりうる金属は金属
単独での蒸気圧が非常に低いものばかりであり、気相中
を経由して析出させるには蒸着、スパッタリングなどの
物理的な方法か化学輸送反応のいずれかを用いる必要が
ある。しかしながら、前者の方法は装置がきわめて高価
であり、水素分離合金膜の大量生産に向かない上に、パ
イプ状などの複雑な形状の基材上へ均一に析出させるの
が難しい。これに対し、化学輸送反応を用いる場合に
は、原料の入手が容易であり、塩化物、ヨウ化物等は１
０００℃以下の比較的低温でも高い蒸気圧をもつことか
ら、たとえば塩化水素、ヨウ素を輸送剤とすることが実
際的に有効である。
単独での蒸気圧が非常に低いものばかりであり、気相中
を経由して析出させるには蒸着、スパッタリングなどの
物理的な方法か化学輸送反応のいずれかを用いる必要が
ある。しかしながら、前者の方法は装置がきわめて高価
であり、水素分離合金膜の大量生産に向かない上に、パ
イプ状などの複雑な形状の基材上へ均一に析出させるの
が難しい。これに対し、化学輸送反応を用いる場合に
は、原料の入手が容易であり、塩化物、ヨウ化物等は１
０００℃以下の比較的低温でも高い蒸気圧をもつことか
ら、たとえば塩化水素、ヨウ素を輸送剤とすることが実
際的に有効である。
【００１６】そこで以下に実施例を示し、さらに詳しく
この出願の発明について説明する。もちろん以下の例に
よって発明が限定されることはない。
この出願の発明について説明する。もちろん以下の例に
よって発明が限定されることはない。
【００１７】
【実施例】図１に例示した構成の装置を用いた。図中の
符号は次のものを示している。１：温度傾斜炉、２：石
英管、３：Ｎｉ基材、４：アルミナボート、５：化学輸
送原料（金属Ｖ、塩化白金、塩化アンモニウム） まず、１０ｍｍ×１０ｍｍ×０．２ｍｍのＮｉ板の両面
を機械研磨により鏡面に仕上げた。ＨＣｌ発生源として
塩化白金0.0733ｇと塩化アンモニウム0.0098ｇを混合し
たものをＮｉ箔で包み、輸送原料である塊状のＶ金属と
ともに石英管（２）の封じた一端に化学輸送原料（５）
として置いた。そこから６ｃｍほど離れたところにＮｉ
板（３）を置いた。石英管（２）を真空ラインに接続
し、１０-6Ｔｏｒｒ台まで引いた状態でもう一端を封じ
た。独立した複数の加熱部をもち温度勾配が設定可能な
電気炉内に最低温度が９００℃、最高温度が９２４℃と
なる温度勾配を図１のように設定した。石英管（２）の
原料部（５）が９００℃に、Ｎｉ板（３）が９２４℃と
なるように石英管（２）を電気炉内に配置した。８日
後、石英管（２）を取り出し冷却した。Ｎｉ板（３）の
試料重量は0.158ｇから0.200ｇへ0.032ｇの増加が見ら
れた。また、試料の厚さは0.20ｍｍから0.31ｍｍへ0.11
ｍｍ増加した。図２はこの拡散浸透実験前後のＮｉ基材
のＸ線回折パターンである。実験前の基材はＮｉに基づ
くピーク以外ほとんど観察されないのに対し、実験後の
基材ではＮｉのピークは消え、ｆｃｃ相とσ相に基づく
ピークが現れた。ｆｃｃ相はＮｉと同じ構造であるが、
ピーク全体が低角度側へシフトしており、計算された格
子定数は3.638とＮｉの格子定数3.5238に比べて大きい
ことからＮｉに比べて原子半径の大きいＶが固溶するこ
とで格子が膨張したものと判断される。Ｎｉ−Ｖ二元系
状態図から基材温度の９２４℃でｆｃｃ相とσ相の二相
領域をとるのはＶが３９〜５５ａｔ％の場合であり、Ｘ
線回折の結果は８日間の実験でこれに相当する量のＶが
Ｎｉ基材中に拡散浸透したことを示している。
符号は次のものを示している。１：温度傾斜炉、２：石
英管、３：Ｎｉ基材、４：アルミナボート、５：化学輸
送原料（金属Ｖ、塩化白金、塩化アンモニウム） まず、１０ｍｍ×１０ｍｍ×０．２ｍｍのＮｉ板の両面
を機械研磨により鏡面に仕上げた。ＨＣｌ発生源として
塩化白金0.0733ｇと塩化アンモニウム0.0098ｇを混合し
たものをＮｉ箔で包み、輸送原料である塊状のＶ金属と
ともに石英管（２）の封じた一端に化学輸送原料（５）
として置いた。そこから６ｃｍほど離れたところにＮｉ
板（３）を置いた。石英管（２）を真空ラインに接続
し、１０-6Ｔｏｒｒ台まで引いた状態でもう一端を封じ
た。独立した複数の加熱部をもち温度勾配が設定可能な
電気炉内に最低温度が９００℃、最高温度が９２４℃と
なる温度勾配を図１のように設定した。石英管（２）の
原料部（５）が９００℃に、Ｎｉ板（３）が９２４℃と
なるように石英管（２）を電気炉内に配置した。８日
後、石英管（２）を取り出し冷却した。Ｎｉ板（３）の
試料重量は0.158ｇから0.200ｇへ0.032ｇの増加が見ら
れた。また、試料の厚さは0.20ｍｍから0.31ｍｍへ0.11
ｍｍ増加した。図２はこの拡散浸透実験前後のＮｉ基材
のＸ線回折パターンである。実験前の基材はＮｉに基づ
くピーク以外ほとんど観察されないのに対し、実験後の
基材ではＮｉのピークは消え、ｆｃｃ相とσ相に基づく
ピークが現れた。ｆｃｃ相はＮｉと同じ構造であるが、
ピーク全体が低角度側へシフトしており、計算された格
子定数は3.638とＮｉの格子定数3.5238に比べて大きい
ことからＮｉに比べて原子半径の大きいＶが固溶するこ
とで格子が膨張したものと判断される。Ｎｉ−Ｖ二元系
状態図から基材温度の９２４℃でｆｃｃ相とσ相の二相
領域をとるのはＶが３９〜５５ａｔ％の場合であり、Ｘ
線回折の結果は８日間の実験でこれに相当する量のＶが
Ｎｉ基材中に拡散浸透したことを示している。
【００１８】
【発明の効果】以上詳しく説明したとおり、この出願の
発明によって、任意の形状、任意の組成のＶ−Ｎｉ合金
膜体の作製が可能となる。これによりＶ−Ｎｉ合金を用
いた水素分離装置を作製することが可能となり、低温で
大量の水素を効率的に純化することが可能になる。
発明によって、任意の形状、任意の組成のＶ−Ｎｉ合金
膜体の作製が可能となる。これによりＶ−Ｎｉ合金を用
いた水素分離装置を作製することが可能となり、低温で
大量の水素を効率的に純化することが可能になる。
【００１９】水素分離膜材料として知られているＰｄの
価格はこの１年で金の２〜４倍に高騰し、膜材料として
