JP2003286392A - 封止用樹脂組成物および電子部品封止装置 - Google Patents

封止用樹脂組成物および電子部品封止装置

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JP2003286392A
JP2003286392A JP2002090230A JP2002090230A JP2003286392A JP 2003286392 A JP2003286392 A JP 2003286392A JP 2002090230 A JP2002090230 A JP 2002090230A JP 2002090230 A JP2002090230 A JP 2002090230A JP 2003286392 A JP2003286392 A JP 2003286392A
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resin
resin composition
dibenzothiophene
inorganic filler
sealing
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Kazuhiro Sawai
和弘 澤井
Masaru Doi
優 土井
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Kyocera Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高温でのリフローに耐え得る封止用樹脂組成
物およびこの樹脂で封止されるPCT試験など高信頼性
の電子部品封止装置を提供する。 【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール
樹脂、(C)ジベンゾチオフェンおよび(D)無機充填
剤を必須成分とし、樹脂組成物全体に対して、(C)ジ
ベンゾチオフェンを0.05〜2.0重量%、また
(D)無機充填剤を70〜95重量%の割合でそれぞれ
含有してなる封止用樹脂組成物であり、また、この封止
用樹脂組成物の硬化物によって、半導体チップを封止し
てなる電子部品封止装置である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、封止用樹脂組成物
および電子部品封止装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置の封止樹脂としては、
ノボラック型フェノール樹脂を硬化剤とするエポキシ樹
脂組成物が用いられており、その硬化物が耐湿性、高温
電気特性、成形性などに優れているため、モールド型封
止樹脂の主流になっている。ところで、近年、電子機器
の高密度実装化および組立工程の自動化の要求から、半
導体装置の実装方法は、従来からのピン挿入タイプから
表面実装タイプへと移行してきている。表面実装方法で
基板にパッケージを半田付けする際には、基板上のクリ
ーム半田を、赤外線やフロロカーボン蒸気で加熱し、パ
ッケージのリードと接続する方法が採られている。この
とき、パッケージ全体は215〜260℃の高温にさら
されることになる。この急激な加熱が原因になって、パ
ッケージにクラックが発生し、デバイスの信頼性の極端
な低下を引き起こすことがあり、現在表面実装法におけ
る大きな問題の一つになっている。すなわち、そのメカ
ニズムは、吸湿した樹脂が高温にさらされ、パッケージ
内部の水が気化膨張することによって、パッケージが膨
れ、そのときの応力によって樹脂が破壊に至るというも
のである。
【0003】これに対して、封止樹脂の側からの解決と
しては、(a)発生する水蒸気圧を抑えるため樹脂の吸
湿を軽減する、(b)生じる水蒸気圧に耐えるだけの接
着強度をもたせる、ことが有効である。
【0004】そこで、エポキシ樹脂や硬化剤フェノール
樹脂として柔軟疎水骨格の構造をもつものを用い、かつ
充てん剤を多量に配合した樹脂組成物が提案されてい
る。しかしながら、これらの樹脂組成物は、ノボラック
タイプの封止樹脂に比べて高価なうえ、成形作業性に劣
るという問題があった。
【0005】一方、最近における環境についての関心の
高まりから、半導体パッケージの分野においても外装や
接合に使用される半田からの鉛の除去が課題となってい
る。現在、鉛を使用しない半田のうち、半導体のパッケ
ージ分野に使用可能な半田の多くは従来の半田に比較し
て融点が高く、前述したようにリフロー温度は相当高く
なる。その結果、加熱により発生する水蒸気圧はいっそ
う増大し、封止樹脂には更に優れた耐リフロー性が要求
されている。
【0006】また、同時に、パッケージの薄型化、多ピ
ン化に伴い、コプラナリティが問題となっており、封止
樹脂の反りを改善する必要もある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点を
解消し、上記要望に応えるためになされたもので、高温
でのリフローに耐え得る封止用樹脂組成物およびこの樹
脂で封止されるPCT試験など高信頼性の電子部品封止
装置を提供しようとするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、一般的なエポキ
シ樹脂組成物であっても、特定の配合化合物としてジベ
ンゾチオフェンを用いることによって、成形性とともに
耐リフロークラック性に優れた樹脂組成物が得られるこ
とを見いだし、本発明を完成させたものである。
【0009】即ち、本発明は、(A)エポキシ樹脂、
(B)フェノール樹脂、(C)下記構造式で示されるジ
ベンゾチオフェンおよび
【化3】 (D)無機充填剤 を必須成分とし、樹脂組成物全体に対して、前記(C)
ジベンゾチオフェンを0.05〜2.0重量%、また前
記(D)無機充填剤を70〜95重量%の割合でそれぞ
れ含有してなることを特徴とする封止用樹脂組成物であ
り、また、この封止用樹脂組成物の硬化物によって、半
導体チップを封止してなることを特徴とする電子部品封
止装置である。
【0010】以下、本発明を詳細に説明する。
【0011】本発明に用いる(A)エポキシ樹脂として
は、その分子中にエポキシ基を少なくとも2個有する化
合物である限り、分子構造および分子量など特に制限は
なく、一般に封止用材料として使用されるものを広く包
含することができる。例えば、フェノールノボラック
型、クレゾールノボラック型、ビフェニル型、ビスフェ
ノールA型等の芳香族系、またはシクロヘキサン誘導体
等脂肪族系のエポキシ樹脂が挙げられる。これらのエポ
キシ樹脂は、単独もしくは2種類以上混合して用いるこ
とができる。
【0012】本発明に用いる(B)フェノール樹脂とし
ては、分子中にフェノール性水酸基を有するものであれ
ば、特に制限するものではない。これらの樹脂は、単独
もしくは2種類以上混合して用いることができる。水酸
基当量は、130以上であることが好ましい。これは、
十分な難燃性・低吸湿性が得られためである。また、信
頼性を確保するために、樹脂中に含まれるフリーのフェ
ノール類の濃度が1重量%以下であることが好ましい。
これらフェノール樹脂の具体例としては、ビフェノール
ノボラック型フェノール樹脂のMEH−7851シリー
ズ(明和化成社製、商品名)、フェノールアラルキル樹
脂のXL、XLCシリーズ(三井化学社製、商品名)、
多官能芳香族フェノール樹脂のEPIシリーズ(鹿島工
業社製、商品名)、テルペンフェノール樹脂等が挙げら
れ、これらの樹脂は、単独もしくは2種類以上混合して
用いることができる。
【0013】フェノール樹脂の配合割合は、フェノール
樹脂のフェノール性水酸基数と前述したエポキシ樹脂の
エポキシ基数との当量比(フェノール性水酸基数/エポ
キシ基数)の値が0.5〜1.5の範囲内であることが
望ましい。上記値が0.5未満では硬化反応が十分に起
こりにくく、1.5を超えると、硬化物の特性、特に耐
湿性が劣化しやすく好ましくない。従って上記の範囲内
に限定するのがよい。
【0014】本発明に用いる(C)のジベンゾチオフェ
ンは、次の構造式に示されるものである。
【0015】
【化4】 ジベンゾチオフェンの配合割合は、全体の樹脂組成物に
対して0.05〜2.0重量%、より好ましくは0.1
〜1.0重量%の割合に含有することが望ましい。その
割合が0.05重量%未満では、耐クラック性に向上が
なく、また、2.0重量%を超えると、硬化性が劣化す
るおそれがある。
【0016】本発明に用いる(D)の無機充填剤として
は、溶融シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、窒化ケイ
素、窒化アルミ等が挙げられ、これらは、単独もしくは
2種類以上混合して用いることができる。これらのなか
でも、コスト、特性のバランスを考えると溶融シリカが
最適である。無機充填剤の配合割合は、全体の樹脂組成
物に対して70〜95重量%、より好ましくは80〜9
0重量%の割合で含有することが望ましい。その割合が
70重量%未満では、難燃性および耐クラック性に劣
り、また、95重量%を超えると、流動性が低下して成
形性に劣り実用に適さない。
【0017】本発明の封止用樹脂組成物は、前述した
(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)ジ
ベンゾチオフェンおよび(D)無機充填剤を主成分とす
るが、本発明の目的に反しない限度において、また必要
に応じて、例えば、天然ワックス類、合成ワックス類、
エステル類等の離型剤、エラストマー等の低応力化成
分、カーボンブラック等の着色剤、シランカップリング
剤等の無機充填剤の処理剤、種々の硬化促進剤などを適
宜、添加配合することができる。
【0018】本発明の封止用樹脂組成物を成形材料とし
て調製する場合の一般的な方法としては、前述したエポ
キシ樹脂、フェノール樹脂、ベンゾチオフェン、無機充
填剤、その他成分を配合し、ミキサー等によって十分均
一に混合した後、さらに熱ロールによる溶融混合処理、
またはニーダ等による混練処理を行い、次いで冷却固化
させ、適当な大きさに粉砕して成形材料とすることがで
きる。こうして得られた成形材料は、半導体封止をはじ
めとする電子部品(電気部品を含む)の封止、被覆、絶
縁等に適用すれば、優れた特性と信頼性を付与させるこ
とができる。
【0019】本発明の電子部品封止装置は、上記のよう
にして得られた封止用樹脂を用いて、半導体チップを封
止することにより容易に製造することができる。封止の
最も一般的な方法としては、低圧トランスファー成形が
あるが、射出成形、圧縮成形および注型などによる封止
も可能である。封止用樹脂組成物は封止成形の際の加熱
によって硬化し、最終的にはこの組成物の硬化物によっ
て封止された電子部品封止装置が得られる。加熱による
硬化は、150℃以上に加熱して後硬化させることが望
ましい。封止を行う電子部品装置としては、例えば、集
積回路、大規模集積回路、トランジスタ、サイリスタ、
ダイオード、コンデンサ等で特に限定されるものではな
い。
【0020】
【作用】本発明の封止用樹脂組成物および電子部品封止
装置は、特定の樹脂成分としてジベンゾチオフェンを用
いたことにより、目的とする特性が得られるものであ
る。即ち、特定配合のジベンゾチオフェンは優れた耐リ
フロー性を示し電子部品封止装置において信頼性を向上
させることができる。
【0021】
【発明の実施の形態】次に、本発明を実施例によって具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。以下の実施例および比較例にお
いて「%」とあるは「重量%」を意味する。
【0022】実施例1 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量2
00)9.4%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェ
ノール当量105)4.7%、前記化4に示したジベン
ゾチオフェン(関東化学社製、商品名)0.5%、臭素
化エポキシ樹脂としてBREN−S(日本化薬社製、商
品名)2%、溶融シリカ粉末のRD−8(龍森社製、商
品名)80%、三酸化アンチモン2%およびエステル系
ワックス類のリコワックス(クラリアントジャパン社
製、商品名)1.0%を配合して常温で混合し、さらに
90〜95℃で混練し、これを冷却粉砕して成形材料を
製造した。
【0023】この成形材料を175℃に加熱した金型内
にトランスファー注入し、硬化させて成形品(封止品)
を成形した。この成形品について吸湿処理後のリフロー
炉試験およびプレッシャクッカ試験(PCT)を行っ
た。その結果を表1に示す。
【0024】実施例2 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量2
00)13.0%に、ノボラック型フェノール樹脂(フ
ェノール当量105)6.5%、前記化4に示したジベ
ンゾチオフェン(関東化学社製、商品名)0.5%、臭
素化エポキシ樹脂のBREN−S(日本化薬社製、商品
名)2%、溶融シリカ粉末のRD−8(龍森社製、商品
名)75%、三酸化アンチモン2%およびエステル系ワ
ックス類のリコワックス(クラリアントジャパン社製、
商品名)1.0%を配合して常温で混合し、さらに90
〜95℃で混練し、これを冷却粉砕して成形材料を製造
した。
【0025】この成形材料について、実施例1における
と同様に、成形品を得るとともに各種試験をした。その
結果を表1に示す。
【0026】実施例3 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量2
00)7.7%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェ
ノール当量105)3.8%、前記化4に示したジベン
ゾチオフェン(関東化学社製、商品名)1.0%、臭素
化エポキシ樹脂のBREN−S(日本化薬社製、商品
名)2%、溶融シリカ粉末のRD−8(龍森社製、商品
名)80%、三酸化アンチモン2%およびエステル系ワ
ックス類のリコワックスのリコワックス(クラリアント
ジャパン社製、商品名)1.0%を配合して常温で混合
し、さらに90〜95℃で混練し、これを冷却粉砕して
成形材料を製造した。
【0027】この成形材料について、実施例1における
と同様に、成形品を得るとともに各種試験をした。その
結果を表1に示す。
【0028】実施例4 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量2
00)8.5%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェ
ノール当量105)4.5%、前記化4に示したジベン
ゾチオフェン(関東化学社製、商品名)2.0%、臭素
化エポキシ樹脂のBREN−S(日本化薬社製、商品
名)2%、溶融シリカ粉末のRD−8(龍森社製、商品
名)80%、三酸化アンチモン2%およびエステル系ワ
ックス類のリコワックス(クラリアントジャパン社製、
商品名)1.0%を配合し常温で混合し、さらに90〜
95℃で混練し、これを冷却粉砕して成形材料を製造し
た。
【0029】この成形材料について、実施例1における
と同様に、成形品を得るとともに各種試験をした。その
結果を表1に示す。
【0030】比較例1 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量2
00)9.5%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェ
ノール当量105)5.5%、臭素化エポキシ樹脂のB
REN−S(日本化薬社製、商品名)2%、溶融シリカ
粉末のRD−8(龍森社製、商品名)80%、三酸化ア
ンチモン2%およびエステル系ワックス類のリコワック
ス1.0%を配合して常温で混合し、さらに90〜95
℃で混練し、これを冷却粉砕して成形材料を作成した。
【0031】この成形材料について、実施例1における
と同様に、成形品を得るとともに各種試験をした。その
結果を表1に示す。
【0032】比較例2 ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量180)8.
5%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェノール当量
105)6.5%、臭素化エポキシ樹脂のBREN−S
(日本化薬社製、商品名)2%、溶融シリカ粉末のRD
−8(龍森社製、商品名)80%、三酸化アンチモン2
%およびエステル系ワックス類のリコワックス0.3%
を配合して常温で混合し、さらに90〜95℃で混練
し、これを冷却粉砕して成形材料を作成した。
【0033】この成形材料について、実施例1における
と同様に、成形品を得るとともに各種試験をした。その
結果を表1に示す。
【0034】
【表1】 *1:成形材料を用いて試験用デバイスを、175℃で
のトランスファー成形をして20個の封止パッケージを
つくり、180℃において4時間アフターキュアを行な
った。次いで、このパッケージを85℃、相対湿度60
%の雰囲気中に168時間放置して吸湿処理を行なった
後、最高温度260℃のリフロー炉に3回通した。この
時点でパッケージのクラック発生数を調べて吸湿処理後
リフロー炉試験の耐クラック性を評価した。
【0035】*2:上記吸湿・高温処理リフロー炉を経
た20個のパッケージを、さらに127℃の飽和水蒸気
雰囲気中に500時間放置するプレッシャクッカ試験
(PCT)を行ない、100時間毎に不良(リーク不
良、オープン不良)の発生数を調べて信頼性を評価し
た。
【0036】
【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明の封止用樹脂組成物および電子部品封止装置
によれば、優れた耐リフロークラック性を示すものであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/31 Fターム(参考) 4J002 CC06X CD05W CD06W CE00X DE147 DF017 DJ007 DJ017 EV306 FD017 FD206 GQ05 4J036 AD07 AD08 AF06 AF08 FA03 FA04 FA05 FB06 FB07 FB08 JA07 KA06 4M109 AA01 BA01 CA21 EA02 EA11 EB03 EB12 EC03 EC05

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール
    樹脂、(C)下記構造式で示されるジベンゾチオフェン
    および 【化1】 (D)無機充填剤を必須成分とし、樹脂組成物全体に対
    して、前記(C)ジベンゾチオフェンを0.05〜2.
    0重量%、また前記(D)無機充填剤を70〜95重量
    %の割合でそれぞれ含有してなることを特徴とする封止
    用樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール
    樹脂、(C)下記構造式で示されるジベンゾチオフェン
    および 【化2】 (D)無機充填剤を必須成分とし、樹脂組成物全体に対
    して、前記(C)ジベンゾチオフェンを0.05〜2.
    0重量%、また前記(D)無機充填剤を70〜95重量
    %の割合でそれぞれ含有する封止用樹脂組成物の硬化物
    によって、部品素子を封止してなることを特徴とする電
    子部品封止装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007145906A (ja) * 2005-11-24 2007-06-14 Nippon Shokubai Co Ltd 樹脂用添加剤
US8053378B2 (en) 2004-12-21 2011-11-08 Mitsui Chemicals, Inc. Modified phenolic resin, epoxy resin composition containing the same, and prepreg containing the composition

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8053378B2 (en) 2004-12-21 2011-11-08 Mitsui Chemicals, Inc. Modified phenolic resin, epoxy resin composition containing the same, and prepreg containing the composition
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