使用するのはコスト的に苦しい状況にある。これに対し
てＮｉ、Ａｌは極めて安価であり、また、Ｖは１ｇ当た
りの価格がＰｄの１／１０以下であるため、Ｖを主成分
とする透過膜を分離装置に利用することができれば大幅
な低価格化が可能となる。そしてこの出願の発明の合金
材は燃料電池自動車用の水素製造装置としても応用可能
なものであり、燃料電池自動車の普及に貢献するものと
考えられる。
価格はこの１年で金の２〜４倍に高騰し、膜材料として
使用するのはコスト的に苦しい状況にある。これに対し
てＮｉ、Ａｌは極めて安価であり、また、Ｖは１ｇ当た
りの価格がＰｄの１／１０以下であるため、Ｖを主成分
とする透過膜を分離装置に利用することができれば大幅
な低価格化が可能となる。そしてこの出願の発明の合金
材は燃料電池自動車用の水素製造装置としても応用可能
なものであり、燃料電池自動車の普及に貢献するものと
考えられる。
【図１】拡散浸透のための実験的装置の構成を例示した
図である。
図である。
【図２】Ｎｉ基材のＸ線回折パターンであって、（ａ）
実験前、（ｂ）９２４℃で１９２時間の拡散浸透実験後
のものを示す。
実験前、（ｂ）９２４℃で１９２時間の拡散浸透実験後
のものを示す。
１ 温度傾斜炉
２ 石英管
３ Ｎｉ基材
４ アルミナボート
５ 輸送原料（金属Ｖ、塩化白金、塩化アンモニウム）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4D006 GA41 MA02 MA03 MB03 MC12X
NA31 NA50 PA01 PB18 PB66
PC80
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｎｉ基材中にＶまたはＶとＡｌを拡散浸
透させて合金相を形成することを特徴とする（Ｎｉ，Ａ
ｌ）−Ｖ合金材の製造方法。 - 【請求項２】 Ｖ基材中にＮｉおよびＡｌの１種以上を
拡散浸透させて合金相を形成することを特徴とする（Ｎ
ｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法。 - 【請求項３】 ガス状の金属ハロゲン化物を基材と接触
させて拡散浸透させることを特徴とする請求項１または
２の（Ｎｉ，Ａｌ）−Ｖ合金材の製造方法。 - 【請求項４】 ガス状の金属ハロゲン化物の生成とその
温度勾配上での化学輸送、並びに基材との接触のプロセ
スを含むことを特徴とする請求項３の（Ｎｉ，Ａｌ）−
Ｖ合金材の製造方法。 - 【請求項５】 基材は薄板またはパイプ状体であること
を特徴とする請求項１なしい４のいずれかの（Ｎｉ，Ａ
ｌ）−Ｖ合金材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002089467A JP3931227B2 (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | Ｎｉ−Ｖ合金相を有するＮｉ基材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002089467A JP3931227B2 (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | Ｎｉ−Ｖ合金相を有するＮｉ基材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003286524A true JP2003286524A (ja) | 2003-10-10 |
| JP3931227B2 JP3931227B2 (ja) | 2007-06-13 |
Family
ID=29235044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002089467A Expired - Lifetime JP3931227B2 (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | Ｎｉ−Ｖ合金相を有するＮｉ基材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3931227B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008055295A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Ihi Corp | 水素分離膜 |
| JP2013215717A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-10-24 | Tokyo Gas Co Ltd | 水素分離膜及び水素分離方法 |
| JP2023030673A (ja) * | 2021-08-23 | 2023-03-08 | 滲透工業株式会社 | 磁性部品の製造方法、磁性部品および電子部品 |
-
2002
- 2002-03-27 JP JP2002089467A patent/JP3931227B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008055295A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Ihi Corp | 水素分離膜 |
| JP2013215717A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-10-24 | Tokyo Gas Co Ltd | 水素分離膜及び水素分離方法 |
| JP2023030673A (ja) * | 2021-08-23 | 2023-03-08 | 滲透工業株式会社 | 磁性部品の製造方法、磁性部品および電子部品 |
| JP7599218B2 (ja) | 2021-08-23 | 2024-12-13 | 滲透工業株式会社 | 磁性部品の製造方法、磁性部品および電子部品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3931227B2 (ja) | 2007-06-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Shu et al. | Structurally stable composite Pd Ag alloy membranes: Introduction of a diffusion barrier | |
| Li et al. | Fabrication of dense palladium composite membranes for hydrogen separation | |
| Ryi et al. | Electroless Pd membrane deposition on alumina modified porous Hastelloy substrate with EDTA-free bath | |
| David et al. | Devlopment of palladium/ceramic membranes for hydrogen separation | |
| Haag et al. | Pure nickel coating on a mesoporous alumina membrane: preparation by electroless plating and characterization | |
| Ryi et al. | Characterization of Pd–Cu–Ni ternary alloy membrane prepared by magnetron sputtering and Cu-reflow on porous nickel support for hydrogen separation | |
| US3344582A (en) | Irreversible hydrogen membrane | |
| EP1042049A1 (en) | Hydrogen gas-extraction module | |
| Chi et al. | Pristine graphene membranes supported on ceramic hollow fibre prepared via a sacrificial layer assisted CVD approach | |
| Omidifar et al. | H2 permeance and surface characterization of a thin (2 μm) Pd-Ni composite membrane prepared by electroless plating | |
| JP2010070818A (ja) | 水素透過性能に優れたＰｄ−Ｃｕ系合金 | |
| Petriev et al. | Investigation of low-temperature hydrogen permeability of surface modified Pd–Cu membranes | |
| JP3931227B2 (ja) | Ｎｉ−Ｖ合金相を有するＮｉ基材の製造方法 | |
| CN100455341C (zh) | 透氢合金及其制造方法 | |
| JP2000191302A (ja) | 水素吸蔵体及び水素吸蔵体の製造方法 | |
| Petriev et al. | Hydrogen permeability of surface-modified Pd-Ag membranes at low temperatures | |
| Kajiwara et al. | Rhodium-and iridium-dispersed porous alumina membranes and their hydrogen permeation properties | |
| JP2897958B2 (ja) | 排気ガス清浄化用アモルフアス合金触媒 | |
| Rahman et al. | Evaluation and characterization of Pd-Ag composite membrane fabricated by surfactant induced electroless plating (SIEP) for hydrogen separation | |
| JP4953278B2 (ja) | すぐれた水素透過分離性能を発揮する水素透過分離薄膜 | |
| Gao et al. | Rapid Synthesis of Defect-Free Tubular Co-Gallate MOF Membranes for MeOH/MTBE Separation by Pervaporation | |
| JP2000256002A (ja) | 非晶質ＺｒＮｉ合金系水素分離・解離用膜、その製造方法及びその活性化処理方法 | |
| Wu et al. | Palladium coated porous anodic alumina membranes for gas reforming processes | |
| Fletcher | Thin film Palladium-Ytrium membranes for hydrogen separation | |
| JP2000070655A (ja) | 高純度ｃｏの製造方法及び製造装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061107 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070105 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070213 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3931227 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |